JPH0356431A - ジフェニル化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

［産業上の利用分野］ この発明は、下記の一般式［１］で示される疼痛、炎症
性疾患、リウマチ、腎炎、血小板減少症の治療に有用な
ジフェニル化合物に関するものであり、医薬の分野で利
用される． ［従来の技術コ ４．４′−ジアミノジフェニルスルホンはエボキシ樹脂
の加工における硬化剤としてだけでなく、抗菌剤（抗ら
い菌剤）、抗原虫剤およびヘルペス性皮膚炎の抑制剤と
しての活性も知られている（メルクインデックス９版，
　２８０ｇ、３７０ページ、（　１９７６）　”）　． ［発明が解決しようとする課題コ 本発明′は、新規なジフエニル化合物が、上記刊行物に
記載されていない新規な疼痛、炎症性疾患、ノウマチ、
腎炎、血小板減少症の治療剤として有用であることを示
すものである． ［課題を解決するための千段］ この発明の目的とするジ′フェニル化合物は新規であり
、下記一般式（Ｉ）で示すことができる．［式中、Ｒ１
はハロゲン、アミノ基、保護されたアミノ基、ヒドラジ
ノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、保護された
アミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカンスル
ホニルアミノ基、アミノフエノキシ基、ヒドロキシ基ま
たは保護されたヒドロキシ基、 Ｒ２はハロゲン、低級アルキルアミ７基、ジ（低級アル
カンスルホニル）アミノ基、アミノ基、保護されたアミ
ノ基、ヒドラジノ基、保護されたヒドラジノ基、低級ア
ルカンスルホニルアミノ基またはハロ（低級）アルカン
スルホニルアミノ基、Ｒ３は水素、低級アルキル基、ハ
ロゲン、シアノ基、カルボキシ基、保護されたカルボキ
シ基、低級アルカンスルホニルアミノ基、ヒドロキシ基
または保護されたヒドロキシ基、 Ｒ３ａは水素または低級アルキル基、 Ｒ４は水素、低級アルキル基またはハロゲン、Ｒ４ａは
水素、低級アルキル基またはハロゲン、Ａは一Ｃｌ｛（
Ｏｌ｛）−　　−ＣＨ２−　　−ＣＯ−　　−ＣＯＣＩ
｛（ＯＲ＞−ｃｏｃｏ−、−ＣＯＣ（ＮＯＲｂ）−　（
式中、Ｒｂは水素または低級アルキル基を意味する）、
−ＣＯＮＨ−−ｏ−、−Ｓ−　　−５０−　　−５０２
−　　−Ｃ（−ＮＯＲ”）？｛式中、Ｒａは水素、低級
アルキル基、低級アルケニル基、カルボキシ（低級）ア
ルキル基または保護されたカルポキシ（低ｋ！ｋ）アル
キル基を意味スル｝、−　５０■Ｎ（Ｒｃ）　−　（　
式中、Ｒｃｌｔ水素または低級アルキル基を意味する）
、一Ｃ｝ｌ２Ｓ−または一ＣＨ２ＳＯ■−を意味する］ この発明の目的化合物（Ｉ）は下記製造法によって製造
することができる． 艶ｍ ＋ （Ｉ［　　） ｌ Ｌ またはその塩 聚盟迭１ ＋ Ｈ２ＮＯＲ２ （Ｉｔ　　） ２ またはその塩 １ またはその塩 匙産益ユ ＋ Ｈ２ＮＯＲ讐 （■３） またはその塩 し またはその塩 製』０Ｌ± （Ｉ［　−１） ４ （１　−２） ４ またはその反応性誘 またはその塩 導体、 またはその塩 またはその塩 堅３ｉ［互 またはその塩 またはその塩 型』ＩＬ互 またはその塩 またはその塩 型ｊＩＬヱ またはその塩 またはその塩 製造法８ またはその反応性誘導体 またはその塩 またはその塩 蔓産益１ またはその塩 またはその塩 架』ｕＬ東 またはその塩 またはその塩 販１じ（Ｕ またはその塩 またはその塩 製１巳（４ またはその塩 またはその塩 監１目（東 またはその塩 またはその塩 製造法１４ またはその塩 またはその塩 製ｉｇｔｓ またはその塩 またはその塩 製造法１６ またはその塩 またはその塩 製造法１７ またはその塩 またはその塩 製３１！ｘ＊ｔｓ （Ｉ［　　−１） １８ （ＩＩ１８−２） またはその塩 またはその塩 （１　　’） １８ またはその塩 製１ｕＬ狂 （Ｉ　　−１） １９ またはその塩 （１　　−２） １９ またはその塩 ［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ３ａ％Ｒ４、Ｒ４ａおよ
びＡはそれぞれ前と同じ意味であり、Ｒ？は低級アルキ
ル基または低級アルケニル基、Ｘ１は酸残基、 Ｒ；は水素、低級アルキル基、低級アルケニル基または
保護されたカルボキシ（低級）アルキル基、 Ｒｂは水素または低級アルキル基、 ３ Ｒ１はハロゲン、保護されたアミン基、ヒドラジ５ ノ基、保護されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、
アミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカンスル
ホニルアミノ基、ハロ（低級）アルカンスルホニルアミ
ノ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、アミノフェノ
キシ基、保護されたヒドロキシ基またはヒドロキシ基、 Ｒ１′はニトロ基、ハロゲン、保護されたアミノ５ 基、ヒドラジノ基、保護されたアミノベンゼンスルホニ
ルアミノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、低ａ
アルカンスルホニルアミノ基、ハロ（低級）アルカンス
ルホニルアミノ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、
アミノフエノキシ基、保護されたヒドロキシ基またはヒ
ドロキシ基、 Ｒ２はジ（低級アルカンスルホニル）アミノ基、６ 低級アルキルアミノ基、保護されたアミノ基、保護され
たヒドラジノ基、ヒドラジノ基、低級アルカンスルホニ
ルアミノ基またはアミノ基、Ｒ２′はジ（低レアルカン
スルホニル）アミノ６ 基、低級アルキルアミノ基、保護されたアミノ基、保護
されたヒドラジ７基、ヒドラジノ基または低級アルカン
スルホニルアミノ基、 Ａ　６ハ−Ｃ（＝ＮＯＲ”）−　Ｃ　式中、Ｒ”ｉｔ水
，ｔ、低級７ルキル基、低級アルケニル基、カルボキシ
（低級）アルキル基、または保護されたカルボキシ（低
級）アルキル基を意味する］、−ＣＨ２−ＣＯ−　　　
−ＣＯＣＯ−　　　−ＣＯＮＨ−　　　−０−　　　−
Ｓ−−５０−　　−Ｓｏ２−ｔタハ−Ｓｏ２Ｎ（Ｒｃ）
−（ｌ中、Ｒ０は水素または低級アルキル基を意味する
）、１ Ｒ７は保護されたアミノ基または保護されたアミノベン
ゼンスルホニルアミノ基、 ｌ′ Ｒ７はアミノ基またはアミノベンゼンスルホニルアミノ
基、 ２ Ｒ７はハロゲン、ジ（低級アルカンスルホニル）アミノ
基、低級アルキルアミノ基、保護されたアミノ基、保護
されたヒドラジノ基、ヒドラジノ基、低級アルカンスル
ホニルアミノ基またはアミノ基、 Ｒラ′はハロゲン、ジ（低級アルヵンスルホニル）アミ
ノ基、低級アルキルアミノ基、保護されたアミノ基、保
護されたヒドラジノ基、ヒドラジノ基、低級アルカンス
ルホニルアミノ基、またはアミノ基、 ｌ Ｒ８はハロゲン、アミノ基、保護されたアミノ基、保護
されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカ
ンスルホニルアミノ基、保護されたヒドロキシ基または
ヒドロキシ基、 ２ Ｒ８はヒドラジノ基またはアミノ基、 Ｒ２′は保護されたヒドラジノ基または保護された８ アミノ基、 Ｒ１はハロゲン、アミ７基、保護されたアミノ９ 基、保護されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、低
級アルカンスルホニルアミノ基、保護されたヒドロキシ
基またはヒドロキシ基、 Ｒ２はアミノ基、 ９ Ｒ２′はジ（低級アルカンスルホニル）アミノ基、９ または低級アルカンスルホニルアミノ基、Ａ，４ｔ　−
Ｃ（＝ＮＯＲ”）−　（　式中、Ｒ”ｔｔ水素、低級ア
ルキル基、低級アルケニル基、カルボキシ（低級）アル
キル基または保護されたカルボキシ（低級）アルキル基
を意味する｝，−ＣＨ２−　　−ＣＯ−一ＣＯＣＯ−−
ＣＯＣ（＝ＮＯＲｂ）−Ｃ式中、Ｒｂは水素または低級
アルキル基を意味する）、−ＣＯＮＨ−−ｏ−　　−ｓ
−　　−ｓｏ−　　−ｓｏ２−または−Ｓｏ２Ｎ（Ｒｃ
）　−　（式中、Ｒｅは水素または低級アルキル基を意
味する）、 Ｒｌｏはハロゲン、保護されたアミノ基、；ヒドラジ？
基、保護されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、ア
ミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカンスルホ
ニルアミノ基、アミノ基、アミノフエノキシ基、保護さ
れたヒドロキシ基またはヒドロキシ基、 Ｒｆｏはジ（低級アルカンスルホニル）アミノ基、２′ Ｒ１ｏはアルカンスルホニルアミノ基、１ Ｒ１１はハロゲン、保護されたアミノ基、ヒドラジノ基
、保護されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、アミ
ノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカンスルホニ
ルアミノ基またはアミノ基、アミノフエノキシ基、保護
されたヒドロキシ基またはヒドロキシ基、 Ａ　１■＋ｔ　−Ｃ（＝ＮＯＲ”）−　（　式中、Ｒ”
４ｔ水ｊｌ、低１７ルキル基、低級アルケニル基、カル
ボキシ（低級）アルキル基または保護されたカルボキシ
（低級）アルキル基を意味する｝、−ＣＨ（ＯＲ）−、
ＣＨ２−　　−ＣＯ−　　−ＣＯＣＨ（ＯＨ）−　　−
ＣＯＣ（回ＮＯＲｂ）−（式中、Ｒｂは水素または低級
アルキル基を意味？る）、−ＣＯＮＨ−　　−０−　　
−８−　　−Ｓｏ２−または−Ｓｏ２Ｎ（Ｒｃ）　−　
（式中、Ｒ０は水素または低級アルキル基を意味する）
、 ３ Ｒ１■は保護されたヒドロキシ基、 １ Ｒ１３は保護されたヒドロキシ基、 ２ Ｒ１３はジ（低級アルカンスルホニル）アミノ基、低級
アルキルアミノ基、ヒドラジノ基、低級アルカンスルホ
ニルアミノ基またはアミノ基、１ Ｒ１４はハロゲン、保護されたアミノ基、保護されたア
ミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカンスルホ
ニルアミノ基または保護されたヒドロキシ基、 ２ Ｒ１４はジ（低級アルカンスルホニル）アミノ基、低級
アルキルアミノ基、保護されたアミノ基または保護され
たヒドラジノ基、 ３ Ｒｌ４は水素、ハロゲン、低級アルカンスルホニルアミ
ノ基または保護されたヒドロキシ基、Ａ１５はーｃｏ一
または−ｃｏｃｏ　−Ａ１５は一ＣＨ（ＯＲ）一または
一ＣＯＣＲ（ＯＨ）　−１ Ａ１６は保護されたカルポキシ（低級）アルキル基、 Ａデ．はカルボキシ（低級）アルキル基、３′ Ｒ１７は保護されたカルボキシ基、 Ｘ１８はハロゲンを意味する］． この明細書の以上および以下の記載において、この発明
の範囲内に包含される種々の定義の好適な例および説明
を以下詳細に述べる． 『低級二とは、特に指示がなければ、炭素原子１個ない
し６個を意味するものとする．好適な『ハロゲン」およ
び『ハロ（低級）アルカンスルホニルアミノ基」の好適
な『ハロゲン，部分としては、フッ素、塩素、臭素およ
び沃素が挙げられる． 好適な『保護されたアミノ』基および１保護されたアミ
ノベンゼンスルホニルアミノ」基および「保護された低
級アルキルアミノ，基の好適なｒ保護されたアミノ」部
分としては、例えば、下記アシル基、例えばベンジル、
ベンズヒドリル、トリチル部のモノ−（またはジーまた
はトリー）フェニル（低級）アルキル基のようなアル（
低級）アルキル基等の常用のアミノ保護基によって保護
されたアミノ基が挙げられる． 好適なアシル基としては脂肪族アシル基、芳香族アシル
基および芳香族基によって置換された脂肪族アシル基が
挙げられる． 脂肪族アシル基としては、例えばホルミル、アセチル、
プロピ才二ル、プチリル、インプチリル、バレリル、イ
ンバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル等の低級アルカ
ノイル基、例えばメトキシ力ルボニル、エトキシ力ルボ
ニル、プロポキシカルボニル、ブトキシ力ルボニル、第
三級プトキシカルボニル等の低級アルコキシ力ルボニル
基、例えばアクリロイル、メタクリロイル、クロトノイ
ル等の低級アルケノイル基、カルバモイル基等のような
飽和または不飽和、非環式または環式アシル基が挙げら
れる． 芳香族アシル基としては、例えばベンゾイル、トル才イ
ル、キシロイル等のアロイル基等が挙げられる． 芳香族基で置換された脂肪族アシル基としては、例えば
フェニルアセチル、フェニルプロピ才ニル、フエニルヘ
キサノイル等のフェニル（低級）アルカノイル基のよう
なアル（低級）アルカノイル基、例えばペンジル才キシ
力ルボニル、フェネチル才キシ力ルボニル等のフェニル
（低級）アルフキシカルボニル基のようなアル（低級）
アルフキシカルボニル基、例えばフェノキシアセテル、
フェノキシブロピ才二ル等のフェノキシ（低級）アルカ
ノイル基等が挙げられる．これらのアシル基はさらに、
例えばメチル、エチル、プロビル、イソプロビル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル等の低級アルキル基、例えば塩
素、臭素、沃素、フッ素のようなハロゲン、例えばメト
キシ、エトキシ、プロポキシ、インブロポキシ、ブトキ
シ、ベンチルオキシ、ヘキシル才キシ等の低級アルコキ
シ基等のような適当な置換基１個以上で置換されていて
もよい． １低級アルカンスルホニルアミノ」基、「ジ（低級）ア
ルカンスルホニル）アミノ」基およびｒハロ（低級）ア
ルカンスルホニルアミノｊ基の好適な１低級アルカンｊ
部分としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン等が
挙げられる．「保護されたヒドラジノ」基の好適な保護
基としては、アミノ保護基について前に例示したような
ものである常用のヒドラジノ保護基が挙げられる． 好適な「保護されたヒドロキシｊ基としては、例えばメ
トキシ、エトキシ、プロポキシ等の低級アルコキシ基等
が挙げられる． 好適な「保護されたカルボキシ，基としては、例えばメ
トキシ力ルボニル、エトキシ力ルボニル、プロボキシカ
ノレボニノレ、インプロボキシカノレポニル、ブトキシ
力ルポニル、第三級プトキシ力ルボニル等の低級アルフ
キシカルポニル基、例エハペンジル才キシ力ルボニル、
４−ニトロベンジル才キシ力ルボニル、フェネチル才キ
シ力ルボニル、ペンズヒドリル才キシカルボニル、トリ
チル才キシカルボニル等のニトロ基を有していてもよい
モノ（またはジまたはトリ）フェニル（低級）アルコキ
シカルポニル基等のようなエステル化されたカルボキシ
基が挙げられる． 好適な「低級アルキル」基および「低級アルキルアミノ
」基の好適な１低級アルキルｊ部分としてはメチル、エ
チル、プロビル、イソプロビル等の基が挙げられる． 好適な『低級アルケニル」基としてはビニル、アリル等
の基が挙げられる． 好適なｒ酸残基」としては、フッ素、塩素、臭素、沃素
のようなハロゲン、例えばベンゼンスルホニル才キシ、
トシル才キシ等のアレーンスルホニル才キシ基、例えば
メシル才キシ、エタンスルホニル才キシ等の低級アルカ
ンスルホニル才キジ基等が挙げられる． 化合物（１）の好適な医薬として許容される塩類として
は、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩、硫酸
塩、轡酸塩等の無機酸付加塩；例えばギ酸塩、酢酸塩、
トリフル才口酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタン
スルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ一トルエンス
ルホン酸塩等の有機カルボン酸付加塩または有機スルホ
ン酸付加塩；例えばアスパラギン酸、グルタミン酸等の
酸性アミノ酸との塩等が挙げられる． この発明の目的化合物製造法を以下詳細に説明する． 鮭盟益ユ 化合物（Ｉ　　−２）またはその塩は、化合物（１１１ ｌ）またはその塩を化合物〈Ｉ１〉と反応させることに
より製造することができる． 化合物（Ｉ　　−１＞および（１１−２）の好適な塩と
し１ ては、化合物（１）について例示したようなものが挙げ
られる． Ｘ１の好適な酸残基としては塩素、沃素等が挙げられる
． 反応は通常、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ
金属、例えばマグネシウム、カルシウム等のアルカリ土
類金属、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸力Ｊウム等のそれらの金属の水素
化物、水酸化物または炭酸塩等のような塩基の存在下に
行われる。 この反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール、
プロバノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、酢酸エチル、Ｎ．Ｎ−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシドのような常用の溶媒中で行われ
るが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他
のいかなる有機溶媒中でも反応を行うことができる．化
合物（■１）が液体である場合にはそれを溶媒として使
用することもできる． 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加温下または
加熱下に反応を行うことができる．製造法２ 化合物（１２−２）またはその塩は、化合物（ｌ２１）
またはその塩をヒドロキシルアミン誘導体〈Ｉ２）また
はその塩と反応させることにより製造することができる
． 化合物（１　　−１）および（１２−２）の好適な塩と
し２ ては、化合物（Ｉ）について例示したようなものが挙げ
られる． ヒドロキシルアミン誘導体（ＩＩ２）の好適な塩として
は、例えば塩酸塩等のハロゲン化水素酸塩が挙げられる
． この反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール、
プロパノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、酢酸エチル、Ｎ．Ｎ−ジメテルホルムアミド
、ジメチルスルホキシドのような常用の溶媒中で行われ
るが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他
のいかなる有機溶媒中でも反応を行うことができる．化
合物（■２〉が液体である場合には、それを溶媒として
使用することもできる． 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加温下または
加熱丁に反応を行うことができる．毀盟益ユ 化合物（１３−２）またはその塩は、化合物（１３１）
またはその塩を化合物《■３）またはその塩と反応させ
ることにより製造することができる．化合物（Ｉ　　−
１）および（Ｉ，−２）の好適な塩とし３ では、化合物（１）について例示したようなものが挙げ
られる． 化合物（Ｔｉ３〉の好適な塩としては、例えば塩酸塩等
のハロゲン化水素酸塩が挙げられる．この反応は通常、
水、例えばメタノール、エタノール、プロバノール等の
アルコール、テトラヒドロフラン、ジ才キサン、酢酸エ
チル，Ｎ．Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシドのような常用の溶媒中で行われるが、反応に悪影
響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる有機溶
媒中でも反応を行うことができる．化合物（ＩＩ３）が
液体である場合には、それを溶媒として使用することも
できる． 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加温下または
加熱下に反応を行うことができる．虹産迭１ 化合物＜１　　）またはその塩は、化合物（Ｉｔ，−１
）ま４ たはその反応性誘導体、またはその塩を、化合物（ＩＩ
４−２）またはその塩と反応させることにより製造する
ことができる． 化合物（１　　）および（Ｉ４−２）の好適な塩として
４ は、化合物（１）について例示したようなものが挙げら
れる． 化合物（ＩＩ４−１）およびその反応性誘導体の好適な
塩としては、化合物（１）について例示したようなもの
および無機塩基との塩、その例として、例えばナトリウ
ム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、例えばカルシウ
ム、マグネシウム等のアルカリ土類金属塩等のような塩
基との塩が挙げられる． 化合物（ｎ４−１）の好適な反応性誘導体としては、酸
ハロゲン化物、酸無水物等が挙げられる．好適な例とし
ては酸塩化物、酸臭化物等のような酸ハロゲン化物が挙
げられる． 反応はまたアルカリ金属炭酸水素塩、トリ（低級）アル
キルアミン、例えばＮ．Ｎ−ジメチルアニリン等のジ（
低級）アルキルアニリン、ビリジン、Ｎ−（低級）アル
キルモルホリン、Ｎ．Ｎ−ジ（低級）アルキルベンジル
アミン等のような無機塩基または有機塩基の存在下に行
ってもよい．この反応は通常、水、例えばメタノール、
エタノール、プロバノール等のアルコール、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、ジクロロメタン，
Ｎ．Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、ジエチルエーテルのような常用の溶媒中で行われるが
、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のい
かなる有機溶媒中でも反応を行うことができる．上記無
機塩基または有機塩基が液体である場合にはそれを溶媒
として使用することもできる． 反応温度は特に限定されないが、通常は加温下または加
熱下に反応が行われる． 艷盟迭１ 化合物（Ｉ　　）またはその塩は、化合物《Ｉ５〉また
５ はその塩を還元することにより製造することかできる． 化合物（Ｉ　　）および＜１５）の好適な塩としては、
５ 化合物（１）について例示したようなものが挙げられる
． 還元は常法、すなわち化学的還元または接触還元によっ
て行うことができる． 化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属と塩化アンモニウムまたは例えばアン
モニア、水酸化ナトリウム等の塩基との組合わせ、例え
ばスズ、亜鉛、鉄等の金属または塩化第二クロム、塩化
第一スズ、酢酸第二クロム等の金属化合物と例えばギ酸
、酢酸、プロヒ才ン酸、トリプル才口酢Ｍ．ｐ＝トルエ
ンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等の有機酸または無機
酸との組合わせ、例えば水素化ホウ素リチウム、水素化
ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム等の水素化ホ
ウ素アルカリ金属、例えば水素化シアノホウ素ナトリウ
ム等の水素化シアノホウ素アルカリ金属または例えば水
素化アルミニウムリチウム等の水素化アルミニウムアル
カリ金属等である． 接触還元に使用される好適な触媒は、例えば白金板、白
金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の
白金触媒、例えばパラジウムー炭素、コロイドパラジウ
ム、パラジウムー硫酸パリウム、パラジウムー炭酸バリ
ウム等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニ
ッケル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば還元
コバルト、ラネーコバルト等のコバルト触媒、例えば還
元鉄、ラネー鉄等の鉄触媒、例えば還元鋼、ラネー銅、
ウルマン鋼等の銅触媒等のような常用のものである． この製造法の還元は通常、水、例えばメタノール、エタ
ノール、プロバノール等のアルコール、酢酸、ジ才キサ
ン、テトラヒドロフラン、Ｎ．Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシドのような溶媒、または反応に
悪影響を及ぼさないその他のあらゆる有機溶媒、または
それらの混合物中で行われる．上記還元剤が液体である
場合にはそれを溶媒として使用することもできる．反応
は冷却下ないし加温下または加熱下に行われる． １′ Ｒ５がニトロ基である場合には、ニトロ基もアミノ基に
還元される． 型Ｊｌ互 この反応はまず、化合物（Ｉ６−ｔ＞またはその塩を例
えば亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸アルカリ金属と反応さ
せることにより行うことができる．この反応は酸性条件
、例えば、塩酸、酢酸等のような有機酸または無機酸の
存在下に行うのが好ましい．この反応は通常、水、例え
ばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコー
ル、酢酸、ジ才キサン、テトラヒドロフラン、Ｎ．Ｎ−
ジメチルホルムアミド、ジメテルスルホキシドのような
溶媒、または反応に悪影響を及ぼさないその他のあらゆ
る有機溶媒、またはそれらの混合物中、冷却下ないし加
温下に行われる．次いで得られた化合物（１６−ｔ）の
ジアゾ化合物を還元して化合物（１６−２）を得る．こ
の還元反応は製造法５と同様にして行われる． この製造法において、原料化合物（Ｉ　　−１）がＲ２
６６ にアミノ基を有する場合には、この基もヒドラジノ基に
変化する． 化合物（１６−ｔ）および（　Ｉ　ｓ−２）の好適な塩
としては、化合物（Ｉ）について例示したものが挙げら
れる． 製』■ＬＬ 化身物（１，−２）またはその塩は、化合物（　Ｉ　７
−１＞またはその塩をアミノ保護基の脱離反応に付すこ
とにより製造することができる． 化合物（１７−１）および（１７−２）の好適な塩とし
ては、化合物（１）について例示したようなものが挙（
ｆられる． この反応は加水分解、還元等のような常法に従って行わ
れる． 加水分解は塩基またはルイス酸を含めて酸の存在下に行
うのが好ましい． 好適な塩基としては、例えばナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属、例えば水酸化ナトリウム等のその金属の
水酸化物または炭酸塩または炭酸水素塩、例えば酢酸ナ
トリウム等のアルカリ金属アルカン酸塩等が挙げられる
．好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロビ才ン酸
、トリクロロ酢酸、トリフル才口酢酸等の有機酸および
例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸が挙げられる
．例えばトリクロロ酢酸、トリフル才口酢酸等のトリハ
ロ酢酸等のようなルイス酸を用いる脱離は、例えばアニ
ソール、フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在下に行う
のが望ましい． 反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、ジクロ口メタン、テトラヒド口フラン、それ
らの混合物のような溶媒中で行われるが、反応に悪影響
を及ぼさない溶媒であればその他のいかなる溶媒中でも
反応を行うことができる．液状の塩基または酸も溶媒と
して使用することができる．反応は冷却下ないし加温下
または加熱下に行うことができる． 脱離反応に適用され得る還元法としては、化学的還元お
よび接触還元が挙げられる． 化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化第二クロム、酢酸第
二クロム等の金属化合物と例えばギ酸、酢酸、プロピ才
ン酸、トリプル才ロ酢酸、ｐ一トルエンスルホン酸、塩
酸、臭化水素＃専の有機酸または無機酸との組合わせで
ある．接触還元に使用される好適な触媒については製造
法５で例示したようなものを参照すればよい．還元は通
常、水、メタノール、エタノール、プロバノール、テト
ラヒドロフラン、Ｎ．Ｎ−ジメチルホルムアミドのよう
な反応に悪影響を及ぼさない常用の溶媒、またはそれら
の混合物中で行われる．さらに化学的還元に使用される
上記酸が液体である場合には、それらの溶媒として使用
することができる．さらにまた、接触還元に使用される
好適な溶媒としては、上記溶媒およびジエチルエーテル
、ジ才キサン、テトラヒド口フラン等のようなその他の
常用の溶媒、またはそれらの混合物が挙げられる． 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加温下または
加熱下に反応を行うことができる．この製造法において
、原料化合物（１７−１＞またはモの塩がＲ２に保護さ
れたアミノ基を有する場７ 合には、この基もアミノ基に変化する，製』畳Ｌ亙 化合物（１　　−２）またはその塩は、化合物（　Ｉ　
８−ｔ）８ またはアミノ基またはヒドラジノ基におけるその反応性
誘導体またはその塩を前記アミノ基またはヒドラジノ基
の保護反応に付すことにより製造することができる． 化合物（１　　−１）および（　Ｉ　８−２）の好適な
塩として８ は、化合物（Ｉ）について例示したようなものが挙げら
れる． この製造法で使用される好適なアミノ基保護剤４ またはヒドラジノ基保護剤としては、式：Ｒｓ−ＯＨ（
式中、Ｒ４はアミノ保護基またはヒドラジノ保８ 護基を意味する）で示される常用のものまたはその反応
性誘導体またはその塩が挙げられる．化合物Ｒ　’−Ｏ
Ｒの好適な反応性誘導体としては、８ 酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化アミド、活性化エス
テル等が挙げられる．その好適な例としては酸塩化物、
酸臭化物；酸アジ化物；例えばジアルキルリン酸、フェ
ニルリン酸、ジフェニルリン酸、ジベンジルリン酸、ハ
ロゲン化リン酸等の置換されたリン酸、ジアルキル亜リ
ン酸、例えばメタンスルホン酸、エタンスルホン酸等の
低級アルカンスルホン酸、亜硫酸、チ才硫酸、硫酸、ア
ルキル炭酸、例えばピバリン酸、ペンタン酸、インペン
タン酸、２−エチル酪酸またはトリクロロ酢酸等の脂肪
族カルボン酸または例えば安息香酸等の芳香族カルボン
酸のような酸との混合酸無水物；対称酸無水物；イミダ
ゾール、４一置換イミダゾール、ジメテルピラゾール、
トリアゾールまたはテトラゾールとの活性化アミド；ま
