JPH0356466B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0356466B2 JPH0356466B2 JP57162238A JP16223882A JPH0356466B2 JP H0356466 B2 JPH0356466 B2 JP H0356466B2 JP 57162238 A JP57162238 A JP 57162238A JP 16223882 A JP16223882 A JP 16223882A JP H0356466 B2 JPH0356466 B2 JP H0356466B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- silicone rubber
- rubber layer
- plastic film
- resin layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 155
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 claims description 78
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 claims description 77
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims description 34
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 claims description 33
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 claims description 27
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 claims description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 14
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 9
- 150000001875 compounds Chemical group 0.000 claims description 7
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 7
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 4
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 45
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 44
- 239000010408 film Substances 0.000 description 25
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 11
- 238000011161 development Methods 0.000 description 11
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CSKRBHOAJUMOKJ-UHFFFAOYSA-N 3,4-diacetylhexane-2,5-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O CSKRBHOAJUMOKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 3
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 3
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 2
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001342 Bakelite® Polymers 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008331 Pinus X rigitaeda Nutrition 0.000 description 2
- 235000011613 Pinus brutia Nutrition 0.000 description 2
- 241000018646 Pinus brutia Species 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- JJLKTTCRRLHVGL-UHFFFAOYSA-L [acetyloxy(dibutyl)stannyl] acetate Chemical compound CC([O-])=O.CC([O-])=O.CCCC[Sn+2]CCCC JJLKTTCRRLHVGL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOAHJDHKFWSLKE-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC=CC1=O WOAHJDHKFWSLKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNNFDCWYZOSALE-UHFFFAOYSA-N 1-diethoxysilyl-3-phenylprop-2-en-1-one Chemical compound C(C=CC1=CC=CC=C1)(=O)[SiH](OCC)OCC KNNFDCWYZOSALE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbutane Chemical group CC(C)C(C)C ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQXPAFTXDVNANI-UHFFFAOYSA-N 4-azidobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 PQXPAFTXDVNANI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N [2-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1CN GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTHCBXJLLCHNMS-UHFFFAOYSA-N acetyloxysilicon Chemical compound CC(=O)O[Si] BTHCBXJLLCHNMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- QMIREOCYHAFOPK-UHFFFAOYSA-N n,n'-bis(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCNCCC[Si](OCC)(OCC)OCC QMIREOCYHAFOPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000088 plastic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は湿し水不要平版印刷原版の製造法に関
し、特に原画像の再現性および原画との密着性に
すぐれた湿し水不要平版印刷原版の製造法に関す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing a lithographic printing original plate that does not require dampening water, and more particularly to a method for producing a lithographic printing original plate that does not require dampening water and has excellent reproducibility of an original image and adhesion to the original image.
非画線部としてシリコーンゴム層を最上層に有
する湿し水不要平版材は、例えば特公昭44−
23042号、特公昭46−16044号、特公昭51−17081
号、特開昭48−94503号などに数多く提案されて
いる。 A lithographic plate material that does not require dampening water and has a silicone rubber layer as the uppermost layer in the non-printing area is, for example,
No. 23042, Special Publication No. 16044, Special Publication No. 51-17081
Many proposals have been made in Japanese Patent Publication No. 48-94503, etc.
これらの湿し水不要平版材に画像を形成するた
めに、通常原画を通して活性光線による露光がお
こなわれるが、原画を忠実に再現するためには、
該平版材上面に原画を完全に密着させることが必
要である。このため、一般的には焼枠のゴムシー
トと圧着ガラスの間に、該平版材と原画とを重ね
て配置し、ゴムシートと圧着ガラスの間を真空に
して密着させる方法（以下真空密着法と呼ぶ）が
用いられてきた。 In order to form images on these planographic materials that do not require dampening water, the original image is usually exposed to active light, but in order to faithfully reproduce the original image,
It is necessary to bring the original picture into complete contact with the upper surface of the planographic material. For this reason, the general method is to place the planographic material and the original image overlappingly between the rubber sheet of the printing frame and the pressure-bonded glass, and then create a vacuum between the rubber sheet and the pressure-bonded glass to bring them into close contact (hereinafter referred to as the vacuum adhesion method). ) has been used.
しかしながら、従来のシリコーンゴム層を最上
層に有する湿し水不要平版材の表面は、非常に平
滑で、かつシリコーンゴム層表面は粘着性ですべ
りが悪いため、原画フイルムの位置合せが難し
く、また、いつたん原画フイルムとシリコーンゴ
ム層が密着すると密着部分は強固に固定されてし
まい、気泡が入つたような場合、真空密着法によ
り該平版材の周辺部より空気を吸収しても入つた
気泡を除去することが困難である。従つて、該平
版材の全面にわたり原画を完全に密着させるに
は、特に版サイズが大きい場合、非常に長い時間
が必要とされ、極端な場合にはいくら時間をかけ
ても密着しないことさえある。 However, the surface of conventional planographic materials that do not require dampening water and has a silicone rubber layer as the top layer is very smooth, and the surface of the silicone rubber layer is sticky and does not slip easily, making it difficult to align the original film. When the original film and the silicone rubber layer come into close contact with each other, the adhering area becomes firmly fixed, and if air bubbles are introduced, even if air is absorbed from the periphery of the planographic material using the vacuum adhesion method, the air bubbles may be trapped. is difficult to remove. Therefore, in order to completely adhere the original image to the entire surface of the planographic material, especially when the plate size is large, a very long time is required, and in extreme cases, no matter how much time is taken, the original image may not adhere completely. .
このように真空密着に多大な時間を要すること
は、製版作業の効率を低下させ、極めて不経済で
あるばかりでなく、原画の密着が不十分なまま露
光をおこなつた場合、原画を忠実に再現すること
ができないという致命的な問題がある。 The large amount of time required for vacuum adhesion not only reduces the efficiency of the plate-making process and is extremely uneconomical, but also makes it impossible to faithfully reproduce the original image if exposure is carried out without sufficient adhesion to the original image. The fatal problem is that it cannot be reproduced.
この問題を解決するために、版面にポリエステ
ル、ポリオレフインなどのプラスチツクフイルム
いわゆるカバーフイルムをラミネートすることも
提案されている。 In order to solve this problem, it has been proposed to laminate a so-called cover film, a plastic film made of polyester, polyolefin, etc., onto the printing plate.
しかし、一般にカバー・フイルムとして使用す
るためには、版面にラミネートする等の工程が必
要となるため取り扱い上、少なくとも5μ以上の
厚みが必要である。 However, in order to use it as a cover film, it generally requires a thickness of at least 5 μm for handling purposes, as it requires a process such as laminating it onto a printing plate.
版面はこのようなプラスチツクフイルムを設け
ると、露光時に原画と感光性画像形成層（以下感
光層という）との距離が大きくなり、理想的な平
行光線が得られていない現行の露光機では、いわ
ゆる焼きぼけを生じ易く原画に忠実な画像が再現
し難いという問題もある。 When such a plastic film is provided on the printing plate, the distance between the original image and the photosensitive image forming layer (hereinafter referred to as the photosensitive layer) increases during exposure, and current exposure machines that do not provide ideal parallel light beams There is also the problem that blurring tends to occur and it is difficult to reproduce an image that is faithful to the original.
