JPH0356431A - ジフェニル化合物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
[産業上の利用分野]
この発明は、下記の一般式[1]で示される疼痛、炎症
性疾患、リウマチ、腎炎、血小板減少症の治療に有用な
ジフェニル化合物に関するものであり、医薬の分野で利
用される. [従来の技術コ 4.4′−ジアミノジフェニルスルホンはエボキシ樹脂
の加工における硬化剤としてだけでなく、抗菌剤(抗ら
い菌剤)、抗原虫剤およびヘルペス性皮膚炎の抑制剤と
しての活性も知られている(メルクインデックス9版,
280g、370ページ、( 1976) ”) . [発明が解決しようとする課題コ 本発明′は、新規なジフエニル化合物が、上記刊行物に
記載されていない新規な疼痛、炎症性疾患、ノウマチ、
腎炎、血小板減少症の治療剤として有用であることを示
すものである. [課題を解決するための千段] この発明の目的とするジ′フェニル化合物は新規であり
、下記一般式(I)で示すことができる.[式中、R1
はハロゲン、アミノ基、保護されたアミノ基、ヒドラジ
ノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、保護された
アミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカンスル
ホニルアミノ基、アミノフエノキシ基、ヒドロキシ基ま
たは保護されたヒドロキシ基、 R2はハロゲン、低級アルキルアミ7基、ジ(低級アル
カンスルホニル)アミノ基、アミノ基、保護されたアミ
ノ基、ヒドラジノ基、保護されたヒドラジノ基、低級ア
ルカンスルホニルアミノ基またはハロ(低級)アルカン
スルホニルアミノ基、R3は水素、低級アルキル基、ハ
ロゲン、シアノ基、カルボキシ基、保護されたカルボキ
シ基、低級アルカンスルホニルアミノ基、ヒドロキシ基
または保護されたヒドロキシ基、 R3aは水素または低級アルキル基、 R4は水素、低級アルキル基またはハロゲン、R4aは
水素、低級アルキル基またはハロゲン、Aは一Cl{(
Ol{)− −CH2− −CO− −COCI
{(OR>−coco−、−COC(NORb)− (
式中、Rbは水素または低級アルキル基を意味する)、
−CONH−−o−、−S− −50− −502
− −C(−NOR”)?{式中、Raは水素、低級
アルキル基、低級アルケニル基、カルボキシ(低級)ア
ルキル基または保護されたカルポキシ(低k!k)アル
キル基を意味スル}、− 50■N(Rc) − (
式中、Rclt水素または低級アルキル基を意味する)
、一C}l2S−または一CH2SO■−を意味する] この発明の目的化合物(I)は下記製造法によって製造
することができる. 艶m + (I[ ) l L またはその塩 聚盟迭1 + H2NOR2 (It ) 2 またはその塩 1 またはその塩 匙産益ユ + H2NOR讐 (■3) またはその塩 し またはその塩 製』0L± (I[ −1) 4 (1 −2) 4 またはその反応性誘 またはその塩 導体、 またはその塩 またはその塩 堅3i[互 またはその塩 またはその塩 型』IL互 またはその塩 またはその塩 型jILヱ またはその塩 またはその塩 製造法8 またはその反応性誘導体 またはその塩 またはその塩 蔓産益1 またはその塩 またはその塩 架』uL東 またはその塩 またはその塩 販1じ(U またはその塩 またはその塩 製1巳(4 またはその塩 またはその塩 監1目(東 またはその塩 またはその塩 製造法14 またはその塩 またはその塩 製igts またはその塩 またはその塩 製造法16 またはその塩 またはその塩 製造法17 またはその塩 またはその塩 製31!x*ts (I[ −1) 18 (II18−2) またはその塩 またはその塩 (1 ’) 18 またはその塩 製1uL狂 (I −1) 19 またはその塩 (1 −2) 19 またはその塩 [式中、R1、R2、R3、R3a%R4、R4aおよ
びAはそれぞれ前と同じ意味であり、R?は低級アルキ
ル基または低級アルケニル基、X1は酸残基、 R;は水素、低級アルキル基、低級アルケニル基または
保護されたカルボキシ(低級)アルキル基、 Rbは水素または低級アルキル基、 3 R1はハロゲン、保護されたアミン基、ヒドラジ5 ノ基、保護されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、
アミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカンスル
ホニルアミノ基、ハロ(低級)アルカンスルホニルアミ
ノ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノフェノ
キシ基、保護されたヒドロキシ基またはヒドロキシ基、 R1′はニトロ基、ハロゲン、保護されたアミノ5 基、ヒドラジノ基、保護されたアミノベンゼンスルホニ
ルアミノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、低a
アルカンスルホニルアミノ基、ハロ(低級)アルカンス
ルホニルアミノ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、
アミノフエノキシ基、保護されたヒドロキシ基またはヒ
ドロキシ基、 R2はジ(低級アルカンスルホニル)アミノ基、6 低級アルキルアミノ基、保護されたアミノ基、保護され
たヒドラジノ基、ヒドラジノ基、低級アルカンスルホニ
ルアミノ基またはアミノ基、R2′はジ(低レアルカン
スルホニル)アミノ6 基、低級アルキルアミノ基、保護されたアミノ基、保護
されたヒドラジ7基、ヒドラジノ基または低級アルカン
スルホニルアミノ基、 A 6ハ−C(=NOR”)− C 式中、R”it水
,t、低級7ルキル基、低級アルケニル基、カルボキシ
(低級)アルキル基、または保護されたカルボキシ(低
級)アルキル基を意味する]、−CH2−CO−
−COCO− −CONH− −0− −
S−−50− −So2−tタハ−So2N(Rc)
−(l中、R0は水素または低級アルキル基を意味する
)、1 R7は保護されたアミノ基または保護されたアミノベン
ゼンスルホニルアミノ基、 l′ R7はアミノ基またはアミノベンゼンスルホニルアミノ
基、 2 R7はハロゲン、ジ(低級アルカンスルホニル)アミノ
基、低級アルキルアミノ基、保護されたアミノ基、保護
されたヒドラジノ基、ヒドラジノ基、低級アルカンスル
ホニルアミノ基またはアミノ基、 Rラ′はハロゲン、ジ(低級アルヵンスルホニル)アミ
ノ基、低級アルキルアミノ基、保護されたアミノ基、保
護されたヒドラジノ基、ヒドラジノ基、低級アルカンス
ルホニルアミノ基、またはアミノ基、 l R8はハロゲン、アミノ基、保護されたアミノ基、保護
されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカ
ンスルホニルアミノ基、保護されたヒドロキシ基または
ヒドロキシ基、 2 R8はヒドラジノ基またはアミノ基、 R2′は保護されたヒドラジノ基または保護された8 アミノ基、 R1はハロゲン、アミ7基、保護されたアミノ9 基、保護されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、低
級アルカンスルホニルアミノ基、保護されたヒドロキシ
基またはヒドロキシ基、 R2はアミノ基、 9 R2′はジ(低級アルカンスルホニル)アミノ基、9 または低級アルカンスルホニルアミノ基、A,4t −
C(=NOR”)− ( 式中、R”tt水素、低級ア
ルキル基、低級アルケニル基、カルボキシ(低級)アル
キル基または保護されたカルボキシ(低級)アルキル基
を意味する},−CH2− −CO−一COCO−−
COC(=NORb)−C式中、Rbは水素または低級
アルキル基を意味する)、−CONH−−o− −s
− −so− −so2−または−So2N(Rc
) − (式中、Reは水素または低級アルキル基を意
味する)、 Rloはハロゲン、保護されたアミノ基、;ヒドラジ?
基、保護されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、ア
ミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカンスルホ
ニルアミノ基、アミノ基、アミノフエノキシ基、保護さ
れたヒドロキシ基またはヒドロキシ基、 Rfoはジ(低級アルカンスルホニル)アミノ基、2′ R1oはアルカンスルホニルアミノ基、1 R11はハロゲン、保護されたアミノ基、ヒドラジノ基
、保護されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、アミ
ノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカンスルホニ
ルアミノ基またはアミノ基、アミノフエノキシ基、保護
されたヒドロキシ基またはヒドロキシ基、 A 1■+t −C(=NOR”)− ( 式中、R”
4t水jl、低17ルキル基、低級アルケニル基、カル
ボキシ(低級)アルキル基または保護されたカルボキシ
(低級)アルキル基を意味する}、−CH(OR)−、
CH2− −CO− −COCH(OH)− −
COC(回NORb)−(式中、Rbは水素または低級
アルキル基を意味?る)、−CONH− −0−
−8− −So2−または−So2N(Rc) −
(式中、R0は水素または低級アルキル基を意味する)
、 3 R1■は保護されたヒドロキシ基、 1 R13は保護されたヒドロキシ基、 2 R13はジ(低級アルカンスルホニル)アミノ基、低級
アルキルアミノ基、ヒドラジノ基、低級アルカンスルホ
ニルアミノ基またはアミノ基、1 R14はハロゲン、保護されたアミノ基、保護されたア
ミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカンスルホ
ニルアミノ基または保護されたヒドロキシ基、 2 R14はジ(低級アルカンスルホニル)アミノ基、低級
アルキルアミノ基、保護されたアミノ基または保護され
たヒドラジノ基、 3 Rl4は水素、ハロゲン、低級アルカンスルホニルアミ
ノ基または保護されたヒドロキシ基、A15はーco一
または−coco −A15は一CH(OR)一または
一COCR(OH) −1 A16は保護されたカルポキシ(低級)アルキル基、 Aデ.はカルボキシ(低級)アルキル基、3′ R17は保護されたカルボキシ基、 X18はハロゲンを意味する]. この明細書の以上および以下の記載において、この発明
の範囲内に包含される種々の定義の好適な例および説明
を以下詳細に述べる. 『低級二とは、特に指示がなければ、炭素原子1個ない
し6個を意味するものとする.好適な『ハロゲン」およ
び『ハロ(低級)アルカンスルホニルアミノ基」の好適
な『ハロゲン,部分としては、フッ素、塩素、臭素およ
び沃素が挙げられる. 好適な『保護されたアミノ』基および1保護されたアミ
ノベンゼンスルホニルアミノ」基および「保護された低
級アルキルアミノ,基の好適なr保護されたアミノ」部
分としては、例えば、下記アシル基、例えばベンジル、
ベンズヒドリル、トリチル部のモノ−(またはジーまた
はトリー)フェニル(低級)アルキル基のようなアル(
低級)アルキル基等の常用のアミノ保護基によって保護
されたアミノ基が挙げられる. 好適なアシル基としては脂肪族アシル基、芳香族アシル
基および芳香族基によって置換された脂肪族アシル基が
挙げられる. 脂肪族アシル基としては、例えばホルミル、アセチル、
プロピ才二ル、プチリル、インプチリル、バレリル、イ
ンバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル等の低級アルカ
ノイル基、例えばメトキシ力ルボニル、エトキシ力ルボ
ニル、プロポキシカルボニル、ブトキシ力ルボニル、第
三級プトキシカルボニル等の低級アルコキシ力ルボニル
基、例えばアクリロイル、メタクリロイル、クロトノイ
ル等の低級アルケノイル基、カルバモイル基等のような
飽和または不飽和、非環式または環式アシル基が挙げら
れる. 芳香族アシル基としては、例えばベンゾイル、トル才イ
ル、キシロイル等のアロイル基等が挙げられる. 芳香族基で置換された脂肪族アシル基としては、例えば
フェニルアセチル、フェニルプロピ才ニル、フエニルヘ
キサノイル等のフェニル(低級)アルカノイル基のよう
なアル(低級)アルカノイル基、例えばペンジル才キシ
力ルボニル、フェネチル才キシ力ルボニル等のフェニル
(低級)アルフキシカルボニル基のようなアル(低級)
アルフキシカルボニル基、例えばフェノキシアセテル、
フェノキシブロピ才二ル等のフェノキシ(低級)アルカ
ノイル基等が挙げられる.これらのアシル基はさらに、
例えばメチル、エチル、プロビル、イソプロビル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル等の低級アルキル基、例えば塩
素、臭素、沃素、フッ素のようなハロゲン、例えばメト
キシ、エトキシ、プロポキシ、インブロポキシ、ブトキ
シ、ベンチルオキシ、ヘキシル才キシ等の低級アルコキ
シ基等のような適当な置換基1個以上で置換されていて
もよい. 1低級アルカンスルホニルアミノ」基、「ジ(低級)ア
ルカンスルホニル)アミノ」基およびrハロ(低級)ア
ルカンスルホニルアミノj基の好適な1低級アルカンj
部分としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン等が
挙げられる.「保護されたヒドラジノ」基の好適な保護
基としては、アミノ保護基について前に例示したような
ものである常用のヒドラジノ保護基が挙げられる. 好適な「保護されたヒドロキシj基としては、例えばメ
トキシ、エトキシ、プロポキシ等の低級アルコキシ基等
が挙げられる. 好適な「保護されたカルボキシ,基としては、例えばメ
トキシ力ルボニル、エトキシ力ルボニル、プロボキシカ
ノレボニノレ、インプロボキシカノレポニル、ブトキシ
力ルポニル、第三級プトキシ力ルボニル等の低級アルフ
キシカルポニル基、例エハペンジル才キシ力ルボニル、
4−ニトロベンジル才キシ力ルボニル、フェネチル才キ
シ力ルボニル、ペンズヒドリル才キシカルボニル、トリ
チル才キシカルボニル等のニトロ基を有していてもよい
モノ(またはジまたはトリ)フェニル(低級)アルコキ
シカルポニル基等のようなエステル化されたカルボキシ
基が挙げられる. 好適な「低級アルキル」基および「低級アルキルアミノ
」基の好適な1低級アルキルj部分としてはメチル、エ
チル、プロビル、イソプロビル等の基が挙げられる. 好適な『低級アルケニル」基としてはビニル、アリル等
の基が挙げられる. 好適なr酸残基」としては、フッ素、塩素、臭素、沃素
のようなハロゲン、例えばベンゼンスルホニル才キシ、
トシル才キシ等のアレーンスルホニル才キシ基、例えば
メシル才キシ、エタンスルホニル才キシ等の低級アルカ
ンスルホニル才キジ基等が挙げられる. 化合物(1)の好適な医薬として許容される塩類として
は、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩、硫酸
塩、轡酸塩等の無機酸付加塩;例えばギ酸塩、酢酸塩、
トリフル才口酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタン
スルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p一トルエンス
ルホン酸塩等の有機カルボン酸付加塩または有機スルホ
ン酸付加塩;例えばアスパラギン酸、グルタミン酸等の
酸性アミノ酸との塩等が挙げられる. この発明の目的化合物製造法を以下詳細に説明する. 鮭盟益ユ 化合物(I −2)またはその塩は、化合物(111 l)またはその塩を化合物〈I1〉と反応させることに
より製造することができる. 化合物(I −1>および(11−2)の好適な塩と
し1 ては、化合物(1)について例示したようなものが挙げ
られる. X1の好適な酸残基としては塩素、沃素等が挙げられる
. 反応は通常、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ
金属、例えばマグネシウム、カルシウム等のアルカリ土
類金属、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸力Jウム等のそれらの金属の水素
化物、水酸化物または炭酸塩等のような塩基の存在下に
行われる。 この反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール、
プロバノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、酢酸エチル、N.N−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシドのような常用の溶媒中で行われ
るが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他
のいかなる有機溶媒中でも反応を行うことができる.化
合物(■1)が液体である場合にはそれを溶媒として使
用することもできる. 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加温下または
加熱下に反応を行うことができる.製造法2 化合物(12−2)またはその塩は、化合物(l21)
またはその塩をヒドロキシルアミン誘導体〈I2)また
はその塩と反応させることにより製造することができる
. 化合物(1 −1)および(12−2)の好適な塩と
し2 ては、化合物(I)について例示したようなものが挙げ
られる. ヒドロキシルアミン誘導体(II2)の好適な塩として
は、例えば塩酸塩等のハロゲン化水素酸塩が挙げられる
. この反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール、
プロパノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、酢酸エチル、N.N−ジメテルホルムアミド
、ジメチルスルホキシドのような常用の溶媒中で行われ
るが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他
のいかなる有機溶媒中でも反応を行うことができる.化
合物(■2〉が液体である場合には、それを溶媒として
使用することもできる. 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加温下または
加熱丁に反応を行うことができる.毀盟益ユ 化合物(13−2)またはその塩は、化合物(131)
またはその塩を化合物《■3)またはその塩と反応させ
ることにより製造することができる.化合物(I −
1)および(I,−2)の好適な塩とし3 では、化合物(1)について例示したようなものが挙げ
られる. 化合物(Ti3〉の好適な塩としては、例えば塩酸塩等
のハロゲン化水素酸塩が挙げられる.この反応は通常、
水、例えばメタノール、エタノール、プロバノール等の
アルコール、テトラヒドロフラン、ジ才キサン、酢酸エ
チル,N.N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシドのような常用の溶媒中で行われるが、反応に悪影
響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる有機溶
媒中でも反応を行うことができる.化合物(II3)が
液体である場合には、それを溶媒として使用することも
できる. 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加温下または
加熱下に反応を行うことができる.虹産迭1 化合物<1 )またはその塩は、化合物(It,−1
)ま4 たはその反応性誘導体、またはその塩を、化合物(II
4−2)またはその塩と反応させることにより製造する
ことができる. 化合物(1 )および(I4−2)の好適な塩として
4 は、化合物(1)について例示したようなものが挙げら
れる. 化合物(II4−1)およびその反応性誘導体の好適な
塩としては、化合物(1)について例示したようなもの
および無機塩基との塩、その例として、例えばナトリウ
ム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、例えばカルシウ
ム、マグネシウム等のアルカリ土類金属塩等のような塩
基との塩が挙げられる. 化合物(n4−1)の好適な反応性誘導体としては、酸
ハロゲン化物、酸無水物等が挙げられる.好適な例とし
ては酸塩化物、酸臭化物等のような酸ハロゲン化物が挙
げられる. 反応はまたアルカリ金属炭酸水素塩、トリ(低級)アル
キルアミン、例えばN.N−ジメチルアニリン等のジ(
低級)アルキルアニリン、ビリジン、N−(低級)アル
キルモルホリン、N.N−ジ(低級)アルキルベンジル
アミン等のような無機塩基または有機塩基の存在下に行
ってもよい.この反応は通常、水、例えばメタノール、
エタノール、プロバノール等のアルコール、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、ジクロロメタン,
N.N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、ジエチルエーテルのような常用の溶媒中で行われるが
、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のい
かなる有機溶媒中でも反応を行うことができる.上記無
機塩基または有機塩基が液体である場合にはそれを溶媒
として使用することもできる. 反応温度は特に限定されないが、通常は加温下または加
熱下に反応が行われる. 艷盟迭1 化合物(I )またはその塩は、化合物《I5〉また
5 はその塩を還元することにより製造することかできる. 化合物(I )および<15)の好適な塩としては、
5 化合物(1)について例示したようなものが挙げられる
. 還元は常法、すなわち化学的還元または接触還元によっ
て行うことができる. 化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属と塩化アンモニウムまたは例えばアン
モニア、水酸化ナトリウム等の塩基との組合わせ、例え
ばスズ、亜鉛、鉄等の金属または塩化第二クロム、塩化
第一スズ、酢酸第二クロム等の金属化合物と例えばギ酸
、酢酸、プロヒ才ン酸、トリプル才口酢M.p=トルエ
ンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等の有機酸または無機
酸との組合わせ、例えば水素化ホウ素リチウム、水素化
ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム等の水素化ホ
ウ素アルカリ金属、例えば水素化シアノホウ素ナトリウ
ム等の水素化シアノホウ素アルカリ金属または例えば水
素化アルミニウムリチウム等の水素化アルミニウムアル
カリ金属等である. 接触還元に使用される好適な触媒は、例えば白金板、白
金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の
白金触媒、例えばパラジウムー炭素、コロイドパラジウ
ム、パラジウムー硫酸パリウム、パラジウムー炭酸バリ
ウム等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニ
ッケル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば還元
コバルト、ラネーコバルト等のコバルト触媒、例えば還
元鉄、ラネー鉄等の鉄触媒、例えば還元鋼、ラネー銅、
ウルマン鋼等の銅触媒等のような常用のものである. この製造法の還元は通常、水、例えばメタノール、エタ
ノール、プロバノール等のアルコール、酢酸、ジ才キサ
ン、テトラヒドロフラン、N.N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシドのような溶媒、または反応に
悪影響を及ぼさないその他のあらゆる有機溶媒、または
それらの混合物中で行われる.上記還元剤が液体である
場合にはそれを溶媒として使用することもできる.反応
は冷却下ないし加温下または加熱下に行われる. 1′ R5がニトロ基である場合には、ニトロ基もアミノ基に
還元される. 型Jl互 この反応はまず、化合物(I6−t>またはその塩を例
えば亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸アルカリ金属と反応さ
せることにより行うことができる.この反応は酸性条件
、例えば、塩酸、酢酸等のような有機酸または無機酸の
存在下に行うのが好ましい.この反応は通常、水、例え
ばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコー
ル、酢酸、ジ才キサン、テトラヒドロフラン、N.N−
ジメチルホルムアミド、ジメテルスルホキシドのような
溶媒、または反応に悪影響を及ぼさないその他のあらゆ
る有機溶媒、またはそれらの混合物中、冷却下ないし加
温下に行われる.次いで得られた化合物(16−t)の
ジアゾ化合物を還元して化合物(16−2)を得る.こ
の還元反応は製造法5と同様にして行われる. この製造法において、原料化合物(I −1)がR2
66 にアミノ基を有する場合には、この基もヒドラジノ基に
変化する. 化合物(16−t)および( I s−2)の好適な塩
としては、化合物(I)について例示したものが挙げら
れる. 製』■LL 化身物(1,−2)またはその塩は、化合物( I 7
−1>またはその塩をアミノ保護基の脱離反応に付すこ
とにより製造することができる. 化合物(17−1)および(17−2)の好適な塩とし
ては、化合物(1)について例示したようなものが挙(
fられる. この反応は加水分解、還元等のような常法に従って行わ
れる. 加水分解は塩基またはルイス酸を含めて酸の存在下に行
うのが好ましい. 好適な塩基としては、例えばナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属、例えば水酸化ナトリウム等のその金属の
水酸化物または炭酸塩または炭酸水素塩、例えば酢酸ナ
トリウム等のアルカリ金属アルカン酸塩等が挙げられる
.好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロビ才ン酸
、トリクロロ酢酸、トリフル才口酢酸等の有機酸および
例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸が挙げられる
.例えばトリクロロ酢酸、トリフル才口酢酸等のトリハ
ロ酢酸等のようなルイス酸を用いる脱離は、例えばアニ
ソール、フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在下に行う
のが望ましい. 反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、ジクロ口メタン、テトラヒド口フラン、それ
らの混合物のような溶媒中で行われるが、反応に悪影響
を及ぼさない溶媒であればその他のいかなる溶媒中でも
反応を行うことができる.液状の塩基または酸も溶媒と
して使用することができる.反応は冷却下ないし加温下
または加熱下に行うことができる. 脱離反応に適用され得る還元法としては、化学的還元お
よび接触還元が挙げられる. 化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化第二クロム、酢酸第
二クロム等の金属化合物と例えばギ酸、酢酸、プロピ才
ン酸、トリプル才ロ酢酸、p一トルエンスルホン酸、塩
酸、臭化水素#専の有機酸または無機酸との組合わせで
ある.接触還元に使用される好適な触媒については製造
法5で例示したようなものを参照すればよい.還元は通
常、水、メタノール、エタノール、プロバノール、テト
ラヒドロフラン、N.N−ジメチルホルムアミドのよう
な反応に悪影響を及ぼさない常用の溶媒、またはそれら
の混合物中で行われる.さらに化学的還元に使用される
上記酸が液体である場合には、それらの溶媒として使用
することができる.さらにまた、接触還元に使用される
好適な溶媒としては、上記溶媒およびジエチルエーテル
、ジ才キサン、テトラヒド口フラン等のようなその他の
常用の溶媒、またはそれらの混合物が挙げられる. 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加温下または
加熱下に反応を行うことができる.この製造法において
、原料化合物(17−1>またはモの塩がR2に保護さ
れたアミノ基を有する場7 合には、この基もアミノ基に変化する,製』畳L亙 化合物(1 −2)またはその塩は、化合物( I
8−t)8 またはアミノ基またはヒドラジノ基におけるその反応性
誘導体またはその塩を前記アミノ基またはヒドラジノ基
の保護反応に付すことにより製造することができる. 化合物(1 −1)および( I 8−2)の好適な
塩として8 は、化合物(I)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法で使用される好適なアミノ基保護剤4 またはヒドラジノ基保護剤としては、式:Rs−OH(
式中、R4はアミノ保護基またはヒドラジノ保8 護基を意味する)で示される常用のものまたはその反応
性誘導体またはその塩が挙げられる.化合物R ’−O
Rの好適な反応性誘導体としては、8 酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化アミド、活性化エス
テル等が挙げられる.その好適な例としては酸塩化物、
酸臭化物;酸アジ化物;例えばジアルキルリン酸、フェ
ニルリン酸、ジフェニルリン酸、ジベンジルリン酸、ハ
ロゲン化リン酸等の置換されたリン酸、ジアルキル亜リ
ン酸、例えばメタンスルホン酸、エタンスルホン酸等の
低級アルカンスルホン酸、亜硫酸、チ才硫酸、硫酸、ア
ルキル炭酸、例えばピバリン酸、ペンタン酸、インペン
タン酸、2−エチル酪酸またはトリクロロ酢酸等の脂肪
族カルボン酸または例えば安息香酸等の芳香族カルボン
酸のような酸との混合酸無水物;対称酸無水物;イミダ
ゾール、4一置換イミダゾール、ジメテルピラゾール、
トリアゾールまたはテトラゾールとの活性化アミド;ま
たは例えばシアノメチルエステル、メトキシメチルエス
テル、ジメチルイミノメデル(〈CH3〉2哀一CH一
〉エステル、ビニルエステル、プロパルギルエステル、
p−ニトロフェニルエステル、2.4−シニトロフェニ
ルエステル、トリクr1oフェニルエステル、ペンタク
ロロフエニルエステル、メシルフエニルエステル、フエ
ニルアゾフェニルエステル、フエニルチ才エステル、p
−ニトロフェニルテ才エステル、p−クレジノレチ才エ
ステノレ、カノレボキシメチルチ才エステル、ビラニル
エステル、ピリジルエステル、ピベリジルエステル、8
−キノリルチ才エステル等の活性化エステル、または例
えばN.N−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロ
キシ−2−(IH)一ピリドン、N−ヒドロキシスクシ
ンイミド、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキ
シ−6−クロロ−IH−ベンゾトリアゾール等のN−ヒ
ドロキシ化合物とのエステル等が挙げられる.これらの
反応性誘導体は使4 用すべき化合物R 8−OHの種類に従ってそれらの中
から任意に選択することができる. 反応は通常、水、メタノール、エタノール、アセトン、
ジ才キサン、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロロ
メタン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチ
ル、N.N−ジメチルホルムアミド、ピリジンのような
常用の溶媒中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさない
溶媒であれば、その他のいかなる有機溶媒中でも反応を
行うことができる.これらの常用の溶媒は水との混合物
として使用してもよい. 化合物R ’−OHを遊離酸の形またはその塩の形で8 反応に使用する場合には,N.N’ −ジシクロへキジ
ル力ルポジイミド;N−シクロヘキシル−N′ 一モル
ホリノエチル力ルポジイミド;N−シクロヘキシルーN
’−(4−ジエチルアミノシクロヘキシル)カルポジイ
ミド; N,N’−ジエチル力ルポジイミド.N.N’
−ジインプロピノレ力ルポジイミド;N一エチルーN
’−(3−ジメテルアミノプロピノレ)カルボジイミド
;N.N一カノレボニルビス(2−メチルイミダゾール
):ペンタメチレンケテンーN−シクロヘキシルイミン
;ジフェニルケテンーN−シクロヘキシルイミン;エト
キシアセチレン;1−アルコキシ−1−クロロエチレン
;亜リン酸トリアルキル;ボリリン酸エチル;ボリリン
酸イソブロピル:才キシ塩化リン(塩化ホスホリル):
三塩化リン;塩化チ才ニル;塩化才キサリル;トリフエ
ニルホスフィン;2−エチル−7−ヒドロキシベンズイ
ソ才キサゾリウム塩;2−エチル−5−(m−スルホフ
エニル)イン才キサゾリウムヒドロキシド・分子内塩;
1−(p−’)ロロベンゼンスルホニル才キシ)−6−
クロローIH−ペンゾトリアゾール:N,N−ジメチル
ホルムアミドと塩化チ才二ル、ホスゲン、才キシ塩化リ
ン等との反応によって調製したいわゆるピルスマイヤー
試薬等のような常用の縮合剤の存在下に反応を行うのが
望ましい.反応はまた、例えば炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム等のアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素
塩、トリ(低級)アルキルアミン、ピリジン、N−(低
級)アルキルモルホリン、N.N−ジ(低級)アルキル
ベンジルアミン等のような無機塩基または有機塩基の存
在下に行ってもよい.反応温度は特に限定されないが、
通常は冷却下または常温で反応が行われる. 鮭盟迭上 化合物(I −2)またはその塩は、化合物( 1
9−1>9 またはその塩をアミノ基のスルホン化反応に付すことに
より製造することができる. 化合物(I −1)および目,−2〉の好適な塩とし
て9 は、化合物(1)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法で使用される好適な低級アルカンスルホン化
剤としては、式:R:−OH(式中、R5は低級アルカ
ンスルホニル基を意味する)で示される常用のものまた
はその反応性誘導体またはその塩が挙げられる. 5 化合物R 9−ORの好適な反応性誘導体としては、酸
ハロゲン化物、酸無水物等が挙げられる.好適な例とし
ては酸塩化物、酸臭化物;酸アジ化物;例えばジアルキ
ルリン酸、フエニルリン酸、ジフェニルリン酸、ジベン
ジルリン酸、ハロゲン化リン酸等の置換されたリン酸、
ジアルキル亜リン酸、例えばメタンスルホン酸、エタン
スルホン酸等の低級アルカンスルホン酸、亜硫酸、チ才
硫酸、硫酸、アルキル炭酸、例えばピバリン酸、ペンタ
ン酸、インペンクン酸、2−エチル酪酸またはトリクロ
口酢酸等の脂肪族カルポン酸または例えば安息香酸等の
芳香族カルボン酸のような酸との混合酸無水物;対称酸
無水物等が挙げられる.これらの反応性誘導体は使用す
る化合物R 5−OHの9 種類に従ってそれらの中から任意に選択することができ
る. 反応は通常、アセトン、ジ才キナン、アセトニトリル、
クロロホルム、ジクロロメタン、塩化エチレン、テトラ
ヒド口フラン、酢酸エチル、N.N−ジメチルホルムア
ミド、ピリジンのような常用の溶媒中で行われるが、反
応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかな
る有機溶媒中でも反応を行うことができる.これらの常
用の溶媒は水との混合物として使用してもよい.反応は
またアルカリ金属炭酸水素塩、例えばトリメチルアミン
、トリエチルアミン等のトリ(低級)アルキルアミン、
ピリジン、N−(低級)アルキルモルホリン、N.N−
ジ(低級)アルキルベンジルアミン等のような無機塩基
または有機塩基の存在下に行ってもよい. 反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる. 艷潅迭昶 化合物( t 1o−2>またはその塩は、化合物”1
01〉またはその塩を塩基を使用する加水分解に付すこ
とにより製造することができる. 化合物(1 −1)および( I 1o−2)の好適
な塩とし10 では、化合物(1)について例示したようなものが挙げ
られる. 好適な塩基としては例えばナトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属、例えば水酸化ナトリウム等のその金属の水
酸化物または炭酸塩または炭酸水素塩、例えば酢酸ナト
リウム等のアルカリ金属アルカン酸塩等が挙げられる. 反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、それ
らの混合物のような溶媒中で行われるが、反応に悪影響
を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる溶媒中で
も反応を行うことができる.液状の塩基も溶媒として使
用することができる. 反応は冷却下ないし加温下または加熱下に行うことがで
きる. 艶1目L■ 化合物( I tt−2)またはその塩は、化合物(I
1、1)またはその塩をアセトンの存在下における還元
に付すことにより製造することができる.化合物(1
−1)および( 1 1、−2)の好適な塩としl1 では、化合物(1)について例示したようなものが挙げ
られる. この製造法に適用され得る還元法としては、化学的還元
および接触還元が挙げられる.化学的還元に使用される
好適な還元剤は、例えばスズ、亜鉛、鉄等の金属または
例えば塩化第二クロム、酢酸第二クロム等の金属化合物
と例えばギ酸、酢酸、ブロビ才ン酸、トリプル才ロ酢酸
、p一トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等の有機
酸または無機酸との組合わせである.接触還元に使用さ
れる好適な触媒については製造法5で例示したようなも
のを参照すればよい.還元は通常、水、メタノール、エ
タノール、ブO A /−ル、テトラヒドロフラン、N
.N−ジメチルホルムアミド、またはそれらの混合物の
よう?反応に悪jIi+響を及ぼさないアセC・ンを含
む常用の溶媒中で行われる.さらに、化学的還元に使用
される上記酸が液体である場合には、それらも溶媒とし
て使用することができる. 反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる. 製1lLリ 化合物(11。−2〉またはその塩は、化合物(I1■
1)またはその塩をヒドロキシ保護基の脱離反応に付す
ことにより製造することができる.化合物(I12−1
)および(■12−2〉の好適な塩としては、化合物(
1)について例示したようなものが挙げられる. この製造法に使用される好適な試薬としては、塩酸、臭
化水素酸、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、塩化アルミニ
ウム、ピリジン・塩酸塩、沃化トリメチルシリル等が挙
げられる. 加水分解は通常、水、メタノール、エタノール、プロバ
ノール、第三級プチルアルコール、テトラヒドロフラン
, N.N−ジメテルホルムアミド、N.N−ジメチル
アセトアミド、ジ才キサン、ジクロロメタンまたはそれ
らの混合物のような反応に悪影響を及ぼさない常用の溶
媒中で行われるが、さらに上記酸も液体であれば溶媒と
して使用することができる. この加水分解の反応温度は特に限定されないが、通常は
冷却下ないし加温下に反応が行われる. 製331リ 化合物( I 13−2)またはその塩は、化合物(!
131 l〉またはその塩をR13のヒドロキシ保護基の脱離反
応に付すことにより製造することができる.化合物(1
13−1)および(113−2>の好適な塩としては、
化合物(I)について例示したようなものが挙げられる
. この製造法は製造法l2の記載と同様にして行われる. 製m 化合物( 1 14−2)またはその塩は、化合物(l
141)またはその塩を酸化することにより製造するこ
とができる. 化合物(1 −1>および( 1 14−2)の好適
な塩とし14 では、化合物(1)について例示したようなものが挙げ
られる. この製造法に使用される好適な酸化剤は、二酸化クロム
と例えば硫酸、酢酸等の酸との組合わせ、ニクロム酸カ
リウムと硫酸との組合わせ、クロム酸第三級ブチル、二
酸化マンガン、二酸化セレン等である. この反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール、
プロパノール等のアルコール、酢酸、ジエチルエーテル
、ジ才キサン、テトラヒドロフラン、ジクロ口メタン、
クロロホルム、N.N −4;メチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシドのような溶媒、または反応に悪影響
を及ぼさないその他のあらゆる有機溶媒、またはそれら
の混合物中で行われる.上記酸が液体である場合には、
それを溶媒として使用することもできる. 反応は冷却下ないし加温下または加熱下に行うことがで
きる. 躯』u14 化合物(I −2)またはその塩は、化合物(I1.
15 1)またはその塩を還元することにより製造することが
できる. 化合物(1 −1)および(11.−2)の好適な塩
とし15 ては、化合物(1)について例示したようなものが挙げ
られる. 使用される好適な還元剤11例えば水素化ホウ素リチウ
ム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム等
の水素化ホウ素アルカリ金属、例えば水素化シアノホウ
素ナトリウム等の水素化シアノホウ素アルカリ金属、例
えばナトリウムハイドロサノレファイト、カリウムハイ
ドロサルファイト等のアルカリ金属ハイドロサルファイ
トまたは例えば水素化アルミニウムリチウム等の水素化
アルミニウムアルカリ金属等である. この製造法は塩基の存在下に行うのが望ましい. 好適な塩基としては例えばナトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属、例えば水酸化ナトリウム等のその金属の水
酸化物または炭酸塩または炭酸水素塩、例えば酢酸ナト
リウム等のアルカン酸アルカリ金属等が挙げられる. この製造法の還元は通常、水、例えばメタノール、エタ
ノール、プロパノール等のアルコール、酢酸、ジエチル
エーテル、ジ才キサン、テトラヒドロフラン、N.N−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドのような
溶媒、または反応に悪影響を及ぼさないその他のあらゆ
る有機溶媒、またはそれらの混合物中で行われる. 反応は冷却下ないし加温下または加熱下に行うことがで
きる. 製LuL■ 化合物(116−2)またはその塩は、化合物(■16
1)またはその塩をR16のカルボキシ保護基の脱離反
応に付すことにより型造することができる.化合物(I
−1)および(I16−2)の好適な塩とし16 ては、目的化合物(1)について例示したようなものと
同じものが挙げられる. この脱離反応の好適な方法としては、加水分解、還元等
のような常法が挙げられる.(1)加水分解 加水分解は酸の存在下に行うのが望ましい.好適な酸と
しては例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無8!酸、例
えばギ酸,酢酸、トリフル才口酢酸、プロピオン酸、メ
タンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p一トルエンス
ルホン酸等の有機酸、酸性イオン交換樹脂等が挙げられ
る.トリフル才口酢酸オよびp一トルエンスルホン酸の
ような有機酸をこの反応に使用する場合には、例えばア
ニソール等の陽イオン捕捉剤の存在下に反応を行うのが
好ましい. さらに上記酸の代りに、三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ
素・エーテル付加化合物、五塩化アンチモン、塩化第二
鉄、塩化第二スズ、四塩化チタン、塩化亜鉛等のような
ルイス酸もこの反応に使用することができ、ルイス酸を
使用する場合には、例えばアニソールのような陽イオン
捕捉剤の存在下に反応を行うのが好ましい. 加水分解は通常、水、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、第三級プチルアルコール,テトラヒド口フラン
、N.N−ジメデルホルムアミド、N.N−ジメチルア
セトアミド、ジ才キサン、ジクロロメタンのような反応
に悪影響を及ぼさない常用の溶媒またはそれらの混合物
中で行われ、さらに上記酸が液体であればそれらを溶媒
として使用することもできる. 加水分解の反応温度は特に限定されないが、通常は冷却
下ないし若干温度を上げる程度の温度で反応が行われる
. (i)還元 還元は化学的還元および接触還元を含む常法で行われる
. 化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化第ニクロム、酢酸第
二クロム等の金属化合物と例えばギ酸、酢酸、ブロピ才
ン酸、トリプル才ロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩
酸5臭化水素酸等の有機酸または無機酸との組合わせで
ある.接触還元に使用される好適な触媒は例えば白金板
、白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線
等の白金触媒、例えばパラジウム海綿、パラジウム黒、
酸化パラジウム、パラジウム−R素、コロイドパラジウ
ム、バラジウムー硫酸バリウム、パラジウムー炭酸バリ
ウム等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニ
ッケル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば還元
コバルト、ラネーコバルト等のコバルト触媒、例えば還
元鉄、ラネー鉄等の鉄触媒、例えば還元鋼、ラネー銅、
ウルマン鋼等の銅触媒等のような常用のものである. 還元は通常、水、メタノール、エタノール、プロバノー
ル、N.N−ジメチルホルムアミトのような反応に悪影
響を及ぼさない常用の溶媒、またはそれらの混合物中で
行われる. さらに、化学的還元に使用される上記酸が液体である場
合には、それらも溶媒として使用することができる.ま
たさらに、接触還元に使用する好適な溶媒としては、上
記溶媒およびジエデルエーテル、ジ才キサン、テトラヒ
ドロフラン等のようなその他の常用の溶媒、またはそれ
らの混合物が挙げられる. この反応の反応温度は特に限定されないが、通常は冷却
下ないし加温下に反応−が行われる.鮭圭圭ど 化合物(117−2)またはその塩は、化合物(!17
3′ l)またはその塩をR17のカルボキシ保護基の脱離反
応に付すことにより製造することができる.化合物(1
17−1>および( r 17−2)の好適な塩として
は、化合物(1)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法は躯造法l6と同様にして行うことができる
. 毀盟迭卦 化合物(118)は化合物(118−t)またはその塩
を化合物( II 18−2)またはその塩と、例えば
塩化アルミニウム等のルイス酸触媒の存在下に、いわゆ
るフリーデル・クラフト反応に従って反応させることに
より製造することができる. この製造法に使用される好適な溶媒はニトロベンゼン等
である. 製』I(』 化合物( I 1,−2)またはその塩は、化合物(I
19l)またはその塩を酸化反応に付すことにより製造
することができる. 化合物(11,−1>および(119−2>の好適な塩
としては、化合物(I)について例示したようなものが
挙げられる. この製造法の酸化は−S一基をーSO2一基に酸化し得
る常用の酸化剤により常法で行われる.そのような酸化
剤の好適な例は例えば過沃素酸、ペル才キソ硫酸等また
はそれらのナトリウム塩またはカリウム塩等の無機通酸
またはその塩、例えば過安息香酸、3−クロロ過安息香
酸、過ギ酸、過酢酸、クロロ過酢酸、トリフルオロ過酢
酸等またはそれらのナトリウム塩またはカリウム塩等の
有機過酸またはその塩、オゾン、過酸化水素、尿素一過
酸化水素等である. この反応は周期表中のvb群またはvtb群の金属より
なる化合物、例えば、タングステン酸、モリプデン酸、
バナジン#等または例えばナトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属、例えばカルシウム、マグネシウム等のアル
カリ土類金属またはアンモニウム等とのそれらの塩、ま
たは五酸化バナジウムの存在下に行うのが望ましい. この酸化は通常、水、酢酸、酢酸エチル、クロロホルム
、ジクロロメタン、テトラヒド口フラン、ジオキサン、
N.N−ジメチルホルムアミドのような溶媒中で行われ
るが、この反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、そ
の他のいかなる溶媒中でも反応を行うことができる. 反応温度には特別の制限はないが、通常は常温または冷
却下にこの反応が行われる. 上記製造法に使用される原料化合物のあるものは新規で
あり、そのような新規原料化合物は下記製造法によって
製造することができる.(以下余白) 製JjL丘 またはその塩 またはその塩 梨IL旦 (mB−t) (I[ −2) B またはその塩 (If −3) B またはその塩 製ILL旦 (n −1) C (n,−2) 製』ロL旦 (I,−1) またはその塩 (I[ −2) D またはその塩 (IF −1) E またはその反応性誘導体 またはその塩 + (It,−2) またはその塩 L またはその塩 製造法F (IIF−1) またはその反応性 誘導体またはその 塩 (If,−2) またはその反応性 誘導体またはその 塩 ト ( IIF−3 ) またはその塩 思JIJL旦 (iG−t) またはその塩 (n,−2) またはその塩 製』畳L旦 CM −1) H またはその塩 (n −2) H またはその塩 製nsx (II −1) ■ またはその塩 (If −2) ■ またはその塩 製造法J (ff −1) J (1 −2) J またはその塩 (II −3) J またはその塩 型JJL匹 ( nK−1 ) (![K−2) またはその塩 またはその塩 (IIK−3) またはその塩 製造法L ( M,− 1) またはその反応性 誘導体またはその塩 (n,−2) またはその反応性 誘導体またはその塩 (I[L−3) またはその塩 製m (If,−1) またはその反応性誘導体 またはその塩 (II −2) H またはその塩 製造法N (IfN−1) またはその塩 ( IIN−2 ) またはその塩 製1巳L旦 ( I[o−1 ) またはその塩 (Ifo−2) またはその塩 鮭盟迭l (n,−t) またはその塩 (n,−2) またはその塩 製』1(9 (I[ −1) Q またはその塩 またはその塩 製造法R ( nR− 1 ) (IIR−2) またはその塩 またはその塩 ( IR−3 ) またはその塩 [式中、R1、R2、R3、R3a,R4、R4aX1
8およびAはそれぞれ前と同じ意味であり、R1はハロ
ゲン、アミノ基、保護されたアミノA 基、ヒドラジノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基
、保護されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級
アルカンスルホニルアミノ基、アミノフエノキシ基、ヒ
ドロキシ基または保護されたヒドロキシ基、 R2はジ(低級アルカンスルホニル)アミノ基、A 低級アルキルアミノ基、アミノ基、保護されたアミノ基
、ヒドラジノ基、保護されたヒドラジノ基または低級ア
ルカンスルホニルアミノ基、R3tt水素、ハロゲン、
低級アルカンスルホニルA アミノ基、ヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基
、 1 RBはハロゲン、ニトロ基、アミノ基、保護されたアミ
ノ基、ヒドラジノ基、保護されたアミノベンゼンスルホ
ニルアミノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、低
級アルカンスルホニルアミノ基、アミノフェノキシ基、
ヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基、 xBはハロゲン、 Aaはヒドロキシ基またはメルカプト基、ABは一〇一
または−S− R1はジ(低級アルカンスルホニル)アミノ基、C R1′はアルカンスルホニルアミノ基、C ADは−CH2− −CO− −0− −S−
−So−502− −502N(CH3)−
−So2NH一または−C(=NOR”)− (式中、
R”は水素、低級アルキル基または低級アルケニル基を
意味する)、R3は水素、ハロゲン、低級アルカンスル
ホニルD アミノ基または保護されたヒドロキシ基、R1′は保護
されたアミノ基、 E R1は保護されたアミノベンゼンスルホニルアミE ノ基、 RCは水素または低級アルキル基、 F R1は保護されたアミノ基、 F AFは−so2N(cR;> − <式中、R「は水素
または低級アルキル基を意味する)、 1 RGはハロゲン、ニトロ基、アミノ基、保護されたアミ
ノ基、ヒドラジノ基、保護されたアミンベンゼンスルホ
ニルアミノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、低
級アルカンスルホニルアミノ基、アミノフエノキシ基、
ヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基、 l RHはハロゲン、アミノ基、保護されたアミノ基、ヒド
ラシノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、保護さ
れたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカン
スルホニルアミノ基、アミノフエノキシ基、ヒドロキシ
基または保護されたヒドロキシ基、 1 R1はハロゲン、アミノ基、保護されたアミン基、ヒド
ラジノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、保護さ
れたアミノベンゼンスルホニルアミン基、低級アルカン
スルホニルアミノ基、アミノフエノキシ基、ヒドロキシ
基または保護されたヒドロキシ基、 R1はハロゲン、アミノ基、保護されたアミノJ 基、ヒドラジノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基
、保護されたアミンベンゼンスルホニノレアミノ基、低
級アルカンスルホニルアミノ基、アミノフェノキシ基、
ヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基、 Mはアルカリ金属、 XJはハロゲン、 RLはハロゲン、ニトロ基、アミノ基、保護されL たアミノ基、ヒドラジノ基、保護されたアミノベンゼン
スルホニルアミノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ
基、低級アルカンスルホニルアミノ基、アミノフエノキ
シ基、ヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基、 R2′は保護されたアミノ基、 H R2はハロ(低級)アルカンスルホニルアミノN 基、 R1はアミノ基、保護されたアミノ基、ヒドラジO ノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、保護された
アミノベンゼンスルホニルアミノ基または低級アルカン
スルホニルアミノ基、 R1は保護されたアミノ基または保護された低級P アルキルアミノ基、 R1′はアミン基または低級アルキルアミ7基、P Rlはアシル基、 Q R1′は低級アルキル基を意味する].Q 原料化合物の製造法を以下に詳細に説明する。 鮭盟迭濤 化合物(If−2)またはその塩は、化合物( ff
A−1)A またはその塩を硫#銅とビリジン中で反応させることに
より製造することができる. 化合物(I −11および( II A−2>の好適な
塩としてA は、化合物(1)について例示したようなものが挙げら
れる. 反応温度は特に限定されないが、通常は加温下または加
熱下に反応が行われる. 製』0L旦 化合物(II−3>またはその塩は、化合物( U ,
−1>B またはその塩を化合物(If,−2)と反応させること
により製造することができる. 化合物(II −1)および(IIB−3)の好適な塩
としてB は、化合物(I)について例示したようなものが挙げら
れる. 好適なXBとしては塩素、臭素等が挙げられる. この反応は通常、例えばナトリウム、カリウム等のアル
カリ金属、例えばマグネシウム、カルシウム等のアルカ
リ土類金属、例えば水素化カリウム、水素化ナトリウム
等のそれらの金属の水素化物、例えば炭酸カリウム、炭
酸ナトリウム等のそれらの金属の水酸化物または炭酸塩
、例えばナトノウムメトキシド、ナトリウムエトキシド
、カリウム第三級プトキシド等のアルカリ金属アルコキ
シド、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン等の
トリアルキルアミン、ピフリン等のような塩基の存在下
に行われる. この反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール、
プロパノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、ジ
才キサン、酢酸エチル、ジクロロメタン,N,N−ジメ
テルホルムアミド、ジメデルスルホキシド、ジエチルエ
ーテルのような常用の溶媒中で行われるが反応に悪影響
を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる有機溶媒
中でも反応を行うことができる.上記低級アルキル化剤
が液体である場合には、それを溶媒として使用すること
もできる. 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加温下または
加熱下に反応を行うことができる.艶凰迭S 化合物(If −2)は化合物(no−t)を塩基と反
応さC せることにより製造することができる.この製造法は製
造法10と同様にして行うことができる. 製1u(旦 化合物( II o − 2 )またはその塩は、まず
化合物(n,−t)をアルカリ金属亜硝酸塩と反応させ
、次いで得られる化合物(n,−t)のジアゾ化合物を
還元することにより製造することができる.化合物(1
−1)および( If ,−2)の好適な塩としてD は、化合物(I)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法は製造法6と同様にして行うことができる. 製』集(旦 化合物(If −3)またはその塩は、化合物(IE−
1)E またはその反応性誘導体またはその塩を、化合物( u
E− 2)またはその塩と反応させることにより製造
することができる. 化合物(II −2)および( II E−3)の好適
な塩としてE は、化合物(1)について例示したようなものが挙げら
れる. 化合物(IE−t)の好適な塩としては、製造法4の化
合物(I4−1)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法は製造法4と同様にして行うことができる. 艶jI(旦 化合物(II−3)t’タハソ(7)塩ハ、化合物(
I[ F−1)F またはその反応性誘導体またはその塩を、化合物( n
F− 2>またはその塩と反応させることにより製造
することができる. 化合物(If −2>および(I[F−3)の好適な塩
としてF は、化合物(I)について例示したようなものが挙げら
れる. 化合物(I[F−l〉の好適な塩としては、製造法4の
化合物(If4−1)について例示したようなものが挙
げられる. この製造法は製造法4と同様にして行うことができる. 鮭盟益互 化合物(If−2)またはその塩は、化合物(ff,−
1)G またはその塩を酸化反応に付すことにより製造すること
ができる. 化合物(I −1)および( II ,−2)の好適な
塩としてG は、化合物(1)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法の酸化はーS一基をーS〇一基に酸化し得る
常用の酸化剤により常法で行われる.そのような酸化剤
の好適な例は例えば過沃素酸、ベル才キソ硫酸等または
それらのナトリウム塩またはカリウム塩等の無機過酸ま
たはその塩、例えば過安息香酸、3−クロロ通安息香酸
、通ギ酸、過酢酸、クロロ過酢酸、トリフル才口過酢酸
等またはそれらのナトリウム塩またはカリウム塩等の有
機過酸またはその塩、オゾン、過酸化水素、尿素一過酸
化水素等である. この反応は周期表中のvb群または■b群の金属よりな
る化合物、例えば、タングステン酸、モリブデン酸、バ
ナジン酸等または例えばナトリウム、カリウム等のアル
カリ金属、例えばカルシウム、マグネシウム等のアルカ
リ土金属またはアンモニウム等とのそれらの塩、または
五酸化バナジウムの存在下に行うのが望ましい. この酸化は通常、水、酢酸、酢酸エチル、クロロホルム
、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ジ才キサン、
N.N−ジメチルホルムアミド?ような溶媒中で行われ
るが、この反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、そ
の他のいかなる溶媒中でも反応を行うことができる. 反応温度に特別な制限はないが、通常は常温または冷却
下にこの反応が行われる. 鮭産迭1 化合物(1『2)またはその塩は、化合物( I[ 『
t)またはその塩を酸化反応に付すことにより製造する
こができる. 化合物( H 『1 )および( It 『2)の好適
な塩としては、化合物(!)について例示したようなも
のが挙げられる. この製造法の酸化は−S一基をーSo2一基に酸化し得
る常用の酸化剤により常法で行われる.そのような酸化
剤の好適な例は製造法Gに記載したものと同じものであ
る. 艷盗豊ユ 化合物(1■−2)またはその塩は、化合物(I[エー
1)またはその塩を還元に付すことにより製造すること
ができる. ?合物(Ifエ−1)および(!II−2>の好適な塩
としては、化合物(I)について例示したようなものが
挙げられる. この製造法は製造法5と同様にして行うことができる. 製造法J 化合物(It,−3)またはその塩は、化合物( It
J−1>またはその塩を化合物<ffJ−2)と反応
させることにより製造することができる. 化合物(■■一l)のMの好適なアルカリ金属としては
カリウム、ナトリウム等が挙げられる.化合物< II
,−1 )および( II ,−2)の好適な塩とし
ては、化合物(1)について例示したようなものが挙げ
られる. この製造法は化合物(IFJ−t>と化合物(I,−2
>とを溶媒中で加熱することにより行うことができる. [な溶媒としてはエチレングリコール、2一(2−メト
キシェトキシ)エタノール等が挙げられる. 舅Ji匹 化合物( II K−3)またはその塩は、化合物(
II K−1)またはその塩を化合物(Ifr2)また
はその塩と、例えば塩化アルミニウム等のルイス酸触媒
の存在下に、いわゆるフリーデル・クラフト反応に従っ
て反応させることにより製造することができる。 この製造法に使用される好適な溶媒はニトロベンゼン等
である. 製造法L 化合物(If,−3)およびその塩は、化合物(I[L
−1)またはカルボキシ基におけるその反応性誘導体ま
たはその塩を、化合物(IfL−2>またはアミノ基に
おけるその反応性誘導体またはその塩と反応させること
により製造することができる. 化合物(mL−t>のカルボキシ基における好適な反応
性誘導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化
アミド、活性化エステル等が挙げられる.反応性誘導体
の好適な例としては酸塩化物;酸アジ化物;例えばジア
ルキルリン酸、フェニルリン酸、ジフェニルリン酸、ジ
ベンジルリン酸、ハロゲン化リン酸等の置換されたリン
酸、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、デオ硫酸、硫酸、例
えばメタンスルホン酸等のスルホン酸、例えば酢酸、ブ
aピ才ン酸、酪酸、イン酪酸、ピバリン酸、ベンタン酸
、インベンタン酸,2−エデル酪酸、トノクロロ酢酸等
の脂肪族カルボン酸または例えば安息香酸等の芳香族カ
ルポン酸のような酸との混合酸無水物:対称酸無水物;
イミダゾール、4一置換イミダゾール、ジメチルピラゾ
ール、トリアゾール、テトラゾールまたは!−ヒドaキ
シ−IH−ペンゾトリアゾールとの活性化アミド:また
は例えばシアノメチルエステル、メトキシメチルエステ
ル、ジメチルイミノメチル[(CH3)2哀−C}i−
]エステル、ビニルエステル、プロバルギルエステル、
p−ニトロフェニルエステル、21−ジニトロフエニル
エステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロ
フェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニル
アゾフェニルエステル、フエニルチ才エステル、p−ニ
トロフエニルチオエステル、p−クレジルチ才エステル
、カルボキシメチルチ才エステル、ビラニルエステル、
ピリジルエステル、ビペリジルエステル、8−キノリル
デ才エステル等の活性化エステル、または例えばN,N
−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2−
(IH)一ピリジン、N一ヒドロキシスクシンイミド、
N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシ−IH−
ペンゾトリアゾール等のN−ヒドロキシ化合物とのエス
テル等が挙げられる.これらの反応性誘導体は使用すべ
き化合物( I L− 1)の種類に従ってそれらの中
から任意に選択することができる. 化合物(I[11)およびその反応性誘導体の好適な塩
については、目的化合物《!)について例示したものを
参照すればよい. 化合物(I[L−2>のアミノ基における好適な反応性
誘導体としては、化合物( I[ L− 2>とアルデ
ヒド、ケトン等のようなカルボニル化合物との反応によ
って生戒するシ・冫フの塩基型イミノまたはそのエナミ
ン型互変異性体;化合物(I[,−2)とビス(トリメ
デルシリル)アセトアミド、モノ(トリメチルシリル)
アセトアミド、ビス(トリメチルシリル)R素等のよう
なシリル化合物との反応によって生成するシリル誘導体
;化合物(IL−2)と三塩化燐またはホスゲンとの反
応によって生成する誘導体等が挙げられる. 化合物(ItL−2)およびその反応性誘導体の好適な
塩については、目的化合物(1)について例示したもの
を参照すればよい. 反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、アセトン、ジ才キサン、ア2セトニトリル、
クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒ
ドロフラン、酢酸エチル、N.N−ジメチルホルムアミ
ド、ピリジンのような常用の溶媒中で行われるが、反応
に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる
有#!溶媒中でも反応を行うことができる.これらの常
用の溶媒は水との混合物として使用してもよい.この反
応において化合物(IIL−1)を遊離酸の形またはそ
の塩の形で使用する場合には、N.N−ジシクロへキシ
ル力ルポジイミド;N−シクロヘキシノレーN′一モル
ホリノエチノレカノレボジイミド;N−シクロヘキシル
ーN’−(4−ジエチルアミノシクロヘキシノレ)カル
ボジイミド.N,N’−ジエテノレ力ルポジイミド.N
.N’ −ジイソプ口ビノレカノレホシイミFAN一エ
チノレーN’−(3−ジメチルアミノブロピル)カルボ
シ゛イミド;N.N’ 一カルポニルビスーN一(2−
メチルイミダゾール):ペンタメチレンケテンーN−シ
クロヘキシルイミン;ジフエニルケテンーN−シクロヘ
キシルイミン;エトキシアセチレン;1−アルコキシー
1−クロロエチレン;亜リン酸トリアルキル;ボリリン
酸エチル;ボリリン酸イソブロピル;オキシ塩化リン(
塩化ホスホリル);三塩化リン;塩化チ才二ル;塩化才
キサリル;例えばクロロギ酸エテル、クロロギ酸イソブ
ロビル等のハロギ酸低iアルキル:トリフエニルホスフ
ィン;2−エチル−7−ヒドロキシベンズイン才キサゾ
リウム塩;2−エチル−5−(m−スルホフェニル)イ
ンオキサゾリウムヒドロキシド分子内塩;x−(p−ク
ロロベンゼンスルホニル才キシ)−6−クロロー1H−
ペンゾトリアゾールiN.N−ジメチルホルムアミドと
塩化チ才二ル、ホスゲン、クロロギ酸トリクロロメチル
、才キシ塩化リン、塩化メタンスルホニル等との反応に
よって調製したいわゆるビルスマイヤー試薬等のような
常用の縮合剤の存在下に反応を行うのが望ましい. 反応はまたアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素
塩、トリ(低級)アルキルアミン、ピリジン、N−(低
級)アルキルモルホリン、N.Nージ(低級)アルキル
アミン等のような無機塩基または有機塩基の存在下に行
ってもよい. 反応温度は特に限定されないが、通常は
冷却下ないし加温下に反応が行われる. (以下余白) 型m 化合物<If−2)またはその塩は、化合物(ItM−
1)H またはアミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩
をそのアミノ基の保護反応に付すことにより製造するこ
とができる. 化合物(I −1)および]『2〉の好適な塩としてH は、化合物(1)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法は製造法8と同様にして行うことができる. 髪盈迭! 化合物(If−2>またはその塩は、化合物( If
N−t)N またはその塩をアミノ基のスルホン化に付すことにより
製造することができる. 化合物(If −1)および(II,−2)の好適な塩
としてN は、化合物(I)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法はハロ(低級)アルカンスルホン化剤を使用
し、製造法9と同様にして行うことができる. 製造法0 化合物( II。−2>またはその塩は、化合物( r
i o−t>またはその塩をN−クロロスクシンイミド
と反応させることにより架造することができる.化合物
( I[ o−t )および( If o−2)の好適
な塩としては、化合物(1)について例示したようなも
のが挙げられる. 艷亜迭ヱ 化合物(II,−2>またはその塩は、化合物( II
,−t)1 またはその塩をR,のアミノ保護基または、低級アルキ
ルアミノ保護基の脱離に付すことにより製造することが
できる. 化合物( II ,−1 )および( I[ ,−2)
の好適な塩としては、化合物(1)について例示したよ
うなものが挙げられる.この製造法は製造法7と同様に
して行うことができる. 製JJL衰 化合物( I[ o− 2 )またはその塩は、化合物
(IQ−1)またはその塩をアルキル化反応に付すこと
により製造することができる. 化合物( IfQ−1)および( I[ Q−2)の好
適な塩としては、化合物(1)について例示したような
ものが挙げられる. このアルキル化反応に使用されるアルキル化剤としては
、例えば硫酸ジメチル、硫酸ジエチル等の硫酸ジ(低級
)アルキル、例えばジアゾメタン、ジアゾエタン等のジ
アゾ(低級)アルカン、例えば沃化メチル、沃化エチル
等の低級アルキルハロケン化物、例えば9−トルエンス
ルホン酸メチル等のスルホン酸低級アルキル等が挙げら
れる. 硫酸ジ(低級)アルキル、低級アルキルハロゲン化物ま
たはスルホン酸低級アルキルを使用する反応は、水、ア
セトン、エタノール、エーテル、ジメチルホルムアミド
のような溶媒中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒であれば、その他のいかなる溶媒中でも反応を行
うことができる. この反応は製造法1で述べた無機塩基または有機塩基の
ような塩基の存在下に行うのが望ましい. 反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし溶媒の沸
点付近までの加熱下に反応が行われる.ジアゾアルカン
を使用する反応は通常、エーテル、テトラヒド口フラン
のような溶媒中で行われる. 反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下または常
温で反応が行われる. 製亘益1 化合物(II −3)またはその塩は、化合物(n,−
t)R またはその塩を化合物(IIR−2>またはその塩と反
応させることにより製造することができる.化合物(I
I −1)ないし( If ,−3)の好適な塩として
R は、化合物(1)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法は製造法Bと同様にして行うことができる. 目的化合物および医薬として許容されるその塩類は新規
であり、薬理作用を発揮して例えば変形性関節症、腰痛
症、肩甲上腕関節周囲促、月経痛、無熱性中耳炎、前立
腺痛、結節性紅斑、庖疹、偽性痛風、痛風様発作等の疼
痛または炎症性疾患、自己免疫疾患、例えばリウマチ性
関節炎等のリウマチ、腎炎、例えば特発性血小板減少性
紫斑病、続発性血小板減少性紫斑病等の血小板減少症等
の治療および予防に使用される. 目的化合物(I)の有用性を示すために、目的化合物(
1)の鎮痛作用、抗炎症作用、抗リウマチ作用、抗腎炎
作用、および血小板数増加作用を以下説明する. L息立1 鮫監ユ マウスにおける酢酸ライジング方法 ddy系雄性マウスを1群当り10匹使用した.0.6
%酢酸を腹腔内注射してマウスにライジングを発生せし
めた.動物を酢酸注射後3分から13分まで観察し、ラ
イジングの総数を記録した.薬物を酢酸注射1時間前に
経口投与した.投与動物のライジング回数を対照動物と
比較した. 結果 1 32
30.45 32
74.56 3
2 36. 48
32 39.311
32 69
.112 32
52. 613
32 60.757
32 54. 75
9 32
70. 2逍』1口見居 KM2 ラットにおけるカラゲニンによる足跳浮腫に
対する効果 方法 スプラーグ・ドウリー系雄性ラットを1群当り10匹使
用した.24時間絶食後、ラットの右後足の足底表面下
に1%7−カラゲニン0.1−を皮下注射した.動物に
カラゲニン注射1時間前に試験薬物を経口投与した.薬
物投与直前とカラゲニン注射3時間後との右後足の体積
差を浮腫の指標として用いた. 結果 50 27.1 50.0 40.5 59.1 72.7 57.1 52.2 48.0 28.6 42、0 37、5 27.1 25.0 62.7 57.1 57.1 39.2 抗ユご二LL怪E 攻慧ユ マウスのコラーゲン誘起関節炎に対する効果 方法 DBA/ 1系雄性マウスを1群当り8匹使用した.■
型ウシフラーゲンを0.1M酢酸に溶解し、フロイント
の完全アジュバント(CFA)に乳化した.マウスに2
004のCFA中I型コラーゲンを尾の基部に皮内注射
して初回抗原刺激を受けさせた.マウスに21日後に同
じ方法で誘発させた.誘発10日目から薬物を1日1回
、4週間経口投与し、マウスを毎週関節炎の徴候を観察
して検査した.薬物の効果を評価するために関節炎指数
を使用した.関節炎指数は各肢に重症度0−3の点数を
付し、それは関節腫脹および紅斑(第1段階)、目に見
える関節障害(第2段階)および検出可能な関節強直症
(第3段階)を表わすが、四肢の点数を合計することに
より得た. 結果 6 100
21.37 100
40.08
10G 92.69
100
33.812 100
56.913
100 46.219
10G
27.920 100
27。l21
10G 61.822
100 1
6.937 100
19. 151
100 29.0(2)方法 DBA/ 1系雄性マウスを1群当りlO匹使用した.