たは例えばシアノメチルエステル、メトキシメチルエス
テル、ジメチルイミノメデル（〈ＣＨ３〉２哀一ＣＨ一
〉エステル、ビニルエステル、プロパルギルエステル、
ｐ−ニトロフェニルエステル、２．４−シニトロフェニ
ルエステル、トリクｒ１ｏフェニルエステル、ペンタク
ロロフエニルエステル、メシルフエニルエステル、フエ
ニルアゾフェニルエステル、フエニルチ才エステル、ｐ
−ニトロフェニルテ才エステル、ｐ−クレジノレチ才エ
ステノレ、カノレボキシメチルチ才エステル、ビラニル
エステル、ピリジルエステル、ピベリジルエステル、８
−キノリルチ才エステル等の活性化エステル、または例
えばＮ．Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミン、１−ヒドロ
キシ−２−（ＩＨ）一ピリドン、Ｎ−ヒドロキシスクシ
ンイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、１−ヒドロキ
シ−６−クロロ−ＩＨ−ベンゾトリアゾール等のＮ−ヒ
ドロキシ化合物とのエステル等が挙げられる．これらの
反応性誘導体は使４ 用すべき化合物Ｒ　８−ＯＨの種類に従ってそれらの中
から任意に選択することができる． 反応は通常、水、メタノール、エタノール、アセトン、
ジ才キサン、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロロ
メタン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチ
ル、Ｎ．Ｎ−ジメチルホルムアミド、ピリジンのような
常用の溶媒中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさない
溶媒であれば、その他のいかなる有機溶媒中でも反応を
行うことができる．これらの常用の溶媒は水との混合物
として使用してもよい． 化合物Ｒ　’−ＯＨを遊離酸の形またはその塩の形で８ 反応に使用する場合には，Ｎ．Ｎ’　−ジシクロへキジ
ル力ルポジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′　一モル
ホリノエチル力ルポジイミド；Ｎ−シクロヘキシルーＮ
’−（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）カルポジイ
ミド；　Ｎ，Ｎ’−ジエチル力ルポジイミド．Ｎ．Ｎ’
　−ジインプロピノレ力ルポジイミド；Ｎ一エチルーＮ
’−（３−ジメテルアミノプロピノレ）カルボジイミド
；Ｎ．Ｎ一カノレボニルビス（２−メチルイミダゾール
）：ペンタメチレンケテンーＮ−シクロヘキシルイミン
；ジフェニルケテンーＮ−シクロヘキシルイミン；エト
キシアセチレン；１−アルコキシ−１−クロロエチレン
；亜リン酸トリアルキル；ボリリン酸エチル；ボリリン
酸イソブロピル：才キシ塩化リン（塩化ホスホリル）：
三塩化リン；塩化チ才ニル；塩化才キサリル；トリフエ
ニルホスフィン；２−エチル−７−ヒドロキシベンズイ
ソ才キサゾリウム塩；２−エチル−５−（ｍ−スルホフ
エニル）イン才キサゾリウムヒドロキシド・分子内塩；
１−（ｐ−’）ロロベンゼンスルホニル才キシ）−６−
クロローＩＨ−ペンゾトリアゾール：Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミドと塩化チ才二ル、ホスゲン、才キシ塩化リ
ン等との反応によって調製したいわゆるピルスマイヤー
試薬等のような常用の縮合剤の存在下に反応を行うのが
望ましい．反応はまた、例えば炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム等のアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素
塩、トリ（低級）アルキルアミン、ピリジン、Ｎ−（低
級）アルキルモルホリン、Ｎ．Ｎ−ジ（低級）アルキル
ベンジルアミン等のような無機塩基または有機塩基の存
在下に行ってもよい．反応温度は特に限定されないが、
通常は冷却下または常温で反応が行われる． 鮭盟迭上 化合物（Ｉ　　−２）またはその塩は、化合物（　１　
９−１＞９ またはその塩をアミノ基のスルホン化反応に付すことに
より製造することができる． 化合物（Ｉ　　−１）および目，−２〉の好適な塩とし
て９ は、化合物（１）について例示したようなものが挙げら
れる． この製造法で使用される好適な低級アルカンスルホン化
剤としては、式：Ｒ：−ＯＨ（式中、Ｒ５は低級アルカ
ンスルホニル基を意味する）で示される常用のものまた
はその反応性誘導体またはその塩が挙げられる． ５ 化合物Ｒ　９−ＯＲの好適な反応性誘導体としては、酸
ハロゲン化物、酸無水物等が挙げられる．好適な例とし
ては酸塩化物、酸臭化物；酸アジ化物；例えばジアルキ
ルリン酸、フエニルリン酸、ジフェニルリン酸、ジベン
ジルリン酸、ハロゲン化リン酸等の置換されたリン酸、
ジアルキル亜リン酸、例えばメタンスルホン酸、エタン
スルホン酸等の低級アルカンスルホン酸、亜硫酸、チ才
硫酸、硫酸、アルキル炭酸、例えばピバリン酸、ペンタ
ン酸、インペンクン酸、２−エチル酪酸またはトリクロ
口酢酸等の脂肪族カルポン酸または例えば安息香酸等の
芳香族カルボン酸のような酸との混合酸無水物；対称酸
無水物等が挙げられる．これらの反応性誘導体は使用す
る化合物Ｒ　５−ＯＨの９ 種類に従ってそれらの中から任意に選択することができ
る． 反応は通常、アセトン、ジ才キナン、アセトニトリル、
クロロホルム、ジクロロメタン、塩化エチレン、テトラ
ヒド口フラン、酢酸エチル、Ｎ．Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、ピリジンのような常用の溶媒中で行われるが、反
応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかな
る有機溶媒中でも反応を行うことができる．これらの常
用の溶媒は水との混合物として使用してもよい．反応は
またアルカリ金属炭酸水素塩、例えばトリメチルアミン
、トリエチルアミン等のトリ（低級）アルキルアミン、
ピリジン、Ｎ−（低級）アルキルモルホリン、Ｎ．Ｎ−
ジ（低級）アルキルベンジルアミン等のような無機塩基
または有機塩基の存在下に行ってもよい． 反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる． 艷潅迭昶 化合物（　ｔ　１ｏ−２＞またはその塩は、化合物”１
０１〉またはその塩を塩基を使用する加水分解に付すこ
とにより製造することができる． 化合物（１　　−１）および（　Ｉ　１ｏ−２）の好適
な塩とし１０ では、化合物（１）について例示したようなものが挙げ
られる． 好適な塩基としては例えばナトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属、例えば水酸化ナトリウム等のその金属の水
酸化物または炭酸塩または炭酸水素塩、例えば酢酸ナト
リウム等のアルカリ金属アルカン酸塩等が挙げられる． 反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、それ
らの混合物のような溶媒中で行われるが、反応に悪影響
を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる溶媒中で
も反応を行うことができる．液状の塩基も溶媒として使
用することができる． 反応は冷却下ないし加温下または加熱下に行うことがで
きる． 艶１目Ｌ■ 化合物（　Ｉ　ｔｔ−２）またはその塩は、化合物（Ｉ
１、１）またはその塩をアセトンの存在下における還元
に付すことにより製造することができる．化合物（１　
　−１）および（　１　１、−２）の好適な塩としｌ１ では、化合物（１）について例示したようなものが挙げ
られる． この製造法に適用され得る還元法としては、化学的還元
および接触還元が挙げられる．化学的還元に使用される
好適な還元剤は、例えばスズ、亜鉛、鉄等の金属または
例えば塩化第二クロム、酢酸第二クロム等の金属化合物
と例えばギ酸、酢酸、ブロビ才ン酸、トリプル才ロ酢酸
、ｐ一トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等の有機
酸または無機酸との組合わせである．接触還元に使用さ
れる好適な触媒については製造法５で例示したようなも
のを参照すればよい．還元は通常、水、メタノール、エ
タノール、ブＯ　Ａ　／−ル、テトラヒドロフラン、Ｎ
．Ｎ−ジメチルホルムアミド、またはそれらの混合物の
よう？反応に悪ｊＩｉ＋響を及ぼさないアセＣ・ンを含
む常用の溶媒中で行われる．さらに、化学的還元に使用
される上記酸が液体である場合には、それらも溶媒とし
て使用することができる． 反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる． 製１ｌＬリ 化合物（１１。−２〉またはその塩は、化合物（Ｉ１■
１）またはその塩をヒドロキシ保護基の脱離反応に付す
ことにより製造することができる．化合物（Ｉ１２−１
）および（■１２−２〉の好適な塩としては、化合物（
１）について例示したようなものが挙げられる． この製造法に使用される好適な試薬としては、塩酸、臭
化水素酸、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、塩化アルミニ
ウム、ピリジン・塩酸塩、沃化トリメチルシリル等が挙
げられる． 加水分解は通常、水、メタノール、エタノール、プロバ
ノール、第三級プチルアルコール、テトラヒドロフラン
，　Ｎ．Ｎ−ジメテルホルムアミド、Ｎ．Ｎ−ジメチル
アセトアミド、ジ才キサン、ジクロロメタンまたはそれ
らの混合物のような反応に悪影響を及ぼさない常用の溶
媒中で行われるが、さらに上記酸も液体であれば溶媒と
して使用することができる． この加水分解の反応温度は特に限定されないが、通常は
冷却下ないし加温下に反応が行われる． 製３３１リ 化合物（　Ｉ　１３−２）またはその塩は、化合物（！
１３１ ｌ〉またはその塩をＲ１３のヒドロキシ保護基の脱離反
応に付すことにより製造することができる．化合物（１
１３−１）および（１１３−２＞の好適な塩としては、
化合物（Ｉ）について例示したようなものが挙げられる
． この製造法は製造法ｌ２の記載と同様にして行われる． 製ｍ 化合物（　１　１４−２）またはその塩は、化合物（ｌ
１４１）またはその塩を酸化することにより製造するこ
とができる． 化合物（１　　−１＞および（　１　１４−２）の好適
な塩とし１４ では、化合物（１）について例示したようなものが挙げ
られる． この製造法に使用される好適な酸化剤は、二酸化クロム
と例えば硫酸、酢酸等の酸との組合わせ、ニクロム酸カ
リウムと硫酸との組合わせ、クロム酸第三級ブチル、二
酸化マンガン、二酸化セレン等である． この反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール、
プロパノール等のアルコール、酢酸、ジエチルエーテル
、ジ才キサン、テトラヒドロフラン、ジクロ口メタン、
クロロホルム、Ｎ．Ｎ　−４；メチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシドのような溶媒、または反応に悪影響
を及ぼさないその他のあらゆる有機溶媒、またはそれら
の混合物中で行われる．上記酸が液体である場合には、
それを溶媒として使用することもできる． 反応は冷却下ないし加温下または加熱下に行うことがで
きる． 躯』ｕ１４ 化合物（Ｉ　　−２）またはその塩は、化合物（Ｉ１．
１５ １）またはその塩を還元することにより製造することが
できる． 化合物（１　　−１）および（１１．−２）の好適な塩
とし１５ ては、化合物（１）について例示したようなものが挙げ
られる． 使用される好適な還元剤１１例えば水素化ホウ素リチウ
ム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム等
の水素化ホウ素アルカリ金属、例えば水素化シアノホウ
素ナトリウム等の水素化シアノホウ素アルカリ金属、例
えばナトリウムハイドロサノレファイト、カリウムハイ
ドロサルファイト等のアルカリ金属ハイドロサルファイ
トまたは例えば水素化アルミニウムリチウム等の水素化
アルミニウムアルカリ金属等である． この製造法は塩基の存在下に行うのが望ましい． 好適な塩基としては例えばナトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属、例えば水酸化ナトリウム等のその金属の水
酸化物または炭酸塩または炭酸水素塩、例えば酢酸ナト
リウム等のアルカン酸アルカリ金属等が挙げられる． この製造法の還元は通常、水、例えばメタノール、エタ
ノール、プロパノール等のアルコール、酢酸、ジエチル
エーテル、ジ才キサン、テトラヒドロフラン、Ｎ．Ｎ−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドのような
溶媒、または反応に悪影響を及ぼさないその他のあらゆ
る有機溶媒、またはそれらの混合物中で行われる． 反応は冷却下ないし加温下または加熱下に行うことがで
きる． 製ＬｕＬ■ 化合物（１１６−２）またはその塩は、化合物（■１６
１）またはその塩をＲ１６のカルボキシ保護基の脱離反
応に付すことにより型造することができる．化合物（Ｉ
　　−１）および（Ｉ１６−２）の好適な塩とし１６ ては、目的化合物（１）について例示したようなものと
同じものが挙げられる． この脱離反応の好適な方法としては、加水分解、還元等
のような常法が挙げられる．（１）加水分解 加水分解は酸の存在下に行うのが望ましい．好適な酸と
しては例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無８！酸、例
えばギ酸，酢酸、トリフル才口酢酸、プロピオン酸、メ
タンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ一トルエンス
ルホン酸等の有機酸、酸性イオン交換樹脂等が挙げられ
る．トリフル才口酢酸オよびｐ一トルエンスルホン酸の
ような有機酸をこの反応に使用する場合には、例えばア
ニソール等の陽イオン捕捉剤の存在下に反応を行うのが
好ましい． さらに上記酸の代りに、三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ
素・エーテル付加化合物、五塩化アンチモン、塩化第二
鉄、塩化第二スズ、四塩化チタン、塩化亜鉛等のような
ルイス酸もこの反応に使用することができ、ルイス酸を
使用する場合には、例えばアニソールのような陽イオン
捕捉剤の存在下に反応を行うのが好ましい． 加水分解は通常、水、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、第三級プチルアルコール，テトラヒド口フラン
、Ｎ．Ｎ−ジメデルホルムアミド、Ｎ．Ｎ−ジメチルア
セトアミド、ジ才キサン、ジクロロメタンのような反応
に悪影響を及ぼさない常用の溶媒またはそれらの混合物
中で行われ、さらに上記酸が液体であればそれらを溶媒
として使用することもできる． 加水分解の反応温度は特に限定されないが、通常は冷却
下ないし若干温度を上げる程度の温度で反応が行われる
． （ｉ）還元 還元は化学的還元および接触還元を含む常法で行われる
． 化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化第ニクロム、酢酸第
二クロム等の金属化合物と例えばギ酸、酢酸、ブロピ才
ン酸、トリプル才ロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩
酸５臭化水素酸等の有機酸または無機酸との組合わせで
ある．接触還元に使用される好適な触媒は例えば白金板
、白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線
等の白金触媒、例えばパラジウム海綿、パラジウム黒、
酸化パラジウム、パラジウム−Ｒ素、コロイドパラジウ
ム、バラジウムー硫酸バリウム、パラジウムー炭酸バリ
ウム等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニ
ッケル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば還元
コバルト、ラネーコバルト等のコバルト触媒、例えば還
元鉄、ラネー鉄等の鉄触媒、例えば還元鋼、ラネー銅、
ウルマン鋼等の銅触媒等のような常用のものである． 還元は通常、水、メタノール、エタノール、プロバノー
ル、Ｎ．Ｎ−ジメチルホルムアミトのような反応に悪影
響を及ぼさない常用の溶媒、またはそれらの混合物中で
行われる． さらに、化学的還元に使用される上記酸が液体である場
合には、それらも溶媒として使用することができる．ま
たさらに、接触還元に使用する好適な溶媒としては、上
記溶媒およびジエデルエーテル、ジ才キサン、テトラヒ
ドロフラン等のようなその他の常用の溶媒、またはそれ
らの混合物が挙げられる． この反応の反応温度は特に限定されないが、通常は冷却
下ないし加温下に反応−が行われる．鮭圭圭ど 化合物（１１７−２）またはその塩は、化合物（！１７
３′ ｌ）またはその塩をＲ１７のカルボキシ保護基の脱離反
応に付すことにより製造することができる．化合物（１
１７−１＞および（　ｒ　１７−２）の好適な塩として
は、化合物（１）について例示したようなものが挙げら
れる． この製造法は躯造法ｌ６と同様にして行うことができる
． 毀盟迭卦 化合物（１１８）は化合物（１１８−ｔ）またはその塩
を化合物（　ＩＩ　１８−２）またはその塩と、例えば
塩化アルミニウム等のルイス酸触媒の存在下に、いわゆ
るフリーデル・クラフト反応に従って反応させることに
より製造することができる． この製造法に使用される好適な溶媒はニトロベンゼン等
である． 製』Ｉ（』 化合物（　Ｉ　１，−２）またはその塩は、化合物（Ｉ
１９ｌ）またはその塩を酸化反応に付すことにより製造
することができる． 化合物（１１，−１＞および（１１９−２＞の好適な塩
としては、化合物（Ｉ）について例示したようなものが
挙げられる． この製造法の酸化は−Ｓ一基をーＳＯ２一基に酸化し得
る常用の酸化剤により常法で行われる．そのような酸化
剤の好適な例は例えば過沃素酸、ペル才キソ硫酸等また
はそれらのナトリウム塩またはカリウム塩等の無機通酸
またはその塩、例えば過安息香酸、３−クロロ過安息香
酸、過ギ酸、過酢酸、クロロ過酢酸、トリフルオロ過酢
酸等またはそれらのナトリウム塩またはカリウム塩等の
有機過酸またはその塩、オゾン、過酸化水素、尿素一過
酸化水素等である． この反応は周期表中のｖｂ群またはｖｔｂ群の金属より
なる化合物、例えば、タングステン酸、モリプデン酸、
バナジン＃等または例えばナトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属、例えばカルシウム、マグネシウム等のアル
カリ土類金属またはアンモニウム等とのそれらの塩、ま
たは五酸化バナジウムの存在下に行うのが望ましい． この酸化は通常、水、酢酸、酢酸エチル、クロロホルム
、ジクロロメタン、テトラヒド口フラン、ジオキサン、
Ｎ．Ｎ−ジメチルホルムアミドのような溶媒中で行われ
るが、この反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、そ
の他のいかなる溶媒中でも反応を行うことができる． 反応温度には特別の制限はないが、通常は常温または冷
却下にこの反応が行われる． 上記製造法に使用される原料化合物のあるものは新規で
あり、そのような新規原料化合物は下記製造法によって
製造することができる．（以下余白） 製ＪｊＬ丘 またはその塩 またはその塩 梨ＩＬ旦 （ｍＢ−ｔ） （Ｉ［　−２） Ｂ またはその塩 （Ｉｆ　　−３） Ｂ またはその塩 製ＩＬＬ旦 （ｎ　　−１） Ｃ （ｎ，−２） 製』ロＬ旦 （Ｉ，−１） またはその塩 （Ｉ［　　−２） Ｄ またはその塩 （ＩＦ　−１） Ｅ またはその反応性誘導体 またはその塩 ＋ （Ｉｔ，−２） またはその塩 Ｌ またはその塩 製造法Ｆ （ＩＩＦ−１） またはその反応性 誘導体またはその 塩 （Ｉｆ，−２） またはその反応性 誘導体またはその 塩 ト （　ＩＩＦ−３　） またはその塩 思ＪＩＪＬ旦 （ｉＧ−ｔ） またはその塩 （ｎ，−２） またはその塩 製』畳Ｌ旦 ＣＭ　　−１） Ｈ またはその塩 （ｎ　　−２） Ｈ またはその塩 製ｎｓｘ （ＩＩ　−１） ■ またはその塩 （Ｉｆ　−２） ■ またはその塩 製造法Ｊ （ｆｆ　−１） Ｊ （１　−２） Ｊ またはその塩 （ＩＩ　　−３） Ｊ またはその塩 型ＪＪＬ匹 （　ｎＫ−１　） （！［Ｋ−２） またはその塩 またはその塩 （ＩＩＫ−３） またはその塩 製造法Ｌ （　Ｍ，−　１） またはその反応性 誘導体またはその塩 （ｎ，−２） またはその反応性 誘導体またはその塩 （Ｉ［Ｌ−３） またはその塩 製ｍ （Ｉｆ，−１） またはその反応性誘導体 またはその塩 （ＩＩ　　−２） Ｈ またはその塩 製造法Ｎ （ＩｆＮ−１） またはその塩 （　ＩＩＮ−２　） またはその塩 製１巳Ｌ旦 （　Ｉ［ｏ−１　） またはその塩 （Ｉｆｏ−２） またはその塩 鮭盟迭ｌ （ｎ，−ｔ） またはその塩 （ｎ，−２） またはその塩 製』１（９ （Ｉ［　　−１） Ｑ またはその塩 またはその塩 製造法Ｒ （　ｎＲ−　１　） （ＩＩＲ−２） またはその塩 またはその塩 （　ＩＲ−３　） またはその塩 ［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ３ａ，Ｒ４、Ｒ４ａＸ１
８およびＡはそれぞれ前と同じ意味であり、Ｒ１はハロ
ゲン、アミノ基、保護されたアミノＡ 基、ヒドラジノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基
、保護されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級
アルカンスルホニルアミノ基、アミノフエノキシ基、ヒ
ドロキシ基または保護されたヒドロキシ基、 Ｒ２はジ（低級アルカンスルホニル）アミノ基、Ａ 低級アルキルアミノ基、アミノ基、保護されたアミノ基
、ヒドラジノ基、保護されたヒドラジノ基または低級ア
ルカンスルホニルアミノ基、Ｒ３ｔｔ水素、ハロゲン、
低級アルカンスルホニルＡ アミノ基、ヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基
、 １ ＲＢはハロゲン、ニトロ基、アミノ基、保護されたアミ
ノ基、ヒドラジノ基、保護されたアミノベンゼンスルホ
ニルアミノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、低
級アルカンスルホニルアミノ基、アミノフェノキシ基、
ヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基、 ｘＢはハロゲン、 Ａａはヒドロキシ基またはメルカプト基、ＡＢは一〇一
または−Ｓ− Ｒ１はジ（低級アルカンスルホニル）アミノ基、Ｃ Ｒ１′はアルカンスルホニルアミノ基、Ｃ ＡＤは−ＣＨ２−　　−ＣＯ−　　　−０−　　−Ｓ−
　　−Ｓｏ−５０２−　　−５０２Ｎ（ＣＨ３）−　　
−Ｓｏ２ＮＨ一または−Ｃ（＝ＮＯＲ”）−　（式中、
Ｒ”は水素、低級アルキル基または低級アルケニル基を
意味する）、Ｒ３は水素、ハロゲン、低級アルカンスル
ホニルＤ アミノ基または保護されたヒドロキシ基、Ｒ１′は保護
されたアミノ基、 Ｅ Ｒ１は保護されたアミノベンゼンスルホニルアミＥ ノ基、 ＲＣは水素または低級アルキル基、 Ｆ Ｒ１は保護されたアミノ基、 Ｆ ＡＦは−ｓｏ２Ｎ（ｃＲ；＞　−　＜式中、Ｒ「は水素
または低級アルキル基を意味する）、 １ ＲＧはハロゲン、ニトロ基、アミノ基、保護されたアミ
ノ基、ヒドラジノ基、保護されたアミンベンゼンスルホ
ニルアミノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、低
級アルカンスルホニルアミノ基、アミノフエノキシ基、
ヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基、 ｌ ＲＨはハロゲン、アミノ基、保護されたアミノ基、ヒド
ラシノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、保護さ
れたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、低級アルカン
スルホニルアミノ基、アミノフエノキシ基、ヒドロキシ
基または保護されたヒドロキシ基、 １ Ｒ１はハロゲン、アミノ基、保護されたアミン基、ヒド
ラジノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、保護さ
れたアミノベンゼンスルホニルアミン基、低級アルカン
スルホニルアミノ基、アミノフエノキシ基、ヒドロキシ
基または保護されたヒドロキシ基、 Ｒ１はハロゲン、アミノ基、保護されたアミノＪ 基、ヒドラジノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基
、保護されたアミンベンゼンスルホニノレアミノ基、低
級アルカンスルホニルアミノ基、アミノフェノキシ基、
ヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基、 Ｍはアルカリ金属、 ＸＪはハロゲン、 ＲＬはハロゲン、ニトロ基、アミノ基、保護されＬ たアミノ基、ヒドラジノ基、保護されたアミノベンゼン
スルホニルアミノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ
基、低級アルカンスルホニルアミノ基、アミノフエノキ
シ基、ヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基、 Ｒ２′は保護されたアミノ基、 Ｈ Ｒ２はハロ（低級）アルカンスルホニルアミノＮ 基、 Ｒ１はアミノ基、保護されたアミノ基、ヒドラジＯ ノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ基、保護された
アミノベンゼンスルホニルアミノ基または低級アルカン
スルホニルアミノ基、 Ｒ１は保護されたアミノ基または保護された低級Ｐ アルキルアミノ基、 Ｒ１′はアミン基または低級アルキルアミ７基、Ｐ Ｒｌはアシル基、 Ｑ Ｒ１′は低級アルキル基を意味する］．Ｑ 原料化合物の製造法を以下に詳細に説明する。 鮭盟迭濤 化合物（Ｉｆ−２）またはその塩は、化合物（　ｆｆ　
Ａ−１）Ａ またはその塩を硫＃銅とビリジン中で反応させることに
より製造することができる． 化合物（Ｉ　−１１および（　ＩＩ　Ａ−２＞の好適な
塩としてＡ は、化合物（１）について例示したようなものが挙げら
れる． 反応温度は特に限定されないが、通常は加温下または加
熱下に反応が行われる． 製』０Ｌ旦 化合物（ＩＩ−３＞またはその塩は、化合物（　Ｕ　，
−１＞Ｂ またはその塩を化合物（Ｉｆ，−２）と反応させること
により製造することができる． 化合物（ＩＩ　−１）および（ＩＩＢ−３）の好適な塩
としてＢ は、化合物（Ｉ）について例示したようなものが挙げら
れる． 好適なＸＢとしては塩素、臭素等が挙げられる． この反応は通常、例えばナトリウム、カリウム等のアル
カリ金属、例えばマグネシウム、カルシウム等のアルカ
リ土類金属、例えば水素化カリウム、水素化ナトリウム
等のそれらの金属の水素化物、例えば炭酸カリウム、炭
酸ナトリウム等のそれらの金属の水酸化物または炭酸塩
、例えばナトノウムメトキシド、ナトリウムエトキシド
、カリウム第三級プトキシド等のアルカリ金属アルコキ
シド、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン等の
トリアルキルアミン、ピフリン等のような塩基の存在下
に行われる． この反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール、
プロパノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、ジ
才キサン、酢酸エチル、ジクロロメタン，Ｎ，Ｎ−ジメ
テルホルムアミド、ジメデルスルホキシド、ジエチルエ
ーテルのような常用の溶媒中で行われるが反応に悪影響
を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる有機溶媒
中でも反応を行うことができる．上記低級アルキル化剤
が液体である場合には、それを溶媒として使用すること
もできる． 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加温下または
加熱下に反応を行うことができる．艶凰迭Ｓ 化合物（Ｉｆ　−２）は化合物（ｎｏ−ｔ）を塩基と反
応さＣ せることにより製造することができる．この製造法は製
造法１０と同様にして行うことができる． 製１ｕ（旦 化合物（　ＩＩ　ｏ　−　２　）またはその塩は、まず
化合物（ｎ，−ｔ）をアルカリ金属亜硝酸塩と反応させ
、次いで得られる化合物（ｎ，−ｔ）のジアゾ化合物を
還元することにより製造することができる．化合物（１
　−１）および（　Ｉｆ　，−２）の好適な塩としてＤ は、化合物（Ｉ）について例示したようなものが挙げら
れる． この製造法は製造法６と同様にして行うことができる． 製』集（旦 化合物（Ｉｆ　−３）またはその塩は、化合物（ＩＥ−
１）Ｅ またはその反応性誘導体またはその塩を、化合物（　ｕ
　Ｅ−　２）またはその塩と反応させることにより製造
することができる． 化合物（ＩＩ　−２）および（　ＩＩ　Ｅ−３）の好適
な塩としてＥ は、化合物（１）について例示したようなものが挙げら
れる． 化合物（ＩＥ−ｔ）の好適な塩としては、製造法４の化
合物（Ｉ４−１）について例示したようなものが挙げら
れる． この製造法は製造法４と同様にして行うことができる． 艶ｊＩ（旦 化合物（ＩＩ−３）ｔ’タハソ（７）塩ハ、化合物（　
Ｉ［　Ｆ−１）Ｆ またはその反応性誘導体またはその塩を、化合物（　ｎ
　Ｆ−　２＞またはその塩と反応させることにより製造
することができる． 化合物（Ｉｆ　−２＞および（Ｉ［Ｆ−３）の好適な塩
としてＦ は、化合物（Ｉ）について例示したようなものが挙げら
れる． 化合物（Ｉ［Ｆ−ｌ〉の好適な塩としては、製造法４の
化合物（Ｉｆ４−１）について例示したようなものが挙
げられる． この製造法は製造法４と同様にして行うことができる． 鮭盟益互 化合物（Ｉｆ−２）またはその塩は、化合物（ｆｆ，−