また、露光により分解して窒素ガスを放出する
タイプの感光層を用いた場合、シリコーンゴム層
上にプラスチツクフイルムを設けると露光により
発生したガスがプラスチツクフイルムを押しあ
げ、原画との距離が大きくなり、焼きぼけを生じ
るという重大な問題もある。 Additionally, when using a type of photosensitive layer that decomposes upon exposure and releases nitrogen gas, if a plastic film is placed on top of the silicone rubber layer, the gas generated during exposure will push up the plastic film, increasing the distance from the original image. , there is also the serious problem of blurring.
本発明者らは、かかる問題を解決すべく鋭意検
討した結果、以下に述べる本発明に到達した。 The inventors of the present invention have made extensive studies to solve this problem, and as a result, have arrived at the present invention described below.
すなわち本発明は、次の構成を有するものであ
る。 That is, the present invention has the following configuration.
(1)(a) プラスチツクフイルム上に非粘着性樹脂層
を設ける工程
(b) シリコーンゴム層を最上層とする湿し水不
要平版印刷原版のシリコーンゴム層に、前記
プラスチツクフイルム上に設けられた非粘着
性樹脂層とシリコーンゴム層とを接するよう
に積層する工程および
(c) 非粘着性樹脂層上のプラスチツクフイルム
を剥離する工程とからなることを特徴とする
湿し水不要平版印刷原版の製造方法。(1)(a) Step of providing a non-adhesive resin layer on the plastic film (b) Step of providing a non-adhesive resin layer on the plastic film in the silicone rubber layer of a dampening water-free lithographic printing original plate having a silicone rubber layer as the uppermost layer. A lithographic printing original plate that does not require dampening water, comprising the steps of laminating a non-adhesive resin layer and a silicone rubber layer so that they are in contact with each other; and (c) peeling off a plastic film on the non-adhesive resin layer. Production method.
(2)(a) プラスチツクフイルム上に非粘着性樹脂層
を設ける工程
(b) 前記プラスチツクフイルム上に非粘着性樹
脂層の上にさらに官能性シリコーン化合物ま
たは有機チタン化合物から選ばれる少なくと
も一種の化合物を含む接着層を設ける工程
(c) シリコーンゴム層を最上層とする湿し水不
要平版印刷原版のシリコーンゴム層上に、前
記プラスチツクフイルム上に設けられた非粘
着性樹脂層の上に接着層とシリコーンゴム層
とを接するように積層する工程および
(d) 非粘着性樹脂層上のプラスチツクフイルム
を剥離する工程とからなることを特徴とする
前項記載の湿し水不要平版印刷原版の製造方
法。(2)(a) Providing a non-adhesive resin layer on the plastic film; (b) further adding at least one compound selected from a functional silicone compound or an organic titanium compound on the non-adhesive resin layer on the plastic film; (c) On the silicone rubber layer of the lithographic printing original plate that does not require dampening water and has the silicone rubber layer as the uppermost layer, an adhesive layer is provided on the non-adhesive resin layer provided on the plastic film. and (d) peeling off the plastic film on the non-adhesive resin layer. .
本発明の湿し水不要平版印刷原版は、シリコー
ンゴム層上に非粘着性樹脂層を設けてなるもので
あつて、原画とシリコーンゴム層との密着性が著
しく改良され、かつ原画に忠実な画像が得られ
る。また、その製造方法も極めて簡単なものであ
る。 The lithographic printing original plate that does not require dampening water of the present invention has a non-adhesive resin layer on a silicone rubber layer, and has significantly improved adhesion between the original image and the silicone rubber layer, and is faithful to the original image. An image is obtained. Moreover, the manufacturing method thereof is also extremely simple.
このにいう非粘着性樹脂とは、感光波長の光に
対して透明であつて、しかも非粘着性のものをい
う。これらの例としては、たとえばポリスチレ
ン、ポリブタジエン、ポリエステル樹脂、ポリビ
ニルアルコール、ポリエチレンオキサイド、キシ
レン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂などを挙げ
ることができる。中でもガス透明性に優れたもの
が好ましく、これらの例としてはポリスチレン、
ポリブタジエン等である。 The non-adhesive resin referred to herein refers to one that is transparent to light at a photosensitive wavelength and is non-adhesive. Examples of these include polystyrene, polybutadiene, polyester resin, polyvinyl alcohol, polyethylene oxide, xylene resin, polyvinyl butyral resin, and the like. Among them, those with excellent gas transparency are preferred; examples of these include polystyrene,
Polybutadiene, etc.
シリコーンゴム層上に設けられる上記樹脂の層
の厚さは、0.1〜20μ、好ましくは0.2〜5μである。
0.1μ以下の厚みでは、シリコーンゴム層の粘着性
を十分消去できず、原画との密着性を改良するこ
とが困難であり、20μ以上では焼きぼけを生じ易
く、また露光時ガスを発生する感光性物質を使用
する版ではガス抜けも悪く焼きぼけがさらに助長
される。 The thickness of the resin layer provided on the silicone rubber layer is 0.1-20μ, preferably 0.2-5μ.
If the thickness is less than 0.1μ, the adhesiveness of the silicone rubber layer cannot be sufficiently erased, making it difficult to improve the adhesion to the original image.If the thickness is more than 20μ, blurring is likely to occur, and the photosensitive material generates gas during exposure. In plates that use chemical substances, gas release is also poor and the burn-out effect is further exacerbated.
本発明に用いられるプラスチツクフイルムは、
特に規制されるものではないが、前記の非粘着性
樹脂層を転写しやすくするためには接着力の低い
ポリエチレン、ポリプロピレン等の炭化水素系フ
イルムが好ましい。これらのフイルムの厚みも特
に限定されないが、取扱い易さの点から５〜
200μ程度の厚さ、好ましくは10〜50μの厚さが適
している。 The plastic film used in the present invention is
Although not particularly restricted, hydrocarbon films such as polyethylene and polypropylene having low adhesive strength are preferred in order to facilitate transfer of the non-adhesive resin layer. The thickness of these films is not particularly limited, but from the viewpoint of ease of handling,
A thickness of around 200μ, preferably between 10 and 50μ, is suitable.
また、たとえばマツト化されたプラスチツクフ
イルムの該マツト化面を非粘着樹脂を塗布する面
として用いると、たとえばシリコーンゴム層とは
り合せした場合に転写した樹脂層表面、すなわち
露光時に原画フイルムと密着する面がマツト化さ
れているため、密着性あるいはガス抜けがさらに
良好になり好ましいものである。 Furthermore, if the matted surface of a matted plastic film is used as a surface to which a non-adhesive resin is applied, for example, when it is laminated with a silicone rubber layer, the surface of the transferred resin layer, that is, the surface of the transferred resin layer, will come into close contact with the original film during exposure. Since the surface is matte, adhesion and gas release are further improved, which is preferable.