■型ウシフラーゲンを0.1M酢酸に溶解し、フロイン
トの完全アジュバント(CFA)に乳化した.マウスの
尾の基部にCFA中I型コラーゲン125κを皮肉注射
して初回抗原刺激を受けさせた。21日後に同じ方法で
誘発した.1!発の日から薬物を1日1回、4週間経口
投与し、マウスを毎週関節炎の徴候を観察して検査した
.薬物の効果を評価するために、関節炎指数を使用した
.関節炎指数は各肢に重症度0−3の点数を付し、それ
は関節腫脹および紅II(第1段階)、目に見える関節
障害(第2段階)および検出可能な関節強直症(第3段
階)を表わすが、四肢の点数を合計することにより得た
. 結果 32 44 100 93 100 32 32 19 100 37 100 60 100 31 100 30 100 38 100 17 100 47 100 21 100 59 100 46 抗j]動笠浬 隻監1 塩素GVH疾患(腎炎)に対する効果方法 生後6週齢の( 57BL/ 6 XDBA/ 2 )
F1およびDBA/ 2系雄性マウスを使用した.対
宿主性移植片疾患( GVH )を( 57BL/ 6
XDBA/ 2 ) F 17ウスにDBA/ 2牌
細胞を5日間置いて2回注射することにより誘起した.
各注射には細胞5X107個が含まれていた.2回目の
細胞注射3日後から薬物を1日1回、8週間経口投与し
た.腎疾患を評価するために、最後の細胞注射後8週間
目に蛋白尿を測定した.尿中血清アルブミン濃度を家兎
抗マウス血清アルプミン抗血清を使用して、単純放射免
疫拡散法により定量した.マウスを1群当りlO匹使用
した.化合物の抗腎炎作用を蛋白尿の抑制により表わし
た. (以下余白) 結果 直沙141L虹企B ILi:マイトマイシンCによって減少した血小板数に
対する増加効果 方法 生後6または7週齢のddy系雄性マウスに試験化合物
を1日1回、5日間経口投与した.動物は1群10匹と
して使用した.マイトマイシンCを3. 2mg/ k
gの投与量で、試験化合物の最初の投与後08目、2日
目および4日目にマウスに静脈内投与した.血小板数を
試馳化合物最終投与5日後にマウスの眼窩叢から採血し
た血液について計数した.血小板は自動血液分析器によ
り計数した。 各群の血小板数を試験化合物非投与群から得られた血小
板数に基づいて、計算した. (以下余白) 結果 50 32
18660 32
16897 32
17498 3
2 139100
32 151101
32 1441
02 32
181103 32
159治療用として投与するために、目的化合
物(1)および医薬として許容されるその塩類は、粉剤
、微細顆粒、顆粒、錠剤、糖衣錠、マイクロカプセル、
カプセル、坐剤、溶液、懸濁液、エマルジョン、シロッ
プ等のような常用の医薬組放物の形として使用される.
所望の場合には、希釈剤または例えばスクロース、乳糖
、デンプン、結晶性セルロース、低11!換ヒドロキシ
プ口ピルセルロース、合成ケイ酸アルミニウム等の崩壊
剤、例えばセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシ
ブ口ピルセルロース、ヒドロキシプ口ビルメチルセルロ
ース、ボリブロビルピロリドン、ポリビニルビロリドン
、ゼラチン、アラビアゴム、ボリエテレングリコール等
の結合剤、着色剤、甘味剤、例えばステアリン酸マグネ
シウム等の滑剤等が前記組成物に配合されていてもよい
. この発明による前記組成物の投与量は患者の年齢、体重
、条件等によって変化するが、一般的には経口投与によ
り目的化合物ク!〉またはその塩として1日投与量10
0mgないし10g1好ましくは同じ基準で1gないし
5gが、1日当りエないし3回の間隔で投与される.代
表的な単位投与量は50mg, 100mg, 200
mg、500mg, 1 g等とすればよいが、これら
は単なる例であってこれらに限定されることはない. 以下製造例および実施例に従ってこの発明をさらに詳細
に説明する. 製』1艷1 4−メトキシフェノール(5.2g)のN,N−ジメテ
ルホルムアミド( 100+nR )溶液に、水素化ナ
トリウム(1.09g)を攪拌下5゜Cで少量ずつ分割
して加える.混合物を室温で1時間攪拌後、4ークロロ
ニト口ベンゼン(6g)を加える.反応混合物を撹拌下
100℃に1時間加熱し、反応混合物を攪拌下氷水中に
注ぐ.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−メトキシ
ー4′一二トロフエニル工一テル(9.65g、収率1
03. 3%)を得る.融点: 106−107”C IR (スジ望一ル) 1610. 1590.
1505. 1380.1345 am−1 NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) 3
.76 (3H.s). 6.70−7.20 (6H
.m), 8.15 (2H.d.J=9Hz)Mas
s : 246(M+1). 245(M). m/e
230艷泣負ユ 4−アミノー4′−ヒドロキシジフェニルエーテル(4
.7g)、4−クロロニトロベンゼン(3.3g)およ
び炭酸カリウム(3.5g)のN.N−ジメデルホルム
アミド( 3511111 )中混合物を攪拌下140
゜Cに2.5時間加熱する.反応混合物を水冷攪拌下水
中に注ぎ、水冷下に1時間攪拌する.沈殿を濾取、水洗
、真空乾燥して、4−(4−アミノフェノキシ)−4’
一二トロジフエニルエーテル(6.8g、収率101
.5%)を得る.融点: 134”C IR (スジ身一ル) 3450. 3320.
161(1. 1590. 1510.150
5. 1380. 1355 am−1NMR (DM
SO−d6.90MHz.ppa+) 3.57 (2
H.bs), 6.60(2H.d.J=9Hz).
6.83 (2H.d.J=9Hz>, 6.80(2
H.d.J;9Hz>. 6.87 (2H.d.J=
9Hz>. 6.90(2}1,d.J=9}1z).
8.1j) (2H.d.J=9}1z)Mass
: 323(M+1). 322(M). m/e 2
92, 276.201. 108 製』I41 4−ニトロ−4′−ジメタンスルホニルアミノジフエニ
ルエーテル(8.3g)のテトラヒド口フラン( 24
0111 )と水( 80111 )との混合物溶液を
攪拌下IN*酸化ナトリウム水溶液でpH9. 5に調
整する.混合物を40℃で8時間攪拌する.さらにIN
水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応混合物のpHを9
−9.5に維持する.反応混合物を減ff濃縮し、残渣
を水冷攪拌下10%塩酸でpH2. 0に!ll1!1
する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して固体を得る.固
f本をシリカゲノレ(シリカゲル6G, 70−230
メッシュ、メルク社製)(250g)を使用するカラム
クロマトグラフィーに付し、クロロホルムとアセトンと
の混液(25:1゜)で溶出する.目的化合物を含む画
分を合わせ、減圧濃縮して、4−ニトロ−4′−メタン
スルホニルアミノジフエニルエーテル(5.8g、収率
78.4%)を得る.融点=162℃ IR (スジ砕一ル) 3250. 1610.
1590. 1510. 1380.1330
cm−1 NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm)
3.00 (3H.s). 7.05(2H.d
,J=9Hz). 7.10 (2H.d.J=9
Hz>. 7.25(2H.d.J=9Hz),
8.15 (2H.d.J=9Hz).9.67 (
IH.bs) Mass : 309(M+1). 308(M).
m/e 229. 185製』l乱1 i化4−ニトロ−4′−ジメタンスルホニルアミノジフ
ェニル(60g)のテトラヒド口フラン( 750mQ
)と水( 200mm )との混合溶媒中混合物を攪
拌下40%水酸化ナトリウムでpH9−10にy4整す
る.さらに1N水酸化ナトリウム水溶液を使用してpH
9−10に保ちながら、混合物を40℃で11時間J%
!拌する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水冷攪拌下
希塩酸でpH2. 0にiiyする.沈殿を濾取、水洗
、真空乾燥して、硫化4−ニトロ−4′−メタンスルホ
ニルアミノジフエニル(45.0g, 収率93.8%
)を得る. 融点: 160−162℃ IR (スジ*−4) 3250. 1600,
1580. 1520. 1345,1160
. 1145 am−’ NMR (DMSO−d6,60MHz,ppm> 3
.10 (3H,s). 7.27(2H,d,J=9
Hz). 7.33 (2H,d,J:9Hz), 7
.60(2H.d.J=9Hz>, 8.13 (2H
.d,J:9Hz>. 9.17(LH.s) Mass : 325(M+1). 324(M),
m/e 245製jLl互 4−アミノー4′ 一二トロジフェニルエーテル(3g
)および濃塩酸( 1211111 )の酢酸(251
1111 )と水( 50ml+ )との混合溶媒中混
合物に、亜硝酸ナトノウム(1.08g)の水(511
111)溶液を攪拌下5℃で滴下する.混合物を5℃で
1時間攪拌後、反応混合物に塩化第一スズ(8.8g)
の濃塩酸(451Q )溶液を攪拌下0℃で滴下する.
混合物を0℃で2時間攪拌し,室温で一夜放置する.沈
殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−ヒドラジノ−4′
一二トロジフェニルエーテル・塩酸塩(3.tsg,
収率86.5%)を得る. 融点: 181”c IR (スジ會一ル) 265G−2400.
1610. 1590. 1515.1505.
1380. 1350 cwr−’NMR (DMSO
−d6.90MHz.ppm) 7.00 (2H.d
.J:9Hz).7.03 (2H.d.J=9Hz)
. 7.09 (2H.d.J=9Hz).8.15
(2H.d.J=9Hz). 10.25 (2H,b
s)Mass : 246(Ma1). 245(M)
. ale 229. 214製』I艷互 5i化4−ニトロ−4′−アミノジフエニル(13g)
のN.N−ジメチルアニリン( 2amn )中混合物
に、塩化4−アセトアミドベンゼンスルホニル(llg
)を攪拌下80゜Cで少量ずつ分割して加える.a合物
を攪拌下90℃に2時間加熱する.反応混合物を水冷攪
拌下希塩酸中に注ぐ.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して
、4−アセトアミドーN−(4−(4−ニトロフェニル
デオ)フェニル]ベンゼンスルホンアミド(19.5g
、収率93.0%)を得る. 融点: 218−220℃ IR (スジl−4) 3400. 3200.
1695. 1600. 1595.1535
. 1345 am’ NMR (DMSO−d6.90MHz,ppm) 2
.07 (3H.s). 7.17(2H.d.J:9
Hz). 7.25 (2H.d,J=9Hz). 7
.48(2H.d.J:9Hz). 7.77 (4H
.s). 8.17 (2H.d.J=9HZ). 1
0.27 (IH.!l), 10.47 (IH.S
)Mass : 444(M+1). 443(M).
rrr/e 413. 23g,245. 199 製JLtヱ 4−アセトアミドベンゼンスルフィン酸ナトリウム(8
g)をエチレングリコール(3.0m)と2−(2−メ
トキシエトキシ)エタノール(5Inll)との混合物
に油浴中加熱して溶解する.次いでこの溶液に4−二ト
ロ−2−メタンスルホニルアミノクロロベンゼン(8.
0g)を加える.混合物を140− 145℃に連続攪
拌下7時間加熱し、次いで一夜放冷する.水( 20a
ll ’)を加えた後、ペースト状塊を破砕し、濾取、
水洗、真空乾燥して、4一アセトアミドー4′一二トロ
−2′一メタンスルホニルアミノジフエニルスルホン(
8.50g、収率68.6%)を得る. 融点:255゜C(分解) IR (スジ1−ル) 3270. 1680.
1615. 1595. 1530.1350
. 1330 csa−’ NMR (CF3COOH.60MHz.ppm) 2
.43 (3H.s). 3.36(3H.s). 7
.73 (2H.d.J=8Hz). 7.90 (2
1.d.J=8Hz). 8.10 (2H.d,
J=8Hz). 8.25 (1B.d.J=8H
z). 8.90 (IH.bs). 9.20 (l
H.bs)叡』I艷互 4−アセトアミドベンゼンスルフィン酸ナトリウム・三
水化物(10g)をエチレングリフール75一と2−(
2−メトキシエトキシ)エタノール120mQとの混
合物100−に油浴中加熱して溶解すル.次いで3.4
−ジクロロニト口ベンゼン( 8.2g)を溶液に加え
る.混合物を連続攪拌下140゜Cに6.5時間加熱し
、次いで一夜放冷する.水200mQを加えた後、混合
物を酢酸エチルで抽出し、水洗して硫酸マグネシウムで
乾燥する.有機層を減圧a總して固体を得る.固体をシ
リカゲル(和光ゲルC − 200、100− 200
メッシュ、和光純薬製)(400g)を使用するカラム
クロマトグラフィーに付し、酢酸エチルとn−へキサン
との混液(1: 1 v/v − 5 : 1 v/v
)で溶出する.目的化合物を含む画分を合わせ、減圧濃
縮して、4−アセトアミドー2′ −クロロー4′一二
トロジフエニルスルホン(6.75g,収率48.9%
)を得る.融点+ 190−192°C IR (スジ碑一ル’) 3370. 1705
. 1595. 1535. 1405.135
5. 1325. 1155 cm−’NMR (DM
SO−d6.90MHz.ppm) 2.11 (3H
.s). 7.66−7.96 (4H.m), 8
.26−8.51 (3H.m). 10.36(
LH. bs) Mass : 355(Ma1). 354(M)
. m/e 314. 312. 156製』U
艷エ 4−アセトアミドベンゼンスルフイン酸ナトリウム・二
水化物(2.6g)をエテレングリコール75一と2−
(2−メトキシエトキシ)エタノール12〇一との混合
物3mlに油浴中加熱して溶解する.次いで5−クロロ
ー2−ニトロアニソール(1.9g)を溶液に加える.
混合物を140− 145℃に連続攪拌下4時間加熱し
、次いで一夜放冷する.水5I1l!を加えた後、ペー
スト状塊を破砕し、吸引濾過して熱水で洗浄する.次い
で固体を100一フラスコに移し、エタノール(201
11 )中15分間還流する.冷後、沈殿を吸引濾過し
てエタノールで洗浄し、引続いてエーテルで洗浄して、
4−アセトアミド−3′−メトキシー4′一二トロジフ
ェニルスルホン(0.85g,収率24.3%)1%る
. M点: 190−191”C IR (スジa−IL) 3350. 1705
. 1607. 1590. 1530.138
G. 1310. 1265 crm−’NMR (D
MSO−d6.60MHz.ppm) 2.10 (3
H.s). 4.07(3H.s). 7.50−8.
13 (7H.m). 10.4 (IH.bs)型1
ul凶 4−ニトロ一N−メチルアニリン( 1.6g )およ
びN.N−ジメチルアニリン(5mQ)の混合物に、塩
化4−アセトアミドベンゼンスルホニル(2.3g)を
少量ずつ分割して攪拌下90℃で加える.混合物を90
゜Cに1.5時間加熱し、次いで水冷攪拌下6N塩酸で
pH1.0に調整する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥し
て、4−アセトアミドーN一メチルーN−(4−二トロ
フエニル)ベンゼンスルホンアミド(2.38g,収率
68.0%)を得る.融点=218℃ IR (スジ昏−ル) 3350. 1675.
1595. 1530, 1375.1355
arm−’ NMR (Dl’!50−d6.90MHz.ppa+
> 2.06 (3H.s). 3.18(3H.s)
. 7.39 (2H.d.J=9Hz). 7.43
<2H.d.J=9Hz). 7.70 (2H.d
.J=9Hz). 8.10 (2H.d. J=9H
z ) 製1u4■ 4−ニトロアニリン(0.14g)とN.N−ジメチル
アニリン(0. 5111 )との混合物に、塩化4−
アセトアミドベンゼンスルホニル(0.23g)を攪拌
下90℃で少量ずつ分割して加える.混合物を90℃で
2時間攪拌し、6N塩酸で水冷攪拌下pH1。0に調整
し、次いで冷却下3.5時間攪拌する.沈殿を濾取、水
洗、真空乾燥して、4−アセトアミド−N−(4−ニト
ロフェニル)ベンゼンスルホンアミド(0.23g,収
率69.7%)を得る.融点:250℃ IR (スジa−4) 3350. 3150.
1695. 1595. 1525.1380
. 1345 cm−’ NMR (DMSO−d6.9011Hz.ppm)
2.05 (3H.s).− 7.23(2H.d.J
=9Hz). 7.70 (4H.s), 8.05
(2H.d,J=9Hz). 10.25 (LH.s
). 11.05 (11,s)Mass : 3
36(M+1). 335(M). m/e 30
3. 286製1d艷4 a化4−ニトロ−4′−メタンスルホニルアミノジフエ
ニル(6g)のジクロ口メタン( 6011111 )
溶液に、3−クロロ過安息香酸(5.1g、純度80%
)のジクロ口メタン( 501lQ )溶液を5゜C未
満の温度で攪拌下に滴下する.混合物を5℃未満の温度
で2時間攪拌し、反応混合物を10%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、次いで水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
する.硫酸マグネシウムを濾去後、濾液を減圧下に蒸発
乾固して固体を得る.固体をシリカゲル(シリカゲル6
0, 70−230メッシュ、メルク社製)(200g
)を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸上
チルとべ冫ゼンとの混液(1:3)で溶出する.目的化
合物を含む画分を合わせ、減圧下に蒸発乾固して、4−
ニトロ−4′一メタンスルホニルアミノジフェニルスル
ホキシド(3g1収率47.6%)を得る.融点F 1
57−158℃ IR (スジI−4> 3300. 1660,
1605. 1595. 1525,1350
. 1300 cm” NMR (DMSO−da.90MHZ.ppm) 3
.06 (3H,s). 7.30(2H,d.J=9
Hz). 7.70 (2}1.d,J:9Hz).
7.90(2H,d.J=9}1z), 8.3
0 (2H.d.J=9Hz>. 11.60(IH
.s) Mass : 340(M), tale 32
4. 292. 218製造例l3 4−アセトアミドーN−(4−(4−二トロフエニルテ
才)フェニル]ベンゼンスルホンアミ}’(8g)のジ
クロ口メタン( 801Q ) ,クロロホルム( 8
0mll )、酢酸エチル(50111 )およびN.
N一ジメデルホルムアミド( 301111 )の混合
物溶液に、3−クロロ過安息香酸(3.9g,純度80
%)の酢酸エチル( 501119 )溶液を水冷攪拌
下5゜C未満の温度で滴下する.混合物を5゜C未満の
温度で3.5時間攪拌し、次いで沈殿を濾取して酢酸エ
チルで洗浄し、真空乾燥して、4−アセトアミドーN−
[4−(4−ニトロベンゼンスルホニル)フエニル]ベ
ンゼンスルホンアミFC4.2g,収率50.7%)を
得る. 融点: 260−261℃ IR (ス九−ル) 3250. 3120,
1680. 1610, 1595,1535.
1350 cm−’ NMR (DMSO−d6.90MHz,ppm) 2
.03 (3H.s). 7.20(2H.d.J=9
Hz). 7.65 (2H,d.J=9Hz).
7.70(4H,s), 7.90 (2H.d.
J:9Hz>. 8.33 (2H.d,J:9Hz
). 10.27 (LH.a), IQ.63
(LH.s)Mass : 459(M). +
n/e 443. 413. 245製造例14 4−アセトアミド−N−[(4−ニトロフェニルチ才)
フェニル]ベンゼンスルホンアミト(6g)の酢酸エチ
ル( 12011LQ )とN.N−ジ,+lJL4ル
ムアミド( 50mll )との混合物溶液に、3−ク
ロロ過安息香酸(3.0g、純度80%)の酢酸エチル
( 501111! )溶液を攪拌下5゜Cで滴下する
.混合物を室温で2.5時間攪拌する.反応混合物を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、塩化ナトリウム
を飽和させる.混合物を酢酸エチルで抽出し、水洗して
硫酸マグネシウムで乾燥する.硫酸マグネシウムを濾去
後、濾液を減圧下に蒸発乾固して、4−アセトアミドー
N−[4−(4−ニトロベンゼンスルホニル)フエニル
]ベンゼンスルホンアミド(6.0g、収率93.3%
)を得る.(以下余白) 融点265−270℃(分解) IR (スジa−ル) 3350、 3150、 1
675. 1610, 1595.1530, 1
380. 1350 cm−’NMR (DMSO−d
6,60MHz,ppm> 2.10 (3H,s),
7.37(2H,d.J=9Hz>. 7.80
(4H.s). 7.93 (2H,d,J=9Hz
). 8.13 (2H.d,J=9Hz), 8
.40 (2H,d,J:9}1z). 10.40
(IH.s), 11.20 (IH,bs).M
ass : 476 (Ma1). 475 (
M). m/e 433. 368.341,27
8, 198 製造例15 鉄粉(t3.sg、60メ/シュ)と塩化アンモニウム
(1.36g)トノ−cl’/−ル(140mQ)およ
び水( 3511IQ )の混合溶媒中混合物に、4−
メタンスルホニルアミノニトロベンゼン(13.6g)
を攪拌下80゜Cで少量ずつ分割して加える.混合物を
攪拌下8時間還流する.反応混合物はを吸引濾過し、濾
戒を減圧濃縮する。残渣を水で粉砕する.沈殿を濾取、
水洗、真空乾燥して、4−メタンスルホニルアミノアニ
リン(5.44g、収率46.5%)を得る. 融点:85−98℃ IR (スジa−ル’) 3470, 3400
. 3300, 1630. 1520.138
0. 1315. 1150 cm−’NMR (D
M50−d6.90MHz,ppm> 2.76
(3}1.s). 4.95(2H.bs).
6.46 (2H,d,J=9Hz), 6.86
(2H.d,J=9HZ).8.80 (IH.s)
Mass : 187 (M+1), 186
(M). m/e 107. 80製1u艷■ アセトアニリド(1.7g)、無水塩化アルミニウム(
10.05g )およびニトロベンゼン(1rnQ)
の混合物を室温で30分間攪拌する.混合物を100℃
で攪拌し、次いで塩化3−メチル−4−二トロヘンゾイ
ル(2.75g)を加える.混合物を100゜Cで2.
5時間攪拌し、水冷攪拌下水中に注ぐ.沈殿を濾取して
水および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、真空
乾燥して、粗製4−アセトアミドー3′−メチル−4′
一二トロジフエニルケトン(4.25g、収率113.
3%)を得る.融点255℃(分解) IR (スジi−JL) : 3330, 1
6g0. 1650. 1590, 1520,
1350. 1310. 1265. 1150 cm
−’NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm>
2.10 (3H.s). 2.56(3H,s).
7.5!lr8.13 (7H.m), 10.
30 (LH,bs)Mass : 299 (M+
1>. 298(M). m/e 257. 2
56.120 製1u4■ 製造例27と同様にして、4−クロロ−2−シアノニト
口ベンゼンおよび4−ニトロフェノールから出発して、
3−シアノー4.4′−ジニトロジフエニルエーテル(
6.27g、収率42.8%)を得る. 融点: 120−125℃(分解) IR (ス九−ル) : 1610. 159
0, 1520. 1345.1250 am”” NMR (DMSO−d6.90MHz,ppm) :
7.30−7.50 (3H,m).7.63 (I
H.dd.J=3Hz. 6Hz>. 8.00 (I
H,dJ=3Hz>. 8.20−8.40 (4H.
m>Mass : 286 (M+1). 285 (
M), m/e 260. 230製』U艷l 4−アミノー3−クロロニト口ベンゼン(12.73g
〉の酢51 ( 70mm )中混合物に、塩化4−ア
セトアミドベンゼンスルホニル( 17.32g )お
よび無水酢酸ナトリウム(21g)を攪拌下100゜C
で加える.涙合物を攪拌下氷水中に注ぐ。沈殿を濾取、
水洗、真空乾燥して固体を得る.固体をシリカゲル(シ
リカゲル60, 70−230メッシュ、メルク社製)
( 450g )を使用するカラムクロマトグラフィ
ーに付し、ジクロロメタンとアセトンとの混液(10:
1)で溶出する.目的化合物を含む画分を合わせ、減圧
濃縮して、4−アセトアミドーN−(2−クI1ロ−4
−二トロフエニル)ヘンゼンスルホンアミド(2.70
1H、収率l3.8%冫を得る.融点210−213℃ IR (ス九−ル) 3350. 1700.
1595. 1535.1345 cm−’ NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm) 2
.10 (3H.s). 7.62(IH,d,J=8
Hz>. 7.80 (4H.bs), 8.20 (
2H.d.J=8Hz), 12.35 (1}
1.s)Mass : 373 (M+3>.3
72 (M+2>.371 (M+1).370 (
M), m/e 327. 262, 206.
198製造例19 4−ニトロ−2−クロローN−メチルアニリン( 16
.0g )およびジ〆チルアニリン( aomn )の
混合物に、塩化4−アセトアミドベンゼンスルホニル(
19.0g )を攪拌下90℃で少量ずつ分割して加
える.a合物を90゜Cに3時間加熱し、水冷攪拌下6
N塩酸でpH1.0に調整する。沈殿を濾取、水虎、真
空乾燥して固体を得る.固体をシリカゲル(和光ゲルC
− 200、100−200メノシュ、和光純薬社製
)(370g)を使用するカラムクロマトグ2フィーに
付し、クロロホルムとメタノールとの混1&(30:1
>で溶出1る.目的化合物を含む画分を合わせ、減圧濃
縮して、4−アセトアミド−N一(2−クロロー4−ニ
トロフエニル)−N−メチルベンゼンスルホンアミド(
2、95g1収率9,5%)を得る. 融点148−150’C IR (スジi−J ’ 3350. 171
0, 1685, 1595. 1535135
0. 1315 crth−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.12 (3H.s), 3.15(3H,s).
7.01−7.93 (7H,m). 10.3
7 (IH.bs)Mass : 385 (M+
2). 384 (M+1). 383 (M).
m/a 369, 318, 304製造例20 3.4−ジクロロニト口ベンゼン(5.71)li!酸
カリウム(6.0g)とのN.N−ジメチルホルムアミ
ド( 4511111 ”)中混合物に、4−ニトロチ
才フェノール(5.Og)を攪拌下窒素ガスを吹込みな
がら加える.混合物を攪拌下窒素ガスを吹込みなから9
0’Cに2,5時間加熱する.反応混合物を氷水中に注
ぎ、溶液を水冷下IN水酸化ナトリウム水溶液でpH1
0に調製する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、硫化
2−クロロ−4,4′−ジニトロジフェニル(5.5g
)(融点144−146℃)を得る.上記濾液をクロロ
ホルムで抽出して水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥する
.硫酸マグネシウムを濾去後、濾液を減圧濃縮して、硫
化2−クロロ−4.4′−ジニトロジフエニル(2.1
g,融点143一144℃)を得る. IR (スジa−4) 1600. 1570.
1525, 1510,1345 cm”” NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm),
7.43 (LH.d.C9Hz),7.73 (2}
1.d,J:9Hz>, 8.10−8.50 (4
H.m)Mass : 314 (M+3>,
313 (M+2). 312 (Ma1),311
(M). m/e 280. 217梨1己4
麩 硫化2−クロロ−4.4’ −’,;ニトロジフェニル
(5.4g)のジクロロメタン( 55ml! )溶液
に、3−クロロ過安息香#(4.1g)のジクロ口メタ
ン( 70mQ )溶液を水冷攪拌下5°Cで滴下する
.混合物を水冷下5℃で3時間攪拌する.反応混合物を
I N*酸化ナトリウム水溶液および水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥する.硫酸マグネシウムで濾去後、
濾液を減圧濃縮して、2−クロロー4.4′ −ジニト
ロジフェニルスルホキシド(5.55g,収率97、9
%)を得る.融点160− 161゜C(分解) IR (X!;*−4) 1605, 1545
. 1520. 1370−1345 am−’
NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) 8
.07 (3H.d,J=9Hz).8.20−8.5
0 (4H.a+) Mass : 329 (M+3>. 328
(M+2). 327 (Ma1).326 (M)
. vale 310. 280製造例22 4−ニトロアニリン(5.0g)のテトラヒドロフラン
( 50ml )および水( 2SIIQ )の混合物
溶液に、塩化4−ニトロベンゾイル(9.0g)を水冷
攪拌下、lO%炭酸ナトリウムでpHを8−9の間に保
ちながら滴下する.混合物を同条件で3時間攪拌し、威
圧濃縮する.残渣を水で粉砕する.沈殿を濾取して水酸
化ナトリウム水溶液、希塩酸および水で洗浄し、真空乾
燥して、4.4″ −ジニトロペンズアニリド(6.6
81収率64.2%)を得る. 融点265−268℃(分解) IR (Xジ@−1) : 3375. 16
85. 1615. 1600. 1550.1
340 cm−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm),
7.92−8.50 (8H.m).11.00 (L
H.s) Mass : 288 (M+1).287
(M).m/e 150.120,104 製1U艷η 塩化4−ニトロベンゾイル(6.5g)、2−クロロ−
4−ニトロアニリン(6.1g)および1.8一ジアザ
ピシク口[5。4.0コー7−ウンデセン(6.511
11)(7)ヘキサメfルホスホラミド( 65ml1
)中混合物を攪拌下100°Cに6.5時間加熱する
.反応混合物を攪拌下氷水中に注ぐ。沈殿を濾取してI
N水酸化ナトリウム水溶液、10%塩酸および水テ洗浄
し、真空乾燥して,4.4’ −ジニトロ−2′−クロ
ロペンズアニリド(6.7g,収率59,5%)を得る
. 融点194− 198゜C IR (スジシール”) 3400. 1695
, 1605. 1595, 1515.133
0 am’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm).
8.10−8.50 (7H,m),10.70 (I
H.s) Mass : 324 (M+2). 323 (
M+1). 322 (M).m/a 286.15
0 製10艷ハ 硫化4−ニトCl−4’ −アミノジフエニル〈2.5
g〉のアセトニトリル( 25d )中混合物に、イソ
シアン酸クロロスルホニル(1.5g)のアセトニトリ
ル(2111Q)溶液を水冷攪拌下3℃で滴下する.混
合物を室温で1.5時間攪拌後、反応混合物を水(1.
5fflQ)とアセトニトリル(1。51Q)との混合
物に滴下する.混合物を常温で18時間攪拌し、反応混
合物を攪拌下氷水中に注ぐ.沈殿を濾取、水洗、真空乾
燥して、硫化4−ニトロ−4′−ウレイドジフェニル(
2− 5 g %収率86.5%〉を得る.融点295
°C(分解) IR (Z’;w−ル) : 349G。 33
50. 3200. 1675. 1595.1
58G. 1530. 1340 cob−lMass
: 29G (M+1). 289 (M). al
e 272. 246鮭濃塑M 硫化4−ニトロ−4′−ウレイドジフエニル(2.5g
)のジクロロメタン(25111 )、クロロホルム(
25ffll+ )およびN.N−ジメチルホルムア
ミド( 10ml! )のa合溶媒中混合物に、3−ク
ロロ過安息香酸(2.86g)のジクロロメタン( 5
0mA )溶液を攪拌下5゜Cで滴下する.混合物を水
冷下5゜Cで4時間攪拌する.反応混合物を水酸化ナト
リウム希水溶液および水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥する.硫酸マグネシウムを濾去後、濾液の溶媒を減
圧下に留去して、4−ニトロ−4′ウレイドジフエニル
スルホキシド(1.0g,収率37.9%)を得る. 融点113− 115℃ IR (スジョー0 3420, 3200.
1715. 1670, 1590,1535.
1350 cm’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm> 6
.07 (2H.d.J:8Hz).7.60−8.5
0 (8H.m), 7.76 (2H.d.J:7H
z),8、00 (2H.m>. 8.27 (2H.
d.J=7Hz). 9.17(IH.s) Mass : 305 (M). m/e 289,
278. 240型』Ii並 4−アミノー4′ 一二トロジフェニルケトン(0.2
4g)のアセトニトリル( 10ffll! )とテト
ラヒド口フラン( 11111)との混合物溶液に、イ
ソシアン酸クロロスルホニル(0.23g)を攬II’
下5゜Cで滴下する.反応混合物を室温で1.5時間攪
拌後、水(1ml)をこの溶液に加える.反応混合物を
室温で16時間攪拌する.反応混合物を減圧下に蒸発乾
固して固体を得る.固体をシリカゲル(シリカゲル60
、7Q− 230メッシュ、メルク社製) (10g
)を使用するカラムクロマトグラフイーに付し、ジクロ
ロメタンとアセトンとの混液(5:1)で溶出する.目
的化合物を含む画分を合わせ、蒸発乾固して、4−ウレ
イド−4′一二トロジフェニルケトン(0.18g,収
率63.2%)を得る.IR (スジ*−L’)
: 3400. 3300. 3200. 1
710. 1690,1650, 1530. 13
45 cm−’NMR (DMSO−d6.60MHz
.ppa+) : 6.07 (2H.s). 7.6
7(4H.m). 7.87 (2H.d.J=8Hz
>. 8.37 (2H.d.J=8Hz>. 9.0
4 (IH.s)製104ζ 3.4−ジクロロニトロベンゼン(1.92g)、2−
クロロ−4一二トロフェノール(1.73g)および炭
酸カリウム(2.6g)のN.N−ジメチルホルムアミ
ド( 30111Q )中混合物を攪拌下20時間還流
する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水で粉砕する.
沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して固体を得る.固体をシ
リカゲノレ(シリカゲJレ60、70−230メッシュ
、メルク社製) ( 100g )を使用する力ラムク
ロマトグラフィーに付し、酢酸エチルとn一ヘキサンと
の混液( 1 : 10)で溶出する.目的化合物を含
む画分を合わせ、減圧濃縮して、44′ −ジニトロ−
2.2′ −ジクロロジフェニル工一テル(3.0g、
収率91.5%)を得る.融点: 147−148℃ IR (スジa−L) ’ 1605, 15
80. 1525, 1350,1265 a11 NMR (DMSO−d6,60MHz,ppm) :
7.40 <28.d.C9Hz), 8.27 (
2H,dd.J=3Hz. 9Hz), 8.55(2
H,d,J=3Hz) Mass : 332 (M+4).331 (
M+3).330 (M+2>.329 (M+1>
.32g (M),m/a 298.236.173 製造例28 製造例27と同様にして、4−クロロニトロベンゼンお
よび3−メチル−4一二トロフェノールから出発して、
3−メチル−4.4′−ジニトロジフエニルエーテル(
4.3g, 収率49.4%)ヲ得る. 融点: 90−100℃ IR (スジ1−ル) : 1610, 15
95, 1575. 1515. 1345.1
245 am’ NMR (DMSO−d6,60M}Iz.ppm)
: 2.53 (3H.s).7.03−7.50 (
4H.a+). 8.01−8.47 (3H.m>M
ass : 275 (IDI). 274 (M).
m/e 257. 211製造例29 製造例27と同様にして、4−クロロニトロベンゼンお
よび3.5−ジメチル−4一二トロフェノールから出発
して、3.5−ジメチル−4.4′−ジニトロジフエニ
ルエーテル(6.5g , 収率75.2%)を得る. 融点F 174−175℃ IR (スジ■−ル) : 1610. 15
g5, 1530, 1350, 1310.1
290 am−1 NMR (DMSO−d6,60M}Iz.ppm)
: 2.27 (6H,s). 7.13(2H,s)
, 7.25 (2H,d.J=9Hz), 8.30
(2H,d.J=9HZ) Mass : 289 (M+1), 288
(M). m/e 271. 258,226.
196 製1目生抑 4−ニトロ−4′−アミノジフエニルエーテル(6.9
g)のアセトニトリル( 7omQ)中混合物に、イン
シアン酸クロロスルホニル(4.5g)のアセトニトリ
ル( 1omQ)溶液を水冷攪拌下3℃で滴下する.混
合物を室温で2.5時間攪拌する.反応混合物に水(
5 mQ )とアセトニトリル( 5 mN )との混
合物を加え、次いで混合物を常温で16時間攪拌する.
反応混合物を氷水中に注ぎ、沈殿を濾取、水洗、真空乾
燥して、4−ニトロ−4′−ウレイドジフェニルエーテ
ル(7.1g、収率86.7%)を得る. 融点: 185−188℃ IR (ヌジ9−4) : 3500, 33
50, 3270. 1680. 1595,1
545. 1350 am’ NMR (DMSO−d6,60MHz,ppm) :
5.75 (2}1.bs),7.00−7.30
(4H.m), 7.57 (2H.d,J:9}1z
).8.27 (2H.d.J=9Hz), 8.67
<IH,s)Mass : 274 (M+1),
273 (M), m/e 256. 230.184 製造例31 製造例27と同様にして、4−フルオロ−2−メテルニ
トロベンゼンおよび3−メチル−4一二トロフェノール
から出発して、3.3’ −ジメチル−4.4’ −ジ
ニトロジフエニルエーテル( 10.1g、収率109
%)を得る. 融点; 95−io1℃ IR (1”i−4) : 1575, 15
15, 1460. 1345.1255 am−
’ NMR (CDCI3+DMSO−d6.90MHz.
ppm) : 2.63 (6H.s). 6.90−
7.10 (4H,m). 8.10 (2H.d.J
:9Hz)Mass ; 289 (M+1).
28g (M). m/e 271. 258.
225 製』ui共 4−アミノテオフエノール(5g)、3.4ジクロロニ
トロベンゼン(8g)および炭酸カノウム(llg)の
N.N−ジメテルホルムアミド( 501Q )中混合
物を、窒素ガス気流中80″Cで2時間攪拌する.反応
混合物を撹拌下氷水中に注ぐ.沈殿を濾取、水洗、真空
乾燥して、硫化2−クロロ−4−二トロ−4′ −アミ
ノジフェニル( 11.7g1収率104. 4%)を
得る. 融点: 132−133℃ IR (Xジa−1) : 3450. 33
50. 1630. 1595. 1565.1
340 c11 NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm) :
5.8G (2H.s).6.67−6.90 (3
H,m), 7.3 (2H.d.J=9Hz>,8.
00−8.33 (2H.m) Mass : 283 (M+3>. 282 (M+
2). 281 (M+1>.280 (M), m/
e 234. 199?』ll■ 硫化4−アミノー2′−クロロ−4′一二トロジフェニ
ル(11.5g)の酢酸( 100+1111 )溶液
に、無水酢酸(4.5g)を水冷攪拌下5゜Cで滴下す
る.混合物を室温で2時間攪拌する.反応混合物を水冷
攪拌下水中に注ぐ.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、
硫化4−アセトアミド−2′−クロロー4′一二トロジ
フエニル( 14.2g ,収率98.5%)を得る. 融点+ 143−145℃ IR (スジa−ル) : 3620, 33
00. 1680. 1610. 1595.1
540. 1350 am−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.17 (3H,s), 6.83(IH.d.J
=9Hz). 7.60 (2H.d.J=9Hz).
7.90(2H.d,J:9Hz). 8.12 (
IH.d.J=9Hz>. 8.33(IH.d.J:
3Hz). 10.30 (IH.s)Mass
: 325 (M+3). 324 (M+2>. 3
23 (M+1).322 (M). Im/e 28
0. 234製』0艷B 製造例27と同様にして、4−クロロー2−シアノニト
口ベンゼンおよび4−アミノフェノールから出発して、
4−アミノー3′−シアノー4′ニトロジフェニルエー
テル( 5.44g , 収率78.1%)を得る. NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm) :
5.16 (2H.s).6.50−6.90 (5
H.m), 7.20 (IH,dd,J=3Hz,6
Hz). 8.30 (11,d,J=9}1z)Ma
ss : 256 (Ma1). 255 (M).
m/e 209. 108紅圭盟量 4−アミノー4゛一二トロジフェニルエーテル(4.6
g)およびトリエチルアミン(2g)のジクロロメタン
( 50ml! )中混合物に、無水トリフル才ロメタ
ンスルホン酸(3.1g)を氷冷攪拌下5゜Cで滴下す
る.混合物を攪拌下3時間還流し、反応混合物を氷水中
に注ぐ.混合物をクロロホルムで抽出し、J[水素ナト
リウム水溶戒、希塩酸および水で洗浄して硫酸マグネシ
ウムで乾燥する.硫酸マグネシウムを濾去後、濾液を減
圧濃縮し、残渣をn−ヘキサンで粉砕する.沈殿を濾取
してn−ヘキサンで洗浄し、真空乾燥して、4−トリプ
ル才ロメタンスルホニルアミノ−4′一二トロジフエニ
ルエーテル( 4.2g . 収率58.0%)ヲ得る
. 融点:60−62℃ IR (スジ)一ル) + 3290. 16
15. 1595. 1520. 1415.1
215 cm−’ NMR (DMSO−d6.90MHz,ppm> :
7.18 (2H.d.J=12Hz>. 7.27
(2H,d.J=12Hz). 7.43 (28,
d,J=12Hz), 8.32 (2}1,d.J=
12Hz)Mass : 363 (M+1>. 36
2 (M), m/e 332. 229製JJL坦 製造例27と同様にして、4−クロロ−2−メトキシニ
トロベンゼンおよび4−アミノフェ/ 一ルから出発し
て、4−アミノー3′−メトキシ−4′一二トロジフェ
ニルエーテル(6.94g,収率89.0%)を得る. 融点: 140−142℃ IR (スジ曹一ル) : 3470. 33
g0. 1620. 1575, 1515.1
350 cm−1 NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm)i
3.86 (3H.s), 5.10(2H,s),
6.40 (IH,dd,J=3Hz, 6Hz)
, 6.60(2H.d.J=9Hz). 6.75
−6.90 (3H,m), 7.90(IH,d,J
=9Hz) Mass : 261 (M+1), 260
(M), m/e 229, 213,184 製1uiv ゜製造例27と同様にして、4−フル才口−3−メデル
ニトロベンゼンおよび2−メチル−4一二トロフェノー
ルから出発して、2.2’ −ジメチル−4.4’ −
ジニトロジフエニルエーテル(5.74g1収率84.
9%)を得る. 融点: 140−142℃ IR (スジ穿−ル) : 1635. 15
B0. 1510. 1350. 1245.1
190 cm−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.38 (6H.s),7.08 (2H.d.J
=9Hz), 8.03−8.43 (4}1.m>M
ass : 289 (M+1). 288 (}i)
, m/e 258. 195.152 製1ulI 製造例27と同様にして、4−クロロー3−ジフェニル
メトキシ力ルポニルニト口ベンゼンおよび4−ニトロフ
ェノールから出発して、2−ジフエニルメトキシ力ルポ
斗ルー4.4゛−ジニトロジフエニルエーテル(18.
96g ,収率103.9%)を得る. 融点: 133−140℃ IR (スジシール) : 172G. 16
15. 15110. 1520, 1350.
1280. 1255 cm” NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
7.08−7.63 (14H,m), 8.20−
8.87 (4}1.s)Mass :’a+/e 4
40. 410, 360, 260. 230製E1
艷I 製造例27と同様にして、4−クロロー3−シアノニト
ロベンゼンわよび4−ニトロフェノールカら出発して、
2−シアノー4.4′ −ジニトロジフェニルエーテル
(29.78g,収率82.9%)を得る. 融点: 135−142℃ IR (スジ脅一ル) : 2250, 16
15. 15g5.1275. 1255.120
0 NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm> ’
7.38J=9Hz>, 7.58 (2H.d.
J=9Hz>.(3H劃) Mass : 286 (M+1>, 285 (t
l>.168. 139 m/e 26(L 1530. 1350, 。,−1 (2H. d. 8. 27−8. 53 230, (以下余白) 製1出艷籾 製造例16と同様にして、アセトアニリドおよび塩化2
−1口ロー4−二トロベンゾイルから出発して、4−ア
セトアミドー2′−クロロ−4′ニトロジフェニルケト
ン(19。71g, 収率87.3%)を得る. 融点: 156−183℃ IR (スジa−ル) : 3240. 31
50. 1675. 1595. 1540.1
410. 1315. 1290. 1270 cm”
NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.L3 (31{.s).7.73−8.57 (
7H.m). 10.45 (lH.bs)Mass
: 32G (M+2). 319 (M+1). 3
1g (M).m/e 278. 276, 120 型』巳4l 製造例16と同様にして、3−メチルアセトアニノドお
よび塩化4−ニトロベンゾイルから出発して、4−アセ
トアミドー2−メチル−4′ 一二トロジフェニルケト
ン(3.8g,収率95.O%)を得る. 融点: 158−170℃ IR (スジ會一ル) F 3320. 16
70. 1585. 1520. 1400.1
320. 1260 a1l NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm) ’
2.13 (3Ls). 2.40(3H.s),
7.27−7.77 (3}1.m), 7.92 (
2H.d,J=8Hz>. 8.38 (2}1.
d.J=8Hz). 10.25(IH.bs) Mass : 299 (M+1), 298 (
M). ale 2g1, 256,209.
180 製1己40 製造例16と同様にして、2−メチルアセトアニノドお
よび塩化3−メチル−4−ニトロベンゾイルから出発し
て、4−アセトアミドー4′一二トロ−3.3′ −ジ
メデルジフェニルケトン(9.35g1収率89.3%
)を得る. IR (二−}) : 3250, 16
60. 1610. 1580. 152
5,1450. 1350. 1315. 1270,
1185 cm−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.35 (3H.s). 2.60(3H.s).