１）Ｇ またはその塩を酸化反応に付すことにより製造すること
ができる． 化合物（Ｉ　−１）および（　ＩＩ　，−２）の好適な
塩としてＧ は、化合物（１）について例示したようなものが挙げら
れる． この製造法の酸化はーＳ一基をーＳ〇一基に酸化し得る
常用の酸化剤により常法で行われる．そのような酸化剤
の好適な例は例えば過沃素酸、ベル才キソ硫酸等または
それらのナトリウム塩またはカリウム塩等の無機過酸ま
たはその塩、例えば過安息香酸、３−クロロ通安息香酸
、通ギ酸、過酢酸、クロロ過酢酸、トリフル才口過酢酸
等またはそれらのナトリウム塩またはカリウム塩等の有
機過酸またはその塩、オゾン、過酸化水素、尿素一過酸
化水素等である． この反応は周期表中のｖｂ群または■ｂ群の金属よりな
る化合物、例えば、タングステン酸、モリブデン酸、バ
ナジン酸等または例えばナトリウム、カリウム等のアル
カリ金属、例えばカルシウム、マグネシウム等のアルカ
リ土金属またはアンモニウム等とのそれらの塩、または
五酸化バナジウムの存在下に行うのが望ましい． この酸化は通常、水、酢酸、酢酸エチル、クロロホルム
、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ジ才キサン、
Ｎ．Ｎ−ジメチルホルムアミド？ような溶媒中で行われ
るが、この反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、そ
の他のいかなる溶媒中でも反応を行うことができる． 反応温度に特別な制限はないが、通常は常温または冷却
下にこの反応が行われる． 鮭産迭１ 化合物（１『２）またはその塩は、化合物（　Ｉ［　『
ｔ）またはその塩を酸化反応に付すことにより製造する
こができる． 化合物（　Ｈ　『１　）および（　Ｉｔ　『２）の好適
な塩としては、化合物（！）について例示したようなも
のが挙げられる． この製造法の酸化は−Ｓ一基をーＳｏ２一基に酸化し得
る常用の酸化剤により常法で行われる．そのような酸化
剤の好適な例は製造法Ｇに記載したものと同じものであ
る． 艷盗豊ユ 化合物（１■−２）またはその塩は、化合物（Ｉ［エー
１）またはその塩を還元に付すことにより製造すること
ができる． ？合物（Ｉｆエ−１）および（！ＩＩ−２＞の好適な塩
としては、化合物（Ｉ）について例示したようなものが
挙げられる． この製造法は製造法５と同様にして行うことができる． 製造法Ｊ 化合物（Ｉｔ，−３）またはその塩は、化合物（　Ｉｔ
　Ｊ−１＞またはその塩を化合物＜ｆｆＪ−２）と反応
させることにより製造することができる． 化合物（■■一ｌ）のＭの好適なアルカリ金属としては
カリウム、ナトリウム等が挙げられる．化合物＜　ＩＩ
　，−１　）および（　ＩＩ　，−２）の好適な塩とし
ては、化合物（１）について例示したようなものが挙げ
られる． この製造法は化合物（ＩＦＪ−ｔ＞と化合物（Ｉ，−２
＞とを溶媒中で加熱することにより行うことができる． ［な溶媒としてはエチレングリコール、２一（２−メト
キシェトキシ）エタノール等が挙げられる． 舅Ｊｉ匹 化合物（　ＩＩ　Ｋ−３）またはその塩は、化合物（　
ＩＩ　Ｋ−１）またはその塩を化合物（Ｉｆｒ２）また
はその塩と、例えば塩化アルミニウム等のルイス酸触媒
の存在下に、いわゆるフリーデル・クラフト反応に従っ
て反応させることにより製造することができる。 この製造法に使用される好適な溶媒はニトロベンゼン等
である． 製造法Ｌ 化合物（Ｉｆ，−３）およびその塩は、化合物（Ｉ［Ｌ
−１）またはカルボキシ基におけるその反応性誘導体ま
たはその塩を、化合物（ＩｆＬ−２＞またはアミノ基に
おけるその反応性誘導体またはその塩と反応させること
により製造することができる． 化合物（ｍＬ−ｔ＞のカルボキシ基における好適な反応
性誘導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化
アミド、活性化エステル等が挙げられる．反応性誘導体
の好適な例としては酸塩化物；酸アジ化物；例えばジア
ルキルリン酸、フェニルリン酸、ジフェニルリン酸、ジ
ベンジルリン酸、ハロゲン化リン酸等の置換されたリン
酸、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、デオ硫酸、硫酸、例
えばメタンスルホン酸等のスルホン酸、例えば酢酸、ブ
ａピ才ン酸、酪酸、イン酪酸、ピバリン酸、ベンタン酸
、インベンタン酸，２−エデル酪酸、トノクロロ酢酸等
の脂肪族カルボン酸または例えば安息香酸等の芳香族カ
ルポン酸のような酸との混合酸無水物：対称酸無水物；
イミダゾール、４一置換イミダゾール、ジメチルピラゾ
ール、トリアゾール、テトラゾールまたは！−ヒドａキ
シ−ＩＨ−ペンゾトリアゾールとの活性化アミド：また
は例えばシアノメチルエステル、メトキシメチルエステ
ル、ジメチルイミノメチル［（ＣＨ３）２哀−Ｃ｝ｉ−
］エステル、ビニルエステル、プロバルギルエステル、
ｐ−ニトロフェニルエステル、２１−ジニトロフエニル
エステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロ
フェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニル
アゾフェニルエステル、フエニルチ才エステル、ｐ−ニ
トロフエニルチオエステル、ｐ−クレジルチ才エステル
、カルボキシメチルチ才エステル、ビラニルエステル、
ピリジルエステル、ビペリジルエステル、８−キノリル
デ才エステル等の活性化エステル、または例えばＮ，Ｎ
−ジメチルヒドロキシルアミン、１−ヒドロキシ−２−
（ＩＨ）一ピリジン、Ｎ一ヒドロキシスクシンイミド、
Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、１−ヒドロキシ−ＩＨ−
ペンゾトリアゾール等のＮ−ヒドロキシ化合物とのエス
テル等が挙げられる．これらの反応性誘導体は使用すべ
き化合物（　Ｉ　Ｌ−　１）の種類に従ってそれらの中
から任意に選択することができる． 化合物（Ｉ［１１）およびその反応性誘導体の好適な塩
については、目的化合物《！）について例示したものを
参照すればよい． 化合物（Ｉ［Ｌ−２＞のアミノ基における好適な反応性
誘導体としては、化合物（　Ｉ［　Ｌ−　２＞とアルデ
ヒド、ケトン等のようなカルボニル化合物との反応によ
って生戒するシ・冫フの塩基型イミノまたはそのエナミ
ン型互変異性体；化合物（Ｉ［，−２）とビス（トリメ
デルシリル）アセトアミド、モノ（トリメチルシリル）
アセトアミド、ビス（トリメチルシリル）Ｒ素等のよう
なシリル化合物との反応によって生成するシリル誘導体
；化合物（ＩＬ−２）と三塩化燐またはホスゲンとの反
応によって生成する誘導体等が挙げられる． 化合物（ＩｔＬ−２）およびその反応性誘導体の好適な
塩については、目的化合物（１）について例示したもの
を参照すればよい． 反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、アセトン、ジ才キサン、ア２セトニトリル、
クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒ
ドロフラン、酢酸エチル、Ｎ．Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ピリジンのような常用の溶媒中で行われるが、反応
に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる
有＃！溶媒中でも反応を行うことができる．これらの常
用の溶媒は水との混合物として使用してもよい．この反
応において化合物（ＩＩＬ−１）を遊離酸の形またはそ
の塩の形で使用する場合には、Ｎ．Ｎ−ジシクロへキシ
ル力ルポジイミド；Ｎ−シクロヘキシノレーＮ′一モル
ホリノエチノレカノレボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル
ーＮ’−（４−ジエチルアミノシクロヘキシノレ）カル
ボジイミド．Ｎ，Ｎ’−ジエテノレ力ルポジイミド．Ｎ
．Ｎ’　−ジイソプ口ビノレカノレホシイミＦＡＮ一エ
チノレーＮ’−（３−ジメチルアミノブロピル）カルボ
シ゛イミド；Ｎ．Ｎ’　一カルポニルビスーＮ一（２−
メチルイミダゾール）：ペンタメチレンケテンーＮ−シ
クロヘキシルイミン；ジフエニルケテンーＮ−シクロヘ
キシルイミン；エトキシアセチレン；１−アルコキシー
１−クロロエチレン；亜リン酸トリアルキル；ボリリン
酸エチル；ボリリン酸イソブロピル；オキシ塩化リン（
塩化ホスホリル）；三塩化リン；塩化チ才二ル；塩化才
キサリル；例えばクロロギ酸エテル、クロロギ酸イソブ
ロビル等のハロギ酸低ｉアルキル：トリフエニルホスフ
ィン；２−エチル−７−ヒドロキシベンズイン才キサゾ
リウム塩；２−エチル−５−（ｍ−スルホフェニル）イ
ンオキサゾリウムヒドロキシド分子内塩；ｘ−（ｐ−ク
ロロベンゼンスルホニル才キシ）−６−クロロー１Ｈ−
ペンゾトリアゾールｉＮ．Ｎ−ジメチルホルムアミドと
塩化チ才二ル、ホスゲン、クロロギ酸トリクロロメチル
、才キシ塩化リン、塩化メタンスルホニル等との反応に
よって調製したいわゆるビルスマイヤー試薬等のような
常用の縮合剤の存在下に反応を行うのが望ましい． 反応はまたアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素
塩、トリ（低級）アルキルアミン、ピリジン、Ｎ−（低
級）アルキルモルホリン、Ｎ．Ｎージ（低級）アルキル
アミン等のような無機塩基または有機塩基の存在下に行
ってもよい．　反応温度は特に限定されないが、通常は
冷却下ないし加温下に反応が行われる． （以下余白） 型ｍ 化合物＜Ｉｆ−２）またはその塩は、化合物（ＩｔＭ−
１）Ｈ またはアミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩
をそのアミノ基の保護反応に付すことにより製造するこ
とができる． 化合物（Ｉ　−１）および］『２〉の好適な塩としてＨ は、化合物（１）について例示したようなものが挙げら
れる． この製造法は製造法８と同様にして行うことができる． 髪盈迭！ 化合物（Ｉｆ−２＞またはその塩は、化合物（　Ｉｆ　
Ｎ−ｔ）Ｎ またはその塩をアミノ基のスルホン化に付すことにより
製造することができる． 化合物（Ｉｆ　−１）および（ＩＩ，−２）の好適な塩
としてＮ は、化合物（Ｉ）について例示したようなものが挙げら
れる． この製造法はハロ（低級）アルカンスルホン化剤を使用
し、製造法９と同様にして行うことができる． 製造法０ 化合物（　ＩＩ。−２＞またはその塩は、化合物（　ｒ
ｉ　ｏ−ｔ＞またはその塩をＮ−クロロスクシンイミド
と反応させることにより架造することができる．化合物
（　Ｉ［　ｏ−ｔ　）および（　Ｉｆ　ｏ−２）の好適
な塩としては、化合物（１）について例示したようなも
のが挙げられる． 艷亜迭ヱ 化合物（ＩＩ，−２＞またはその塩は、化合物（　ＩＩ
　，−ｔ）１ またはその塩をＲ，のアミノ保護基または、低級アルキ
ルアミノ保護基の脱離に付すことにより製造することが
できる． 化合物（　ＩＩ　，−１　）および（　Ｉ［　，−２）
の好適な塩としては、化合物（１）について例示したよ
うなものが挙げられる．この製造法は製造法７と同様に
して行うことができる． 製ＪＪＬ衰 化合物（　Ｉ［　ｏ−　２　）またはその塩は、化合物
（ＩＱ−１）またはその塩をアルキル化反応に付すこと
により製造することができる． 化合物（　ＩｆＱ−１）および（　Ｉ［　Ｑ−２）の好
適な塩としては、化合物（１）について例示したような
ものが挙げられる． このアルキル化反応に使用されるアルキル化剤としては
、例えば硫酸ジメチル、硫酸ジエチル等の硫酸ジ（低級
）アルキル、例えばジアゾメタン、ジアゾエタン等のジ
アゾ（低級）アルカン、例えば沃化メチル、沃化エチル
等の低級アルキルハロケン化物、例えば９−トルエンス
ルホン酸メチル等のスルホン酸低級アルキル等が挙げら
れる． 硫酸ジ（低級）アルキル、低級アルキルハロゲン化物ま
たはスルホン酸低級アルキルを使用する反応は、水、ア
セトン、エタノール、エーテル、ジメチルホルムアミド
のような溶媒中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒であれば、その他のいかなる溶媒中でも反応を行
うことができる． この反応は製造法１で述べた無機塩基または有機塩基の
ような塩基の存在下に行うのが望ましい． 反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし溶媒の沸
点付近までの加熱下に反応が行われる．ジアゾアルカン
を使用する反応は通常、エーテル、テトラヒド口フラン
のような溶媒中で行われる． 反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下または常
温で反応が行われる． 製亘益１ 化合物（ＩＩ　−３）またはその塩は、化合物（ｎ，−
ｔ）Ｒ またはその塩を化合物（ＩＩＲ−２＞またはその塩と反
応させることにより製造することができる．化合物（Ｉ
Ｉ　−１）ないし（　Ｉｆ　，−３）の好適な塩として
Ｒ は、化合物（１）について例示したようなものが挙げら
れる． この製造法は製造法Ｂと同様にして行うことができる． 目的化合物および医薬として許容されるその塩類は新規
であり、薬理作用を発揮して例えば変形性関節症、腰痛
症、肩甲上腕関節周囲促、月経痛、無熱性中耳炎、前立
腺痛、結節性紅斑、庖疹、偽性痛風、痛風様発作等の疼
痛または炎症性疾患、自己免疫疾患、例えばリウマチ性
関節炎等のリウマチ、腎炎、例えば特発性血小板減少性
紫斑病、続発性血小板減少性紫斑病等の血小板減少症等
の治療および予防に使用される． 目的化合物（Ｉ）の有用性を示すために、目的化合物（
１）の鎮痛作用、抗炎症作用、抗リウマチ作用、抗腎炎
作用、および血小板数増加作用を以下説明する． Ｌ息立１ 鮫監ユ　　マウスにおける酢酸ライジング方法 ｄｄｙ系雄性マウスを１群当り１０匹使用した．０．６
％酢酸を腹腔内注射してマウスにライジングを発生せし
めた．動物を酢酸注射後３分から１３分まで観察し、ラ
イジングの総数を記録した．薬物を酢酸注射１時間前に
経口投与した．投与動物のライジング回数を対照動物と
比較した． 結果 １　　　　　　　　　　　　　３２　　　　　　　　　
　３０．４５　　　　　　　　　　　　　３２　　　　
　　　　　　７４．５６　　　　　　　　　　　　　３
２　　　　　　　　　　３６．　４８　　　　　　　　
　　　　　３２　　　　　　　　　　３９．３１１　　
　　　　　　　　　　　３２　　　　　　　　　　６９
．１１２　　　　　　　　　　　　　　３２　　　　　
　　　　　５２．　６１３　　　　　　　　　　　　　
３２　　　　　　　　　　６０．７５７　　　　　　　
　　　　　　　３２　　　　　　　　　　５４．　７５
９　　　　　　　　　　　　　３２　　　　　　　　　
　７０．　２逍』１口見居 ＫＭ２　　ラットにおけるカラゲニンによる足跳浮腫に
対する効果 方法 スプラーグ・ドウリー系雄性ラットを１群当り１０匹使
用した．２４時間絶食後、ラットの右後足の足底表面下
に１％７−カラゲニン０．１−を皮下注射した．動物に
カラゲニン注射１時間前に試験薬物を経口投与した．薬
物投与直前とカラゲニン注射３時間後との右後足の体積
差を浮腫の指標として用いた． 結果 ５０ ２７．１ ５０．０ ４０．５ ５９．１ ７２．７ ５７．１ ５２．２ ４８．０ ２８．６ ４２、０ ３７、５ ２７．１ ２５．０ ６２．７ ５７．１ ５７．１ ３９．２ 抗ユご二ＬＬ怪Ｅ 攻慧ユ　　マウスのコラーゲン誘起関節炎に対する効果 方法 ＤＢＡ／　１系雄性マウスを１群当り８匹使用した．■
型ウシフラーゲンを０．１Ｍ酢酸に溶解し、フロイント
の完全アジュバント（ＣＦＡ）に乳化した．マウスに２
００４のＣＦＡ中Ｉ型コラーゲンを尾の基部に皮内注射
して初回抗原刺激を受けさせた．マウスに２１日後に同
じ方法で誘発させた．誘発１０日目から薬物を１日１回
、４週間経口投与し、マウスを毎週関節炎の徴候を観察
して検査した．薬物の効果を評価するために関節炎指数
を使用した．関節炎指数は各肢に重症度０−３の点数を
付し、それは関節腫脹および紅斑（第１段階）、目に見
える関節障害（第２段階）および検出可能な関節強直症
（第３段階）を表わすが、四肢の点数を合計することに
より得た． 結果 ６　　　　　　　　　　　　　　１００　　　　　　　
　　　　２１．３７　　　　　　　　　　　　　１００
　　　　　　　　　　４０．０８　　　　　　　　　　
　　　　１０Ｇ　　　　　　　　　　　９２．６９　　
　　　　　　　　　　　　１００　　　　　　　　　　
　３３．８１２　　　　　　　　　　　　　１００　　
　　　　　　　　５６．９１３　　　　　　　　　　　
　　　１００　　　　　　　　　　　４６．２１９　　
　　　　　　　　　　　　１０Ｇ　　　　　　　　　　
２７．９２０　　　　　　　　　　　　　　１００　　
　　　　　　　　２７。ｌ２１　　　　　　　　　　　
　　　１０Ｇ　　　　　　　　　　６１．８２２　　　
　　　　　　　　　　　１００　　　　　　　　　　１
６．９３７　　　　　　　　　　　　　１００　　　　
　　　　　　１９．　１５１　　　　　　　　　　　　
　　１００　　　　　　　　　　　２９．０（２）方法 ＤＢＡ／　１系雄性マウスを１群当りｌＯ匹使用した．
■型ウシフラーゲンを０．１Ｍ酢酸に溶解し、フロイン
トの完全アジュバント（ＣＦＡ）に乳化した．マウスの
尾の基部にＣＦＡ中Ｉ型コラーゲン１２５κを皮肉注射
して初回抗原刺激を受けさせた。２１日後に同じ方法で
誘発した．１！発の日から薬物を１日１回、４週間経口
投与し、マウスを毎週関節炎の徴候を観察して検査した
．薬物の効果を評価するために、関節炎指数を使用した
．関節炎指数は各肢に重症度０−３の点数を付し、それ
は関節腫脹および紅ＩＩ（第１段階）、目に見える関節
障害（第２段階）および検出可能な関節強直症（第３段
階）を表わすが、四肢の点数を合計することにより得た
． 結果 ３２　　　　　　　　　　４４ １００　　　　　　　　　　　９３ １００　　　　　　　　　　　３２ ３２　　　　　　　　　　１９ １００　　　　　　　　　　　３７ １００　　　　　　　　　　　６０ １００　　　　　　　　　　　３１ １００　　　　　　　　　　　３０ １００　　　　　　　　　　　３８ １００　　　　　　　　　　　１７ １００　　　　　　　　　　　４７ １００　　　　　　　　　　　２１ １００　　　　　　　　　　　５９ １００　　　　　　　　　　　４６ 抗ｊ］動笠浬 隻監１　塩素ＧＶＨ疾患（腎炎）に対する効果方法 生後６週齢の（　５７ＢＬ／　６　ＸＤＢＡ／　２　）
　Ｆ１およびＤＢＡ／　２系雄性マウスを使用した．対
宿主性移植片疾患（　ＧＶＨ　）を（　５７ＢＬ／　６
　ＸＤＢＡ／　２　）　Ｆ　１７ウスにＤＢＡ／　２牌
細胞を５日間置いて２回注射することにより誘起した．
各注射には細胞５Ｘ１０７個が含まれていた．２回目の
細胞注射３日後から薬物を１日１回、８週間経口投与し
た．腎疾患を評価するために、最後の細胞注射後８週間
目に蛋白尿を測定した．尿中血清アルブミン濃度を家兎
抗マウス血清アルプミン抗血清を使用して、単純放射免
疫拡散法により定量した．マウスを１群当りｌＯ匹使用
した．化合物の抗腎炎作用を蛋白尿の抑制により表わし
た． （以下余白） 結果 直沙１４１Ｌ虹企Ｂ ＩＬｉ：マイトマイシンＣによって減少した血小板数に
対する増加効果 方法 生後６または７週齢のｄｄｙ系雄性マウスに試験化合物
を１日１回、５日間経口投与した．動物は１群１０匹と
して使用した．マイトマイシンＣを３．　２ｍｇ／　ｋ
ｇの投与量で、試験化合物の最初の投与後０８目、２日
目および４日目にマウスに静脈内投与した．血小板数を
試馳化合物最終投与５日後にマウスの眼窩叢から採血し
た血液について計数した．血小板は自動血液分析器によ
り計数した。 各群の血小板数を試験化合物非投与群から得られた血小
板数に基づいて、計算した． （以下余白） 結果 ５０　　　　　　　　　　　　３２　　　　　　　　　
　１８６６０　　　　　　　　　　　３２　　　　　　
　　　　１６８９７　　　　　　　　　　　　３２　　
　　　　　　　　１７４９８　　　　　　　　　　　３
２　　　　　　　　　　１３９１００　　　　　　　　
　　　　３２　　　　　　　　　　１５１１０１　　　
　　　　　　　　　３２　　　　　　　　　　１４４１
０２　　　　　　　　　　　３２　　　　　　　　　　
１８１１０３　　　　　　　　　　　３２　　　　　　
　　　　１５９治療用として投与するために、目的化合
物（１）および医薬として許容されるその塩類は、粉剤
、微細顆粒、顆粒、錠剤、糖衣錠、マイクロカプセル、
カプセル、坐剤、溶液、懸濁液、エマルジョン、シロッ
プ等のような常用の医薬組放物の形として使用される．
所望の場合には、希釈剤または例えばスクロース、乳糖
、デンプン、結晶性セルロース、低１１！換ヒドロキシ
プ口ピルセルロース、合成ケイ酸アルミニウム等の崩壊
剤、例えばセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシ
ブ口ピルセルロース、ヒドロキシプ口ビルメチルセルロ
ース、ボリブロビルピロリドン、ポリビニルビロリドン
、ゼラチン、アラビアゴム、ボリエテレングリコール等
の結合剤、着色剤、甘味剤、例えばステアリン酸マグネ
シウム等の滑剤等が前記組成物に配合されていてもよい
． この発明による前記組成物の投与量は患者の年齢、体重
、条件等によって変化するが、一般的には経口投与によ
り目的化合物ク！〉またはその塩として１日投与量１０
０ｍｇないし１０ｇ１好ましくは同じ基準で１ｇないし
５ｇが、１日当りエないし３回の間隔で投与される．代
表的な単位投与量は５０ｍｇ，　１００ｍｇ，　２００
ｍｇ、５００ｍｇ，　１　ｇ等とすればよいが、これら
は単なる例であってこれらに限定されることはない． 以下製造例および実施例に従ってこの発明をさらに詳細
に説明する． 製』１艷１ ４−メトキシフェノール（５．２ｇ）のＮ，Ｎ−ジメテ
ルホルムアミド（　１００＋ｎＲ　）溶液に、水素化ナ
トリウム（１．０９ｇ）を攪拌下５゜Ｃで少量ずつ分割
して加える．混合物を室温で１時間攪拌後、４ークロロ
ニト口ベンゼン（６ｇ）を加える．反応混合物を撹拌下
１００℃に１時間加熱し、反応混合物を攪拌下氷水中に
注ぐ．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、４−メトキシ
ー４′一二トロフエニル工一テル（９．６５ｇ、収率１
０３．　３％）を得る．融点：　１０６−１０７”Ｃ ＩＲ　　（スジ望一ル）　　１６１０．　　１５９０．
　　１５０５．　　１３８０．１３４５　ａｍ−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　３
．７６　（３Ｈ．ｓ）．　６．７０−７．２０　（６Ｈ
．ｍ），　８．１５　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）Ｍａｓ
ｓ　：　２４６（Ｍ＋１）．　２４５（Ｍ）．　ｍ／ｅ
　２３０艷泣負ユ ４−アミノー４′−ヒドロキシジフェニルエーテル（４
．７ｇ）、４−クロロニトロベンゼン（３．３ｇ）およ
び炭酸カリウム（３．５ｇ）のＮ．Ｎ−ジメデルホルム
アミド（　３５１１１１１　）中混合物を攪拌下１４０
゜Ｃに２．５時間加熱する．反応混合物を水冷攪拌下水
中に注ぎ、水冷下に１時間攪拌する．沈殿を濾取、水洗
、真空乾燥して、４−（４−アミノフェノキシ）−４’
　一二トロジフエニルエーテル（６．８ｇ、収率１０１
．５％）を得る．融点：　１３４”Ｃ ＩＲ　　（スジ身一ル）　　３４５０．　　３３２０．
　　１６１（１．　　１５９０．　　１５１０．１５０
５．　１３８０．　１３５５　ａｍ−１ＮＭＲ　（ＤＭ
ＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐａ＋）　３．５７　（２
Ｈ．ｂｓ），　６．６０（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　
６．８３　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞，　６．８０（２
Ｈ．ｄ．Ｊ；９Ｈｚ＞．　６．８７　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝
９Ｈｚ＞．　６．９０（２｝１，ｄ．Ｊ＝９｝１ｚ）．
　８．１ｊ）　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９｝１ｚ）Ｍａｓｓ　
：　３２３（Ｍ＋１）．　３２２（Ｍ）．　ｍ／ｅ　２
９２，　２７６．２０１．　１０８ 製』Ｉ４１ ４−ニトロ−４′−ジメタンスルホニルアミノジフエニ
ルエーテル（８．３ｇ）のテトラヒド口フラン（　２４
０１１１　）と水（　８０１１１　）との混合物溶液を
攪拌下ＩＮ＊酸化ナトリウム水溶液でｐＨ９．　５に調
整する．混合物を４０℃で８時間攪拌する．さらにＩＮ
水酸化ナトリウム水溶液を加えて反応混合物のｐＨを９
−９．５に維持する．反応混合物を減ｆｆ濃縮し、残渣
を水冷攪拌下１０％塩酸でｐＨ２．　０に！ｌｌ１！１
する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して固体を得る．固
ｆ本をシリカゲノレ（シリカゲル６Ｇ，　７０−２３０
メッシュ、メルク社製）（２５０ｇ）を使用するカラム
クロマトグラフィーに付し、クロロホルムとアセトンと
の混液（２５：１゜）で溶出する．目的化合物を含む画
分を合わせ、減圧濃縮して、４−ニトロ−４′−メタン
スルホニルアミノジフエニルエーテル（５．８ｇ、収率
７８．４％）を得る．融点＝１６２℃ ＩＲ　　（スジ砕一ル）　　３２５０．　　１６１０．
　　１５９０．　　１５１０．　　１３８０．１３３０
　ｃｍ−１ ＮＭＲ　　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　
　３．００　　（３Ｈ．ｓ）．　　７．０５（２Ｈ．ｄ
，Ｊ＝９Ｈｚ）．　　７．１０　　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９
Ｈｚ＞．　　７．２５（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ），　　
８．１５　　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．９．６７　（
ＩＨ．ｂｓ） Ｍａｓｓ　：　３０９（Ｍ＋１）．　３０８（Ｍ）．　
ｍ／ｅ　２２９．　１８５製』ｌ乱１ ｉ化４−ニトロ−４′−ジメタンスルホニルアミノジフ
ェニル（６０ｇ）のテトラヒド口フラン（　７５０ｍＱ
　）と水（　２００ｍｍ　）との混合溶媒中混合物を攪
拌下４０％水酸化ナトリウムでｐＨ９−１０にｙ４整す
る．さらに１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を使用してｐＨ
９−１０に保ちながら、混合物を４０℃で１１時間Ｊ％
！拌する．反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水冷攪拌下
希塩酸でｐＨ２．　０にｉｉｙする．沈殿を濾取、水洗
、真空乾燥して、硫化４−ニトロ−４′−メタンスルホ
ニルアミノジフエニル（４５．０ｇ，　収率９３．８％
）を得る． 融点：　１６０−１６２℃ ＩＲ　　（スジ＊−４）　　３２５０．　　１６００，
　　１５８０．　　１５２０．　　１３４５，１１６０
．　１１４５　ａｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ，ｐｐｍ＞　３
．１０　（３Ｈ，ｓ）．　７．２７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９
Ｈｚ）．　７．３３　（２Ｈ，ｄ，Ｊ：９Ｈｚ），　７
．６０（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞，　８．１３　（２Ｈ
．ｄ，Ｊ：９Ｈｚ＞．　９．１７（ＬＨ．ｓ） Ｍａｓｓ　：　３２５（Ｍ＋１）．　３２４（Ｍ），　
ｍ／ｅ　２４５製ｊＬｌ互 ４−アミノー４′　一二トロジフェニルエーテル（３ｇ
）および濃塩酸（　１２１１１１１　）の酢酸（２５１
１１１１　）と水（　５０ｍｌ＋　）との混合溶媒中混
合物に、亜硝酸ナトノウム（１．０８ｇ）の水（５１１
１１１）溶液を攪拌下５℃で滴下する．混合物を５℃で
１時間攪拌後、反応混合物に塩化第一スズ（８．８ｇ）
の濃塩酸（４５１Ｑ　）溶液を攪拌下０℃で滴下する．
混合物を０℃で２時間攪拌し，室温で一夜放置する．沈
殿を濾取、水洗、真空乾燥して、４−ヒドラジノ−４′
一二トロジフェニルエーテル・塩酸塩（３．ｔｓｇ，　
収率８６．５％）を得る． 融点：　１８１”ｃ ＩＲ　　（スジ會一ル）　　２６５Ｇ−２４００．　　
１６１０．　　１５９０．　　１５１５．１５０５．　
１３８０．　１３５０　ｃｗｒ−’ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ
−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　７．００　（２Ｈ．ｄ
．Ｊ：９Ｈｚ）．７．０３　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）
．　７．０９　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．８．１５　
（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　１０．２５　（２Ｈ，ｂ
ｓ）Ｍａｓｓ　：　２４６（Ｍａ１）．　２４５（Ｍ）
．　ａｌｅ　２２９．　２１４製』Ｉ艷互 ５ｉ化４−ニトロ−４′−アミノジフエニル（１３ｇ）
のＮ．Ｎ−ジメチルアニリン（　２ａｍｎ　）中混合物
に、塩化４−アセトアミドベンゼンスルホニル（ｌｌｇ
）を攪拌下８０゜Ｃで少量ずつ分割して加える．ａ合物
を攪拌下９０℃に２時間加熱する．反応混合物を水冷攪
拌下希塩酸中に注ぐ．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して
、４−アセトアミドーＮ−（４−（４−ニトロフェニル
デオ）フェニル］ベンゼンスルホンアミド（１９．５ｇ
、収率９３．０％）を得る． 融点：　２１８−２２０℃ ＩＲ　　（スジｌ−４）　　３４００．　　３２００．
　　１６９５．　　１６００．　　１５９５．１５３５
．　１３４５　ａｍ’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　２