なお、ここでいうプラスチツクフイルムは、前
記の非粘着性樹脂層とは上記のようにその目的、
使用方法等から本質的に異なるものである。 Note that the plastic film referred to here is different from the non-adhesive resin layer for its purpose and purpose as described above.
They are essentially different in terms of usage, etc.
プラスチツクフイルム上に非粘着性樹脂を塗
布、乾燥することにより非粘着性樹脂の薄層を形
成することができる。 A thin layer of non-adhesive resin can be formed by applying the non-adhesive resin onto a plastic film and drying it.
該樹脂の塗工方法としては、従来薄膜塗布に使
用されている一般的な方法で良い。例えば、グラ
ビア・コーター、リバース・ロールコーター、ス
リツトダイコーター、カーテンフローコータ、ホ
エラー等が使用される。 The resin may be applied by any conventional method conventionally used for thin film coating. For example, a gravure coater, reverse roll coater, slit die coater, curtain flow coater, Whaler, etc. are used.
この際、塗布樹脂層が凹凸になるよう、あるい
は独立点状なるように塗布すると、密着性、ガス
抜けがさらに改良される。 At this time, if the applied resin layer is applied in an uneven manner or in the form of independent dots, adhesion and gas release are further improved.
このプラスチツクフイルム上に設けられた非粘
着性樹脂層を、シリコーンゴム層上に貼り合わせ
る方法としては、圧着できるいかなる方法でも良
く、例えばラミネート装置も有効に使用できる。
貼り合せは、室温でおこなつても十分効果があ
り、非粘着性樹脂層とシリコーンゴム層との間の
接着を付与でき、この接層力はプラスチツクフイ
ルムを剥離した時に、該樹脂層がシリコーンゴム
層上に転写するに十分である。加熱圧着すること
により、この効果をさらに顕著にすることは可能
である。 The non-adhesive resin layer provided on the plastic film may be laminated onto the silicone rubber layer by any method that allows pressure bonding, and for example, a laminating device can also be effectively used.
The bonding is sufficiently effective even when carried out at room temperature, and can provide adhesion between the non-adhesive resin layer and the silicone rubber layer, and this bonding force is such that when the plastic film is peeled off, the resin layer is made of silicone rubber. It is sufficient to transfer onto the rubber layer. It is possible to make this effect even more noticeable by heat-pressing.
この様に積層した版より、上記した様にプラス
チツクフイルムのみを剥離しシリコーンゴム層上
に非粘着性樹脂の薄層を最上層として設けること
ができる。この上に原画フイルムを密着させ、露
光製版作業をおこなう。 From the thus laminated plate, only the plastic film can be peeled off as described above, and a thin layer of non-adhesive resin can be provided as the uppermost layer on the silicone rubber layer. The original film is placed on top of this and the exposure process is carried out.
最上層に設けられた非粘着性樹脂層は、その薄
層が均一な連続皮膜である場合であつても、また
不連続な突起状の場合にもいずれもシリコーンゴ
ム層表面の粘着性を減ずることができ、たとえば
製版作業時の原画フイルムとシリコーンゴム層表
面との滑りを良くすると共に原画フイルムの密着
性を著しく向上させることができる。 The non-adhesive resin layer provided on the top layer reduces the adhesion of the silicone rubber layer surface, whether the thin layer is a uniform continuous film or discontinuous projections. For example, it is possible to improve the slippage between the original film and the surface of the silicone rubber layer during plate-making work, and to significantly improve the adhesion of the original film.
こような樹脂層をシリコーンゴム層上に設ける
方法として、直接シリコーンゴム層上に樹脂の塗
布液を塗布する方法は適当でない。従来から周知
のようにシリコーンゴム層は表面エネルギーが低
く、塗液をはじきやすく、従つてこの方法を用い
ると均一な皮膜を得ることができない。 As a method for providing such a resin layer on the silicone rubber layer, it is not appropriate to directly apply a resin coating liquid onto the silicone rubber layer. As is well known in the art, silicone rubber layers have low surface energy and tend to repel coating liquids, so using this method it is not possible to obtain a uniform film.
また、該樹脂層を不連続な突起とする場合もそ
の粒径などをコントロールするのにも著しい困難
が伴なう。 Further, when the resin layer is formed into discontinuous projections, it is also extremely difficult to control the particle size and the like.
本発明の方法を用いると前述のように極めて容
易に樹脂層をシリコーンゴム層上に設けることが
できる。すなわちプラスチツクフイルム上に非粘
着性樹脂層を設け、この樹脂層側と版材のシリコ
ーンゴムの表層を貼り合せ、次いでプラスチツク
フイルムを剥離することにより、該プラスチツク
フイルムのみが剥がれ、該フイルム上に設けられ
た樹脂層がシリコーンゴム層表面に残り上記目的
が達成される。 By using the method of the present invention, the resin layer can be extremely easily provided on the silicone rubber layer as described above. That is, by providing a non-adhesive resin layer on a plastic film, bonding this resin layer side to the surface layer of the silicone rubber of the plate material, and then peeling off the plastic film, only the plastic film is peeled off, and the layer formed on the film is peeled off. The resin layer thus obtained remains on the surface of the silicone rubber layer, thus achieving the above objective.
プラスチツクフイルム、樹脂を適当に選択する
こと、あるいは貼り合せする時のシリコーンゴム
の硬化度を適当にコントロールすることにより、
プラスチツクフイルムより該樹脂層を直接シリコ
ーンゴム層に転写させることができる。しかしシ
リコーンゴム層が十分に硬化している場合には樹
脂層を完全に、再現性よく転写させることが難し
い。シリコーンゴム層が十分に硬化している場合
にはシリコーンゴム層と樹脂層の間に接着層を介
在させる、あるいは樹脂層中に接着剤成分を含有
させることにより容易に樹脂層をシリコーンゴム
層上に転写させることができる。この方法はシリ
コーンゴム層が硬化している場合のみならずその
他の場合にも有効であり、常に容易に樹脂層をシ
リコーンゴム層表面に転写させることができる。 By appropriately selecting the plastic film and resin, or by appropriately controlling the degree of curing of the silicone rubber during bonding,
The resin layer can be directly transferred from the plastic film to the silicone rubber layer. However, when the silicone rubber layer is sufficiently cured, it is difficult to completely transfer the resin layer with good reproducibility. When the silicone rubber layer is sufficiently cured, the resin layer can be easily attached to the silicone rubber layer by interposing an adhesive layer between the silicone rubber layer and the resin layer, or by incorporating an adhesive component into the resin layer. It can be transferred to This method is effective not only when the silicone rubber layer is cured but also in other cases, and the resin layer can always be easily transferred to the surface of the silicone rubber layer.
接着層として使用する、あるいは樹脂層中に含
有させる接着剤としては、いわゆるシリコーンプ
ライマー、シランカツプリング剤を含む官能性シ
リコーン化合物、有機チタン化合物などの中から
選ぶことができるし、また他の有機金属化合物な
ども有効に使用できる。 The adhesive used as the adhesive layer or contained in the resin layer can be selected from so-called silicone primers, functional silicone compounds including silane coupling agents, organic titanium compounds, etc. Metal compounds can also be used effectively.