7.47−7.97 (6H.m). 9.48 <
IH,bs)Mass : 313 (M+1). 3
12 (M). m/e 295. 250.177,
149, 134 製
性疾患、リウマチ、腎炎、血小板減少症の治療に有用な
ジフェニル化合物に関するものであり、医薬の分野で利
用される. [従来の技術コ 4.4′−ジアミノジフェニルスルホンはエボキシ樹脂
の加工における硬化剤としてだけでなく、抗菌剤(抗ら
い菌剤)、抗原虫剤およびヘルペス性皮膚炎の抑制剤と
しての活性も知られている(メルクインデックス9版,
280g、370ページ、( 1976) ”) . [発明が解決しようとする課題コ 本発明′は、新規なジフエニル化合物が、上記刊行物に
記載されていない新規な疼痛、炎症性疾患、ノウマチ、
腎炎、血小板減少症の治療剤として有用であることを示
すものである. [課題を解決するための千段] この発明の目的とするジ′フェニル化合物は新規であり
、下記一般式(I)で示すことができる.[式中、R1
はハロゲン、アミノ基、保護されたアミノ基、ヒドラジ
ノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、保護された
アミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカンスル
ホニルアミノ基、アミノフエノキシ基、ヒドロキシ基ま
たは保護されたヒドロキシ基、 R2はハロゲン、低級アルキルアミ7基、ジ(低級アル
カンスルホニル)アミノ基、アミノ基、保護されたアミ
ノ基、ヒドラジノ基、保護されたヒドラジノ基、低級ア
ルカンスルホニルアミノ基またはハロ(低級)アルカン
スルホニルアミノ基、R3は水素、低級アルキル基、ハ
ロゲン、シアノ基、カルボキシ基、保護されたカルボキ
シ基、低級アルカンスルホニルアミノ基、ヒドロキシ基
または保護されたヒドロキシ基、 R3aは水素または低級アルキル基、 R4は水素、低級アルキル基またはハロゲン、R4aは
水素、低級アルキル基またはハロゲン、Aは一Cl{(
Ol{)− −CH2− −CO− −COCI
{(OR>−coco−、−COC(NORb)− (
式中、Rbは水素または低級アルキル基を意味する)、
−CONH−−o−、−S− −50− −502
− −C(−NOR”)?{式中、Raは水素、低級
アルキル基、低級アルケニル基、カルボキシ(低級)ア
ルキル基または保護されたカルポキシ(低k!k)アル
キル基を意味スル}、− 50■N(Rc) − (
式中、Rclt水素または低級アルキル基を意味する)
、一C}l2S−または一CH2SO■−を意味する] この発明の目的化合物(I)は下記製造法によって製造
することができる. 艶m + (I[ ) l L またはその塩 聚盟迭1 + H2NOR2 (It ) 2 またはその塩 1 またはその塩 匙産益ユ + H2NOR讐 (■3) またはその塩 し またはその塩 製』0L± (I[ −1) 4 (1 −2) 4 またはその反応性誘 またはその塩 導体、 またはその塩 またはその塩 堅3i[互 またはその塩 またはその塩 型』IL互 またはその塩 またはその塩 型jILヱ またはその塩 またはその塩 製造法8 またはその反応性誘導体 またはその塩 またはその塩 蔓産益1 またはその塩 またはその塩 架』uL東 またはその塩 またはその塩 販1じ(U またはその塩 またはその塩 製1巳(4 またはその塩 またはその塩 監1目(東 またはその塩 またはその塩 製造法14 またはその塩 またはその塩 製igts またはその塩 またはその塩 製造法16 またはその塩 またはその塩 製造法17 またはその塩 またはその塩 製31!x*ts (I[ −1) 18 (II18−2) またはその塩 またはその塩 (1 ’) 18 またはその塩 製1uL狂 (I −1) 19 またはその塩 (1 −2) 19 またはその塩 [式中、R1、R2、R3、R3a%R4、R4aおよ
びAはそれぞれ前と同じ意味であり、R?は低級アルキ
ル基または低級アルケニル基、X1は酸残基、 R;は水素、低級アルキル基、低級アルケニル基または
保護されたカルボキシ(低級)アルキル基、 Rbは水素または低級アルキル基、 3 R1はハロゲン、保護されたアミン基、ヒドラジ5 ノ基、保護されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、
アミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカンスル
ホニルアミノ基、ハロ(低級)アルカンスルホニルアミ
ノ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノフェノ
キシ基、保護されたヒドロキシ基またはヒドロキシ基、 R1′はニトロ基、ハロゲン、保護されたアミノ5 基、ヒドラジノ基、保護されたアミノベンゼンスルホニ
ルアミノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、低a
アルカンスルホニルアミノ基、ハロ(低級)アルカンス
ルホニルアミノ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、
アミノフエノキシ基、保護されたヒドロキシ基またはヒ
ドロキシ基、 R2はジ(低級アルカンスルホニル)アミノ基、6 低級アルキルアミノ基、保護されたアミノ基、保護され
たヒドラジノ基、ヒドラジノ基、低級アルカンスルホニ
ルアミノ基またはアミノ基、R2′はジ(低レアルカン
スルホニル)アミノ6 基、低級アルキルアミノ基、保護されたアミノ基、保護
されたヒドラジ7基、ヒドラジノ基または低級アルカン
スルホニルアミノ基、 A 6ハ−C(=NOR”)− C 式中、R”it水
,t、低級7ルキル基、低級アルケニル基、カルボキシ
(低級)アルキル基、または保護されたカルボキシ(低
級)アルキル基を意味する]、−CH2−CO−
−COCO− −CONH− −0− −
S−−50− −So2−tタハ−So2N(Rc)
−(l中、R0は水素または低級アルキル基を意味する
)、1 R7は保護されたアミノ基または保護されたアミノベン
ゼンスルホニルアミノ基、 l′ R7はアミノ基またはアミノベンゼンスルホニルアミノ
基、 2 R7はハロゲン、ジ(低級アルカンスルホニル)アミノ
基、低級アルキルアミノ基、保護されたアミノ基、保護
されたヒドラジノ基、ヒドラジノ基、低級アルカンスル
ホニルアミノ基またはアミノ基、 Rラ′はハロゲン、ジ(低級アルヵンスルホニル)アミ
ノ基、低級アルキルアミノ基、保護されたアミノ基、保
護されたヒドラジノ基、ヒドラジノ基、低級アルカンス
ルホニルアミノ基、またはアミノ基、 l R8はハロゲン、アミノ基、保護されたアミノ基、保護
されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカ
ンスルホニルアミノ基、保護されたヒドロキシ基または
ヒドロキシ基、 2 R8はヒドラジノ基またはアミノ基、 R2′は保護されたヒドラジノ基または保護された8 アミノ基、 R1はハロゲン、アミ7基、保護されたアミノ9 基、保護されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、低
級アルカンスルホニルアミノ基、保護されたヒドロキシ
基またはヒドロキシ基、 R2はアミノ基、 9 R2′はジ(低級アルカンスルホニル)アミノ基、9 または低級アルカンスルホニルアミノ基、A,4t −
C(=NOR”)− ( 式中、R”tt水素、低級ア
ルキル基、低級アルケニル基、カルボキシ(低級)アル
キル基または保護されたカルボキシ(低級)アルキル基
を意味する},−CH2− −CO−一COCO−−
COC(=NORb)−C式中、Rbは水素または低級
アルキル基を意味する)、−CONH−−o− −s
− −so− −so2−または−So2N(Rc
) − (式中、Reは水素または低級アルキル基を意
味する)、 Rloはハロゲン、保護されたアミノ基、;ヒドラジ?
基、保護されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、ア
ミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカンスルホ
ニルアミノ基、アミノ基、アミノフエノキシ基、保護さ
れたヒドロキシ基またはヒドロキシ基、 Rfoはジ(低級アルカンスルホニル)アミノ基、2′ R1oはアルカンスルホニルアミノ基、1 R11はハロゲン、保護されたアミノ基、ヒドラジノ基
、保護されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、アミ
ノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカンスルホニ
ルアミノ基またはアミノ基、アミノフエノキシ基、保護
されたヒドロキシ基またはヒドロキシ基、 A 1■+t −C(=NOR”)− ( 式中、R”
4t水jl、低17ルキル基、低級アルケニル基、カル
ボキシ(低級)アルキル基または保護されたカルボキシ
(低級)アルキル基を意味する}、−CH(OR)−、
CH2− −CO− −COCH(OH)− −
COC(回NORb)−(式中、Rbは水素または低級
アルキル基を意味?る)、−CONH− −0−
−8− −So2−または−So2N(Rc) −
(式中、R0は水素または低級アルキル基を意味する)
、 3 R1■は保護されたヒドロキシ基、 1 R13は保護されたヒドロキシ基、 2 R13はジ(低級アルカンスルホニル)アミノ基、低級
アルキルアミノ基、ヒドラジノ基、低級アルカンスルホ
ニルアミノ基またはアミノ基、1 R14はハロゲン、保護されたアミノ基、保護されたア
ミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカンスルホ
ニルアミノ基または保護されたヒドロキシ基、 2 R14はジ(低級アルカンスルホニル)アミノ基、低級
アルキルアミノ基、保護されたアミノ基または保護され
たヒドラジノ基、 3 Rl4は水素、ハロゲン、低級アルカンスルホニルアミ
ノ基または保護されたヒドロキシ基、A15はーco一
または−coco −A15は一CH(OR)一または
一COCR(OH) −1 A16は保護されたカルポキシ(低級)アルキル基、 Aデ.はカルボキシ(低級)アルキル基、3′ R17は保護されたカルボキシ基、 X18はハロゲンを意味する]. この明細書の以上および以下の記載において、この発明
の範囲内に包含される種々の定義の好適な例および説明
を以下詳細に述べる. 『低級二とは、特に指示がなければ、炭素原子1個ない
し6個を意味するものとする.好適な『ハロゲン」およ
び『ハロ(低級)アルカンスルホニルアミノ基」の好適
な『ハロゲン,部分としては、フッ素、塩素、臭素およ
び沃素が挙げられる. 好適な『保護されたアミノ』基および1保護されたアミ
ノベンゼンスルホニルアミノ」基および「保護された低
級アルキルアミノ,基の好適なr保護されたアミノ」部
分としては、例えば、下記アシル基、例えばベンジル、
ベンズヒドリル、トリチル部のモノ−(またはジーまた
はトリー)フェニル(低級)アルキル基のようなアル(
低級)アルキル基等の常用のアミノ保護基によって保護
されたアミノ基が挙げられる. 好適なアシル基としては脂肪族アシル基、芳香族アシル
基および芳香族基によって置換された脂肪族アシル基が
挙げられる. 脂肪族アシル基としては、例えばホルミル、アセチル、
プロピ才二ル、プチリル、インプチリル、バレリル、イ
ンバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル等の低級アルカ
ノイル基、例えばメトキシ力ルボニル、エトキシ力ルボ
ニル、プロポキシカルボニル、ブトキシ力ルボニル、第
三級プトキシカルボニル等の低級アルコキシ力ルボニル
基、例えばアクリロイル、メタクリロイル、クロトノイ
ル等の低級アルケノイル基、カルバモイル基等のような
飽和または不飽和、非環式または環式アシル基が挙げら
れる. 芳香族アシル基としては、例えばベンゾイル、トル才イ
ル、キシロイル等のアロイル基等が挙げられる. 芳香族基で置換された脂肪族アシル基としては、例えば
フェニルアセチル、フェニルプロピ才ニル、フエニルヘ
キサノイル等のフェニル(低級)アルカノイル基のよう
なアル(低級)アルカノイル基、例えばペンジル才キシ
力ルボニル、フェネチル才キシ力ルボニル等のフェニル
(低級)アルフキシカルボニル基のようなアル(低級)
アルフキシカルボニル基、例えばフェノキシアセテル、
フェノキシブロピ才二ル等のフェノキシ(低級)アルカ
ノイル基等が挙げられる.これらのアシル基はさらに、
例えばメチル、エチル、プロビル、イソプロビル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル等の低級アルキル基、例えば塩
素、臭素、沃素、フッ素のようなハロゲン、例えばメト
キシ、エトキシ、プロポキシ、インブロポキシ、ブトキ
シ、ベンチルオキシ、ヘキシル才キシ等の低級アルコキ
シ基等のような適当な置換基1個以上で置換されていて
もよい. 1低級アルカンスルホニルアミノ」基、「ジ(低級)ア
ルカンスルホニル)アミノ」基およびrハロ(低級)ア
ルカンスルホニルアミノj基の好適な1低級アルカンj
部分としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン等が
挙げられる.「保護されたヒドラジノ」基の好適な保護
基としては、アミノ保護基について前に例示したような
ものである常用のヒドラジノ保護基が挙げられる. 好適な「保護されたヒドロキシj基としては、例えばメ
トキシ、エトキシ、プロポキシ等の低級アルコキシ基等
が挙げられる. 好適な「保護されたカルボキシ,基としては、例えばメ
トキシ力ルボニル、エトキシ力ルボニル、プロボキシカ
ノレボニノレ、インプロボキシカノレポニル、ブトキシ
力ルポニル、第三級プトキシ力ルボニル等の低級アルフ
キシカルポニル基、例エハペンジル才キシ力ルボニル、
4−ニトロベンジル才キシ力ルボニル、フェネチル才キ
シ力ルボニル、ペンズヒドリル才キシカルボニル、トリ
チル才キシカルボニル等のニトロ基を有していてもよい
モノ(またはジまたはトリ)フェニル(低級)アルコキ
シカルポニル基等のようなエステル化されたカルボキシ
基が挙げられる. 好適な「低級アルキル」基および「低級アルキルアミノ
」基の好適な1低級アルキルj部分としてはメチル、エ
チル、プロビル、イソプロビル等の基が挙げられる. 好適な『低級アルケニル」基としてはビニル、アリル等
の基が挙げられる. 好適なr酸残基」としては、フッ素、塩素、臭素、沃素
のようなハロゲン、例えばベンゼンスルホニル才キシ、
トシル才キシ等のアレーンスルホニル才キシ基、例えば
メシル才キシ、エタンスルホニル才キシ等の低級アルカ
ンスルホニル才キジ基等が挙げられる. 化合物(1)の好適な医薬として許容される塩類として
は、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩、硫酸
塩、轡酸塩等の無機酸付加塩;例えばギ酸塩、酢酸塩、
トリフル才口酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタン
スルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p一トルエンス
ルホン酸塩等の有機カルボン酸付加塩または有機スルホ
ン酸付加塩;例えばアスパラギン酸、グルタミン酸等の
酸性アミノ酸との塩等が挙げられる. この発明の目的化合物製造法を以下詳細に説明する. 鮭盟益ユ 化合物(I −2)またはその塩は、化合物(111 l)またはその塩を化合物〈I1〉と反応させることに
より製造することができる. 化合物(I −1>および(11−2)の好適な塩と
し1 ては、化合物(1)について例示したようなものが挙げ
られる. X1の好適な酸残基としては塩素、沃素等が挙げられる
. 反応は通常、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ
金属、例えばマグネシウム、カルシウム等のアルカリ土
類金属、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸力Jウム等のそれらの金属の水素
化物、水酸化物または炭酸塩等のような塩基の存在下に
行われる。 この反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール、
プロバノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、酢酸エチル、N.N−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシドのような常用の溶媒中で行われ
るが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他
のいかなる有機溶媒中でも反応を行うことができる.化
合物(■1)が液体である場合にはそれを溶媒として使
用することもできる. 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加温下または
加熱下に反応を行うことができる.製造法2 化合物(12−2)またはその塩は、化合物(l21)
またはその塩をヒドロキシルアミン誘導体〈I2)また
はその塩と反応させることにより製造することができる
. 化合物(1 −1)および(12−2)の好適な塩と
し2 ては、化合物(I)について例示したようなものが挙げ
られる. ヒドロキシルアミン誘導体(II2)の好適な塩として
は、例えば塩酸塩等のハロゲン化水素酸塩が挙げられる
. この反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール、
プロパノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、酢酸エチル、N.N−ジメテルホルムアミド
、ジメチルスルホキシドのような常用の溶媒中で行われ
るが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他
のいかなる有機溶媒中でも反応を行うことができる.化
合物(■2〉が液体である場合には、それを溶媒として
使用することもできる. 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加温下または
加熱丁に反応を行うことができる.毀盟益ユ 化合物(13−2)またはその塩は、化合物(131)
またはその塩を化合物《■3)またはその塩と反応させ
ることにより製造することができる.化合物(I −
1)および(I,−2)の好適な塩とし3 では、化合物(1)について例示したようなものが挙げ
られる. 化合物(Ti3〉の好適な塩としては、例えば塩酸塩等
のハロゲン化水素酸塩が挙げられる.この反応は通常、
水、例えばメタノール、エタノール、プロバノール等の
アルコール、テトラヒドロフラン、ジ才キサン、酢酸エ
チル,N.N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシドのような常用の溶媒中で行われるが、反応に悪影
響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる有機溶
媒中でも反応を行うことができる.化合物(II3)が
液体である場合には、それを溶媒として使用することも
できる. 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加温下または
加熱下に反応を行うことができる.虹産迭1 化合物<1 )またはその塩は、化合物(It,−1
)ま4 たはその反応性誘導体、またはその塩を、化合物(II
4−2)またはその塩と反応させることにより製造する
ことができる. 化合物(1 )および(I4−2)の好適な塩として
4 は、化合物(1)について例示したようなものが挙げら
れる. 化合物(II4−1)およびその反応性誘導体の好適な
塩としては、化合物(1)について例示したようなもの
および無機塩基との塩、その例として、例えばナトリウ
ム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、例えばカルシウ
ム、マグネシウム等のアルカリ土類金属塩等のような塩
基との塩が挙げられる. 化合物(n4−1)の好適な反応性誘導体としては、酸
ハロゲン化物、酸無水物等が挙げられる.好適な例とし
ては酸塩化物、酸臭化物等のような酸ハロゲン化物が挙
げられる. 反応はまたアルカリ金属炭酸水素塩、トリ(低級)アル
キルアミン、例えばN.N−ジメチルアニリン等のジ(
低級)アルキルアニリン、ビリジン、N−(低級)アル
キルモルホリン、N.N−ジ(低級)アルキルベンジル
アミン等のような無機塩基または有機塩基の存在下に行
ってもよい.この反応は通常、水、例えばメタノール、
エタノール、プロバノール等のアルコール、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、ジクロロメタン,
N.N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、ジエチルエーテルのような常用の溶媒中で行われるが
、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のい
かなる有機溶媒中でも反応を行うことができる.上記無
機塩基または有機塩基が液体である場合にはそれを溶媒
として使用することもできる. 反応温度は特に限定されないが、通常は加温下または加
熱下に反応が行われる. 艷盟迭1 化合物(I )またはその塩は、化合物《I5〉また
5 はその塩を還元することにより製造することかできる. 化合物(I )および<15)の好適な塩としては、
5 化合物(1)について例示したようなものが挙げられる
. 還元は常法、すなわち化学的還元または接触還元によっ
て行うことができる. 化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属と塩化アンモニウムまたは例えばアン
モニア、水酸化ナトリウム等の塩基との組合わせ、例え
ばスズ、亜鉛、鉄等の金属または塩化第二クロム、塩化
第一スズ、酢酸第二クロム等の金属化合物と例えばギ酸
、酢酸、プロヒ才ン酸、トリプル才口酢M.p=トルエ
ンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等の有機酸または無機
酸との組合わせ、例えば水素化ホウ素リチウム、水素化
ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム等の水素化ホ
ウ素アルカリ金属、例えば水素化シアノホウ素ナトリウ
ム等の水素化シアノホウ素アルカリ金属または例えば水
素化アルミニウムリチウム等の水素化アルミニウムアル
カリ金属等である. 接触還元に使用される好適な触媒は、例えば白金板、白
金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の
白金触媒、例えばパラジウムー炭素、コロイドパラジウ
ム、パラジウムー硫酸パリウム、パラジウムー炭酸バリ
ウム等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニ
ッケル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば還元
コバルト、ラネーコバルト等のコバルト触媒、例えば還
元鉄、ラネー鉄等の鉄触媒、例えば還元鋼、ラネー銅、
ウルマン鋼等の銅触媒等のような常用のものである. この製造法の還元は通常、水、例えばメタノール、エタ
ノール、プロバノール等のアルコール、酢酸、ジ才キサ
ン、テトラヒドロフラン、N.N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシドのような溶媒、または反応に
悪影響を及ぼさないその他のあらゆる有機溶媒、または
それらの混合物中で行われる.上記還元剤が液体である
場合にはそれを溶媒として使用することもできる.反応
は冷却下ないし加温下または加熱下に行われる. 1′ R5がニトロ基である場合には、ニトロ基もアミノ基に
還元される. 型Jl互 この反応はまず、化合物(I6−t>またはその塩を例
えば亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸アルカリ金属と反応さ
せることにより行うことができる.この反応は酸性条件
、例えば、塩酸、酢酸等のような有機酸または無機酸の
存在下に行うのが好ましい.この反応は通常、水、例え
ばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコー
ル、酢酸、ジ才キサン、テトラヒドロフラン、N.N−
ジメチルホルムアミド、ジメテルスルホキシドのような
溶媒、または反応に悪影響を及ぼさないその他のあらゆ
る有機溶媒、またはそれらの混合物中、冷却下ないし加
温下に行われる.次いで得られた化合物(16−t)の
ジアゾ化合物を還元して化合物(16−2)を得る.こ
の還元反応は製造法5と同様にして行われる. この製造法において、原料化合物(I −1)がR2
66 にアミノ基を有する場合には、この基もヒドラジノ基に
変化する. 化合物(16−t)および( I s−2)の好適な塩
としては、化合物(I)について例示したものが挙げら
れる. 製』■LL 化身物(1,−2)またはその塩は、化合物( I 7
−1>またはその塩をアミノ保護基の脱離反応に付すこ
とにより製造することができる. 化合物(17−1)および(17−2)の好適な塩とし
ては、化合物(1)について例示したようなものが挙(
fられる. この反応は加水分解、還元等のような常法に従って行わ
れる. 加水分解は塩基またはルイス酸を含めて酸の存在下に行
うのが好ましい. 好適な塩基としては、例えばナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属、例えば水酸化ナトリウム等のその金属の
水酸化物または炭酸塩または炭酸水素塩、例えば酢酸ナ
トリウム等のアルカリ金属アルカン酸塩等が挙げられる
.好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロビ才ン酸
、トリクロロ酢酸、トリフル才口酢酸等の有機酸および
例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸が挙げられる
.例えばトリクロロ酢酸、トリフル才口酢酸等のトリハ
ロ酢酸等のようなルイス酸を用いる脱離は、例えばアニ
ソール、フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在下に行う
のが望ましい. 反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、ジクロ口メタン、テトラヒド口フラン、それ
らの混合物のような溶媒中で行われるが、反応に悪影響
を及ぼさない溶媒であればその他のいかなる溶媒中でも
反応を行うことができる.液状の塩基または酸も溶媒と
して使用することができる.反応は冷却下ないし加温下
または加熱下に行うことができる. 脱離反応に適用され得る還元法としては、化学的還元お
よび接触還元が挙げられる. 化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化第二クロム、酢酸第
二クロム等の金属化合物と例えばギ酸、酢酸、プロピ才
ン酸、トリプル才ロ酢酸、p一トルエンスルホン酸、塩
酸、臭化水素#専の有機酸または無機酸との組合わせで
ある.接触還元に使用される好適な触媒については製造
法5で例示したようなものを参照すればよい.還元は通
常、水、メタノール、エタノール、プロバノール、テト
ラヒドロフラン、N.N−ジメチルホルムアミドのよう
な反応に悪影響を及ぼさない常用の溶媒、またはそれら
の混合物中で行われる.さらに化学的還元に使用される
上記酸が液体である場合には、それらの溶媒として使用
することができる.さらにまた、接触還元に使用される
好適な溶媒としては、上記溶媒およびジエチルエーテル
、ジ才キサン、テトラヒド口フラン等のようなその他の
常用の溶媒、またはそれらの混合物が挙げられる. 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加温下または
加熱下に反応を行うことができる.この製造法において
、原料化合物(17−1>またはモの塩がR2に保護さ
れたアミノ基を有する場7 合には、この基もアミノ基に変化する,製』畳L亙 化合物(1 −2)またはその塩は、化合物( I
8−t)8 またはアミノ基またはヒドラジノ基におけるその反応性
誘導体またはその塩を前記アミノ基またはヒドラジノ基
の保護反応に付すことにより製造することができる. 化合物(1 −1)および( I 8−2)の好適な
塩として8 は、化合物(I)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法で使用される好適なアミノ基保護剤4 またはヒドラジノ基保護剤としては、式:Rs−OH(
式中、R4はアミノ保護基またはヒドラジノ保8 護基を意味する)で示される常用のものまたはその反応
性誘導体またはその塩が挙げられる.化合物R ’−O
Rの好適な反応性誘導体としては、8 酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化アミド、活性化エス
テル等が挙げられる.その好適な例としては酸塩化物、
酸臭化物;酸アジ化物;例えばジアルキルリン酸、フェ
ニルリン酸、ジフェニルリン酸、ジベンジルリン酸、ハ
ロゲン化リン酸等の置換されたリン酸、ジアルキル亜リ
ン酸、例えばメタンスルホン酸、エタンスルホン酸等の
低級アルカンスルホン酸、亜硫酸、チ才硫酸、硫酸、ア
ルキル炭酸、例えばピバリン酸、ペンタン酸、インペン
タン酸、2−エチル酪酸またはトリクロロ酢酸等の脂肪
族カルボン酸または例えば安息香酸等の芳香族カルボン
酸のような酸との混合酸無水物;対称酸無水物;イミダ
ゾール、4一置換イミダゾール、ジメテルピラゾール、
トリアゾールまたはテトラゾールとの活性化アミド;ま
たは例えばシアノメチルエステル、メトキシメチルエス
テル、ジメチルイミノメデル(〈CH3〉2哀一CH一
〉エステル、ビニルエステル、プロパルギルエステル、
p−ニトロフェニルエステル、2.4−シニトロフェニ
ルエステル、トリクr1oフェニルエステル、ペンタク
ロロフエニルエステル、メシルフエニルエステル、フエ
ニルアゾフェニルエステル、フエニルチ才エステル、p
−ニトロフェニルテ才エステル、p−クレジノレチ才エ
ステノレ、カノレボキシメチルチ才エステル、ビラニル
エステル、ピリジルエステル、ピベリジルエステル、8
−キノリルチ才エステル等の活性化エステル、または例
えばN.N−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロ
キシ−2−(IH)一ピリドン、N−ヒドロキシスクシ
ンイミド、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキ
シ−6−クロロ−IH−ベンゾトリアゾール等のN−ヒ
ドロキシ化合物とのエステル等が挙げられる.これらの
反応性誘導体は使4 用すべき化合物R 8−OHの種類に従ってそれらの中
から任意に選択することができる. 反応は通常、水、メタノール、エタノール、アセトン、
ジ才キサン、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロロ
メタン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチ
ル、N.N−ジメチルホルムアミド、ピリジンのような
常用の溶媒中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさない
溶媒であれば、その他のいかなる有機溶媒中でも反応を
行うことができる.これらの常用の溶媒は水との混合物
として使用してもよい. 化合物R ’−OHを遊離酸の形またはその塩の形で8 反応に使用する場合には,N.N’ −ジシクロへキジ
ル力ルポジイミド;N−シクロヘキシル−N′ 一モル
ホリノエチル力ルポジイミド;N−シクロヘキシルーN
’−(4−ジエチルアミノシクロヘキシル)カルポジイ
ミド; N,N’−ジエチル力ルポジイミド.N.N’
−ジインプロピノレ力ルポジイミド;N一エチルーN
’−(3−ジメテルアミノプロピノレ)カルボジイミド
;N.N一カノレボニルビス(2−メチルイミダゾール
):ペンタメチレンケテンーN−シクロヘキシルイミン
;ジフェニルケテンーN−シクロヘキシルイミン;エト
キシアセチレン;1−アルコキシ−1−クロロエチレン
;亜リン酸トリアルキル;ボリリン酸エチル;ボリリン
酸イソブロピル:才キシ塩化リン(塩化ホスホリル):
三塩化リン;塩化チ才ニル;塩化才キサリル;トリフエ
ニルホスフィン;2−エチル−7−ヒドロキシベンズイ
ソ才キサゾリウム塩;2−エチル−5−(m−スルホフ
エニル)イン才キサゾリウムヒドロキシド・分子内塩;
1−(p−’)ロロベンゼンスルホニル才キシ)−6−
クロローIH−ペンゾトリアゾール:N,N−ジメチル
ホルムアミドと塩化チ才二ル、ホスゲン、才キシ塩化リ
ン等との反応によって調製したいわゆるピルスマイヤー
試薬等のような常用の縮合剤の存在下に反応を行うのが
望ましい.反応はまた、例えば炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム等のアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素
塩、トリ(低級)アルキルアミン、ピリジン、N−(低
級)アルキルモルホリン、N.N−ジ(低級)アルキル
ベンジルアミン等のような無機塩基または有機塩基の存
在下に行ってもよい.反応温度は特に限定されないが、
通常は冷却下または常温で反応が行われる. 鮭盟迭上 化合物(I −2)またはその塩は、化合物( 1
9−1>9 またはその塩をアミノ基のスルホン化反応に付すことに
より製造することができる. 化合物(I −1)および目,−2〉の好適な塩とし
て9 は、化合物(1)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法で使用される好適な低級アルカンスルホン化
剤としては、式:R:−OH(式中、R5は低級アルカ
ンスルホニル基を意味する)で示される常用のものまた
はその反応性誘導体またはその塩が挙げられる. 5 化合物R 9−ORの好適な反応性誘導体としては、酸
ハロゲン化物、酸無水物等が挙げられる.好適な例とし
ては酸塩化物、酸臭化物;酸アジ化物;例えばジアルキ
ルリン酸、フエニルリン酸、ジフェニルリン酸、ジベン
ジルリン酸、ハロゲン化リン酸等の置換されたリン酸、
ジアルキル亜リン酸、例えばメタンスルホン酸、エタン
スルホン酸等の低級アルカンスルホン酸、亜硫酸、チ才
硫酸、硫酸、アルキル炭酸、例えばピバリン酸、ペンタ
ン酸、インペンクン酸、2−エチル酪酸またはトリクロ
口酢酸等の脂肪族カルポン酸または例えば安息香酸等の
芳香族カルボン酸のような酸との混合酸無水物;対称酸
無水物等が挙げられる.これらの反応性誘導体は使用す
る化合物R 5−OHの9 種類に従ってそれらの中から任意に選択することができ
る. 反応は通常、アセトン、ジ才キナン、アセトニトリル、
クロロホルム、ジクロロメタン、塩化エチレン、テトラ
ヒド口フラン、酢酸エチル、N.N−ジメチルホルムア
ミド、ピリジンのような常用の溶媒中で行われるが、反
応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかな
る有機溶媒中でも反応を行うことができる.これらの常
用の溶媒は水との混合物として使用してもよい.反応は
またアルカリ金属炭酸水素塩、例えばトリメチルアミン
、トリエチルアミン等のトリ(低級)アルキルアミン、
ピリジン、N−(低級)アルキルモルホリン、N.N−
ジ(低級)アルキルベンジルアミン等のような無機塩基
または有機塩基の存在下に行ってもよい. 反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる. 艷潅迭昶 化合物( t 1o−2>またはその塩は、化合物”1
01〉またはその塩を塩基を使用する加水分解に付すこ
とにより製造することができる. 化合物(1 −1)および( I 1o−2)の好適
な塩とし10 では、化合物(1)について例示したようなものが挙げ
られる. 好適な塩基としては例えばナトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属、例えば水酸化ナトリウム等のその金属の水
酸化物または炭酸塩または炭酸水素塩、例えば酢酸ナト
リウム等のアルカリ金属アルカン酸塩等が挙げられる. 反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、それ
らの混合物のような溶媒中で行われるが、反応に悪影響
を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる溶媒中で
も反応を行うことができる.液状の塩基も溶媒として使
用することができる. 反応は冷却下ないし加温下または加熱下に行うことがで
きる. 艶1目L■ 化合物( I tt−2)またはその塩は、化合物(I
1、1)またはその塩をアセトンの存在下における還元
に付すことにより製造することができる.化合物(1
−1)および( 1 1、−2)の好適な塩としl1 では、化合物(1)について例示したようなものが挙げ
られる. この製造法に適用され得る還元法としては、化学的還元
および接触還元が挙げられる.化学的還元に使用される
好適な還元剤は、例えばスズ、亜鉛、鉄等の金属または
例えば塩化第二クロム、酢酸第二クロム等の金属化合物
と例えばギ酸、酢酸、ブロビ才ン酸、トリプル才ロ酢酸
、p一トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等の有機
酸または無機酸との組合わせである.接触還元に使用さ
れる好適な触媒については製造法5で例示したようなも
のを参照すればよい.還元は通常、水、メタノール、エ
タノール、ブO A /−ル、テトラヒドロフラン、N
.N−ジメチルホルムアミド、またはそれらの混合物の
よう?反応に悪jIi+響を及ぼさないアセC・ンを含
む常用の溶媒中で行われる.さらに、化学的還元に使用
される上記酸が液体である場合には、それらも溶媒とし
て使用することができる. 反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる. 製1lLリ 化合物(11。−2〉またはその塩は、化合物(I1■
1)またはその塩をヒドロキシ保護基の脱離反応に付す
ことにより製造することができる.化合物(I12−1
)および(■12−2〉の好適な塩としては、化合物(
1)について例示したようなものが挙げられる. この製造法に使用される好適な試薬としては、塩酸、臭
化水素酸、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、塩化アルミニ
ウム、ピリジン・塩酸塩、沃化トリメチルシリル等が挙
げられる. 加水分解は通常、水、メタノール、エタノール、プロバ
ノール、第三級プチルアルコール、テトラヒドロフラン
, N.N−ジメテルホルムアミド、N.N−ジメチル
アセトアミド、ジ才キサン、ジクロロメタンまたはそれ
らの混合物のような反応に悪影響を及ぼさない常用の溶
媒中で行われるが、さらに上記酸も液体であれば溶媒と
して使用することができる. この加水分解の反応温度は特に限定されないが、通常は
冷却下ないし加温下に反応が行われる. 製331リ 化合物( I 13−2)またはその塩は、化合物(!
131 l〉またはその塩をR13のヒドロキシ保護基の脱離反
応に付すことにより製造することができる.化合物(1
13−1)および(113−2>の好適な塩としては、
化合物(I)について例示したようなものが挙げられる
. この製造法は製造法l2の記載と同様にして行われる. 製m 化合物( 1 14−2)またはその塩は、化合物(l
141)またはその塩を酸化することにより製造するこ
とができる. 化合物(1 −1>および( 1 14−2)の好適
な塩とし14 では、化合物(1)について例示したようなものが挙げ
られる. この製造法に使用される好適な酸化剤は、二酸化クロム
と例えば硫酸、酢酸等の酸との組合わせ、ニクロム酸カ
リウムと硫酸との組合わせ、クロム酸第三級ブチル、二
酸化マンガン、二酸化セレン等である. この反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール、
プロパノール等のアルコール、酢酸、ジエチルエーテル
、ジ才キサン、テトラヒドロフラン、ジクロ口メタン、
クロロホルム、N.N −4;メチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシドのような溶媒、または反応に悪影響
を及ぼさないその他のあらゆる有機溶媒、またはそれら
の混合物中で行われる.上記酸が液体である場合には、
それを溶媒として使用することもできる. 反応は冷却下ないし加温下または加熱下に行うことがで
きる. 躯』u14 化合物(I −2)またはその塩は、化合物(I1.
15 1)またはその塩を還元することにより製造することが
できる. 化合物(1 −1)および(11.−2)の好適な塩
とし15 ては、化合物(1)について例示したようなものが挙げ
られる. 使用される好適な還元剤11例えば水素化ホウ素リチウ
ム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム等
の水素化ホウ素アルカリ金属、例えば水素化シアノホウ
素ナトリウム等の水素化シアノホウ素アルカリ金属、例
えばナトリウムハイドロサノレファイト、カリウムハイ
ドロサルファイト等のアルカリ金属ハイドロサルファイ
トまたは例えば水素化アルミニウムリチウム等の水素化
アルミニウムアルカリ金属等である. この製造法は塩基の存在下に行うのが望ましい. 好適な塩基としては例えばナトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属、例えば水酸化ナトリウム等のその金属の水
酸化物または炭酸塩または炭酸水素塩、例えば酢酸ナト
リウム等のアルカン酸アルカリ金属等が挙げられる. この製造法の還元は通常、水、例えばメタノール、エタ
ノール、プロパノール等のアルコール、酢酸、ジエチル
エーテル、ジ才キサン、テトラヒドロフラン、N.N−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドのような
溶媒、または反応に悪影響を及ぼさないその他のあらゆ
る有機溶媒、またはそれらの混合物中で行われる. 反応は冷却下ないし加温下または加熱下に行うことがで
きる. 製LuL■ 化合物(116−2)またはその塩は、化合物(■16
1)またはその塩をR16のカルボキシ保護基の脱離反
応に付すことにより型造することができる.化合物(I
−1)および(I16−2)の好適な塩とし16 ては、目的化合物(1)について例示したようなものと
同じものが挙げられる. この脱離反応の好適な方法としては、加水分解、還元等
のような常法が挙げられる.(1)加水分解 加水分解は酸の存在下に行うのが望ましい.好適な酸と
しては例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無8!酸、例
えばギ酸,酢酸、トリフル才口酢酸、プロピオン酸、メ
タンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p一トルエンス
ルホン酸等の有機酸、酸性イオン交換樹脂等が挙げられ
る.トリフル才口酢酸オよびp一トルエンスルホン酸の
ような有機酸をこの反応に使用する場合には、例えばア
ニソール等の陽イオン捕捉剤の存在下に反応を行うのが
好ましい. さらに上記酸の代りに、三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ
素・エーテル付加化合物、五塩化アンチモン、塩化第二
鉄、塩化第二スズ、四塩化チタン、塩化亜鉛等のような
ルイス酸もこの反応に使用することができ、ルイス酸を
使用する場合には、例えばアニソールのような陽イオン
捕捉剤の存在下に反応を行うのが好ましい. 加水分解は通常、水、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、第三級プチルアルコール,テトラヒド口フラン
、N.N−ジメデルホルムアミド、N.N−ジメチルア
セトアミド、ジ才キサン、ジクロロメタンのような反応
に悪影響を及ぼさない常用の溶媒またはそれらの混合物
中で行われ、さらに上記酸が液体であればそれらを溶媒
として使用することもできる. 加水分解の反応温度は特に限定されないが、通常は冷却
下ないし若干温度を上げる程度の温度で反応が行われる
. (i)還元 還元は化学的還元および接触還元を含む常法で行われる
. 化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化第ニクロム、酢酸第
二クロム等の金属化合物と例えばギ酸、酢酸、ブロピ才
ン酸、トリプル才ロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩
酸5臭化水素酸等の有機酸または無機酸との組合わせで
ある.接触還元に使用される好適な触媒は例えば白金板
、白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線
等の白金触媒、例えばパラジウム海綿、パラジウム黒、
酸化パラジウム、パラジウム−R素、コロイドパラジウ
ム、バラジウムー硫酸バリウム、パラジウムー炭酸バリ
ウム等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニ
ッケル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば還元
コバルト、ラネーコバルト等のコバルト触媒、例えば還
元鉄、ラネー鉄等の鉄触媒、例えば還元鋼、ラネー銅、
ウルマン鋼等の銅触媒等のような常用のものである. 還元は通常、水、メタノール、エタノール、プロバノー
ル、N.N−ジメチルホルムアミトのような反応に悪影
響を及ぼさない常用の溶媒、またはそれらの混合物中で
行われる. さらに、化学的還元に使用される上記酸が液体である場
合には、それらも溶媒として使用することができる.ま
たさらに、接触還元に使用する好適な溶媒としては、上
記溶媒およびジエデルエーテル、ジ才キサン、テトラヒ
ドロフラン等のようなその他の常用の溶媒、またはそれ
らの混合物が挙げられる. この反応の反応温度は特に限定されないが、通常は冷却
下ないし加温下に反応−が行われる.鮭圭圭ど 化合物(117−2)またはその塩は、化合物(!17
3′ l)またはその塩をR17のカルボキシ保護基の脱離反
応に付すことにより製造することができる.化合物(1
17−1>および( r 17−2)の好適な塩として
は、化合物(1)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法は躯造法l6と同様にして行うことができる
. 毀盟迭卦 化合物(118)は化合物(118−t)またはその塩
を化合物( II 18−2)またはその塩と、例えば
塩化アルミニウム等のルイス酸触媒の存在下に、いわゆ
るフリーデル・クラフト反応に従って反応させることに
より製造することができる. この製造法に使用される好適な溶媒はニトロベンゼン等
である. 製』I(』 化合物( I 1,−2)またはその塩は、化合物(I
19l)またはその塩を酸化反応に付すことにより製造
することができる. 化合物(11,−1>および(119−2>の好適な塩
としては、化合物(I)について例示したようなものが
挙げられる. この製造法の酸化は−S一基をーSO2一基に酸化し得
る常用の酸化剤により常法で行われる.そのような酸化
剤の好適な例は例えば過沃素酸、ペル才キソ硫酸等また
はそれらのナトリウム塩またはカリウム塩等の無機通酸
またはその塩、例えば過安息香酸、3−クロロ過安息香
酸、過ギ酸、過酢酸、クロロ過酢酸、トリフルオロ過酢
酸等またはそれらのナトリウム塩またはカリウム塩等の
有機過酸またはその塩、オゾン、過酸化水素、尿素一過
酸化水素等である. この反応は周期表中のvb群またはvtb群の金属より
なる化合物、例えば、タングステン酸、モリプデン酸、
バナジン#等または例えばナトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属、例えばカルシウム、マグネシウム等のアル
カリ土類金属またはアンモニウム等とのそれらの塩、ま
たは五酸化バナジウムの存在下に行うのが望ましい. この酸化は通常、水、酢酸、酢酸エチル、クロロホルム
、ジクロロメタン、テトラヒド口フラン、ジオキサン、
N.N−ジメチルホルムアミドのような溶媒中で行われ
るが、この反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、そ
の他のいかなる溶媒中でも反応を行うことができる. 反応温度には特別の制限はないが、通常は常温または冷
却下にこの反応が行われる. 上記製造法に使用される原料化合物のあるものは新規で
あり、そのような新規原料化合物は下記製造法によって
製造することができる.(以下余白) 製JjL丘 またはその塩 またはその塩 梨IL旦 (mB−t) (I[ −2) B またはその塩 (If −3) B またはその塩 製ILL旦 (n −1) C (n,−2) 製』ロL旦 (I,−1) またはその塩 (I[ −2) D またはその塩 (IF −1) E またはその反応性誘導体 またはその塩 + (It,−2) またはその塩 L またはその塩 製造法F (IIF−1) またはその反応性 誘導体またはその 塩 (If,−2) またはその反応性 誘導体またはその 塩 ト ( IIF−3 ) またはその塩 思JIJL旦 (iG−t) またはその塩 (n,−2) またはその塩 製』畳L旦 CM −1) H またはその塩 (n −2) H またはその塩 製nsx (II −1) ■ またはその塩 (If −2) ■ またはその塩 製造法J (ff −1) J (1 −2) J またはその塩 (II −3) J またはその塩 型JJL匹 ( nK−1 ) (![K−2) またはその塩 またはその塩 (IIK−3) またはその塩 製造法L ( M,− 1) またはその反応性 誘導体またはその塩 (n,−2) またはその反応性 誘導体またはその塩 (I[L−3) またはその塩 製m (If,−1) またはその反応性誘導体 またはその塩 (II −2) H またはその塩 製造法N (IfN−1) またはその塩 ( IIN−2 ) またはその塩 製1巳L旦 ( I[o−1 ) またはその塩 (Ifo−2) またはその塩 鮭盟迭l (n,−t) またはその塩 (n,−2) またはその塩 製』1(9 (I[ −1) Q またはその塩 またはその塩 製造法R ( nR− 1 ) (IIR−2) またはその塩 またはその塩 ( IR−3 ) またはその塩 [式中、R1、R2、R3、R3a,R4、R4aX1
8およびAはそれぞれ前と同じ意味であり、R1はハロ
ゲン、アミノ基、保護されたアミノA 基、ヒドラジノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基
、保護されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級
アルカンスルホニルアミノ基、アミノフエノキシ基、ヒ
ドロキシ基または保護されたヒドロキシ基、 R2はジ(低級アルカンスルホニル)アミノ基、A 低級アルキルアミノ基、アミノ基、保護されたアミノ基
、ヒドラジノ基、保護されたヒドラジノ基または低級ア
ルカンスルホニルアミノ基、R3tt水素、ハロゲン、
低級アルカンスルホニルA アミノ基、ヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基
、 1 RBはハロゲン、ニトロ基、アミノ基、保護されたアミ
ノ基、ヒドラジノ基、保護されたアミノベンゼンスルホ
ニルアミノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、低
級アルカンスルホニルアミノ基、アミノフェノキシ基、
ヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基、 xBはハロゲン、 Aaはヒドロキシ基またはメルカプト基、ABは一〇一
または−S− R1はジ(低級アルカンスルホニル)アミノ基、C R1′はアルカンスルホニルアミノ基、C ADは−CH2− −CO− −0− −S−
−So−502− −502N(CH3)−
−So2NH一または−C(=NOR”)− (式中、
R”は水素、低級アルキル基または低級アルケニル基を
意味する)、R3は水素、ハロゲン、低級アルカンスル
ホニルD アミノ基または保護されたヒドロキシ基、R1′は保護
されたアミノ基、 E R1は保護されたアミノベンゼンスルホニルアミE ノ基、 RCは水素または低級アルキル基、 F R1は保護されたアミノ基、 F AFは−so2N(cR;> − <式中、R「は水素
または低級アルキル基を意味する)、 1 RGはハロゲン、ニトロ基、アミノ基、保護されたアミ
ノ基、ヒドラジノ基、保護されたアミンベンゼンスルホ
ニルアミノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、低
級アルカンスルホニルアミノ基、アミノフエノキシ基、
ヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基、 l RHはハロゲン、アミノ基、保護されたアミノ基、ヒド
ラシノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、保護さ
れたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカン
スルホニルアミノ基、アミノフエノキシ基、ヒドロキシ
基または保護されたヒドロキシ基、 1 R1はハロゲン、アミノ基、保護されたアミン基、ヒド
ラジノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、保護さ
れたアミノベンゼンスルホニルアミン基、低級アルカン
スルホニルアミノ基、アミノフエノキシ基、ヒドロキシ
基または保護されたヒドロキシ基、 R1はハロゲン、アミノ基、保護されたアミノJ 基、ヒドラジノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基
、保護されたアミンベンゼンスルホニノレアミノ基、低
級アルカンスルホニルアミノ基、アミノフェノキシ基、
ヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基、 Mはアルカリ金属、 XJはハロゲン、 RLはハロゲン、ニトロ基、アミノ基、保護されL たアミノ基、ヒドラジノ基、保護されたアミノベンゼン
スルホニルアミノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ
基、低級アルカンスルホニルアミノ基、アミノフエノキ
シ基、ヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基、 R2′は保護されたアミノ基、 H R2はハロ(低級)アルカンスルホニルアミノN 基、 R1はアミノ基、保護されたアミノ基、ヒドラジO ノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、保護された
アミノベンゼンスルホニルアミノ基または低級アルカン
スルホニルアミノ基、 R1は保護されたアミノ基または保護された低級P アルキルアミノ基、 R1′はアミン基または低級アルキルアミ7基、P Rlはアシル基、 Q R1′は低級アルキル基を意味する].Q 原料化合物の製造法を以下に詳細に説明する。 鮭盟迭濤 化合物(If−2)またはその塩は、化合物( ff
A−1)A またはその塩を硫#銅とビリジン中で反応させることに
より製造することができる. 化合物(I −11および( II A−2>の好適な
塩としてA は、化合物(1)について例示したようなものが挙げら
れる. 反応温度は特に限定されないが、通常は加温下または加
熱下に反応が行われる. 製』0L旦 化合物(II−3>またはその塩は、化合物( U ,
−1>B またはその塩を化合物(If,−2)と反応させること
により製造することができる. 化合物(II −1)および(IIB−3)の好適な塩
としてB は、化合物(I)について例示したようなものが挙げら
れる. 好適なXBとしては塩素、臭素等が挙げられる. この反応は通常、例えばナトリウム、カリウム等のアル
カリ金属、例えばマグネシウム、カルシウム等のアルカ
リ土類金属、例えば水素化カリウム、水素化ナトリウム
等のそれらの金属の水素化物、例えば炭酸カリウム、炭
酸ナトリウム等のそれらの金属の水酸化物または炭酸塩
、例えばナトノウムメトキシド、ナトリウムエトキシド
、カリウム第三級プトキシド等のアルカリ金属アルコキ
シド、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン等の
トリアルキルアミン、ピフリン等のような塩基の存在下
に行われる. この反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール、
プロパノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、ジ
才キサン、酢酸エチル、ジクロロメタン,N,N−ジメ
テルホルムアミド、ジメデルスルホキシド、ジエチルエ
ーテルのような常用の溶媒中で行われるが反応に悪影響
を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる有機溶媒
中でも反応を行うことができる.上記低級アルキル化剤
が液体である場合には、それを溶媒として使用すること
もできる. 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加温下または
加熱下に反応を行うことができる.艶凰迭S 化合物(If −2)は化合物(no−t)を塩基と反
応さC せることにより製造することができる.この製造法は製
造法10と同様にして行うことができる. 製1u(旦 化合物( II o − 2 )またはその塩は、まず
化合物(n,−t)をアルカリ金属亜硝酸塩と反応させ
、次いで得られる化合物(n,−t)のジアゾ化合物を
還元することにより製造することができる.化合物(1
−1)および( If ,−2)の好適な塩としてD は、化合物(I)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法は製造法6と同様にして行うことができる. 製』集(旦 化合物(If −3)またはその塩は、化合物(IE−
1)E またはその反応性誘導体またはその塩を、化合物( u
E− 2)またはその塩と反応させることにより製造
することができる. 化合物(II −2)および( II E−3)の好適
な塩としてE は、化合物(1)について例示したようなものが挙げら
れる. 化合物(IE−t)の好適な塩としては、製造法4の化
合物(I4−1)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法は製造法4と同様にして行うことができる. 艶jI(旦 化合物(II−3)t’タハソ(7)塩ハ、化合物(
I[ F−1)F またはその反応性誘導体またはその塩を、化合物( n
F− 2>またはその塩と反応させることにより製造
することができる. 化合物(If −2>および(I[F−3)の好適な塩
としてF は、化合物(I)について例示したようなものが挙げら
れる. 化合物(I[F−l〉の好適な塩としては、製造法4の
化合物(If4−1)について例示したようなものが挙
げられる. この製造法は製造法4と同様にして行うことができる. 鮭盟益互 化合物(If−2)またはその塩は、化合物(ff,−
1)G またはその塩を酸化反応に付すことにより製造すること
ができる. 化合物(I −1)および( II ,−2)の好適な
塩としてG は、化合物(1)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法の酸化はーS一基をーS〇一基に酸化し得る
常用の酸化剤により常法で行われる.そのような酸化剤
の好適な例は例えば過沃素酸、ベル才キソ硫酸等または
それらのナトリウム塩またはカリウム塩等の無機過酸ま
たはその塩、例えば過安息香酸、3−クロロ通安息香酸
、通ギ酸、過酢酸、クロロ過酢酸、トリフル才口過酢酸
等またはそれらのナトリウム塩またはカリウム塩等の有
機過酸またはその塩、オゾン、過酸化水素、尿素一過酸
化水素等である. この反応は周期表中のvb群または■b群の金属よりな
る化合物、例えば、タングステン酸、モリブデン酸、バ
ナジン酸等または例えばナトリウム、カリウム等のアル
カリ金属、例えばカルシウム、マグネシウム等のアルカ
リ土金属またはアンモニウム等とのそれらの塩、または
五酸化バナジウムの存在下に行うのが望ましい. この酸化は通常、水、酢酸、酢酸エチル、クロロホルム
、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ジ才キサン、
N.N−ジメチルホルムアミド?ような溶媒中で行われ
るが、この反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、そ
の他のいかなる溶媒中でも反応を行うことができる. 反応温度に特別な制限はないが、通常は常温または冷却
下にこの反応が行われる. 鮭産迭1 化合物(1『2)またはその塩は、化合物( I[ 『
t)またはその塩を酸化反応に付すことにより製造する
こができる. 化合物( H 『1 )および( It 『2)の好適
な塩としては、化合物(!)について例示したようなも
のが挙げられる. この製造法の酸化は−S一基をーSo2一基に酸化し得
る常用の酸化剤により常法で行われる.そのような酸化
剤の好適な例は製造法Gに記載したものと同じものであ
る. 艷盗豊ユ 化合物(1■−2)またはその塩は、化合物(I[エー
1)またはその塩を還元に付すことにより製造すること
ができる. ?合物(Ifエ−1)および(!II−2>の好適な塩
としては、化合物(I)について例示したようなものが
挙げられる. この製造法は製造法5と同様にして行うことができる. 製造法J 化合物(It,−3)またはその塩は、化合物( It
J−1>またはその塩を化合物<ffJ−2)と反応
させることにより製造することができる. 化合物(■■一l)のMの好適なアルカリ金属としては
カリウム、ナトリウム等が挙げられる.化合物< II
,−1 )および( II ,−2)の好適な塩とし
ては、化合物(1)について例示したようなものが挙げ
られる. この製造法は化合物(IFJ−t>と化合物(I,−2
>とを溶媒中で加熱することにより行うことができる. [な溶媒としてはエチレングリコール、2一(2−メト
キシェトキシ)エタノール等が挙げられる. 舅Ji匹 化合物( II K−3)またはその塩は、化合物(
II K−1)またはその塩を化合物(Ifr2)また
はその塩と、例えば塩化アルミニウム等のルイス酸触媒
の存在下に、いわゆるフリーデル・クラフト反応に従っ
て反応させることにより製造することができる。 この製造法に使用される好適な溶媒はニトロベンゼン等
である. 製造法L 化合物(If,−3)およびその塩は、化合物(I[L
−1)またはカルボキシ基におけるその反応性誘導体ま
たはその塩を、化合物(IfL−2>またはアミノ基に
おけるその反応性誘導体またはその塩と反応させること
により製造することができる. 化合物(mL−t>のカルボキシ基における好適な反応
性誘導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化
アミド、活性化エステル等が挙げられる.反応性誘導体
の好適な例としては酸塩化物;酸アジ化物;例えばジア
ルキルリン酸、フェニルリン酸、ジフェニルリン酸、ジ
ベンジルリン酸、ハロゲン化リン酸等の置換されたリン
酸、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、デオ硫酸、硫酸、例
えばメタンスルホン酸等のスルホン酸、例えば酢酸、ブ
aピ才ン酸、酪酸、イン酪酸、ピバリン酸、ベンタン酸
、インベンタン酸,2−エデル酪酸、トノクロロ酢酸等
の脂肪族カルボン酸または例えば安息香酸等の芳香族カ
ルポン酸のような酸との混合酸無水物:対称酸無水物;
イミダゾール、4一置換イミダゾール、ジメチルピラゾ
ール、トリアゾール、テトラゾールまたは!−ヒドaキ
シ−IH−ペンゾトリアゾールとの活性化アミド:また
は例えばシアノメチルエステル、メトキシメチルエステ
ル、ジメチルイミノメチル[(CH3)2哀−C}i−
]エステル、ビニルエステル、プロバルギルエステル、
p−ニトロフェニルエステル、21−ジニトロフエニル
エステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロ
フェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニル
アゾフェニルエステル、フエニルチ才エステル、p−ニ
トロフエニルチオエステル、p−クレジルチ才エステル
、カルボキシメチルチ才エステル、ビラニルエステル、
ピリジルエステル、ビペリジルエステル、8−キノリル
デ才エステル等の活性化エステル、または例えばN,N
−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2−
(IH)一ピリジン、N一ヒドロキシスクシンイミド、
N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシ−IH−
ペンゾトリアゾール等のN−ヒドロキシ化合物とのエス
テル等が挙げられる.これらの反応性誘導体は使用すべ
き化合物( I L− 1)の種類に従ってそれらの中
から任意に選択することができる. 化合物(I[11)およびその反応性誘導体の好適な塩
については、目的化合物《!)について例示したものを
参照すればよい. 化合物(I[L−2>のアミノ基における好適な反応性
誘導体としては、化合物( I[ L− 2>とアルデ
ヒド、ケトン等のようなカルボニル化合物との反応によ
って生戒するシ・冫フの塩基型イミノまたはそのエナミ
ン型互変異性体;化合物(I[,−2)とビス(トリメ
デルシリル)アセトアミド、モノ(トリメチルシリル)
アセトアミド、ビス(トリメチルシリル)R素等のよう
なシリル化合物との反応によって生成するシリル誘導体
;化合物(IL−2)と三塩化燐またはホスゲンとの反
応によって生成する誘導体等が挙げられる. 化合物(ItL−2)およびその反応性誘導体の好適な
塩については、目的化合物(1)について例示したもの
を参照すればよい. 反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、アセトン、ジ才キサン、ア2セトニトリル、
クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒ
ドロフラン、酢酸エチル、N.N−ジメチルホルムアミ
ド、ピリジンのような常用の溶媒中で行われるが、反応
に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる
有#!溶媒中でも反応を行うことができる.これらの常
用の溶媒は水との混合物として使用してもよい.この反
応において化合物(IIL−1)を遊離酸の形またはそ
の塩の形で使用する場合には、N.N−ジシクロへキシ
ル力ルポジイミド;N−シクロヘキシノレーN′一モル
ホリノエチノレカノレボジイミド;N−シクロヘキシル
ーN’−(4−ジエチルアミノシクロヘキシノレ)カル
ボジイミド.N,N’−ジエテノレ力ルポジイミド.N
.N’ −ジイソプ口ビノレカノレホシイミFAN一エ
チノレーN’−(3−ジメチルアミノブロピル)カルボ
シ゛イミド;N.N’ 一カルポニルビスーN一(2−
メチルイミダゾール):ペンタメチレンケテンーN−シ
クロヘキシルイミン;ジフエニルケテンーN−シクロヘ
キシルイミン;エトキシアセチレン;1−アルコキシー
1−クロロエチレン;亜リン酸トリアルキル;ボリリン
酸エチル;ボリリン酸イソブロピル;オキシ塩化リン(
塩化ホスホリル);三塩化リン;塩化チ才二ル;塩化才
キサリル;例えばクロロギ酸エテル、クロロギ酸イソブ
ロビル等のハロギ酸低iアルキル:トリフエニルホスフ
ィン;2−エチル−7−ヒドロキシベンズイン才キサゾ
リウム塩;2−エチル−5−(m−スルホフェニル)イ
ンオキサゾリウムヒドロキシド分子内塩;x−(p−ク
ロロベンゼンスルホニル才キシ)−6−クロロー1H−
ペンゾトリアゾールiN.N−ジメチルホルムアミドと
塩化チ才二ル、ホスゲン、クロロギ酸トリクロロメチル
、才キシ塩化リン、塩化メタンスルホニル等との反応に
よって調製したいわゆるビルスマイヤー試薬等のような
常用の縮合剤の存在下に反応を行うのが望ましい. 反応はまたアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素
塩、トリ(低級)アルキルアミン、ピリジン、N−(低
級)アルキルモルホリン、N.Nージ(低級)アルキル
アミン等のような無機塩基または有機塩基の存在下に行
ってもよい. 反応温度は特に限定されないが、通常は
冷却下ないし加温下に反応が行われる. (以下余白) 型m 化合物<If−2)またはその塩は、化合物(ItM−
1)H またはアミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩
をそのアミノ基の保護反応に付すことにより製造するこ
とができる. 化合物(I −1)および]『2〉の好適な塩としてH は、化合物(1)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法は製造法8と同様にして行うことができる. 髪盈迭! 化合物(If−2>またはその塩は、化合物( If
N−t)N またはその塩をアミノ基のスルホン化に付すことにより
製造することができる. 化合物(If −1)および(II,−2)の好適な塩
としてN は、化合物(I)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法はハロ(低級)アルカンスルホン化剤を使用
し、製造法9と同様にして行うことができる. 製造法0 化合物( II。−2>またはその塩は、化合物( r
i o−t>またはその塩をN−クロロスクシンイミド
と反応させることにより架造することができる.化合物
( I[ o−t )および( If o−2)の好適
な塩としては、化合物(1)について例示したようなも
のが挙げられる. 艷亜迭ヱ 化合物(II,−2>またはその塩は、化合物( II
,−t)1 またはその塩をR,のアミノ保護基または、低級アルキ
ルアミノ保護基の脱離に付すことにより製造することが
できる. 化合物( II ,−1 )および( I[ ,−2)
の好適な塩としては、化合物(1)について例示したよ
うなものが挙げられる.この製造法は製造法7と同様に
して行うことができる. 製JJL衰 化合物( I[ o− 2 )またはその塩は、化合物
(IQ−1)またはその塩をアルキル化反応に付すこと
により製造することができる. 化合物( IfQ−1)および( I[ Q−2)の好
適な塩としては、化合物(1)について例示したような
ものが挙げられる. このアルキル化反応に使用されるアルキル化剤としては
、例えば硫酸ジメチル、硫酸ジエチル等の硫酸ジ(低級
)アルキル、例えばジアゾメタン、ジアゾエタン等のジ
アゾ(低級)アルカン、例えば沃化メチル、沃化エチル
等の低級アルキルハロケン化物、例えば9−トルエンス
ルホン酸メチル等のスルホン酸低級アルキル等が挙げら
れる. 硫酸ジ(低級)アルキル、低級アルキルハロゲン化物ま
たはスルホン酸低級アルキルを使用する反応は、水、ア
セトン、エタノール、エーテル、ジメチルホルムアミド
のような溶媒中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒であれば、その他のいかなる溶媒中でも反応を行
うことができる. この反応は製造法1で述べた無機塩基または有機塩基の
ような塩基の存在下に行うのが望ましい. 反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし溶媒の沸
点付近までの加熱下に反応が行われる.ジアゾアルカン
を使用する反応は通常、エーテル、テトラヒド口フラン
のような溶媒中で行われる. 反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下または常
温で反応が行われる. 製亘益1 化合物(II −3)またはその塩は、化合物(n,−
t)R またはその塩を化合物(IIR−2>またはその塩と反
応させることにより製造することができる.化合物(I
I −1)ないし( If ,−3)の好適な塩として
R は、化合物(1)について例示したようなものが挙げら
れる. この製造法は製造法Bと同様にして行うことができる. 目的化合物および医薬として許容されるその塩類は新規
であり、薬理作用を発揮して例えば変形性関節症、腰痛
症、肩甲上腕関節周囲促、月経痛、無熱性中耳炎、前立
腺痛、結節性紅斑、庖疹、偽性痛風、痛風様発作等の疼
痛または炎症性疾患、自己免疫疾患、例えばリウマチ性
関節炎等のリウマチ、腎炎、例えば特発性血小板減少性
紫斑病、続発性血小板減少性紫斑病等の血小板減少症等
の治療および予防に使用される. 目的化合物(I)の有用性を示すために、目的化合物(
1)の鎮痛作用、抗炎症作用、抗リウマチ作用、抗腎炎
作用、および血小板数増加作用を以下説明する. L息立1 鮫監ユ マウスにおける酢酸ライジング方法 ddy系雄性マウスを1群当り10匹使用した.0.6
%酢酸を腹腔内注射してマウスにライジングを発生せし
めた.動物を酢酸注射後3分から13分まで観察し、ラ
イジングの総数を記録した.薬物を酢酸注射1時間前に
経口投与した.投与動物のライジング回数を対照動物と
比較した. 結果 1 32
30.45 32
74.56 3
2 36. 48
32 39.311
32 69
.112 32
52. 613
32 60.757
32 54. 75
9 32
70. 2逍』1口見居 KM2 ラットにおけるカラゲニンによる足跳浮腫に
対する効果 方法 スプラーグ・ドウリー系雄性ラットを1群当り10匹使
用した.24時間絶食後、ラットの右後足の足底表面下
に1%7−カラゲニン0.1−を皮下注射した.動物に
カラゲニン注射1時間前に試験薬物を経口投与した.薬
物投与直前とカラゲニン注射3時間後との右後足の体積
差を浮腫の指標として用いた. 結果 50 27.1 50.0 40.5 59.1 72.7 57.1 52.2 48.0 28.6 42、0 37、5 27.1 25.0 62.7 57.1 57.1 39.2 抗ユご二LL怪E 攻慧ユ マウスのコラーゲン誘起関節炎に対する効果 方法 DBA/ 1系雄性マウスを1群当り8匹使用した.■
型ウシフラーゲンを0.1M酢酸に溶解し、フロイント
の完全アジュバント(CFA)に乳化した.マウスに2
004のCFA中I型コラーゲンを尾の基部に皮内注射
して初回抗原刺激を受けさせた.マウスに21日後に同
じ方法で誘発させた.誘発10日目から薬物を1日1回
、4週間経口投与し、マウスを毎週関節炎の徴候を観察
して検査した.薬物の効果を評価するために関節炎指数
を使用した.関節炎指数は各肢に重症度0−3の点数を
付し、それは関節腫脹および紅斑(第1段階)、目に見
える関節障害(第2段階)および検出可能な関節強直症
(第3段階)を表わすが、四肢の点数を合計することに
より得た. 結果 6 100
21.37 100
40.08
10G 92.69
100
33.812 100
56.913
100 46.219
10G
27.920 100
27。l21
10G 61.822
100 1
6.937 100
19. 151
100 29.0(2)方法 DBA/ 1系雄性マウスを1群当りlO匹使用した.