．０７　（３Ｈ．ｓ）．　７．１７（２Ｈ．ｄ．Ｊ：９
Ｈｚ）．　７．２５　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．　７
．４８（２Ｈ．ｄ．Ｊ：９Ｈｚ）．　７．７７　（４Ｈ
．ｓ）．　８．１７　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９ＨＺ）．　１
０．２７　（ＩＨ．！ｌ），　１０．４７　（ＩＨ．Ｓ
）Ｍａｓｓ　：　４４４（Ｍ＋１）．　４４３（Ｍ）．
　ｒｒｒ／ｅ　４１３．　２３ｇ，２４５．　１９９ 製ＪＬｔヱ ４−アセトアミドベンゼンスルフィン酸ナトリウム（８
ｇ）をエチレングリコール（３．０ｍ）と２−（２−メ
トキシエトキシ）エタノール（５Ｉｎｌｌ）との混合物
に油浴中加熱して溶解する．次いでこの溶液に４−二ト
ロ−２−メタンスルホニルアミノクロロベンゼン（８．
０ｇ）を加える．混合物を１４０−　１４５℃に連続攪
拌下７時間加熱し、次いで一夜放冷する．水（　２０ａ
ｌｌ　’）を加えた後、ペースト状塊を破砕し、濾取、
水洗、真空乾燥して、４一アセトアミドー４′一二トロ
−２′一メタンスルホニルアミノジフエニルスルホン（
８．５０ｇ、収率６８．６％）を得る． 融点：２５５゜Ｃ（分解） ＩＲ　　（スジ１−ル）　　３２７０．　　１６８０．
　　１６１５．　　１５９５．　　１５３０．１３５０
．　１３３０　ｃｓａ−’ ＮＭＲ　（ＣＦ３ＣＯＯＨ．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　２
．４３　（３Ｈ．ｓ）．　３．３６（３Ｈ．ｓ）．　７
．７３　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ）．　７．９０　（２
１．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ）．　　８．１０　　（２Ｈ．ｄ，
Ｊ＝８Ｈｚ）．　　８．２５　　（１Ｂ．ｄ．Ｊ＝８Ｈ
ｚ）．　８．９０　（ＩＨ．ｂｓ）．　９．２０　（ｌ
Ｈ．ｂｓ）叡』Ｉ艷互 ４−アセトアミドベンゼンスルフィン酸ナトリウム・三
水化物（１０ｇ）をエチレングリフール７５一と２−（
　２−メトキシエトキシ）エタノール１２０ｍＱとの混
合物１００−に油浴中加熱して溶解すル．次いで３．４
−ジクロロニト口ベンゼン（　８．２ｇ）を溶液に加え
る．混合物を連続攪拌下１４０゜Ｃに６．５時間加熱し
、次いで一夜放冷する．水２００ｍＱを加えた後、混合
物を酢酸エチルで抽出し、水洗して硫酸マグネシウムで
乾燥する．有機層を減圧ａ總して固体を得る．固体をシ
リカゲル（和光ゲルＣ　−　２００、１００−　２００
メッシュ、和光純薬製）（４００ｇ）を使用するカラム
クロマトグラフィーに付し、酢酸エチルとｎ−へキサン
との混液（１：　１　ｖ／ｖ　−　５　：　１　ｖ／ｖ
）で溶出する．目的化合物を含む画分を合わせ、減圧濃
縮して、４−アセトアミドー２′　−クロロー４′一二
トロジフエニルスルホン（６．７５ｇ，収率４８．９％
）を得る．融点＋　１９０−１９２°Ｃ ＩＲ　　（スジ碑一ル’）　　３３７０．　　１７０５
．　　１５９５．　　１５３５．　　１４０５．１３５
５．　１３２５．　１１５５　ｃｍ−’ＮＭＲ　（ＤＭ
ＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　２．１１　（３Ｈ
．ｓ）．　７．６６−７．９６　（４Ｈ．ｍ），　　８
．２６−８．５１　　（３Ｈ．ｍ）．　　１０．３６（
ＬＨ．　　ｂｓ） Ｍａｓｓ　：　　３５５（Ｍａ１）．　　３５４（Ｍ）
．　　ｍ／ｅ　３１４．　　３１２．　　１５６製』Ｕ
艷エ ４−アセトアミドベンゼンスルフイン酸ナトリウム・二
水化物（２．６ｇ）をエテレングリコール７５一と２−
（２−メトキシエトキシ）エタノール１２〇一との混合
物３ｍｌに油浴中加熱して溶解する．次いで５−クロロ
ー２−ニトロアニソール（１．９ｇ）を溶液に加える．
混合物を１４０−　１４５℃に連続攪拌下４時間加熱し
、次いで一夜放冷する．水５Ｉ１ｌ！を加えた後、ペー
スト状塊を破砕し、吸引濾過して熱水で洗浄する．次い
で固体を１００一フラスコに移し、エタノール（２０１
１１　）中１５分間還流する．冷後、沈殿を吸引濾過し
てエタノールで洗浄し、引続いてエーテルで洗浄して、
４−アセトアミド−３′−メトキシー４′一二トロジフ
ェニルスルホン（０．８５ｇ，収率２４．３％）１％る
． Ｍ点：　１９０−１９１”Ｃ ＩＲ　　（スジａ−ＩＬ）　　３３５０．　　１７０５
．　　１６０７．　　１５９０．　　１５３０．１３８
Ｇ．　１３１０．　１２６５　ｃｒｍ−’ＮＭＲ　（Ｄ
ＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　２．１０　（３
Ｈ．ｓ）．　４．０７（３Ｈ．ｓ）．　７．５０−８．
１３　（７Ｈ．ｍ）．　１０．４　（ＩＨ．ｂｓ）型１
ｕｌ凶 ４−ニトロ一Ｎ−メチルアニリン（　１．６ｇ　）およ
びＮ．Ｎ−ジメチルアニリン（５ｍＱ）の混合物に、塩
化４−アセトアミドベンゼンスルホニル（２．３ｇ）を
少量ずつ分割して攪拌下９０℃で加える．混合物を９０
゜Ｃに１．５時間加熱し、次いで水冷攪拌下６Ｎ塩酸で
ｐＨ１．０に調整する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥し
て、４−アセトアミドーＮ一メチルーＮ−（４−二トロ
フエニル）ベンゼンスルホンアミド（２．３８ｇ，収率
６８．０％）を得る．融点＝２１８℃ ＩＲ　　（スジ昏−ル）　　３３５０．　　１６７５．
　　１５９５．　　１５３０，　　１３７５．１３５５
　ａｒｍ−’ ＮＭＲ　（Ｄｌ’！５０−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐａ＋
＞　２．０６　（３Ｈ．ｓ）．　３．１８（３Ｈ．ｓ）
．　７．３９　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　７．４３
　＜２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　７．７０　（２Ｈ．ｄ
．Ｊ＝９Ｈｚ）．　８．１０　（２Ｈ．ｄ．　Ｊ＝９Ｈ
ｚ　） 製１ｕ４■ ４−ニトロアニリン（０．１４ｇ）とＮ．Ｎ−ジメチル
アニリン（０．　５１１１　）との混合物に、塩化４−
アセトアミドベンゼンスルホニル（０．２３ｇ）を攪拌
下９０℃で少量ずつ分割して加える．混合物を９０℃で
２時間攪拌し、６Ｎ塩酸で水冷攪拌下ｐＨ１。０に調整
し、次いで冷却下３．５時間攪拌する．沈殿を濾取、水
洗、真空乾燥して、４−アセトアミド−Ｎ−（４−ニト
ロフェニル）ベンゼンスルホンアミド（０．２３ｇ，収
率６９．７％）を得る．融点：２５０℃ ＩＲ　　（スジａ−４）　　３３５０．　　３１５０．
　　１６９５．　　１５９５．　　１５２５．１３８０
．　１３４５　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０１１Ｈｚ．ｐｐｍ）　
２．０５　（３Ｈ．ｓ）．−　７．２３（２Ｈ．ｄ．Ｊ
＝９Ｈｚ）．　７．７０　（４Ｈ．ｓ），　８．０５　
（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．　１０．２５　（ＬＨ．ｓ
）．　１１．０５　（１１，ｓ）Ｍａｓｓ　　：　　３
３６（Ｍ＋１）．　　３３５（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　３０
３．　　２８６製１ｄ艷４ ａ化４−ニトロ−４′−メタンスルホニルアミノジフエ
ニル（６ｇ）のジクロ口メタン（　６０１１１１１　）
溶液に、３−クロロ過安息香酸（５．１ｇ、純度８０％
）のジクロ口メタン（　５０１ｌＱ　）溶液を５゜Ｃ未
満の温度で攪拌下に滴下する．混合物を５℃未満の温度
で２時間攪拌し、反応混合物を１０％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、次いで水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
する．硫酸マグネシウムを濾去後、濾液を減圧下に蒸発
乾固して固体を得る．固体をシリカゲル（シリカゲル６
０，　７０−２３０メッシュ、メルク社製）（２００ｇ
）を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸上
チルとべ冫ゼンとの混液（１：３）で溶出する．目的化
合物を含む画分を合わせ、減圧下に蒸発乾固して、４−
ニトロ−４′一メタンスルホニルアミノジフェニルスル
ホキシド（３ｇ１収率４７．６％）を得る．融点Ｆ　１
５７−１５８℃ ＩＲ　　（スジＩ−４＞　　３３００．　　１６６０，
　　１６０５．　　１５９５．　　１５２５，１３５０
．　１３００　ｃｍ” ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄａ．９０ＭＨＺ．ｐｐｍ）　３
．０６　（３Ｈ，ｓ）．　７．３０（２Ｈ，ｄ．Ｊ＝９
Ｈｚ）．　　７．７０　（２｝１．ｄ，Ｊ：９Ｈｚ）．
　　７．９０（２Ｈ，ｄ．Ｊ＝９｝１ｚ），　　８．３
０　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞．　　１１．６０（ＩＨ
．ｓ） Ｍａｓｓ　　：　　３４０（Ｍ），　　ｔａｌｅ　３２
４．　　２９２．　　２１８製造例ｌ３ ４−アセトアミドーＮ−（４−（４−二トロフエニルテ
才）フェニル］ベンゼンスルホンアミ｝’（８ｇ）のジ
クロ口メタン（　８０１Ｑ　）　，クロロホルム（　８
０ｍｌｌ　）、酢酸エチル（５０１１１　）およびＮ．
Ｎ一ジメデルホルムアミド（　３０１１１１　）の混合
物溶液に、３−クロロ過安息香酸（３．９ｇ，純度８０
％）の酢酸エチル（　５０１１１９　）溶液を水冷攪拌
下５゜Ｃ未満の温度で滴下する．混合物を５゜Ｃ未満の
温度で３．５時間攪拌し、次いで沈殿を濾取して酢酸エ
チルで洗浄し、真空乾燥して、４−アセトアミドーＮ−
［４−（４−ニトロベンゼンスルホニル）フエニル］ベ
ンゼンスルホンアミＦＣ４．２ｇ，収率５０．７％）を
得る． 融点：　２６０−２６１℃ ＩＲ　　（ス九−ル）　　３２５０．　　３１２０，　
　１６８０．　　１６１０，　　１５９５，１５３５．
　１３５０　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　２
．０３　（３Ｈ．ｓ）．　７．２０（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９
Ｈｚ）．　　７．６５　（２Ｈ，ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　
　７．７０（４Ｈ，ｓ），　　７．９０　（２Ｈ．ｄ．
Ｊ：９Ｈｚ＞．　　８．３３　（２Ｈ．ｄ，Ｊ：９Ｈｚ
）．　　１０．２７　（ＬＨ．ａ），　　ＩＱ．６３　
（ＬＨ．ｓ）Ｍａｓｓ　　：　　４５９（Ｍ）．　　＋
ｎ／ｅ　４４３．　　４１３．　　２４５製造例１４ ４−アセトアミド−Ｎ−［（４−ニトロフェニルチ才）
フェニル］ベンゼンスルホンアミト（６ｇ）の酢酸エチ
ル（　１２０１１ＬＱ　）とＮ．Ｎ−ジ，＋ｌＪＬ４ル
ムアミド（　５０ｍｌｌ　）との混合物溶液に、３−ク
ロロ過安息香酸（３．０ｇ、純度８０％）の酢酸エチル
（　５０１１１１！　）溶液を攪拌下５゜Ｃで滴下する
．混合物を室温で２．５時間攪拌する．反応混合物を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、塩化ナトリウム
を飽和させる．混合物を酢酸エチルで抽出し、水洗して
硫酸マグネシウムで乾燥する．硫酸マグネシウムを濾去
後、濾液を減圧下に蒸発乾固して、４−アセトアミドー
Ｎ−［４−（４−ニトロベンゼンスルホニル）フエニル
］ベンゼンスルホンアミド（６．０ｇ、収率９３．３％
）を得る．（以下余白） 融点２６５−２７０℃（分解） ＩＲ　（スジａ−ル）　　３３５０、　３１５０、　１
６７５．　　１６１０，　　１５９５．１５３０，　１
３８０．　１３５０　ｃｍ−’ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ
６，６０ＭＨｚ，ｐｐｍ＞　２．１０　（３Ｈ，ｓ），
　７．３７（２Ｈ，ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞．　　７．８０　
（４Ｈ．ｓ）．　　７．９３　（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ
）．　　８．１３　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），　　８
．４０　（２Ｈ，ｄ，Ｊ：９｝１ｚ）．　　１０．４０
　（ＩＨ．ｓ），　　１１．２０　（ＩＨ，ｂｓ）．Ｍ
ａｓｓ　　：　　４７６　（Ｍａ１）．　　４７５　（
Ｍ）．　　ｍ／ｅ　４３３．　　３６８．３４１，２７
８，　　１９８ 製造例１５ 鉄粉（ｔ３．ｓｇ、６０メ／シュ）と塩化アンモニウム
（１．３６ｇ）トノ−ｃｌ’／−ル（１４０ｍＱ）およ
び水（　３５１１ＩＱ　）の混合溶媒中混合物に、４−
メタンスルホニルアミノニトロベンゼン（１３．６ｇ）
を攪拌下８０゜Ｃで少量ずつ分割して加える．混合物を
攪拌下８時間還流する．反応混合物はを吸引濾過し、濾
戒を減圧濃縮する。残渣を水で粉砕する．沈殿を濾取、
水洗、真空乾燥して、４−メタンスルホニルアミノアニ
リン（５．４４ｇ、収率４６．５％）を得る． 融点：８５−９８℃ ＩＲ　　（スジａ−ル’）　　３４７０，　　３４００
．　　３３００，　　１６３０．　　１５２０．１３８
０．　１３１５．　１１５０　ｃｍ−’ＮＭＲ　　（Ｄ
Ｍ５０−ｄ６．９０ＭＨｚ，ｐｐｍ＞　　２．７６　　
（３｝１．ｓ）．　　　４．９５（２Ｈ．ｂｓ）．　　
６．４６　（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），　　６．８６　
（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９ＨＺ）．８．８０　　（ＩＨ．ｓ）
Ｍａｓｓ　　：　　１８７　（Ｍ＋１），　　１８６　
（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　１０７．　　８０製１ｕ艷■ アセトアニリド（１．７ｇ）、無水塩化アルミニウム（
　１０．０５ｇ　）およびニトロベンゼン（１ｒｎＱ）
の混合物を室温で３０分間攪拌する．混合物を１００℃
で攪拌し、次いで塩化３−メチル−４−二トロヘンゾイ
ル（２．７５ｇ）を加える．混合物を１００゜Ｃで２．
５時間攪拌し、水冷攪拌下水中に注ぐ．沈殿を濾取して
水および飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、真空
乾燥して、粗製４−アセトアミドー３′−メチル−４′
一二トロジフエニルケトン（４．２５ｇ、収率１１３．
３％）を得る．融点２５５℃（分解） ＩＲ　　（スジｉ−ＪＬ）　　：　　３３３０，　　１
６ｇ０．　　１６５０．　　１５９０，　　１５２０，
１３５０．　１３１０．　１２６５．　１１５０　ｃｍ
−’ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ＞
　２．１０　（３Ｈ．ｓ）．　２．５６（３Ｈ，ｓ）．
　　７．５！ｌｒ８．１３　（７Ｈ．ｍ），　　１０．
３０　（ＬＨ，ｂｓ）Ｍａｓｓ　：　　２９９　（Ｍ＋
１＞．　　２９８（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　２５７．　　２
５６．１２０ 製１ｕ４■ 製造例２７と同様にして、４−クロロ−２−シアノニト
口ベンゼンおよび４−ニトロフェノールから出発して、
３−シアノー４．４′−ジニトロジフエニルエーテル（
６．２７ｇ、収率４２．８％）を得る． 融点：　１２０−１２５℃（分解） ＩＲ　　（ス九−ル）　　：　　１６１０．　　１５９
０，　　１５２０．　　１３４５．１２５０　ａｍ”” ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　：
　７．３０−７．５０　（３Ｈ，ｍ）．７．６３　（Ｉ
Ｈ．ｄｄ．Ｊ＝３Ｈｚ．　６Ｈｚ＞．　８．００　（Ｉ
Ｈ，ｄＪ＝３Ｈｚ＞．　８．２０−８．４０　（４Ｈ．
ｍ＞Ｍａｓｓ　：　２８６　（Ｍ＋１）．　２８５　（
Ｍ），　ｍ／ｅ　２６０．　２３０製』Ｕ艷ｌ ４−アミノー３−クロロニト口ベンゼン（１２．７３ｇ
〉の酢５１　（　７０ｍｍ　）中混合物に、塩化４−ア
セトアミドベンゼンスルホニル（　１７．３２ｇ　）お
よび無水酢酸ナトリウム（２１ｇ）を攪拌下１００゜Ｃ
で加える．涙合物を攪拌下氷水中に注ぐ。沈殿を濾取、
水洗、真空乾燥して固体を得る．固体をシリカゲル（シ
リカゲル６０，　７０−２３０メッシュ、メルク社製）
　（　４５０ｇ　）を使用するカラムクロマトグラフィ
ーに付し、ジクロロメタンとアセトンとの混液（１０：
１）で溶出する．目的化合物を含む画分を合わせ、減圧
濃縮して、４−アセトアミドーＮ−（２−クＩ１ロ−４
−二トロフエニル）ヘンゼンスルホンアミド（２．７０
１Ｈ、収率ｌ３．８％冫を得る．融点２１０−２１３℃ ＩＲ　　（ス九−ル）　　３３５０．　　１７００．　
　１５９５．　　１５３５．１３４５　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　２
．１０　（３Ｈ．ｓ）．　７．６２（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝８
Ｈｚ＞．　７．８０　（４Ｈ．ｂｓ），　８．２０　（
２Ｈ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ），　　　１２．３５　　（１｝
１．ｓ）Ｍａｓｓ　　：　　３７３　　（Ｍ＋３＞．３
７２　（Ｍ＋２＞．３７１　　（Ｍ＋１）．３７０　（
Ｍ），　　ｍ／ｅ　３２７．　　２６２，　　２０６．
　　１９８製造例１９ ４−ニトロ−２−クロローＮ−メチルアニリン（　１６
．０ｇ　）およびジ〆チルアニリン（　ａｏｍｎ　）の
混合物に、塩化４−アセトアミドベンゼンスルホニル（
　１９．０ｇ　）を攪拌下９０℃で少量ずつ分割して加
える．ａ合物を９０゜Ｃに３時間加熱し、水冷攪拌下６
Ｎ塩酸でｐＨ１．０に調整する。沈殿を濾取、水虎、真
空乾燥して固体を得る．固体をシリカゲル（和光ゲルＣ
　−　２００、１００−２００メノシュ、和光純薬社製
）（３７０ｇ）を使用するカラムクロマトグ２フィーに
付し、クロロホルムとメタノールとの混１＆（３０：１
＞で溶出１る．目的化合物を含む画分を合わせ、減圧濃
縮して、４−アセトアミド−Ｎ一（２−クロロー４−ニ
トロフエニル）−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド（
２、９５ｇ１収率９，５％）を得る． 融点１４８−１５０’Ｃ ＩＲ　　（スジｉ−Ｊ　　’　　３３５０．　　１７１
０，　　１６８５，　　１５９５．　　１５３５１３５
０．　１３１５　ｃｒｔｈ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　２．１２　（３Ｈ．ｓ），　３．１５（３Ｈ，ｓ）．
　　７．０１−７．９３　（７Ｈ，ｍ）．　　１０．３
７　（ＩＨ．ｂｓ）Ｍａｓｓ　　：　　３８５　（Ｍ＋
２）．　　３８４　（Ｍ＋１）．　　３８３　（Ｍ）．
ｍ／ａ　３６９，　　３１８，　　３０４製造例２０ ３．４−ジクロロニト口ベンゼン（５．７１）ｌｉ！酸
カリウム（６．０ｇ）とのＮ．Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（　４５１１１１１　”）中混合物に、４−ニトロチ
才フェノール（５．Ｏｇ）を攪拌下窒素ガスを吹込みな
がら加える．混合物を攪拌下窒素ガスを吹込みなから９
０’Ｃに２，５時間加熱する．反応混合物を氷水中に注
ぎ、溶液を水冷下ＩＮ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ１
０に調製する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、硫化
２−クロロ−４，４′−ジニトロジフェニル（５．５ｇ
）（融点１４４−１４６℃）を得る．上記濾液をクロロ
ホルムで抽出して水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥する
．硫酸マグネシウムを濾去後、濾液を減圧濃縮して、硫
化２−クロロ−４．４′−ジニトロジフエニル（２．１
ｇ，融点１４３一１４４℃）を得る． ＩＲ　　（スジａ−４）　　１６００．　　１５７０．
　　１５２５，　　１５１０，１３４５　ｃｍ”” ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ），　
７．４３　（ＬＨ．ｄ．Ｃ９Ｈｚ），７．７３　（２｝
１．ｄ，Ｊ：９Ｈｚ＞，　　８．１０−８．５０　（４
Ｈ．ｍ）Ｍａｓｓ　　：　　３１４　（Ｍ＋３＞，　　
３１３　（Ｍ＋２）．　　３１２　（Ｍａ１），３１１
　　（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　２８０．　　２１７梨１己４
麩 硫化２−クロロ−４．４’　−’，；ニトロジフェニル
（５．４ｇ）のジクロロメタン（　５５ｍｌ！　）溶液
に、３−クロロ過安息香＃（４．１ｇ）のジクロ口メタ
ン（　７０ｍＱ　）溶液を水冷攪拌下５°Ｃで滴下する
．混合物を水冷下５℃で３時間攪拌する．反応混合物を
Ｉ　Ｎ＊酸化ナトリウム水溶液および水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥する．硫酸マグネシウムで濾去後、
濾液を減圧濃縮して、２−クロロー４．４′　−ジニト
ロジフェニルスルホキシド（５．５５ｇ，収率９７、９
％）を得る．融点１６０−　１６１゜Ｃ（分解） ＩＲ　　（Ｘ！；＊−４）　　１６０５，　　１５４５
．　　１５２０．　　１３７０−１３４５　　ａｍ−’
ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　８
．０７　（３Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．８．２０−８．５
０　（４Ｈ．ａ＋） Ｍａｓｓ　　：　　３２９　（Ｍ＋３＞．　　３２８　
（Ｍ＋２）．　　３２７　（Ｍａ１）．３２６　（Ｍ）
．　ｖａｌｅ　３１０．　　２８０製造例２２ ４−ニトロアニリン（５．０ｇ）のテトラヒドロフラン
（　５０ｍｌ　）および水（　２ＳＩＩＱ　）の混合物
溶液に、塩化４−ニトロベンゾイル（９．０ｇ）を水冷
攪拌下、ｌＯ％炭酸ナトリウムでｐＨを８−９の間に保
ちながら滴下する．混合物を同条件で３時間攪拌し、威
圧濃縮する．残渣を水で粉砕する．沈殿を濾取して水酸
化ナトリウム水溶液、希塩酸および水で洗浄し、真空乾
燥して、４．４″　−ジニトロペンズアニリド（６．６
８１収率６４．２％）を得る． 融点２６５−２６８℃（分解） ＩＲ　　（Ｘジ＠−１）　　：　　３３７５．　　１６
８５．　　１６１５．　　１６００．　　１５５０．１
３４０　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ），　
７．９２−８．５０　（８Ｈ．ｍ）．１１．００　（Ｌ
Ｈ．ｓ） Ｍａｓｓ　　：　　２８８　　（Ｍ＋１）．２８７　　
（Ｍ）．ｍ／ｅ　１５０．１２０，１０４ 製１Ｕ艷η 塩化４−ニトロベンゾイル（６．５ｇ）、２−クロロ−
４−ニトロアニリン（６．１ｇ）および１．８一ジアザ
ピシク口［５。４．０コー７−ウンデセン（６．５１１
１１）（７）ヘキサメｆルホスホラミド（　６５ｍｌ１
　）中混合物を攪拌下１００°Ｃに６．５時間加熱する
．反応混合物を攪拌下氷水中に注ぐ。沈殿を濾取してＩ
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液、１０％塩酸および水テ洗浄
し、真空乾燥して，４．４’　−ジニトロ−２′−クロ
ロペンズアニリド（６．７ｇ，収率５９，５％）を得る
． 融点１９４−　１９８゜Ｃ ＩＲ　　（スジシール”）　　３４００．　　１６９５
，　　１６０５．　　１５９５，　　１５１５．１３３
０　ａｍ’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）．　
８．１０−８．５０　（７Ｈ，ｍ），１０．７０　（Ｉ
Ｈ．ｓ） Ｍａｓｓ　　：　３２４　（Ｍ＋２）．　　３２３　（
Ｍ＋１）．　　３２２　（Ｍ）．ｍ／ａ　２８６．１５
０ 製１０艷ハ 硫化４−ニトＣｌ−４’　−アミノジフエニル〈２．５
ｇ〉のアセトニトリル（　２５ｄ　）中混合物に、イソ
シアン酸クロロスルホニル（１．５ｇ）のアセトニトリ
ル（２１１１Ｑ）溶液を水冷攪拌下３℃で滴下する．混
合物を室温で１．５時間攪拌後、反応混合物を水（１．
５ｆｆｌＱ）とアセトニトリル（１。５１Ｑ）との混合
物に滴下する．混合物を常温で１８時間攪拌し、反応混
合物を攪拌下氷水中に注ぐ．沈殿を濾取、水洗、真空乾
燥して、硫化４−ニトロ−４′−ウレイドジフェニル（
２−　５　ｇ　％収率８６．５％〉を得る．融点２９５
°Ｃ（分解） ＩＲ　　（Ｚ’；ｗ−ル）　　：　　３４９Ｇ。　３３
５０．　　３２００．　　１６７５．　　１５９５．１
５８Ｇ．　１５３０．　１３４０　ｃｏｂ−ｌＭａｓｓ
　：　２９Ｇ　（Ｍ＋１）．　２８９　（Ｍ）．　ａｌ
ｅ　２７２．　２４６鮭濃塑Ｍ 硫化４−ニトロ−４′−ウレイドジフエニル（２．５ｇ
）のジクロロメタン（２５１１１　）、クロロホルム（
　２５ｆｆｌｌ＋　）およびＮ．Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（　１０ｍｌ！　）のａ合溶媒中混合物に、３−ク
ロロ過安息香酸（２．８６ｇ）のジクロロメタン（　５
０ｍＡ　）溶液を攪拌下５゜Ｃで滴下する．混合物を水
冷下５゜Ｃで４時間攪拌する．反応混合物を水酸化ナト
リウム希水溶液および水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥する．硫酸マグネシウムを濾去後、濾液の溶媒を減
圧下に留去して、４−ニトロ−４′ウレイドジフエニル
スルホキシド（１．０ｇ，収率３７．９％）を得る． 融点１１３−　１１５℃ ＩＲ　　（スジョー０　３４２０，　　３２００．　　
１７１５．　　１６７０，　　１５９０，１５３５．　
１３５０　ｃｍ’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ＞　６
．０７　（２Ｈ．ｄ．Ｊ：８Ｈｚ）．７．６０−８．５
０　（８Ｈ．ｍ），　７．７６　（２Ｈ．ｄ．Ｊ：７Ｈ
ｚ），８、００　（２Ｈ．ｍ＞．　８．２７　（２Ｈ．
ｄ．Ｊ＝７Ｈｚ）．　９．１７（ＩＨ．ｓ） Ｍａｓｓ　：　３０５　（Ｍ）．　ｍ／ｅ　２８９，　
２７８．　２４０型』Ｉｉ並 ４−アミノー４′　一二トロジフェニルケトン（０．２
４ｇ）のアセトニトリル（　１０ｆｆｌｌ！　）とテト
ラヒド口フラン（　１１１１１）との混合物溶液に、イ
ソシアン酸クロロスルホニル（０．２３ｇ）を攬ＩＩ’
下５゜Ｃで滴下する．反応混合物を室温で１．５時間攪
拌後、水（１ｍｌ）をこの溶液に加える．反応混合物を
室温で１６時間攪拌する．反応混合物を減圧下に蒸発乾
固して固体を得る．固体をシリカゲル（シリカゲル６０
、７Ｑ−　２３０メッシュ、メルク社製）　（１０ｇ　
）を使用するカラムクロマトグラフイーに付し、ジクロ
ロメタンとアセトンとの混液（５：１）で溶出する．目
的化合物を含む画分を合わせ、蒸発乾固して、４−ウレ
イド−４′一二トロジフェニルケトン（０．１８ｇ，収
率６３．２％）を得る．ＩＲ　　（スジ＊−Ｌ’）　　
：　　３４００．　　３３００．　　３２００．　　１
７１０．　　１６９０，１６５０，　１５３０．　１３
４５　ｃｍ−’ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ
．ｐｐａ＋）　：　６．０７　（２Ｈ．ｓ）．　７．６
７（４Ｈ．ｍ）．　７．８７　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ
＞．　８．３７　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ＞．　９．０
４　（ＩＨ．ｓ）製１０４ζ ３．４−ジクロロニトロベンゼン（１．９２ｇ）、２−
クロロ−４一二トロフェノール（１．７３ｇ）および炭
酸カリウム（２．６ｇ）のＮ．Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（　３０１１１Ｑ　）中混合物を攪拌下２０時間還流
する．反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水で粉砕する．
沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して固体を得る．固体をシ
リカゲノレ（シリカゲＪレ６０、７０−２３０メッシュ
、メルク社製）　（　１００ｇ　）を使用する力ラムク
ロマトグラフィーに付し、酢酸エチルとｎ一ヘキサンと
の混液（　１　：　１０）で溶出する．目的化合物を含
む画分を合わせ、減圧濃縮して、４４′　−ジニトロ−
２．２′　−ジクロロジフェニル工一テル（３．０ｇ、
収率９１．５％）を得る．融点：　１４７−１４８℃ ＩＲ　　（スジａ−Ｌ）　　’　　１６０５，　　１５
８０．　　１５２５，　　１３５０，１２６５　ａ１１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　：
　７．４０　＜２８．ｄ．Ｃ９Ｈｚ），　８．２７　（
２Ｈ，ｄｄ．Ｊ＝３Ｈｚ．　９Ｈｚ），　８．５５（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ） Ｍａｓｓ　　：　　３３２　（Ｍ＋４）．３３１　　（
Ｍ＋３）．３３０　（Ｍ＋２＞．３２９　　（Ｍ＋１＞
．３２ｇ　　（Ｍ），ｍ／ａ　２９８．２３６．１７３ 製造例２８ 製造例２７と同様にして、４−クロロニトロベンゼンお
よび３−メチル−４一二トロフェノールから出発して、
３−メチル−４．４′−ジニトロジフエニルエーテル（
４．３ｇ，　収率４９．４％）ヲ得る． 融点：　９０−１００℃ ＩＲ　　（スジ１−ル）　　：　　１６１０，　　１５
９５，　　１５７５．　　１５１５．　　１３４５．１
２４５　ａｍ’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０Ｍ｝Ｉｚ．ｐｐｍ）　