これらの接着剤のうち最も好ましいのは、次に
あげるようなものである。 Among these adhesives, the following are most preferred.
テトライソプロピルチタネート、テトラブチル
チタネート、ジイソプロピル・ビス（アセチルア
セトン）チタネート、ジブチル・ビス（アセチル
アセトン）チタネート、ジブチル・ジブ（トリエ
タノールアミン）チタネート、トリアセチルアセ
トンアルミネート、γ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）
γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、γ−メルカプトトリメトキシシラン、γ
−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン、ビス〔３−（トリエトキシシリル）プロピル〕
エチレンジアミン、エチルトリアセトキシラン。 Tetraisopropyl titanate, tetrabutyl titanate, diisopropyl bis(acetylacetone) titanate, dibutyl bis(acetylacetone) titanate, dibutyl dibu(triethanolamine) titanate, triacetylacetone aluminate, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ -Aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl)
γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-mercaptotrimethoxysilane, γ
-methacryloxypropyltrimethoxysilane, bis[3-(triethoxysilyl)propyl]
Ethylenediamine, ethyltriacetoxylan.
これらを接着層として使用する時、その塗布厚
は、１ｍμ〜5μが適当であり、より好ましくは
５ｍμ〜1μである。 When these are used as adhesive layers, the coating thickness is suitably 1 mμ to 5 μm, more preferably 5 mμ to 1 μm.
また、これら接着剤を、樹脂薄層中に含有させ
る場合、樹脂100重量部に対し、接着剤の量は0.1
〜100重量部、より好ましくは１〜30重量部が適
当である。 In addition, when these adhesives are contained in a thin resin layer, the amount of adhesive is 0.1 parts by weight per 100 parts by weight of resin.
~100 parts by weight, more preferably 1 to 30 parts by weight are suitable.
本発明が適用されるシリコーンゴム層を最上層
とする湿し水不要平版印刷原版は、基体に裏打ち
された感光性シリコーンゴム層を有するものであ
つてもよいし、またシリコーンゴム層の下に必要
ならば接着層を介して基体に裏打ちされた公知の
感光層を有するようなものであつてもよい。 The lithographic printing original plate that does not require dampening water and has a silicone rubber layer as the uppermost layer to which the present invention is applied may have a photosensitive silicone rubber layer backed by a substrate, or may have a photosensitive silicone rubber layer under the silicone rubber layer. If necessary, it may have a known photosensitive layer backed on the substrate via an adhesive layer.
以下に上記の湿し水不要平版印刷原版を構成す
る基体、シリコーンゴム層、感光性を有するシリ
コーンゴム層および感光層について説明する。 The substrate, silicone rubber layer, photosensitive silicone rubber layer, and photosensitive layer that constitute the above-mentioned dampening water-free lithographic printing original plate will be explained below.
基体としては、厚さが約10μ〜２mm、好ましく
は約50〜500μの紙、プラスチツクフイルムもし
くはシート、金属板あるいはゴム等の弾性体が適
当であるが、シリンダー状の基体を用いても良
い。 Suitable substrates are paper, plastic films or sheets, metal plates, or elastic bodies such as rubber having a thickness of about 10 μm to 2 mm, preferably about 50 μm to 500 μm, but cylindrical substrates may also be used.
本発明に用いられるシリコーンゴム層は、通常
約0.5〜100μ、好ましくは約0.5〜10μの厚みを有
し、次のようなくり返し単位を有する分子量数千
〜数十万の線状有機ポリシロキサンを主成分とす
る。 The silicone rubber layer used in the present invention usually has a thickness of about 0.5 to 100μ, preferably about 0.5 to 10μ, and is made of linear organic polysiloxane with a molecular weight of several thousand to several hundred thousand and having the following repeating units. Main component.
ここでＲは炭素数１〜10のアルキル基あるいは
フエニル基であり、Ｒの60％以上がメチル基であ
るものが好ましい。このような線状有機ポリシロ
キサンは有機過酸化物を添加して熱処理等を施す
ことにより、まばらに架橋しシリコーンゴムとす
ることも可能である。 Here, R is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a phenyl group, and preferably 60% or more of R is a methyl group. Such a linear organic polysiloxane can be sparsely crosslinked to form a silicone rubber by adding an organic peroxide and subjecting it to heat treatment.
シリコーンゴム層にはまた架橋剤が添加され
る。架橋剤としては、いわゆる室温（低温）硬化
型のシリコーンゴムに使われるものとして、アセ
トキシシラン、ケトオキシムシラン、アルコキシ
シラン、アムノシラン、アミドシランなどがあ
り、通常線状有機ポリシロキサンとして末端が水
酸基であるものとくみ合せて、各々脱酢酸型、脱
オキシム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱ア
ミド型のシリコーンゴムとなる。これらのシリコ
ーンゴムには、さらに触媒として少量の有機スズ
化合物等が添加されるのが一般的である。 A crosslinking agent is also added to the silicone rubber layer. Crosslinking agents used in so-called room temperature (low temperature) curing silicone rubber include acetoxysilane, ketoxime silane, alkoxysilane, amnosilane, amidosilane, etc., and are usually linear organic polysiloxanes with hydroxyl groups at the ends. When combined, they become deacetic acid type, oxime type, dealcoholized type, deamined type, and deamidated type silicone rubber, respectively. Generally, a small amount of an organic tin compound or the like is further added as a catalyst to these silicone rubbers.
感光性シリコーンゴム層はシリコーンゴム層そ
のものが感光性のものであつて、この場合には感
光層はなくてもよい。感光性シリコーンゴムとし
ては、ジメチルポリシロキサンの末端OH基にγ
−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン、あるいはモノシンナモイルジエトキシシラン
を脱アルコール縮合させた化合物、またポリジオ
ルガノシロキサンにビスアジド化合物を添加、あ
るいはアクリロイルクロリドやｐ−アジドベンゾ
エートを反応させた化合物などをあげることがで
きる。 The photosensitive silicone rubber layer itself is photosensitive, and in this case, the photosensitive layer may not be provided. As a photosensitive silicone rubber, γ is added to the terminal OH group of dimethylpolysiloxane.
- Compounds obtained by dealcoholing condensation of methacryloxypropyltrimethoxysilane or monocinnamoyldiethoxysilane, and compounds obtained by adding a bisazide compound to polydiorganosiloxane, or by reacting acryloyl chloride or p-azidobenzoate, etc. I can do it.
また、シリコーンゴムに公知の感光性物質を混
合した感光性シリコーンゴム層を使用することも
できる。 Furthermore, a photosensitive silicone rubber layer obtained by mixing silicone rubber with a known photosensitive substance can also be used.