■型ウシフラーゲンを0.1M酢酸に溶解し、フロイン
トの完全アジュバント(CFA)に乳化した.マウスの
尾の基部にCFA中I型コラーゲン125κを皮肉注射
して初回抗原刺激を受けさせた。21日後に同じ方法で
誘発した.1!発の日から薬物を1日1回、4週間経口
投与し、マウスを毎週関節炎の徴候を観察して検査した
.薬物の効果を評価するために、関節炎指数を使用した
.関節炎指数は各肢に重症度0−3の点数を付し、それ
は関節腫脹および紅II(第1段階)、目に見える関節
障害(第2段階)および検出可能な関節強直症(第3段
階)を表わすが、四肢の点数を合計することにより得た
. 結果 32 44 100 93 100 32 32 19 100 37 100 60 100 31 100 30 100 38 100 17 100 47 100 21 100 59 100 46 抗j]動笠浬 隻監1 塩素GVH疾患(腎炎)に対する効果方法 生後6週齢の( 57BL/ 6 XDBA/ 2 )
F1およびDBA/ 2系雄性マウスを使用した.対
宿主性移植片疾患( GVH )を( 57BL/ 6
XDBA/ 2 ) F 17ウスにDBA/ 2牌
細胞を5日間置いて2回注射することにより誘起した.
各注射には細胞5X107個が含まれていた.2回目の
細胞注射3日後から薬物を1日1回、8週間経口投与し
た.腎疾患を評価するために、最後の細胞注射後8週間
目に蛋白尿を測定した.尿中血清アルブミン濃度を家兎
抗マウス血清アルプミン抗血清を使用して、単純放射免
疫拡散法により定量した.マウスを1群当りlO匹使用
した.化合物の抗腎炎作用を蛋白尿の抑制により表わし
た. (以下余白) 結果 直沙141L虹企B ILi:マイトマイシンCによって減少した血小板数に
対する増加効果 方法 生後6または7週齢のddy系雄性マウスに試験化合物
を1日1回、5日間経口投与した.動物は1群10匹と
して使用した.マイトマイシンCを3. 2mg/ k
gの投与量で、試験化合物の最初の投与後08目、2日
目および4日目にマウスに静脈内投与した.血小板数を
試馳化合物最終投与5日後にマウスの眼窩叢から採血し
た血液について計数した.血小板は自動血液分析器によ
り計数した。 各群の血小板数を試験化合物非投与群から得られた血小
板数に基づいて、計算した. (以下余白) 結果 50 32
18660 32
16897 32
17498 3
2 139100
32 151101
32 1441
02 32
181103 32
159治療用として投与するために、目的化合
物(1)および医薬として許容されるその塩類は、粉剤
、微細顆粒、顆粒、錠剤、糖衣錠、マイクロカプセル、
カプセル、坐剤、溶液、懸濁液、エマルジョン、シロッ
プ等のような常用の医薬組放物の形として使用される.
所望の場合には、希釈剤または例えばスクロース、乳糖
、デンプン、結晶性セルロース、低11!換ヒドロキシ
プ口ピルセルロース、合成ケイ酸アルミニウム等の崩壊
剤、例えばセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシ
ブ口ピルセルロース、ヒドロキシプ口ビルメチルセルロ
ース、ボリブロビルピロリドン、ポリビニルビロリドン
、ゼラチン、アラビアゴム、ボリエテレングリコール等
の結合剤、着色剤、甘味剤、例えばステアリン酸マグネ
シウム等の滑剤等が前記組成物に配合されていてもよい
. この発明による前記組成物の投与量は患者の年齢、体重
、条件等によって変化するが、一般的には経口投与によ
り目的化合物ク!〉またはその塩として1日投与量10
0mgないし10g1好ましくは同じ基準で1gないし
5gが、1日当りエないし3回の間隔で投与される.代
表的な単位投与量は50mg, 100mg, 200
mg、500mg, 1 g等とすればよいが、これら
は単なる例であってこれらに限定されることはない. 以下製造例および実施例に従ってこの発明をさらに詳細
に説明する. 製』1艷1 4−メトキシフェノール(5.2g)のN,N−ジメテ
ルホルムアミド( 100+nR )溶液に、水素化ナ
トリウム(1.09g)を攪拌下5゜Cで少量ずつ分割
して加える.混合物を室温で1時間攪拌後、4ークロロ
ニト口ベンゼン(6g)を加える.反応混合物を撹拌下
100℃に1時間加熱し、反応混合物を攪拌下氷水中に
注ぐ.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−メトキシ
ー4′一二トロフエニル工一テル(9.65g、収率1
03. 3%)を得る.融点: 106−107”C IR (スジ望一ル) 1610. 1590.
1505. 1380.1345 am−1 NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) 3
.76 (3H.s). 6.70−7.20 (6H
.m), 8.15 (2H.d.J=9Hz)Mas
s : 246(M+1). 245(M). m/e
230艷泣負ユ 4−アミノー4′−ヒドロキシジフェニルエーテル(4
.7g)、4−クロロニトロベンゼン(3.3g)およ
び炭酸カリウム(3.5g)のN.N−ジメデルホルム
アミド( 3511111 )中混合物を攪拌下140
゜Cに2.5時間加熱する.反応混合物を水冷攪拌下水
中に注ぎ、水冷下に1時間攪拌する.沈殿を濾取、水洗
、真空乾燥して、4−(4−アミノフェノキシ)−4’
一二トロジフエニルエーテル(6.8g、収率101
.5%)を得る.融点: 134”C IR (スジ身一ル) 3450. 3320.
161(1. 1590. 1510.150
5. 1380. 1355 am−1NMR (DM
SO−d6.90MHz.ppa+) 3.57 (2
H.bs), 6.60(2H.d.J=9Hz).
6.83 (2H.d.J=9Hz>, 6.80(2
H.d.J;9Hz>. 6.87 (2H.d.J=
9Hz>. 6.90(2}1,d.J=9}1z).
8.1j) (2H.d.J=9}1z)Mass
: 323(M+1). 322(M). m/e 2
92, 276.201. 108 製』I41 4−ニトロ−4′−ジメタンスルホニルアミノジフエニ
ルエーテル(8.3g)のテトラヒド口フラン( 24
0111 )と水( 80111 )との混合物溶液を
攪拌下IN*酸化ナトリウム水溶液でpH9. 5に調
整する.混合物を40℃で8時間攪拌する.さらにIN
水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応混合物のpHを9
−9.5に維持する.反応混合物を減ff濃縮し、残渣
を水冷攪拌下10%塩酸でpH2. 0に!ll1!1
する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して固体を得る.固
f本をシリカゲノレ(シリカゲル6G, 70−230
メッシュ、メルク社製)(250g)を使用するカラム
クロマトグラフィーに付し、クロロホルムとアセトンと
の混液(25:1゜)で溶出する.目的化合物を含む画
分を合わせ、減圧濃縮して、4−ニトロ−4′−メタン
スルホニルアミノジフエニルエーテル(5.8g、収率
78.4%)を得る.融点=162℃ IR (スジ砕一ル) 3250. 1610.
1590. 1510. 1380.1330
cm−1 NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm)
3.00 (3H.s). 7.05(2H.d
,J=9Hz). 7.10 (2H.d.J=9
Hz>. 7.25(2H.d.J=9Hz),
8.15 (2H.d.J=9Hz).9.67 (
IH.bs) Mass : 309(M+1). 308(M).
m/e 229. 185製』l乱1 i化4−ニトロ−4′−ジメタンスルホニルアミノジフ
ェニル(60g)のテトラヒド口フラン( 750mQ
)と水( 200mm )との混合溶媒中混合物を攪
拌下40%水酸化ナトリウムでpH9−10にy4整す
る.さらに1N水酸化ナトリウム水溶液を使用してpH
9−10に保ちながら、混合物を40℃で11時間J%
!拌する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水冷攪拌下
希塩酸でpH2. 0にiiyする.沈殿を濾取、水洗
、真空乾燥して、硫化4−ニトロ−4′−メタンスルホ
ニルアミノジフエニル(45.0g, 収率93.8%
)を得る. 融点: 160−162℃ IR (スジ*−4) 3250. 1600,
1580. 1520. 1345,1160
. 1145 am−’ NMR (DMSO−d6,60MHz,ppm> 3
.10 (3H,s). 7.27(2H,d,J=9
Hz). 7.33 (2H,d,J:9Hz), 7
.60(2H.d.J=9Hz>, 8.13 (2H
.d,J:9Hz>. 9.17(LH.s) Mass : 325(M+1). 324(M),
m/e 245製jLl互 4−アミノー4′ 一二トロジフェニルエーテル(3g
)および濃塩酸( 1211111 )の酢酸(251
1111 )と水( 50ml+ )との混合溶媒中混
合物に、亜硝酸ナトノウム(1.08g)の水(511
111)溶液を攪拌下5℃で滴下する.混合物を5℃で
1時間攪拌後、反応混合物に塩化第一スズ(8.8g)
の濃塩酸(451Q )溶液を攪拌下0℃で滴下する.
混合物を0℃で2時間攪拌し,室温で一夜放置する.沈
殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−ヒドラジノ−4′
一二トロジフェニルエーテル・塩酸塩(3.tsg,
収率86.5%)を得る. 融点: 181”c IR (スジ會一ル) 265G−2400.
1610. 1590. 1515.1505.
1380. 1350 cwr−’NMR (DMSO
−d6.90MHz.ppm) 7.00 (2H.d
.J:9Hz).7.03 (2H.d.J=9Hz)
. 7.09 (2H.d.J=9Hz).8.15
(2H.d.J=9Hz). 10.25 (2H,b
s)Mass : 246(Ma1). 245(M)
. ale 229. 214製』I艷互 5i化4−ニトロ−4′−アミノジフエニル(13g)
のN.N−ジメチルアニリン( 2amn )中混合物
に、塩化4−アセトアミドベンゼンスルホニル(llg
)を攪拌下80゜Cで少量ずつ分割して加える.a合物
を攪拌下90℃に2時間加熱する.反応混合物を水冷攪
拌下希塩酸中に注ぐ.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して
、4−アセトアミドーN−(4−(4−ニトロフェニル
デオ)フェニル]ベンゼンスルホンアミド(19.5g
、収率93.0%)を得る. 融点: 218−220℃ IR (スジl−4) 3400. 3200.
1695. 1600. 1595.1535
. 1345 am’ NMR (DMSO−d6.90MHz,ppm) 2
.07 (3H.s). 7.17(2H.d.J:9
Hz). 7.25 (2H.d,J=9Hz). 7
.48(2H.d.J:9Hz). 7.77 (4H
.s). 8.17 (2H.d.J=9HZ). 1
0.27 (IH.!l), 10.47 (IH.S
)Mass : 444(M+1). 443(M).
rrr/e 413. 23g,245. 199 製JLtヱ 4−アセトアミドベンゼンスルフィン酸ナトリウム(8
g)をエチレングリコール(3.0m)と2−(2−メ
トキシエトキシ)エタノール(5Inll)との混合物
に油浴中加熱して溶解する.次いでこの溶液に4−二ト
ロ−2−メタンスルホニルアミノクロロベンゼン(8.
0g)を加える.混合物を140− 145℃に連続攪
拌下7時間加熱し、次いで一夜放冷する.水( 20a
ll ’)を加えた後、ペースト状塊を破砕し、濾取、
水洗、真空乾燥して、4一アセトアミドー4′一二トロ
−2′一メタンスルホニルアミノジフエニルスルホン(
8.50g、収率68.6%)を得る. 融点:255゜C(分解) IR (スジ1−ル) 3270. 1680.
1615. 1595. 1530.1350
. 1330 csa−’ NMR (CF3COOH.60MHz.ppm) 2
.43 (3H.s). 3.36(3H.s). 7
.73 (2H.d.J=8Hz). 7.90 (2
1.d.J=8Hz). 8.10 (2H.d,
J=8Hz). 8.25 (1B.d.J=8H
z). 8.90 (IH.bs). 9.20 (l
H.bs)叡』I艷互 4−アセトアミドベンゼンスルフィン酸ナトリウム・三
水化物(10g)をエチレングリフール75一と2−(
2−メトキシエトキシ)エタノール120mQとの混
合物100−に油浴中加熱して溶解すル.次いで3.4
−ジクロロニト口ベンゼン( 8.2g)を溶液に加え
る.混合物を連続攪拌下140゜Cに6.5時間加熱し
、次いで一夜放冷する.水200mQを加えた後、混合
物を酢酸エチルで抽出し、水洗して硫酸マグネシウムで
乾燥する.有機層を減圧a總して固体を得る.固体をシ
リカゲル(和光ゲルC − 200、100− 200
メッシュ、和光純薬製)(400g)を使用するカラム
クロマトグラフィーに付し、酢酸エチルとn−へキサン
との混液(1: 1 v/v − 5 : 1 v/v
)で溶出する.目的化合物を含む画分を合わせ、減圧濃
縮して、4−アセトアミドー2′ −クロロー4′一二
トロジフエニルスルホン(6.75g,収率48.9%
)を得る.融点+ 190−192°C IR (スジ碑一ル’) 3370. 1705
. 1595. 1535. 1405.135
5. 1325. 1155 cm−’NMR (DM
SO−d6.90MHz.ppm) 2.11 (3H
.s). 7.66−7.96 (4H.m), 8
.26−8.51 (3H.m). 10.36(
LH. bs) Mass : 355(Ma1). 354(M)
. m/e 314. 312. 156製』U
艷エ 4−アセトアミドベンゼンスルフイン酸ナトリウム・二
水化物(2.6g)をエテレングリコール75一と2−
(2−メトキシエトキシ)エタノール12〇一との混合
物3mlに油浴中加熱して溶解する.次いで5−クロロ
ー2−ニトロアニソール(1.9g)を溶液に加える.
混合物を140− 145℃に連続攪拌下4時間加熱し
、次いで一夜放冷する.水5I1l!を加えた後、ペー
スト状塊を破砕し、吸引濾過して熱水で洗浄する.次い
で固体を100一フラスコに移し、エタノール(201
11 )中15分間還流する.冷後、沈殿を吸引濾過し
てエタノールで洗浄し、引続いてエーテルで洗浄して、
4−アセトアミド−3′−メトキシー4′一二トロジフ
ェニルスルホン(0.85g,収率24.3%)1%る
. M点: 190−191”C IR (スジa−IL) 3350. 1705
. 1607. 1590. 1530.138
G. 1310. 1265 crm−’NMR (D
MSO−d6.60MHz.ppm) 2.10 (3
H.s). 4.07(3H.s). 7.50−8.
13 (7H.m). 10.4 (IH.bs)型1
ul凶 4−ニトロ一N−メチルアニリン( 1.6g )およ
びN.N−ジメチルアニリン(5mQ)の混合物に、塩
化4−アセトアミドベンゼンスルホニル(2.3g)を
少量ずつ分割して攪拌下90℃で加える.混合物を90
゜Cに1.5時間加熱し、次いで水冷攪拌下6N塩酸で
pH1.0に調整する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥し
て、4−アセトアミドーN一メチルーN−(4−二トロ
フエニル)ベンゼンスルホンアミド(2.38g,収率
68.0%)を得る.融点=218℃ IR (スジ昏−ル) 3350. 1675.
1595. 1530, 1375.1355
arm−’ NMR (Dl’!50−d6.90MHz.ppa+
> 2.06 (3H.s). 3.18(3H.s)
. 7.39 (2H.d.J=9Hz). 7.43
<2H.d.J=9Hz). 7.70 (2H.d
.J=9Hz). 8.10 (2H.d. J=9H
z ) 製1u4■ 4−ニトロアニリン(0.14g)とN.N−ジメチル
アニリン(0. 5111 )との混合物に、塩化4−
アセトアミドベンゼンスルホニル(0.23g)を攪拌
下90℃で少量ずつ分割して加える.混合物を90℃で
2時間攪拌し、6N塩酸で水冷攪拌下pH1。0に調整
し、次いで冷却下3.5時間攪拌する.沈殿を濾取、水
洗、真空乾燥して、4−アセトアミド−N−(4−ニト
ロフェニル)ベンゼンスルホンアミド(0.23g,収
率69.7%)を得る.融点:250℃ IR (スジa−4) 3350. 3150.
1695. 1595. 1525.1380
. 1345 cm−’ NMR (DMSO−d6.9011Hz.ppm)
2.05 (3H.s).− 7.23(2H.d.J
=9Hz). 7.70 (4H.s), 8.05
(2H.d,J=9Hz). 10.25 (LH.s
). 11.05 (11,s)Mass : 3
36(M+1). 335(M). m/e 30
3. 286製1d艷4 a化4−ニトロ−4′−メタンスルホニルアミノジフエ
ニル(6g)のジクロ口メタン( 6011111 )
溶液に、3−クロロ過安息香酸(5.1g、純度80%
)のジクロ口メタン( 501lQ )溶液を5゜C未
満の温度で攪拌下に滴下する.混合物を5℃未満の温度
で2時間攪拌し、反応混合物を10%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、次いで水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
する.硫酸マグネシウムを濾去後、濾液を減圧下に蒸発
乾固して固体を得る.固体をシリカゲル(シリカゲル6
0, 70−230メッシュ、メルク社製)(200g
)を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸上
チルとべ冫ゼンとの混液(1:3)で溶出する.目的化
合物を含む画分を合わせ、減圧下に蒸発乾固して、4−
ニトロ−4′一メタンスルホニルアミノジフェニルスル
ホキシド(3g1収率47.6%)を得る.融点F 1
57−158℃ IR (スジI−4> 3300. 1660,
1605. 1595. 1525,1350
. 1300 cm” NMR (DMSO−da.90MHZ.ppm) 3
.06 (3H,s). 7.30(2H,d.J=9
Hz). 7.70 (2}1.d,J:9Hz).
7.90(2H,d.J=9}1z), 8.3
0 (2H.d.J=9Hz>. 11.60(IH
.s) Mass : 340(M), tale 32
4. 292. 218製造例l3 4−アセトアミドーN−(4−(4−二トロフエニルテ
才)フェニル]ベンゼンスルホンアミ}’(8g)のジ
クロ口メタン( 801Q ) ,クロロホルム( 8
0mll )、酢酸エチル(50111 )およびN.
N一ジメデルホルムアミド( 301111 )の混合
物溶液に、3−クロロ過安息香酸(3.9g,純度80
%)の酢酸エチル( 501119 )溶液を水冷攪拌
下5゜C未満の温度で滴下する.混合物を5゜C未満の
温度で3.5時間攪拌し、次いで沈殿を濾取して酢酸エ
チルで洗浄し、真空乾燥して、4−アセトアミドーN−
[4−(4−ニトロベンゼンスルホニル)フエニル]ベ
ンゼンスルホンアミFC4.2g,収率50.7%)を
得る. 融点: 260−261℃ IR (ス九−ル) 3250. 3120,
1680. 1610, 1595,1535.
1350 cm−’ NMR (DMSO−d6.90MHz,ppm) 2
.03 (3H.s). 7.20(2H.d.J=9
Hz). 7.65 (2H,d.J=9Hz).
7.70(4H,s), 7.90 (2H.d.
J:9Hz>. 8.33 (2H.d,J:9Hz
). 10.27 (LH.a), IQ.63
(LH.s)Mass : 459(M). +
n/e 443. 413. 245製造例14 4−アセトアミド−N−[(4−ニトロフェニルチ才)
フェニル]ベンゼンスルホンアミト(6g)の酢酸エチ
ル( 12011LQ )とN.N−ジ,+lJL4ル
ムアミド( 50mll )との混合物溶液に、3−ク
ロロ過安息香酸(3.0g、純度80%)の酢酸エチル
( 501111! )溶液を攪拌下5゜Cで滴下する
.混合物を室温で2.5時間攪拌する.反応混合物を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、塩化ナトリウム
を飽和させる.混合物を酢酸エチルで抽出し、水洗して
硫酸マグネシウムで乾燥する.硫酸マグネシウムを濾去
後、濾液を減圧下に蒸発乾固して、4−アセトアミドー
N−[4−(4−ニトロベンゼンスルホニル)フエニル
]ベンゼンスルホンアミド(6.0g、収率93.3%
)を得る.(以下余白) 融点265−270℃(分解) IR (スジa−ル) 3350、 3150、 1
675. 1610, 1595.1530, 1
380. 1350 cm−’NMR (DMSO−d
6,60MHz,ppm> 2.10 (3H,s),
7.37(2H,d.J=9Hz>. 7.80
(4H.s). 7.93 (2H,d,J=9Hz
). 8.13 (2H.d,J=9Hz), 8
.40 (2H,d,J:9}1z). 10.40
(IH.s), 11.20 (IH,bs).M
ass : 476 (Ma1). 475 (
M). m/e 433. 368.341,27
8, 198 製造例15 鉄粉(t3.sg、60メ/シュ)と塩化アンモニウム
(1.36g)トノ−cl’/−ル(140mQ)およ
び水( 3511IQ )の混合溶媒中混合物に、4−
メタンスルホニルアミノニトロベンゼン(13.6g)
を攪拌下80゜Cで少量ずつ分割して加える.混合物を
攪拌下8時間還流する.反応混合物はを吸引濾過し、濾
戒を減圧濃縮する。残渣を水で粉砕する.沈殿を濾取、
水洗、真空乾燥して、4−メタンスルホニルアミノアニ
リン(5.44g、収率46.5%)を得る. 融点:85−98℃ IR (スジa−ル’) 3470, 3400
. 3300, 1630. 1520.138
0. 1315. 1150 cm−’NMR (D
M50−d6.90MHz,ppm> 2.76
(3}1.s). 4.95(2H.bs).
6.46 (2H,d,J=9Hz), 6.86
(2H.d,J=9HZ).8.80 (IH.s)
Mass : 187 (M+1), 186
(M). m/e 107. 80製1u艷■ アセトアニリド(1.7g)、無水塩化アルミニウム(
10.05g )およびニトロベンゼン(1rnQ)
の混合物を室温で30分間攪拌する.混合物を100℃
で攪拌し、次いで塩化3−メチル−4−二トロヘンゾイ
ル(2.75g)を加える.混合物を100゜Cで2.
5時間攪拌し、水冷攪拌下水中に注ぐ.沈殿を濾取して
水および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、真空
乾燥して、粗製4−アセトアミドー3′−メチル−4′
一二トロジフエニルケトン(4.25g、収率113.
3%)を得る.融点255℃(分解) IR (スジi−JL) : 3330, 1
6g0. 1650. 1590, 1520,
1350. 1310. 1265. 1150 cm
−’NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm>
2.10 (3H.s). 2.56(3H,s).
7.5!lr8.13 (7H.m), 10.
30 (LH,bs)Mass : 299 (M+
1>. 298(M). m/e 257. 2
56.120 製1u4■ 製造例27と同様にして、4−クロロ−2−シアノニト
口ベンゼンおよび4−ニトロフェノールから出発して、
3−シアノー4.4′−ジニトロジフエニルエーテル(
6.27g、収率42.8%)を得る. 融点: 120−125℃(分解) IR (ス九−ル) : 1610. 159
0, 1520. 1345.1250 am”” NMR (DMSO−d6.90MHz,ppm) :
7.30−7.50 (3H,m).7.63 (I
H.dd.J=3Hz. 6Hz>. 8.00 (I
H,dJ=3Hz>. 8.20−8.40 (4H.
m>Mass : 286 (M+1). 285 (
M), m/e 260. 230製』U艷l 4−アミノー3−クロロニト口ベンゼン(12.73g
〉の酢51 ( 70mm )中混合物に、塩化4−ア
セトアミドベンゼンスルホニル( 17.32g )お
よび無水酢酸ナトリウム(21g)を攪拌下100゜C
で加える.涙合物を攪拌下氷水中に注ぐ。沈殿を濾取、
水洗、真空乾燥して固体を得る.固体をシリカゲル(シ
リカゲル60, 70−230メッシュ、メルク社製)
( 450g )を使用するカラムクロマトグラフィ
ーに付し、ジクロロメタンとアセトンとの混液(10:
1)で溶出する.目的化合物を含む画分を合わせ、減圧
濃縮して、4−アセトアミドーN−(2−クI1ロ−4
−二トロフエニル)ヘンゼンスルホンアミド(2.70
1H、収率l3.8%冫を得る.融点210−213℃ IR (ス九−ル) 3350. 1700.
1595. 1535.1345 cm−’ NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm) 2
.10 (3H.s). 7.62(IH,d,J=8
Hz>. 7.80 (4H.bs), 8.20 (
2H.d.J=8Hz), 12.35 (1}
1.s)Mass : 373 (M+3>.3
72 (M+2>.371 (M+1).370 (
M), m/e 327. 262, 206.
198製造例19 4−ニトロ−2−クロローN−メチルアニリン( 16
.0g )およびジ〆チルアニリン( aomn )の
混合物に、塩化4−アセトアミドベンゼンスルホニル(
19.0g )を攪拌下90℃で少量ずつ分割して加
える.a合物を90゜Cに3時間加熱し、水冷攪拌下6
N塩酸でpH1.0に調整する。沈殿を濾取、水虎、真
空乾燥して固体を得る.固体をシリカゲル(和光ゲルC
− 200、100−200メノシュ、和光純薬社製
)(370g)を使用するカラムクロマトグ2フィーに
付し、クロロホルムとメタノールとの混1&(30:1
>で溶出1る.目的化合物を含む画分を合わせ、減圧濃
縮して、4−アセトアミド−N一(2−クロロー4−ニ
トロフエニル)−N−メチルベンゼンスルホンアミド(
2、95g1収率9,5%)を得る. 融点148−150’C IR (スジi−J ’ 3350. 171
0, 1685, 1595. 1535135
0. 1315 crth−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.12 (3H.s), 3.15(3H,s).
7.01−7.93 (7H,m). 10.3
7 (IH.bs)Mass : 385 (M+
2). 384 (M+1). 383 (M).
m/a 369, 318, 304製造例20 3.4−ジクロロニト口ベンゼン(5.71)li!酸
カリウム(6.0g)とのN.N−ジメチルホルムアミ
ド( 4511111 ”)中混合物に、4−ニトロチ
才フェノール(5.Og)を攪拌下窒素ガスを吹込みな
がら加える.混合物を攪拌下窒素ガスを吹込みなから9
0’Cに2,5時間加熱する.反応混合物を氷水中に注
ぎ、溶液を水冷下IN水酸化ナトリウム水溶液でpH1
0に調製する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、硫化
2−クロロ−4,4′−ジニトロジフェニル(5.5g
)(融点144−146℃)を得る.上記濾液をクロロ
ホルムで抽出して水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥する
.硫酸マグネシウムを濾去後、濾液を減圧濃縮して、硫
化2−クロロ−4.4′−ジニトロジフエニル(2.1
g,融点143一144℃)を得る. IR (スジa−4) 1600. 1570.
1525, 1510,1345 cm”” NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm),
7.43 (LH.d.C9Hz),7.73 (2}
1.d,J:9Hz>, 8.10−8.50 (4
H.m)Mass : 314 (M+3>,
313 (M+2). 312 (Ma1),311
(M). m/e 280. 217梨1己4
麩 硫化2−クロロ−4.4’ −’,;ニトロジフェニル
(5.4g)のジクロロメタン( 55ml! )溶液
に、3−クロロ過安息香#(4.1g)のジクロ口メタ
ン( 70mQ )溶液を水冷攪拌下5°Cで滴下する
.混合物を水冷下5℃で3時間攪拌する.反応混合物を
I N*酸化ナトリウム水溶液および水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥する.硫酸マグネシウムで濾去後、
濾液を減圧濃縮して、2−クロロー4.4′ −ジニト
ロジフェニルスルホキシド(5.55g,収率97、9
%)を得る.融点160− 161゜C(分解) IR (X!;*−4) 1605, 1545
. 1520. 1370−1345 am−’
NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) 8
.07 (3H.d,J=9Hz).8.20−8.5
0 (4H.a+) Mass : 329 (M+3>. 328
(M+2). 327 (Ma1).326 (M)
. vale 310. 280製造例22 4−ニトロアニリン(5.0g)のテトラヒドロフラン
( 50ml )および水( 2SIIQ )の混合物
溶液に、塩化4−ニトロベンゾイル(9.0g)を水冷
攪拌下、lO%炭酸ナトリウムでpHを8−9の間に保
ちながら滴下する.混合物を同条件で3時間攪拌し、威
圧濃縮する.残渣を水で粉砕する.沈殿を濾取して水酸
化ナトリウム水溶液、希塩酸および水で洗浄し、真空乾
燥して、4.4″ −ジニトロペンズアニリド(6.6
81収率64.2%)を得る. 融点265−268℃(分解) IR (Xジ@−1) : 3375. 16
85. 1615. 1600. 1550.1
340 cm−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm),
7.92−8.50 (8H.m).11.00 (L
H.s) Mass : 288 (M+1).287
(M).m/e 150.120,104 製1U艷η 塩化4−ニトロベンゾイル(6.5g)、2−クロロ−
4−ニトロアニリン(6.1g)および1.8一ジアザ
ピシク口[5。4.0コー7−ウンデセン(6.511
11)(7)ヘキサメfルホスホラミド( 65ml1
)中混合物を攪拌下100°Cに6.5時間加熱する
.反応混合物を攪拌下氷水中に注ぐ。沈殿を濾取してI
N水酸化ナトリウム水溶液、10%塩酸および水テ洗浄
し、真空乾燥して,4.4’ −ジニトロ−2′−クロ
ロペンズアニリド(6.7g,収率59,5%)を得る
. 融点194− 198゜C IR (スジシール”) 3400. 1695
, 1605. 1595, 1515.133
0 am’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm).
8.10−8.50 (7H,m),10.70 (I
H.s) Mass : 324 (M+2). 323 (
M+1). 322 (M).m/a 286.15
0 製10艷ハ 硫化4−ニトCl−4’ −アミノジフエニル〈2.5
g〉のアセトニトリル( 25d )中混合物に、イソ
シアン酸クロロスルホニル(1.5g)のアセトニトリ
ル(2111Q)溶液を水冷攪拌下3℃で滴下する.混
合物を室温で1.5時間攪拌後、反応混合物を水(1.
5fflQ)とアセトニトリル(1。51Q)との混合
物に滴下する.混合物を常温で18時間攪拌し、反応混
合物を攪拌下氷水中に注ぐ.沈殿を濾取、水洗、真空乾
燥して、硫化4−ニトロ−4′−ウレイドジフェニル(
2− 5 g %収率86.5%〉を得る.融点295
°C(分解) IR (Z’;w−ル) : 349G。 33
50. 3200. 1675. 1595.1
58G. 1530. 1340 cob−lMass
: 29G (M+1). 289 (M). al
e 272. 246鮭濃塑M 硫化4−ニトロ−4′−ウレイドジフエニル(2.5g
)のジクロロメタン(25111 )、クロロホルム(
25ffll+ )およびN.N−ジメチルホルムア
ミド( 10ml! )のa合溶媒中混合物に、3−ク
ロロ過安息香酸(2.86g)のジクロロメタン( 5
0mA )溶液を攪拌下5゜Cで滴下する.混合物を水
冷下5゜Cで4時間攪拌する.反応混合物を水酸化ナト
リウム希水溶液および水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥する.硫酸マグネシウムを濾去後、濾液の溶媒を減
圧下に留去して、4−ニトロ−4′ウレイドジフエニル
スルホキシド(1.0g,収率37.9%)を得る. 融点113− 115℃ IR (スジョー0 3420, 3200.
1715. 1670, 1590,1535.
1350 cm’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm> 6
.07 (2H.d.J:8Hz).7.60−8.5
0 (8H.m), 7.76 (2H.d.J:7H
z),8、00 (2H.m>. 8.27 (2H.
d.J=7Hz). 9.17(IH.s) Mass : 305 (M). m/e 289,
278. 240型』Ii並 4−アミノー4′ 一二トロジフェニルケトン(0.2
4g)のアセトニトリル( 10ffll! )とテト
ラヒド口フラン( 11111)との混合物溶液に、イ
ソシアン酸クロロスルホニル(0.23g)を攬II’
下5゜Cで滴下する.反応混合物を室温で1.5時間攪
拌後、水(1ml)をこの溶液に加える.反応混合物を
室温で16時間攪拌する.反応混合物を減圧下に蒸発乾
固して固体を得る.固体をシリカゲル(シリカゲル60
、7Q− 230メッシュ、メルク社製) (10g
)を使用するカラムクロマトグラフイーに付し、ジクロ
ロメタンとアセトンとの混液(5:1)で溶出する.目
的化合物を含む画分を合わせ、蒸発乾固して、4−ウレ
イド−4′一二トロジフェニルケトン(0.18g,収
率63.2%)を得る.IR (スジ*−L’)
: 3400. 3300. 3200. 1
710. 1690,1650, 1530. 13
45 cm−’NMR (DMSO−d6.60MHz
.ppa+) : 6.07 (2H.s). 7.6
7(4H.m). 7.87 (2H.d.J=8Hz
>. 8.37 (2H.d.J=8Hz>. 9.0
4 (IH.s)製104ζ 3.4−ジクロロニトロベンゼン(1.92g)、2−
クロロ−4一二トロフェノール(1.73g)および炭
酸カリウム(2.6g)のN.N−ジメチルホルムアミ
ド( 30111Q )中混合物を攪拌下20時間還流
する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水で粉砕する.
沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して固体を得る.固体をシ
リカゲノレ(シリカゲJレ60、70−230メッシュ
、メルク社製) ( 100g )を使用する力ラムク
ロマトグラフィーに付し、酢酸エチルとn一ヘキサンと
の混液( 1 : 10)で溶出する.目的化合物を含
む画分を合わせ、減圧濃縮して、44′ −ジニトロ−
2.2′ −ジクロロジフェニル工一テル(3.0g、
収率91.5%)を得る.融点: 147−148℃ IR (スジa−L) ’ 1605, 15
80. 1525, 1350,1265 a11 NMR (DMSO−d6,60MHz,ppm) :
7.40 <28.d.C9Hz), 8.27 (
2H,dd.J=3Hz. 9Hz), 8.55(2
H,d,J=3Hz) Mass : 332 (M+4).331 (
M+3).330 (M+2>.329 (M+1>
.32g (M),m/a 298.236.173 製造例28 製造例27と同様にして、4−クロロニトロベンゼンお
よび3−メチル−4一二トロフェノールから出発して、
3−メチル−4.4′−ジニトロジフエニルエーテル(
4.3g, 収率49.4%)ヲ得る. 融点: 90−100℃ IR (スジ1−ル) : 1610, 15
95, 1575. 1515. 1345.1
245 am’ NMR (DMSO−d6,60M}Iz.ppm)
: 2.53 (3H.s).7.03−7.50 (
4H.a+). 8.01−8.47 (3H.m>M
ass : 275 (IDI). 274 (M).
m/e 257. 211製造例29 製造例27と同様にして、4−クロロニトロベンゼンお
よび3.5−ジメチル−4一二トロフェノールから出発
して、3.5−ジメチル−4.4′−ジニトロジフエニ
ルエーテル(6.5g , 収率75.2%)を得る. 融点F 174−175℃ IR (スジ■−ル) : 1610. 15
g5, 1530, 1350, 1310.1
290 am−1 NMR (DMSO−d6,60M}Iz.ppm)
: 2.27 (6H,s). 7.13(2H,s)
, 7.25 (2H,d.J=9Hz), 8.30
(2H,d.J=9HZ) Mass : 289 (M+1), 288
(M). m/e 271. 258,226.
196 製1目生抑 4−ニトロ−4′−アミノジフエニルエーテル(6.9
g)のアセトニトリル( 7omQ)中混合物に、イン
シアン酸クロロスルホニル(4.5g)のアセトニトリ
ル( 1omQ)溶液を水冷攪拌下3℃で滴下する.混
合物を室温で2.5時間攪拌する.反応混合物に水(
5 mQ )とアセトニトリル( 5 mN )との混
合物を加え、次いで混合物を常温で16時間攪拌する.
反応混合物を氷水中に注ぎ、沈殿を濾取、水洗、真空乾
燥して、4−ニトロ−4′−ウレイドジフェニルエーテ
ル(7.1g、収率86.7%)を得る. 融点: 185−188℃ IR (ヌジ9−4) : 3500, 33
50, 3270. 1680. 1595,1
545. 1350 am’ NMR (DMSO−d6,60MHz,ppm) :
5.75 (2}1.bs),7.00−7.30
(4H.m), 7.57 (2H.d,J:9}1z
).8.27 (2H.d.J=9Hz), 8.67
<IH,s)Mass : 274 (M+1),
273 (M), m/e 256. 230.184 製造例31 製造例27と同様にして、4−フルオロ−2−メテルニ
トロベンゼンおよび3−メチル−4一二トロフェノール
から出発して、3.3’ −ジメチル−4.4’ −ジ
ニトロジフエニルエーテル( 10.1g、収率109
%)を得る. 融点; 95−io1℃ IR (1”i−4) : 1575, 15
15, 1460. 1345.1255 am−
’ NMR (CDCI3+DMSO−d6.90MHz.
ppm) : 2.63 (6H.s). 6.90−
7.10 (4H,m). 8.10 (2H.d.J
:9Hz)Mass ; 289 (M+1).
28g (M). m/e 271. 258.
225 製』ui共 4−アミノテオフエノール(5g)、3.4ジクロロニ
トロベンゼン(8g)および炭酸カノウム(llg)の
N.N−ジメテルホルムアミド( 501Q )中混合
物を、窒素ガス気流中80″Cで2時間攪拌する.反応
混合物を撹拌下氷水中に注ぐ.沈殿を濾取、水洗、真空
乾燥して、硫化2−クロロ−4−二トロ−4′ −アミ
ノジフェニル( 11.7g1収率104. 4%)を
得る. 融点: 132−133℃ IR (Xジa−1) : 3450. 33
50. 1630. 1595. 1565.1
340 c11 NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm) :
5.8G (2H.s).6.67−6.90 (3
H,m), 7.3 (2H.d.J=9Hz>,8.
00−8.33 (2H.m) Mass : 283 (M+3>. 282 (M+
2). 281 (M+1>.280 (M), m/
e 234. 199?』ll■ 硫化4−アミノー2′−クロロ−4′一二トロジフェニ
ル(11.5g)の酢酸( 100+1111 )溶液
に、無水酢酸(4.5g)を水冷攪拌下5゜Cで滴下す
る.混合物を室温で2時間攪拌する.反応混合物を水冷
攪拌下水中に注ぐ.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、
硫化4−アセトアミド−2′−クロロー4′一二トロジ
フエニル( 14.2g ,収率98.5%)を得る. 融点+ 143−145℃ IR (スジa−ル) : 3620, 33
00. 1680. 1610. 1595.1
540. 1350 am−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.17 (3H,s), 6.83(IH.d.J
=9Hz). 7.60 (2H.d.J=9Hz).
7.90(2H.d,J:9Hz). 8.12 (
IH.d.J=9Hz>. 8.33(IH.d.J:
3Hz). 10.30 (IH.s)Mass
: 325 (M+3). 324 (M+2>. 3
23 (M+1).322 (M). Im/e 28
0. 234製』0艷B 製造例27と同様にして、4−クロロー2−シアノニト
口ベンゼンおよび4−アミノフェノールから出発して、
4−アミノー3′−シアノー4′ニトロジフェニルエー
テル( 5.44g , 収率78.1%)を得る. NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm) :
5.16 (2H.s).6.50−6.90 (5
H.m), 7.20 (IH,dd,J=3Hz,6
Hz). 8.30 (11,d,J=9}1z)Ma
ss : 256 (Ma1). 255 (M).
m/e 209. 108紅圭盟量 4−アミノー4゛一二トロジフェニルエーテル(4.6
g)およびトリエチルアミン(2g)のジクロロメタン
( 50ml! )中混合物に、無水トリフル才ロメタ
ンスルホン酸(3.1g)を氷冷攪拌下5゜Cで滴下す
る.混合物を攪拌下3時間還流し、反応混合物を氷水中
に注ぐ.混合物をクロロホルムで抽出し、J[水素ナト
リウム水溶戒、希塩酸および水で洗浄して硫酸マグネシ
ウムで乾燥する.硫酸マグネシウムを濾去後、濾液を減
圧濃縮し、残渣をn−ヘキサンで粉砕する.沈殿を濾取
してn−ヘキサンで洗浄し、真空乾燥して、4−トリプ
ル才ロメタンスルホニルアミノ−4′一二トロジフエニ
ルエーテル( 4.2g . 収率58.0%)ヲ得る
. 融点:60−62℃ IR (スジ)一ル) + 3290. 16
15. 1595. 1520. 1415.1
215 cm−’ NMR (DMSO−d6.90MHz,ppm> :
7.18 (2H.d.J=12Hz>. 7.27
(2H,d.J=12Hz). 7.43 (28,
d,J=12Hz), 8.32 (2}1,d.J=
12Hz)Mass : 363 (M+1>. 36
2 (M), m/e 332. 229製JJL坦 製造例27と同様にして、4−クロロ−2−メトキシニ
トロベンゼンおよび4−アミノフェ/ 一ルから出発し
て、4−アミノー3′−メトキシ−4′一二トロジフェ
ニルエーテル(6.94g,収率89.0%)を得る. 融点: 140−142℃ IR (スジ曹一ル) : 3470. 33
g0. 1620. 1575, 1515.1
350 cm−1 NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm)i
3.86 (3H.s), 5.10(2H,s),
6.40 (IH,dd,J=3Hz, 6Hz)
, 6.60(2H.d.J=9Hz). 6.75
−6.90 (3H,m), 7.90(IH,d,J
=9Hz) Mass : 261 (M+1), 260
(M), m/e 229, 213,184 製1uiv ゜製造例27と同様にして、4−フル才口−3−メデル
ニトロベンゼンおよび2−メチル−4一二トロフェノー
ルから出発して、2.2’ −ジメチル−4.4’ −
ジニトロジフエニルエーテル(5.74g1収率84.
9%)を得る. 融点: 140−142℃ IR (スジ穿−ル) : 1635. 15
B0. 1510. 1350. 1245.1
190 cm−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.38 (6H.s),7.08 (2H.d.J
=9Hz), 8.03−8.43 (4}1.m>M
ass : 289 (M+1). 288 (}i)
, m/e 258. 195.152 製1ulI 製造例27と同様にして、4−クロロー3−ジフェニル
メトキシ力ルポニルニト口ベンゼンおよび4−ニトロフ
ェノールから出発して、2−ジフエニルメトキシ力ルポ
斗ルー4.4゛−ジニトロジフエニルエーテル(18.
96g ,収率103.9%)を得る. 融点: 133−140℃ IR (スジシール) : 172G. 16
15. 15110. 1520, 1350.
1280. 1255 cm” NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
7.08−7.63 (14H,m), 8.20−
8.87 (4}1.s)Mass :’a+/e 4
40. 410, 360, 260. 230製E1
艷I 製造例27と同様にして、4−クロロー3−シアノニト
ロベンゼンわよび4−ニトロフェノールカら出発して、
2−シアノー4.4′ −ジニトロジフェニルエーテル
(29.78g,収率82.9%)を得る. 融点: 135−142℃ IR (スジ脅一ル) : 2250, 16
15. 15g5.1275. 1255.120
0 NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm> ’
7.38J=9Hz>, 7.58 (2H.d.
J=9Hz>.(3H劃) Mass : 286 (M+1>, 285 (t
l>.168. 139 m/e 26(L 1530. 1350, 。,−1 (2H. d. 8. 27−8. 53 230, (以下余白) 製1出艷籾 製造例16と同様にして、アセトアニリドおよび塩化2
−1口ロー4−二トロベンゾイルから出発して、4−ア
セトアミドー2′−クロロ−4′ニトロジフェニルケト
ン(19。71g, 収率87.3%)を得る. 融点: 156−183℃ IR (スジa−ル) : 3240. 31
50. 1675. 1595. 1540.1
410. 1315. 1290. 1270 cm”
NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.L3 (31{.s).7.73−8.57 (
7H.m). 10.45 (lH.bs)Mass
: 32G (M+2). 319 (M+1). 3
1g (M).m/e 278. 276, 120 型』巳4l 製造例16と同様にして、3−メチルアセトアニノドお
よび塩化4−ニトロベンゾイルから出発して、4−アセ
トアミドー2−メチル−4′ 一二トロジフェニルケト
ン(3.8g,収率95.O%)を得る. 融点: 158−170℃ IR (スジ會一ル) F 3320. 16
70. 1585. 1520. 1400.1
320. 1260 a1l NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm) ’
2.13 (3Ls). 2.40(3H.s),
7.27−7.77 (3}1.m), 7.92 (
2H.d,J=8Hz>. 8.38 (2}1.
d.J=8Hz). 10.25(IH.bs) Mass : 299 (M+1), 298 (
M). ale 2g1, 256,209.
180 製1己40 製造例16と同様にして、2−メチルアセトアニノドお
よび塩化3−メチル−4−ニトロベンゾイルから出発し
て、4−アセトアミドー4′一二トロ−3.3′ −ジ
メデルジフェニルケトン(9.35g1収率89.3%
)を得る. IR (二−}) : 3250, 16
60. 1610. 1580. 152
5,1450. 1350. 1315. 1270,
1185 cm−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.35 (3H.s). 2.60(3H.s).
7.47−7.97 (6H.m). 9.48 <
IH,bs)Mass : 313 (M+1). 3
12 (M). m/e 295. 250.177,
149, 134 製
【u40
4−アセトアミド−41−ニトロジフェニルケトン(8
.0g)およびN−クロロスクシンイミド( 15.0
2g )のジ才キサン( 160111 )中混合物を
80℃に38時間加熱する.反応混合物を攪拌下水(6
00一〉中に注ぐ.沈殿を濾取、水洗、風乾して固体を
得る.固体をシリカゲル(シリカゲル60, 70−2
30メッシュ、メルク社製)(250g)を使用するカ
ラムクロマトグラフィーにイオし、クロロホJレムで溶
出する.目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下に蒸発
乾固して、4−アセトアミドー3。 5−ジクロロ−4゛ 一二トロジフェニルケトン(3.
0g、収率30.2%)を得る.融点: 11g−12
0℃ IR (スジa−L> : 33g0. 17
05. 1650. 1590. 1515,1
355. 1320. 1270 arm−’NMR
(DMSO−d6.90MHz.ppm) : 2.2
1 (3}1.s).7.60−8.43 (6H.b
s) Mass : 354 (Ma1). 353 (M)
. m/e 318. 285.276, 154 製JJLり 4−アセトアミド−4′−ニトc7−3+5−ジクロ口
ジフエニルケトン(12.3g)の濃塩酸(25mQ
)とエタノール( 150mll )との混合溶媒中混
合物を攪拌下5時間還流する.反応混合物を減圧濃縮し
、残渣を水に溶解する.溶液を水冷下IN水酸化ナトリ
ウム水溶液でpHlGに調整する.沈殿を濾取、水洗、
風乾して固体を得る.固体をシリカゲル(シリカゲル6
0、230−400メッシュ、メルク社製)(400g
)を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、ジクロ
ロメタンとアセトンとの混液(30:1)で溶出する.
目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下に蒸発乾固して
、4−アミノー3.5−ジクロロ−4′−ニトロジフェ
ニルケトン(L56g,収率79.0%)を得る.融点
: 161−163℃ IR (スジa−4) : 3400. 16
20, 1580. 1515. 1350.1
290. 1260 am−’ NMR (DMSO−d,.60M}lz.ppm)
’ 6.58 (2H.bs),7.92 (IH.d
.J=9Hz). 7.47−8.03 (3H.m)
.8.40 (2H.d.J=9Hz) Mass : m/e 294.250,237,
223,181製』0艷峠 2.6−ジメチルアセトアニリド(1.0g)およヒ塩
化アルミニウム(4.91g)のニトロベンゼン(21
1!)中混合物を常温で0.5時間攪拌し、次いで塩化
4−ニトロベンゾイル(1.25g)を攪拌下80℃で
少量ずつ分割して加える.混合物を攪拌下100″Cに
1.5時間加熱する.反応混合物を氷水中に注ぎ、室温
で1時間攪拌する.沈殿を減圧下に濾取する.沈殿を室
温でエタノールより粉砕し、濾取してエタノールで洗浄
し、真空乾燥して、4一アセトアミドー3.5−ジメチ
ル−4′一二トロジフェニルケトン(0.9g,収率4
7.O%》を得る.融点: 177−178”C IR (1!’#−4) : 3250. 16
70. 1845. 1600. 1525,1
347 c11 NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) :
2.13 (6H.s). 2.28(3H.s).
7.73 (IH.d.J=7Hz). 7.93
(2H.d.J=9Hz>. 8.25 (IH,d
,J:7Hz), 8.36 (2H.d.J=9H
Z> Mass : 313 (M+1), 312
(M), m/e 295. 269,253.
223 製造例46 2−メチルアセトアニリド(30g)および塩化アルミ
ニウム(161g)のニトロベンゼン(2〇一)中混合
物を常温で0.5時間攪拌し、次いで塩化4−ニトロベ
ンゾイル(41g)を攪拌下80℃で少量ずつ分割して
加える. 混合物を攪拌下100゜Cに2時間加熱する.反応混合
物を氷水中に注ぎ、室温で1時間攪拌する.沈殿を減圧
下に濾取し、固体を室温で攪拌下エタノールにより粉砕
する. 沈殿を濾取してエタノールで洗浄し、真杢乾燥して、4
−アセトアミドー3−メチル−4′一二トロジフェニル
ケトン(26.97g,収率45.O%)を得る. 融点: 125−145℃ IR (2ジ碕−L> j 3320. 32
20. 1665, 1600. 1525.1
350. 1285. 1265 am−1NMR (
DMSO−d6.60MHz.ppm) ’ 2.10
(3H.s). 2.37<3H.s). 7.5
0 (LH,b−s). 7.76 (IH.d.J
:7Hz). 7.83−8.07 (3H.m)M
ass : 299 (M+1). 298 (
M). m/e 281, 268.256 製1Ulぐ 4−アセトアミド−3−メチル−4′ −ニトロジフェ
ニルケトン( 26.9g ) +7)エタノール(5
40mll )と濃塩i!iil[ ( 801119
)との混合溶媒中混合物を攪拌下6時間還流する. 反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水に溶解する.溶液を
水冷攪拌下2N水酸化ナトリウム水溶液でpH10に調
整する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−アミノ
ー3−メチル−4′一二トロジフェニルケトン(22.