：　２．５３　（３Ｈ．ｓ）．７．０３−７．５０　（
４Ｈ．ａ＋）．　８．０１−８．４７　（３Ｈ．ｍ＞Ｍ
ａｓｓ　：　２７５　（ＩＤＩ）．　２７４　（Ｍ）．
　ｍ／ｅ　２５７．　２１１製造例２９ 製造例２７と同様にして、４−クロロニトロベンゼンお
よび３．５−ジメチル−４一二トロフェノールから出発
して、３．５−ジメチル−４．４′−ジニトロジフエニ
ルエーテル（６．５ｇ　，　収率７５．２％）を得る． 融点Ｆ　１７４−１７５℃ ＩＲ　　（スジ■−ル）　　：　　１６１０．　　１５
ｇ５，　　１５３０，　　１３５０，　　１３１０．１
２９０　ａｍ−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０Ｍ｝Ｉｚ．ｐｐｍ）　
：　２．２７　（６Ｈ，ｓ）．　７．１３（２Ｈ，ｓ）
，　７．２５　（２Ｈ，ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ），　８．３０
　（２Ｈ，ｄ．Ｊ＝９ＨＺ） Ｍａｓｓ　　：　　２８９　（Ｍ＋１），　　２８８　
　（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　２７１．　　２５８，２２６．
　　１９６ 製１目生抑 ４−ニトロ−４′−アミノジフエニルエーテル（６．９
ｇ）のアセトニトリル（　７ｏｍＱ）中混合物に、イン
シアン酸クロロスルホニル（４．５ｇ）のアセトニトリ
ル（　１ｏｍＱ）溶液を水冷攪拌下３℃で滴下する．混
合物を室温で２．５時間攪拌する．反応混合物に水（　
５　ｍＱ　）とアセトニトリル（　５　ｍＮ　）との混
合物を加え、次いで混合物を常温で１６時間攪拌する．
反応混合物を氷水中に注ぎ、沈殿を濾取、水洗、真空乾
燥して、４−ニトロ−４′−ウレイドジフェニルエーテ
ル（７．１ｇ、収率８６．７％）を得る． 融点：　１８５−１８８℃ ＩＲ　　（ヌジ９−４）　　：　　３５００，　　３３
５０，　　３２７０．　　１６８０．　　１５９５，１
５４５．　１３５０　ａｍ’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　：
　５．７５　（２｝１．ｂｓ），７．００−７．３０　
（４Ｈ．ｍ），　７．５７　（２Ｈ．ｄ，Ｊ：９｝１ｚ
）．８．２７　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ），　８．６７
　＜ＩＨ，ｓ）Ｍａｓｓ　：　２７４　（Ｍ＋１），　
２７３　（Ｍ），　ｍ／ｅ　２５６．　２３０．１８４ 製造例３１ 製造例２７と同様にして、４−フルオロ−２−メテルニ
トロベンゼンおよび３−メチル−４一二トロフェノール
から出発して、３．３’　−ジメチル−４．４’　−ジ
ニトロジフエニルエーテル（　１０．１ｇ、収率１０９
％）を得る． 融点；　９５−ｉｏ１℃ ＩＲ　　（１”ｉ−４）　　：　　１５７５，　　１５
１５，　　１４６０．　　１３４５．１２５５　ａｍ−
’ ＮＭＲ　（ＣＤＣＩ３＋ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．
ｐｐｍ）　：　２．６３　（６Ｈ．ｓ）．　６．９０−
７．１０　（４Ｈ，ｍ）．　８．１０　（２Ｈ．ｄ．Ｊ
：９Ｈｚ）Ｍａｓｓ　　；　　２８９　（Ｍ＋１）．　
　２８ｇ　（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　２７１．　　２５８．
２２５ 製』ｕｉ共 ４−アミノテオフエノール（５ｇ）、３．４ジクロロニ
トロベンゼン（８ｇ）および炭酸カノウム（ｌｌｇ）の
Ｎ．Ｎ−ジメテルホルムアミド（　５０１Ｑ　）中混合
物を、窒素ガス気流中８０″Ｃで２時間攪拌する．反応
混合物を撹拌下氷水中に注ぐ．沈殿を濾取、水洗、真空
乾燥して、硫化２−クロロ−４−二トロ−４′　−アミ
ノジフェニル（　１１．７ｇ１収率１０４．　４％）を
得る． 融点：　１３２−１３３℃ ＩＲ　　（Ｘジａ−１）　　：　　３４５０．　　３３
５０．　　１６３０．　　１５９５．　　１５６５．１
３４０　ｃ１１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　５．８Ｇ　（２Ｈ．ｓ）．６．６７−６．９０　（３
Ｈ，ｍ），　７．３　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞，８．
００−８．３３　（２Ｈ．ｍ） Ｍａｓｓ　：　２８３　（Ｍ＋３＞．　２８２　（Ｍ＋
２）．　２８１　（Ｍ＋１＞．２８０　（Ｍ），　ｍ／
ｅ　２３４．　１９９？』ｌｌ■ 硫化４−アミノー２′−クロロ−４′一二トロジフェニ
ル（１１．５ｇ）の酢酸（　１００＋１１１１　）溶液
に、無水酢酸（４．５ｇ）を水冷攪拌下５゜Ｃで滴下す
る．混合物を室温で２時間攪拌する．反応混合物を水冷
攪拌下水中に注ぐ．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、
硫化４−アセトアミド−２′−クロロー４′一二トロジ
フエニル（　１４．２ｇ　，収率９８．５％）を得る． 融点＋　１４３−１４５℃ ＩＲ　　（スジａ−ル）　　：　　３６２０，　　３３
００．　　１６８０．　　１６１０．　　１５９５．１
５４０．　１３５０　ａｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　２．１７　（３Ｈ，ｓ），　６．８３（ＩＨ．ｄ．Ｊ
＝９Ｈｚ）．　７．６０　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．
　７．９０（２Ｈ．ｄ，Ｊ：９Ｈｚ）．　８．１２　（
ＩＨ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞．　８．３３（ＩＨ．ｄ．Ｊ：
３Ｈｚ）．　　１０．３０　　（ＩＨ．ｓ）Ｍａｓｓ　
：　３２５　（Ｍ＋３）．　３２４　（Ｍ＋２＞．　３
２３　（Ｍ＋１）．３２２　（Ｍ）．　Ｉｍ／ｅ　２８
０．　２３４製』０艷Ｂ 製造例２７と同様にして、４−クロロー２−シアノニト
口ベンゼンおよび４−アミノフェノールから出発して、
４−アミノー３′−シアノー４′ニトロジフェニルエー
テル（　５．４４ｇ　，　収率７８．１％）を得る． ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　５．１６　（２Ｈ．ｓ）．６．５０−６．９０　（５
Ｈ．ｍ），　７．２０　（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝３Ｈｚ，６
Ｈｚ）．　８．３０　（１１，ｄ，Ｊ＝９｝１ｚ）Ｍａ
ｓｓ　：　２５６　（Ｍａ１）．　２５５　（Ｍ）．　
ｍ／ｅ　２０９．　１０８紅圭盟量 ４−アミノー４゛一二トロジフェニルエーテル（４．６
ｇ）およびトリエチルアミン（２ｇ）のジクロロメタン
（　５０ｍｌ！　）中混合物に、無水トリフル才ロメタ
ンスルホン酸（３．１ｇ）を氷冷攪拌下５゜Ｃで滴下す
る．混合物を攪拌下３時間還流し、反応混合物を氷水中
に注ぐ．混合物をクロロホルムで抽出し、Ｊ［水素ナト
リウム水溶戒、希塩酸および水で洗浄して硫酸マグネシ
ウムで乾燥する．硫酸マグネシウムを濾去後、濾液を減
圧濃縮し、残渣をｎ−ヘキサンで粉砕する．沈殿を濾取
してｎ−ヘキサンで洗浄し、真空乾燥して、４−トリプ
ル才ロメタンスルホニルアミノ−４′一二トロジフエニ
ルエーテル（　４．２ｇ　．　収率５８．０％）ヲ得る
． 融点：６０−６２℃ ＩＲ　　（スジ）一ル）　　＋　　３２９０．　　１６
１５．　　１５９５．　　１５２０．　　１４１５．１
２１５　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ，ｐｐｍ＞　：
　７．１８　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝１２Ｈｚ＞．　７．２７
　（２Ｈ，ｄ．Ｊ＝１２Ｈｚ）．　７．４３　（２８，
ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），　８．３２　（２｝１，ｄ．Ｊ＝
１２Ｈｚ）Ｍａｓｓ　：　３６３　（Ｍ＋１＞．　３６
２　（Ｍ），　ｍ／ｅ　３３２．　２２９製ＪＪＬ坦 製造例２７と同様にして、４−クロロ−２−メトキシニ
トロベンゼンおよび４−アミノフェ／　一ルから出発し
て、４−アミノー３′−メトキシ−４′一二トロジフェ
ニルエーテル（６．９４ｇ，収率８９．０％）を得る． 融点：　１４０−１４２℃ ＩＲ　　（スジ曹一ル）　　：　　３４７０．　　３３
ｇ０．　　１６２０．　　１５７５，　　１５１５．１
３５０　ｃｍ−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）ｉ　
３．８６　（３Ｈ．ｓ），　５．１０（２Ｈ，ｓ），　
　６．４０　（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝３Ｈｚ，　　６Ｈｚ）
，　　６．６０（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　６．７５
−６．９０　（３Ｈ，ｍ），　７．９０（ＩＨ，ｄ，Ｊ
＝９Ｈｚ） Ｍａｓｓ　　：　　２６１　　（Ｍ＋１），　　２６０
　（Ｍ），　　ｍ／ｅ　２２９，　　２１３，１８４ 製１ｕｉｖ ゜製造例２７と同様にして、４−フル才口−３−メデル
ニトロベンゼンおよび２−メチル−４一二トロフェノー
ルから出発して、２．２’　−ジメチル−４．４’　−
ジニトロジフエニルエーテル（５．７４ｇ１収率８４．
９％）を得る． 融点：　１４０−１４２℃ ＩＲ　　（スジ穿−ル）　　：　　１６３５．　　１５
Ｂ０．　　１５１０．　　１３５０．　　１２４５．１
１９０　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　２．３８　（６Ｈ．ｓ），７．０８　（２Ｈ．ｄ．Ｊ
＝９Ｈｚ），　８．０３−８．４３　（４｝１．ｍ＞Ｍ
ａｓｓ　：　２８９　（Ｍ＋１）．　２８８　（｝ｉ）
，　ｍ／ｅ　２５８．　１９５．１５２ 製１ｕｌＩ 製造例２７と同様にして、４−クロロー３−ジフェニル
メトキシ力ルポニルニト口ベンゼンおよび４−ニトロフ
ェノールから出発して、２−ジフエニルメトキシ力ルポ
斗ルー４．４゛−ジニトロジフエニルエーテル（１８．
９６ｇ　，収率１０３．９％）を得る． 融点：　１３３−１４０℃ ＩＲ　　（スジシール）　　：　　１７２Ｇ．　　１６
１５．　　１５１１０．　　１５２０，　　１３５０．
１２８０．　１２５５　ｃｍ” ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　７．０８−７．６３　（１４Ｈ，ｍ），　８．２０−
８．８７　（４｝１．ｓ）Ｍａｓｓ　：’ａ＋／ｅ　４
４０．　４１０，　３６０，　２６０．　２３０製Ｅ１
艷Ｉ 製造例２７と同様にして、４−クロロー３−シアノニト
ロベンゼンわよび４−ニトロフェノールカら出発して、
２−シアノー４．４′　−ジニトロジフェニルエーテル
（２９．７８ｇ，収率８２．９％）を得る． 融点：　１３５−１４２℃ ＩＲ　　（スジ脅一ル）　　：　　２２５０，　　１６
１５．　　１５ｇ５．１２７５．　　１２５５．１２０
０ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ．ｐｐｍ＞　’
　７．３８Ｊ＝９Ｈｚ＞，　　７．５８　（２Ｈ．ｄ．
Ｊ＝９Ｈｚ＞．（３Ｈ劃） Ｍａｓｓ　：　２８６　（Ｍ＋１＞，　　２８５　（ｔ
ｌ＞．１６８．　　１３９ ｍ／ｅ　２６（Ｌ １５３０．　　１３５０， 。，−１ （２Ｈ．　ｄ． ８．　２７−８．　５３ ２３０， （以下余白） 製１出艷籾 製造例１６と同様にして、アセトアニリドおよび塩化２
−１口ロー４−二トロベンゾイルから出発して、４−ア
セトアミドー２′−クロロ−４′ニトロジフェニルケト
ン（１９。７１ｇ，　収率８７．３％）を得る． 融点：　１５６−１８３℃ ＩＲ　　（スジａ−ル）　　：　　３２４０．　　３１
５０．　　１６７５．　　１５９５．　　１５４０．１
４１０．　１３１５．　１２９０．　１２７０　ｃｍ”
ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　２．Ｌ３　（３１｛．ｓ）．７．７３−８．５７　（
７Ｈ．ｍ）．　１０．４５　（ｌＨ．ｂｓ）Ｍａｓｓ　
：　３２Ｇ　（Ｍ＋２）．　３１９　（Ｍ＋１）．　３
１ｇ　（Ｍ）．ｍ／ｅ　２７８．　２７６，　１２０ 型』巳４ｌ 製造例１６と同様にして、３−メチルアセトアニノドお
よび塩化４−ニトロベンゾイルから出発して、４−アセ
トアミドー２−メチル−４′　一二トロジフェニルケト
ン（３．８ｇ，収率９５．Ｏ％）を得る． 融点：　１５８−１７０℃ ＩＲ　　（スジ會一ル）　　Ｆ　　３３２０．　　１６
７０．　　１５８５．　　１５２０．　　１４００．１
３２０．　１２６０　ａ１ｌ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　’
　２．１３　（３Ｌｓ）．　２．４０（３Ｈ．ｓ），　
７．２７−７．７７　（３｝１．ｍ），　７．９２　（
２Ｈ．ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ＞．　　８．３８　　（２｝１．
ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ）．　　１０．２５（ＩＨ．ｂｓ） Ｍａｓｓ　：　　２９９　（Ｍ＋１），　　２９８　（
Ｍ）．　　ａｌｅ　２ｇ１，　　２５６，２０９．　　
１８０ 製１己４０ 製造例１６と同様にして、２−メチルアセトアニノドお
よび塩化３−メチル−４−ニトロベンゾイルから出発し
て、４−アセトアミドー４′一二トロ−３．３′　−ジ
メデルジフェニルケトン（９．３５ｇ１収率８９．３％
）を得る． ＩＲ　　（二−｝）　　　：　　３２５０，　　　１６
６０．　　　１６１０．　　　１５８０．　　　１５２
５，１４５０．　１３５０．　１３１５．　１２７０，
１１８５　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　２．３５　（３Ｈ．ｓ）．　２．６０（３Ｈ．ｓ）．
　７．４７−７．９７　（６Ｈ．ｍ）．　９．４８　＜
ＩＨ，ｂｓ）Ｍａｓｓ　：　３１３　（Ｍ＋１）．　３
１２　（Ｍ）．　ｍ／ｅ　２９５．　２５０．１７７，
　　１４９，　　１３４ 製

【ｕ４０ ４−アセトアミド−４１−ニトロジフェニルケトン（８
．０ｇ）およびＮ−クロロスクシンイミド（　１５．０
２ｇ　）のジ才キサン（　１６０１１１　）中混合物を
８０℃に３８時間加熱する．反応混合物を攪拌下水（６
００一〉中に注ぐ．沈殿を濾取、水洗、風乾して固体を
得る．固体をシリカゲル（シリカゲル６０，　７０−２
３０メッシュ、メルク社製）（２５０ｇ）を使用するカ
ラムクロマトグラフィーにイオし、クロロホＪレムで溶
出する．目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下に蒸発
乾固して、４−アセトアミドー３。 ５−ジクロロ−４゛　一二トロジフェニルケトン（３．
０ｇ、収率３０．２％）を得る．融点：　１１ｇ−１２
０℃ ＩＲ　　（スジａ−Ｌ＞　　：　　３３ｇ０．　　１７
０５．　　１６５０．　　１５９０．　　１５１５，１
３５５．　１３２０．　１２７０　ａｒｍ−’ＮＭＲ　
（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：　２．２
１　（３｝１．ｓ）．７．６０−８．４３　（６Ｈ．ｂ
ｓ） Ｍａｓｓ　：　３５４　（Ｍａ１）．　３５３　（Ｍ）
．　ｍ／ｅ　３１８．　２８５．２７６，　　１５４ 製ＪＪＬり ４−アセトアミド−４′−ニトｃ７−３＋５−ジクロ口
ジフエニルケトン（１２．３ｇ）の濃塩酸（２５ｍＱ　
）とエタノール（　１５０ｍｌｌ　）との混合溶媒中混
合物を攪拌下５時間還流する．反応混合物を減圧濃縮し
、残渣を水に溶解する．溶液を水冷下ＩＮ水酸化ナトリ
ウム水溶液でｐＨｌＧに調整する．沈殿を濾取、水洗、
風乾して固体を得る．固体をシリカゲル（シリカゲル６
０、２３０−４００メッシュ、メルク社製）（４００ｇ
）を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、ジクロ
ロメタンとアセトンとの混液（３０：１）で溶出する．
目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下に蒸発乾固して
、４−アミノー３．５−ジクロロ−４′−ニトロジフェ
ニルケトン（Ｌ５６ｇ，収率７９．０％）を得る．融点
：　１６１−１６３℃ ＩＲ　　（スジａ−４）　　：　　３４００．　　１６
２０，　　１５８０．　　１５１５．　　１３５０．１
２９０．　１２６０　ａｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ，．６０Ｍ｝ｌｚ．ｐｐｍ）　
’　６．５８　（２Ｈ．ｂｓ），７．９２　（ＩＨ．ｄ
．Ｊ＝９Ｈｚ）．　７．４７−８．０３　（３Ｈ．ｍ）
．８．４０　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ） Ｍａｓｓ　　：　　ｍ／ｅ　２９４．２５０，２３７，
２２３，１８１製』０艷峠 ２．６−ジメチルアセトアニリド（１．０ｇ）およヒ塩
化アルミニウム（４．９１ｇ）のニトロベンゼン（２１
１！）中混合物を常温で０．５時間攪拌し、次いで塩化
４−ニトロベンゾイル（１．２５ｇ）を攪拌下８０℃で
少量ずつ分割して加える．混合物を攪拌下１００″Ｃに
１．５時間加熱する．反応混合物を氷水中に注ぎ、室温
で１時間攪拌する．沈殿を減圧下に濾取する．沈殿を室
温でエタノールより粉砕し、濾取してエタノールで洗浄
し、真空乾燥して、４一アセトアミドー３．５−ジメチ
ル−４′一二トロジフェニルケトン（０．９ｇ，収率４
７．Ｏ％》を得る．融点：　１７７−１７８”Ｃ ＩＲ　　（１！’＃−４）　　：　３２５０．　　１６
７０．　　１８４５．　　１６００．　　１５２５，１
３４７　ｃ１１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　２．１３　（６Ｈ．ｓ）．　２．２８（３Ｈ．ｓ）．
　７．７３　（ＩＨ．ｄ．Ｊ＝７Ｈｚ）．　７．９３　
（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞．　　８．２５　（ＩＨ，ｄ
，Ｊ：７Ｈｚ），　　８．３６　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈ
Ｚ＞ Ｍａｓｓ　　：　　３１３　（Ｍ＋１），　　３１２　
（Ｍ），　　ｍ／ｅ　２９５．　　２６９，２５３．　
　２２３ 製造例４６ ２−メチルアセトアニリド（３０ｇ）および塩化アルミ
ニウム（１６１ｇ）のニトロベンゼン（２〇一）中混合
物を常温で０．５時間攪拌し、次いで塩化４−ニトロベ
ンゾイル（４１ｇ）を攪拌下８０℃で少量ずつ分割して
加える． 混合物を攪拌下１００゜Ｃに２時間加熱する．反応混合
物を氷水中に注ぎ、室温で１時間攪拌する．沈殿を減圧
下に濾取し、固体を室温で攪拌下エタノールにより粉砕
する． 沈殿を濾取してエタノールで洗浄し、真杢乾燥して、４
−アセトアミドー３−メチル−４′一二トロジフェニル
ケトン（２６．９７ｇ，収率４５．Ｏ％）を得る． 融点：　１２５−１４５℃ ＩＲ　　（２ジ碕−Ｌ＞　　ｊ　　３３２０．　　３２
２０．　　１６６５，　　１６００．　　１５２５．１
３５０．　１２８５．　１２６５　ａｍ−１ＮＭＲ　（
ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　’　２．１０
　（３Ｈ．ｓ）．　２．３７＜３Ｈ．ｓ）．　　７．５
０　（ＬＨ，ｂ−ｓ）．　　７．７６　（ＩＨ．ｄ．Ｊ
：７Ｈｚ）．　　７．８３−８．０７　（３Ｈ．ｍ）Ｍ
ａｓｓ　　：　　２９９　（Ｍ＋１）．　　２９８　（
Ｍ）．　　ｍ／ｅ　２８１，　　２６８．２５６ 製１Ｕｌぐ ４−アセトアミド−３−メチル−４′　−ニトロジフェ
ニルケトン（　２６．９ｇ　）　＋７）エタノール（５
４０ｍｌｌ　）と濃塩ｉ！ｉｉｌ［　（　８０１１１９
　）との混合溶媒中混合物を攪拌下６時間還流する． 反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水に溶解する．溶液を
水冷攪拌下２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ１０に調
整する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、４−アミノ
ー３−メチル−４′一二トロジフェニルケトン（２２．
７５ｇ，収率９８．４％）を得る． ＩＲ　　（スジｐ−ル）　　：　　３４７０，　　３４
００，　　１６４５，　　１６２０．　　１５９０，１
５１５．　１３５２．　１３１８　ｃｒｍ−’ＮＭＲ　
（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　’　２．２
３　（３Ｈ．ｓ）．　６．６７−７．５５　（３｝１，
ｍ），　７．９７　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ＞．　８．
４３（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ＞ Ｍａｓｓ　　：　　２５７　　（Ｍ＋１），　　２５６
　　（Ｍ），　　ｍ／ｅ　２２６，　　２１０，１９５
，　　１３４ 型１裏艷鱈 無水酢＃（３．０６ｇ）とギ＃（１．３８ｇ）との混合
物を攪拌下５０℃に１時間加熱する．冷後、４−アミノ
ー３−メチル−４′　一二トロジフエニルケトン（２．
５６ｇ）をこの混合物に加える．混合物を室温で２．５
時間攪拌する． 反応混合物を氷水中に注ぎ、沈殿を濾取、水洗、真空乾
燥して、４−ホルムアミド−３−メチル−４′　一二ト
ロジフエニルケトン（２．　６８　ｇ、収率９４．４％
）を得る． 融点：　１５４−１７０℃（分解） ＩＲ　　（スジ書一ル）　　ｉ　　３４００．　　３２
５０．　　１６７０，　　１６４５．　　１６２５，１
５２０．　１３５０　ａ１１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　ｉ
　２．４０　（３Ｈ．ｓ）．　７．５０（２Ｂ，ｂ−ｓ
）．　７．６０　（ＬＨ，ｄ．Ｊ＝７｝１ｚ）．　７．
９６　（２｝１．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ＞．　８．３３　（Ｉ
Ｈ，ｓ）．　８．４０　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）．９
．８３　　（ＩＨ．ｂ−ｓ）Ｍａｓｓ　　：　　２８５
　（Ｍ＋１＞．　　２８４　　（Ｍ），　　ｍ／ｅ　２
６７．　　２５４．２３７．　　２２６ 製１畳』伊 ４−ホルムアミド−３−メチル−４′−ニトロジフエニ
ルケトン（１．０ｇ）、沃化エチル（１．０ｇ）および
炭酸カリウム（２．０ｇ）のＮ．Ｎ−ジメテルホルムア
ミド（　１９０ｍＱ　）中混合物を室温で２４時間攪拌
する． 反応混合物を水冷下水中に注ぎ、混合物を酢酸エチルで
抽出し、水洗して硫酸マグネシウムで乾燥する． 濾過後、濾液を減ＥＥａ縮して固体を得る．固イ本をシ
リカゲノレ（シリカゲル６０、７０−２３０メッシュ、
メルク社製）（５００ｇ）を使用するカラムクロマトグ
ラフィーに付し、クロロホルムで溶出する． 目的化合物を含む画分を合わせ、減圧濃縮して、４−Ｎ
一エチルホルムアミド−３−メチル−４′一二トロジフ
ェニルケトン（１．１３ｇ，　収率１０２．９％）を油
状物として得る． ＩＲ　　（フィルム）　　：　　３５００，　　３３５
０，　　３０００．　　２８Ｂ０．　　１６７０１６０
０．　１５２５，　１３５０．　１３００　ａｍ−ＩＮ
ＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：　
０．９−１．２　（３Ｈ，ｍ），２．２０　（３Ｈ．ｂ
−ｓ）．　３．６０−３．９０　（２Ｈ，ｍ）．　７．
５０−７．８３　（３Ｈ．ｍ）．　７．９０−８．２０
　（ＬＨ．ｍ）．　８．００（２Ｈ．ｄ．．Ｃ８Ｈｚ）
．　８．３３　（ＩＨ．ｓ）．　８．４３　（２８．ｄ
−，Ｊ＝８Ｈｚ＞ Ｍａｓｓ　：　３１３　（Ｍ＋１＞，　３１２　（Ｍ）
．　ｍ／ｅ　２８７，　２７４，２６９，　２２３ 製造例５０ ４−Ｎ−エチルホルムアミド−３−メチルー４′一二ト
ロジフエニルケトン（　１１．２ｇ　）のメタノール（
　２００絨）および濃塩酸（　１０ｍ１）の脱合溶媒中
混合物を攪拌下３．５時間還流する．反応混合物を減圧
濃縮する． 残渣に水を加え、溶液を水冷下２Ｎ水酸化ナトノウム水
溶液でｐＨｌｏにＭＪ！４整する．沈殿を減圧下に濾取
し、水洗、真空乾燥して固体を得る． 固体をシリカゲル（シリカゲル６０、７０−２３０メッ
シュ、メルク社製）（５００ｇ）を使用する力ラムクロ
マトグラフイーに付し、ｎ−ヘキサンと酢酸エチルとの
混液（１０：１）で溶出する．目的化合物を含む画分を
合わせ、減圧濃縮して、４−Ｎ−エチルアミノー３−メ
チル−４′二トロジフェニルケトン（５．３１ｇ，収率
５２．１％）を得る． 融点：　１４３−１４６℃ ＩＲ　　（ス九−ル）　　ｊ　　３４５０，　　１６５
０．　　１６０Ｇ．　　１５２０．　　１３５０．１２
６５　ａ１１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　：
　１．２７　（３Ｈ．ｔ．Ｊ＝７Ｈｚ）．　２．２７　
（３Ｈ，ｓ），　３．００−３．５０　（２Ｈ．ＩＩ１
）．５．２０　（ＩＨ．ｔ．Ｊ＝６Ｈｚ），　６．８３
−７．０７　（２Ｈ．ｍ），７．２７　（ＩＨ．ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ＞．　７．９７　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ＞．
８．４３　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ） Ｍａｓｓ　：　２８５　（Ｍ＋１），　２８４　（Ｍ）
，　ｍ／ｅ　２６９，　２５４，２３９．　２２３ 製１ｕｌ■ 塩化４−アセトアミドベンジル（ｌｌｇ）、４一二トロ
チ才フェノール（９．５ｇ）および炭酸カリウム（１３
ｇ）のＮ．Ｎ−ジメチルホルムアミド（　ｘｏｏｍｕ　
）中混合物を攪拌下１００゜Ｃに３時間加熱する．反応
混合物を氷水中に注ぎ、次いで混合物を水冷下１時間攪
拌する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、硫化４−ア
セトアミドベンジル＝４′二トロフェニル（１５．５ｇ
，収率８５．４％）を得る． 融点：　１７５−１８０℃（分解） ＩＲ　　（Ｘ９＊−ＩＬ）　　：　　３４００，　　１
６６５，　　１６００．　　１５４５．１３４０　ｃａ
＋−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０Ｍ｝Ｉｚ．ｐｐｍ）　
：　２．０３　（３Ｈ．ｓ），　４．４０（２Ｈ．ｓ）
．　　７．３６−７．６７　（４Ｈ．ｍ）．　　７．６
０　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），　　８．１７　（２１
，ｄ．Ｊ：８Ｈｚ＞．　　９．９０　（ＩＨ，ｓ）Ｍａ
ｓｓ　：　Ｍ４″’　３０３，　Ｍ　３０２，　ＩＩＩ
／ｅ　２７０，　２５９，　２２８．１４８ 梨ＩＬ坐 製造例１６と同様にして、２．５−ジメチルアセトアニ
リドおよび塩化４−ニトロベンゾイルから出発して、４
−アセトアミドー３．６−ジメチル−４′一二トロジフ
エニルケトン（１．１５ｇ１収率６０，１％）を得る． 融点：　１８ｇ−１９１℃ ＩＲ　　（ス九−ル）　　：　　３３６０．　　１７０
５．　　１６７５．　　１６５５．　　１５７０．１５
２５．　１３５０　ｃｍ＋−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　２．１４　（３Ｈ，ｓ）．　２．２０（３Ｈ．ｓ）．
　２．３０　（３Ｈ，ｓ）．　７．２４　（ＩＨ．ｓ）
，　７、６３（ＩＨ．ｓ）．　７．９０　（２８，ｄ，
Ｊ：８Ｈｚ＞，　８．３７　（２Ｈ，ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ＞
．　９．３７　（ＩＨ．ｂｒ　ｓ）Ｍａｓｓ　：　Ｍ　
３１２．　ｍ／ｅ　２９５．　２８１，　２６９．　２
６５衷蓋贋ユ ４．４’　−ジアミノジフエニルケトン（４ｇ）および
メトキシアミン・塩酸塩（１５ｇ）のメタノール（１２
）中混合物を室温で４８時間攪拌する．反応混合物を派
圧濃縮し、残渣を水に溶解する．溶演を水冷攪拌下炭酸
水素ナトリウムで州８．０に１１整する．沈殿を濾取、
水洗、真空乾燥して、１．１−ビス（４−アミノフェニ
ル）−１一メトキシイミノメタン（　３．５ｇ　，　収
率７７．０％　）を得る． 融点２００゜Ｃ（分解） ＩＲ　　（スジぢール）　　：　　３４７５．　　３３
７５，　　３２００．　　１６２０．　　１６０５．１
５１５，　１３８０．　１１８０　ｃｍ−１ＮＭＲ　（
ＤＭＳＯ−ｄ６，６０Ｍ｝Ｉｚ，ｐｐｍ＞　３．８０　
（３Ｈ．ｓ）．　５．４０（４Ｈ．ｂｓ），　６．５３
　（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ＞．　６．６０　（２Ｈ，ｄ
，Ｊ＝９Ｈｚ），　７．０２　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ
），　７．１３　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ） Ｍａｓｓ　：　２４２　（Ｍａ１），　２４１　（Ｍ）
，　ＬＩＩ／ｅ　２１０衷夏週１ 実施例３で製造した１．１−ビス（４−アセトアミドフ
ェニル）−１−メトキシイミノメタン（１５ｇ）のＩＮ
水酸化ナトリウム水溶液（　６０ｍｌ１　）およびエタ
ノール（　１００１１１１１　）中混合物を攪拌下１３
間還流する．反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水冷攪拌
下水で粉砕する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、１
．１−ビス（４−アミノフェニル）一１−メトキシイミ
ノメタン（３．２０ｇ、収率８６．３％）を得る． 融点：　１９８−２０２℃（分解） ＩＲ　　（スジａ−４＞　　’　　３４５０．　　３３
５０．　　３２００．　　１６２０．　　１６０５．１