感光層は活性な光線を照射することにより光硬
化または光可溶化する性質を有する層である。こ
の層は基板に均一に塗布されており、基板に密着
しているならばその厚さは任意であるが、好まし
くは約100μ以下であり、さらに好ましくは約0.5
〜10μのものがさらに有用である。もし必要あれ
ば、感光層と基板との間の接着性向上あるいは、
ハレーシヨン防止のために基板と感光層との間に
アンカーコート層を設けることも有用である。 The photosensitive layer is a layer that has the property of being photocured or photosolubilized by irradiation with active light. This layer is uniformly applied to the substrate, and its thickness is arbitrary as long as it is in close contact with the substrate, but is preferably about 100 μm or less, more preferably about 0.5 μm thick.
~10μ is even more useful. If necessary, improve the adhesion between the photosensitive layer and the substrate or
It is also useful to provide an anchor coat layer between the substrate and the photosensitive layer to prevent halation.
感光性物質としては、公知のものが使用でき
る。例えば、光重合性モノマあるいはオリゴマを
含む組成物や光硬化性ジアゾ樹脂あるいはアジド
樹脂等があるが、本発明において特に効果の著し
い感光性物質としてはオルトキノンジアジド類と
ノボラツク樹脂を組み合せたものがあげられる。 As the photosensitive substance, known ones can be used. For example, there are compositions containing photopolymerizable monomers or oligomers, photocurable diazo resins, azide resins, etc., but in the present invention, particularly effective photosensitive materials include those that combine orthoquinone diazides and novolac resins. It will be done.
本発明の湿し水不要平版印刷原版の画像形成に
は、すでに開示されているように、基体に裏打ち
された感光性のシリコーンゴムを用い、露光前に
プラスチツクフイルムを剥離し、画像露光後可溶
部を現像液により除去するか、シリコーンゴム層
の下に必要ならば接着層を介して基体に裏打ちさ
れた公知の感光層を設け、露光前にプラスチツク
フイルムを剥離し、露光後画線部のシリコーンゴ
ム層を、その下の感光層と共に現像除去するか、
もしくはシリコーンゴム層のみを除去すればよ
い。 As already disclosed, for image formation on the lithographic printing original plate that does not require dampening water of the present invention, a photosensitive silicone rubber lined with a substrate is used, the plastic film is peeled off before exposure, and the image can be formed after exposure. Either the soluble area is removed with a developer, or a known photosensitive layer is provided below the silicone rubber layer, backed by an adhesive layer if necessary, on the substrate, the plastic film is peeled off before exposure, and the image area is removed after exposure. The silicone rubber layer along with the underlying photosensitive layer is removed by development, or
Alternatively, only the silicone rubber layer may be removed.
本発明の湿し水不要平版印刷原版を用いること
により、原画との密着性が向上し密着に要する時
間が大幅に短縮できる。さらに画像を忠実に再現
することが可能になつた。 By using the lithographic printing original plate that does not require dampening water of the present invention, the adhesion to the original image can be improved and the time required for adhesion can be significantly shortened. Furthermore, it has become possible to faithfully reproduce images.
またシリコーンゴム層表面の非粘着性樹脂層
は、画像露光後の現像時などには極めて容易に除
去することが可能で、印刷時の版性能に悪影響を
及ぼすことはない。 In addition, the non-adhesive resin layer on the surface of the silicone rubber layer can be removed very easily during development after image exposure, and does not adversely affect plate performance during printing.
以下実施例により、本発明をさらに詳しく説明
する。 The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below.
比較例 １
住友軽金属(株)製の化成処理アルミ板（厚さ
300μ）の次の組成の感光層を乾燥厚さ約1.2μにな
るように塗設した。Comparative example 1 Chemical conversion treated aluminum plate manufactured by Sumitomo Light Metal Co., Ltd. (thickness
A photosensitive layer having the following composition (300μ) was coated to a dry thickness of about 1.2μ.
(a) フエノールノボラツク樹脂（住友ベークライ
ト社製：スミライトレジンPR50235）のナフト
キノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エ
ステル（エステル化度44％）
続いて次の組成のシリコーンゴム層を乾燥厚さ
約2.5μになるように塗設し、120℃、５分の熱処
理を施した。(a) Naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid ester (degree of esterification: 44%) of phenol novolak resin (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.: Sumilite Resin PR50235) Subsequently, a silicone rubber layer with the following composition was dried. It was coated to a thickness of approximately 2.5 μm and heat treated at 120°C for 5 minutes.
(a) トーレシリコーン製SH−781 100重量部
(b) γ−アミノプロピルトリエトキシシラン
４重量部
この版を50cm×50cmの大きさに切り出し、50％
の網点面積率を有する原画を重ねて、通常の手法
で真空密着させたところ、版の全面にわたつて原
画とシリコーンゴム層間に空気の残留があり、20
分にわたつて吸引を続けてもこの空気溜りが消え
ることはなかつた。続いてこの状態で露光し、エ
タノールで現像したところ、空気溜りが生じて原
画との密着が十分でなかつた部分に再現された網
点は焼きぼけにより良好な形状ではなかつた。(a) 100 parts by weight of SH-781 manufactured by Toray Silicone (b) γ-Aminopropyltriethoxysilane
4 parts by weight Cut this plate into a size of 50cm x 50cm, 50%
When original images with a dot area ratio of
Even after several minutes of continuous suction, this air pocket did not disappear. When the image was subsequently exposed to light in this state and developed with ethanol, the halftone dots reproduced in areas where air pockets were formed and the contact with the original image was insufficient were not in good shape due to blurring.
実施例 １
厚さ20μのポリプロピレンフイルム上に、飽和
ポリエステル樹脂（東洋紡(株)製：“バイロン200”）
のトルエン／MEK＝80／20溶媒の５％溶液を、
スリツトダイコーターで塗布し、80℃、30秒乾燥
し厚さ0.5μの樹脂薄膜層を得た。Example 1 Saturated polyester resin (manufactured by Toyobo Co., Ltd.: “Vylon 200”) was applied on a 20μ thick polypropylene film.
5% solution of toluene/MEK=80/20 solvent,
It was coated with a slit die coater and dried at 80°C for 30 seconds to obtain a resin thin film layer with a thickness of 0.5μ.
比較例１と同じ版の50×50cmの大きさのものの
最上層のシリコーンゴム層と、上記樹脂薄膜層を
接するように、ラミネーターを用いて室温で圧着
した。 The uppermost silicone rubber layer of the same plate as in Comparative Example 1, measuring 50 x 50 cm, was pressed at room temperature using a laminator so that the resin thin film layer was in contact with it.
続いて最上層のポリプロピレンフイルムを剥離
したところ、ポリプロピレンフイルムのみが剥離
し、上記ポリエステル樹脂薄層がシリコーンゴム
層上に転移した版が得られた。この版の表面は樹
脂薄層によりシリコーンゴムによる粘着性が除去
されていた。 Subsequently, when the uppermost polypropylene film was peeled off, a plate was obtained in which only the polypropylene film was peeled off and the thin polyester resin layer was transferred onto the silicone rubber layer. The adhesiveness caused by silicone rubber was removed from the surface of this plate by a thin resin layer.