75g,収率98.4%)を得る. IR (スジp−ル) : 3470, 34
00, 1645, 1620. 1590,1
515. 1352. 1318 crm−’NMR
(DMSO−d6.60MHz.ppm) ’ 2.2
3 (3H.s). 6.67−7.55 (3}1,
m), 7.97 (2H.d,J=8Hz>. 8.
43(2H.d.J=8Hz> Mass : 257 (M+1), 256
(M), m/e 226, 210,195
, 134 型1裏艷鱈 無水酢#(3.06g)とギ#(1.38g)との混合
物を攪拌下50℃に1時間加熱する.冷後、4−アミノ
ー3−メチル−4′ 一二トロジフエニルケトン(2.
56g)をこの混合物に加える.混合物を室温で2.5
時間攪拌する. 反応混合物を氷水中に注ぎ、沈殿を濾取、水洗、真空乾
燥して、4−ホルムアミド−3−メチル−4′ 一二ト
ロジフエニルケトン(2. 68 g、収率94.4%
)を得る. 融点: 154−170℃(分解) IR (スジ書一ル) i 3400. 32
50. 1670, 1645. 1625,1
520. 1350 a11 NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) i
2.40 (3H.s). 7.50(2B,b−s
). 7.60 (LH,d.J=7}1z). 7.
96 (2}1.d.J=8Hz>. 8.33 (I
H,s). 8.40 (2H.d,J=8Hz).9
.83 (IH.b−s)Mass : 285
(M+1>. 284 (M), m/e 2
67. 254.237. 226 製1畳』伊 4−ホルムアミド−3−メチル−4′−ニトロジフエニ
ルケトン(1.0g)、沃化エチル(1.0g)および
炭酸カリウム(2.0g)のN.N−ジメテルホルムア
ミド( 190mQ )中混合物を室温で24時間攪拌
する. 反応混合物を水冷下水中に注ぎ、混合物を酢酸エチルで
抽出し、水洗して硫酸マグネシウムで乾燥する. 濾過後、濾液を減EEa縮して固体を得る.固イ本をシ
リカゲノレ(シリカゲル60、70−230メッシュ、
メルク社製)(500g)を使用するカラムクロマトグ
ラフィーに付し、クロロホルムで溶出する. 目的化合物を含む画分を合わせ、減圧濃縮して、4−N
一エチルホルムアミド−3−メチル−4′一二トロジフ
ェニルケトン(1.13g, 収率102.9%)を油
状物として得る. IR (フィルム) : 3500, 335
0, 3000. 28B0. 1670160
0. 1525, 1350. 1300 am−IN
MR (DMSO−d6,60MHz.ppm) :
0.9−1.2 (3H,m),2.20 (3H.b
−s). 3.60−3.90 (2H,m). 7.
50−7.83 (3H.m). 7.90−8.20
(LH.m). 8.00(2H.d..C8Hz)
. 8.33 (IH.s). 8.43 (28.d
−,J=8Hz> Mass : 313 (M+1>, 312 (M)
. m/e 287, 274,269, 223 製造例50 4−N−エチルホルムアミド−3−メチルー4′一二ト
ロジフエニルケトン( 11.2g )のメタノール(
200絨)および濃塩酸( 10m1)の脱合溶媒中
混合物を攪拌下3.5時間還流する.反応混合物を減圧
濃縮する. 残渣に水を加え、溶液を水冷下2N水酸化ナトノウム水
溶液でpHloにMJ!4整する.沈殿を減圧下に濾取
し、水洗、真空乾燥して固体を得る. 固体をシリカゲル(シリカゲル60、70−230メッ
シュ、メルク社製)(500g)を使用する力ラムクロ
マトグラフイーに付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの
混液(10:1)で溶出する.目的化合物を含む画分を
合わせ、減圧濃縮して、4−N−エチルアミノー3−メ
チル−4′二トロジフェニルケトン(5.31g,収率
52.1%)を得る. 融点: 143−146℃ IR (ス九−ル) j 3450, 165
0. 160G. 1520. 1350.12
65 a11 NMR (DMSO−d6.60MHz,ppm) :
1.27 (3H.t.J=7Hz). 2.27
(3H,s), 3.00−3.50 (2H.II1
).5.20 (IH.t.J=6Hz), 6.83
−7.07 (2H.m),7.27 (IH.d,J
=7Hz>. 7.97 (2H.d.J=8Hz>.
8.43 (2H.d.J=8Hz) Mass : 285 (M+1), 284 (M)
, m/e 269, 254,239. 223 製1ul■ 塩化4−アセトアミドベンジル(llg)、4一二トロ
チ才フェノール(9.5g)および炭酸カリウム(13
g)のN.N−ジメチルホルムアミド( xoomu
)中混合物を攪拌下100゜Cに3時間加熱する.反応
混合物を氷水中に注ぎ、次いで混合物を水冷下1時間攪
拌する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、硫化4−ア
セトアミドベンジル=4′二トロフェニル(15.5g
,収率85.4%)を得る. 融点: 175−180℃(分解) IR (X9*−IL) : 3400, 1
665, 1600. 1545.1340 ca
+−’ NMR (DMSO−d6.60M}Iz.ppm)
: 2.03 (3H.s), 4.40(2H.s)
. 7.36−7.67 (4H.m). 7.6
0 (2H.d,J=8Hz), 8.17 (21
,d.J:8Hz>. 9.90 (IH,s)Ma
ss : M4″’ 303, M 302, III
/e 270, 259, 228.148 梨IL坐 製造例16と同様にして、2.5−ジメチルアセトアニ
リドおよび塩化4−ニトロベンゾイルから出発して、4
−アセトアミドー3.6−ジメチル−4′一二トロジフ
エニルケトン(1.15g1収率60,1%)を得る. 融点: 18g−191℃ IR (ス九−ル) : 3360. 170
5. 1675. 1655. 1570.15
25. 1350 cm+−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.14 (3H,s). 2.20(3H.s).
2.30 (3H,s). 7.24 (IH.s)
, 7、63(IH.s). 7.90 (28,d,
J:8Hz>, 8.37 (2H,d.J=8Hz>
. 9.37 (IH.br s)Mass : M
312. m/e 295. 281, 269. 2
65衷蓋贋ユ 4.4’ −ジアミノジフエニルケトン(4g)および
メトキシアミン・塩酸塩(15g)のメタノール(12
)中混合物を室温で48時間攪拌する.反応混合物を派
圧濃縮し、残渣を水に溶解する.溶演を水冷攪拌下炭酸
水素ナトリウムで州8.0に11整する.沈殿を濾取、
水洗、真空乾燥して、1.1−ビス(4−アミノフェニ
ル)−1一メトキシイミノメタン( 3.5g , 収
率77.0% )を得る. 融点200゜C(分解) IR (スジぢール) : 3475. 33
75, 3200. 1620. 1605.1
515, 1380. 1180 cm−1NMR (
DMSO−d6,60M}Iz,ppm> 3.80
(3H.s). 5.40(4H.bs), 6.53
(2H,d,J=9Hz>. 6.60 (2H,d
,J=9Hz), 7.02 (2H.d.J=9Hz
), 7.13 (2H.d,J=9Hz) Mass : 242 (Ma1), 241 (M)
, LII/e 210衷夏週1 実施例3で製造した1.1−ビス(4−アセトアミドフ
ェニル)−1−メトキシイミノメタン(15g)のIN
水酸化ナトリウム水溶液( 60ml1 )およびエタ
ノール( 10011111 )中混合物を攪拌下13
間還流する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水冷攪拌
下水で粉砕する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、1
.1−ビス(4−アミノフェニル)一1−メトキシイミ
ノメタン(3.20g、収率86.3%)を得る. 融点: 198−202℃(分解) IR (スジa−4> ’ 3450. 33
50. 3200. 1620. 1605.1
515. 1380 cob−1 NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) 3
.80 (3H,s). 5.40(4H,bs).
6.54 (2H.d.J=9Hz). 6.59
(2H.d.J=9Hz). 7.00 (2H.
d,J=9Hz). 7.10 (2H.d,J=9
Hz) Mass : 242 (Ma1). 241
(M). m/e 210衷轟斑1 実施例4で製造した1.1−ビス(4−アセトアミドフ
ェニル)−1−ヒドロキシイミノメタン(4.5g)、
沃化メチル(18g)および炭酸カリウム(7.5g)
のN.N−ジメチルホルムアミド( 501119 ’
)中混合物を室温で4日間攪拌する.反応混合物を減圧
濃縮し、残渣を水で粉砕する.沈殿を濾取、水洗、真空
乾燥して、1.1−ビス(4一アセトアミドフェニル)
−1−メトキシイミノメタン(5.0区、収率106%
)を得る.融点260− 270℃(分解) IR (スジ書一ル) 3250, 1670.
1600. 1520. 1380.1320
cm” NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm> 2
.10 (6H.bs). 3.87(3H.s).
7.17−7.75 (8H.m). 10.07(2
H.bs) Mass : 326 (M+1>. 325
(M). m/e 310. 294,283.
252 東』0艷土 4.4′ −ジアセトアミドジフェニルケトン(48g
)およびヒドロキシルアミン・塩酸塩(2.42)のエ
タノール( some )と水( 1011111 )
との混合溶媒中混合物に、水酸化ナトリウム(3.2g
)を攪拌下室温で少量ずつ分割して加える.混合物を室
温で18時間攪拌する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣
を水で粉砕する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、1
.1−ビス(4−アセトアミドフェニル)−1−ヒドロ
キシイミノメタン( 5.0g、収率100%)を得る
. 融点210− 215℃(分解) IR (スジー−ル) : 3350−3150
. 1670. 1600, 1570,152
0. 1320 am’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) 2
.04 (3H.s). 2.08(3H.s).
7.16 (2H.d.J=9Hz). 7.25
(2H.d,J=9Hz). 7.50 (21,d
.J=9Hz)Mass : 312 (M+1>,
311 (M). m/e 295. 269,
254 衷』むl互 4.4′ −ジアミノベンジル(6.0g)のメタ/−
ル( 150mlf ) ト水( 50ffIQ )と
のa合物溶液に、ヒドロキシルアミン・塩酸塩(13.
0g)を加える.混合物を室温で24時間攪拌する.メ
タノールを留去後、残渣のシロップ状物を水で希釈して
酢酸エチルで抽出する.酢酸エチル層を合わせ、1回水
洗して硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して粗製
結晶( 3.65g )得る.粗製結晶をエタノールか
ら再結晶して、4.4’ −ジアミノベンジルモノ才キ
シム(シン型)(2.50g,収率39.2%)を得る
. 融点: 187−191”c IR (x9m−x) : 3420. 32
00. 1640. 1580. 1550.1
450. 1340. 1260. 1175. 93
0.910. 840 c11 NMR (DMSO−d6,90MHz,ppm) 5
.43 (2H.s). 6.22(2H.s).
6.56 (2H.d,J=9Hz). 6.60
(2H.d,J=9Hz>. 7.17 (2H.d
,J=9Hz), 7.53 (2H.d.J:9H
z>, 10.7 (IH.s)叉』I包互 実施例7と同様にして、4−アミノー4′−クロロジフ
エニルエーテル( 5.1g , 収率9s.4%)を
得る. 融点200℃ IR (Xジi −0 F 3350, 161
0. 1590. 1510. 1490.13
80 cab−1 NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) 6
.80−7.10 (4H.m).7.10−7.50
(4H.m). 9.00 (2H.bs)Mass
: 221 (M+1). 220 (M)
. m/e 219, 185.10g X轟亘l 4−メトキシー4′一二トロジフェニルエーテル(9.
5g)ノメタノール(15ol!1l1)トテトラヒド
ロフラン( 150mQ )との混合物溶液を10%バ
ラジウムー炭素(4g)の存在下常温で大気圧下に1時
間水素添加する.触媒を濾去し、次いで濾液を減圧濃縮
して、4−アミノー4′−メトキシジフエニルエーテル
(7.21g,収率86.3%)を得る. 融点: 76−77”C IR (スジ讐−ル) : 34G0. 32
50−3100. 1640. 1590.150
0 cm−’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) 3
.70 (3H.s). 4.83(2H.bs).
6.50 (2H.d.J:9Hz). 6.66 (
2H.d.J=9Hz). 6.80 (4H.s)M
ass : 216 (M+1), 215 (M).
m/e 2G0. 172東』む艷互 a.4゛ −ジアミノジフェニルエーテル(5.5g)
および濃塩酸( 2811Q )の酢酸(55111
>と水( 55111 ’)との混合溶媒中混合物に、
亜硝酸ナトリウム(4g)の水(2G+11 ’)溶液
を水冷攪拌下5℃未満の温度で滴下する.混合物を5℃
で1時間攪拌する.反応混合物に塩化第一スズ(3(I
g)の濃塩酸( 1oom )溶液を氷一塩冷却攪拌下
O″Cで加える.反応混合物を3時間攬拌し、次いで室
温で一夜放置する.沈殿を濾取、水洗する.固体をビー
カーに移し、水で希釈して水冷攪拌下希水酸化ナトリウ
ム水溶液でpHloに!l整する.沈殿を濾取、水洗、
真空乾燥して、4.4′−ジヒドラジノジフエニルエー
テル( 3.0g , 収率47.4%)ヲ得る. 融点175℃ IR (スジー−ル) 3300. 1610.
1590. 1505. 13g0.1255
c1’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) 3
.83 (4H.bs). 6.37(2H.bs).
6.50−7.0 (8H,m)Mass : 23
1 (M+1), 230 (M). tale 21
5. 200,183. 170 見皇班上 4−ニトロ−4′一メタンスルホニルアミノジフエニル
エーテル(5.5g)のメタノール(150m)および
テトラヒドロフラン( 150111 )の混合物溶液
を10%バラジウムー炭素(1.5g)の存在下常温で
大気圧下に1時間水素添加する.触媒を濾去し、次いで
濾液を減圧濃縮して、4−アミノー4′−メタンスルホ
ニルアミノジフェニルエーテル(4、9g、収率98,
8%)を得る.融点140”C IR (スジ習一ル) 3400. 3320.
1610. 1505. 1380.1320
cab−’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppa+)
2.90 (3H.s). 4.90(2H.s).
6.50 (2H.d.J=9Hz). 6.67 (
2H.d.J−9Hz). 6.77 (2H.d.J
=9Hz). 7.10 (28.d,J=9Hz).
9.31 (IH.s)Mass : 279 (M
a1). 278 (M). lIIle 213.
199東Jl四 実施例7で製造した4−アミノー4′−メトキシジフエ
ニルエーテル(2.5g)の47%臭化水素酸水溶液(
251Q )中混合物を攪拌下1時間還流する.反応混
合物を水中に注いだ後、溶液を水冷攪拌下20%炭酸水
素ナトリウム水溶液でpH8に!Itする.沈殿を濾取
、水洗、真空乾燥して、4ーアミノー4′−ヒドロキシ
ジフェニルエーテル(2.14g、収率91.6%)を
得る.融点: 157−158℃ IR (スジ珍一ル) : 3380, 33
10. 1605. 1575,1505 am−
l NMR (DM50−d6.90MHz.ppa+)
4.75 (2H.bs), 6.47(2H,d,J
−9Hz). 6.60 (2H,d.J=9Hz>
, 6.80(4H.a+). 8.96 (lH
.s)Mass : 202 (M◆1). 2
01 (M). m/e 172塞1u4u 4−ヒドラジノ−4′一二トロジフェニルエーテル・塩
酸塩(3.08g)のメタノール(l00mQ)溶液を
10%パラジウムー炭素(1.5g)の存在下常温で大
気圧下に1時間水素添加する.触媒を濾去する.濾液を
減圧濃縮し、次いで水で希釈する.溶液をIN水酸化ナ
トリウム水溶液で水冷攪拌下pH8に調整する.沈殿を
濾取して水およびn−ヘキサンで洗浄し、真空乾燥して
、4−アミノー4′−ヒドラジノジフエニルエーテル(
1.57g、収率66.7%)を得る. 融点170℃ IR (スジジール> 3450. 3400−
3100. 1640, 1510.1500 a
m−1 NMR (DMSO−d6.90MHz,ppm) 3
.28 (IH.bs), 4.70(4H,bs).
6.40−6.80 (8}1.m)Mass
: m/e 211. 200. 171衷1日
』12 4−(4−アミノフェノキシ)−4′ 一二トロジフエ
ニルエーテル(6.8g).塩化アンモニウム(0.6
g)および鉄粉(6g,60メッシュ)のエタノール(
60111Q )と水( 151Q )の混合溶媒中
a合物を攪拌下l.5時間還流する.不溶物を濾去し、
次いで濾液を減圧濃縮する.残渣を水冷下水で粉砕する
.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−(4−アミノ
フェノキシ)−4’ −アミノジフェニルエーテル(5
.42g,収率87.8%)を得る. 融点170℃ IR (ヌジ*−4) ’ 3400, 33
20. 3200. 1610. 1495.1
380 am−1 NMR (DMSO−d6.90M}Iz.ppm)
4.83 (4H,s). 6.50(4H,d.J=
9Hz>, 6.68 (4H.d.J=9Hz).
6、76(61,s) Mass : 293 (M+1), 292 (M
). m/e 263. 184,146, 1
08 烹』0艷り 硫化4−ニトロ−4′一メタンスルホニルアミノジフエ
ニル(5.5g)のテトラヒド口フラン( toomi
)とメタノー ル( 100mQ )との混合物溶液
を10%パラジウムー炭素(4g)の存在下常温で大気
圧下に4.5時間水素添加する.触媒を濾去し、濾液を
減圧濃縮して、硫化4−アミノー4゛一メタンスルホニ
ルアミノジフエニル(4.7g,収率94.2%)を得
る. 融点tSS℃ IR (スジI−4) 3400. 1630.
1600, 1320. 1270.1160
cm−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) 2
.90 (3H,s), 5.50(2H,bs).
6.80 <2H.d.J=6Hz), 7.06
(4Hs). 7.17 (2H.d.J−6Hz
), 9.67 (IH,s)Mass : 2
95 (M+1>. 294 (M), m/e
215大』豊艷■ 実施例15で製造した4−アセトアミドーN−[ 4−
( 4−アミノフエニルチ才)フエニル]ベンゼンスル
ホンアミド(3.5g)のエタノール( 70mQ)お
よび濃塩酸(7mll)中混合物を攪拌下3時間還流す
る.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水に溶解する.溶
液を水冷下10%水酸化ナトリウム水溶液でpH5.
0に11#!iする.沈殿を濾取、水跣、真空乾燥して
、4−アミノーN−[4−(4一アミノフエニルチ才)
フェニル]ベンゼンスルホンアミド(3.0g、収率9
5.3%)を得る.融点188− 190℃(.分解) IR (スジi4) 3350. 3100.
1620. 1595, 1380.1150
am−1 NMR (DMSO−d6,90MHz,ppm) 5
.35 (2H.bs). 5.88(2H.bs>,
6.48 (2H,d.J=9Hz). 6.55
(21,d.J−9Hz). 6.90 (4H.bs
), 7.05 (2B,d,J=9Hz). 7.3
2 (2H,d.J=9Hz)Mass : 372
(M+1), 371 (M). m/e 215,
183東』巣l4 鉄粉(7g、60メッシュ)および塩化アンモニウム(
0.7g)のエタノール( 7Qmll )、テトラヒ
ド口フラン( 70mQ )および水( 401011
)の混合溶媒中混合物に、4−アセトアミドーN−[
4−(4ニトロフエニルテ才)フェニル]ベンゼンスル
ホンアミド(6.6g)を攪拌下80℃で少量ずつ分割
して加える.混合物を2時間還流する.反応混合物を吸
引a過して濾液を減圧濃縮し、次いで残清を水冷下水で
粉砕する。沈殿を濾取、真空乾燥して、4−アセトアミ
ドーN−[4−(4−アミノフエニルデ才)フエニル]
ベンゼンスルホンアミド(3.5g、収率56,9%)
を得る.融点192− 195℃ IR (スジi−IL) 3500. 3400
, 3350. 3200, 1685,162
5. 1595. 1495. 1330 cm−’N
MR (DMSO−d6.60MHz,ppm) 2.
05 (3H.s). 5.50(2}1.bs).
4.40−6.70 (3H,m). 6.83−7.
35(61,m>, 7.67 (3H,bs), 1
0.07 (1M,s).10.27 (IH.s) Mass : 414 (M+1). 413
(M). m/e 290, 215犬』畳』様 鉄粉(6g160メッシュ)と塩化アンモニウム(0.
6g)のエタノール( 13Qmll )、テトラヒド
ロフラン( 40mll )および水(.40mQ)の
混合溶媒中混合物に、4−ニトロ−4′−メタンスルホ
ニルアミノジフェニルスルホキシド(6g)を攪拌下8
0℃で少量ずつ分解して加える.混合物を攪拌下4時間
還流する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水冷下水で
粉砕する.沈殿を濾取、水洗、風乾して固体を得る.固
体をシリカゲル(シリカゲル60、70−230メッシ
ュ、メルク社製)(120g)を使用するカラムクロマ
トグラフイーに付し、クロロホルムとメタノールとの混
液(5:1)で溶出する.目的化合物を含む画分を合わ
せ、蒸発乾固して、4−アミノー4′−メタンスルホニ
ルアミノジフェニル乙ルホキシド( 4.3g , 収
率7s.o%)を得る. 融点198−200℃ IR (スジI1−4) 3500. 3400
. 1635. 1595.1505 cm−’ NMR (DMSO−d6.’70MHz.ppm>
3.02 (3H,s), 5.69(2H,s).
6.56 (2H,d,J=9Hz). 7.23
(2H,d.J=9Hz>. 7.26 (2H.
d.J=9Hz), 7.47 (2H.dJ=9H
z>. 10.00 (LH.s)Mass :
295 (M+1>. 294 (M),
m/e 215大1d艷■ 実施例18で製造した4−アセトアミドーN−[ 4−
( 4−アミノベンゼンスルフィニル)フ工二ル]ベン
ゼンスルホンアミド(2.5g)の濃塩酸( 5111
1)およびエタノール( 501111 )の混合溶媒
中混合物を攪拌下3.5時間還流する.反応混合物を減
圧濃縮する.残虐を水に溶解し、溶液を水冷攪拌下炭酸
水素ナトリウムでpH7.0に調整する.沈殿を濾取、
水洗、真空乾燥して、4−アミノーN−[4−(4−ア
ミンベンゼンスルフィニル)フェニル]ベンゼンスルホ
ンアミ}?(1.7g、収率75.4%)を得る. 融点198− 200℃ IR (スジ賛一ル) 3450. 3350,
3250. 1630. 1600,1500
. 1380. 1320 cm−’NMR (DMS
O−d6.90MHZ.ppm> 5.60 (2H.
bs), .5.90(2H.bs), 6.46
(2H,d.J=9Hz). 6.53 (2H,d
.J=9Hz>. 7.10 (2H.d.J=9H
z), 7.18 (2H.d,J=9Hz),
7.35 (4H.d.J=9Hz>. 11.20
(IH.s)Mass : m/e 371.2
48.215衷1d4リ 鉄粉(6g、60メッシュ)と塩化アンモニウム(0.
6g)トのエタノールC 60fflQ ) ,テトラ
ヒド口フラン( 60ml! )および水C 4011
112 )の混合溶媒中混合物に、4−アセトアミドー
N−[4−(4−ニトロベンゼンスルフィニル)フエニ
ル]ベンゼンスルホンアミド(4.2g)を攪拌下80
℃で少量ずつ分割して加える.混合物を攪拌下1.5時
間還流する。反応混合物を吸引濾過する.濾液を減圧濃
縮し、残渣を水で粉砕する.沈殿を濾取、水洗、風乾し
て固体(4.0g)を得る.固体をシリカゲノレ( 1
20g , 270− 400メッシュ、メノレクネ上
製)を使用するカラムクロマトグラフイーに付し、ジク
ロロメタンとアセトンとの混液(3:1)で溶出する.
目的化合物を含む画分を合わせ、減圧a縮して、4−ア
セトアミドーN−[4−(4−アミノベンゼンスルフィ
ニル)フエニル]ベンゼンスルホンアミド(2.1g,
収率53,5%)を得る. 融点: 225−228℃(分解) IR (スジ牙一ル) : 3350, 32
00, 3100. 1675. 1630,1
595, 1500, 1380, 1340,116
5 am’ NMR (DMSO−d6,60MHz,ppm) 2
.10 (38,s), 5、73(2H.bs),
6.63 (2H.d.J:9Hz), 7.20 (
2H.d.J=9Hz>. 7.25 (2H.d.J
=9Hz), 7.33 (2H.d,J=9Hz>,
7.73 (41,bs). 10.33 (IH,
s)Mass : m/e 413. 341, 29
0. 248大』己M19 実施例32で架造した4.4′−ジアミノ−3一メトキ
シジフエニルスルホン( 1.2g )のジクロロメタ
ン( 100mQ )およびクooホルム(100II
IQ)の混合物溶液に三臭化ホウ素(10g)のジクロ
口メタン( 30ffLQ )溶液をドライアイスーア
セトン冷却攪拌下−10℃で滴下する.混合物を室温で
10時間攪拌し、次いで40℃で2時間攪拌する.反応
混合物を減圧濃縮する.残渣を水で希釈し、次いで混合
物を攪拌下1時間還流する.反応混合物を希水酸化ナト
リウム水溶液でpH5に!l11し、水冷下1時間攪拌
する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4.4′−ジ
アミノー3−ヒドロキシジフェニルスルホン( 0.8
g , 収率70.2%)を得る. 融点260℃(分解) IR (スジ習一ル) 3450. 3400.
1630. 1595. 1520.1380
. 1290 cm’ NMR (CF3GOOD.90MHz.ppm)7.
50−7.70 (LH,m). 7.73 (2H.
d.J=8Hz).7.83 (2H.d.J=8Hz
), 8.15 (2H.d.J=8Hz)Mass
: 265 (M+1). 264 (M). m/a
200. 156罠箆盟剥 実施例21と同様にして、実施例29で製造した4一ア
セトアミド−4′−ヒドラジノジフェニルスルホン(3
g)から出発して、4−アミノー4′−ヒドラジノジフ
ェニルスルホン(1.7g.収率57.7%)を得る. 融点160− 165℃ IR (ス九−ル) 3200−3450. 1
630. 1595. 1505.1385. 1
285 am’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) 6
.00 (4H,bs), 6.35−6.90 (3
H.m), 7.00−8.00 (5H.m)Mas
s : m/e 248. 233衷及斑君 実施例28で製造した4−アセトアミド−4′(メタン
スルホニルアミノ)ジフエニルスルホン(6g)の濃塩
酸( aomQ )および水( 40+1111 )中
混合物を攪拌下2.5時間還流する.反応混合物を水冷
下炭酸カリウム粉末でpHloに調整する.沈殿を濾取
、水洗、真空乾燥して、4−アミノー4′(メタンスル
ホニルアミノ)ジフエニルスルホン(4.5g、収率8
4.7%)を得る.融点190℃ IR (スジa−’L) : 3350−340
0. 1635. 1595.1500 cm−’ NMR (CF3COOH.60MHz,ppm) 3
.55 (3H.s). 7.67−8.00 (6
H.m). 8.06−8.40 (4}1,m)
Mass : 327 (Ma1), 326
(M), m/e 248. 183犬1d生坐 4−アセトアミド−2′−メタンスルホニルアミノー4
′一二トロジフェニルスルホン(6g)のメタノール(
200mll )、テトラヒド口フラン( 300m
ll )およびN,N−ジメチルホルムアミド( 60
mR )の混合溶媒溶液を、10%パラジウムー炭素(
2g)の存在下、常温で大気圧下に6時間水素添加する
.触媒を濾去し、次いで濾液を減圧濃縮して、4−アセ
トアミド−4′−アミノー2′ーメタンスルホニルアミ
ノジフエニルスルホン(4.0g)を得る.4−アセト
アミドー4″ −アミノー2′ −メタンスルホニルア
ミノジフェニルスルホン(4.0g)および濃塩酸(
40111 )の水( aom++ )中混合物を攪拌
下2時間還流する.反応混合物を水冷下希水酸化ナトリ
ウム水溶液で凶5.0に調整し、水冷下5℃で4時間攪
拌する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して黄色固体を得
る.固体をシリカゲノレ(シリカゲル60, 70−2
30メッシュ、メルク社製)(300g)を使用する力
ラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルムとメタノ
ールとの混液(10:1)で溶出する。目的化合物を含
む画分を合わせ、減圧濃縮して、4.4′ −ジアミノ
ー2′−メタンスルホニルアミノジフェニルスルホン(
t.tg,収率22.2%)を得る. 融点210℃(分解) IR (スジ1−ル> 3450. 3350−
3200. 1625. 1595,1380.
1335 cm−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) 2
.97 (3H,s). 6.33(4H.bs),
6.60−7.06 <38.m>. 7.40 (L
H.d.J=8Hz). 7.15 (LH.d.J=
8Hz). 7.59 (IH,d,J=8Hz>,
8.03 (IH.d.J:8Hz), 8.97(I
H.bs) Mass 二 342 (M+1), 341
(M), m/e 314. 285.263 叉1Q艷η 実施例36で製造した4−(2−アセトキシベンゾイル
)ヒドラジノ]−4’ −(ペンジル才キシ力ルポニル
アミノ)ジフエニルスルホン( 4.8g)のテトラヒ
ド口フラン( 751Q )およびメタノール( 12
511111 )の混合物溶液をlO%パラジウムー炭
素(7.4g)の存在下、常温で大気圧下に11時間水
素添加する.触媒を濾去し、次いで濾液を減圧下に蒸発
乾固して固体を得る.固体を酢酸エチルで抽出して炭酸
ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥する.硫酸マグネシウムを濾去後、濾液を減圧濃縮し
て、4−( 2−アセトキシベンゾイル)ヒドラジノ]
−4’ −アミノジフェニルスルホン( 2.8g ,
収率78.0%)を得る, 融点206−208℃ IR (ス九−ル) 3400. 3340.
1755. 1680. 1625.1590.
1310. 1285. 1200 cca−1NM
R (DMSO−d6.90MHz.ppm> 2.1
6 (3H.s). 6.40−7.97 (15H劃
). 10.23 (IH.bs)Mass +
426 (M+1>. 425 (M). m/e
383. 289.248 叉1畳艷η 4−アセトアミド−2′−クロロー4′一二トロジフェ
ニルスルホン(6.74g)、塩化アンモニウム(0.
67g)および鉄粉(6. 74 g、60メッシュ)
のエタノール( 601IQ ) 、テトラヒドロフラ
ン(60mA)および水(30111 )の混合溶媒中
混合物を攪拌下2時間還流する.不溶物を濾去し、次い
で濾液を減圧濃縮する.残渣にメタノールを加え、攪拌
下3分間還流する.沈殿を濾取してメタノールで洗浄し
、風乾して、4−アセトアミドー2′クロロー4′−ア
ミノジフエニルスルホン(5.06g1収率82.0%
)を褥る. 融点277−288℃ IR (スジ書−ル) 3480. 3350−
3150. 1685. 1640,15g5.
1520. 1300 era−’NMR (DMSO
−d6.90MHz.ppm) 2.07 (3H,s
). 6.06−6.76 (3H.m), 7.43
−8.10 (4H,m). 10.25(IH.bs
) Mass : 326 (M+1>. 325
(M). m/e 324. 284.282,
218. 174 ?10」少 実施例24で製造した4−アセトアミド−2′クロロー
4′−アミノジフエニルスルホン(6.1g)およびト
リエチルアミン(7.6g)のN.N−ジメチルホルム
アミド(6G111 )溶液に、塩化メタンスルホニル
(6.45g)を攪■拌下5゜Cで滴下する.混合物を
室温で5時間攪拌する.反応a合物を減圧a縮し,歿渣
を氷水中に注ぐ.沈殿を濾取、水洗、風乾して固体(4
−アセトアミドー2′−クロロー4′一メタンスルホニ
ルアミノジフェニルスルホンと4−アセトアミドー2′
−クロロー4′ −ジメタンスルホニルアミノジフエニ
ルスルホンとの混合物)を得る.固体をテトラヒドロフ
ラン( 420fflJ+ )と水( 70111Q
)との混合物に加え、攪拌下IN*酸化ナトリウム水溶
液でp}19. 5に調整する.混合物を50”Cで3
時間攪拌する.反応混合物のpttを、さらにIN水酸
化ナトリウム水溶液を加えて9. 0− 9. 5に維
持する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水冷攪拌下1
0%塩酸でpH2. 0に調整する.沈殿を濾取、水洗
、風乾して固体を得る.固体をシリカゲル(和光ゲルC
−200、100−200メッシュ、和光純薬社製)(
180g)を使用する力2ムクロマトグラフィーに付し
、クロロホルムとメタノールとの混液(30:1)で溶
出する.目的化合物を含む両分を合わせ、減圧濃縮して
、4−アセトアミド−2′−クロロー4′一メタンスル
ホニルアミノジフエニルスルホン(3.74g,収率4
9.4%)を得る. 融点201− 202℃ IR (ヌジタール) 3400−3250.
3100, 1680. 1595.1535.
1408. 1325. 1305,1150 cm−
’ NMR (DMSO−d6.90MHz,ppm> 2
.06 (3H.s). 3.13(3H.s). 7
.16−7.43 (21,m). 8.00−8.2
3(IH.m). 10.29 (IH.s), 10
.40−10.75(IH.bs) Mass : 404 (M+1). 403 (M)
, rn/e 362. 360.324. 282 大1d艷仲 4−アセトアミド−4′−アミノジフェニルスルホン(
13.9g)のテトラヒドロフラン(400mQ)およ
び水( 140+IL11 )の混合物溶液のpHを攪
拌下飽和炭酸ナトリウム水溶液でpH8−9に調整する
.混合物に塩化カルボベンズ才キシ(36.8g)を攪
拌下5℃で滴下する.反応混合物を5℃で2.5時間攪
拌する.さらに飽和炭酸ナトリウム水溶液を用いて反応
混合物のpHを8−9に維持する.反応混合物を酢酸エ
チルで抽出し、水洗して硫酸マグネシウムで乾燥する.
硫酸マグネシウムを濾去後、濾液を減圧下に蒸発乾固す
る.次いで残渣を500mQフラスコに移し、n−ヘキ
サン( 3QQmQ )中20分間攪拌する.沈殿を吸
引濾過してn−ヘキサンで洗浄し、風乾して4−アセト
アミド−4′ペンジル才キシ力ルポニルアミノジフェニ
ルスルホン( 19.95g ,収率98.2%)を得
る.融点213−214’C IR (スジ1−ル) 3330. 3250.
1745、 1650. 1595.1580.
1540. 1410. 1320 crtr−’N
MR (DMSO−d6,90MHz.ppm) 2.
05 (3H.s>. 5.12(2H.s), 7
.17−7.43 (5H.m). 7.46−7
.86(8H.m>, 10.06−10.33
(2H.m)Mass : 425 (M+1>
,424 (M>.m/e 407,380,316
, 300. 290 叉』藁』虹 実施例26で製造した4−アセトアミド−4′ペンジル
才キシ力ルポニルアミノジフェニルスルホン( 19.
9g )および6N塩酸( 3011Q ) (7)エ
タノール( 400ml1 )中a合物を撹拌下5時間
還流する.反応混合物を減圧濃縮して水で希釈し、次い
で炭酸水素ナトリウム飽和水溶液でpH8に調整する.
沈殿を濾取、水洗、風乾して、4−アミノー4′ −ベ
ンジル才キシ力ルポニルアミノジフェニルスルホン(1
7.0g、収率94.8%)を得る.融点198− 2
00℃ IR (スジ3−ル) 3480. 3390.
3330, 1730. 1635,1595
. 1535, 1410. 1300,1230 c
m−’ NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm> 5
.13 (2}1.s). 5.50(2H.d,J=
9Hz>. 7.18−7.80 (13H.m),
10.10(11,bs) Mass : 383 (M+1), 382
(M), m/e 33g. 274,248.
210 太1聖艷輝 4−アセトアミド−4′ −アミノジフェニルスルホン
(5g)とトリエデルアミン(3g)とのN,N−ジメ
チルホルムアミド( IOOIIQ )中混合物に、塩
化メタンスルホニル(12.3g)を攪拌下5゜Cで滴
下する.反応濯合物を5゜Cで2時間攪拌し、減圧濃縮
して油状残渣を得る.油状残渣に水を加え、沈殿を濾取
、水洗、真空乾燥して、4一アセトアミド−4′ 一(
メタンスルホニルアミノ)ジフエニルスルホン( 8.
0g , 収率94.6%)を得る. 融点230− 235℃(分解) NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) 2
.07 (3H.s). 3.63(3H.s), 7
.50−8.07 (8H.m)Mass : 369
(M+1). 368 (M). m/e 326.
290.248 束1dl益 4−アセトアミド−4′ −アミノジフエニルスルポン
(6g)および濃塩酸( 16mQ) (y)酢酸(1
26mN)および水( 26mQ)中a合物に、亜硝酸
ナトリウム(3g)の水( 10+nll )溶液を水
冷攪拌下5゜C未満の温度で滴下する.混合物を5℃で
1時間攪拌する.混合物に塩化第一スズ(20g)の濃
塩酸( 1oomu )溶戒を塩一氷冷却攪拌下O℃で
滴下する.反応d合物をO″Cで2時間攪拌し、次いで
室温で3日間放置する.反応混合物を40%水酸化ナト
リウム水溶液でpH12に調整し、次いで水冷下2時間
攪拌する.沈殿を濾取、水洗、真仝乾燥して、4−アセ
トアミド−4′ −ヒドラジノジフエニルスルホン(3
g1収率42.6%)を得る.融点260−270℃ IR (スジ*−L> 3450. 3350−
3200. 1685. 1630,1595.
1380. 1290 cm−’NMR (DMSO−
d6.90MHz.ppm>2.06 <38,s)
, 4、15 (LH.s). 5.93
(2H.s)6.75 (2H.d.J=9Hz),
7.65−7.95 (6H,m)Mass :
306 (M+1), 305 (M).
m/e 290, 263,248 東』饗艷四 4−アセトアミド−3′−メトキシー4′一二トロジフ
エニルスルホン(4.0g)のテトラヒド口フラン(
5011111 )とメタノール( tooma )と
の混合物溶液を10%パラジウムー炭素(1g)の存在
下、常温で大気圧下に2時間水素添加する.触媒を濾去
し、次いで濾液を減圧下に蒸発乾固して、4−アセトア
ミド−3′−メトキシー4′−アミノジフエニルスルホ
ン( 3.5g ,収率95.9%)ヲ得る。 融点; 193−194゜C IR (ス九−4) 3500. 3350−3
150. 1680, 1615.1590, 1
515. 1380 cm−’NMR (DMSO−d
6.60MHz.ppm) 2.10 <3H.s),
3.85(38,s). 6.57 (IH.d.J
=8Hz). 7.20 (IH.bs). 7.27
(LH.d.J=8Hz). 7.80 (4H,s
).10.30 (l}l,s) 束1畳艷吋 実施例25で製造した4−アセトアミド−2′クロロ−
4′ 一メタンスルホニルアミノジフエニルスルホン(
3.6&)(7)6N塩酸(5.4ml!)およびエタ
ノール( 70ma )中混合物を攪拌下5.5時間還
流する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水冷下炭酸水
素ナトリウムでpttsに調整する.混合物を酢酸エチ
ルで抽出し、水洗して硫酸マグネシウムで乾燥する.有
機層を減圧濃縮して、4−アミノ−2’ −クロロ−4
1−メタンスルホニルアミノジフェニルスルホン(2.
1g.収率65.1%)を得る. 融点84−94℃ IR (スジ音一ル) 3520−3100.
1630. 1595, 1505.!340,
1310. 1160 cm−’NMR (DMSO−
d6.90MHz,ppm) 3.13 (3H,s)
. 6.11(2H.bs). 6.43−6.66
(2H.m), 7.13−7.50(4H.m).
8.03 <18,d,J=9Hz). 10.20−
10.76(IH.bs) Mass : 362 (M+1), 361 (M)
. m/e 282. 278.205, 149 采』U艷共 塩化第一スズ(6g)の濃塩#( 61+LQ)中混合
物に4−アセトアミドー3′−メトキシー4′二トロジ
フエニルスルホン( 2 g ) ヲJWt4’下!温
で少量ずつ分割して加える.混合物を攪拌下100℃に
3時間加熱する.反応混合物を水冷下40%水酸化ナト
リウム水溶液を用いてpH12に調整する.沈殿を濾取
、水洗、真空乾燥して、4.4′−ジアミノー3−メト
キシジフエニルスルホン(1.40g、収率88.l%
)を得る. 融点195°C(分解) NMR (CF3COOH,60MHz,ppm) 4
.16 (3H,s). 7.83(3H,s). 7
.67−7.90 (3H,m). 7.73 (2H
.d,J−8Hz>. 8.27 (2H.d.J=8
Hz)Mass : 279 (M+1). 278
(M). m/e 263, 213.171 犬1饗艷月 実施例27で製造した4−アミノー4′−ベンジル才キ
シカルボニルアミノジフエニルスルホン(ta.tg)
および濃塩酸( 5511IQ )の酢酸(HomQ)
と水( 220mll )との混合溶媒中混合物に、亜
硝酸ナトリウム(3.08g)の水C 35mll ’
)溶液を攪拌下5゜Cで滴下する。次いで混合物を5℃
で0.5時間撹拌する.反応渭合物に塩化第一スズ(
25. 12g)の濃塩酸< 220+1Q )溶液を
攪拌下O℃で滴下する.混合物を0゜Cで2時間攪拌し
、室温で一夜放置する.沈殿を濾取、水洗、風乾して、
4−ヒドラジノ−41−ペンジノレ才キシカノレポ二ノ
レアミノジフエニルスルホン・塩酸塩(14.5g,
収率90.6%)を得る. 融点l60℃(分解) IR (スジ!−4> 3400−3250.
1735, 1720, 1705.1595.
1530. 1305. 1220 am−1NMR
(DMSO−d6,90MHz,ppm) 5.17
(28,s). 5.30−5.93 (3}1.m>
. 7.13−8.13 (13H,m). 10.2
3(18,bs) Mass : m/e 364, 355, 323,
293, 258塞1υ乱む 実施例35で製造した4−アセトアミドーN一[4−(
4−アミノベンゼンスルホニル)フエニル]ベンゼンス
ルホンアミド(5.2g)の濃塩酸( 1smu )お
よび水( toomQ)中混合物を攪拌下3.5時間還
流する.反応混合物を減圧濃縮する.残渣を水に溶解し
、次いで溶液を水冷攪拌下炭酸水素ナトリウムでpH7
.0に調整する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4
−アミノーN−[4−(4一アミンベンゼンスルホニル
)フエニル]ベンゼンスルホンアミド(3.5g,収率
74.3%)を得る. 融点235℃(分解) IR (スジ9−ル) 3500. 3370.
1630. 1595. 1500.1380
. 1300 cta−’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm)
5.50 (4H.bs). 6.51(2H.
d.J=9Hz). 6.57 (2H.d.J=9}
1z). 7.13(2H.d.J=9Hz). 7.
40 (2H.d.J=9Hz). 7.43(2H,
d.J=9Hz). 7.61 (2H.d.J=9H
z>. 10.40(LH.s) 束』0艷出 4−アセトアミドーN−[4−(4一二トロベンゼンス
ルホニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド(6&)
のテトラヒド口フラン(200mEI )、メタノール
( 200mQ )およびN,N−ジメチルホルムアミ
ド( 50mQ )の混合物溶液を、10%パラジウム
ー炭素(3g)の存在下常温で大気圧下に1.5時間水
素添加する.触媒を濾去し、次いで濾液を減圧濃縮して
、4−アセトアミドーN−(4−(4−アミノベンゼン
スルホニル)フエニルコベンゼンスルホンアミド(5.
2g,収率92.5%)を得る. 融点288−289℃ IR (スジ1−ル) 3400. 3350.
3270, 1675. 1630.1595
, 1535. 1380. 1300 cm−’NM
R (DMSO−d6,90MHz.ppm) 2.0
7 (3H.s). 5.25(2H.bs), 6
.62 (2H.d,J=9Hz). 7.23
(2H,d,J=9Hz), 7.50 (2H.d
.J:9Hz). 7.73 (2H,d,J=2Hz
). 7。78 (4H.s). 10.27 (IH
.s),10.77 (IH.s) Mass : 445 (M).m/e 402
.370.289.248東101曲 N,N−ジメチルホルムアミド(0.2g)と才キシ塩
化リン(0.43g)との混合物を5℃で30分間攪拌
する.これに乾燥テトラヒドロフラン(5.6ntQ)
を加える.これにアセチルサリチル酸(0.46g)を
水冷攪拌下に加え、混合物を5℃で1時間攪拌して活性
化酸溶液を製造する.一方別に実施例33で製造した4
−ヒドラジノ−4′ −ベンジルオキシカノレボニノレ
アミノジフエニノレスノレホン●塩酸塩(L.Og)お
よびテトラヒドロフラン(2〇一)および水( 20m
l! )の混合物を攪拌下5゜Cで飽和炭酸ナトリウム
水溶液でpH7−8にm整する.混合物を上記で製造し
た活性化酸溶液に撹拌下5゛Cで滴下する.反応混合物
を5゜Cで2時間攪拌する.さらに飽和炭酸ナトリウム
水溶液で反応混合物のpHを7−8に保つ.反応混合物
を酢酸エチルで抽出し、飽和炭酸ナトリウム水溶液で洗
浄して硫酸マグネシウムで乾燥する.硫酸マグネシウム
を濾去後、濾液を減圧濃縮して、4−[(2−アセトキ
シベンゾイル)ヒドラジノコー4′ −(ペンジル才キ
シカルボニルアミノ)ジフェニルスルホン(1.02g
、収率79,1%)を得る.IR (スジ9−ル)
3330. 3200. 1740. 170
5. 1655.1595. 1550. 1305
cm−lNMR (DMSO−d6.90MHz.p
pm) 2.16 (3H,s). 5.14(2H.
s), 7.03−7.97 (18H.m). 10
.07−10.30(2H劃) Mass : m/e 445, 384, 331.
274衷1畳艷V 実施例39で製造した4−アセトアミドーN−(4−イ
ンブロピルアミノフエニル)一N−メチルベンゼンスル
ホンアミド(3g)および濃塩酸C 3fflll)の
エタノール( 40+1111 )中混合物を撹拌下2
時間還流する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を濃水酸
化アンモニウム水溶液で水冷下p}19. 0に調整す
る.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−アミノーN
−(4−イソプロビルアミノフェニル)一N−メチルベ
ンゼンスルホンアミド(1.50g1収率84.9%)
を得る. 融点201− 202゜C(分解) IR (スジ9−ル) 3500. 3400,
1625, 1615. 1600.1515
. 1325 am−1 NMR (DMSO−d6,90MHz,ppm) 1
.06 (6}1,d.J=6Hz>.2.90 (3
H,s). 3.43 (1H,q.J:6Hz),
5.35<LH.d,J=9Hz). 5.90
(2H.s), 6.35 (28,d,J=9H
z>. 6.50 (2H.d.J:9Hz),
6.65 (2H.d,J=9Hz). 7.05
(2H.d.J=9Hz>Mass : 320
(Ma1). 319 (M). m/e 163
東1u生1 4−アセトアミドーN−メチルーN−(4−ニトロフェ
ニル)ベンゼンスルホンアミF(5.5g)のメタノー
ル( 200IflQ )とテトラヒド口フラン( z
oomQ)との混合物溶液を、10%パラジウムー炭素
の存在下、常温で大気圧下に2時間水素添加する.触媒
を濾去し、次いで巌液を減圧濃縮して、4−アセトアミ
ドーN−(4−アミノフェニル)−N−メチルベンゼン
スルホンアミド(5.0g5収率99.5%)を得る. 融点150− 152℃ IR (スジヲール) 3550. 3400−
3200. 1690, 1645.1615.
1590, 1540. 1515. 137
0.1340. 1320 crn−’ 衷1d艷抑 4−アセトアミドーN−メテルーN−(4−二トロフエ
ニル)ベンゼンスルホンアミF(4.5g)のテトラヒ
ド口フラン( roo−) 、メタノール( 100m
Q )およびアセトン( toomc )の混合物溶液
を, 10%バラジウムー炭素(2g)の存在下、常温
で大気圧下に2時間水素添加する.触媒を濾去し、次い
で濾液を減圧濃縮して、4−アセトアミド−N−(4−
インプロビルアミノフエニル)一N−メチルベンゼンス
ルホンアミF(4.5g,収率96.7%)を得る. 融点175℃ IR (スジッール> 3350. 1695.
1680. 1610. 1595.1515
. 1380 cm−’ NMR (CF3COOH.60MHz,ppm) 1
.50 (68,d.J:6Hz).2.40 (38
,s), 3.30 (38,s). 4.00 (I
H.q.J=6Hz),7.35−7.57 (4H
.m).7.60−7.90(4H.m), 8.7
0 (IH.m). 9.00 (LH,s)Mas
s : 361 (M) 衷』己』籾 実施例42で製造した4−アセトアミドーN−メチルー
N−(4−メタンスルホニルアミノフェニル)ベンゼン
スルホンアミド(4.96g)および6N塩M(10畝
)のエタノール( 100IfiI2)中混合物を攪拌
下3.5時間還流する.反応混合物を減圧濃縮して水で
希釈し、次いでIN水酸化2ナトリウム水溶戒でpH9
. 0に調整する.混合物を酢酸エチルで抽出し、水洗
して硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウムを
濾去後、濾液を減圧下に蒸発乾固して、4−アミノーN
−メチルーN−(4−メタンスルホニルアミノフェニル
)ベンゼンスルホンアミド(3.35g,収率75.5
%〉を得る.融点150−152℃ IR (スジl−L) 3500. 3400−
3300. 1635. 1595.1505.
1340−1305. 1225. 1150 cm−
’MNR (DMSO−d6.90MHz,ppm>
”2.98 (3H,s). 3.00(3H.s).
5.98 (2H,bs), 6.53 (
2H,d.J=9Hz).6.90−7.20 (6
H.m)Mass : 356 (M+1>,35
5 (M).m/e 275,199,156 大1畳艷l 4−アセトアミドーN−メチルーN−(4−アミノフエ
ニル)ベンゼンスルホンアミト<5.2g)およびトリ
エチルアミン(6.6g)のN,N−ジメテルホルムア
ミド( 50m11 )中混合物に、塩化メタンスルホ
ニル(5.6g)を攪拌下5℃で滴下する.混合物を室
温で2時間攪拌し、減圧濃縮して残査を水冷下水で粉砕
する.沈殿を濾取、水洗、風乾して、4−アセトアミド
ーN−メチルーN−(4−ジメタンスルホニルアミノフ
エニル)ベンゼンスルホンアミド( 10.58g ,
収率136.6%)を得る. 融点161−164℃ IR (スジ旨一ル) 3650−3100.
1695. 16g0. 1595.1540,
t505. 1350. 1250.1160 cm−
1 NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm> 2
.10 (3H.s). 3.15(3H.s).
3.67 (3H.s). 5.34 (3H.s
). 6.90−7.84 (8H.m), 10
.3 (1N,bs)Mass : 476 (M
a1), 475(M), m/e 297,
296,200, 199, 198 叉1d生婬 実施例4lで製造した4−アセトアミドーN−メチルー
N−(4−ジメタンスルホニルアミノフエニル)ベンゼ
ンスルホンアミド(7.74g)のテトラヒドロフラン
( 32011111 )と水( 50ffil! )
との混合物溶液を攪拌下1N水酸化ナトリウム水溶液で
pH10. 4 − 10. 6に調整する.渇合物を
50℃で6時間攪拌する。反応混合物のpHを、さらに
1N水酸化ナトリウムを使用して10.4−10、6に
維持する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を攪拌下10
%塩酸でpH2.0にmyする.混合物を酢酸エチルで
抽出し、水洗して硫酸マグネシウムで乾燥する.硫酸マ
グネシウムを濾去後、濾戒を減圧下に蒸発乾固して、4
−アセトアミドーN−メチルーN−(4−メタンスルホ
ニルアミノフェニル)ベンゼンスルホンアミド(5.0
6g、収率78.2%)を得る.融点197−198℃ IR (スジa−1> 3350−3150.
1680. 1665. 1610.1595,
1550. 1405, 1330.1270 am’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) 2
.12 (3H.s), 3.03(31,s), 3
.10 (3H,s), 7.08 (4H,dd,J
=3Hz,9Hz>, ?.43 (2}1,d,J;
9Hz). 7.73 (2H.d,J=9Hz),
9.76 (LH.bs). 10.30 (LH.b
s)Mass : 39B (M+1>, 397 (
M), m/e 368, 254,199 大1dlり 4−アセトアミドーN−(4−ニトロフェニル)ベンゼ
ンスルホンアミド(2g)のメタノール( 50ml1
)およびアセトン( somQ)の混合物溶液を10
%パラジウムー炭素(2g)の存在下、常温で大気圧下
に1時間水素添力Uする.解媒を濾去し、次いで濾液を
減圧濃縮して、4−アセトアミ}’一N−( 4−イソ
プロビルアミノフェニル)ベンゼンスルホンアミド(2
.13g、収率102.9%)を得る. 融点210− 213℃ tR (スジa−4) 3350. 3250.
1670, 1610, 1595.1515
. 1380. 1160 am−1MNR (DMS
O−d6,90MHz.ppm> 1.06 (6H,
d,J=9Hz).2.05 (3H,s). 3.1
0−3.50 (18,m). 5.20(LH.bs
). 6.33 (2H,d.J;9Hz). 6.6
6 (2H.dJ=9HZ). 7.48 (2H,d
,J=9Hz), 7.63 (21d,J=9Hz)
, 9、23 (1}1,s). 10.16 (IH
,s)Mass : 348 (M+1). 347
(M>. m/e 149, 107衷1d艷り 4−メタンスルホニルアミノアニリン(5.4g)のN
,N−ジメチルアニリン( 13111 )中混合物に
、塩化4−アセトアミドベンゼンスルホニル(6.3g
)を攪拌下100℃で少量ずつ分割して加える.混合物
を攪拌下l00℃に4時間加熱する.反応混合物を6N
塩酸中に水冷攪拌下に注ぐ.沈殿を濾取、水洗、真空乾
燥して、4−アセトアミドーN−(4−メタンスルホニ
ルアミノフェニル)ベンゼンスルホンアミト( 8.0
8g , 収率78.4%)を得る. 融点223− 235℃ IR (スジ,−x) 3200. 1680.
1595. 1530. 1380.1330
. 1155 cm−’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm>
2.06 (3H,s). 2.90(3H,s
), 7.00 (4H.s), 7.63 <4H.
s). 9.46(tH,s). 9.96 (I
H,s). 10.23 <1}1.s)Mass
: 384 (M+1), 383 (M). ml
e 304, 240,198 犬』聖艷り 実施例44で製造した4−アセトアミドーN−(4−メ
タンスルホニルアミノフェニル)ベンゼンスルホンアミ
ド(8g)の濃塩酸( 12mQ )およびエタノール
( l6am )の混合溶媒中a合物を撹拌下4時間還
流する.反応混合物を減圧濃縮して残渣を水に溶解し、
次いで溶演を水冷攪拌下炭酸水素ナトリウムでpH7に
調整する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−アミ
ノーN−(4−メタンスルホニルアミノフェニル)ベン
ゼンスルホンアミド(6.53g、収率9l.7%)を
得る.融点190− 194℃ 工R (スh−ル) 3500. 3400,
3260, 1635, 1600.1380.
1315 cm” NMR (DMSO−d6、90MHz,ppm) 2
.86 (3H.s), 5.86(21,s).
6.50 (2H.d.J=9Hz>. 7.00
(4H,s),7.31 (2H,d,J=9Hz>.