５１５．　１３８０　ｃｏｂ−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　３
．８０　（３Ｈ，ｓ）．　５．４０（４Ｈ，ｂｓ）．　
　６．５４　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　　６．５９
　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　　７．００　（２Ｈ．
ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．　　７．１０　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９
Ｈｚ） Ｍａｓｓ　　：　　２４２　（Ｍａ１）．　　２４１　
　（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　２１０衷轟斑１ 実施例４で製造した１．１−ビス（４−アセトアミドフ
ェニル）−１−ヒドロキシイミノメタン（４．５ｇ）、
沃化メチル（１８ｇ）および炭酸カリウム（７．５ｇ）
のＮ．Ｎ−ジメチルホルムアミド（　５０１１１９　’
）中混合物を室温で４日間攪拌する．反応混合物を減圧
濃縮し、残渣を水で粉砕する．沈殿を濾取、水洗、真空
乾燥して、１．１−ビス（４一アセトアミドフェニル）
−１−メトキシイミノメタン（５．０区、収率１０６％
）を得る．融点２６０−　２７０℃（分解） ＩＲ　　（スジ書一ル）　　３２５０，　　１６７０．
　　１６００．　　１５２０．　　１３８０．１３２０
　ｃｍ” ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ．ｐｐｍ＞　２
．１０　（６Ｈ．ｂｓ）．　３．８７（３Ｈ．ｓ）．　
７．１７−７．７５　（８Ｈ．ｍ）．　１０．０７（２
Ｈ．ｂｓ） Ｍａｓｓ　　：　　３２６　（Ｍ＋１＞．　　３２５　
（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　３１０．　　２９４，２８３．　
　２５２ 東』０艷土 ４．４′　−ジアセトアミドジフェニルケトン（４８ｇ
）およびヒドロキシルアミン・塩酸塩（２．４２）のエ
タノール（　ｓｏｍｅ　）と水（　１０１１１１１　）
との混合溶媒中混合物に、水酸化ナトリウム（３．２ｇ
）を攪拌下室温で少量ずつ分割して加える．混合物を室
温で１８時間攪拌する．反応混合物を減圧濃縮し、残渣
を水で粉砕する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、１
．１−ビス（４−アセトアミドフェニル）−１−ヒドロ
キシイミノメタン（　５．０ｇ、収率１００％）を得る
． 融点２１０−　２１５℃（分解） ＩＲ　　（スジー−ル）　　：　　３３５０−３１５０
．　　１６７０．　　１６００，　　１５７０，１５２
０．　１３２０　ａｍ’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　２
．０４　（３Ｈ．ｓ）．　２．０８（３Ｈ．ｓ）．　　
７．１６　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　　７．２５　
（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．　　７．５０　（２１，ｄ
．Ｊ＝９Ｈｚ）Ｍａｓｓ　：　３１２　（Ｍ＋１＞，　
　３１１　（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　２９５．　　２６９，
２５４ 衷』むｌ互 ４．４′　−ジアミノベンジル（６．０ｇ）のメタ／−
ル（　１５０ｍｌｆ　）　ト水（　５０ｆｆＩＱ　）と
のａ合物溶液に、ヒドロキシルアミン・塩酸塩（１３．
０ｇ）を加える．混合物を室温で２４時間攪拌する．メ
タノールを留去後、残渣のシロップ状物を水で希釈して
酢酸エチルで抽出する．酢酸エチル層を合わせ、１回水
洗して硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して粗製
結晶（　３．６５ｇ　）得る．粗製結晶をエタノールか
ら再結晶して、４．４’　−ジアミノベンジルモノ才キ
シム（シン型）（２．５０ｇ，収率３９．２％）を得る
． 融点：　１８７−１９１”ｃ ＩＲ　　（ｘ９ｍ−ｘ）　　：　　３４２０．　　３２
００．　　１６４０．　　１５８０．　　１５５０．１
４５０．　１３４０．　１２６０．　１１７５．　９３
０．９１０．　８４０　ｃ１１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　５
．４３　（２Ｈ．ｓ）．　６．２２（２Ｈ．ｓ）．　　
６．５６　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．　　６．６０　
（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ＞．　　７．１７　（２Ｈ．ｄ
，Ｊ＝９Ｈｚ），　　７．５３　（２Ｈ．ｄ．Ｊ：９Ｈ
ｚ＞，　　１０．７　　（ＩＨ．ｓ）叉』Ｉ包互 実施例７と同様にして、４−アミノー４′−クロロジフ
エニルエーテル（　５．１ｇ　，　収率９ｓ．４％）を
得る． 融点２００℃ ＩＲ　　（Ｘジｉ　−０　Ｆ　　３３５０，　　１６１
０．　　１５９０．　　１５１０．　　１４９０．１３
８０　ｃａｂ−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　６
．８０−７．１０　（４Ｈ．ｍ）．７．１０−７．５０
　（４Ｈ．ｍ）．　９．００　（２Ｈ．ｂｓ）Ｍａｓｓ
　　：　２２１　　（Ｍ＋１）．　　２２０　　（Ｍ）
．　　ｍ／ｅ　　２１９，　　１８５．１０ｇ Ｘ轟亘ｌ ４−メトキシー４′一二トロジフェニルエーテル（９．
５ｇ）ノメタノール（１５ｏｌ！１ｌ１）トテトラヒド
ロフラン（　１５０ｍＱ　）との混合物溶液を１０％バ
ラジウムー炭素（４ｇ）の存在下常温で大気圧下に１時
間水素添加する．触媒を濾去し、次いで濾液を減圧濃縮
して、４−アミノー４′−メトキシジフエニルエーテル
（７．２１ｇ，収率８６．３％）を得る． 融点：　７６−７７”Ｃ ＩＲ　　（スジ讐−ル）　　：　　３４Ｇ０．　　３２
５０−３１００．　　１６４０．　　１５９０．１５０
０　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　３
．７０　（３Ｈ．ｓ）．　４．８３（２Ｈ．ｂｓ）．　
６．５０　（２Ｈ．ｄ．Ｊ：９Ｈｚ）．　６．６６　（
２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　６．８０　（４Ｈ．ｓ）Ｍ
ａｓｓ　：　２１６　（Ｍ＋１），　２１５　（Ｍ）．
　ｍ／ｅ　２Ｇ０．　１７２東』む艷互 ａ．４゛　−ジアミノジフェニルエーテル（５．５ｇ）
および濃塩酸（　２８１１Ｑ　）の酢酸（５５１１１　
＞と水（　５５１１１　’）との混合溶媒中混合物に、
亜硝酸ナトリウム（４ｇ）の水（２Ｇ＋１１　’）溶液
を水冷攪拌下５℃未満の温度で滴下する．混合物を５℃
で１時間攪拌する．反応混合物に塩化第一スズ（３（Ｉ
ｇ）の濃塩酸（　１ｏｏｍ　）溶液を氷一塩冷却攪拌下
Ｏ″Ｃで加える．反応混合物を３時間攬拌し、次いで室
温で一夜放置する．沈殿を濾取、水洗する．固体をビー
カーに移し、水で希釈して水冷攪拌下希水酸化ナトリウ
ム水溶液でｐＨｌｏに！ｌ整する．沈殿を濾取、水洗、
真空乾燥して、４．４′−ジヒドラジノジフエニルエー
テル（　３．０ｇ　，　収率４７．４％）ヲ得る． 融点１７５℃ ＩＲ　　（スジー−ル）　　３３００．　　１６１０．
　　１５９０．　　１５０５．　　１３ｇ０．１２５５
　ｃ１’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　３
．８３　（４Ｈ．ｂｓ）．　６．３７（２Ｈ．ｂｓ）．
　６．５０−７．０　（８Ｈ，ｍ）Ｍａｓｓ　：　２３
１　（Ｍ＋１），　２３０　（Ｍ）．　ｔａｌｅ　２１
５．　２００，１８３．　１７０ 見皇班上 ４−ニトロ−４′一メタンスルホニルアミノジフエニル
エーテル（５．５ｇ）のメタノール（１５０ｍ）および
テトラヒドロフラン（　１５０１１１　）の混合物溶液
を１０％バラジウムー炭素（１．５ｇ）の存在下常温で
大気圧下に１時間水素添加する．触媒を濾去し、次いで
濾液を減圧濃縮して、４−アミノー４′−メタンスルホ
ニルアミノジフェニルエーテル（４、９ｇ、収率９８，
８％）を得る．融点１４０”Ｃ ＩＲ　　（スジ習一ル）　　３４００．　　３３２０．
　　１６１０．　　１５０５．　　１３８０．１３２０
　ｃａｂ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐａ＋）　
２．９０　（３Ｈ．ｓ）．　４．９０（２Ｈ．ｓ）．　
６．５０　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　６．６７　（
２Ｈ．ｄ．Ｊ−９Ｈｚ）．　６．７７　（２Ｈ．ｄ．Ｊ
＝９Ｈｚ）．　７．１０　（２８．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．
　９．３１　（ＩＨ．ｓ）Ｍａｓｓ　：　２７９　（Ｍ
ａ１）．　２７８　（Ｍ）．　ｌＩＩｌｅ　２１３．　
１９９東Ｊｌ四 実施例７で製造した４−アミノー４′−メトキシジフエ
ニルエーテル（２．５ｇ）の４７％臭化水素酸水溶液（
２５１Ｑ　）中混合物を攪拌下１時間還流する．反応混
合物を水中に注いだ後、溶液を水冷攪拌下２０％炭酸水
素ナトリウム水溶液でｐＨ８に！Ｉｔする．沈殿を濾取
、水洗、真空乾燥して、４ーアミノー４′−ヒドロキシ
ジフェニルエーテル（２．１４ｇ、収率９１．６％）を
得る．融点：　１５７−１５８℃ ＩＲ　　（スジ珍一ル）　　：　　３３８０，　　３３
１０．　　１６０５．　　１５７５，１５０５　ａｍ−
ｌ ＮＭＲ　（ＤＭ５０−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐａ＋）　
４．７５　（２Ｈ．ｂｓ），　６．４７（２Ｈ，ｄ，Ｊ
−９Ｈｚ）．　　６．６０　（２Ｈ，ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞
，　　６．８０（４Ｈ．ａ＋）．　　８．９６　（ｌＨ
．ｓ）Ｍａｓｓ　　：　　２０２　（Ｍ◆１）．　　２
０１　　（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　１７２塞１ｕ４ｕ ４−ヒドラジノ−４′一二トロジフェニルエーテル・塩
酸塩（３．０８ｇ）のメタノール（ｌ００ｍＱ）溶液を
１０％パラジウムー炭素（１．５ｇ）の存在下常温で大
気圧下に１時間水素添加する．触媒を濾去する．濾液を
減圧濃縮し、次いで水で希釈する．溶液をＩＮ水酸化ナ
トリウム水溶液で水冷攪拌下ｐＨ８に調整する．沈殿を
濾取して水およびｎ−ヘキサンで洗浄し、真空乾燥して
、４−アミノー４′−ヒドラジノジフエニルエーテル（
１．５７ｇ、収率６６．７％）を得る． 融点１７０℃ ＩＲ　　（スジジール＞　　３４５０．　　３４００−
３１００．　　１６４０，　　１５１０．１５００　ａ
ｍ−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　３
．２８　（ＩＨ．ｂｓ），　４．７０（４Ｈ，ｂｓ）．
　　６．４０−６．８０　（８｝１．ｍ）Ｍａｓｓ　　
：　　ｍ／ｅ　２１１．　　２００．　　１７１衷１日
』１２ ４−（４−アミノフェノキシ）−４′　一二トロジフエ
ニルエーテル（６．８ｇ）．塩化アンモニウム（０．６
ｇ）および鉄粉（６ｇ，６０メッシュ）のエタノール（
　６０１１１Ｑ　）と水（　１５１Ｑ　）の混合溶媒中
ａ合物を攪拌下ｌ．５時間還流する．不溶物を濾去し、
次いで濾液を減圧濃縮する．残渣を水冷下水で粉砕する
．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、４−（４−アミノ
フェノキシ）−４’　−アミノジフェニルエーテル（５
．４２ｇ，収率８７．８％）を得る． 融点１７０℃ ＩＲ　　（ヌジ＊−４）　　’　　３４００，　　３３
２０．　　３２００．　　１６１０．　　１４９５．１
３８０　ａｍ−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０Ｍ｝Ｉｚ．ｐｐｍ）　
４．８３　（４Ｈ，ｓ）．　６．５０（４Ｈ，ｄ．Ｊ＝
９Ｈｚ＞，　６．６８　（４Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　
６、７６（６１，ｓ） Ｍａｓｓ　：　２９３　（Ｍ＋１），　　２９２　（Ｍ
）．　　ｍ／ｅ　２６３．　　１８４，１４６，　　１
０８ 烹』０艷り 硫化４−ニトロ−４′一メタンスルホニルアミノジフエ
ニル（５．５ｇ）のテトラヒド口フラン（　ｔｏｏｍｉ
　）とメタノー　ル（　１００ｍＱ　）との混合物溶液
を１０％パラジウムー炭素（４ｇ）の存在下常温で大気
圧下に４．５時間水素添加する．触媒を濾去し、濾液を
減圧濃縮して、硫化４−アミノー４゛一メタンスルホニ
ルアミノジフエニル（４．７ｇ，収率９４．２％）を得
る． 融点ｔＳＳ℃ ＩＲ　　（スジＩ−４）　　３４００．　　１６３０．
　　１６００，　　１３２０．　　１２７０．１１６０
　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　２
．９０　（３Ｈ，ｓ），　５．５０（２Ｈ，ｂｓ）．　
　６．８０　＜２Ｈ．ｄ．Ｊ＝６Ｈｚ），　　７．０６
　（４Ｈｓ）．　　７．１７　（２Ｈ．ｄ．Ｊ−６Ｈｚ
），　　９．６７　（ＩＨ，ｓ）Ｍａｓｓ　　：　　２
９５　（Ｍ＋１＞．　　２９４　（Ｍ），　　ｍ／ｅ　
２１５大』豊艷■ 実施例１５で製造した４−アセトアミドーＮ−［　４−
（　４−アミノフエニルチ才）フエニル］ベンゼンスル
ホンアミド（３．５ｇ）のエタノール（　７０ｍＱ）お
よび濃塩酸（７ｍｌｌ）中混合物を攪拌下３時間還流す
る．反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水に溶解する．溶
液を水冷下１０％水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ５．　
０に１１＃！ｉする．沈殿を濾取、水跣、真空乾燥して
、４−アミノーＮ−［４−（４一アミノフエニルチ才）
フェニル］ベンゼンスルホンアミド（３．０ｇ、収率９
５．３％）を得る．融点１８８−　１９０℃（．分解） ＩＲ　　（スジｉ４）　　３３５０．　　３１００．　
　１６２０．　　１５９５，　　１３８０．１１５０　
ａｍ−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　５
．３５　（２Ｈ．ｂｓ）．　５．８８（２Ｈ．ｂｓ＞，
　６．４８　（２Ｈ，ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　６．５５　
（２１，ｄ．Ｊ−９Ｈｚ）．　６．９０　（４Ｈ．ｂｓ
），　７．０５　（２Ｂ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．　７．３
２　（２Ｈ，ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）Ｍａｓｓ　：　３７２　
（Ｍ＋１），　３７１　（Ｍ）．　ｍ／ｅ　２１５，　
１８３東』巣ｌ４ 鉄粉（７ｇ、６０メッシュ）および塩化アンモニウム（
０．７ｇ）のエタノール（　７Ｑｍｌｌ　）、テトラヒ
ド口フラン（　７０ｍＱ　）および水（　４０１０１１
　）の混合溶媒中混合物に、４−アセトアミドーＮ−［
４−（４ニトロフエニルテ才）フェニル］ベンゼンスル
ホンアミド（６．６ｇ）を攪拌下８０℃で少量ずつ分割
して加える．混合物を２時間還流する．反応混合物を吸
引ａ過して濾液を減圧濃縮し、次いで残清を水冷下水で
粉砕する。沈殿を濾取、真空乾燥して、４−アセトアミ
ドーＮ−［４−（４−アミノフエニルデ才）フエニル］
ベンゼンスルホンアミド（３．５ｇ、収率５６，９％）
を得る．融点１９２−　１９５℃ ＩＲ　　（スジｉ−ＩＬ）　　３５００．　　３４００
，　　３３５０．　　３２００，　　１６８５，１６２
５．　１５９５．　１４９５．　１３３０　ｃｍ−’Ｎ
ＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　２．
０５　（３Ｈ．ｓ）．　５．５０（２｝１．ｂｓ）．　
４．４０−６．７０　（３Ｈ，ｍ）．　６．８３−７．
３５（６１，ｍ＞，　７．６７　（３Ｈ，ｂｓ），　１
０．０７　（１Ｍ，ｓ）．１０．２７　（ＩＨ．ｓ） Ｍａｓｓ　　：　　４１４　　（Ｍ＋１）．　　４１３
　（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　２９０，　　２１５犬』畳』様 鉄粉（６ｇ１６０メッシュ）と塩化アンモニウム（０．
６ｇ）のエタノール（　１３Ｑｍｌｌ　）、テトラヒド
ロフラン（　４０ｍｌｌ　）および水（．４０ｍＱ）の
混合溶媒中混合物に、４−ニトロ−４′−メタンスルホ
ニルアミノジフェニルスルホキシド（６ｇ）を攪拌下８
０℃で少量ずつ分解して加える．混合物を攪拌下４時間
還流する．反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水冷下水で
粉砕する．沈殿を濾取、水洗、風乾して固体を得る．固
体をシリカゲル（シリカゲル６０、７０−２３０メッシ
ュ、メルク社製）（１２０ｇ）を使用するカラムクロマ
トグラフイーに付し、クロロホルムとメタノールとの混
液（５：１）で溶出する．目的化合物を含む画分を合わ
せ、蒸発乾固して、４−アミノー４′−メタンスルホニ
ルアミノジフェニル乙ルホキシド（　４．３ｇ　，　収
率７ｓ．ｏ％）を得る． 融点１９８−２００℃ ＩＲ　　（スジＩ１−４）　　３５００．　　３４００
．　　１６３５．　　１５９５．１５０５　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．’７０ＭＨｚ．ｐｐｍ＞　
３．０２　（３Ｈ，ｓ），　５．６９（２Ｈ，ｓ）．　
　６．５６　（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．　　７．２３
　（２Ｈ，ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞．　　７．２６　（２Ｈ．
ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ），　　７．４７　（２Ｈ．ｄＪ＝９Ｈ
ｚ＞．　　１０．００　（ＬＨ．ｓ）Ｍａｓｓ　　：　
　２９５　　（Ｍ＋１＞．　　２９４　　（Ｍ），　　
ｍ／ｅ　　２１５大１ｄ艷■ 実施例１８で製造した４−アセトアミドーＮ−［　４−
（　４−アミノベンゼンスルフィニル）フ工二ル］ベン
ゼンスルホンアミド（２．５ｇ）の濃塩酸（　５１１１
１）およびエタノール（　５０１１１１　）の混合溶媒
中混合物を攪拌下３．５時間還流する．反応混合物を減
圧濃縮する．残虐を水に溶解し、溶液を水冷攪拌下炭酸
水素ナトリウムでｐＨ７．０に調整する．沈殿を濾取、
水洗、真空乾燥して、４−アミノーＮ−［４−（４−ア
ミンベンゼンスルフィニル）フェニル］ベンゼンスルホ
ンアミ｝？（１．７ｇ、収率７５．４％）を得る． 融点１９８−　２００℃ ＩＲ　　（スジ賛一ル）　　３４５０．　　３３５０，
　　３２５０．　　１６３０．　　１６００，１５００
．　１３８０．　１３２０　ｃｍ−’ＮＭＲ　（ＤＭＳ
Ｏ−ｄ６．９０ＭＨＺ．ｐｐｍ＞　５．６０　（２Ｈ．
ｂｓ），　．５．９０（２Ｈ．ｂｓ），　　６．４６　
（２Ｈ，ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　　６．５３　（２Ｈ，ｄ
．Ｊ＝９Ｈｚ＞．　　７．１０　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈ
ｚ），　　７．１８　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），　　
７．３５　（４Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞．　　１１．２０
　（ＩＨ．ｓ）Ｍａｓｓ　　：　　ｍ／ｅ　３７１．２
４８．２１５衷１ｄ４リ 鉄粉（６ｇ、６０メッシュ）と塩化アンモニウム（０．
６ｇ）トのエタノールＣ　６０ｆｆｌＱ　）　，テトラ
ヒド口フラン（　６０ｍｌ！　）および水Ｃ　４０１１
１１２　）の混合溶媒中混合物に、４−アセトアミドー
Ｎ−［４−（４−ニトロベンゼンスルフィニル）フエニ
ル］ベンゼンスルホンアミド（４．２ｇ）を攪拌下８０
℃で少量ずつ分割して加える．混合物を攪拌下１．５時
間還流する。反応混合物を吸引濾過する．濾液を減圧濃
縮し、残渣を水で粉砕する．沈殿を濾取、水洗、風乾し
て固体（４．０ｇ）を得る．固体をシリカゲノレ（　１
２０ｇ　，　２７０−　４００メッシュ、メノレクネ上
製）を使用するカラムクロマトグラフイーに付し、ジク
ロロメタンとアセトンとの混液（３：１）で溶出する．
目的化合物を含む画分を合わせ、減圧ａ縮して、４−ア
セトアミドーＮ−［４−（４−アミノベンゼンスルフィ
ニル）フエニル］ベンゼンスルホンアミド（２．１ｇ，
収率５３，５％）を得る． 融点：　２２５−２２８℃（分解） ＩＲ　　（スジ牙一ル）　　：　　３３５０，　　３２
００，　　３１００．　　１６７５．　　１６３０，１
５９５，　１５００，　１３８０，　１３４０，１１６
５　ａｍ’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　２
．１０　（３８，ｓ），　５、７３（２Ｈ．ｂｓ），　
６．６３　（２Ｈ．ｄ．Ｊ：９Ｈｚ），　７．２０　（
２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞．　７．２５　（２Ｈ．ｄ．Ｊ
＝９Ｈｚ），　７．３３　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ＞，
　７．７３　（４１，ｂｓ）．　１０．３３　（ＩＨ，
ｓ）Ｍａｓｓ　：　ｍ／ｅ　４１３．　３４１，　２９
０．　２４８大』己Ｍ１９ 実施例３２で架造した４．４′−ジアミノ−３一メトキ
シジフエニルスルホン（　１．２ｇ　）のジクロロメタ
ン（　１００ｍＱ　）およびクｏｏホルム（１００ＩＩ
ＩＱ）の混合物溶液に三臭化ホウ素（１０ｇ）のジクロ
口メタン（　３０ｆｆＬＱ　）溶液をドライアイスーア
セトン冷却攪拌下−１０℃で滴下する．混合物を室温で
１０時間攪拌し、次いで４０℃で２時間攪拌する．反応
混合物を減圧濃縮する．残渣を水で希釈し、次いで混合
物を攪拌下１時間還流する．反応混合物を希水酸化ナト
リウム水溶液でｐＨ５に！ｌ１１し、水冷下１時間攪拌
する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、４．４′−ジ
アミノー３−ヒドロキシジフェニルスルホン（　０．８
ｇ　，　収率７０．２％）を得る． 融点２６０℃（分解） ＩＲ　　（スジ習一ル）　　３４５０．　　３４００．
　　１６３０．　　１５９５．　　１５２０．１３８０
．　１２９０　ｃｍ’ ＮＭＲ　（ＣＦ３ＧＯＯＤ．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）７．
５０−７．７０　（ＬＨ，ｍ）．　７．７３　（２Ｈ．
ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ）．７．８３　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ
），　８．１５　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ）Ｍａｓｓ　
：　２６５　（Ｍ＋１）．　２６４　（Ｍ）．　ｍ／ａ
　２００．　１５６罠箆盟剥 実施例２１と同様にして、実施例２９で製造した４一ア
セトアミド−４′−ヒドラジノジフェニルスルホン（３
ｇ）から出発して、４−アミノー４′−ヒドラジノジフ
ェニルスルホン（１．７ｇ．収率５７．７％）を得る． 融点１６０−　１６５℃ ＩＲ　　（ス九−ル）　　３２００−３４５０．　　１
６３０．　　１５９５．　　１５０５．１３８５．　１
２８５　ａｍ’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　６
．００　（４Ｈ，ｂｓ），　６．３５−６．９０　（３
Ｈ．ｍ），　７．００−８．００　（５Ｈ．ｍ）Ｍａｓ
ｓ　：　ｍ／ｅ　２４８．　２３３衷及斑君 実施例２８で製造した４−アセトアミド−４′（メタン
スルホニルアミノ）ジフエニルスルホン（６ｇ）の濃塩
酸（　ａｏｍＱ　）および水（　４０＋１１１１　）中
混合物を攪拌下２．５時間還流する．反応混合物を水冷
下炭酸カリウム粉末でｐＨｌｏに調整する．沈殿を濾取
、水洗、真空乾燥して、４−アミノー４′（メタンスル
ホニルアミノ）ジフエニルスルホン（４．５ｇ、収率８
４．７％）を得る．融点１９０℃ ＩＲ　　（スジａ−’Ｌ）　　：　　３３５０−３４０
０．　　１６３５．　　１５９５．１５００　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＣＦ３ＣＯＯＨ．６０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　３
．５５　（３Ｈ．ｓ）．　７．６７−８．００　　（６
Ｈ．ｍ）．　　８．０６−８．４０　　（４｝１，ｍ）
Ｍａｓｓ　　：　　３２７　（Ｍａ１），　　３２６　
（Ｍ），　　ｍ／ｅ　２４８．　　１８３犬１ｄ生坐 ４−アセトアミド−２′−メタンスルホニルアミノー４
′一二トロジフェニルスルホン（６ｇ）のメタノール（
　２００ｍｌｌ　）、テトラヒド口フラン（　３００ｍ
ｌｌ　）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（　６０
ｍＲ　）の混合溶媒溶液を、１０％パラジウムー炭素（
２ｇ）の存在下、常温で大気圧下に６時間水素添加する
．触媒を濾去し、次いで濾液を減圧濃縮して、４−アセ
トアミド−４′−アミノー２′ーメタンスルホニルアミ
ノジフエニルスルホン（４．０ｇ）を得る．４−アセト
アミドー４″　−アミノー２′　−メタンスルホニルア
ミノジフェニルスルホン（４．０ｇ）および濃塩酸（　
４０１１１　）の水（　ａｏｍ＋＋　）中混合物を攪拌
下２時間還流する．反応混合物を水冷下希水酸化ナトリ
ウム水溶液で凶５．０に調整し、水冷下５℃で４時間攪
拌する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して黄色固体を得
る．固体をシリカゲノレ（シリカゲル６０，　７０−２
３０メッシュ、メルク社製）（３００ｇ）を使用する力
ラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルムとメタノ
ールとの混液（１０：１）で溶出する。目的化合物を含
む画分を合わせ、減圧濃縮して、４．４′　−ジアミノ
ー２′−メタンスルホニルアミノジフェニルスルホン（
ｔ．ｔｇ，収率２２．２％）を得る． 融点２１０℃（分解） ＩＲ　　（スジ１−ル＞　　３４５０．　　３３５０−
３２００．　　１６２５．　　１５９５，１３８０．　
１３３５　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　２
．９７　（３Ｈ，ｓ）．　６．３３（４Ｈ．ｂｓ），　
６．６０−７．０６　＜３８．ｍ＞．　７．４０　（Ｌ
Ｈ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ）．　７．１５　（ＬＨ．ｄ．Ｊ＝
８Ｈｚ）．　７．５９　（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ＞，　
８．０３　（ＩＨ．ｄ．Ｊ：８Ｈｚ），　８．９７（Ｉ
Ｈ．ｂｓ） Ｍａｓｓ　　二　３４２　　（Ｍ＋１），　　３４１　
　（Ｍ），　　ｍ／ｅ　　３１４．　　２８５．２６３ 叉１Ｑ艷η 実施例３６で製造した４−（２−アセトキシベンゾイル
）ヒドラジノ］−４’　−（ペンジル才キシ力ルポニル
アミノ）ジフエニルスルホン（　４．８ｇ）のテトラヒ
ド口フラン（　７５１Ｑ　）およびメタノール（　１２
５１１１１１　）の混合物溶液をｌＯ％パラジウムー炭
素（７．４ｇ）の存在下、常温で大気圧下に１１時間水
素添加する．触媒を濾去し、次いで濾液を減圧下に蒸発
乾固して固体を得る．固体を酢酸エチルで抽出して炭酸
ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥する．硫酸マグネシウムを濾去後、濾液を減圧濃縮し
て、４−（　２−アセトキシベンゾイル）ヒドラジノ］
−４’　−アミノジフェニルスルホン（　２．８ｇ　，
　収率７８．０％）を得る， 融点２０６−２０８℃ ＩＲ　　（ス九−ル）　　３４００．　　３３４０．　
　１７５５．　　１６８０．　　１６２５．１５９０．
　１３１０．　１２８５．　１２００　ｃｃａ−１ＮＭ
Ｒ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ＞　２．１
６　（３Ｈ．ｓ）．　６．４０−７．９７　（１５Ｈ劃
）．　１０．２３　（ＩＨ．ｂｓ）Ｍａｓｓ　　＋　　
４２６　（Ｍ＋１＞．　　４２５　（Ｍ）．　　ｍ／ｅ
　３８３．　　２８９．２４８ 叉１畳艷η ４−アセトアミド−２′−クロロー４′一二トロジフェ
ニルスルホン（６．７４ｇ）、塩化アンモニウム（０．
６７ｇ）および鉄粉（６．　７４　ｇ、６０メッシュ）
のエタノール（　６０１ＩＱ　）　、テトラヒドロフラ
ン（６０ｍＡ）および水（３０１１１　）の混合溶媒中
混合物を攪拌下２時間還流する．不溶物を濾去し、次い
で濾液を減圧濃縮する．残渣にメタノールを加え、攪拌
下３分間還流する．沈殿を濾取してメタノールで洗浄し
、風乾して、４−アセトアミドー２′クロロー４′−ア
ミノジフエニルスルホン（５．０６ｇ１収率８２．０％
）を褥る． 融点２７７−２８８℃ ＩＲ　　（スジ書−ル）　　３４８０．　　３３５０−
３１５０．　　１６８５．　　１６４０，１５ｇ５．　
１５２０．　１３００　ｅｒａ−’ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ
−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　２．０７　（３Ｈ，ｓ