こうして得られた版に50％網点面積率を有する
原画を重ねたところ、表面粘着性がないため、原
画の装着性が容易であつた。続いて常法に従つて
真空密着させたところ、15〜20秒で気泡は全て排
除された。次いで露光しても発生した窒素ガスに
よる気泡たまりにできず、さらに現像したところ
良好な網点が再現された。また表面に設けた樹脂
層は現像時に完全に除かれていた。 When an original image having a halftone dot area ratio of 50% was superimposed on the plate obtained in this way, the original image was easily attached because the surface had no adhesive properties. Subsequently, when vacuum sealing was performed according to a conventional method, all air bubbles were eliminated in 15 to 20 seconds. Even after subsequent exposure, no bubbles were formed due to the generated nitrogen gas, and when further development was performed, good halftone dots were reproduced. Furthermore, the resin layer provided on the surface was completely removed during development.
MEK：メチルエチルケトン
実施例２、比較例２
住友軽金属(株)製の化成処理アルミ板（厚さ
300μ）に次の組成を有する固形分の10重量％の
エタノール溶液を塗布し、80℃で乾燥し厚さ3μ
の感光層を設けた。 MEK: Methyl ethyl ketone Example 2, Comparative Example 2 Chemically treated aluminum plate manufactured by Sumitomo Light Metal Co., Ltd. (thickness
300μ) was coated with a 10% solids ethanol solution with the following composition and dried at 80℃ to a thickness of 3μ.
A photosensitive layer was provided.
(a) メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル／ア
クリル酸の50／30／20の共重体 50重量部
(b) メタクリル酸グリシジル４モルとキシリレン
ジアミン１モルの付加反応物 48重量部
(c) ミヒラー氏ケトン ２重量部
この感光層の上に次の組成を有するシリコーン
ゴム組成物の10重量％ｎ−ヘキサン溶液を塗布
し、60℃で乾燥し、厚さ2μのシリコーンゴム層
を設けた版Ａを得た。(a) 50/30/20 copolymer of methyl methacrylate/methyl acrylate/acrylic acid 50 parts by weight (b) 48 parts by weight of addition reaction product of 4 moles of glycidyl methacrylate and 1 mole of xylylene diamine (c) Michler 2 parts by weight of Mr. Ketone A 10% by weight solution of a silicone rubber composition having the following composition in n-hexane was applied onto this photosensitive layer and dried at 60°C to form a silicone rubber layer with a thickness of 2μ. Plate A I got it.
(a) ポリジメチルシロキサン（分子量約８万）
100重量部
(b) メチルトリアセトキシシラン ５重量部
(c) 酢酸ジブチルスズ 0.2重量部
一方、厚さ25μの片面マツト化ポリプロピレン
フイルム（HCLA：中心線表面粗さ／1μ）のマツ
ト面にポリビニルアルコール樹脂（日本合成化学
工業(株)製：“ゴーセノールKL−05”）のエタノー
ル／水＝20／80（重量比）の15％溶液を75線／イ
ンチ格子型グラビアロールを用い塗布し、70℃35
秒乾燥し、厚み2μの樹脂薄層を設け、さらにそ
の上に、ジブチル・ビス（アセチルアセトン）チ
タネートの２％溶液（溶媒ｎ−ヘキサン／ｎ−ブ
タノール＝90／10）を、同じロールを用いて塗布
し、70℃25秒乾燥し、厚さ0.1μの接着層を設け、
フイルムＢを得た。(a) Polydimethylsiloxane (molecular weight approximately 80,000)
100 parts by weight (b) 5 parts by weight of methyltriacetoxysilane (c) 0.2 parts by weight of dibutyltin acetate On the other hand, polyvinyl alcohol was applied to the matte side of a 25μ thick single-sided matted polypropylene film (H CLA : center line surface roughness/1μ). A 15% solution of resin (manufactured by Nippon Gosei Kagaku Kogyo Co., Ltd.: "Gohsenol KL-05") in ethanol/water = 20/80 (weight ratio) was applied using a 75-line/inch grid type gravure roll, and heated at 70°C. 35
After drying for seconds, a thin resin layer with a thickness of 2 μm was formed, and on top of that, a 2% solution of dibutyl bis(acetylacetone) titanate (solvent n-hexane/n-butanol = 90/10) was applied using the same roll. Apply and dry at 70℃ for 25 seconds to form an adhesive layer with a thickness of 0.1μ.
Film B was obtained.
このフイルムＢの接着層と前記版Ａのシリコー
ンゴム層を接触するように圧着して貼り合わせ湿
し水不要平版印刷原版を得た。 The adhesive layer of this film B and the silicone rubber layer of the plate A were pressed together so that they were in contact with each other to obtain a lithographic printing original plate that did not require dampening water.
続いて最上層のポリプロピレンフイルムを剥離
したところ、ポリプロピレンフイルムのみがはが
れ、ポリビニルアルコール樹脂薄層がシリコーン
ゴム層常に転移した版が得られた。この版の表面
はポリプロピレンフイルムのマツトがレプリカさ
れ微細なマツト状になつていた。 Subsequently, when the uppermost polypropylene film was peeled off, only the polypropylene film was peeled off, and a plate was obtained in which the thin polyvinyl alcohol resin layer was constantly transferred to the silicone rubber layer. The surface of this plate was a replica of the polypropylene film pine and had a fine pine-like appearance.
このようにして得られた湿し水不要平版印刷原
版を50×50cmの大きさに切り出し、面積率10％、
150線の網点画像を有するポジ原画を重ねて、真
空密着したところ約15秒で完全に密着した気泡は
全く残らなかつた。続いて露光、現像したとこ
ろ、焼きぼけのない原面に忠実な網点画像が得ら
れた。またシリコーンゴム層上に設けた薄膜層は
現像時に完全に除去された。 The thus obtained planographic printing original plate that does not require dampening water was cut into a size of 50 x 50 cm, and the area ratio was 10%.
When a positive original image with a 150-line halftone image was superimposed and vacuum-adhered, it took about 15 seconds for the two to be completely adhered, leaving no air bubbles at all. Subsequent exposure and development resulted in a halftone image faithful to the original surface with no blurring. Furthermore, the thin film layer provided on the silicone rubber layer was completely removed during development.
一方、比較のために、シリコーンゴム層上に樹
脂層を転移していない版Ａ自体を同じく50×50cm
の大きさに切り出し、同様の操作を行なつたとこ
ろ、真空密着の際に原画とシリコーンゴム層との
間に残留した気泡は、20分以上吸引を続けても消
えなかつた。続いて露光、現像したところ気泡を
生じていた部分の網点は焼きぼけにより形状がく
ずれていた。 On the other hand, for comparison, the plate A itself, which did not have a resin layer transferred onto the silicone rubber layer, was also made with a size of 50 x 50 cm.
When the same size was cut out and the same operation was performed, the air bubbles that remained between the original image and the silicone rubber layer during vacuum adhesion did not disappear even after continued suction for more than 20 minutes. Subsequent exposure and development revealed that the halftone dots in the areas where the bubbles had occurred had lost their shape due to blurring.