9.40 (LH.s). 9.63(LH.s
) Mass :342 (M+1). 341 (
M), m/e 262. 185.157 太1聖40 実施例43で製造した4−アセトアミドーN−(4−イ
ソプロビルアミノフエニル)ベンゼンスルホンアミド(
5.6g)の濃塩酸(g,4mQ)とエタノール( 1
10+1111 )との混合溶媒中混合物を攪拌下3,
5時間還流する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水に
溶解する.溶液を炭酸水素ナトリウムで水冷攪拌下pH
7. 0に調整する.沈殿を濾取、水虎、真空乾燥して
、4−アミノーN−(4−イソブロビルアミノフエニル
)ベンゼンスルホンアミド(4.3g,収率87.6%
)を得る.融点160− 166℃ IR (スジs−J 3500. 3400.
1630. 1600, 1525,1380.
1320. 1155 cm−’NMR (DMSO
−d6,90MHz,ppm) 1.07 (6H,d
,J=6Hz),3.15−3.50 (IH.m).
5.66 (28,bs), 6.33(2H.
d.J=9Hz). 6.46 (2H.d.J=9
Hz), 6.70<21,d,J=9Hz),
7.20 (2}1.d,J=9Hz>, 8.93
(1}1.s) Mass : 305 (M), m/e 20
2, 159, 149, 107叉』d生灯 4.4′−ジアミノジフエニルメタン(5g)の酢酸(
50−)溶液に、無水酢酸(6g)を攪拌下40’C
未満の温度で滴下する.渭合物を常温で1時間攪拌する
.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4.4’−ジアセ
トアミドジフェニルメタン(6.9g、収率99.0%
)を得る.融点225℃ IR (スジm−4) 3200, 1650,
1595. 1520 cm−’NMR (D
MSO−d6,60MHz.ppm) 2.03 (6
H.s). 3.82(2H.s). 7.15 (4
H.d,J=6Hz>, 7.53 (4H.d,J=
6Hz).9、87 (2H,s)大1畳引り 二酸化クロム(35g)の酢酸(B,5mQ)および水
(1.8mll)中混合物に、4.4′−ジアセトアミ
ドジフエニルメタン(1g)を攪拌下80℃で少量ずつ
分割して加える.a合物を攪拌下90℃に1時間加熱す
る.反応混合物を水冷攪拌下水中に注ぐ.沈殿を濾取、
水洗、真空乾燥して、4.4′−ジアセトアミドジフエ
ニルケトン(0. 4 g、収率38%〉を得る. 融点233−234”C IR (スジ9−4) 3550. 3350.
1690, 1635. 1600.1530
am’ NMR (DMSO−d6.60MHz,ppm) 2
.12 (6M,s). 7.77(8}1.s).
10.30 (2H,s)Mass : 297
(M+1). 296 (M), m/e 254.
212.120 叉』uMリ 4.4′−ジアセトアミドジフェニルケトン(4g)の
メタノール( 200ffLI+ )溶液に、水素化ホ
ウ素ナトリウム(1.8g)を攪拌下30℃未満の温度
で加える。混合物を室温で2時間攪拌する.反応混合物
を戚圧a縮し、IA/iilを10%塩酸で水冷攪拌下
pH2. 0に調整する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥
して、4.4′−ジアセトアミドベンゾヒドロール(4
.0g、収率99.3%)を得る.融点185℃ IR (スジ3−ル) 3150−3250.
1665. 1660. 1610 am−1N
MR (DMSO−d6.60MHz.ppm> 2.
00 <6H,s), 5.30(LH,s). 7.
30 (4H.d,J=8Hz). 7.77 (4H
.d.J:81{z). 9.90 (2H.s)Ma
ss : M 298. m/e 281. 239X
凰盟迎 4.4゛−ジアミノシフエニルケトン(5.1g>とO
−アリルヒドロキシルアミン・塩酸塩( 13.3g)
とのメタノール( 150ml! )およびテトラヒド
口フラン( sOmN )の混合溶媒中混合物を室温で
50時間攪拌する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水
を加える.溶液をIN*酸化ナトリウム水溶液でpH9
. 0に調整し、水冷下1時間攪拌する.沈殿を濾取、
水洗、乾燥して固体を得る.固体をシリカゲノレ(シリ
カゲノレ60、70−230メッシュ、メルク社製)(
200g)を使用するカラムクロマトグラフィーに付し
、クロロホルムとメタノールとの混液(20:1)で溶
出する.目的化合物を含む両分を合わせ、減圧濃縮して
固体(6.4g)を得る.固体を酢酸エチルとn−ヘキ
サンとの渇液(5:1)から再結晶して、4.4′−ジ
アミノジフェニルケトン・アリル才キシム(4.1g,
収率70.2%)を得る. 融点144−145℃ IR (スジ】−ル) 3450. 3350,
1620. 1605.1510 ca+−’ NMR (DMSO−da.90MHz,、ppm)
4.50 (2H.d.J;5Hz>.5.16 (2
H.d.J=10Hz). 5.30 (4H.s).
5.8−6.20 (IH.m). 6.46 (2
H.d.J=5Hz). 6.56(2H.d.J=5
Hz), 6.95 (2H.d.J=5Hz). 7
.15(2H.d.J=51{z) Mass 二 268 (Ma1), 267
(M). tm/e 226. 210.19
6 束144u 4.4″ −ジアミノベンジル(5g)および〇一メチ
ルヒドロキシルアミン・塩酸塩(2.1g)のメタノー
ル( IOOIIIQ )とテトラヒドロフラン(10
ffIQ)との混合溶媒中混合物を室温で24時間攪拌
する.反応混合物を減圧濃縮する。残清に水を加え、a
合物を1N水酸化ナトリウム水溶液でpH9.0に調整
する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥し、エタノールから
再結晶して、4.4′−ジアミノベンジル七ノメチル才
キシム(4.5g,収率80.3%)を得る. 融点190− 192℃(分解) IR (スジs−4> 3450. 3350.
1625. 1610, 1580,1545
. 1515 a11 NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) 3
.85 (3H.s), 5.70(48,broad
s), 6.67 (4H,dd.J=2Hz, 9
Hz>,6.27 (2H.d.J=9Hz), 7.
63 (2H.d,J=9Hz)Mass : 2
70 (M+1). 2fi9 (M), m
/e 209, 120東1口艷坐 4−アセトアミド−31−メチル−4′一二トロジフェ
ニルケトン( 17.9g ) 、塩化アンモニウム(
1.93g)および鉄粉(19.2g, 60メッシュ
)のエタノール( 1gomc )、テトラヒドロフラ
ン(180咽)および水( 901111! )の混合
溶媒中混合物を攪拌下2時間還流する. 反応混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮する、残虐を水冷
下水で粉砕する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4
−アセトアミドー4′−アミノー3′ −メチルジフエ
ニルケトン( 15.05g ,収率99.7%)を得
る. 融点: 233−238℃ IR (スジー−ル) F 3400. 33
50, 3300. 1690. 1630,1
600. 1575. 1530. 1290 am−
INMR (DMSO−d6.60MHz.ppm)
: 2.00−2.15 (6H.m).5.80 (
2H.bs). 6.67 (2H.d.J=8Hz)
. 7.40(3}1.d.J=8Hz), 7.63
−7.67 (4H.m). 10.20(IH.bs
) Mass : 269 (MO>. 268 (M).
m/e 253. 226.211, 134 衷m逃 4−アセトアミド−4′−アミノー3′−メチルジフエ
ニルケトン(15.0g)の濃塩rim ( 2511
19 )およびエタノール( 150mA )中混合物
を攪拌下5時間還流する. 反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水に溶解する.m液を
1N*fa化ナトリウム水溶液で水冷下ptttoに調
整する。沈殿を濾取、水洗、風乾して固体を得る.固体
をシリカゲル(シリカゲル60、230− 400メノ
シュ、メルク社製)(400g)を使用するカラムクロ
マトグラフィーに付し、ジクロロメタンとアセトンとの
混液(30:1)で溶出する.目的化合物を含む両分を
合わせ、蒸発乾固して、4.4’ −ジアミノ−3−
メチルジフエニルケトン(9.48g、収率74.9%
)を得る.融点: 145−147”C IR (ス九−ル) i 3350, 163
5, 1600. 1580. 1550,13
20. 1270 am−’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) :
2.13 <38.s), 5.27<2H.bs)
. 5.85 (2H.bs). 6.63 (2
H.d,J=9Hz). 6.70 (IH.d.J
=9Hz>. 7.30−7.63(4H.m) Mass : 227 (Ma1). 226
(M), m/e 211. 134叉』di鶏 4.41−ジアミノジフエニルケトン(5g)および第
三級プトキシ力ルポニルメトキシアミン(3.9g)の
メタノール( 1oomu )、テトラヒドロフラン(
50mll), N,N−ジメチルホルムアミド(5m
Q)および濃塩#(11111)の混合溶媒中混合物を
室温で48時間攪拌する.反応混合物を減圧濃縮し、残
渣を水で粉砕する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、
1.1−ビス(4−アミノフェニル)−1−(第三級ブ
トキシ力ルポニルメトキシイミノ)メタン(6.9g、
収率74.5%)を得る.融点i 145−146℃ IR (スジa−x) : 3450. 33
50. 3220. 1735. 1640.1
625. 1515 am’ NMR <DMSO−d6.60MHz.ppm) :
1.47 (9H,s). 4.50(2H.s).
5.40 (4H.bs). 6.50 (2H.d
.J=9Hz). 6.57 (2H.d.J:9H
z). 7.10 (2H.d.J=9Hz>.
7.20 (2H.d.J:9Hz>Mass :
342 (tD1), 341 (M).
m/e 285. 200裏1異艷野 1.1−ビス(4−アミノフェニル)−1−(第三級ブ
トキシ力ルポニルメトキシイミノ)メタン(6.9g)
の混合物にトリフル才口酢酸(28一)およびアニソー
ル(70mQ )のジクロロメタン( 20fflfi
)中混合物を水冷攪拌下5℃で滴下する.混合物を室
温で2.5時間攪拌し、反応混合物を減圧下に蒸発乾固
する.残渣をIN水酸化ナトリウム水溶液に溶解し、溶
液を酢酸エチルで洗浄する.水層を大孔非イオン吸着樹
脂「ダイヤイ才ンHP−20J(商標、三菱化成工業社
製)を使用するカラムクロマトグラフィーにイオし、3
0%イソプロビルアルコール水溶液で溶出する.目的化
合物を含む画分を合わせ、半容まで減圧濃縮して、1.
1−ビス(4−アミノフエニル)−1一カノレボキシメ
トキシイミノメタン( 4. 1 g , 収率71.
1% )を得る. 融点: 250−253℃(分解) IR (スジm−4) ’ 3450. 33
50, 2550. 2450. 1650.1
620. 1600. 1515. 1325 cm−
’NMR (DMSO−ds.90MHz) : 4.
51 (2H,s). 6.40−6.65 (6}1
,m), 6.90−7.22 (6H.m)Mas
s : 286 (M+1), 285 (M)
. 11/1! 227. 210叉1畳艷四 後述の実施例59と同様にして、4−アセトアミドーN
一(4−ニトロ−2−クロロフエニル)ベンゼンスルホ
ンアミドから出発して、4−アセトアミドーN−(2−
クロロ−4−アミノフェニル)ベンゼンスルホンアミF
( 2.0g , 収率94.7%)を得る. 融点: 228−230℃ IR (スジ*−1> ’ 3475. 33
50, 3300. 1690. 1630,1
595. 1530. 1505. 1160 cm’
NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm) ’
2.07 (3H.s). 5.37(2H.s).
6.3−6.50 (21,m). 6.75 (I
H.d,J=9Hz). 7.55 (2H.d.J=
9Hz>. 7.17 (2H.d,J=9Hz).
9.20 (LH.s). 10.22 (IH.s)
Mass ; 341 (M+2).340 (
M+1).339 (M).m/e 304, 24
0, 220. 205叉m{M迦 4−アセアミドーN−(4−アミノー2−クロロフェニ
ル)ベンゼンスルホンアミF(2.8g)のエタノール
(56IIIIl)および濃塩酸(4、21IQ)中混
合物を攪拌下6時間還流する. 反応混合物を減圧濃縮し、残清をlO%炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で水冷攪拌下pH8.5にy4tする. 沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−アミノ−N−(
4−アミノー2−クロロフェニル)ベンゼンスルホンア
ミド(1.89g,収率77.1%)を得る. 融点: 140−142℃ IR (スジ*−4> ’ 3350. 32
50, 1625. 1600. 1500.1
315 crm−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) 7
5.33 (2H.s). 5.87(2H.s),
6.40 (2H.d.J;9Hz>. 6.57
(2H.d.J=9Hz). 6.80 (IH,d.
J=9Hz>. 7.33 (2H.d.J=9}1z
). 8.73 (IH.s)Mass :
301 (M+3), 300 (M+2).
299 (M+1).298 (M). rn/e
231, 197, 143. 141去14生
東 4−アセトアミドーN一(2−クロロー4−ニトロフエ
ニル)一N−メチルベンゼンスルホンアミド(3.45
g)および塩化第一スズ(6.9g)の濃塩H (35
+1111 )、テトラヒド口フラン( 25mQ )
およびメタノール( 25ffLQ )中混合物を60
℃で2時間攪拌する.反応混合物を威圧濃縮して水で希
釈し、次いで24%水酸化ナトリウム水溶液で水冷下p
H10.0にU4整する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥
して固体を得る.固体をシリカゲル(和光ゲルC一20
0、100−200メッシュ、和光純薬社製)(100
g)を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、クロ
ロホルムで溶出する.目的化合物を含む画分を合わせ、
減圧濃縮して、4−アミノーN−(4−アミノー2−ク
ロロフエニル)−N−メチルベンゼンスルホンアミド(
2.32g、収率82.8%)を得る. 融点i 135−136℃ IR (スジ3−ル’) : 3480. 3
380, 1625, 1595。 134013
15. 115(l cm−’ NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm) :
3.08 (3H,s>. 6、05(2H,bs)
, 6.60 (2H,d.J=8Hz), 7.
00−7.50(7H.m) Mass i m/e 287.276.262.
156叉』畳艷I 4.41−ジニトロ−2−クロロジフエニルスルホキシ
ド(5.3g)および塩化アンモニウム( 1 g )
(’)工1/−ル(2001nQ)、テトラヒド口フラ
ン(50IIIl)、メタノール(50III11)お
よび水( 501119 )の混合溶媒中混合物に、鉄
粉(10g)を攪拌下80℃で少量ずつ分割して加える
.混合物を攪拌下2,5時間還流する.反応混合物を濾
過し、濾液を減圧濃縮する.残渣をシリカゲル(シリカ
ゲル60. 70−230メッシュ、メルク社製)を使
用するカラムクロマトグラフイーにf寸し、クロロホル
ムとメタノールとの混液(10;1)で溶出する.目的
化合物を含む画分を合わせ、減圧下に蒸発乾固して、4
.4′−ジアミノー2−クロロジフエニルスルホキシド
( 4.2g . 収率97.2%)ヲ得る. 融点: 190−193℃(分解) IR (ヌh−ルン : 3450, 3350
. 3200. 1630. 1595.131
0 am’ NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm)
: 5.70 (2H.s). 5.88(2
H.s), 6.50−6.80 (4H.m).
7.23 (2H.d.J=9Hz>, 7.5
0 (IH.d.J:9Hz)Mass : 26
9 (M+3>, 268 (M+2). 2
67 (M+1),266 (M). m/e 25
0, 218衷1畳生り 実施例59と同様にして、4.4’ −ジニトロペン
ズアニリドから出発して、4.4’ −ジアミノベンズ
アニリド(4.22g,収率80.8%)を得る.融点
: 197−201℃(分解) IR (スジi4) : 3400. 332
0. 3200. 1640, 1625.16
05. 1515 am−1 NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
5.30 (4H,bs).6.55 (2H.d.
J.8HZ). 6.63 (2H.d,J=8HZ)
,7.37 (2H.dJ=8Hz). 7.73
(2H.d,J;8Hz).9.30 (IH,s
) Mass : 228 (M+1). 227
(M), rn/e 120. 108叉1畳4虹 実施例59と同様にして、2−クロロ−4.4′−ジニ
トロペンズアニリドから出発して、2一クロロー4.4
′−ジアミノベンズアニリド(5.lg、収率79.0
%)を得る. 融点: 188−191’c IR (スUa−1> ’ 3350, 32
50, 1635. 1605, 1505.1
495 cm−’ NMR (DMSO−d6.90MHz,ppm) :
5.23 (2}!,bs),5.61 (2H,b
s). 6.59 (2f{,d.J=9Hz), 6
.61(2H.d..C9Hz>. 7.10
(LH.d,J;9Hz3. 7.66(2H,d
.J=9Hz). 9.13 (lH.s)Mass
: 264 (M+3), 263 (M+
2), 262 (M+1),261 (M>.
m/e 226. 142, 120実施例62 ビリジン中4.4′−ジアミノジフェニルケトン(9.
0g)に塩化メタンスルホニル(5.34g)を撹拌下
5℃で滴下する. 反応混合物を5℃で3時間攪拌し、減圧濃縮して油状残
漬を得る.油状残渣をンリカゲル(シノ力ゲル60、2
30−400メッシュ、メルク社製)(500g)を使
用するカラムクロマトグラフイーに付し、クロロホルム
とメタノールとの混液(50:1)で溶出する。目的化
合物を含む両分を合わせ、減圧濃縮して、4−アミノー
4′−メタンスルホニルアミノジフエニルケトン( 3
.03g . 収率24,6%)を得る. M点: 195−197”c IR (スジ9−1) : 3500, 34
00. 1645, 1595, 1575.1
550, 1340. 1315. 1295 cm−
’NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm)
: 3.11 (3H.s). 6.06(2H,bs
), 6.61 (2H,d,J=9Hz>, 7.3
0−7.73(6H.m), 10.15 (LH,b
s)Mass : 291 (M+1). 2
90 (M). m/e 211. 198.18
2 実施例63 4−ウレイド−4′ 一二トロジフエニルスルホキシド
(llg)および塩化アンモニウム(1g)のエタノー
ル( 200fflll ’) 、テトラヒドロフラン
( 50+1112 )および水( 50mQ )の混
合溶媒中混合物に、鉄粉(12g)を攪拌下80℃で少
量ずつ分割して加える.a合物を4時間還流し、反応混
合物を吸引濾過する.濾液を減圧濃縮し、残渣を水で粉
砕する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−ウレイ
ド−4′−アミノジフエニルスルホキシド(7.5g、
収率75.6%)を得る.融点: 189−191’c IR (スジ9−4) ’ 3470, 33
50, 3200. 1690. 1635.1
595. 1585. 1540 cm−’NMR (
DMSO−d6.60MHz,ppm) : 5.70
(2H,s). 6.1(2H.s). 6.67
(2H.d,J=9Hz). 7.15−7.80(6
H.m). 9.00 (IH.s)Mass : 2
75 (M+1). 274 (M), m/e 26
0. 248,216 大』U生東 実施例63と同様にして、4−ウレイド−4′二トロジ
フエニルケトンから出発して、4−ウレイド−4′ −
アミノジフエニルケトン(4.2g,収率63,7%)
を得る. 融点: 190−193℃ IR (スジa−4) ’ 3480. 34
00, 3320. 3200, 1660.1
635 am−1 NMR (DMSO−d6,90M}lz,ppm)
’ 6.00 (4H.bs),6.60 (2H.d
,J=9Hz), 7.30−7.65 (6H.m)
,8.83 (IH.s) Mass : 256 (M+1), 255 (M)
. m/e 238. 212,120 東』d艷四 実施例59と同様にして、2.2′ −ジクロロ−4.
4′−ジニトロジフエニルエーテルから出発して、2.
2′ −ジクロロ−4.4′ −ジアミノジフエニルエ
ーテル(5.6g、収率68.7%)1%る. 融点: 117−118℃ IR (スジa−L> : 3400, 33
00. 3200. 1635. 160014
90 crn−’ NMR (DMSO−d6,60MHz,ppm> ’
5.12 <4H.s), 6.45(48,s).
6.73 (2H.d,J=3Hz)Mass
; 272 (M+4), 271 (M+3
). 270 (M+2),269 (M+1).
26g (M). m/e 233. 198
.142 犬1dl競 実施例59と同様にして、3−メチル−4.4′−ジニ
トロジフエニルエーテルから出発して、3−メチル−4
.4′ −ジアミノジフェニルエーテル(2.6g,収
率38.5%)を得る.融点: 147−148℃ IR (スジ1−ル) : 3410. 33
30. 1625, 1495. 12B5.1
210. 1145 cm−’ NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm) :
2.02 <38.s). 4.51(2H.bs)
. 4.73 (21,bs). 6.40−6.73
(7H,m)Mass : 215 (M+1).
214 (M), m/e 185, 171.122 東101牡 実施例59と同様にして、3.5−ジメチル−4.41
−ジニトロジフェニルエーテルから出発して、3.5
−ジメチル−4.4′−ジアミノジフエニルエーテル(
3.4g,収率85.9%)を得る.融点: 118−
120℃ IR (スジ曹一ル) : 3450, 33
50. 1630. 1600.1510 c11 NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) :
2.04 (6H.s). 4.23(2H.s).
4.70 (2H.s), 6.40−6.65 (
6H.m)Mass : 229 (M+1). 22
8 (M), m/e 213. 136犬簾盈聾 4−ウレイド−4′ 一二トロジフエニルエーテル(7
g)のメタノール( 100mQ )およびテトラヒド
口フラン( 10Offlll )の混合物溶液を、l
O%パラジウムー炭素(2.5g)の存在下、常温で大
気圧下に3.5時間水素添加する.触媒を濾去し、濾液
を減圧濃縮して、4−ウレイド−4′−アミノジフェニ
ルエーテル(6.1g,収率97,9%)を得る. 融点: 164−166℃ IR (スジョール’) : 3400. 3
300. 3200. 1660, 1600.
1500 cm’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
5.20 (2H.bs),5.73 (2H.s)
. 6.50−6.90 (6H,m). 7.3
3(21,d.J=9Hz>. 8.30 (IH.
s)Mass : 244 (Ma1). 2
43 (M). m/e 226. 200.17
1 宜1己l鵠 実施例59と同様にして、3.3′−ジメチル−4.4
’ −’;ニトロジフェニルエーテルかラ出発して、
3.3′ −ジメチル−4.4′−ジアミノジフェニル
エーテル(4.36g、収率86.O%)を得る. 融点: 100−102℃ IR (スジ脅一ル) : 3400, 33
50, 1630, 1600。 1505.14
95 cm” NMR <DMSO−d6.90MHz.ppm> :
2.00 (6B,s), 6.50(48,s).
7.50 (6H.bs)Mass : 229
(M+1). 22g (M). m/e 213
. 199.185. 122 叉1藁l並 実施例59と同様にして、硫化4−アセトアミド−2’
−クロロー4′ 一二トロジフエニルカラ出発して、硫
化4−アセトアミドー4′−アミノー2′ −クロロジ
フエニル(10.7g,収率84.3%)を得る. 融点: 133−135℃ IR (スジ−1−4) : 3425, 3
325. 1680, 1630. 16101
595. 1460 cm−’ NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm) ’
2.10 (3H.s). 5.77(2H.s).
6.60 (IH.d.J=9Hz>. 7.10
(2H.d.J=9}1z), 7.27 (2H.d
.J=9Hz). 7。60 (2H,d,J=9Hz
). 9.97 (IH.s)Mass : 2
95 (M+3). 294 (M+2>.
293 (M◆1).292 (M). m/e
250. 214叉』1lハ 実施例59と同様にして、4−アミノー3′−シアノー
4′ 一二トロジフェニルエーテルから出発して,4.
4’ −ジアミノ−3−シアノジフエ二ルエーテル(
1. 11 g、収率57.2%)を得る.NMR (
DMSO−d6.90MHz.ppm) : 5.16
(2H.s),6.50−6.90 (5}1.m>
. 7.20 (IH.dd.J=3Hz,6Hz).
8.30 (IH.d,J=9Hz)Mass :
256 (M+1), 255 (M). m/e 2
09. 108X凰斑μ 実施例59と同様にして、4−トリプル才ロメタンスル
ホニルアミノ−4′一二トロジフエニル工一テルから出
発して、4−トリフル才ロメタンスルホニルアミノ−4
′−アミノジフェニルエーテル(12.5g,収率64
.9%)を得る.融点: 155−156°C IR (ヌ九−4) : 3420. 334
0. 1510. 1370.1200 cm−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
6.00 (2H,bs),6.50−6.80 <
4H.m). 6.83 (2H.d.J=9Hz),
7、17 (2H.d,J=9Hz> Mass :333 (M+1), 332 (M),
m/e 199束10艷η ピリジン( 200mll )中4.4′ −ジアミノ
ベンジル(10.1g)に塩化メタンスルホニル( 4
++1Q)を氷冷攪拌下5゜Cで滴下する.i1!合物
を3−7℃で5時間攪拌し、反応混合物を減圧濃縮する
.残渣を水で粉砕し、水洗、真空乾燥して固体を得る,
固体をシリカゲル(シリカゲル60、70−230メッ
シュ、メルク社製)(500g)を使用するカラムクロ
マトグラフィーに付し、ジクロロメタンとアセトンとの
混液(5:1)で溶出する.目的化合物を含む両分を合
わせ、減圧濃總して、4−アミノー4′−メタンスルホ
ニルアミノベンジル(5.9g、収率40,1%)を得
る.IR (ス九−ル) + 3450. 3
375. 3200. 1705. 16g0,
1655. 1510 c11 NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) :
2.14 (3H.s). 6.49(2H.s).
6.59 (IH.d.J=9Hz). 7.30
(28,d,J=9Hz). 7.41 (2H.q.
J;9Hz). 7.77 (2H.d,J=9Hz)
. 7.87 (2H.d.J=9Hz). 10.5
0 (IH.bs) Mass : 319 (M+1). 31B
(M). m/e 240. 224.198,
120 寞』U艷ハ 4−アミノー4′一メタンスルホニルアミノベンジル(
13.3g)およびヒドロ亜硫酸ナトリウム(20.5
g)のメタノール( zosmu )、水( gzme
)およびIN水酸化ナトリウム水溶液( 82mQ
)中混合物を撹拌下2時間還流する.反応混合物を減圧
濃縮し、残渣を酢酸エチルで粉砕する.沈殿を濾取し、
濾液をシリカゲル(シリカゲル50、7〇一230メッ
シュ、メルク社製)(500g)を使用するカラムクロ
マトグラフィーに付し、ジクロロメタンとアセトンとの
混液(10:1)で溶出する.目的化合物を含む画分を
合わせ、蒸発乾固して、2−ヒドaキシ−2−(4−ア
ミノフェニル)−1−(4−メタンスルホニルアミノフ
エニル)エタノン(6.20g,収率44.6%)を得
る.融点二85−90℃ IR (スジa−L> : 3450. 33
50. 3200. 1710. 1660,1
595. 1465 cm−’ NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm) :
2.95 (3H.s). 5.51(18,d,J
=6Hz), 5.83 (lH.d,J=6Hz
>. 6.03<28.s). 6.46 <2H
.d.J=9Hz). 7.06 (2H.d.J=
9Hz), 7.30 (2H.d.J=9Hz>
. 7.70 (2H.d.J=9Hz). 9
.70 (IH.s)Mass : 321 (M
+1). 32G (M). m/e 304.
275.200. 120 亥mJL四 実施例59と同様にして、4−アミノー3′−メトキシ
ー4′ 一二トロジフエニルエーテルから出発して、4
.4’ −ジアミノ−3−メトキシジ、フェニルエーテ
ル(5.23g,収率85.7%)を得る. 融点: 100−103℃ IR (xジw−ル) : 3475. 34
00, 3350. 1615. 1605,1
505 ctrr−’ NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm) :
3.70 (3H.s). 3.63(4H.bs)
. 6.20 (IH.dd.J=3Hz, 6
Hz), 6.40−6,70 (6H劃〉 Mass : 231 (M+1). 230 (
M), m/e 215. 188東jLIL四 実施例59と同様にして、2.2′−ジメチル−4.4
′ ジニトロジフエニルエーテルから出発してて4.4
′ −ジアミ/−2.2’ −ジメテルジフエニルエー
テル(5.33g、収率97,5%)を得る.融点:
111−112℃ IR (Xジm−A) ’ 3400. 32
0G. 1660. 1605. 1495.1
305. 1240 am−1 NMR (DMSO−d6,60MHz,ppm) :
2.95 (6H.s).4.60 (4H.bs).
6.07−6.90 (6H.m)Mass : 2
29 (M+1). 228 (M), m/e 12
2. 107罠及ΔU 実施例59と同様にして、2−ジフエニルメトキシ力ル
ボニル−4.4′−シニトロジフェニルエーテルから出
発して、2−ジフェニルメトキシカルボニル−4.4′
−ジアミノジフェニルエーテル(8.82g,収率lo
t. 1%)を得る.融点: 133−135℃ IR <Zジm−L) ’ 3350, 17
00, 1625. 1495. 1330.1
310. 1270. 1245. 1225 cra
−’NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm)
: 4.50−5.36 (4H.bs). 6.
45−7.50 (18H.m)Mass : 41
1 (M+1). 410 (M). m/e
318. 283.167 太mひ 2−ジフェニルメトキシカルボニル−4.41−ジアミ
ノジフエニルエーテル(8.80g)のジクロロメタン
( 441111!)とア二ソール( 17.6ffL
Il )との混合物溶液に、トリフル才口酢酸( 35
.2fflll )を攪拌下5゜Cで滴下する.混合物
を室温で2時間攪拌する.反応混合物を減圧濃縮する.
残渣をジインプロビルエーテル( 500−)に加え、
次いで冷凍室内に一夜放置する.沈殿を濾取してジイソ
プロビルエーテルおよびジエデルエーテルで洗浄し、真
空乾燥して、2−カルボキシ−4.4′−ジアミノジフ
ェニルエーテル(3.3g,収率64.5%)を得る. 融点: 144−185℃ IR (スジ昏−ル) : 3520. 34
50. 3350. 187G. 1625.1
56G. 1495. 1255. 1145 am−
1NMR (DMSO−d6,90MHz,ppm)
:5.30−7.10(12H.m) Mass : 245 (M◆1), 244 (
M), m/e 200, 136衷』畳艷益 実施例59と同様にして、2−シアノー4.4′ージニ
トロジフエニルエーテ゛ルから出発して、4.4′ −
ジアミノー2−ンアノジフエニルエーテル(3.32g
、収率70.l%)を得る.融点: 104−106℃ IR (X九−ル) : 3420. 335
0. 2250. 1630, 1515,13
05. 1240 cm−1 NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm> :
4.93 (2H,bs).5.20 (2H.bg
), 6.46−6.93 (7H.m>Mass :
227 (M+2). 226 (M+1>, 22
5 (M).m/e 196. 157, 149
. 108叉Jl靭 4.41−ジアミノー3−メテルジフエニルケトン(1
5g)の酢# ( 150mQ )溶液に、無水酢酸(
16g)を攪拌下10℃で滴下する.屈合物を室温で1
.5時間攪拌する.反応混合物を攪拌下氷水中に注ぐ.
沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して固体を得る.固体をエ
タノールから再結晶してA 4。 4′ −ジアセトアミド−3−メチルジフェニルケトン
(15.2g、収率73.9%)を得る.融点: 21
7−218℃ IR (Xジi−4) ’ 3270. 31
70. 1665. 1600. 1550.1
530 crm−’ NMR (DMSO−d6,60MHz.ppa+)
’ 2.17 (3H.s). 2.20(3H.s)
, 2.38 (38,s), ?、73 (2H.d
,J=8Hz).7.80 (5H.m). 9.47
(IH.s). 10.35 (LH,s)Mass
: 311 (Ma1), 310 (M), m/
e 268. 253,226. 211 東』0』牡 実施例52と同様にして、4−アセトアミド−4′ 一
二トロ−2′ −クロロジフェニルケトンから出発して
、4−アセトアミドー4′−アミノー2′−クロロジフ
ェニルケトン(7.70g,収率99,7%)を得る. 融点+ 162−185”C IR (スジi4) : 3400. 3320
. 3200. 1665. 1640,160
0, 1545. 1315 cm−’NMR (DM
SO−d6.60MHz.ppm> : 2.15 (
3}1.s>. 6.03(2H.bs), 6.5
3−6.80 (2H,m), 7.23 (IH.
d.J=9Hz>. 7.70−7.80 (4H,
m), 10.30 <18,bs)Mass :
291 (M+3). 290 (M+2),
289 (M+1).288 (M). m/
a 24g. 246. 154. 120東』
饗生婬 実施例53と同様にして、4−アセトアミドー4′ −
アミノー2′−クロロジフエニルケトンから出発して、
4.4′−ジアミノー2−クロロジフェニルケトン(
8. 98 g、収率59.0%)を得る.融点:87
−95℃ IR (スジa−4) : 3350, 32
00, 1640, 1630. 1585,1
540. 1320, 1280. 1240 cm”
NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm) :
5.47 (4}1.m).6.50−6.77 (
4H,m). 7.07 (IH,d.J=9Hz>,
7.47 (2H.d.J=9Hz) Mass : 249 (M+3>, 248 (M+
2). 247 (M+1>.246 (M).
m/e 154. 120東1d艷競 実施例52と同様にして、4−アセトアミド−2−メチ
ル−4′ 一二トロジフエニルケトンカラ出発して、4
−アセトアミドー2−メチル−4′ーアミノジフエニル
ケトン(19.94g,収率94.7%)を得る. IR (ニート) : 3500. 335
0, 3230. 3010. 1680
−1500. 1440. 1410−1370. 1
330−1240. 1220. 1170 am’N
MR (DMSO−d6,60MHz.ppm) 7
2.10 (3H.s). 2.20(3H.s).
6.15 (2H.bs). 6.60 (2H.d.
J:9Hz>. 7.20 (LH.d.J=9Hz)
, 7.37−7.63(4H,m), 10.03
(IH,bs)Mass : 269 (M+1).
269 (M). m/e 267. 251.225
.209,134,120 東』畳沈む 実施例53と同様にして、4−アセトアミド−2=メチ
ル−4′−アミノジフェニルケトンから出発して、4.
4’ −ジアミノー2−メチルジフェニルケトン(2.
9g,収率l7.8%)を得る.融点: 138−13
9℃ IR (スジs−x) : 3490, 34
20.1595. 1550, 1290 c1l 3330. 1440. 3220. 1320. 1635, NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.18 (3H.s). 5.48(2H.bs)
, 5.95 (2H.bs). 6.30−6.
77 (4H.m). 7.03 (2H.d.J=
9Hz>, 7.45 (2H.d,J=9HZ) Mass :227 (M+1). 226 (M
). m/e 225. 210,209, !
34. 120 東104匹 アセトアニリド(0.58g),無水塩化アルミニウム
(3.41g)およびニトロベンゼン(1−)の混合物
を室温で30分間攪拌する.混合物を100℃で攪拌し
、次いで塩化4−アセトアミド−3−クロロベンゾイル
( 1.09g )を加える.混合物をtoo’cで2
.5時間攪拌し水冷撹拌下水中に注ぐ.沈殿を濾取して
水および炭酸水素ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、真空
乾燥して、4.4′−ジアセトアミド−3−クロロジフ
エニルケトン( 0. 25g、収率17.6%)を得
る. 融点207−209’C IR (スジa4) : 3400. 32g
0. 1710. 1655, 1595.15
10. 1305. 1265 cm−’NMR (
DMSO−d6,60MHz.ppm) 2.12
(3H.s), 2、20(3H.s). 7.5
3−7.90 (6H.a+). 8.08 (IH.
d.J;8Hz>. 9.67 (IH.bs). 1
0.32 (IH,bs)Mass : 332 (M
+2), 331 (M+1>. 330 (M).m
/a 294. 288, 246, 154, 12
0実施例86 実施例53と同様にして、4.4’ −ジアセトアミド
−3−クロロジフエニルケトンから出発して,4;4’
−ジアミノー3−クロロジフエニルケトン(2.2g
、収率68.6%)を得る.融点: 166−170℃ IR (スジa−ル) : 3490. 33
50. 3200, 1630. 15g0,1
550. 1330. 1310, 1285.117
5 crtr−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
6.93 (2}1.bs),6.07 (2H.b
s). 6.55−6.92 (3H,m), 7.3
3−7.63 (4H.m) Mass : 248 (M+2).247 (M
+1),246 (M).m/e 199. 17
1, 156, 154, 126. 120
大U虹 実施例52と同様にして、4−アセトアミド−4′一二
トロ−3.3′−ジメチルジフエニルケトンから出発し
て、4−アセトアミドー4′アミノー3,3′−ジメテ
ルジフェニルケトン(10.06g、収率47.6%)
を得る.融点: 163−165℃ IR (ニート) : 3450. 33
50, 3250. 1650. 163
0.1800. 1580. 1525, 1330.
1305.1280 am’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm> ’
2.10 (3H.s). 2.30(38,s).
5.87 (2H.bs). 6.68 (LH.d
.J=9Hz), 7.45−7.83 (5H,m>
. 9.42 (IH.bs)Mass : 283
(M+1>, 282 (M). m/e 267.
245,149. 134 東JJL競 実施例53と同様にして、4−アセトアミドー4″ −
アミノー3.3′−ジメデルフェニルケトンから出発し
て、4.4′−ジアミノ−3.3′ジメチルジフェニル
ケトン(1.07g,収率39.3%)を得る. 融点: 126−131’C IR (スジ@−L’) : 3400. 3
330. 3200. 1625. 15g0.
1565. 1500. 1430. 1320. 1
300.1260 a1l NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
1.93−2.10 (6H.m).4.93 (2
H.bs), 5.67 (2H.bs). 6.47
−7.43(6H.se) Mass : 241 (M+1). 240
(M). m/e 230. 134.106 塞』む艷競 実施例85と同様にして、アセトアニリドおよび塩化4
−フルオロベンゾイルから出発して、4ーアセトアミド
ー4′−フルオロジフェニルケトン(4.43g,収率
33.3%)を得る.IR (二一!) : 3
500, 3300, 3200. 31
00. 1700.1690, 1680.
1650. 1600. 1530.1510.
141G, 1370. 1315 cm−’NMR
(DMSO−d6,90MHz.ppm) : 2.1
3 (3H.s),7.10−7.89 (8H.m)
. 10.70 (LH.bs)Mass ; 2
5g (M+1>. 257 (M).m/e 21
5.177.140 束』己l四 実施例53と同様にして、4−アセトアミド−4′ −
フル才ロジフェニルケトンから出発して、4−アミノー
4′ −フルオロジフエニルケトン(1.06g、収率
28.8%)を得る.融点: 126−128℃ IR (スジ書−4) : 3450. 33
50. 1630. 1600. 15g0.1
320. 1230 cm’ NMR (DMSO−d6.60MHz,ppa+)
: 6.17 <2H,bs).6.63 (2H.d
.J=9Hz>. 7.13−8.00 (6H,m)
Mass : 216 (M+1>. 215 (M)
.m/e 186. 120 束104鮭 実施例52と同様にして、3.5−ジクロロ−4−アミ
ノー4′一二トロジフェニルケトンから出発して、3.
5−ジクロロ−4.4′ −ジアミノジフエニルケトン
(6. 87 g、収率88.8%)を得る.融点i
174−176℃ IR (二−}) : 3420. 3320
. 1740−1700. 1580.1525.
t345. 1285. 1175 0ra−”NM
R (DMSO−d6.60MHz,ppm) : 5
.77−6.27 (4H.bm). 6.53−6.
93 (2H.m). 7.33−7.66 (4H.
m)Mass : 282 (M+1), 2
81 (M). m/e 280. 248,
246, 211, 154. 120塞101婬 4−アセトアミド−3.5−ジメテル−4′二トロジフ
ェニルケトン(12.2g)および塩化アンモニウム(
1.25g)のエタノール( 120Il111 )、
テトラヒドロフラン( 6011111 )および水(
60mt )の混合物溶媒中混合物に、鉄粉(12.
5g)を攪拌下80℃で少量ずつ分割して加える.i1
!合物を攪拌下1.5時間還流する.反応混合物を吸引
濾過し、濾液の溶媒を減圧下に留去する.残渣に水を加
え、酢酸エチルで抽出して水洗し、硫酸マグネシウムで
乾燥する.濾過後、濾液の溶媒を減圧下に留去して、4
−アセトアミドー3.5−ジメチル−4′−アミノジフ
エニルケトン(10.7g,収率97.0%)を得る. 融点+ 173−175°C IR (スジ謬−ル) : 3450. 33
50, 3250, 1730, 1670,1
645, 1620. 1585. 1315 cm”
NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.00 (3H.s), 2.10(3H,s),
2.27 (38,s). 6.22 (2H.b−
s).6.60 (2}1.d.J=9Hz). 7.
03 (1}1.d..C8Hz>.7.23 (IH
.d.J=8}1z). 7.50 (2H,d.J=
9Hz),9.33 (LH.s) Mass : 283 (M+1). 282 (M)
. m/e 2B7, 239,224 叉1目生り 4−アセトアミド−3.5−ジメデル−4′アミノジフ
ェニルケトン(8.0g)のエタノール( 1601d
)および濃塩# ( 60mQ )中混合物を攪拌下
24時間還流する.反応混合物を2N水酸化ナトJウム
水溶液で水冷下pH9. 0にlltする.浣合物を水
冷下1時間攪拌し、沈殿を減圧下に濾取して固体を得る
. 固体をシリカゲル(シリカゲル60、70−230メッ
シュ、メルク社製)(250g)を使用するカラムクロ
マトグラフィーに付し、メタノールとクロロホルムとの
混液(1:30)で溶出する.目的化合物を含む画分を
合わせ、減圧濃縮して、4.4’ −ジアミノ−3.5
−ジメチルジフエニルケトン(2.8G.、収率54.
8%)を得る.融点: 202−204’C IR (スジI−4> + 3470. 33
50, 3200. 1625. 1590.1
320 am−1 NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) ’
1.87 (3H,s). 2.10(3H.s).
4.63 (2H.s). 6.05 (2H.s)
. 6.30(IH.d.J=7Hz>. 6.53
(2H.d.J;9Hz>. 6.87(IH.d.J
=7Hz). 7.40 (2H.d.J:9Hz)M
ass : 241 (M+1). 240 (M).
m/a 225. 210.120 東1口艷U 4−N−エチルアミノー3−メチル−4′一二トロジフ
ェニルケトン(5.30g)および塩化アンモニウム(
0.6g)のエタノール( 11G1d )、テトラヒ
ド口フラン( 55fflll )および水( 551
Q )の混合溶媒中混合物に、鉄粉(5.97g)を攪
拌下80゜Cで少量ずつ分割して加える.混合物を攪拌
下1時間還流する.反応混合物を減圧濾過し、濾液を減
圧濃縮する. 残渣を水で粉砕し、沈殿を濾取する.固体をエタノール
から再結晶して、4−N一エチルアミノー3−メチル−
4′−アミノジフエニルケトン(3.44g)を得る. 融点: 147−148℃ IR (スジm−IL) ’ 3400, 3
350. 3250. 1650. 1625,
1595. 1560. 1440. 1425.13
15 am−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
1.25 (31,t.J=7Hz). 2.20
(3}1,s). 2、97−3.50 (2H.m)
,4.97 (1}1.t.J=6Hz). 6.07
(21,s). 6.67(2H.d.J=9Hz)
. 6.70−6.90 (2H.m). 7.
15(LH,d.J=8Hz). 7.63 (2H
.d.J=9Hz)Mass : 255 (M+
1). 254 (M), m/e 239.
225.180 東m四 硫化4−アセトアミドベンジル−4′−ニトロフエニル
(ts.Og)およヒ塩化アンモニ’)ム(2.0g)
のテトラヒドロフラン( 300111 ) 、エタノ
ール( 300mQ )および水( 100mQ )
(y)混合溶媒中混合物に、鉄粉(15.0g)を攪拌
下80゜Cで少量ずつ分割して加える.fi金物を攪拌
下2時間還流する,反応混合物を吸引濾過し、濾液を減
圧濃縮する.残渣を水で粉砕し、沈殿を濾取、水洗、真
空乾燥して、硫化4−アセトアミドベンジル−4′−ア
ミノフェニル(11.5g、収率63.8%)を得る.
NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm) :
2.06 (3}1.s). 3.90(2H.s)
. 5.30 (2H,s), 6.53 (2H.d
.J=8Hz).7. Go−7。30 (4B,m)
. 7.50 (2H.d.J=8Hz>.9.90
(18,s) Mass : M+1273. M 272, m/e
229. 216, 183.148. 106 東』U艷四 硫化4−アセトアミドベンジル−4゛−アミノフエニル
(4.0g)の酢酸エチル( 15Qmll )および
N.N−ジメテルホルムアミド( 39mQ )の混合
物溶液に、3−クロロ過安息香a(6.0g)の酢酸エ
チル溶液を攪拌下5℃で滴下する.混合物を室温で26
時間攪拌する.反応a合物を炭酸水素ナトノウム水溶漬
中に注ぎ、水冷下1時間攪拌する.混合物を吸引濾過し
、濾液を酢酸エチルとテトラヒドロフランとの混合物で
抽出する.有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液および水
で洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥する.溶媒を
減圧濃縮して、4−(4−アセトアミドベシジルスルホ
ニル)アニリン(4.0g、収率89,4%)を得る.
融点: 240−245゜C(分解) IR (スジ−a−4) ’ 3500. 3
350, 3250, 1660, 1595.
1515 am−’ NMR (DMSO−d6.60MHz,ppm) :
2.00 (3H.s). 4.30(2H.s),
6.00 (2H,s). 6.55 (2H.d.
J=8Hz).7.15 (4H.dd.J=4Hz.
8Hz>. 7.46 (2H.d..C8Hz
). 9.90 (LH.s)Mass : M”
304. M 303. m/e 260, 240,
197,148. 106 叉104r 4−(4−アセトアミドベンジルスルホニル)アニリン
(4.4g)の濃塩酸( 201Q )およびエタノー
ル( 1001d )中混合物を撹拌下5時間還流する
.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水に溶解する.m液
を炭酸水素ナトリウム水溶液で水冷攪拌下pttsに調
整する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−(4−
アミノベンジルスルホニル)アニリン(2.5g、収率
65.7%)を得る.融点: 245−250℃(分解
) IR (ス九−ル) i 3350. 325
0, 1630, 1610. 1595,15
15. 1280 am−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm> ’
4.13 (2H.s). 5.10(2H.s),
6.00 (2H.s). 6.45 (2H.d.
J:8Hz).6.67 (4H.dd.J=4}1z
. 8Hz). 7.23 (2H.d.J=8Hz) Mass : M” 263. M 262. tal
e 211, 197, 156.106 束』d生り 1.1−ビス(4−アミノフェニル)−1−ヒドロキシ
イミノメタン(6.7g).沃化インブロビル(lO.
2g)および炭酸カリウム(6.2g)のN.N−ジメ
チルホルムアミド( 67ml1 )中混合物を室温で
7時間攪拌する.反応混合物を氷水中に注ぎ、沈殿を濾
取、水洗、真空乾燥して固体を得る.固体をシリカゲル
(シリカゲル60、70−230メッシュ、メルク社製
)(500g)を使用する力ラムクロマトグラフィーに
付し、クロロホルムとメタノールとの混液(10:1)
で溶出する.目的化合物を含む画分を合わせ、減圧濃縮
して、1.1−ビス(4−アミノフエニル)−1−イン
ブロボキシイミノメタン(0.88g,収率11.1%
)を得る. NMR (CDCI3.90MHz,ppm> 7 1
.20 (6H.d.J=3Hz>,3.40−3.8
(4H.b−s), 4.00 (IH.m). 6
.40−6.70 (2H.m), 7.20−7.5
0 (2H.m>Mass : M+1270. M
269, m/e 254. 239, 210,19
6 叉』藁艷昶 実施例52と同様にして、4−アセトアミド−3.6−
ジメチル−4′一二トロジフエニルケトンから出発して
、4−アセトアミドー3.6−ジメチル−4′ −アミ
ノジフェニルケトン( 12.6g、収率89,9%)
を得る. 融点: 211−213゜C IR (ス九−ル) : 3450, 335
0, 3280. 1655. 1590.15
25 cm” NMR (DMSO−d6.60MHz,ppm) ’
2.13 (6}1.m). 2.20(3H.s)
. 6.17 (2H.b−s), 6.60 (2H
.d.J=8Hz). 7.07 (LH.s). 7
.40−7.60 (3H.m>.9.30 (lH.
b−s) Mass : M 282. m/e 2g1, 26
5, 239. 224衷遍11東 実施例53と同様にして、4−アセトアミド=3.6−
ジメテル−4′−アミノジフエニルケトンから出発して
、3.6−ジメチル−4.4’ −ジアミノジフエニル
ケトン(3.84g,収率64.5%)を得る. 融点: 203−204℃ IR (ス九−ル) : 3500, 340
0, 3360, 3240. 1625.15
90. 1565 cm−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.07 (3H.s), 2.20(3H.s).
5.27 (2H.b−s). 5.97 (2H.
b−s).6.53−6.80 (3H.m). 6.
97 (LH,s), 7.50(2H.d,J=8}
12) Mass : M” 240, M 240, m/e
239. 223. 148衷韮』4吋 4.4′−ジアミノー3−メチルジフエニルケトン(5
.4g)のエチレングリコールジエチル工一テル( 5
51112 ) !液に、水素化ホウ素ナトリウム(1
.81g)および水酸化カリウム(0.12g)の水(
IOIIIQ ’)中混合物を攪拌下706Cで滴下
する.混合物を70゜Cで2時間攪拌する.反応混合物
を塩化ナトリウム飽和水溶液中に攪拌下に注ぐ.沈殿を
濾取、水洗、真空乾燥して、4.4′−ジアミノー3−
メチルベンゾヒドロール(4.54g,収率83.3%
)を得る, 融点:62℃ IR (スジジール) : 3420, 33
50, 3170. 1615, 1510.1
280 cm−1 NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm) :
2.00 (3H,s). 4.56(2H.b−s
). 4.77 (2H.b−s), 5.07
(LH.d,J=4。5Hz). 5.29 (LH
.d,J=4.5Hz). 6.30−6.53 (
3H.m). 6.67−6.97 <4H.m)M
ass : M 228.m/e 226,224
,214,212.210衷韮1則り 4.4’ −ジアミノー3−メチルジフェニルケトン
(6.1g)(7),’タノ− ル( 61mll )
溶液に、〇一メチルヒドロキシルアミン・塩m塩(13
.5g)を攪拌下室温で加える.混合物を室温で18.
5時間攪拌する.反応混合物を減圧濃縮する.残渣を水
で希釈し、次いでIN水酸化ナトリウム水溶液で水冷下
にpH12に調整する.残渣を酢酸エチルで抽出し、水
洗して硫酸マグネシウムで乾燥する.有機層を減圧濃縮
して固体を得る.固体をエタノールおよび水で粉砕し、
沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4.4′ −ジアミ
ノー3−メチルジフエニル−1−メトキシイミノメタン
(5.75g,収率81.6%)を得る. 融点: 92−97”C IR (スジ曹−ル) : 3400, 33
50. 3170, 1640, 1610.1
515 cab−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) ’
2.05 (3H,s). 3.77(3H.s),
5.10 (2H,b−s), 5.32 (21,
b−s),6.43−7.20 (71,m) Mass : M 256. M 255, m/e
225, 224束遍土はり 1.1−ビス(4−アセトアミドフェニル)−1−ヒド
ロキシイミノメタン(5.0g)のエタノール(100
IIIQ)およびIN水酸化ナトリウム水溶液( lo
omQ )中混合物をF91拌下26時間還流する.反
応混合物を減圧濃縮し、残清を塩酸で水冷下pH7に調
整する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、1.1−ビ
ス(4−アミノフェニル)1−ヒドロキシイミノメタン
( 3.0g , 収率88.0%)を得る. 融点: 19g−200℃ IR (ス九−ル) : 3475. 340
0,1520. 1325 N MR ( DMSo−d s , 9 0 MHz
.ppm >6.46 (2H.d.J=6}1z
),6.95 (2H,d.J=6Hz).Mass
: M+1228. M 227.3250. 1
620. 1605,cm’ : 5.30 (4H,b−s).6.53 (
2H.d.J=6Hz>,7.03 (2H,d.J
=6Hz>m/e 210.196.120
.0g)およびN−クロロスクシンイミド( 15.0
2g )のジ才キサン( 160111 )中混合物を
80℃に38時間加熱する.反応混合物を攪拌下水(6
00一〉中に注ぐ.沈殿を濾取、水洗、風乾して固体を
得る.固体をシリカゲル(シリカゲル60, 70−2
30メッシュ、メルク社製)(250g)を使用するカ
ラムクロマトグラフィーにイオし、クロロホJレムで溶
出する.目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下に蒸発
乾固して、4−アセトアミドー3。 5−ジクロロ−4゛ 一二トロジフェニルケトン(3.
0g、収率30.2%)を得る.融点: 11g−12
0℃ IR (スジa−L> : 33g0. 17
05. 1650. 1590. 1515,1
355. 1320. 1270 arm−’NMR
(DMSO−d6.90MHz.ppm) : 2.2
1 (3}1.s).7.60−8.43 (6H.b
s) Mass : 354 (Ma1). 353 (M)
. m/e 318. 285.276, 154 製JJLり 4−アセトアミド−4′−ニトc7−3+5−ジクロ口
ジフエニルケトン(12.3g)の濃塩酸(25mQ
)とエタノール( 150mll )との混合溶媒中混
合物を攪拌下5時間還流する.反応混合物を減圧濃縮し
、残渣を水に溶解する.溶液を水冷下IN水酸化ナトリ
ウム水溶液でpHlGに調整する.沈殿を濾取、水洗、
風乾して固体を得る.固体をシリカゲル(シリカゲル6
0、230−400メッシュ、メルク社製)(400g
)を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、ジクロ
ロメタンとアセトンとの混液(30:1)で溶出する.
目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下に蒸発乾固して
、4−アミノー3.5−ジクロロ−4′−ニトロジフェ
ニルケトン(L56g,収率79.0%)を得る.融点
: 161−163℃ IR (スジa−4) : 3400. 16
20, 1580. 1515. 1350.1
290. 1260 am−’ NMR (DMSO−d,.60M}lz.ppm)
’ 6.58 (2H.bs),7.92 (IH.d
.J=9Hz). 7.47−8.03 (3H.m)
.8.40 (2H.d.J=9Hz) Mass : m/e 294.250,237,
223,181製』0艷峠 2.6−ジメチルアセトアニリド(1.0g)およヒ塩
化アルミニウム(4.91g)のニトロベンゼン(21
1!)中混合物を常温で0.5時間攪拌し、次いで塩化
4−ニトロベンゾイル(1.25g)を攪拌下80℃で
少量ずつ分割して加える.混合物を攪拌下100″Cに
1.5時間加熱する.反応混合物を氷水中に注ぎ、室温
で1時間攪拌する.沈殿を減圧下に濾取する.沈殿を室
温でエタノールより粉砕し、濾取してエタノールで洗浄
し、真空乾燥して、4一アセトアミドー3.5−ジメチ
ル−4′一二トロジフェニルケトン(0.9g,収率4
7.O%》を得る.融点: 177−178”C IR (1!’#−4) : 3250. 16
70. 1845. 1600. 1525,1
347 c11 NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) :
2.13 (6H.s). 2.28(3H.s).
7.73 (IH.d.J=7Hz). 7.93
(2H.d.J=9Hz>. 8.25 (IH,d
,J:7Hz), 8.36 (2H.d.J=9H
Z> Mass : 313 (M+1), 312
(M), m/e 295. 269,253.
223 製造例46 2−メチルアセトアニリド(30g)および塩化アルミ
ニウム(161g)のニトロベンゼン(2〇一)中混合
物を常温で0.5時間攪拌し、次いで塩化4−ニトロベ
ンゾイル(41g)を攪拌下80℃で少量ずつ分割して
加える. 混合物を攪拌下100゜Cに2時間加熱する.反応混合
物を氷水中に注ぎ、室温で1時間攪拌する.沈殿を減圧
下に濾取し、固体を室温で攪拌下エタノールにより粉砕
する. 沈殿を濾取してエタノールで洗浄し、真杢乾燥して、4
−アセトアミドー3−メチル−4′一二トロジフェニル
ケトン(26.97g,収率45.O%)を得る. 融点: 125−145℃ IR (2ジ碕−L> j 3320. 32
20. 1665, 1600. 1525.1
350. 1285. 1265 am−1NMR (
DMSO−d6.60MHz.ppm) ’ 2.10
(3H.s). 2.37<3H.s). 7.5
0 (LH,b−s). 7.76 (IH.d.J
:7Hz). 7.83−8.07 (3H.m)M
ass : 299 (M+1). 298 (
M). m/e 281, 268.256 製1Ulぐ 4−アセトアミド−3−メチル−4′ −ニトロジフェ
ニルケトン( 26.9g ) +7)エタノール(5
40mll )と濃塩i!iil[ ( 801119
)との混合溶媒中混合物を攪拌下6時間還流する. 反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水に溶解する.溶液を
水冷攪拌下2N水酸化ナトリウム水溶液でpH10に調
整する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−アミノ
ー3−メチル−4′一二トロジフェニルケトン(22.