）．　６．０６−６．７６　（３Ｈ．ｍ），　７．４３
−８．１０　（４Ｈ，ｍ）．　１０．２５（ＩＨ．ｂｓ
） Ｍａｓｓ　　：　　３２６　（Ｍ＋１＞．　　３２５　
（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　３２４．　　２８４．２８２，　
　２１８．　　１７４ ？１０」少 実施例２４で製造した４−アセトアミド−２′クロロー
４′−アミノジフエニルスルホン（６．１ｇ）およびト
リエチルアミン（７．６ｇ）のＮ．Ｎ−ジメチルホルム
アミド（６Ｇ１１１　）溶液に、塩化メタンスルホニル
（６．４５ｇ）を攪■拌下５゜Ｃで滴下する．混合物を
室温で５時間攪拌する．反応ａ合物を減圧ａ縮し，歿渣
を氷水中に注ぐ．沈殿を濾取、水洗、風乾して固体（４
−アセトアミドー２′−クロロー４′一メタンスルホニ
ルアミノジフェニルスルホンと４−アセトアミドー２′
−クロロー４′　−ジメタンスルホニルアミノジフエニ
ルスルホンとの混合物）を得る．固体をテトラヒドロフ
ラン（　４２０ｆｆｌＪ＋　）と水（　７０１１１Ｑ　
）との混合物に加え、攪拌下ＩＮ＊酸化ナトリウム水溶
液でｐ｝１９．　５に調整する．混合物を５０”Ｃで３
時間攪拌する．反応混合物のｐｔｔを、さらにＩＮ水酸
化ナトリウム水溶液を加えて９．　０−　９．　５に維
持する．反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水冷攪拌下１
０％塩酸でｐＨ２．　０に調整する．沈殿を濾取、水洗
、風乾して固体を得る．固体をシリカゲル（和光ゲルＣ
−２００、１００−２００メッシュ、和光純薬社製）（
１８０ｇ）を使用する力２ムクロマトグラフィーに付し
、クロロホルムとメタノールとの混液（３０：１）で溶
出する．目的化合物を含む両分を合わせ、減圧濃縮して
、４−アセトアミド−２′−クロロー４′一メタンスル
ホニルアミノジフエニルスルホン（３．７４ｇ，収率４
９．４％）を得る． 融点２０１−　２０２℃ ＩＲ　　（ヌジタール）　　３４００−３２５０．　　
３１００，　　１６８０．　　１５９５．１５３５．　
１４０８．　１３２５．　１３０５，１１５０　ｃｍ−
’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ，ｐｐｍ＞　２
．０６　（３Ｈ．ｓ）．　３．１３（３Ｈ．ｓ）．　７
．１６−７．４３　（２１，ｍ）．　８．００−８．２
３（ＩＨ．ｍ）．　１０．２９　（ＩＨ．ｓ），　１０
．４０−１０．７５（ＩＨ．ｂｓ） Ｍａｓｓ　：　４０４　（Ｍ＋１）．　４０３　（Ｍ）
，　ｒｎ／ｅ　３６２．　３６０．３２４．　２８２ 大１ｄ艷仲 ４−アセトアミド−４′−アミノジフェニルスルホン（
１３．９ｇ）のテトラヒドロフラン（４００ｍＱ）およ
び水（　１４０＋ＩＬ１１　）の混合物溶液のｐＨを攪
拌下飽和炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ８−９に調整する
．混合物に塩化カルボベンズ才キシ（３６．８ｇ）を攪
拌下５℃で滴下する．反応混合物を５℃で２．５時間攪
拌する．さらに飽和炭酸ナトリウム水溶液を用いて反応
混合物のｐＨを８−９に維持する．反応混合物を酢酸エ
チルで抽出し、水洗して硫酸マグネシウムで乾燥する．
硫酸マグネシウムを濾去後、濾液を減圧下に蒸発乾固す
る．次いで残渣を５００ｍＱフラスコに移し、ｎ−ヘキ
サン（　３ＱＱｍＱ　）中２０分間攪拌する．沈殿を吸
引濾過してｎ−ヘキサンで洗浄し、風乾して４−アセト
アミド−４′ペンジル才キシ力ルポニルアミノジフェニ
ルスルホン（　１９．９５ｇ　，収率９８．２％）を得
る．融点２１３−２１４’Ｃ ＩＲ　　（スジ１−ル）　　３３３０．　　３２５０．
　　１７４５、　１６５０．　　１５９５．１５８０．
　１５４０．　１４１０．　１３２０　ｃｒｔｒ−’Ｎ
ＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　２．
０５　（３Ｈ．ｓ＞．　５．１２（２Ｈ．ｓ），　　７
．１７−７．４３　　（５Ｈ．ｍ）．　　７．４６−７
．８６（８Ｈ．ｍ＞，　　１０．０６−１０．３３　　
（２Ｈ．ｍ）Ｍａｓｓ　　：　　４２５　　（Ｍ＋１＞
，４２４　　（Ｍ＞．ｍ／ｅ　４０７，３８０，３１６
，　　３００．　　２９０ 叉』藁』虹 実施例２６で製造した４−アセトアミド−４′ペンジル
才キシ力ルポニルアミノジフェニルスルホン（　１９．
９ｇ　）および６Ｎ塩酸（　３０１１Ｑ　）　（７）エ
タノール（　４００ｍｌ１　）中ａ合物を撹拌下５時間
還流する．反応混合物を減圧濃縮して水で希釈し、次い
で炭酸水素ナトリウム飽和水溶液でｐＨ８に調整する．
沈殿を濾取、水洗、風乾して、４−アミノー４′　−ベ
ンジル才キシ力ルポニルアミノジフェニルスルホン（１
７．０ｇ、収率９４．８％）を得る．融点１９８−　２
００℃ ＩＲ　　（スジ３−ル）　　３４８０．　　３３９０．
　　３３３０，　　１７３０．　　１６３５，１５９５
．　１５３５，　１４１０．　１３００，１２３０　ｃ
ｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ．ｐｐｍ＞　５
．１３　（２｝１．ｓ）．　５．５０（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝
９Ｈｚ＞．　７．１８−７．８０　（１３Ｈ．ｍ），　
１０．１０（１１，ｂｓ） Ｍａｓｓ　　：　　３８３　（Ｍ＋１），　　３８２　
（Ｍ），　　ｍ／ｅ　３３ｇ．　　２７４，２４８．　
　２１０ 太１聖艷輝 ４−アセトアミド−４′　−アミノジフェニルスルホン
（５ｇ）とトリエデルアミン（３ｇ）とのＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド（　ＩＯＯＩＩＱ　）中混合物に、塩
化メタンスルホニル（１２．３ｇ）を攪拌下５゜Ｃで滴
下する．反応濯合物を５゜Ｃで２時間攪拌し、減圧濃縮
して油状残渣を得る．油状残渣に水を加え、沈殿を濾取
、水洗、真空乾燥して、４一アセトアミド−４′　一（
メタンスルホニルアミノ）ジフエニルスルホン（　８．
０ｇ　，　収率９４．６％）を得る． 融点２３０−　２３５℃（分解） ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　２
．０７　（３Ｈ．ｓ）．　３．６３（３Ｈ．ｓ），　７
．５０−８．０７　（８Ｈ．ｍ）Ｍａｓｓ　：　３６９
　（Ｍ＋１）．　３６８　（Ｍ）．　ｍ／ｅ　３２６．
　２９０．２４８ 束１ｄｌ益 ４−アセトアミド−４′　−アミノジフエニルスルポン
（６ｇ）および濃塩酸（　１６ｍＱ）　（ｙ）酢酸（１
２６ｍＮ）および水（　２６ｍＱ）中ａ合物に、亜硝酸
ナトリウム（３ｇ）の水（　１０＋ｎｌｌ　）溶液を水
冷攪拌下５゜Ｃ未満の温度で滴下する．混合物を５℃で
１時間攪拌する．混合物に塩化第一スズ（２０ｇ）の濃
塩酸（　１ｏｏｍｕ　）溶戒を塩一氷冷却攪拌下Ｏ℃で
滴下する．反応ｄ合物をＯ″Ｃで２時間攪拌し、次いで
室温で３日間放置する．反応混合物を４０％水酸化ナト
リウム水溶液でｐＨ１２に調整し、次いで水冷下２時間
攪拌する．沈殿を濾取、水洗、真仝乾燥して、４−アセ
トアミド−４′　−ヒドラジノジフエニルスルホン（３
ｇ１収率４２．６％）を得る．融点２６０−２７０℃ ＩＲ　　（スジ＊−Ｌ＞　　３４５０．　　３３５０−
３２００．　　１６８５．　　１６３０，１５９５．　
１３８０．　１２９０　ｃｍ−’ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−
ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ＞２．０６　　＜３８，ｓ）
，　　　４、１５　　（ＬＨ．ｓ）．　　　５．９３　
　（２Ｈ．ｓ）６．７５　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ），
　　７．６５−７．９５　（６Ｈ，ｍ）Ｍａｓｓ　　：
　　３０６　　（Ｍ＋１），　　　３０５　　（Ｍ）．
　　　ｍ／ｅ　　２９０，　　　２６３，２４８ 東』饗艷四 ４−アセトアミド−３′−メトキシー４′一二トロジフ
エニルスルホン（４．０ｇ）のテトラヒド口フラン（　
５０１１１１１　）とメタノール（　ｔｏｏｍａ　）と
の混合物溶液を１０％パラジウムー炭素（１ｇ）の存在
下、常温で大気圧下に２時間水素添加する．触媒を濾去
し、次いで濾液を減圧下に蒸発乾固して、４−アセトア
ミド−３′−メトキシー４′−アミノジフエニルスルホ
ン（　３．５ｇ　，収率９５．９％）ヲ得る。 融点；　１９３−１９４゜Ｃ ＩＲ　　（ス九−４）　　３５００．　　３３５０−３
１５０．　　１６８０，　　１６１５．１５９０，　１
５１５．　１３８０　ｃｍ−’ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ
６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　２．１０　＜３Ｈ．ｓ），
　３．８５（３８，ｓ）．　６．５７　（ＩＨ．ｄ．Ｊ
＝８Ｈｚ）．　７．２０　（ＩＨ．ｂｓ）．　７．２７
　（ＬＨ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ）．　７．８０　（４Ｈ，ｓ
）．１０．３０　（ｌ｝ｌ，ｓ） 束１畳艷吋 実施例２５で製造した４−アセトアミド−２′クロロ−
４′　一メタンスルホニルアミノジフエニルスルホン（
３．６＆）（７）６Ｎ塩酸（５．４ｍｌ！）およびエタ
ノール（　７０ｍａ　）中混合物を攪拌下５．５時間還
流する．反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水冷下炭酸水
素ナトリウムでｐｔｔｓに調整する．混合物を酢酸エチ
ルで抽出し、水洗して硫酸マグネシウムで乾燥する．有
機層を減圧濃縮して、４−アミノ−２’　−クロロ−４
１−メタンスルホニルアミノジフェニルスルホン（２．
１ｇ．収率６５．１％）を得る． 融点８４−９４℃ ＩＲ　　（スジ音一ル）　　３５２０−３１００．　　
１６３０．　　１５９５，　　１５０５．！３４０，　
１３１０．　１１６０　ｃｍ−’ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−
ｄ６．９０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　３．１３　（３Ｈ，ｓ）
．　６．１１（２Ｈ．ｂｓ）．　６．４３−６．６６　
（２Ｈ．ｍ），　７．１３−７．５０（４Ｈ．ｍ）．　
８．０３　＜１８，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．　１０．２０−
１０．７６（ＩＨ．ｂｓ） Ｍａｓｓ　：　３６２　（Ｍ＋１），　３６１　（Ｍ）
．　ｍ／ｅ　２８２．　２７８．２０５，　　１４９ 采』Ｕ艷共 塩化第一スズ（６ｇ）の濃塩＃（　６１＋ＬＱ）中混合
物に４−アセトアミドー３′−メトキシー４′二トロジ
フエニルスルホン（　２　ｇ　）　ヲＪＷｔ４’下！温
で少量ずつ分割して加える．混合物を攪拌下１００℃に
３時間加熱する．反応混合物を水冷下４０％水酸化ナト
リウム水溶液を用いてｐＨ１２に調整する．沈殿を濾取
、水洗、真空乾燥して、４．４′−ジアミノー３−メト
キシジフエニルスルホン（１．４０ｇ、収率８８．ｌ％
）を得る． 融点１９５°Ｃ（分解） ＮＭＲ　（ＣＦ３ＣＯＯＨ，６０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　４
．１６　（３Ｈ，ｓ）．　７．８３（３Ｈ，ｓ）．　７
．６７−７．９０　（３Ｈ，ｍ）．　７．７３　（２Ｈ
．ｄ，Ｊ−８Ｈｚ＞．　８．２７　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝８
Ｈｚ）Ｍａｓｓ　：　２７９　（Ｍ＋１）．　２７８　
（Ｍ）．　ｍ／ｅ　２６３，　２１３．１７１ 犬１饗艷月 実施例２７で製造した４−アミノー４′−ベンジル才キ
シカルボニルアミノジフエニルスルホン（ｔａ．ｔｇ）
および濃塩酸（　５５１１ＩＱ　）の酢酸（ＨｏｍＱ）
と水（　２２０ｍｌｌ　）との混合溶媒中混合物に、亜
硝酸ナトリウム（３．０８ｇ）の水Ｃ　３５ｍｌｌ　’
）溶液を攪拌下５゜Ｃで滴下する。次いで混合物を５℃
で０．５時間撹拌する．反応渭合物に塩化第一スズ（　
２５．　１２ｇ）の濃塩酸＜　２２０＋１Ｑ　）溶液を
攪拌下Ｏ℃で滴下する．混合物を０゜Ｃで２時間攪拌し
、室温で一夜放置する．沈殿を濾取、水洗、風乾して、
４−ヒドラジノ−４１−ペンジノレ才キシカノレポ二ノ
レアミノジフエニルスルホン・塩酸塩（１４．５ｇ，　
収率９０．６％）を得る． 融点ｌ６０℃（分解） ＩＲ　　（スジ！−４＞　　３４００−３２５０．　　
１７３５，　　１７２０，　　１７０５．１５９５．　
１５３０．　１３０５．　１２２０　ａｍ−１ＮＭＲ　
（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　５．１７　
（２８，ｓ）．　５．３０−５．９３　（３｝１．ｍ＞
．　７．１３−８．１３　（１３Ｈ，ｍ）．　１０．２
３（１８，ｂｓ） Ｍａｓｓ　：　ｍ／ｅ　３６４，　３５５，　３２３，
　２９３，　２５８塞１υ乱む 実施例３５で製造した４−アセトアミドーＮ一［４−（
４−アミノベンゼンスルホニル）フエニル］ベンゼンス
ルホンアミド（５．２ｇ）の濃塩酸（　１ｓｍｕ　）お
よび水（　ｔｏｏｍＱ）中混合物を攪拌下３．５時間還
流する．反応混合物を減圧濃縮する．残渣を水に溶解し
、次いで溶液を水冷攪拌下炭酸水素ナトリウムでｐＨ７
．０に調整する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、４
−アミノーＮ−［４−（４一アミンベンゼンスルホニル
）フエニル］ベンゼンスルホンアミド（３．５ｇ，収率
７４．３％）を得る． 融点２３５℃（分解） ＩＲ　　（スジ９−ル）　　３５００．　　３３７０．
　　１６３０．　　１５９５．　　１５００．１３８０
．　１３００　ｃｔａ−’ ＮＭＲ　　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　
　５．５０　　（４Ｈ．ｂｓ）．　　６．５１（２Ｈ．
ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　６．５７　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９｝
１ｚ）．　７．１３（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　７．
４０　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　７．４３（２Ｈ，
ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　７．６１　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈ
ｚ＞．　１０．４０（ＬＨ．ｓ） 束』０艷出 ４−アセトアミドーＮ−［４−（４一二トロベンゼンス
ルホニル）フェニル］ベンゼンスルホンアミド（６＆）
のテトラヒド口フラン（２００ｍＥＩ　）、メタノール
（　２００ｍＱ　）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（　５０ｍＱ　）の混合物溶液を、１０％パラジウム
ー炭素（３ｇ）の存在下常温で大気圧下に１．５時間水
素添加する．触媒を濾去し、次いで濾液を減圧濃縮して
、４−アセトアミドーＮ−（４−（４−アミノベンゼン
スルホニル）フエニルコベンゼンスルホンアミド（５．
２ｇ，収率９２．５％）を得る． 融点２８８−２８９℃ ＩＲ　　（スジ１−ル）　　３４００．　　３３５０．
　　３２７０，　　１６７５．　　１６３０．１５９５
，　１５３５．　１３８０．　１３００　ｃｍ−’ＮＭ
Ｒ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　２．０
７　（３Ｈ．ｓ）．　５．２５（２Ｈ．ｂｓ），　　６
．６２　　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．　　７．２３　
　（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），　７．５０　（２Ｈ．ｄ
．Ｊ：９Ｈｚ）．　７．７３　（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ
）．　７。７８　（４Ｈ．ｓ）．　１０．２７　（ＩＨ
．ｓ），１０．７７　（ＩＨ．ｓ） Ｍａｓｓ　　：　　４４５　　（Ｍ）．ｍ／ｅ　４０２
．３７０．２８９．２４８東１０１曲 Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．２ｇ）と才キシ塩
化リン（０．４３ｇ）との混合物を５℃で３０分間攪拌
する．これに乾燥テトラヒドロフラン（５．６ｎｔＱ）
を加える．これにアセチルサリチル酸（０．４６ｇ）を
水冷攪拌下に加え、混合物を５℃で１時間攪拌して活性
化酸溶液を製造する．一方別に実施例３３で製造した４
−ヒドラジノ−４′　−ベンジルオキシカノレボニノレ
アミノジフエニノレスノレホン●塩酸塩（Ｌ．Ｏｇ）お
よびテトラヒドロフラン（２〇一）および水（　２０ｍ
ｌ！　）の混合物を攪拌下５゜Ｃで飽和炭酸ナトリウム
水溶液でｐＨ７−８にｍ整する．混合物を上記で製造し
た活性化酸溶液に撹拌下５゛Ｃで滴下する．反応混合物
を５゜Ｃで２時間攪拌する．さらに飽和炭酸ナトリウム
水溶液で反応混合物のｐＨを７−８に保つ．反応混合物
を酢酸エチルで抽出し、飽和炭酸ナトリウム水溶液で洗
浄して硫酸マグネシウムで乾燥する．硫酸マグネシウム
を濾去後、濾液を減圧濃縮して、４−［（２−アセトキ
シベンゾイル）ヒドラジノコー４′　−（ペンジル才キ
シカルボニルアミノ）ジフェニルスルホン（１．０２ｇ
、収率７９，１％）を得る．ＩＲ　　（スジ９−ル）　
　３３３０．　　３２００．　　１７４０．　　１７０
５．　　１６５５．１５９５．　１５５０．　１３０５
　ｃｍ−ｌＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐ
ｐｍ）　２．１６　（３Ｈ，ｓ）．　５．１４（２Ｈ．
ｓ），　７．０３−７．９７　（１８Ｈ．ｍ）．　１０
．０７−１０．３０（２Ｈ劃） Ｍａｓｓ　：　ｍ／ｅ　４４５，　３８４，　３３１．
　２７４衷１畳艷Ｖ 実施例３９で製造した４−アセトアミドーＮ−（４−イ
ンブロピルアミノフエニル）一Ｎ−メチルベンゼンスル
ホンアミド（３ｇ）および濃塩酸Ｃ　３ｆｆｌｌｌ）の
エタノール（　４０＋１１１１　）中混合物を撹拌下２
時間還流する．反応混合物を減圧濃縮し、残渣を濃水酸
化アンモニウム水溶液で水冷下ｐ｝１９．　０に調整す
る．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、４−アミノーＮ
−（４−イソプロビルアミノフェニル）一Ｎ−メチルベ
ンゼンスルホンアミド（１．５０ｇ１収率８４．９％）
を得る． 融点２０１−　２０２゜Ｃ（分解） ＩＲ　　（スジ９−ル）　　３５００．　　３４００，
　　１６２５，　　１６１５．　　１６００．１５１５
．　１３２５　ａｍ−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　１
．０６　（６｝１，ｄ．Ｊ＝６Ｈｚ＞．２．９０　（３
Ｈ，ｓ）．　　３．４３　（１Ｈ，ｑ．Ｊ：６Ｈｚ），
　　５．３５＜ＬＨ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．　　５．９０
　（２Ｈ．ｓ），　　６．３５　（２８，ｄ，Ｊ＝９Ｈ
ｚ＞．　　６．５０　（２Ｈ．ｄ．Ｊ：９Ｈｚ），　　
６．６５　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．　　７．０５　
（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞Ｍａｓｓ　　：　　３２０　
（Ｍａ１）．　　３１９　（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　１６３
東１ｕ生１ ４−アセトアミドーＮ−メチルーＮ−（４−ニトロフェ
ニル）ベンゼンスルホンアミＦ（５．５ｇ）のメタノー
ル（　２００ＩｆｌＱ　）とテトラヒド口フラン（　ｚ
ｏｏｍＱ）との混合物溶液を、１０％パラジウムー炭素
の存在下、常温で大気圧下に２時間水素添加する．触媒
を濾去し、次いで巌液を減圧濃縮して、４−アセトアミ
ドーＮ−（４−アミノフェニル）−Ｎ−メチルベンゼン
スルホンアミド（５．０ｇ５収率９９．５％）を得る． 融点１５０−　１５２℃ ＩＲ　　（スジヲール）　　３５５０．　　３４００−
３２００．　　１６９０，　　１６４５．１６１５．　
　１５９０，　　１５４０．　　１５１５．　　１３７
０．１３４０．　１３２０　ｃｒｎ−’ 衷１ｄ艷抑 ４−アセトアミドーＮ−メテルーＮ−（４−二トロフエ
ニル）ベンゼンスルホンアミＦ（４．５ｇ）のテトラヒ
ド口フラン（　ｒｏｏ−）　、メタノール（　１００ｍ
Ｑ　）およびアセトン（　ｔｏｏｍｃ　）の混合物溶液
を，　１０％バラジウムー炭素（２ｇ）の存在下、常温
で大気圧下に２時間水素添加する．触媒を濾去し、次い
で濾液を減圧濃縮して、４−アセトアミド−Ｎ−（４−
インプロビルアミノフエニル）一Ｎ−メチルベンゼンス
ルホンアミＦ（４．５ｇ，収率９６．７％）を得る． 融点１７５℃ ＩＲ　　（スジッール＞　　３３５０．　　１６９５．
　　１６８０．　　１６１０．　　１５９５．１５１５
．　１３８０　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＣＦ３ＣＯＯＨ．６０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　１
．５０　（６８，ｄ．Ｊ：６Ｈｚ）．２．４０　（３８
，ｓ），　３．３０　（３８，ｓ）．　４．００　（Ｉ
Ｈ．ｑ．Ｊ＝６Ｈｚ），７．３５−７．５７　　（４Ｈ
．ｍ）．７．６０−７．９０（４Ｈ．ｍ），　　８．７
０　（ＩＨ．ｍ）．　　９．００　（ＬＨ，ｓ）Ｍａｓ
ｓ　　：　　３６１　　（Ｍ） 衷』己』籾 実施例４２で製造した４−アセトアミドーＮ−メチルー
Ｎ−（４−メタンスルホニルアミノフェニル）ベンゼン
スルホンアミド（４．９６ｇ）および６Ｎ塩Ｍ（１０畝
）のエタノール（　１００ＩｆｉＩ２）中混合物を攪拌
下３．５時間還流する．反応混合物を減圧濃縮して水で
希釈し、次いでＩＮ水酸化２ナトリウム水溶戒でｐＨ９
．　０に調整する．混合物を酢酸エチルで抽出し、水洗
して硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウムを
濾去後、濾液を減圧下に蒸発乾固して、４−アミノーＮ
−メチルーＮ−（４−メタンスルホニルアミノフェニル
）ベンゼンスルホンアミド（３．３５ｇ，収率７５．５
％〉を得る．融点１５０−１５２℃ ＩＲ　　（スジｌ−Ｌ）　　３５００．　　３４００−
３３００．　　１６３５．　　１５９５．１５０５．　
１３４０−１３０５．　１２２５．　１１５０　ｃｍ−
’ＭＮＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ，ｐｐｍ＞　
”２．９８　（３Ｈ，ｓ）．　３．００（３Ｈ．ｓ）．
　　５．９８　　（２Ｈ，ｂｓ），　　６．５３　　（
２Ｈ，ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．６．９０−７．２０　　（６
Ｈ．ｍ）Ｍａｓｓ　　：　　３５６　（Ｍ＋１＞，３５
５　（Ｍ）．ｍ／ｅ　２７５，１９９，１５６ 大１畳艷ｌ ４−アセトアミドーＮ−メチルーＮ−（４−アミノフエ
ニル）ベンゼンスルホンアミト＜５．２ｇ）およびトリ
エチルアミン（６．６ｇ）のＮ，Ｎ−ジメテルホルムア
ミド（　５０ｍ１１　）中混合物に、塩化メタンスルホ
ニル（５．６ｇ）を攪拌下５℃で滴下する．混合物を室
温で２時間攪拌し、減圧濃縮して残査を水冷下水で粉砕
する．沈殿を濾取、水洗、風乾して、４−アセトアミド
ーＮ−メチルーＮ−（４−ジメタンスルホニルアミノフ
エニル）ベンゼンスルホンアミド（　１０．５８ｇ　，
収率１３６．６％）を得る． 融点１６１−１６４℃ ＩＲ　　（スジ旨一ル）　　３６５０−３１００．　　
１６９５．　　１６ｇ０．　　１５９５．１５４０，　
ｔ５０５．　１３５０．　１２５０．１１６０　ｃｍ−
１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ．ｐｐｍ＞　２
．１０　（３Ｈ．ｓ）．　３．１５（３Ｈ．ｓ）．　　
３．６７　（３Ｈ．ｓ）．　　５．３４　　（３Ｈ．ｓ
）．　　６．９０−７．８４　（８Ｈ．ｍ），　　１０
．３　（１Ｎ，ｂｓ）Ｍａｓｓ　　：　　４７６　（Ｍ
ａ１），　　４７５（Ｍ），　　ｍ／ｅ　２９７，　　
２９６，２００，　　１９９，　　１９８ 叉１ｄ生婬 実施例４ｌで製造した４−アセトアミドーＮ−メチルー
Ｎ−（４−ジメタンスルホニルアミノフエニル）ベンゼ
ンスルホンアミド（７．７４ｇ）のテトラヒドロフラン
（　３２０１１１１１　）と水（　５０ｆｆｉｌ！　）
との混合物溶液を攪拌下１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で
ｐＨ１０．　４　−　１０．　６に調整する．渇合物を
５０℃で６時間攪拌する。反応混合物のｐＨを、さらに
１Ｎ水酸化ナトリウムを使用して１０．４−１０、６に
維持する．反応混合物を減圧濃縮し、残渣を攪拌下１０
％塩酸でｐＨ２．０にｍｙする．混合物を酢酸エチルで
抽出し、水洗して硫酸マグネシウムで乾燥する．硫酸マ
グネシウムを濾去後、濾戒を減圧下に蒸発乾固して、４
−アセトアミドーＮ−メチルーＮ−（４−メタンスルホ
ニルアミノフェニル）ベンゼンスルホンアミド（５．０
６ｇ、収率７８．２％）を得る．融点１９７−１９８℃ ＩＲ　　（スジａ−１＞　　３３５０−３１５０．　　
１６８０．　　１６６５．　　１６１０．１５９５，　
１５５０．　１４０５，　１３３０．１２７０　ａｍ’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　２
．１２　（３Ｈ．ｓ），　３．０３（３１，ｓ），　３
．１０　（３Ｈ，ｓ），　７．０８　（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝３Ｈｚ，９Ｈｚ＞，　？．４３　（２｝１，ｄ，Ｊ；
９Ｈｚ）．　７．７３　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），　
９．７６　（ＬＨ．ｂｓ）．　１０．３０　（ＬＨ．ｂ
ｓ）Ｍａｓｓ　：　３９Ｂ　（Ｍ＋１＞，　３９７　（
Ｍ），　ｍ／ｅ　３６８，　２５４，１９９ 大１ｄｌり ４−アセトアミドーＮ−（４−ニトロフェニル）ベンゼ
ンスルホンアミド（２ｇ）のメタノール（　５０ｍｌ１
　）およびアセトン（　ｓｏｍＱ）の混合物溶液を１０
％パラジウムー炭素（２ｇ）の存在下、常温で大気圧下
に１時間水素添力Ｕする．解媒を濾去し、次いで濾液を
減圧濃縮して、４−アセトアミ｝’一Ｎ−（　４−イソ
プロビルアミノフェニル）ベンゼンスルホンアミド（２
．１３ｇ、収率１０２．９％）を得る． 融点２１０−　２１３℃ ｔＲ　　（スジａ−４）　　３３５０．　　３２５０．
　　１６７０，　　１６１０，　　１５９５．１５１５
．　１３８０．　１１６０　ａｍ−１ＭＮＲ　（ＤＭＳ
Ｏ−ｄ６，９０ＭＨｚ．ｐｐｍ＞　１．０６　（６Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．２．０５　（３Ｈ，ｓ）．　３．１
０−３．５０　（１８，ｍ）．　５．２０（ＬＨ．ｂｓ
）．　６．３３　（２Ｈ，ｄ．Ｊ；９Ｈｚ）．　６．６
６　（２Ｈ．ｄＪ＝９ＨＺ）．　７．４８　（２Ｈ，ｄ
，Ｊ＝９Ｈｚ），　７．６３　（２１ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）
，　９、２３　（１｝１，ｓ）．　１０．１６　（ＩＨ
，ｓ）Ｍａｓｓ　：　３４８　（Ｍ＋１）．　３４７　
（Ｍ＞．　ｍ／ｅ　１４９，　１０７衷１ｄ艷り ４−メタンスルホニルアミノアニリン（５．４ｇ）のＮ
，Ｎ−ジメチルアニリン（　１３１１１　）中混合物に
、塩化４−アセトアミドベンゼンスルホニル（６．３ｇ
）を攪拌下１００℃で少量ずつ分割して加える．混合物
を攪拌下ｌ００℃に４時間加熱する．反応混合物を６Ｎ
塩酸中に水冷攪拌下に注ぐ．沈殿を濾取、水洗、真空乾
燥して、４−アセトアミドーＮ−（４−メタンスルホニ
ルアミノフェニル）ベンゼンスルホンアミト（　８．０
８ｇ　，　収率７８．４％）を得る． 融点２２３−　２３５℃ ＩＲ　　（スジ，−ｘ）　　３２００．　　１６８０．
　　１５９５．　　１５３０．　　１３８０．１３３０
．　１１５５　ｃｍ−’ ＮＭＲ　　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ＞　
　２．０６　　（３Ｈ，ｓ）．　　２．９０（３Ｈ，ｓ
），　７．００　（４Ｈ．ｓ），　７．６３　＜４Ｈ．
ｓ）．　９．４６（ｔＨ，ｓ）．　　９．９６　　（Ｉ
Ｈ，ｓ）．　　１０．２３　　＜１｝１．ｓ）Ｍａｓｓ
　：　３８４　（Ｍ＋１），　３８３　（Ｍ）．　ｍｌ
ｅ　３０４，　２４０，１９８ 犬』聖艷り 実施例４４で製造した４−アセトアミドーＮ−（４−メ
タンスルホニルアミノフェニル）ベンゼンスルホンアミ
ド（８ｇ）の濃塩酸（　１２ｍＱ　）およびエタノール
（　ｌ６ａｍ　）の混合溶媒中ａ合物を撹拌下４時間還
流する．反応混合物を減圧濃縮して残渣を水に溶解し、
次いで溶演を水冷攪拌下炭酸水素ナトリウムでｐＨ７に
調整する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、４−アミ
ノーＮ−（４−メタンスルホニルアミノフェニル）ベン
ゼンスルホンアミド（６．５３ｇ、収率９ｌ．７％）を
得る．融点１９０−　１９４℃ 工Ｒ　（スｈ−ル）　　３５００．　　３４００，　　
３２６０，　　１６３５，　　１６００．１３８０．　
１３１５　ｃｍ” ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６、９０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　２
．８６　（３Ｈ．ｓ），　５．８６（２１，ｓ）．　　