実施例 ３
厚さ0.25mmのポリエステルフイルム上に、厚さ
0.25mm、シヨアＡゴム硬度70のニトリルゴム層を
設けた基板上に、比較例１と同じ組成の感光層、
シリコーンゴム層を、乾燥厚さが各々3μ、5μと
する以外は同様にして版Ｃを得た。Example 3 On a polyester film with a thickness of 0.25 mm,
On a substrate provided with a nitrile rubber layer of 0.25 mm and Shore A rubber hardness of 70, a photosensitive layer having the same composition as in Comparative Example 1,
Plate C was obtained in the same manner except that the dry thickness of the silicone rubber layer was 3μ and 5μ, respectively.
一方、樹脂としてスチレン樹脂（旭ダウ社製：
スタイロン683）のトルエン40％溶液を180線／イ
ンチ格子型グラビアロールを用い塗布する以外は
実施例２と同様にして、フイルムＤを得た。 On the other hand, styrene resin (manufactured by Asahi Dow Co., Ltd.) is used as a resin.
Film D was obtained in the same manner as in Example 2, except that a 40% solution of Styron 683) in toluene was applied using a 180 line/inch grid type gravure roll.
このフイルムＤの接着層と前記版Ｃのシリコー
ンゴム層を接触するように圧着して貼り合わせ湿
し水不要平版印刷原版を得た。続いて最上層のポ
リプロピレンフイルムを剥離したところ、ポリプ
ロピレンフイルムのみがはがれスチレン樹脂薄層
がシリコーンゴム層上に転移した版が得られた。
この版の表面はポリプロピレンフイルムのマツト
がレプリカされ微細なマツト状になつていた。 The adhesive layer of this film D and the silicone rubber layer of the plate C were pressed together so that they were in contact with each other to obtain a lithographic printing original plate that did not require dampening water. Subsequently, when the uppermost polypropylene film was peeled off, a plate was obtained in which only the polypropylene film was peeled off and a thin styrene resin layer was transferred onto the silicone rubber layer.
The surface of this plate was a replica of the polypropylene film pine and had a fine pine-like appearance.
この版の表面は樹脂薄層によりシリコーンゴム
による粘着性が除去されていた。 The adhesiveness caused by silicone rubber was removed from the surface of this plate by a thin resin layer.
こうして得られた版に50％網点面積率を有する
原画を重ねたところ、表面粘着性がなく、さらに
表面がマツト化されているため、原画の装着性が
容易であつた。続いて常法に従つて真空密着させ
たところ、密着に要した15〜20秒で気泡は全く残
らなかつた。続いて露光しても発生した窒素ガス
による気泡たまりは生ぜず、さらに現像したとこ
ろ良好な網点が再現された。また表面に設けた樹
脂薄層は現像時に完全に除かれていた。 When an original image having a halftone dot area ratio of 50% was superimposed on the plate obtained in this way, the original image was easy to mount because the surface had no tackiness and the surface was matte. Subsequently, when vacuum adhesion was performed according to a conventional method, no air bubbles remained at all within the 15 to 20 seconds required for adhesion. Even after subsequent exposure, no bubbles were formed due to the generated nitrogen gas, and when further development was performed, good halftone dots were reproduced. Furthermore, the thin resin layer provided on the surface was completely removed during development.
比較例 ３
厚さ0.25mmのアルミ板上に、厚さ0.25mm、シヨ
アＡゴム硬度70のニトリルゴム層を設けた基板上
に次の組成の感光層を乾燥厚さ2μになるように
塗設した。Comparative Example 3 A photosensitive layer with the following composition was coated to a dry thickness of 2 μm on a substrate with a 0.25 mm thick nitrile rubber layer of Shore A rubber hardness of 70 on a 0.25 mm thick aluminum plate. did.
(a) フエノールノボラツク樹脂（住友ベークライ
ト社製：スミライトレジンPR50235）のナフト
キノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エ
ステル（エステル化度44％）
続いて、接着層としてγ−アムノプロピルトリ
メトキシシラン0.05μを設け、さらにその上に次
の組成のシリコーンゴム層を乾燥厚さ約10μにな
るように塗設し100℃、35分の熱処理を施した。(a) Naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid ester (degree of esterification: 44%) of phenol novolak resin (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.: Sumilite Resin PR50235), followed by γ-amnopropyl as an adhesive layer. A layer of 0.05μ of trimethoxysilane was provided, and a silicone rubber layer having the following composition was further coated thereon to a dry thickness of approximately 10μ, and heat treated at 100°C for 35 minutes.
(a) ポリジメチルシロキサン（分子量約４万）
100重量部
(b) メチルトリアセトキシシラン ５重量部
(c) 酢酸ジブチルスズ 0.2重量部
この版を50cm×50cmの大きさに切り出し、50％
の網点面積率を有する原画を重ねて、通常の手法
で真空密着させたところ、版の全面にわたつて原
画とシリコーンゴム層間に気泡が生じ、20分にわ
たつて吸引を続けてもこの気泡が消えることはな
かつた。続いてこの状態で露光し、エタノールで
現像したところ、気泡が生じて原画との密着が十
分でなかつた部分に再現された網点は焼きぼけに
より良好な形状ではなかつた。(a) Polydimethylsiloxane (molecular weight approximately 40,000)
100 parts by weight (b) Methyltriacetoxysilane 5 parts by weight (c) Dibutyltin acetate 0.2 parts by weight Cut this plate into a size of 50 cm x 50 cm, and cut out 50%
When original images with a dot area ratio of never disappeared. Subsequently, when the image was exposed to light in this state and developed with ethanol, the halftone dots reproduced in areas where air bubbles were generated and did not have sufficient contact with the original image did not have a good shape due to blurring.
実施例 ４
厚さ10μのポリエステルフイルム上に、ポリビ
ニルブチラール樹脂（電気化学工業社製：デンカ
ブチラール4000−２）の13％溶液（溶媒トルエ
ン／エタノール＝１／１）を、グラビアロール
（ピラミツド型、55線／インチ、セル部分の面積
25％）を用いて塗布し、75℃で40秒乾燥したとこ
ろ、山の高さ３〜4μの突起状に樹脂が塗設され
た。Example 4 A 13% solution (solvent toluene/ethanol = 1/1) of polyvinyl butyral resin (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.: Denka Butyral 4000-2) was placed on a 10μ thick polyester film using a gravure roll (pyramid type, 55 lines/inch, cell area
25%) and dried at 75°C for 40 seconds, the resin was coated in protrusions with a height of 3 to 4 μm.
この上に、ジブチル・ビス（アセチルアセト
ン）チタネートの２％溶液（溶媒ｎ−ヘキサン／
ｎ−ブタノール＝90／10）を、180線／インチ格
子型グラビアロールを用い塗布し、70℃で30秒乾
燥し、厚さ約0.1μの接着層を設けた。 On top of this, a 2% solution of dibutyl bis(acetylacetone) titanate (solvent n-hexane/
n-butanol=90/10) was applied using a 180 line/inch grid type gravure roll and dried at 70°C for 30 seconds to form an adhesive layer with a thickness of about 0.1 μm.