75g,収率98.4%)を得る. IR (スジp−ル) : 3470, 34
00, 1645, 1620. 1590,1
515. 1352. 1318 crm−’NMR
(DMSO−d6.60MHz.ppm) ’ 2.2
3 (3H.s). 6.67−7.55 (3}1,
m), 7.97 (2H.d,J=8Hz>. 8.
43(2H.d.J=8Hz> Mass : 257 (M+1), 256
(M), m/e 226, 210,195
, 134 型1裏艷鱈 無水酢#(3.06g)とギ#(1.38g)との混合
物を攪拌下50℃に1時間加熱する.冷後、4−アミノ
ー3−メチル−4′ 一二トロジフエニルケトン(2.
56g)をこの混合物に加える.混合物を室温で2.5
時間攪拌する. 反応混合物を氷水中に注ぎ、沈殿を濾取、水洗、真空乾
燥して、4−ホルムアミド−3−メチル−4′ 一二ト
ロジフエニルケトン(2. 68 g、収率94.4%
)を得る. 融点: 154−170℃(分解) IR (スジ書一ル) i 3400. 32
50. 1670, 1645. 1625,1
520. 1350 a11 NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) i
2.40 (3H.s). 7.50(2B,b−s
). 7.60 (LH,d.J=7}1z). 7.
96 (2}1.d.J=8Hz>. 8.33 (I
H,s). 8.40 (2H.d,J=8Hz).9
.83 (IH.b−s)Mass : 285
(M+1>. 284 (M), m/e 2
67. 254.237. 226 製1畳』伊 4−ホルムアミド−3−メチル−4′−ニトロジフエニ
ルケトン(1.0g)、沃化エチル(1.0g)および
炭酸カリウム(2.0g)のN.N−ジメテルホルムア
ミド( 190mQ )中混合物を室温で24時間攪拌
する. 反応混合物を水冷下水中に注ぎ、混合物を酢酸エチルで
抽出し、水洗して硫酸マグネシウムで乾燥する. 濾過後、濾液を減EEa縮して固体を得る.固イ本をシ
リカゲノレ(シリカゲル60、70−230メッシュ、
メルク社製)(500g)を使用するカラムクロマトグ
ラフィーに付し、クロロホルムで溶出する. 目的化合物を含む画分を合わせ、減圧濃縮して、4−N
一エチルホルムアミド−3−メチル−4′一二トロジフ
ェニルケトン(1.13g, 収率102.9%)を油
状物として得る. IR (フィルム) : 3500, 335
0, 3000. 28B0. 1670160
0. 1525, 1350. 1300 am−IN
MR (DMSO−d6,60MHz.ppm) :
0.9−1.2 (3H,m),2.20 (3H.b
−s). 3.60−3.90 (2H,m). 7.
50−7.83 (3H.m). 7.90−8.20
(LH.m). 8.00(2H.d..C8Hz)
. 8.33 (IH.s). 8.43 (28.d
−,J=8Hz> Mass : 313 (M+1>, 312 (M)
. m/e 287, 274,269, 223 製造例50 4−N−エチルホルムアミド−3−メチルー4′一二ト
ロジフエニルケトン( 11.2g )のメタノール(
200絨)および濃塩酸( 10m1)の脱合溶媒中
混合物を攪拌下3.5時間還流する.反応混合物を減圧
濃縮する. 残渣に水を加え、溶液を水冷下2N水酸化ナトノウム水
溶液でpHloにMJ!4整する.沈殿を減圧下に濾取
し、水洗、真空乾燥して固体を得る. 固体をシリカゲル(シリカゲル60、70−230メッ
シュ、メルク社製)(500g)を使用する力ラムクロ
マトグラフイーに付し、n−ヘキサンと酢酸エチルとの
混液(10:1)で溶出する.目的化合物を含む画分を
合わせ、減圧濃縮して、4−N−エチルアミノー3−メ
チル−4′二トロジフェニルケトン(5.31g,収率
52.1%)を得る. 融点: 143−146℃ IR (ス九−ル) j 3450, 165
0. 160G. 1520. 1350.12
65 a11 NMR (DMSO−d6.60MHz,ppm) :
1.27 (3H.t.J=7Hz). 2.27
(3H,s), 3.00−3.50 (2H.II1
).5.20 (IH.t.J=6Hz), 6.83
−7.07 (2H.m),7.27 (IH.d,J
=7Hz>. 7.97 (2H.d.J=8Hz>.
8.43 (2H.d.J=8Hz) Mass : 285 (M+1), 284 (M)
, m/e 269, 254,239. 223 製1ul■ 塩化4−アセトアミドベンジル(llg)、4一二トロ
チ才フェノール(9.5g)および炭酸カリウム(13
g)のN.N−ジメチルホルムアミド( xoomu
)中混合物を攪拌下100゜Cに3時間加熱する.反応
混合物を氷水中に注ぎ、次いで混合物を水冷下1時間攪
拌する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、硫化4−ア
セトアミドベンジル=4′二トロフェニル(15.5g
,収率85.4%)を得る. 融点: 175−180℃(分解) IR (X9*−IL) : 3400, 1
665, 1600. 1545.1340 ca
+−’ NMR (DMSO−d6.60M}Iz.ppm)
: 2.03 (3H.s), 4.40(2H.s)
. 7.36−7.67 (4H.m). 7.6
0 (2H.d,J=8Hz), 8.17 (21
,d.J:8Hz>. 9.90 (IH,s)Ma
ss : M4″’ 303, M 302, III
/e 270, 259, 228.148 梨IL坐 製造例16と同様にして、2.5−ジメチルアセトアニ
リドおよび塩化4−ニトロベンゾイルから出発して、4
−アセトアミドー3.6−ジメチル−4′一二トロジフ
エニルケトン(1.15g1収率60,1%)を得る. 融点: 18g−191℃ IR (ス九−ル) : 3360. 170
5. 1675. 1655. 1570.15
25. 1350 cm+−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.14 (3H,s). 2.20(3H.s).
2.30 (3H,s). 7.24 (IH.s)
, 7、63(IH.s). 7.90 (28,d,
J:8Hz>, 8.37 (2H,d.J=8Hz>
. 9.37 (IH.br s)Mass : M
312. m/e 295. 281, 269. 2
65衷蓋贋ユ 4.4’ −ジアミノジフエニルケトン(4g)および
メトキシアミン・塩酸塩(15g)のメタノール(12
)中混合物を室温で48時間攪拌する.反応混合物を派
圧濃縮し、残渣を水に溶解する.溶演を水冷攪拌下炭酸
水素ナトリウムで州8.0に11整する.沈殿を濾取、
水洗、真空乾燥して、1.1−ビス(4−アミノフェニ
ル)−1一メトキシイミノメタン( 3.5g , 収
率77.0% )を得る. 融点200゜C(分解) IR (スジぢール) : 3475. 33
75, 3200. 1620. 1605.1
515, 1380. 1180 cm−1NMR (
DMSO−d6,60M}Iz,ppm> 3.80
(3H.s). 5.40(4H.bs), 6.53
(2H,d,J=9Hz>. 6.60 (2H,d
,J=9Hz), 7.02 (2H.d.J=9Hz
), 7.13 (2H.d,J=9Hz) Mass : 242 (Ma1), 241 (M)
, LII/e 210衷夏週1 実施例3で製造した1.1−ビス(4−アセトアミドフ
ェニル)−1−メトキシイミノメタン(15g)のIN
水酸化ナトリウム水溶液( 60ml1 )およびエタ
ノール( 10011111 )中混合物を攪拌下13
間還流する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水冷攪拌
下水で粉砕する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、1
.1−ビス(4−アミノフェニル)一1−メトキシイミ
ノメタン(3.20g、収率86.3%)を得る. 融点: 198−202℃(分解) IR (スジa−4> ’ 3450. 33
50. 3200. 1620. 1605.1
515. 1380 cob−1 NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) 3
.80 (3H,s). 5.40(4H,bs).
6.54 (2H.d.J=9Hz). 6.59
(2H.d.J=9Hz). 7.00 (2H.
d,J=9Hz). 7.10 (2H.d,J=9
Hz) Mass : 242 (Ma1). 241
(M). m/e 210衷轟斑1 実施例4で製造した1.1−ビス(4−アセトアミドフ
ェニル)−1−ヒドロキシイミノメタン(4.5g)、
沃化メチル(18g)および炭酸カリウム(7.5g)
のN.N−ジメチルホルムアミド( 501119 ’
)中混合物を室温で4日間攪拌する.反応混合物を減圧
濃縮し、残渣を水で粉砕する.沈殿を濾取、水洗、真空
乾燥して、1.1−ビス(4一アセトアミドフェニル)
−1−メトキシイミノメタン(5.0区、収率106%
)を得る.融点260− 270℃(分解) IR (スジ書一ル) 3250, 1670.
1600. 1520. 1380.1320
cm” NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm> 2
.10 (6H.bs). 3.87(3H.s).
7.17−7.75 (8H.m). 10.07(2
H.bs) Mass : 326 (M+1>. 325
(M). m/e 310. 294,283.
252 東』0艷土 4.4′ −ジアセトアミドジフェニルケトン(48g
)およびヒドロキシルアミン・塩酸塩(2.42)のエ
タノール( some )と水( 1011111 )
との混合溶媒中混合物に、水酸化ナトリウム(3.2g
)を攪拌下室温で少量ずつ分割して加える.混合物を室
温で18時間攪拌する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣
を水で粉砕する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、1
.1−ビス(4−アセトアミドフェニル)−1−ヒドロ
キシイミノメタン( 5.0g、収率100%)を得る
. 融点210− 215℃(分解) IR (スジー−ル) : 3350−3150
. 1670. 1600, 1570,152
0. 1320 am’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) 2
.04 (3H.s). 2.08(3H.s).
7.16 (2H.d.J=9Hz). 7.25
(2H.d,J=9Hz). 7.50 (21,d
.J=9Hz)Mass : 312 (M+1>,
311 (M). m/e 295. 269,
254 衷』むl互 4.4′ −ジアミノベンジル(6.0g)のメタ/−
ル( 150mlf ) ト水( 50ffIQ )と
のa合物溶液に、ヒドロキシルアミン・塩酸塩(13.
0g)を加える.混合物を室温で24時間攪拌する.メ
タノールを留去後、残渣のシロップ状物を水で希釈して
酢酸エチルで抽出する.酢酸エチル層を合わせ、1回水
洗して硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して粗製
結晶( 3.65g )得る.粗製結晶をエタノールか
ら再結晶して、4.4’ −ジアミノベンジルモノ才キ
シム(シン型)(2.50g,収率39.2%)を得る
. 融点: 187−191”c IR (x9m−x) : 3420. 32
00. 1640. 1580. 1550.1
450. 1340. 1260. 1175. 93
0.910. 840 c11 NMR (DMSO−d6,90MHz,ppm) 5
.43 (2H.s). 6.22(2H.s).
6.56 (2H.d,J=9Hz). 6.60
(2H.d,J=9Hz>. 7.17 (2H.d
,J=9Hz), 7.53 (2H.d.J:9H
z>, 10.7 (IH.s)叉』I包互 実施例7と同様にして、4−アミノー4′−クロロジフ
エニルエーテル( 5.1g , 収率9s.4%)を
得る. 融点200℃ IR (Xジi −0 F 3350, 161
0. 1590. 1510. 1490.13
80 cab−1 NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) 6
.80−7.10 (4H.m).7.10−7.50
(4H.m). 9.00 (2H.bs)Mass
: 221 (M+1). 220 (M)
. m/e 219, 185.10g X轟亘l 4−メトキシー4′一二トロジフェニルエーテル(9.
5g)ノメタノール(15ol!1l1)トテトラヒド
ロフラン( 150mQ )との混合物溶液を10%バ
ラジウムー炭素(4g)の存在下常温で大気圧下に1時
間水素添加する.触媒を濾去し、次いで濾液を減圧濃縮
して、4−アミノー4′−メトキシジフエニルエーテル
(7.21g,収率86.3%)を得る. 融点: 76−77”C IR (スジ讐−ル) : 34G0. 32
50−3100. 1640. 1590.150
0 cm−’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) 3
.70 (3H.s). 4.83(2H.bs).
6.50 (2H.d.J:9Hz). 6.66 (
2H.d.J=9Hz). 6.80 (4H.s)M
ass : 216 (M+1), 215 (M).
m/e 2G0. 172東』む艷互 a.4゛ −ジアミノジフェニルエーテル(5.5g)
および濃塩酸( 2811Q )の酢酸(55111
>と水( 55111 ’)との混合溶媒中混合物に、
亜硝酸ナトリウム(4g)の水(2G+11 ’)溶液
を水冷攪拌下5℃未満の温度で滴下する.混合物を5℃
で1時間攪拌する.反応混合物に塩化第一スズ(3(I
g)の濃塩酸( 1oom )溶液を氷一塩冷却攪拌下
O″Cで加える.反応混合物を3時間攬拌し、次いで室
温で一夜放置する.沈殿を濾取、水洗する.固体をビー
カーに移し、水で希釈して水冷攪拌下希水酸化ナトリウ
ム水溶液でpHloに!l整する.沈殿を濾取、水洗、
真空乾燥して、4.4′−ジヒドラジノジフエニルエー
テル( 3.0g , 収率47.4%)ヲ得る. 融点175℃ IR (スジー−ル) 3300. 1610.
1590. 1505. 13g0.1255
c1’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) 3
.83 (4H.bs). 6.37(2H.bs).
6.50−7.0 (8H,m)Mass : 23
1 (M+1), 230 (M). tale 21
5. 200,183. 170 見皇班上 4−ニトロ−4′一メタンスルホニルアミノジフエニル
エーテル(5.5g)のメタノール(150m)および
テトラヒドロフラン( 150111 )の混合物溶液
を10%バラジウムー炭素(1.5g)の存在下常温で
大気圧下に1時間水素添加する.触媒を濾去し、次いで
濾液を減圧濃縮して、4−アミノー4′−メタンスルホ
ニルアミノジフェニルエーテル(4、9g、収率98,
8%)を得る.融点140”C IR (スジ習一ル) 3400. 3320.
1610. 1505. 1380.1320
cab−’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppa+)
2.90 (3H.s). 4.90(2H.s).
6.50 (2H.d.J=9Hz). 6.67 (
2H.d.J−9Hz). 6.77 (2H.d.J
=9Hz). 7.10 (28.d,J=9Hz).
9.31 (IH.s)Mass : 279 (M
a1). 278 (M). lIIle 213.
199東Jl四 実施例7で製造した4−アミノー4′−メトキシジフエ
ニルエーテル(2.5g)の47%臭化水素酸水溶液(
251Q )中混合物を攪拌下1時間還流する.反応混
合物を水中に注いだ後、溶液を水冷攪拌下20%炭酸水
素ナトリウム水溶液でpH8に!Itする.沈殿を濾取
、水洗、真空乾燥して、4ーアミノー4′−ヒドロキシ
ジフェニルエーテル(2.14g、収率91.6%)を
得る.融点: 157−158℃ IR (スジ珍一ル) : 3380, 33
10. 1605. 1575,1505 am−
l NMR (DM50−d6.90MHz.ppa+)
4.75 (2H.bs), 6.47(2H,d,J
−9Hz). 6.60 (2H,d.J=9Hz>
, 6.80(4H.a+). 8.96 (lH
.s)Mass : 202 (M◆1). 2
01 (M). m/e 172塞1u4u 4−ヒドラジノ−4′一二トロジフェニルエーテル・塩
酸塩(3.08g)のメタノール(l00mQ)溶液を
10%パラジウムー炭素(1.5g)の存在下常温で大
気圧下に1時間水素添加する.触媒を濾去する.濾液を
減圧濃縮し、次いで水で希釈する.溶液をIN水酸化ナ
トリウム水溶液で水冷攪拌下pH8に調整する.沈殿を
濾取して水およびn−ヘキサンで洗浄し、真空乾燥して
、4−アミノー4′−ヒドラジノジフエニルエーテル(
1.57g、収率66.7%)を得る. 融点170℃ IR (スジジール> 3450. 3400−
3100. 1640, 1510.1500 a
m−1 NMR (DMSO−d6.90MHz,ppm) 3
.28 (IH.bs), 4.70(4H,bs).
6.40−6.80 (8}1.m)Mass
: m/e 211. 200. 171衷1日
』12 4−(4−アミノフェノキシ)−4′ 一二トロジフエ
ニルエーテル(6.8g).塩化アンモニウム(0.6
g)および鉄粉(6g,60メッシュ)のエタノール(
60111Q )と水( 151Q )の混合溶媒中
a合物を攪拌下l.5時間還流する.不溶物を濾去し、
次いで濾液を減圧濃縮する.残渣を水冷下水で粉砕する
.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−(4−アミノ
フェノキシ)−4’ −アミノジフェニルエーテル(5
.42g,収率87.8%)を得る. 融点170℃ IR (ヌジ*−4) ’ 3400, 33
20. 3200. 1610. 1495.1
380 am−1 NMR (DMSO−d6.90M}Iz.ppm)
4.83 (4H,s). 6.50(4H,d.J=
9Hz>, 6.68 (4H.d.J=9Hz).
6、76(61,s) Mass : 293 (M+1), 292 (M
). m/e 263. 184,146, 1
08 烹』0艷り 硫化4−ニトロ−4′一メタンスルホニルアミノジフエ
ニル(5.5g)のテトラヒド口フラン( toomi
)とメタノー ル( 100mQ )との混合物溶液
を10%パラジウムー炭素(4g)の存在下常温で大気
圧下に4.5時間水素添加する.触媒を濾去し、濾液を
減圧濃縮して、硫化4−アミノー4゛一メタンスルホニ
ルアミノジフエニル(4.7g,収率94.2%)を得
る. 融点tSS℃ IR (スジI−4) 3400. 1630.
1600, 1320. 1270.1160
cm−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) 2
.90 (3H,s), 5.50(2H,bs).
6.80 <2H.d.J=6Hz), 7.06
(4Hs). 7.17 (2H.d.J−6Hz
), 9.67 (IH,s)Mass : 2
95 (M+1>. 294 (M), m/e
215大』豊艷■ 実施例15で製造した4−アセトアミドーN−[ 4−
( 4−アミノフエニルチ才)フエニル]ベンゼンスル
ホンアミド(3.5g)のエタノール( 70mQ)お
よび濃塩酸(7mll)中混合物を攪拌下3時間還流す
る.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水に溶解する.溶
液を水冷下10%水酸化ナトリウム水溶液でpH5.
0に11#!iする.沈殿を濾取、水跣、真空乾燥して
、4−アミノーN−[4−(4一アミノフエニルチ才)
フェニル]ベンゼンスルホンアミド(3.0g、収率9
5.3%)を得る.融点188− 190℃(.分解) IR (スジi4) 3350. 3100.
1620. 1595, 1380.1150
am−1 NMR (DMSO−d6,90MHz,ppm) 5
.35 (2H.bs). 5.88(2H.bs>,
6.48 (2H,d.J=9Hz). 6.55
(21,d.J−9Hz). 6.90 (4H.bs
), 7.05 (2B,d,J=9Hz). 7.3
2 (2H,d.J=9Hz)Mass : 372
(M+1), 371 (M). m/e 215,
183東』巣l4 鉄粉(7g、60メッシュ)および塩化アンモニウム(
0.7g)のエタノール( 7Qmll )、テトラヒ
ド口フラン( 70mQ )および水( 401011
)の混合溶媒中混合物に、4−アセトアミドーN−[
4−(4ニトロフエニルテ才)フェニル]ベンゼンスル
ホンアミド(6.6g)を攪拌下80℃で少量ずつ分割
して加える.混合物を2時間還流する.反応混合物を吸
引a過して濾液を減圧濃縮し、次いで残清を水冷下水で
粉砕する。沈殿を濾取、真空乾燥して、4−アセトアミ
ドーN−[4−(4−アミノフエニルデ才)フエニル]
ベンゼンスルホンアミド(3.5g、収率56,9%)
を得る.融点192− 195℃ IR (スジi−IL) 3500. 3400
, 3350. 3200, 1685,162
5. 1595. 1495. 1330 cm−’N
MR (DMSO−d6.60MHz,ppm) 2.
05 (3H.s). 5.50(2}1.bs).
4.40−6.70 (3H,m). 6.83−7.
35(61,m>, 7.67 (3H,bs), 1
0.07 (1M,s).10.27 (IH.s) Mass : 414 (M+1). 413
(M). m/e 290, 215犬』畳』様 鉄粉(6g160メッシュ)と塩化アンモニウム(0.
6g)のエタノール( 13Qmll )、テトラヒド
ロフラン( 40mll )および水(.40mQ)の
混合溶媒中混合物に、4−ニトロ−4′−メタンスルホ
ニルアミノジフェニルスルホキシド(6g)を攪拌下8
0℃で少量ずつ分解して加える.混合物を攪拌下4時間
還流する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水冷下水で
粉砕する.沈殿を濾取、水洗、風乾して固体を得る.固
体をシリカゲル(シリカゲル60、70−230メッシ
ュ、メルク社製)(120g)を使用するカラムクロマ
トグラフイーに付し、クロロホルムとメタノールとの混
液(5:1)で溶出する.目的化合物を含む画分を合わ
せ、蒸発乾固して、4−アミノー4′−メタンスルホニ
ルアミノジフェニル乙ルホキシド( 4.3g , 収
率7s.o%)を得る. 融点198−200℃ IR (スジI1−4) 3500. 3400
. 1635. 1595.1505 cm−’ NMR (DMSO−d6.’70MHz.ppm>
3.02 (3H,s), 5.69(2H,s).
6.56 (2H,d,J=9Hz). 7.23
(2H,d.J=9Hz>. 7.26 (2H.
d.J=9Hz), 7.47 (2H.dJ=9H
z>. 10.00 (LH.s)Mass :
295 (M+1>. 294 (M),
m/e 215大1d艷■ 実施例18で製造した4−アセトアミドーN−[ 4−
( 4−アミノベンゼンスルフィニル)フ工二ル]ベン
ゼンスルホンアミド(2.5g)の濃塩酸( 5111
1)およびエタノール( 501111 )の混合溶媒
中混合物を攪拌下3.5時間還流する.反応混合物を減
圧濃縮する.残虐を水に溶解し、溶液を水冷攪拌下炭酸
水素ナトリウムでpH7.0に調整する.沈殿を濾取、
水洗、真空乾燥して、4−アミノーN−[4−(4−ア
ミンベンゼンスルフィニル)フェニル]ベンゼンスルホ
ンアミ}?(1.7g、収率75.4%)を得る. 融点198− 200℃ IR (スジ賛一ル) 3450. 3350,
3250. 1630. 1600,1500
. 1380. 1320 cm−’NMR (DMS
O−d6.90MHZ.ppm> 5.60 (2H.
bs), .5.90(2H.bs), 6.46
(2H,d.J=9Hz). 6.53 (2H,d
.J=9Hz>. 7.10 (2H.d.J=9H
z), 7.18 (2H.d,J=9Hz),
7.35 (4H.d.J=9Hz>. 11.20
(IH.s)Mass : m/e 371.2
48.215衷1d4リ 鉄粉(6g、60メッシュ)と塩化アンモニウム(0.
6g)トのエタノールC 60fflQ ) ,テトラ
ヒド口フラン( 60ml! )および水C 4011
112 )の混合溶媒中混合物に、4−アセトアミドー
N−[4−(4−ニトロベンゼンスルフィニル)フエニ
ル]ベンゼンスルホンアミド(4.2g)を攪拌下80
℃で少量ずつ分割して加える.混合物を攪拌下1.5時
間還流する。反応混合物を吸引濾過する.濾液を減圧濃
縮し、残渣を水で粉砕する.沈殿を濾取、水洗、風乾し
て固体(4.0g)を得る.固体をシリカゲノレ( 1
20g , 270− 400メッシュ、メノレクネ上
製)を使用するカラムクロマトグラフイーに付し、ジク
ロロメタンとアセトンとの混液(3:1)で溶出する.
目的化合物を含む画分を合わせ、減圧a縮して、4−ア
セトアミドーN−[4−(4−アミノベンゼンスルフィ
ニル)フエニル]ベンゼンスルホンアミド(2.1g,
収率53,5%)を得る. 融点: 225−228℃(分解) IR (スジ牙一ル) : 3350, 32
00, 3100. 1675. 1630,1
595, 1500, 1380, 1340,116
5 am’ NMR (DMSO−d6,60MHz,ppm) 2
.10 (38,s), 5、73(2H.bs),
6.63 (2H.d.J:9Hz), 7.20 (
2H.d.J=9Hz>. 7.25 (2H.d.J
=9Hz), 7.33 (2H.d,J=9Hz>,
7.73 (41,bs). 10.33 (IH,
s)Mass : m/e 413. 341, 29
0. 248大』己M19 実施例32で架造した4.4′−ジアミノ−3一メトキ
シジフエニルスルホン( 1.2g )のジクロロメタ
ン( 100mQ )およびクooホルム(100II
IQ)の混合物溶液に三臭化ホウ素(10g)のジクロ
口メタン( 30ffLQ )溶液をドライアイスーア
セトン冷却攪拌下−10℃で滴下する.混合物を室温で
10時間攪拌し、次いで40℃で2時間攪拌する.反応
混合物を減圧濃縮する.残渣を水で希釈し、次いで混合
物を攪拌下1時間還流する.反応混合物を希水酸化ナト
リウム水溶液でpH5に!l11し、水冷下1時間攪拌
する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4.4′−ジ
アミノー3−ヒドロキシジフェニルスルホン( 0.8
g , 収率70.2%)を得る. 融点260℃(分解) IR (スジ習一ル) 3450. 3400.
1630. 1595. 1520.1380
. 1290 cm’ NMR (CF3GOOD.90MHz.ppm)7.
50−7.70 (LH,m). 7.73 (2H.
d.J=8Hz).7.83 (2H.d.J=8Hz
), 8.15 (2H.d.J=8Hz)Mass
: 265 (M+1). 264 (M). m/a
200. 156罠箆盟剥 実施例21と同様にして、実施例29で製造した4一ア
セトアミド−4′−ヒドラジノジフェニルスルホン(3
g)から出発して、4−アミノー4′−ヒドラジノジフ
ェニルスルホン(1.7g.収率57.7%)を得る. 融点160− 165℃ IR (ス九−ル) 3200−3450. 1
630. 1595. 1505.1385. 1
285 am’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) 6
.00 (4H,bs), 6.35−6.90 (3
H.m), 7.00−8.00 (5H.m)Mas
s : m/e 248. 233衷及斑君 実施例28で製造した4−アセトアミド−4′(メタン
スルホニルアミノ)ジフエニルスルホン(6g)の濃塩
酸( aomQ )および水( 40+1111 )中
混合物を攪拌下2.5時間還流する.反応混合物を水冷
下炭酸カリウム粉末でpHloに調整する.沈殿を濾取
、水洗、真空乾燥して、4−アミノー4′(メタンスル
ホニルアミノ)ジフエニルスルホン(4.5g、収率8
4.7%)を得る.融点190℃ IR (スジa−’L) : 3350−340
0. 1635. 1595.1500 cm−’ NMR (CF3COOH.60MHz,ppm) 3
.55 (3H.s). 7.67−8.00 (6
H.m). 8.06−8.40 (4}1,m)
Mass : 327 (Ma1), 326
(M), m/e 248. 183犬1d生坐 4−アセトアミド−2′−メタンスルホニルアミノー4
′一二トロジフェニルスルホン(6g)のメタノール(
200mll )、テトラヒド口フラン( 300m
ll )およびN,N−ジメチルホルムアミド( 60
mR )の混合溶媒溶液を、10%パラジウムー炭素(
2g)の存在下、常温で大気圧下に6時間水素添加する
.触媒を濾去し、次いで濾液を減圧濃縮して、4−アセ
トアミド−4′−アミノー2′ーメタンスルホニルアミ
ノジフエニルスルホン(4.0g)を得る.4−アセト
アミドー4″ −アミノー2′ −メタンスルホニルア
ミノジフェニルスルホン(4.0g)および濃塩酸(
40111 )の水( aom++ )中混合物を攪拌
下2時間還流する.反応混合物を水冷下希水酸化ナトリ
ウム水溶液で凶5.0に調整し、水冷下5℃で4時間攪
拌する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して黄色固体を得
る.固体をシリカゲノレ(シリカゲル60, 70−2
30メッシュ、メルク社製)(300g)を使用する力
ラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルムとメタノ
ールとの混液(10:1)で溶出する。目的化合物を含
む画分を合わせ、減圧濃縮して、4.4′ −ジアミノ
ー2′−メタンスルホニルアミノジフェニルスルホン(
t.tg,収率22.2%)を得る. 融点210℃(分解) IR (スジ1−ル> 3450. 3350−
3200. 1625. 1595,1380.
1335 cm−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) 2
.97 (3H,s). 6.33(4H.bs),
6.60−7.06 <38.m>. 7.40 (L
H.d.J=8Hz). 7.15 (LH.d.J=
8Hz). 7.59 (IH,d,J=8Hz>,
8.03 (IH.d.J:8Hz), 8.97(I
H.bs) Mass 二 342 (M+1), 341
(M), m/e 314. 285.263 叉1Q艷η 実施例36で製造した4−(2−アセトキシベンゾイル
)ヒドラジノ]−4’ −(ペンジル才キシ力ルポニル
アミノ)ジフエニルスルホン( 4.8g)のテトラヒ
ド口フラン( 751Q )およびメタノール( 12
511111 )の混合物溶液をlO%パラジウムー炭
素(7.4g)の存在下、常温で大気圧下に11時間水
素添加する.触媒を濾去し、次いで濾液を減圧下に蒸発
乾固して固体を得る.固体を酢酸エチルで抽出して炭酸
ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥する.硫酸マグネシウムを濾去後、濾液を減圧濃縮し
て、4−( 2−アセトキシベンゾイル)ヒドラジノ]
−4’ −アミノジフェニルスルホン( 2.8g ,
収率78.0%)を得る, 融点206−208℃ IR (ス九−ル) 3400. 3340.
1755. 1680. 1625.1590.
1310. 1285. 1200 cca−1NM
R (DMSO−d6.90MHz.ppm> 2.1
6 (3H.s). 6.40−7.97 (15H劃
). 10.23 (IH.bs)Mass +
426 (M+1>. 425 (M). m/e
383. 289.248 叉1畳艷η 4−アセトアミド−2′−クロロー4′一二トロジフェ
ニルスルホン(6.74g)、塩化アンモニウム(0.
67g)および鉄粉(6. 74 g、60メッシュ)
のエタノール( 601IQ ) 、テトラヒドロフラ
ン(60mA)および水(30111 )の混合溶媒中
混合物を攪拌下2時間還流する.不溶物を濾去し、次い
で濾液を減圧濃縮する.残渣にメタノールを加え、攪拌
下3分間還流する.沈殿を濾取してメタノールで洗浄し
、風乾して、4−アセトアミドー2′クロロー4′−ア
ミノジフエニルスルホン(5.06g1収率82.0%
)を褥る. 融点277−288℃ IR (スジ書−ル) 3480. 3350−
3150. 1685. 1640,15g5.
1520. 1300 era−’NMR (DMSO
−d6.90MHz.ppm) 2.07 (3H,s
). 6.06−6.76 (3H.m), 7.43
−8.10 (4H,m). 10.25(IH.bs
) Mass : 326 (M+1>. 325
(M). m/e 324. 284.282,
218. 174 ?10」少 実施例24で製造した4−アセトアミド−2′クロロー
4′−アミノジフエニルスルホン(6.1g)およびト
リエチルアミン(7.6g)のN.N−ジメチルホルム
アミド(6G111 )溶液に、塩化メタンスルホニル
(6.45g)を攪■拌下5゜Cで滴下する.混合物を
室温で5時間攪拌する.反応a合物を減圧a縮し,歿渣
を氷水中に注ぐ.沈殿を濾取、水洗、風乾して固体(4
−アセトアミドー2′−クロロー4′一メタンスルホニ
ルアミノジフェニルスルホンと4−アセトアミドー2′
−クロロー4′ −ジメタンスルホニルアミノジフエニ
ルスルホンとの混合物)を得る.固体をテトラヒドロフ
ラン( 420fflJ+ )と水( 70111Q
)との混合物に加え、攪拌下IN*酸化ナトリウム水溶
液でp}19. 5に調整する.混合物を50”Cで3
時間攪拌する.反応混合物のpttを、さらにIN水酸
化ナトリウム水溶液を加えて9. 0− 9. 5に維
持する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水冷攪拌下1
0%塩酸でpH2. 0に調整する.沈殿を濾取、水洗
、風乾して固体を得る.固体をシリカゲル(和光ゲルC
−200、100−200メッシュ、和光純薬社製)(
180g)を使用する力2ムクロマトグラフィーに付し
、クロロホルムとメタノールとの混液(30:1)で溶
出する.目的化合物を含む両分を合わせ、減圧濃縮して
、4−アセトアミド−2′−クロロー4′一メタンスル
ホニルアミノジフエニルスルホン(3.74g,収率4
9.4%)を得る. 融点201− 202℃ IR (ヌジタール) 3400−3250.
3100, 1680. 1595.1535.
1408. 1325. 1305,1150 cm−
’ NMR (DMSO−d6.90MHz,ppm> 2
.06 (3H.s). 3.13(3H.s). 7
.16−7.43 (21,m). 8.00−8.2
3(IH.m). 10.29 (IH.s), 10
.40−10.75(IH.bs) Mass : 404 (M+1). 403 (M)
, rn/e 362. 360.324. 282 大1d艷仲 4−アセトアミド−4′−アミノジフェニルスルホン(
13.9g)のテトラヒドロフラン(400mQ)およ
び水( 140+IL11 )の混合物溶液のpHを攪
拌下飽和炭酸ナトリウム水溶液でpH8−9に調整する
.混合物に塩化カルボベンズ才キシ(36.8g)を攪
拌下5℃で滴下する.反応混合物を5℃で2.5時間攪
拌する.さらに飽和炭酸ナトリウム水溶液を用いて反応
混合物のpHを8−9に維持する.反応混合物を酢酸エ
チルで抽出し、水洗して硫酸マグネシウムで乾燥する.
硫酸マグネシウムを濾去後、濾液を減圧下に蒸発乾固す
る.次いで残渣を500mQフラスコに移し、n−ヘキ
サン( 3QQmQ )中20分間攪拌する.沈殿を吸
引濾過してn−ヘキサンで洗浄し、風乾して4−アセト
アミド−4′ペンジル才キシ力ルポニルアミノジフェニ
ルスルホン( 19.95g ,収率98.2%)を得
る.融点213−214’C IR (スジ1−ル) 3330. 3250.
1745、 1650. 1595.1580.
1540. 1410. 1320 crtr−’N
MR (DMSO−d6,90MHz.ppm) 2.
05 (3H.s>. 5.12(2H.s), 7
.17−7.43 (5H.m). 7.46−7
.86(8H.m>, 10.06−10.33
(2H.m)Mass : 425 (M+1>
,424 (M>.m/e 407,380,316
, 300. 290 叉』藁』虹 実施例26で製造した4−アセトアミド−4′ペンジル
才キシ力ルポニルアミノジフェニルスルホン( 19.
9g )および6N塩酸( 3011Q ) (7)エ
タノール( 400ml1 )中a合物を撹拌下5時間
還流する.反応混合物を減圧濃縮して水で希釈し、次い
で炭酸水素ナトリウム飽和水溶液でpH8に調整する.
沈殿を濾取、水洗、風乾して、4−アミノー4′ −ベ
ンジル才キシ力ルポニルアミノジフェニルスルホン(1
7.0g、収率94.8%)を得る.融点198− 2
00℃ IR (スジ3−ル) 3480. 3390.
3330, 1730. 1635,1595
. 1535, 1410. 1300,1230 c
m−’ NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm> 5
.13 (2}1.s). 5.50(2H.d,J=
9Hz>. 7.18−7.80 (13H.m),
10.10(11,bs) Mass : 383 (M+1), 382
(M), m/e 33g. 274,248.
210 太1聖艷輝 4−アセトアミド−4′ −アミノジフェニルスルホン
(5g)とトリエデルアミン(3g)とのN,N−ジメ
チルホルムアミド( IOOIIQ )中混合物に、塩
化メタンスルホニル(12.3g)を攪拌下5゜Cで滴
下する.反応濯合物を5゜Cで2時間攪拌し、減圧濃縮
して油状残渣を得る.油状残渣に水を加え、沈殿を濾取
、水洗、真空乾燥して、4一アセトアミド−4′ 一(
メタンスルホニルアミノ)ジフエニルスルホン( 8.
0g , 収率94.6%)を得る. 融点230− 235℃(分解) NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) 2
.07 (3H.s). 3.63(3H.s), 7
.50−8.07 (8H.m)Mass : 369
(M+1). 368 (M). m/e 326.
290.248 束1dl益 4−アセトアミド−4′ −アミノジフエニルスルポン
(6g)および濃塩酸( 16mQ) (y)酢酸(1
26mN)および水( 26mQ)中a合物に、亜硝酸
ナトリウム(3g)の水( 10+nll )溶液を水
冷攪拌下5゜C未満の温度で滴下する.混合物を5℃で
1時間攪拌する.混合物に塩化第一スズ(20g)の濃
塩酸( 1oomu )溶戒を塩一氷冷却攪拌下O℃で
滴下する.反応d合物をO″Cで2時間攪拌し、次いで
室温で3日間放置する.反応混合物を40%水酸化ナト
リウム水溶液でpH12に調整し、次いで水冷下2時間
攪拌する.沈殿を濾取、水洗、真仝乾燥して、4−アセ
トアミド−4′ −ヒドラジノジフエニルスルホン(3
g1収率42.6%)を得る.融点260−270℃ IR (スジ*−L> 3450. 3350−
3200. 1685. 1630,1595.
1380. 1290 cm−’NMR (DMSO−
d6.90MHz.ppm>2.06 <38,s)
, 4、15 (LH.s). 5.93
(2H.s)6.75 (2H.d.J=9Hz),
7.65−7.95 (6H,m)Mass :
306 (M+1), 305 (M).
m/e 290, 263,248 東』饗艷四 4−アセトアミド−3′−メトキシー4′一二トロジフ
エニルスルホン(4.0g)のテトラヒド口フラン(
5011111 )とメタノール( tooma )と
の混合物溶液を10%パラジウムー炭素(1g)の存在
下、常温で大気圧下に2時間水素添加する.触媒を濾去
し、次いで濾液を減圧下に蒸発乾固して、4−アセトア
ミド−3′−メトキシー4′−アミノジフエニルスルホ
ン( 3.5g ,収率95.9%)ヲ得る。 融点; 193−194゜C IR (ス九−4) 3500. 3350−3
150. 1680, 1615.1590, 1
515. 1380 cm−’NMR (DMSO−d
6.60MHz.ppm) 2.10 <3H.s),
3.85(38,s). 6.57 (IH.d.J
=8Hz). 7.20 (IH.bs). 7.27
(LH.d.J=8Hz). 7.80 (4H,s
).10.30 (l}l,s) 束1畳艷吋 実施例25で製造した4−アセトアミド−2′クロロ−
4′ 一メタンスルホニルアミノジフエニルスルホン(
3.6&)(7)6N塩酸(5.4ml!)およびエタ
ノール( 70ma )中混合物を攪拌下5.5時間還
流する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水冷下炭酸水
素ナトリウムでpttsに調整する.混合物を酢酸エチ
ルで抽出し、水洗して硫酸マグネシウムで乾燥する.有
機層を減圧濃縮して、4−アミノ−2’ −クロロ−4
1−メタンスルホニルアミノジフェニルスルホン(2.
1g.収率65.1%)を得る. 融点84−94℃ IR (スジ音一ル) 3520−3100.
1630. 1595, 1505.!340,
1310. 1160 cm−’NMR (DMSO−
d6.90MHz,ppm) 3.13 (3H,s)
. 6.11(2H.bs). 6.43−6.66
(2H.m), 7.13−7.50(4H.m).
8.03 <18,d,J=9Hz). 10.20−
10.76(IH.bs) Mass : 362 (M+1), 361 (M)
. m/e 282. 278.205, 149 采』U艷共 塩化第一スズ(6g)の濃塩#( 61+LQ)中混合
物に4−アセトアミドー3′−メトキシー4′二トロジ
フエニルスルホン( 2 g ) ヲJWt4’下!温
で少量ずつ分割して加える.混合物を攪拌下100℃に
3時間加熱する.反応混合物を水冷下40%水酸化ナト
リウム水溶液を用いてpH12に調整する.沈殿を濾取
、水洗、真空乾燥して、4.4′−ジアミノー3−メト
キシジフエニルスルホン(1.40g、収率88.l%
)を得る. 融点195°C(分解) NMR (CF3COOH,60MHz,ppm) 4
.16 (3H,s). 7.83(3H,s). 7
.67−7.90 (3H,m). 7.73 (2H
.d,J−8Hz>. 8.27 (2H.d.J=8
Hz)Mass : 279 (M+1). 278
(M). m/e 263, 213.171 犬1饗艷月 実施例27で製造した4−アミノー4′−ベンジル才キ
シカルボニルアミノジフエニルスルホン(ta.tg)
および濃塩酸( 5511IQ )の酢酸(HomQ)
と水( 220mll )との混合溶媒中混合物に、亜
硝酸ナトリウム(3.08g)の水C 35mll ’
)溶液を攪拌下5゜Cで滴下する。次いで混合物を5℃
で0.5時間撹拌する.反応渭合物に塩化第一スズ(
25. 12g)の濃塩酸< 220+1Q )溶液を
攪拌下O℃で滴下する.混合物を0゜Cで2時間攪拌し
、室温で一夜放置する.沈殿を濾取、水洗、風乾して、
4−ヒドラジノ−41−ペンジノレ才キシカノレポ二ノ
レアミノジフエニルスルホン・塩酸塩(14.5g,
収率90.6%)を得る. 融点l60℃(分解) IR (スジ!−4> 3400−3250.
1735, 1720, 1705.1595.
1530. 1305. 1220 am−1NMR
(DMSO−d6,90MHz,ppm) 5.17
(28,s). 5.30−5.93 (3}1.m>
. 7.13−8.13 (13H,m). 10.2
3(18,bs) Mass : m/e 364, 355, 323,
293, 258塞1υ乱む 実施例35で製造した4−アセトアミドーN一[4−(
4−アミノベンゼンスルホニル)フエニル]ベンゼンス
ルホンアミド(5.2g)の濃塩酸( 1smu )お
よび水( toomQ)中混合物を攪拌下3.5時間還
流する.反応混合物を減圧濃縮する.残渣を水に溶解し
、次いで溶液を水冷攪拌下炭酸水素ナトリウムでpH7
.0に調整する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4
−アミノーN−[4−(4一アミンベンゼンスルホニル
)フエニル]ベンゼンスルホンアミド(3.5g,収率
74.3%)を得る. 融点235℃(分解) IR (スジ9−ル) 3500. 3370.
1630. 1595. 1500.1380
. 1300 cta−’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm)
5.50 (4H.bs). 6.51(2H.
d.J=9Hz). 6.57 (2H.d.J=9}
1z). 7.13(2H.d.J=9Hz). 7.
40 (2H.d.J=9Hz). 7.43(2H,
d.J=9Hz). 7.61 (2H.d.J=9H
z>. 10.40(LH.s) 束』0艷出 4−アセトアミドーN−[4−(4一二トロベンゼンス
ルホニル)フェニル]ベンゼンスルホンアミド(6&)
のテトラヒド口フラン(200mEI )、メタノール
( 200mQ )およびN,N−ジメチルホルムアミ
ド( 50mQ )の混合物溶液を、10%パラジウム
ー炭素(3g)の存在下常温で大気圧下に1.5時間水
素添加する.触媒を濾去し、次いで濾液を減圧濃縮して
、4−アセトアミドーN−(4−(4−アミノベンゼン
スルホニル)フエニルコベンゼンスルホンアミド(5.
2g,収率92.5%)を得る. 融点288−289℃ IR (スジ1−ル) 3400. 3350.
3270, 1675. 1630.1595
, 1535. 1380. 1300 cm−’NM
R (DMSO−d6,90MHz.ppm) 2.0
7 (3H.s). 5.25(2H.bs), 6
.62 (2H.d,J=9Hz). 7.23
(2H,d,J=9Hz), 7.50 (2H.d
.J:9Hz). 7.73 (2H,d,J=2Hz
). 7。78 (4H.s). 10.27 (IH
.s),10.77 (IH.s) Mass : 445 (M).m/e 402
.370.289.248東101曲 N,N−ジメチルホルムアミド(0.2g)と才キシ塩
化リン(0.43g)との混合物を5℃で30分間攪拌
する.これに乾燥テトラヒドロフラン(5.6ntQ)
を加える.これにアセチルサリチル酸(0.46g)を
水冷攪拌下に加え、混合物を5℃で1時間攪拌して活性
化酸溶液を製造する.一方別に実施例33で製造した4
−ヒドラジノ−4′ −ベンジルオキシカノレボニノレ
アミノジフエニノレスノレホン●塩酸塩(L.Og)お
よびテトラヒドロフラン(2〇一)および水( 20m
l! )の混合物を攪拌下5゜Cで飽和炭酸ナトリウム
水溶液でpH7−8にm整する.混合物を上記で製造し
た活性化酸溶液に撹拌下5゛Cで滴下する.反応混合物
を5゜Cで2時間攪拌する.さらに飽和炭酸ナトリウム
水溶液で反応混合物のpHを7−8に保つ.反応混合物
を酢酸エチルで抽出し、飽和炭酸ナトリウム水溶液で洗
浄して硫酸マグネシウムで乾燥する.硫酸マグネシウム
を濾去後、濾液を減圧濃縮して、4−[(2−アセトキ
シベンゾイル)ヒドラジノコー4′ −(ペンジル才キ
シカルボニルアミノ)ジフェニルスルホン(1.02g
、収率79,1%)を得る.IR (スジ9−ル)
3330. 3200. 1740. 170
5. 1655.1595. 1550. 1305
cm−lNMR (DMSO−d6.90MHz.p
pm) 2.16 (3H,s). 5.14(2H.
s), 7.03−7.97 (18H.m). 10
.07−10.30(2H劃) Mass : m/e 445, 384, 331.
274衷1畳艷V 実施例39で製造した4−アセトアミドーN−(4−イ
ンブロピルアミノフエニル)一N−メチルベンゼンスル
ホンアミド(3g)および濃塩酸C 3fflll)の
エタノール( 40+1111 )中混合物を撹拌下2
時間還流する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を濃水酸
化アンモニウム水溶液で水冷下p}19. 0に調整す
る.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−アミノーN
−(4−イソプロビルアミノフェニル)一N−メチルベ
ンゼンスルホンアミド(1.50g1収率84.9%)
を得る. 融点201− 202゜C(分解) IR (スジ9−ル) 3500. 3400,
1625, 1615. 1600.1515
. 1325 am−1 NMR (DMSO−d6,90MHz,ppm) 1
.06 (6}1,d.J=6Hz>.2.90 (3
H,s). 3.43 (1H,q.J:6Hz),
5.35<LH.d,J=9Hz). 5.90
(2H.s), 6.35 (28,d,J=9H
z>. 6.50 (2H.d.J:9Hz),
6.65 (2H.d,J=9Hz). 7.05
(2H.d.J=9Hz>Mass : 320
(Ma1). 319 (M). m/e 163
東1u生1 4−アセトアミドーN−メチルーN−(4−ニトロフェ
ニル)ベンゼンスルホンアミF(5.5g)のメタノー
ル( 200IflQ )とテトラヒド口フラン( z
oomQ)との混合物溶液を、10%パラジウムー炭素
の存在下、常温で大気圧下に2時間水素添加する.触媒
を濾去し、次いで巌液を減圧濃縮して、4−アセトアミ
ドーN−(4−アミノフェニル)−N−メチルベンゼン
スルホンアミド(5.0g5収率99.5%)を得る. 融点150− 152℃ IR (スジヲール) 3550. 3400−
3200. 1690, 1645.1615.
1590, 1540. 1515. 137
0.1340. 1320 crn−’ 衷1d艷抑 4−アセトアミドーN−メテルーN−(4−二トロフエ
ニル)ベンゼンスルホンアミF(4.5g)のテトラヒ
ド口フラン( roo−) 、メタノール( 100m
Q )およびアセトン( toomc )の混合物溶液
を, 10%バラジウムー炭素(2g)の存在下、常温
で大気圧下に2時間水素添加する.触媒を濾去し、次い
で濾液を減圧濃縮して、4−アセトアミド−N−(4−
インプロビルアミノフエニル)一N−メチルベンゼンス
ルホンアミF(4.5g,収率96.7%)を得る. 融点175℃ IR (スジッール> 3350. 1695.
1680. 1610. 1595.1515
. 1380 cm−’ NMR (CF3COOH.60MHz,ppm) 1
.50 (68,d.J:6Hz).2.40 (38
,s), 3.30 (38,s). 4.00 (I
H.q.J=6Hz),7.35−7.57 (4H
.m).7.60−7.90(4H.m), 8.7
0 (IH.m). 9.00 (LH,s)Mas
s : 361 (M) 衷』己』籾 実施例42で製造した4−アセトアミドーN−メチルー
N−(4−メタンスルホニルアミノフェニル)ベンゼン
スルホンアミド(4.96g)および6N塩M(10畝
)のエタノール( 100IfiI2)中混合物を攪拌
下3.5時間還流する.反応混合物を減圧濃縮して水で
希釈し、次いでIN水酸化2ナトリウム水溶戒でpH9
. 0に調整する.混合物を酢酸エチルで抽出し、水洗
して硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウムを
濾去後、濾液を減圧下に蒸発乾固して、4−アミノーN
−メチルーN−(4−メタンスルホニルアミノフェニル
)ベンゼンスルホンアミド(3.35g,収率75.5
%〉を得る.融点150−152℃ IR (スジl−L) 3500. 3400−
3300. 1635. 1595.1505.
1340−1305. 1225. 1150 cm−
’MNR (DMSO−d6.90MHz,ppm>
”2.98 (3H,s). 3.00(3H.s).
5.98 (2H,bs), 6.53 (
2H,d.J=9Hz).6.90−7.20 (6
H.m)Mass : 356 (M+1>,35
5 (M).m/e 275,199,156 大1畳艷l 4−アセトアミドーN−メチルーN−(4−アミノフエ
ニル)ベンゼンスルホンアミト<5.2g)およびトリ
エチルアミン(6.6g)のN,N−ジメテルホルムア
ミド( 50m11 )中混合物に、塩化メタンスルホ
ニル(5.6g)を攪拌下5℃で滴下する.混合物を室
温で2時間攪拌し、減圧濃縮して残査を水冷下水で粉砕
する.沈殿を濾取、水洗、風乾して、4−アセトアミド
ーN−メチルーN−(4−ジメタンスルホニルアミノフ
エニル)ベンゼンスルホンアミド( 10.58g ,
収率136.6%)を得る. 融点161−164℃ IR (スジ旨一ル) 3650−3100.
1695. 16g0. 1595.1540,
t505. 1350. 1250.1160 cm−
1 NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm> 2
.10 (3H.s). 3.15(3H.s).
3.67 (3H.s). 5.34 (3H.s
). 6.90−7.84 (8H.m), 10
.3 (1N,bs)Mass : 476 (M
a1), 475(M), m/e 297,
296,200, 199, 198 叉1d生婬 実施例4lで製造した4−アセトアミドーN−メチルー
N−(4−ジメタンスルホニルアミノフエニル)ベンゼ
ンスルホンアミド(7.74g)のテトラヒドロフラン
( 32011111 )と水( 50ffil! )
との混合物溶液を攪拌下1N水酸化ナトリウム水溶液で
pH10. 4 − 10. 6に調整する.渇合物を
50℃で6時間攪拌する。反応混合物のpHを、さらに
1N水酸化ナトリウムを使用して10.4−10、6に
維持する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を攪拌下10
%塩酸でpH2.0にmyする.混合物を酢酸エチルで
抽出し、水洗して硫酸マグネシウムで乾燥する.硫酸マ
グネシウムを濾去後、濾戒を減圧下に蒸発乾固して、4
−アセトアミドーN−メチルーN−(4−メタンスルホ
ニルアミノフェニル)ベンゼンスルホンアミド(5.0
6g、収率78.2%)を得る.融点197−198℃ IR (スジa−1> 3350−3150.
1680. 1665. 1610.1595,
1550. 1405, 1330.1270 am’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) 2
.12 (3H.s), 3.03(31,s), 3
.10 (3H,s), 7.08 (4H,dd,J
=3Hz,9Hz>, ?.43 (2}1,d,J;
9Hz). 7.73 (2H.d,J=9Hz),
9.76 (LH.bs). 10.30 (LH.b
s)Mass : 39B (M+1>, 397 (
M), m/e 368, 254,199 大1dlり 4−アセトアミドーN−(4−ニトロフェニル)ベンゼ
ンスルホンアミド(2g)のメタノール( 50ml1
)およびアセトン( somQ)の混合物溶液を10
%パラジウムー炭素(2g)の存在下、常温で大気圧下
に1時間水素添力Uする.解媒を濾去し、次いで濾液を
減圧濃縮して、4−アセトアミ}’一N−( 4−イソ
プロビルアミノフェニル)ベンゼンスルホンアミド(2
.13g、収率102.9%)を得る. 融点210− 213℃ tR (スジa−4) 3350. 3250.
1670, 1610, 1595.1515
. 1380. 1160 am−1MNR (DMS
O−d6,90MHz.ppm> 1.06 (6H,
d,J=9Hz).2.05 (3H,s). 3.1
0−3.50 (18,m). 5.20(LH.bs
). 6.33 (2H,d.J;9Hz). 6.6
6 (2H.dJ=9HZ). 7.48 (2H,d
,J=9Hz), 7.63 (21d,J=9Hz)
, 9、23 (1}1,s). 10.16 (IH
,s)Mass : 348 (M+1). 347
(M>. m/e 149, 107衷1d艷り 4−メタンスルホニルアミノアニリン(5.4g)のN
,N−ジメチルアニリン( 13111 )中混合物に
、塩化4−アセトアミドベンゼンスルホニル(6.3g
)を攪拌下100℃で少量ずつ分割して加える.混合物
を攪拌下l00℃に4時間加熱する.反応混合物を6N
塩酸中に水冷攪拌下に注ぐ.沈殿を濾取、水洗、真空乾
燥して、4−アセトアミドーN−(4−メタンスルホニ
ルアミノフェニル)ベンゼンスルホンアミト( 8.0
8g , 収率78.4%)を得る. 融点223− 235℃ IR (スジ,−x) 3200. 1680.
1595. 1530. 1380.1330
. 1155 cm−’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm>
2.06 (3H,s). 2.90(3H,s
), 7.00 (4H.s), 7.63 <4H.
s). 9.46(tH,s). 9.96 (I
H,s). 10.23 <1}1.s)Mass
: 384 (M+1), 383 (M). ml
e 304, 240,198 犬』聖艷り 実施例44で製造した4−アセトアミドーN−(4−メ
タンスルホニルアミノフェニル)ベンゼンスルホンアミ
ド(8g)の濃塩酸( 12mQ )およびエタノール
( l6am )の混合溶媒中a合物を撹拌下4時間還
流する.反応混合物を減圧濃縮して残渣を水に溶解し、
次いで溶演を水冷攪拌下炭酸水素ナトリウムでpH7に
調整する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−アミ
ノーN−(4−メタンスルホニルアミノフェニル)ベン
ゼンスルホンアミド(6.53g、収率9l.7%)を
得る.融点190− 194℃ 工R (スh−ル) 3500. 3400,
3260, 1635, 1600.1380.
1315 cm” NMR (DMSO−d6、90MHz,ppm) 2
.86 (3H.s), 5.86(21,s).
6.50 (2H.d.J=9Hz>. 7.00
(4H,s),7.31 (2H,d,J=9Hz>.
9.40 (LH.s). 9.63(LH.s
) Mass :342 (M+1). 341 (
M), m/e 262. 185.157 太1聖40 実施例43で製造した4−アセトアミドーN−(4−イ
ソプロビルアミノフエニル)ベンゼンスルホンアミド(
5.6g)の濃塩酸(g,4mQ)とエタノール( 1
10+1111 )との混合溶媒中混合物を攪拌下3,
5時間還流する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水に
溶解する.溶液を炭酸水素ナトリウムで水冷攪拌下pH
7. 0に調整する.沈殿を濾取、水虎、真空乾燥して
、4−アミノーN−(4−イソブロビルアミノフエニル
)ベンゼンスルホンアミド(4.3g,収率87.6%
)を得る.融点160− 166℃ IR (スジs−J 3500. 3400.
1630. 1600, 1525,1380.
1320. 1155 cm−’NMR (DMSO
−d6,90MHz,ppm) 1.07 (6H,d
,J=6Hz),3.15−3.50 (IH.m).
5.66 (28,bs), 6.33(2H.
d.J=9Hz). 6.46 (2H.d.J=9
Hz), 6.70<21,d,J=9Hz),
7.20 (2}1.d,J=9Hz>, 8.93
(1}1.s) Mass : 305 (M), m/e 20
2, 159, 149, 107叉』d生灯 4.4′−ジアミノジフエニルメタン(5g)の酢酸(
50−)溶液に、無水酢酸(6g)を攪拌下40’C
未満の温度で滴下する.渭合物を常温で1時間攪拌する
.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4.4’−ジアセ
トアミドジフェニルメタン(6.9g、収率99.0%
)を得る.融点225℃ IR (スジm−4) 3200, 1650,
1595. 1520 cm−’NMR (D
MSO−d6,60MHz.ppm) 2.03 (6
H.s). 3.82(2H.s). 7.15 (4
H.d,J=6Hz>, 7.53 (4H.d,J=
6Hz).9、87 (2H,s)大1畳引り 二酸化クロム(35g)の酢酸(B,5mQ)および水
(1.8mll)中混合物に、4.4′−ジアセトアミ
ドジフエニルメタン(1g)を攪拌下80℃で少量ずつ
分割して加える.a合物を攪拌下90℃に1時間加熱す
る.反応混合物を水冷攪拌下水中に注ぐ.沈殿を濾取、
水洗、真空乾燥して、4.4′−ジアセトアミドジフエ
ニルケトン(0. 4 g、収率38%〉を得る. 融点233−234”C IR (スジ9−4) 3550. 3350.
1690, 1635. 1600.1530
am’ NMR (DMSO−d6.60MHz,ppm) 2
.12 (6M,s). 7.77(8}1.s).
10.30 (2H,s)Mass : 297
(M+1). 296 (M), m/e 254.
212.120 叉』uMリ 4.4′−ジアセトアミドジフェニルケトン(4g)の
メタノール( 200ffLI+ )溶液に、水素化ホ
ウ素ナトリウム(1.8g)を攪拌下30℃未満の温度
で加える。混合物を室温で2時間攪拌する.反応混合物
を戚圧a縮し、IA/iilを10%塩酸で水冷攪拌下
pH2. 0に調整する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥
して、4.4′−ジアセトアミドベンゾヒドロール(4
.0g、収率99.3%)を得る.融点185℃ IR (スジ3−ル) 3150−3250.
1665. 1660. 1610 am−1N
MR (DMSO−d6.60MHz.ppm> 2.
00 <6H,s), 5.30(LH,s). 7.
30 (4H.d,J=8Hz). 7.77 (4H
.d.J:81{z). 9.90 (2H.s)Ma
ss : M 298. m/e 281. 239X
凰盟迎 4.4゛−ジアミノシフエニルケトン(5.1g>とO
−アリルヒドロキシルアミン・塩酸塩( 13.3g)
とのメタノール( 150ml! )およびテトラヒド
口フラン( sOmN )の混合溶媒中混合物を室温で
50時間攪拌する.反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水
を加える.溶液をIN*酸化ナトリウム水溶液でpH9
. 0に調整し、水冷下1時間攪拌する.沈殿を濾取、
水洗、乾燥して固体を得る.固体をシリカゲノレ(シリ
カゲノレ60、70−230メッシュ、メルク社製)(
200g)を使用するカラムクロマトグラフィーに付し
、クロロホルムとメタノールとの混液(20:1)で溶
出する.目的化合物を含む両分を合わせ、減圧濃縮して
固体(6.4g)を得る.固体を酢酸エチルとn−ヘキ
サンとの渇液(5:1)から再結晶して、4.4′−ジ
アミノジフェニルケトン・アリル才キシム(4.1g,
収率70.2%)を得る. 融点144−145℃ IR (スジ】−ル) 3450. 3350,
1620. 1605.1510 ca+−’ NMR (DMSO−da.90MHz,、ppm)
4.50 (2H.d.J;5Hz>.5.16 (2
H.d.J=10Hz). 5.30 (4H.s).
5.8−6.20 (IH.m). 6.46 (2
H.d.J=5Hz). 6.56(2H.d.J=5
Hz), 6.95 (2H.d.J=5Hz). 7
.15(2H.d.J=51{z) Mass 二 268 (Ma1), 267
(M). tm/e 226. 210.19
6 束144u 4.4″ −ジアミノベンジル(5g)および〇一メチ
ルヒドロキシルアミン・塩酸塩(2.1g)のメタノー
ル( IOOIIIQ )とテトラヒドロフラン(10
ffIQ)との混合溶媒中混合物を室温で24時間攪拌
する.反応混合物を減圧濃縮する。残清に水を加え、a
合物を1N水酸化ナトリウム水溶液でpH9.0に調整
する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥し、エタノールから
再結晶して、4.4′−ジアミノベンジル七ノメチル才
キシム(4.5g,収率80.3%)を得る. 融点190− 192℃(分解) IR (スジs−4> 3450. 3350.
1625. 1610, 1580,1545
. 1515 a11 NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) 3
.85 (3H.s), 5.70(48,broad
s), 6.67 (4H,dd.J=2Hz, 9
Hz>,6.27 (2H.d.J=9Hz), 7.
63 (2H.d,J=9Hz)Mass : 2
70 (M+1). 2fi9 (M), m
/e 209, 120東1口艷坐 4−アセトアミド−31−メチル−4′一二トロジフェ
ニルケトン( 17.9g ) 、塩化アンモニウム(
1.93g)および鉄粉(19.2g, 60メッシュ
)のエタノール( 1gomc )、テトラヒドロフラ
ン(180咽)および水( 901111! )の混合
溶媒中混合物を攪拌下2時間還流する. 反応混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮する、残虐を水冷
下水で粉砕する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4
−アセトアミドー4′−アミノー3′ −メチルジフエ
ニルケトン( 15.05g ,収率99.7%)を得
る. 融点: 233−238℃ IR (スジー−ル) F 3400. 33
50, 3300. 1690. 1630,1
600. 1575. 1530. 1290 am−
INMR (DMSO−d6.60MHz.ppm)
: 2.00−2.15 (6H.m).5.80 (
2H.bs). 6.67 (2H.d.J=8Hz)
. 7.40(3}1.d.J=8Hz), 7.63
−7.67 (4H.m). 10.20(IH.bs
) Mass : 269 (MO>. 268 (M).
m/e 253. 226.211, 134 衷m逃 4−アセトアミド−4′−アミノー3′−メチルジフエ
ニルケトン(15.0g)の濃塩rim ( 2511
19 )およびエタノール( 150mA )中混合物
を攪拌下5時間還流する. 反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水に溶解する.m液を
1N*fa化ナトリウム水溶液で水冷下ptttoに調
整する。沈殿を濾取、水洗、風乾して固体を得る.固体
をシリカゲル(シリカゲル60、230− 400メノ
シュ、メルク社製)(400g)を使用するカラムクロ
マトグラフィーに付し、ジクロロメタンとアセトンとの
混液(30:1)で溶出する.目的化合物を含む両分を
合わせ、蒸発乾固して、4.4’ −ジアミノ−3−
メチルジフエニルケトン(9.48g、収率74.9%
)を得る.融点: 145−147”C IR (ス九−ル) i 3350, 163
5, 1600. 1580. 1550,13
20. 1270 am−’ NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) :
2.13 <38.s), 5.27<2H.bs)
. 5.85 (2H.bs). 6.63 (2
H.d,J=9Hz). 6.70 (IH.d.J
=9Hz>. 7.30−7.63(4H.m) Mass : 227 (Ma1). 226
(M), m/e 211. 134叉』di鶏 4.41−ジアミノジフエニルケトン(5g)および第
三級プトキシ力ルポニルメトキシアミン(3.9g)の
メタノール( 1oomu )、テトラヒドロフラン(
50mll), N,N−ジメチルホルムアミド(5m
Q)および濃塩#(11111)の混合溶媒中混合物を
室温で48時間攪拌する.反応混合物を減圧濃縮し、残
渣を水で粉砕する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、
1.1−ビス(4−アミノフェニル)−1−(第三級ブ
トキシ力ルポニルメトキシイミノ)メタン(6.9g、
収率74.5%)を得る.融点i 145−146℃ IR (スジa−x) : 3450. 33
50. 3220. 1735. 1640.1
625. 1515 am’ NMR <DMSO−d6.60MHz.ppm) :
1.47 (9H,s). 4.50(2H.s).
5.40 (4H.bs). 6.50 (2H.d
.J=9Hz). 6.57 (2H.d.J:9H
z). 7.10 (2H.d.J=9Hz>.
7.20 (2H.d.J:9Hz>Mass :
342 (tD1), 341 (M).
m/e 285. 200裏1異艷野 1.1−ビス(4−アミノフェニル)−1−(第三級ブ
トキシ力ルポニルメトキシイミノ)メタン(6.9g)
の混合物にトリフル才口酢酸(28一)およびアニソー
ル(70mQ )のジクロロメタン( 20fflfi
)中混合物を水冷攪拌下5℃で滴下する.混合物を室
温で2.5時間攪拌し、反応混合物を減圧下に蒸発乾固
する.残渣をIN水酸化ナトリウム水溶液に溶解し、溶
液を酢酸エチルで洗浄する.水層を大孔非イオン吸着樹
脂「ダイヤイ才ンHP−20J(商標、三菱化成工業社
製)を使用するカラムクロマトグラフィーにイオし、3
0%イソプロビルアルコール水溶液で溶出する.目的化
合物を含む画分を合わせ、半容まで減圧濃縮して、1.
1−ビス(4−アミノフエニル)−1一カノレボキシメ
トキシイミノメタン( 4. 1 g , 収率71.
1% )を得る. 融点: 250−253℃(分解) IR (スジm−4) ’ 3450. 33
50, 2550. 2450. 1650.1
620. 1600. 1515. 1325 cm−
’NMR (DMSO−ds.90MHz) : 4.
51 (2H,s). 6.40−6.65 (6}1
,m), 6.90−7.22 (6H.m)Mas
s : 286 (M+1), 285 (M)
. 11/1! 227. 210叉1畳艷四 後述の実施例59と同様にして、4−アセトアミドーN
一(4−ニトロ−2−クロロフエニル)ベンゼンスルホ
ンアミドから出発して、4−アセトアミドーN−(2−
クロロ−4−アミノフェニル)ベンゼンスルホンアミF
( 2.0g , 収率94.7%)を得る. 融点: 228−230℃ IR (スジ*−1> ’ 3475. 33
50, 3300. 1690. 1630,1
595. 1530. 1505. 1160 cm’
NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm) ’
2.07 (3H.s). 5.37(2H.s).
6.3−6.50 (21,m). 6.75 (I
H.d,J=9Hz). 7.55 (2H.d.J=
9Hz>. 7.17 (2H.d,J=9Hz).
9.20 (LH.s). 10.22 (IH.s)
Mass ; 341 (M+2).340 (
M+1).339 (M).m/e 304, 24
0, 220. 205叉m{M迦 4−アセアミドーN−(4−アミノー2−クロロフェニ
ル)ベンゼンスルホンアミF(2.8g)のエタノール
(56IIIIl)および濃塩酸(4、21IQ)中混
合物を攪拌下6時間還流する. 反応混合物を減圧濃縮し、残清をlO%炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で水冷攪拌下pH8.5にy4tする. 沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−アミノ−N−(
4−アミノー2−クロロフェニル)ベンゼンスルホンア
ミド(1.89g,収率77.1%)を得る. 融点: 140−142℃ IR (スジ*−4> ’ 3350. 32
50, 1625. 1600. 1500.1
315 crm−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) 7
5.33 (2H.s). 5.87(2H.s),
6.40 (2H.d.J;9Hz>. 6.57
(2H.d.J=9Hz). 6.80 (IH,d.
J=9Hz>. 7.33 (2H.d.J=9}1z
). 8.73 (IH.s)Mass :
301 (M+3), 300 (M+2).
299 (M+1).298 (M). rn/e
231, 197, 143. 141去14生
東 4−アセトアミドーN一(2−クロロー4−ニトロフエ
ニル)一N−メチルベンゼンスルホンアミド(3.45
g)および塩化第一スズ(6.9g)の濃塩H (35
+1111 )、テトラヒド口フラン( 25mQ )
およびメタノール( 25ffLQ )中混合物を60
℃で2時間攪拌する.反応混合物を威圧濃縮して水で希
釈し、次いで24%水酸化ナトリウム水溶液で水冷下p
H10.0にU4整する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥
して固体を得る.固体をシリカゲル(和光ゲルC一20
0、100−200メッシュ、和光純薬社製)(100
g)を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、クロ
ロホルムで溶出する.目的化合物を含む画分を合わせ、
減圧濃縮して、4−アミノーN−(4−アミノー2−ク
ロロフエニル)−N−メチルベンゼンスルホンアミド(
2.32g、収率82.8%)を得る. 融点i 135−136℃ IR (スジ3−ル’) : 3480. 3
380, 1625, 1595。 134013
15. 115(l cm−’ NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm) :
3.08 (3H,s>. 6、05(2H,bs)
, 6.60 (2H,d.J=8Hz), 7.
00−7.50(7H.m) Mass i m/e 287.276.262.
156叉』畳艷I 4.41−ジニトロ−2−クロロジフエニルスルホキシ
ド(5.3g)および塩化アンモニウム( 1 g )
(’)工1/−ル(2001nQ)、テトラヒド口フラ
ン(50IIIl)、メタノール(50III11)お
よび水( 501119 )の混合溶媒中混合物に、鉄
粉(10g)を攪拌下80℃で少量ずつ分割して加える
.混合物を攪拌下2,5時間還流する.反応混合物を濾
過し、濾液を減圧濃縮する.残渣をシリカゲル(シリカ
ゲル60. 70−230メッシュ、メルク社製)を使
用するカラムクロマトグラフイーにf寸し、クロロホル
ムとメタノールとの混液(10;1)で溶出する.目的
化合物を含む画分を合わせ、減圧下に蒸発乾固して、4
.4′−ジアミノー2−クロロジフエニルスルホキシド
( 4.2g . 収率97.2%)ヲ得る. 融点: 190−193℃(分解) IR (ヌh−ルン : 3450, 3350
. 3200. 1630. 1595.131
0 am’ NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm)
: 5.70 (2H.s). 5.88(2
H.s), 6.50−6.80 (4H.m).
7.23 (2H.d.J=9Hz>, 7.5
0 (IH.d.J:9Hz)Mass : 26
9 (M+3>, 268 (M+2). 2
67 (M+1),266 (M). m/e 25
0, 218衷1畳生り 実施例59と同様にして、4.4’ −ジニトロペン
ズアニリドから出発して、4.4’ −ジアミノベンズ
アニリド(4.22g,収率80.8%)を得る.融点
: 197−201℃(分解) IR (スジi4) : 3400. 332
0. 3200. 1640, 1625.16
05. 1515 am−1 NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
5.30 (4H,bs).6.55 (2H.d.
J.8HZ). 6.63 (2H.d,J=8HZ)
,7.37 (2H.dJ=8Hz). 7.73
(2H.d,J;8Hz).9.30 (IH,s
) Mass : 228 (M+1). 227
(M), rn/e 120. 108叉1畳4虹 実施例59と同様にして、2−クロロ−4.4′−ジニ
トロペンズアニリドから出発して、2一クロロー4.4
′−ジアミノベンズアニリド(5.lg、収率79.0
%)を得る. 融点: 188−191’c IR (スUa−1> ’ 3350, 32
50, 1635. 1605, 1505.1
495 cm−’ NMR (DMSO−d6.90MHz,ppm) :
5.23 (2}!,bs),5.61 (2H,b
s). 6.59 (2f{,d.J=9Hz), 6
.61(2H.d..C9Hz>. 7.10
(LH.d,J;9Hz3. 7.66(2H,d
.J=9Hz). 9.13 (lH.s)Mass
: 264 (M+3), 263 (M+
2), 262 (M+1),261 (M>.
m/e 226. 142, 120実施例62 ビリジン中4.4′−ジアミノジフェニルケトン(9.
0g)に塩化メタンスルホニル(5.34g)を撹拌下
5℃で滴下する. 反応混合物を5℃で3時間攪拌し、減圧濃縮して油状残
漬を得る.油状残渣をンリカゲル(シノ力ゲル60、2
30−400メッシュ、メルク社製)(500g)を使
用するカラムクロマトグラフイーに付し、クロロホルム
とメタノールとの混液(50:1)で溶出する。目的化
合物を含む両分を合わせ、減圧濃縮して、4−アミノー
4′−メタンスルホニルアミノジフエニルケトン( 3
.03g . 収率24,6%)を得る. M点: 195−197”c IR (スジ9−1) : 3500, 34
00. 1645, 1595, 1575.1
550, 1340. 1315. 1295 cm−
’NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm)
: 3.11 (3H.s). 6.06(2H,bs
), 6.61 (2H,d,J=9Hz>, 7.3
0−7.73(6H.m), 10.15 (LH,b
s)Mass : 291 (M+1). 2
90 (M). m/e 211. 198.18
2 実施例63 4−ウレイド−4′ 一二トロジフエニルスルホキシド
(llg)および塩化アンモニウム(1g)のエタノー
ル( 200fflll ’) 、テトラヒドロフラン
( 50+1112 )および水( 50mQ )の混
合溶媒中混合物に、鉄粉(12g)を攪拌下80℃で少
量ずつ分割して加える.a合物を4時間還流し、反応混
合物を吸引濾過する.濾液を減圧濃縮し、残渣を水で粉
砕する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−ウレイ
ド−4′−アミノジフエニルスルホキシド(7.5g、
収率75.6%)を得る.融点: 189−191’c IR (スジ9−4) ’ 3470, 33
50, 3200. 1690. 1635.1
595. 1585. 1540 cm−’NMR (
DMSO−d6.60MHz,ppm) : 5.70
(2H,s). 6.1(2H.s). 6.67
(2H.d,J=9Hz). 7.15−7.80(6
H.m). 9.00 (IH.s)Mass : 2
75 (M+1). 274 (M), m/e 26
0. 248,216 大』U生東 実施例63と同様にして、4−ウレイド−4′二トロジ
フエニルケトンから出発して、4−ウレイド−4′ −
アミノジフエニルケトン(4.2g,収率63,7%)
を得る. 融点: 190−193℃ IR (スジa−4) ’ 3480. 34
00, 3320. 3200, 1660.1
635 am−1 NMR (DMSO−d6,90M}lz,ppm)
’ 6.00 (4H.bs),6.60 (2H.d
,J=9Hz), 7.30−7.65 (6H.m)
,8.83 (IH.s) Mass : 256 (M+1), 255 (M)
. m/e 238. 212,120 東』d艷四 実施例59と同様にして、2.2′ −ジクロロ−4.
4′−ジニトロジフエニルエーテルから出発して、2.
2′ −ジクロロ−4.4′ −ジアミノジフエニルエ
ーテル(5.6g、収率68.7%)1%る. 融点: 117−118℃ IR (スジa−L> : 3400, 33
00. 3200. 1635. 160014
90 crn−’ NMR (DMSO−d6,60MHz,ppm> ’
5.12 <4H.s), 6.45(48,s).
6.73 (2H.d,J=3Hz)Mass
; 272 (M+4), 271 (M+3
). 270 (M+2),269 (M+1).
26g (M). m/e 233. 198
.142 犬1dl競 実施例59と同様にして、3−メチル−4.4′−ジニ
トロジフエニルエーテルから出発して、3−メチル−4
.4′ −ジアミノジフェニルエーテル(2.6g,収
率38.5%)を得る.融点: 147−148℃ IR (スジ1−ル) : 3410. 33
30. 1625, 1495. 12B5.1
210. 1145 cm−’ NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm) :
2.02 <38.s). 4.51(2H.bs)
. 4.73 (21,bs). 6.40−6.73
(7H,m)Mass : 215 (M+1).
214 (M), m/e 185, 171.122 東101牡 実施例59と同様にして、3.5−ジメチル−4.41
−ジニトロジフェニルエーテルから出発して、3.5
−ジメチル−4.4′−ジアミノジフエニルエーテル(
3.4g,収率85.9%)を得る.融点: 118−
120℃ IR (スジ曹一ル) : 3450, 33
50. 1630. 1600.1510 c11 NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) :
2.04 (6H.s). 4.23(2H.s).
4.70 (2H.s), 6.40−6.65 (
6H.m)Mass : 229 (M+1). 22
8 (M), m/e 213. 136犬簾盈聾 4−ウレイド−4′ 一二トロジフエニルエーテル(7
g)のメタノール( 100mQ )およびテトラヒド
口フラン( 10Offlll )の混合物溶液を、l
O%パラジウムー炭素(2.5g)の存在下、常温で大
気圧下に3.5時間水素添加する.触媒を濾去し、濾液
を減圧濃縮して、4−ウレイド−4′−アミノジフェニ
ルエーテル(6.1g,収率97,9%)を得る. 融点: 164−166℃ IR (スジョール’) : 3400. 3
300. 3200. 1660, 1600.
1500 cm’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
5.20 (2H.bs),5.73 (2H.s)
. 6.50−6.90 (6H,m). 7.3
3(21,d.J=9Hz>. 8.30 (IH.
s)Mass : 244 (Ma1). 2
43 (M). m/e 226. 200.17
1 宜1己l鵠 実施例59と同様にして、3.3′−ジメチル−4.4
’ −’;ニトロジフェニルエーテルかラ出発して、
3.3′ −ジメチル−4.4′−ジアミノジフェニル
エーテル(4.36g、収率86.O%)を得る. 融点: 100−102℃ IR (スジ脅一ル) : 3400, 33
50, 1630, 1600。 1505.14
95 cm” NMR <DMSO−d6.90MHz.ppm> :
2.00 (6B,s), 6.50(48,s).
7.50 (6H.bs)Mass : 229
(M+1). 22g (M). m/e 213
. 199.185. 122 叉1藁l並 実施例59と同様にして、硫化4−アセトアミド−2’
−クロロー4′ 一二トロジフエニルカラ出発して、硫
化4−アセトアミドー4′−アミノー2′ −クロロジ
フエニル(10.7g,収率84.3%)を得る. 融点: 133−135℃ IR (スジ−1−4) : 3425, 3
325. 1680, 1630. 16101
595. 1460 cm−’ NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm) ’
2.10 (3H.s). 5.77(2H.s).
6.60 (IH.d.J=9Hz>. 7.10
(2H.d.J=9}1z), 7.27 (2H.d
.J=9Hz). 7。60 (2H,d,J=9Hz
). 9.97 (IH.s)Mass : 2
95 (M+3). 294 (M+2>.
293 (M◆1).292 (M). m/e
250. 214叉』1lハ 実施例59と同様にして、4−アミノー3′−シアノー
4′ 一二トロジフェニルエーテルから出発して,4.
4’ −ジアミノ−3−シアノジフエ二ルエーテル(
1. 11 g、収率57.2%)を得る.NMR (
DMSO−d6.90MHz.ppm) : 5.16
(2H.s),6.50−6.90 (5}1.m>
. 7.20 (IH.dd.J=3Hz,6Hz).
8.30 (IH.d,J=9Hz)Mass :
256 (M+1), 255 (M). m/e 2
09. 108X凰斑μ 実施例59と同様にして、4−トリプル才ロメタンスル
ホニルアミノ−4′一二トロジフエニル工一テルから出
発して、4−トリフル才ロメタンスルホニルアミノ−4
′−アミノジフェニルエーテル(12.5g,収率64
.9%)を得る.融点: 155−156°C IR (ヌ九−4) : 3420. 334
0. 1510. 1370.1200 cm−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
6.00 (2H,bs),6.50−6.80 <
4H.m). 6.83 (2H.d.J=9Hz),
7、17 (2H.d,J=9Hz> Mass :333 (M+1), 332 (M),
m/e 199束10艷η ピリジン( 200mll )中4.4′ −ジアミノ
ベンジル(10.1g)に塩化メタンスルホニル( 4
++1Q)を氷冷攪拌下5゜Cで滴下する.i1!合物
を3−7℃で5時間攪拌し、反応混合物を減圧濃縮する
.残渣を水で粉砕し、水洗、真空乾燥して固体を得る,
固体をシリカゲル(シリカゲル60、70−230メッ
シュ、メルク社製)(500g)を使用するカラムクロ
マトグラフィーに付し、ジクロロメタンとアセトンとの
混液(5:1)で溶出する.目的化合物を含む両分を合
わせ、減圧濃總して、4−アミノー4′−メタンスルホ
ニルアミノベンジル(5.9g、収率40,1%)を得
る.IR (ス九−ル) + 3450. 3
375. 3200. 1705. 16g0,
1655. 1510 c11 NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm) :
2.14 (3H.s). 6.49(2H.s).
6.59 (IH.d.J=9Hz). 7.30
(28,d,J=9Hz). 7.41 (2H.q.
J;9Hz). 7.77 (2H.d,J=9Hz)
. 7.87 (2H.d.J=9Hz). 10.5
0 (IH.bs) Mass : 319 (M+1). 31B
(M). m/e 240. 224.198,
120 寞』U艷ハ 4−アミノー4′一メタンスルホニルアミノベンジル(
13.3g)およびヒドロ亜硫酸ナトリウム(20.5
g)のメタノール( zosmu )、水( gzme
)およびIN水酸化ナトリウム水溶液( 82mQ
)中混合物を撹拌下2時間還流する.反応混合物を減圧
濃縮し、残渣を酢酸エチルで粉砕する.沈殿を濾取し、
濾液をシリカゲル(シリカゲル50、7〇一230メッ
シュ、メルク社製)(500g)を使用するカラムクロ
マトグラフィーに付し、ジクロロメタンとアセトンとの
混液(10:1)で溶出する.目的化合物を含む画分を
合わせ、蒸発乾固して、2−ヒドaキシ−2−(4−ア
ミノフェニル)−1−(4−メタンスルホニルアミノフ
エニル)エタノン(6.20g,収率44.6%)を得
る.融点二85−90℃ IR (スジa−L> : 3450. 33
50. 3200. 1710. 1660,1
595. 1465 cm−’ NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm) :
2.95 (3H.s). 5.51(18,d,J
=6Hz), 5.83 (lH.d,J=6Hz
>. 6.03<28.s). 6.46 <2H
.d.J=9Hz). 7.06 (2H.d.J=
9Hz), 7.30 (2H.d.J=9Hz>
. 7.70 (2H.d.J=9Hz). 9
.70 (IH.s)Mass : 321 (M
+1). 32G (M). m/e 304.
275.200. 120 亥mJL四 実施例59と同様にして、4−アミノー3′−メトキシ
ー4′ 一二トロジフエニルエーテルから出発して、4
.4’ −ジアミノ−3−メトキシジ、フェニルエーテ
ル(5.23g,収率85.7%)を得る. 融点: 100−103℃ IR (xジw−ル) : 3475. 34
00, 3350. 1615. 1605,1
505 ctrr−’ NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm) :
3.70 (3H.s). 3.63(4H.bs)
. 6.20 (IH.dd.J=3Hz, 6
Hz), 6.40−6,70 (6H劃〉 Mass : 231 (M+1). 230 (
M), m/e 215. 188東jLIL四 実施例59と同様にして、2.2′−ジメチル−4.4
′ ジニトロジフエニルエーテルから出発してて4.4
′ −ジアミ/−2.2’ −ジメテルジフエニルエー
テル(5.33g、収率97,5%)を得る.融点:
111−112℃ IR (Xジm−A) ’ 3400. 32
0G. 1660. 1605. 1495.1
305. 1240 am−1 NMR (DMSO−d6,60MHz,ppm) :
2.95 (6H.s).4.60 (4H.bs).
6.07−6.90 (6H.m)Mass : 2
29 (M+1). 228 (M), m/e 12
2. 107罠及ΔU 実施例59と同様にして、2−ジフエニルメトキシ力ル
ボニル−4.4′−シニトロジフェニルエーテルから出
発して、2−ジフェニルメトキシカルボニル−4.4′
−ジアミノジフェニルエーテル(8.82g,収率lo
t. 1%)を得る.融点: 133−135℃ IR <Zジm−L) ’ 3350, 17
00, 1625. 1495. 1330.1
310. 1270. 1245. 1225 cra
−’NMR (DMSO−d6.90MHz.ppm)
: 4.50−5.36 (4H.bs). 6.
45−7.50 (18H.m)Mass : 41
1 (M+1). 410 (M). m/e
318. 283.167 太mひ 2−ジフェニルメトキシカルボニル−4.41−ジアミ
ノジフエニルエーテル(8.80g)のジクロロメタン
( 441111!)とア二ソール( 17.6ffL
Il )との混合物溶液に、トリフル才口酢酸( 35
.2fflll )を攪拌下5゜Cで滴下する.混合物
を室温で2時間攪拌する.反応混合物を減圧濃縮する.
残渣をジインプロビルエーテル( 500−)に加え、
次いで冷凍室内に一夜放置する.沈殿を濾取してジイソ
プロビルエーテルおよびジエデルエーテルで洗浄し、真
空乾燥して、2−カルボキシ−4.4′−ジアミノジフ
ェニルエーテル(3.3g,収率64.5%)を得る. 融点: 144−185℃ IR (スジ昏−ル) : 3520. 34
50. 3350. 187G. 1625.1
56G. 1495. 1255. 1145 am−
1NMR (DMSO−d6,90MHz,ppm)
:5.30−7.10(12H.m) Mass : 245 (M◆1), 244 (
M), m/e 200, 136衷』畳艷益 実施例59と同様にして、2−シアノー4.4′ージニ
トロジフエニルエーテ゛ルから出発して、4.4′ −
ジアミノー2−ンアノジフエニルエーテル(3.32g
、収率70.l%)を得る.融点: 104−106℃ IR (X九−ル) : 3420. 335
0. 2250. 1630, 1515,13
05. 1240 cm−1 NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm> :
4.93 (2H,bs).5.20 (2H.bg
), 6.46−6.93 (7H.m>Mass :
227 (M+2). 226 (M+1>, 22
5 (M).m/e 196. 157, 149
. 108叉Jl靭 4.41−ジアミノー3−メテルジフエニルケトン(1
5g)の酢# ( 150mQ )溶液に、無水酢酸(
16g)を攪拌下10℃で滴下する.屈合物を室温で1
.5時間攪拌する.反応混合物を攪拌下氷水中に注ぐ.
沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して固体を得る.固体をエ
タノールから再結晶してA 4。 4′ −ジアセトアミド−3−メチルジフェニルケトン
(15.2g、収率73.9%)を得る.融点: 21
7−218℃ IR (Xジi−4) ’ 3270. 31
70. 1665. 1600. 1550.1
530 crm−’ NMR (DMSO−d6,60MHz.ppa+)
’ 2.17 (3H.s). 2.20(3H.s)
, 2.38 (38,s), ?、73 (2H.d
,J=8Hz).7.80 (5H.m). 9.47
(IH.s). 10.35 (LH,s)Mass
: 311 (Ma1), 310 (M), m/
e 268. 253,226. 211 東』0』牡 実施例52と同様にして、4−アセトアミド−4′ 一
二トロ−2′ −クロロジフェニルケトンから出発して
、4−アセトアミドー4′−アミノー2′−クロロジフ
ェニルケトン(7.70g,収率99,7%)を得る. 融点+ 162−185”C IR (スジi4) : 3400. 3320
. 3200. 1665. 1640,160
0, 1545. 1315 cm−’NMR (DM
SO−d6.60MHz.ppm> : 2.15 (
3}1.s>. 6.03(2H.bs), 6.5
3−6.80 (2H,m), 7.23 (IH.
d.J=9Hz>. 7.70−7.80 (4H,
m), 10.30 <18,bs)Mass :
291 (M+3). 290 (M+2),
289 (M+1).288 (M). m/
a 24g. 246. 154. 120東』
饗生婬 実施例53と同様にして、4−アセトアミドー4′ −
アミノー2′−クロロジフエニルケトンから出発して、
4.4′−ジアミノー2−クロロジフェニルケトン(
8. 98 g、収率59.0%)を得る.融点:87
−95℃ IR (スジa−4) : 3350, 32
00, 1640, 1630. 1585,1
540. 1320, 1280. 1240 cm”
NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm) :
5.47 (4}1.m).6.50−6.77 (
4H,m). 7.07 (IH,d.J=9Hz>,
7.47 (2H.d.J=9Hz) Mass : 249 (M+3>, 248 (M+
2). 247 (M+1>.246 (M).
m/e 154. 120東1d艷競 実施例52と同様にして、4−アセトアミド−2−メチ
ル−4′ 一二トロジフエニルケトンカラ出発して、4
−アセトアミドー2−メチル−4′ーアミノジフエニル
ケトン(19.94g,収率94.7%)を得る. IR (ニート) : 3500. 335
0, 3230. 3010. 1680
−1500. 1440. 1410−1370. 1
330−1240. 1220. 1170 am’N
MR (DMSO−d6,60MHz.ppm) 7
2.10 (3H.s). 2.20(3H.s).
6.15 (2H.bs). 6.60 (2H.d.
J:9Hz>. 7.20 (LH.d.J=9Hz)
, 7.37−7.63(4H,m), 10.03
(IH,bs)Mass : 269 (M+1).
269 (M). m/e 267. 251.225
.209,134,120 東』畳沈む 実施例53と同様にして、4−アセトアミド−2=メチ
ル−4′−アミノジフェニルケトンから出発して、4.
4’ −ジアミノー2−メチルジフェニルケトン(2.
9g,収率l7.8%)を得る.融点: 138−13
9℃ IR (スジs−x) : 3490, 34
20.1595. 1550, 1290 c1l 3330. 1440. 3220. 1320. 1635, NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.18 (3H.s). 5.48(2H.bs)
, 5.95 (2H.bs). 6.30−6.
77 (4H.m). 7.03 (2H.d.J=
9Hz>, 7.45 (2H.d,J=9HZ) Mass :227 (M+1). 226 (M
). m/e 225. 210,209, !
34. 120 東104匹 アセトアニリド(0.58g),無水塩化アルミニウム
(3.41g)およびニトロベンゼン(1−)の混合物
を室温で30分間攪拌する.混合物を100℃で攪拌し
、次いで塩化4−アセトアミド−3−クロロベンゾイル
( 1.09g )を加える.混合物をtoo’cで2
.5時間攪拌し水冷撹拌下水中に注ぐ.沈殿を濾取して
水および炭酸水素ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、真空
乾燥して、4.4′−ジアセトアミド−3−クロロジフ
エニルケトン( 0. 25g、収率17.6%)を得
る. 融点207−209’C IR (スジa4) : 3400. 32g
0. 1710. 1655, 1595.15
10. 1305. 1265 cm−’NMR (
DMSO−d6,60MHz.ppm) 2.12
(3H.s), 2、20(3H.s). 7.5
3−7.90 (6H.a+). 8.08 (IH.
d.J;8Hz>. 9.67 (IH.bs). 1
0.32 (IH,bs)Mass : 332 (M
+2), 331 (M+1>. 330 (M).m
/a 294. 288, 246, 154, 12
0実施例86 実施例53と同様にして、4.4’ −ジアセトアミド
−3−クロロジフエニルケトンから出発して,4;4’
−ジアミノー3−クロロジフエニルケトン(2.2g
、収率68.6%)を得る.融点: 166−170℃ IR (スジa−ル) : 3490. 33
50. 3200, 1630. 15g0,1
550. 1330. 1310, 1285.117
5 crtr−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
6.93 (2}1.bs),6.07 (2H.b
s). 6.55−6.92 (3H,m), 7.3
3−7.63 (4H.m) Mass : 248 (M+2).247 (M
+1),246 (M).m/e 199. 17
1, 156, 154, 126. 120
大U虹 実施例52と同様にして、4−アセトアミド−4′一二
トロ−3.3′−ジメチルジフエニルケトンから出発し
て、4−アセトアミドー4′アミノー3,3′−ジメテ
ルジフェニルケトン(10.06g、収率47.6%)
を得る.融点: 163−165℃ IR (ニート) : 3450. 33
50, 3250. 1650. 163
0.1800. 1580. 1525, 1330.
1305.1280 am’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm> ’
2.10 (3H.s). 2.30(38,s).
5.87 (2H.bs). 6.68 (LH.d
.J=9Hz), 7.45−7.83 (5H,m>
. 9.42 (IH.bs)Mass : 283
(M+1>, 282 (M). m/e 267.
245,149. 134 東JJL競 実施例53と同様にして、4−アセトアミドー4″ −
アミノー3.3′−ジメデルフェニルケトンから出発し
て、4.4′−ジアミノ−3.3′ジメチルジフェニル
ケトン(1.07g,収率39.3%)を得る. 融点: 126−131’C IR (スジ@−L’) : 3400. 3
330. 3200. 1625. 15g0.
1565. 1500. 1430. 1320. 1
300.1260 a1l NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
1.93−2.10 (6H.m).4.93 (2
H.bs), 5.67 (2H.bs). 6.47
−7.43(6H.se) Mass : 241 (M+1). 240
(M). m/e 230. 134.106 塞』む艷競 実施例85と同様にして、アセトアニリドおよび塩化4
−フルオロベンゾイルから出発して、4ーアセトアミド
ー4′−フルオロジフェニルケトン(4.43g,収率
33.3%)を得る.IR (二一!) : 3
500, 3300, 3200. 31
00. 1700.1690, 1680.
1650. 1600. 1530.1510.
141G, 1370. 1315 cm−’NMR
(DMSO−d6,90MHz.ppm) : 2.1
3 (3H.s),7.10−7.89 (8H.m)
. 10.70 (LH.bs)Mass ; 2
5g (M+1>. 257 (M).m/e 21
5.177.140 束』己l四 実施例53と同様にして、4−アセトアミド−4′ −
フル才ロジフェニルケトンから出発して、4−アミノー
4′ −フルオロジフエニルケトン(1.06g、収率
28.8%)を得る.融点: 126−128℃ IR (スジ書−4) : 3450. 33
50. 1630. 1600. 15g0.1
320. 1230 cm’ NMR (DMSO−d6.60MHz,ppa+)
: 6.17 <2H,bs).6.63 (2H.d
.J=9Hz>. 7.13−8.00 (6H,m)
Mass : 216 (M+1>. 215 (M)
.m/e 186. 120 束104鮭 実施例52と同様にして、3.5−ジクロロ−4−アミ
ノー4′一二トロジフェニルケトンから出発して、3.
5−ジクロロ−4.4′ −ジアミノジフエニルケトン
(6. 87 g、収率88.8%)を得る.融点i
174−176℃ IR (二−}) : 3420. 3320
. 1740−1700. 1580.1525.
t345. 1285. 1175 0ra−”NM
R (DMSO−d6.60MHz,ppm) : 5
.77−6.27 (4H.bm). 6.53−6.
93 (2H.m). 7.33−7.66 (4H.
m)Mass : 282 (M+1), 2
81 (M). m/e 280. 248,
246, 211, 154. 120塞101婬 4−アセトアミド−3.5−ジメテル−4′二トロジフ
ェニルケトン(12.2g)および塩化アンモニウム(
1.25g)のエタノール( 120Il111 )、
テトラヒドロフラン( 6011111 )および水(
60mt )の混合物溶媒中混合物に、鉄粉(12.
5g)を攪拌下80℃で少量ずつ分割して加える.i1
!合物を攪拌下1.5時間還流する.反応混合物を吸引
濾過し、濾液の溶媒を減圧下に留去する.残渣に水を加
え、酢酸エチルで抽出して水洗し、硫酸マグネシウムで
乾燥する.濾過後、濾液の溶媒を減圧下に留去して、4
−アセトアミドー3.5−ジメチル−4′−アミノジフ
エニルケトン(10.7g,収率97.0%)を得る. 融点+ 173−175°C IR (スジ謬−ル) : 3450. 33
50, 3250, 1730, 1670,1
645, 1620. 1585. 1315 cm”
NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.00 (3H.s), 2.10(3H,s),
2.27 (38,s). 6.22 (2H.b−
s).6.60 (2}1.d.J=9Hz). 7.
03 (1}1.d..C8Hz>.7.23 (IH
.d.J=8}1z). 7.50 (2H,d.J=
9Hz),9.33 (LH.s) Mass : 283 (M+1). 282 (M)
. m/e 2B7, 239,224 叉1目生り 4−アセトアミド−3.5−ジメデル−4′アミノジフ
ェニルケトン(8.0g)のエタノール( 1601d
)および濃塩# ( 60mQ )中混合物を攪拌下
24時間還流する.反応混合物を2N水酸化ナトJウム
水溶液で水冷下pH9. 0にlltする.浣合物を水
冷下1時間攪拌し、沈殿を減圧下に濾取して固体を得る
. 固体をシリカゲル(シリカゲル60、70−230メッ
シュ、メルク社製)(250g)を使用するカラムクロ
マトグラフィーに付し、メタノールとクロロホルムとの
混液(1:30)で溶出する.目的化合物を含む画分を
合わせ、減圧濃縮して、4.4’ −ジアミノ−3.5
−ジメチルジフエニルケトン(2.8G.、収率54.
8%)を得る.融点: 202−204’C IR (スジI−4> + 3470. 33
50, 3200. 1625. 1590.1
320 am−1 NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) ’
1.87 (3H,s). 2.10(3H.s).
4.63 (2H.s). 6.05 (2H.s)
. 6.30(IH.d.J=7Hz>. 6.53
(2H.d.J;9Hz>. 6.87(IH.d.J
=7Hz). 7.40 (2H.d.J:9Hz)M
ass : 241 (M+1). 240 (M).
m/a 225. 210.120 東1口艷U 4−N−エチルアミノー3−メチル−4′一二トロジフ
ェニルケトン(5.30g)および塩化アンモニウム(
0.6g)のエタノール( 11G1d )、テトラヒ
ド口フラン( 55fflll )および水( 551
Q )の混合溶媒中混合物に、鉄粉(5.97g)を攪
拌下80゜Cで少量ずつ分割して加える.混合物を攪拌
下1時間還流する.反応混合物を減圧濾過し、濾液を減
圧濃縮する. 残渣を水で粉砕し、沈殿を濾取する.固体をエタノール
から再結晶して、4−N一エチルアミノー3−メチル−
4′−アミノジフエニルケトン(3.44g)を得る. 融点: 147−148℃ IR (スジm−IL) ’ 3400, 3
350. 3250. 1650. 1625,
1595. 1560. 1440. 1425.13
15 am−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
1.25 (31,t.J=7Hz). 2.20
(3}1,s). 2、97−3.50 (2H.m)
,4.97 (1}1.t.J=6Hz). 6.07
(21,s). 6.67(2H.d.J=9Hz)
. 6.70−6.90 (2H.m). 7.
15(LH,d.J=8Hz). 7.63 (2H
.d.J=9Hz)Mass : 255 (M+
1). 254 (M), m/e 239.
225.180 東m四 硫化4−アセトアミドベンジル−4′−ニトロフエニル
(ts.Og)およヒ塩化アンモニ’)ム(2.0g)
のテトラヒドロフラン( 300111 ) 、エタノ
ール( 300mQ )および水( 100mQ )
(y)混合溶媒中混合物に、鉄粉(15.0g)を攪拌
下80゜Cで少量ずつ分割して加える.fi金物を攪拌
下2時間還流する,反応混合物を吸引濾過し、濾液を減
圧濃縮する.残渣を水で粉砕し、沈殿を濾取、水洗、真
空乾燥して、硫化4−アセトアミドベンジル−4′−ア
ミノフェニル(11.5g、収率63.8%)を得る.
NMR (DMSO−d6,60MHz.ppm) :
2.06 (3}1.s). 3.90(2H.s)
. 5.30 (2H,s), 6.53 (2H.d
.J=8Hz).7. Go−7。30 (4B,m)
. 7.50 (2H.d.J=8Hz>.9.90
(18,s) Mass : M+1273. M 272, m/e
229. 216, 183.148. 106 東』U艷四 硫化4−アセトアミドベンジル−4゛−アミノフエニル
(4.0g)の酢酸エチル( 15Qmll )および
N.N−ジメテルホルムアミド( 39mQ )の混合
物溶液に、3−クロロ過安息香a(6.0g)の酢酸エ
チル溶液を攪拌下5℃で滴下する.混合物を室温で26
時間攪拌する.反応a合物を炭酸水素ナトノウム水溶漬
中に注ぎ、水冷下1時間攪拌する.混合物を吸引濾過し
、濾液を酢酸エチルとテトラヒドロフランとの混合物で
抽出する.有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液および水
で洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥する.溶媒を
減圧濃縮して、4−(4−アセトアミドベシジルスルホ
ニル)アニリン(4.0g、収率89,4%)を得る.
融点: 240−245゜C(分解) IR (スジ−a−4) ’ 3500. 3
350, 3250, 1660, 1595.
1515 am−’ NMR (DMSO−d6.60MHz,ppm) :
2.00 (3H.s). 4.30(2H.s),
6.00 (2H,s). 6.55 (2H.d.
J=8Hz).7.15 (4H.dd.J=4Hz.
8Hz>. 7.46 (2H.d..C8Hz
). 9.90 (LH.s)Mass : M”
304. M 303. m/e 260, 240,
197,148. 106 叉104r 4−(4−アセトアミドベンジルスルホニル)アニリン
(4.4g)の濃塩酸( 201Q )およびエタノー
ル( 1001d )中混合物を撹拌下5時間還流する
.反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水に溶解する.m液
を炭酸水素ナトリウム水溶液で水冷攪拌下pttsに調
整する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4−(4−
アミノベンジルスルホニル)アニリン(2.5g、収率
65.7%)を得る.融点: 245−250℃(分解
) IR (ス九−ル) i 3350. 325
0, 1630, 1610. 1595,15
15. 1280 am−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm> ’
4.13 (2H.s). 5.10(2H.s),
6.00 (2H.s). 6.45 (2H.d.
J:8Hz).6.67 (4H.dd.J=4}1z
. 8Hz). 7.23 (2H.d.J=8Hz) Mass : M” 263. M 262. tal
e 211, 197, 156.106 束』d生り 1.1−ビス(4−アミノフェニル)−1−ヒドロキシ
イミノメタン(6.7g).沃化インブロビル(lO.
2g)および炭酸カリウム(6.2g)のN.N−ジメ
チルホルムアミド( 67ml1 )中混合物を室温で
7時間攪拌する.反応混合物を氷水中に注ぎ、沈殿を濾
取、水洗、真空乾燥して固体を得る.固体をシリカゲル
(シリカゲル60、70−230メッシュ、メルク社製
)(500g)を使用する力ラムクロマトグラフィーに
付し、クロロホルムとメタノールとの混液(10:1)
で溶出する.目的化合物を含む画分を合わせ、減圧濃縮
して、1.1−ビス(4−アミノフエニル)−1−イン
ブロボキシイミノメタン(0.88g,収率11.1%
)を得る. NMR (CDCI3.90MHz,ppm> 7 1
.20 (6H.d.J=3Hz>,3.40−3.8
(4H.b−s), 4.00 (IH.m). 6
.40−6.70 (2H.m), 7.20−7.5
0 (2H.m>Mass : M+1270. M
269, m/e 254. 239, 210,19
6 叉』藁艷昶 実施例52と同様にして、4−アセトアミド−3.6−
ジメチル−4′一二トロジフエニルケトンから出発して
、4−アセトアミドー3.6−ジメチル−4′ −アミ
ノジフェニルケトン( 12.6g、収率89,9%)
を得る. 融点: 211−213゜C IR (ス九−ル) : 3450, 335
0, 3280. 1655. 1590.15
25 cm” NMR (DMSO−d6.60MHz,ppm) ’
2.13 (6}1.m). 2.20(3H.s)
. 6.17 (2H.b−s), 6.60 (2H
.d.J=8Hz). 7.07 (LH.s). 7
.40−7.60 (3H.m>.9.30 (lH.
b−s) Mass : M 282. m/e 2g1, 26
5, 239. 224衷遍11東 実施例53と同様にして、4−アセトアミド=3.6−
ジメテル−4′−アミノジフエニルケトンから出発して
、3.6−ジメチル−4.4’ −ジアミノジフエニル
ケトン(3.84g,収率64.5%)を得る. 融点: 203−204℃ IR (ス九−ル) : 3500, 340
0, 3360, 3240. 1625.15
90. 1565 cm−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) :
2.07 (3H.s), 2.20(3H.s).
5.27 (2H.b−s). 5.97 (2H.
b−s).6.53−6.80 (3H.m). 6.
97 (LH,s), 7.50(2H.d,J=8}
12) Mass : M” 240, M 240, m/e
239. 223. 148衷韮』4吋 4.4′−ジアミノー3−メチルジフエニルケトン(5
.4g)のエチレングリコールジエチル工一テル( 5
51112 ) !液に、水素化ホウ素ナトリウム(1
.81g)および水酸化カリウム(0.12g)の水(
IOIIIQ ’)中混合物を攪拌下706Cで滴下
する.混合物を70゜Cで2時間攪拌する.反応混合物
を塩化ナトリウム飽和水溶液中に攪拌下に注ぐ.沈殿を
濾取、水洗、真空乾燥して、4.4′−ジアミノー3−
メチルベンゾヒドロール(4.54g,収率83.3%
)を得る, 融点:62℃ IR (スジジール) : 3420, 33
50, 3170. 1615, 1510.1
280 cm−1 NMR (DMSO−d6,90MHz.ppm) :
2.00 (3H,s). 4.56(2H.b−s
). 4.77 (2H.b−s), 5.07
(LH.d,J=4。5Hz). 5.29 (LH
.d,J=4.5Hz). 6.30−6.53 (
3H.m). 6.67−6.97 <4H.m)M
ass : M 228.m/e 226,224
,214,212.210衷韮1則り 4.4’ −ジアミノー3−メチルジフェニルケトン
(6.1g)(7),’タノ− ル( 61mll )
溶液に、〇一メチルヒドロキシルアミン・塩m塩(13
.5g)を攪拌下室温で加える.混合物を室温で18.
5時間攪拌する.反応混合物を減圧濃縮する.残渣を水
で希釈し、次いでIN水酸化ナトリウム水溶液で水冷下
にpH12に調整する.残渣を酢酸エチルで抽出し、水
洗して硫酸マグネシウムで乾燥する.有機層を減圧濃縮
して固体を得る.固体をエタノールおよび水で粉砕し、
沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、4.4′ −ジアミ
ノー3−メチルジフエニル−1−メトキシイミノメタン
(5.75g,収率81.6%)を得る. 融点: 92−97”C IR (スジ曹−ル) : 3400, 33
50. 3170, 1640, 1610.1
515 cab−’ NMR (DMSO−d6.60MHz.ppm) ’
2.05 (3H,s). 3.77(3H.s),
5.10 (2H,b−s), 5.32 (21,
b−s),6.43−7.20 (71,m) Mass : M 256. M 255, m/e
225, 224束遍土はり 1.1−ビス(4−アセトアミドフェニル)−1−ヒド
ロキシイミノメタン(5.0g)のエタノール(100
IIIQ)およびIN水酸化ナトリウム水溶液( lo
omQ )中混合物をF91拌下26時間還流する.反
応混合物を減圧濃縮し、残清を塩酸で水冷下pH7に調
整する.沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、1.1−ビ
ス(4−アミノフェニル)1−ヒドロキシイミノメタン
( 3.0g , 収率88.0%)を得る. 融点: 19g−200℃ IR (ス九−ル) : 3475. 340
0,1520. 1325 N MR ( DMSo−d s , 9 0 MHz
.ppm >6.46 (2H.d.J=6}1z
),6.95 (2H,d.J=6Hz).Mass
: M+1228. M 227.3250. 1
620. 1605,cm’ : 5.30 (4H,b−s).6.53 (
2H.d.J=6Hz>,7.03 (2H,d.J
=6Hz>m/e 210.196.120
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、R^1はハロゲン、アミノ基、保護されたアミ
ノ基、ヒドラジノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ
基、保護されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、低
級アルカンスルホニルアミノ基、アミノフェノキシ基、
ヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基、 R^2はハロゲン、ジ(低級アルカンスルホニル)アミ
ノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基、保護されたア
ミノ基、ヒドラジノ基、保護されたヒドラジノ基、ハロ
(低級)アルカンスルホニルアミノ基または低級アルカ
ンスルホニルアミノ基、R^3は水素、低級アルキル基
、ハロゲン、シアノ基、カルボキシ基、保護されたカル
ボキシ基、低級アルカンスルホニルアミノ基、ヒドロキ
シ基または保護されたヒドロキシ基、 R^3^aは水素または低級アルキル基、 R^4は水素、低級アルキル基またはハロゲン、R^4
^aは水素、低級アルキル基またはハロゲン、Aは−C
H(OH)−、−CH_2−、−CO−、−COCH(
OH)−、−COCO−、−CONH−、−O−、−S
−、−SO−、−SO_2−、−COC(=NOR^b
)−(式中、R^bは水素または低級アルキル基を意味
する)、−C(=NOR^a)−{式中、R^aは水素
、低級アルキル基、低級アルケニル基、カルボキシ(低
級)アルキル基または保護されたカルボキシ(低級)ア
ルキル基を意味する}、−SO_2N(R^C)−(式
中、R^Cは水素または低級アルキル基を意味する)、
−CH_2S−または−CH_2SO_2−を意味する
]で示されるジフェニル化合物および医薬として許容さ
れるその塩類。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB898914660A GB8914660D0 (en) | 1989-06-26 | 1989-06-26 | Aniline derivatives,processes for production thereof and pharmaceutical compositions comprising the same |
GB8914660.9 | 1989-06-26 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0356431A true JPH0356431A (ja) | 1991-03-12 |
Family
ID=10659081
Family Applications (1)
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AU2002220547B2 (en) * | 2000-09-26 | 2006-11-02 | Bayer Aktiengesellschaft | Phenoxyphenyl alkane sulfonates |
JP2007537287A (ja) * | 2004-05-12 | 2007-12-20 | プロテオテック・インコーポレイテッド | アミロイド疾患、及びシヌクレイノパチー治療用置換n−アリールベンズアミド、及び関連化合物 |
JP2008019237A (ja) * | 2006-06-12 | 2008-01-31 | Ihara Chem Ind Co Ltd | ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)化合物の製造方法 |
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-
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Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001026506A (ja) * | 1999-04-28 | 2001-01-30 | Takeda Chem Ind Ltd | スルホンアミド誘導体 |
US7030109B2 (en) | 1999-07-19 | 2006-04-18 | Pharmacia & Upjohn Company | 1,2,3,4,5,6-Hexahydroazepino[4,5-b]indoles containing arylsulfones at the 9-position |
US6468999B1 (en) | 1999-07-19 | 2002-10-22 | Pharmacia & Upjohn Company | 1,2,3,4,5,6,-hexahydroazepino [4,5-b]indoles containing arylsulfones at the 9-position |
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WO2001005793A1 (en) * | 1999-07-19 | 2001-01-25 | Pharmacia & Upjohn Company | 1,2,3,4,5,6-HEXAHYDROAZEPINO[4,5-b]INDOLES CONTAINING ARYLSULFONES AT THE 9-POSITION |
US6579870B2 (en) | 2000-06-20 | 2003-06-17 | Pharmacia & Upjohn Company | Bis-arylsulfones |
US6586592B2 (en) | 2000-06-20 | 2003-07-01 | Pharmacia & Upjohn Company | Bis-arylsulfones |
FR2812198A1 (fr) * | 2000-07-28 | 2002-02-01 | Sod Conseils Rech Applic | DERIVES D'AMIDINES INHIBITEURS DE PHOSPHATASES cdc25 |
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AU2002220547B2 (en) * | 2000-09-26 | 2006-11-02 | Bayer Aktiengesellschaft | Phenoxyphenyl alkane sulfonates |
JP2007537287A (ja) * | 2004-05-12 | 2007-12-20 | プロテオテック・インコーポレイテッド | アミロイド疾患、及びシヌクレイノパチー治療用置換n−アリールベンズアミド、及び関連化合物 |
JP2008019237A (ja) * | 2006-06-12 | 2008-01-31 | Ihara Chem Ind Co Ltd | ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)化合物の製造方法 |
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