比較例３と同じ版の最上層のシリコーンゴム層
と上記接着層が接するように、室温で圧着して貼
り合わせ湿し水不要平版印刷原版を得た。 The uppermost silicone rubber layer and the adhesive layer of the same plate as in Comparative Example 3 were bonded together at room temperature so that they were in contact with each other to obtain a lithographic printing original plate that did not require dampening water.
このようにして得られた湿し水不要平版印刷原
版を50×50cmの大きさに切り出し、続いて最上層
のポリエステルフイルムを剥離したところ、ポリ
エステルフイルムのみがはがれ、ブチラール樹脂
の突起がシリコーンゴム層上に転移した版が得ら
れた。 When the thus obtained lithographic printing original plate that does not require dampening water was cut into a size of 50 x 50 cm and the top layer polyester film was peeled off, only the polyester film was peeled off and the protrusions of the butyral resin were removed from the silicone rubber layer. A plate with upward transfer was obtained.
こうして得られた版に50％網点面積率を有する
原画を重ねて、常法に従つて真空密着させたとこ
ろ、密着に要した時間は15〜20秒で気泡は全く残
らなかつた。続いて露光しても発生した窒素ガス
による気泡だまりができず、さらに現像したとこ
ろ良好な網点が再現された。 When the original image having a halftone dot area ratio of 50% was superimposed on the plate obtained in this manner and brought into close contact with each other under vacuum according to a conventional method, the time required for the close contact was 15 to 20 seconds, and no air bubbles remained at all. Even after subsequent exposure, no bubbles were formed due to the generated nitrogen gas, and when further development was performed, good halftone dots were reproduced.
また、設けた凹凸は現像時に完全に除かれてい
た。 Furthermore, the provided irregularities were completely removed during development.
Claims (1)
層を設ける工程 (b) シリコーンゴム層を最上層とする湿し水不要
平版印刷原版のシリコーンゴム層に、前記プラ
スチツクフイルム上に設けられた非粘着性樹脂
層とシリコーンゴム層とを接するように積層す
る工程および (c) 非粘着性樹脂層上のプラスチツクフイルムを
剥離する工程とからなることを特徴とする湿し
水不要平版印刷原版の製造方法。 ２ (a) プラスチツクフイルム上に非粘着性樹脂
層を設ける工程 (b) 前記プラスチツクフイルム上の非粘着性樹脂
層の上にさらに官能性シリコーン化合物または
有機チタン化合物から選ばれる少なくとも一種
の化合物を含む接着層を設ける工程 (c) シリコーンゴム層を最上層とする湿し水不要
平版印刷原版のシリコーンゴム層上に、前記プ
ラスチツクフイルム上に設けられた非粘着性樹
脂層の上の接着層とシリコーンゴム層とを接す
るように積層する工程および (d) 非粘着性樹脂層上のプラスチツクフイルムを
剥離する工程とからなることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の湿し水不要平版印刷原
版の製造方法。[Scope of Claims] 1 (a) Step of providing a non-adhesive resin layer on a plastic film (b) Step of providing a silicone rubber layer of a dampening water-free lithographic printing original plate having a silicone rubber layer as the uppermost layer on the plastic film. (c) removing the plastic film on the non-adhesive resin layer, which requires no dampening water A method of manufacturing a lithographic printing plate. 2 (a) Step of providing a non-adhesive resin layer on the plastic film (b) Further containing at least one compound selected from a functional silicone compound or an organic titanium compound on the non-adhesive resin layer on the plastic film. Step (c) of providing an adhesive layer: On the silicone rubber layer of the lithographic printing original plate that does not require dampening water and has the silicone rubber layer as the uppermost layer, the adhesive layer on the non-adhesive resin layer provided on the plastic film and the silicone The dampening water-free lithographic printing according to claim 1, characterized by comprising the steps of: laminating the rubber layer so that they are in contact with each other; and (d) peeling off the plastic film on the non-adhesive resin layer. Method of manufacturing the original plate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16223882A JPS5952696A (en) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | Planographic printing base plate necessitating no dampening water and preparation thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16223882A JPS5952696A (en) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | Planographic printing base plate necessitating no dampening water and preparation thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5952696A JPS5952696A (en) | 1984-03-27 |
| JPH0356466B2 true JPH0356466B2 (en) | 1991-08-28 |
Family
ID=15750601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16223882A Granted JPS5952696A (en) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | Planographic printing base plate necessitating no dampening water and preparation thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5952696A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1252784B (en) * | 1991-08-08 | 1995-06-28 | Feba Di Boldrini Andrea E Forn | METHOD AND DEVICE FOR OFFSET PAINTING |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5555343A (en) * | 1978-10-20 | 1980-04-23 | Toray Ind Inc | Waterless lithographic printing original plate |
| JPS5570846A (en) * | 1978-11-24 | 1980-05-28 | Toray Ind Inc | Treating method of lithographic material not requiring dampening water |
| JPS5825635A (en) * | 1981-08-10 | 1983-02-15 | Toray Ind Inc | Lithographic original plate requiring no dampening water |
-
1982
- 1982-09-20 JP JP16223882A patent/JPS5952696A/en active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5555343A (en) * | 1978-10-20 | 1980-04-23 | Toray Ind Inc | Waterless lithographic printing original plate |
| JPS5570846A (en) * | 1978-11-24 | 1980-05-28 | Toray Ind Inc | Treating method of lithographic material not requiring dampening water |
| JPS5825635A (en) * | 1981-08-10 | 1983-02-15 | Toray Ind Inc | Lithographic original plate requiring no dampening water |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5952696A (en) | 1984-03-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3953212A (en) | Pre-sensitized lithoprinting plate requiring no fountain solution | |
| US4358522A (en) | Dry planographic printing plate | |
| US3909265A (en) | Process for producing presensitized planographic printing plate requiring no fountain solution | |
| JPS6321890B2 (en) | ||
| US4225663A (en) | Driographic printing plate | |
| JPH0356466B2 (en) | ||
| JPS6322306B2 (en) | ||
| JPS58163944A (en) | Manufacture of lithographic original plate requiring no dampening water | |
| JPS6323543B2 (en) | ||
| JPS58186746A (en) | Manufacture of lithographic plate material requiring no dampening water | |
| JPS6154218B2 (en) | ||
| JPS6154217B2 (en) | ||
| JPS6319866B2 (en) | ||
| JPH0311461B2 (en) | ||
| JPS6323545B2 (en) | ||
| EP0653686A1 (en) | Imaging element comprising a photopolymerizable composition and methods for producing lithographic plates therewith | |
| JPS6319865B2 (en) | ||
| JPH0327043A (en) | Photosensitive planographic printing plate requiring no dampening water | |
| JPH0365539B2 (en) | ||
| EP0653684A1 (en) | Imaging element comprising a photopolymerizable composition and methods for producing lithographic plates therewith | |
| JPS6156507B2 (en) | ||
| JPS5969751A (en) | Laminate for forming image and formation of image using the same | |
| JPH06105349B2 (en) | Dry photosensitive lithographic printing plate | |
| JP3818740B2 (en) | Plane printing plate material and planographic printing method | |
| JPH03294857A (en) | Dampening-waterless photosensitive planographic printing plate |