６．５０　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞．　　７．００　
（４Ｈ，ｓ），７．３１　（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ＞．
　　９．４０　（ＬＨ．ｓ）．　　９．６３（ＬＨ．ｓ
） Ｍａｓｓ　　：３４２　（Ｍ＋１）．　　３４１　　（
Ｍ），　　ｍ／ｅ　２６２．　　１８５．１５７ 太１聖４０ 実施例４３で製造した４−アセトアミドーＮ−（４−イ
ソプロビルアミノフエニル）ベンゼンスルホンアミド（
５．６ｇ）の濃塩酸（ｇ，４ｍＱ）とエタノール（　１
１０＋１１１１　）との混合溶媒中混合物を攪拌下３，
５時間還流する．反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水に
溶解する．溶液を炭酸水素ナトリウムで水冷攪拌下ｐＨ
７．　０に調整する．沈殿を濾取、水虎、真空乾燥して
、４−アミノーＮ−（４−イソブロビルアミノフエニル
）ベンゼンスルホンアミド（４．３ｇ，収率８７．６％
）を得る．融点１６０−　１６６℃ ＩＲ　　（スジｓ−Ｊ　　３５００．　　３４００．　
　１６３０．　　１６００，　　１５２５，１３８０．
　１３２０．　１１５５　ｃｍ−’ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ
−ｄ６，９０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　１．０７　（６Ｈ，ｄ
，Ｊ＝６Ｈｚ），３．１５−３．５０　（ＩＨ．ｍ）．
　　５．６６　（２８，ｂｓ），　　６．３３（２Ｈ．
ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　　６．４６　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９
Ｈｚ），　　６．７０＜２１，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），　　
７．２０　（２｝１．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ＞，　　８．９３
（１｝１．ｓ） Ｍａｓｓ　　：　　３０５　（Ｍ），　　ｍ／ｅ　２０
２，　　１５９，　　１４９，　　１０７叉』ｄ生灯 ４．４′−ジアミノジフエニルメタン（５ｇ）の酢酸（
　５０−）溶液に、無水酢酸（６ｇ）を攪拌下４０’Ｃ
未満の温度で滴下する．渭合物を常温で１時間攪拌する
．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、４．４’−ジアセ
トアミドジフェニルメタン（６．９ｇ、収率９９．０％
）を得る．融点２２５℃ ＩＲ　　（スジｍ−４）　　３２００，　　１６５０，
　　１５９５．　　１５２０　　ｃｍ−’ＮＭＲ　（Ｄ
ＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　２．０３　（６
Ｈ．ｓ）．　３．８２（２Ｈ．ｓ）．　７．１５　（４
Ｈ．ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ＞，　７．５３　（４Ｈ．ｄ，Ｊ＝
６Ｈｚ）．９、８７　　（２Ｈ，ｓ）大１畳引り 二酸化クロム（３５ｇ）の酢酸（Ｂ，５ｍＱ）および水
（１．８ｍｌｌ）中混合物に、４．４′−ジアセトアミ
ドジフエニルメタン（１ｇ）を攪拌下８０℃で少量ずつ
分割して加える．ａ合物を攪拌下９０℃に１時間加熱す
る．反応混合物を水冷攪拌下水中に注ぐ．沈殿を濾取、
水洗、真空乾燥して、４．４′−ジアセトアミドジフエ
ニルケトン（０．　４　ｇ、収率３８％〉を得る． 融点２３３−２３４”Ｃ ＩＲ　　（スジ９−４）　　３５５０．　　３３５０．
　　１６９０，　　１６３５．　　１６００．１５３０
　ａｍ’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　２
．１２　（６Ｍ，ｓ）．　７．７７（８｝１．ｓ）．　
　１０．３０　　（２Ｈ，ｓ）Ｍａｓｓ　：　２９７　
（Ｍ＋１）．　２９６　（Ｍ），　ｍ／ｅ　２５４．　
２１２．１２０ 叉』ｕＭリ ４．４′−ジアセトアミドジフェニルケトン（４ｇ）の
メタノール（　２００ｆｆＬＩ＋　）溶液に、水素化ホ
ウ素ナトリウム（１．８ｇ）を攪拌下３０℃未満の温度
で加える。混合物を室温で２時間攪拌する．反応混合物
を戚圧ａ縮し、ＩＡ／ｉｉｌを１０％塩酸で水冷攪拌下
ｐＨ２．　０に調整する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥
して、４．４′−ジアセトアミドベンゾヒドロール（４
．０ｇ、収率９９．３％）を得る．融点１８５℃ ＩＲ　　（スジ３−ル）　　３１５０−３２５０．　　
１６６５．　　１６６０．　　１６１０　　ａｍ−１Ｎ
ＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ＞　２．
００　＜６Ｈ，ｓ），　５．３０（ＬＨ，ｓ）．　７．
３０　（４Ｈ．ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）．　７．７７　（４Ｈ
．ｄ．Ｊ：８１｛ｚ）．　９．９０　（２Ｈ．ｓ）Ｍａ
ｓｓ　：　Ｍ　２９８．　ｍ／ｅ　２８１．　２３９Ｘ
凰盟迎 ４．４゛−ジアミノシフエニルケトン（５．１ｇ＞とＯ
−アリルヒドロキシルアミン・塩酸塩（　１３．３ｇ）
とのメタノール（　１５０ｍｌ！　）およびテトラヒド
口フラン（　ｓＯｍＮ　）の混合溶媒中混合物を室温で
５０時間攪拌する．反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水
を加える．溶液をＩＮ＊酸化ナトリウム水溶液でｐＨ９
．　０に調整し、水冷下１時間攪拌する．沈殿を濾取、
水洗、乾燥して固体を得る．固体をシリカゲノレ（シリ
カゲノレ６０、７０−２３０メッシュ、メルク社製）（
２００ｇ）を使用するカラムクロマトグラフィーに付し
、クロロホルムとメタノールとの混液（２０：１）で溶
出する．目的化合物を含む両分を合わせ、減圧濃縮して
固体（６．４ｇ）を得る．固体を酢酸エチルとｎ−ヘキ
サンとの渇液（５：１）から再結晶して、４．４′−ジ
アミノジフェニルケトン・アリル才キシム（４．１ｇ，
収率７０．２％）を得る． 融点１４４−１４５℃ ＩＲ　　（スジ】−ル）　　３４５０．　　３３５０，
　　１６２０．　　１６０５．１５１０　ｃａ＋−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄａ．９０ＭＨｚ，、ｐｐｍ）　
４．５０　（２Ｈ．ｄ．Ｊ；５Ｈｚ＞．５．１６　（２
Ｈ．ｄ．Ｊ＝１０Ｈｚ）．　５．３０　（４Ｈ．ｓ）．
　５．８−６．２０　（ＩＨ．ｍ）．　６．４６　（２
Ｈ．ｄ．Ｊ＝５Ｈｚ）．　６．５６（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝５
Ｈｚ），　６．９５　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝５Ｈｚ）．　７
．１５（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝５１｛ｚ） Ｍａｓｓ　　二　２６８　　（Ｍａ１），　　２６７　
　（Ｍ）．　　ｔｍ／ｅ　　２２６．　　２１０．１９
６ 束１４４ｕ ４．４″　−ジアミノベンジル（５ｇ）および〇一メチ
ルヒドロキシルアミン・塩酸塩（２．１ｇ）のメタノー
ル（　ＩＯＯＩＩＩＱ　）とテトラヒドロフラン（１０
ｆｆＩＱ）との混合溶媒中混合物を室温で２４時間攪拌
する．反応混合物を減圧濃縮する。残清に水を加え、ａ
合物を１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ９．０に調整
する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥し、エタノールから
再結晶して、４．４′−ジアミノベンジル七ノメチル才
キシム（４．５ｇ，収率８０．３％）を得る． 融点１９０−　１９２℃（分解） ＩＲ　　（スジｓ−４＞　　３４５０．　　３３５０．
　　１６２５．　　１６１０，　　１５８０，１５４５
．　１５１５　ａ１１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　３
．８５　（３Ｈ．ｓ），　５．７０（４８，ｂｒｏａｄ
　ｓ），　６．６７　（４Ｈ，ｄｄ．Ｊ＝２Ｈｚ，　９
Ｈｚ＞，６．２７　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ），　７．
６３　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）Ｍａｓｓ　　：　　２
７０　　（Ｍ＋１）．　　２ｆｉ９　　（Ｍ），　　ｍ
／ｅ　　２０９，　　１２０東１口艷坐 ４−アセトアミド−３１−メチル−４′一二トロジフェ
ニルケトン（　１７．９ｇ　）　、塩化アンモニウム（
１．９３ｇ）および鉄粉（１９．２ｇ，　６０メッシュ
）のエタノール（　１ｇｏｍｃ　）、テトラヒドロフラ
ン（１８０咽）および水（　９０１１１１！　）の混合
溶媒中混合物を攪拌下２時間還流する． 反応混合物を濾過し、濾液を減圧濃縮する、残虐を水冷
下水で粉砕する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、４
−アセトアミドー４′−アミノー３′　−メチルジフエ
ニルケトン（　１５．０５ｇ　，収率９９．７％）を得
る． 融点：　２３３−２３８℃ ＩＲ　　（スジー−ル）　　Ｆ　　３４００．　　３３
５０，　　３３００．　　１６９０．　　１６３０，１
６００．　１５７５．　１５３０．　１２９０　ａｍ−
ＩＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　
：　２．００−２．１５　（６Ｈ．ｍ）．５．８０　（
２Ｈ．ｂｓ）．　６．６７　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ）
．　７．４０（３｝１．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ），　７．６３
−７．６７　（４Ｈ．ｍ）．　１０．２０（ＩＨ．ｂｓ
） Ｍａｓｓ　：　２６９　（ＭＯ＞．　２６８　（Ｍ）．
　ｍ／ｅ　２５３．　２２６．２１１，　　１３４ 衷ｍ逃 ４−アセトアミド−４′−アミノー３′−メチルジフエ
ニルケトン（１５．０ｇ）の濃塩ｒｉｍ　（　２５１１
１９　）およびエタノール（　１５０ｍＡ　）中混合物
を攪拌下５時間還流する． 反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水に溶解する．ｍ液を
１Ｎ＊ｆａ化ナトリウム水溶液で水冷下ｐｔｔｔｏに調
整する。沈殿を濾取、水洗、風乾して固体を得る．固体
をシリカゲル（シリカゲル６０、２３０−　４００メノ
シュ、メルク社製）（４００ｇ）を使用するカラムクロ
マトグラフィーに付し、ジクロロメタンとアセトンとの
混液（３０：１）で溶出する．目的化合物を含む両分を
合わせ、蒸発乾固して、４．４’　　−ジアミノ−３−
メチルジフエニルケトン（９．４８ｇ、収率７４．９％
）を得る．融点：　１４５−１４７”Ｃ ＩＲ　　（ス九−ル）　　ｉ　　３３５０，　　１６３
５，　　１６００．　　１５８０．　　１５５０，１３
２０．　１２７０　ａｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　２．１３　＜３８．ｓ），　５．２７＜２Ｈ．ｂｓ）
．　　５．８５　（２Ｈ．ｂｓ）．　　６．６３　（２
Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．　　６．７０　（ＩＨ．ｄ．Ｊ
＝９Ｈｚ＞．　　７．３０−７．６３（４Ｈ．ｍ） Ｍａｓｓ　　：　　２２７　（Ｍａ１）．　　２２６　
（Ｍ），　　ｍ／ｅ　２１１．　　１３４叉』ｄｉ鶏 ４．４１−ジアミノジフエニルケトン（５ｇ）および第
三級プトキシ力ルポニルメトキシアミン（３．９ｇ）の
メタノール（　１ｏｏｍｕ　）、テトラヒドロフラン（
５０ｍｌｌ），　Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍ
Ｑ）および濃塩＃（１１１１１）の混合溶媒中混合物を
室温で４８時間攪拌する．反応混合物を減圧濃縮し、残
渣を水で粉砕する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、
１．１−ビス（４−アミノフェニル）−１−（第三級ブ
トキシ力ルポニルメトキシイミノ）メタン（６．９ｇ、
収率７４．５％）を得る．融点ｉ　１４５−１４６℃ ＩＲ　　（スジａ−ｘ）　　：　　３４５０．　　３３
５０．　　３２２０．　　１７３５．　　１６４０．１
６２５．　１５１５　ａｍ’ ＮＭＲ　＜ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　１．４７　（９Ｈ，ｓ）．　４．５０（２Ｈ．ｓ）．
　５．４０　（４Ｈ．ｂｓ）．　６．５０　（２Ｈ．ｄ
．Ｊ＝９Ｈｚ）．　　６．５７　（２Ｈ．ｄ．Ｊ：９Ｈ
ｚ）．　　７．１０　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞．　　
７．２０　（２Ｈ．ｄ．Ｊ：９Ｈｚ＞Ｍａｓｓ　　：　
　３４２　　（ｔＤ１），　　３４１　　（Ｍ）．　　
ｍ／ｅ　　２８５．　　２００裏１異艷野 １．１−ビス（４−アミノフェニル）−１−（第三級ブ
トキシ力ルポニルメトキシイミノ）メタン（６．９ｇ）
の混合物にトリフル才口酢酸（２８一）およびアニソー
ル（７０ｍＱ　）のジクロロメタン（　２０ｆｆｌｆｉ
　）中混合物を水冷攪拌下５℃で滴下する．混合物を室
温で２．５時間攪拌し、反応混合物を減圧下に蒸発乾固
する．残渣をＩＮ水酸化ナトリウム水溶液に溶解し、溶
液を酢酸エチルで洗浄する．水層を大孔非イオン吸着樹
脂「ダイヤイ才ンＨＰ−２０Ｊ（商標、三菱化成工業社
製）を使用するカラムクロマトグラフィーにイオし、３
０％イソプロビルアルコール水溶液で溶出する．目的化
合物を含む画分を合わせ、半容まで減圧濃縮して、１．
１−ビス（４−アミノフエニル）−１一カノレボキシメ
トキシイミノメタン（　４．　１　ｇ　，　収率７１．
　１％　）を得る． 融点：　２５０−２５３℃（分解） ＩＲ　　（スジｍ−４）　　’　　３４５０．　　３３
５０，　　２５５０．　　２４５０．　　１６５０．１
６２０．　１６００．　１５１５．　１３２５　ｃｍ−
’ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄｓ．９０ＭＨｚ）　：　４．
５１　（２Ｈ，ｓ）．　６．４０−６．６５　（６｝１
，ｍ），　　６．９０−７．２２　（６Ｈ．ｍ）Ｍａｓ
ｓ　　：　　２８６　（Ｍ＋１），　　２８５　（Ｍ）
．　　１１／１！　２２７．　　２１０叉１畳艷四 後述の実施例５９と同様にして、４−アセトアミドーＮ
一（４−ニトロ−２−クロロフエニル）ベンゼンスルホ
ンアミドから出発して、４−アセトアミドーＮ−（２−
クロロ−４−アミノフェニル）ベンゼンスルホンアミＦ
　（　２．０ｇ　，　収率９４．７％）を得る． 融点：　２２８−２３０℃ ＩＲ　　（スジ＊−１＞　　’　　３４７５．　　３３
５０，　　３３００．　　１６９０．　　１６３０，１
５９５．　１５３０．　１５０５．　１１６０　ｃｍ’
ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　’
　２．０７　（３Ｈ．ｓ）．　５．３７（２Ｈ．ｓ）．
　６．３−６．５０　（２１，ｍ）．　６．７５　（Ｉ
Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．　７．５５　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝
９Ｈｚ＞．　７．１７　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．　
９．２０　（ＬＨ．ｓ）．　１０．２２　（ＩＨ．ｓ）
Ｍａｓｓ　　；　　３４１　　（Ｍ＋２）．３４０　（
Ｍ＋１）．３３９　（Ｍ）．ｍ／ｅ　３０４，　　２４
０，　　２２０．　　２０５叉ｍ｛Ｍ迦 ４−アセアミドーＮ−（４−アミノー２−クロロフェニ
ル）ベンゼンスルホンアミＦ（２．８ｇ）のエタノール
（５６ＩＩＩＩｌ）および濃塩酸（４、２１ＩＱ）中混
合物を攪拌下６時間還流する． 反応混合物を減圧濃縮し、残清をｌＯ％炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で水冷攪拌下ｐＨ８．５にｙ４ｔする． 沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、４−アミノ−Ｎ−（
４−アミノー２−クロロフェニル）ベンゼンスルホンア
ミド（１．８９ｇ，収率７７．１％）を得る． 融点：　１４０−１４２℃ ＩＲ　　（スジ＊−４＞　　’　　３３５０．　　３２
５０，　　１６２５．　　１６００．　　１５００．１
３１５　ｃｒｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　７
　５．３３　（２Ｈ．ｓ）．　５．８７（２Ｈ．ｓ），
　６．４０　（２Ｈ．ｄ．Ｊ；９Ｈｚ＞．　６．５７　
（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　６．８０　（ＩＨ，ｄ．
Ｊ＝９Ｈｚ＞．　７．３３　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９｝１ｚ
）．　　８．７３　　（ＩＨ．ｓ）Ｍａｓｓ　　：　　
３０１　　（Ｍ＋３），　　３００　（Ｍ＋２）．　　
２９９　（Ｍ＋１）．２９８　（Ｍ）．　　ｒｎ／ｅ　
２３１，　　１９７，　　１４３．　　１４１去１４生
東 ４−アセトアミドーＮ一（２−クロロー４−ニトロフエ
ニル）一Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド（３．４５
ｇ）および塩化第一スズ（６．９ｇ）の濃塩Ｈ　（３５
＋１１１１　）、テトラヒド口フラン（　２５ｍＱ　）
およびメタノール（　２５ｆｆＬＱ　）中混合物を６０
℃で２時間攪拌する．反応混合物を威圧濃縮して水で希
釈し、次いで２４％水酸化ナトリウム水溶液で水冷下ｐ
Ｈ１０．０にＵ４整する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥
して固体を得る．固体をシリカゲル（和光ゲルＣ一２０
０、１００−２００メッシュ、和光純薬社製）（１００
ｇ）を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、クロ
ロホルムで溶出する．目的化合物を含む画分を合わせ、
減圧濃縮して、４−アミノーＮ−（４−アミノー２−ク
ロロフエニル）−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド（
２．３２ｇ、収率８２．８％）を得る． 融点ｉ　１３５−１３６℃ ＩＲ　　（スジ３−ル’）　　：　　３４８０．　　３
３８０，　　１６２５，　　１５９５。　１３４０１３
１５．　１１５（ｌ　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　３．０８　（３Ｈ，ｓ＞．　６、０５（２Ｈ，ｂｓ）
，　　６．６０　（２Ｈ，ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ），　　７．
００−７．５０（７Ｈ．ｍ） Ｍａｓｓ　　ｉ　　ｍ／ｅ　２８７．２７６．２６２．
１５６叉』畳艷Ｉ ４．４１−ジニトロ−２−クロロジフエニルスルホキシ
ド（５．３ｇ）および塩化アンモニウム（　１　ｇ　）
（’）工１／−ル（２００１ｎＱ）、テトラヒド口フラ
ン（５０ＩＩＩｌ）、メタノール（５０ＩＩＩ１１）お
よび水（　５０１１１９　）の混合溶媒中混合物に、鉄
粉（１０ｇ）を攪拌下８０℃で少量ずつ分割して加える
．混合物を攪拌下２，５時間還流する．反応混合物を濾
過し、濾液を減圧濃縮する．残渣をシリカゲル（シリカ
ゲル６０．　７０−２３０メッシュ、メルク社製）を使
用するカラムクロマトグラフイーにｆ寸し、クロロホル
ムとメタノールとの混液（１０；１）で溶出する．目的
化合物を含む画分を合わせ、減圧下に蒸発乾固して、４
．４′−ジアミノー２−クロロジフエニルスルホキシド
（　４．２ｇ　．　収率９７．２％）ヲ得る． 融点：　１９０−１９３℃（分解） ＩＲ　　（ヌｈ−ルン　：　　３４５０，　　３３５０
．　　３２００．　　１６３０．　　１５９５．１３１
０　ａｍ’ ＮＭＲ　　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　
　：　　５．７０　　（２Ｈ．ｓ）．　　５．８８（２
Ｈ．ｓ），　　６．５０−６．８０　　（４Ｈ．ｍ）．
　　７．２３　　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞，　７．５
０　（ＩＨ．ｄ．Ｊ：９Ｈｚ）Ｍａｓｓ　　：　　２６
９　　（Ｍ＋３＞，　　２６８　　（Ｍ＋２）．　　２
６７　　（Ｍ＋１），２６６　（Ｍ）．　ｍ／ｅ　２５
０，　２１８衷１畳生り 実施例５９と同様にして、４．４’　　−ジニトロペン
ズアニリドから出発して、４．４’　−ジアミノベンズ
アニリド（４．２２ｇ，収率８０．８％）を得る．融点
：　１９７−２０１℃（分解） ＩＲ　　（スジｉ４）　　：　　３４００．　　３３２
０．　　３２００．　　１６４０，　　１６２５．１６
０５．　１５１５　ａｍ−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　５．３０　（４Ｈ，ｂｓ）．６．５５　（２Ｈ．ｄ．
Ｊ．８ＨＺ）．　６．６３　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝８ＨＺ）
，７．３７　　（２Ｈ．ｄＪ＝８Ｈｚ）．　　７．７３
　　（２Ｈ．ｄ，Ｊ；８Ｈｚ）．９．３０　（ＩＨ，ｓ
） Ｍａｓｓ　　：　　２２８　（Ｍ＋１）．　　２２７　
（Ｍ），　　ｒｎ／ｅ　１２０．　　１０８叉１畳４虹 実施例５９と同様にして、２−クロロ−４．４′−ジニ
トロペンズアニリドから出発して、２一クロロー４．４
′−ジアミノベンズアニリド（５．ｌｇ、収率７９．０
％）を得る． 融点：　１８８−１９１’ｃ ＩＲ　　（スＵａ−１＞　　’　　３３５０，　　３２
５０，　　１６３５．　　１６０５，　　１５０５．１
４９５　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　：
　５．２３　（２｝！，ｂｓ），５．６１　（２Ｈ，ｂ
ｓ）．　６．５９　（２ｆ｛，ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ），　６
．６１（２Ｈ．ｄ．．Ｃ９Ｈｚ＞．　　　７．１０　　
（ＬＨ．ｄ，Ｊ；９Ｈｚ３．　　　７．６６（２Ｈ，ｄ
．Ｊ＝９Ｈｚ）．　９．１３　（ｌＨ．ｓ）Ｍａｓｓ　
　：　　２６４　　（Ｍ＋３），　　２６３　　（Ｍ＋
２），　　２６２　　（Ｍ＋１），２６１　（Ｍ＞．　
ｍ／ｅ　２２６．　１４２，　１２０実施例６２ ビリジン中４．４′−ジアミノジフェニルケトン（９．
０ｇ）に塩化メタンスルホニル（５．３４ｇ）を撹拌下
５℃で滴下する． 反応混合物を５℃で３時間攪拌し、減圧濃縮して油状残
漬を得る．油状残渣をンリカゲル（シノ力ゲル６０、２
３０−４００メッシュ、メルク社製）（５００ｇ）を使
用するカラムクロマトグラフイーに付し、クロロホルム
とメタノールとの混液（５０：１）で溶出する。目的化
合物を含む両分を合わせ、減圧濃縮して、４−アミノー
４′−メタンスルホニルアミノジフエニルケトン（　３
．０３ｇ　．　収率２４，６％）を得る． Ｍ点：　１９５−１９７”ｃ ＩＲ　　（スジ９−１）　　：　　３５００，　　３４
００．　　１６４５，　　１５９５，　　１５７５．１
５５０，　１３４０．　１３１５．　１２９５　ｃｍ−
’ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　
：　３．１１　（３Ｈ．ｓ）．　６．０６（２Ｈ，ｂｓ
），　６．６１　（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ＞，　７．３
０−７．７３（６Ｈ．ｍ），　１０．１５　（ＬＨ，ｂ
ｓ）Ｍａｓｓ　　：　　２９１　　（Ｍ＋１）．　　２
９０　（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　２１１．　　１９８．１８
２ 実施例６３ ４−ウレイド−４′　一二トロジフエニルスルホキシド
（ｌｌｇ）および塩化アンモニウム（１ｇ）のエタノー
ル（　２００ｆｆｌｌｌ　’）　、テトラヒドロフラン
（　５０＋１１１２　）および水（　５０ｍＱ　）の混
合溶媒中混合物に、鉄粉（１２ｇ）を攪拌下８０℃で少
量ずつ分割して加える．ａ合物を４時間還流し、反応混
合物を吸引濾過する．濾液を減圧濃縮し、残渣を水で粉
砕する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、４−ウレイ
ド−４′−アミノジフエニルスルホキシド（７．５ｇ、
収率７５．６％）を得る．融点：　１８９−１９１’ｃ ＩＲ　　（スジ９−４）　　’　　３４７０，　　３３
５０，　　３２００．　　１６９０．　　１６３５．１
５９５．　１５８５．　１５４０　ｃｍ−’ＮＭＲ　（
ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　：　５．７０
　（２Ｈ，ｓ）．　６．１（２Ｈ．ｓ）．　６．６７　
（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．　７．１５−７．８０（６
Ｈ．ｍ）．　９．００　（ＩＨ．ｓ）Ｍａｓｓ　：　２
７５　（Ｍ＋１）．　２７４　（Ｍ），　ｍ／ｅ　２６
０．　２４８，２１６ 大』Ｕ生東 実施例６３と同様にして、４−ウレイド−４′二トロジ
フエニルケトンから出発して、４−ウレイド−４′　−
アミノジフエニルケトン（４．２ｇ，収率６３，７％）
を得る． 融点：　１９０−１９３℃ ＩＲ　　（スジａ−４）　　’　　３４８０．　　３４
００，　　３３２０．　　３２００，　　１６６０．１
６３５　ａｍ−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０Ｍ｝ｌｚ，ｐｐｍ）　
’　６．００　（４Ｈ．ｂｓ），６．６０　（２Ｈ．ｄ
，Ｊ＝９Ｈｚ），　７．３０−７．６５　（６Ｈ．ｍ）
，８．８３　（ＩＨ．ｓ） Ｍａｓｓ　：　２５６　（Ｍ＋１），　２５５　（Ｍ）
．　ｍ／ｅ　２３８．　２１２，１２０ 東』ｄ艷四 実施例５９と同様にして、２．２′　−ジクロロ−４．
４′−ジニトロジフエニルエーテルから出発して、２．
２′　−ジクロロ−４．４′　−ジアミノジフエニルエ
ーテル（５．６ｇ、収率６８．７％）１％る． 融点：　１１７−１１８℃ ＩＲ　　（スジａ−Ｌ＞　　：　　３４００，　　３３
００．　　３２００．　　１６３５．　　１６００１４
９０　ｃｒｎ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ，ｐｐｍ＞　’
　５．１２　＜４Ｈ．ｓ），　６．４５（４８，ｓ）．
　　６．７３　　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ）Ｍａｓｓ　
　；　　２７２　（Ｍ＋４），　　２７１　　（Ｍ＋３
）．　　２７０　（Ｍ＋２），２６９　（Ｍ＋１）．　
　２６ｇ　　（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　２３３．　　１９８
．１４２ 犬１ｄｌ競 実施例５９と同様にして、３−メチル−４．４′−ジニ
トロジフエニルエーテルから出発して、３−メチル−４
．４′　−ジアミノジフェニルエーテル（２．６ｇ，収
率３８．５％）を得る．融点：　１４７−１４８℃ ＩＲ　　（スジ１−ル）　　：　　３４１０．　　３３
３０．　　１６２５，　　１４９５．　　１２Ｂ５．１
２１０．　１１４５　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　２．０２　＜３８．ｓ）．　４．５１（２Ｈ．ｂｓ）
．　４．７３　（２１，ｂｓ）．　６．４０−６．７３
　（７Ｈ，ｍ）Ｍａｓｓ　：　２１５　（Ｍ＋１）．　
２１４　（Ｍ），　ｍ／ｅ　１８５，　１７１．１２２ 東１０１牡 実施例５９と同様にして、３．５−ジメチル−４．４１
　−ジニトロジフェニルエーテルから出発して、３．５
−ジメチル−４．４′−ジアミノジフエニルエーテル（
３．４ｇ，収率８５．９％）を得る．融点：　１１８−
１２０℃ ＩＲ　　（スジ曹一ル）　　：　　３４５０，　　３３
５０．　　１６３０．　　１６００．１５１０　ｃ１１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　２．０４　（６Ｈ．ｓ）．　４．２３（２Ｈ．ｓ）．
　４．７０　（２Ｈ．ｓ），　６．４０−６．６５　（
６Ｈ．ｍ）Ｍａｓｓ　：　２２９　（Ｍ＋１）．　２２
８　（Ｍ），　ｍ／ｅ　２１３．　１３６犬簾盈聾 ４−ウレイド−４′　一二トロジフエニルエーテル（７
ｇ）のメタノール（　１００ｍＱ　）およびテトラヒド
口フラン（　１０Ｏｆｆｌｌｌ　）の混合物溶液を、ｌ
Ｏ％パラジウムー炭素（２．５ｇ）の存在下、常温で大
気圧下に３．５時間水素添加する．触媒を濾去し、濾液
を減圧濃縮して、４−ウレイド−４′−アミノジフェニ
ルエーテル（６．１ｇ，収率９７，９％）を得る． 融点：　１６４−１６６℃ ＩＲ　　（スジョール’）　　：　　３４００．　　３
３００．　　３２００．　　１６６０，　　１６００．
１５００　ｃｍ’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　５．２０　（２Ｈ．ｂｓ），５．７３　（２Ｈ．ｓ）
．　　６．５０−６．９０　（６Ｈ，ｍ）．　　７．３
３（２１，ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞．　　８．３０　（ＩＨ．
ｓ）Ｍａｓｓ　　：　　２４４　　（Ｍａ１）．　　２
４３　（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　２２６．　　２００．１７
１ 宜１己ｌ鵠 実施例５９と同様にして、３．３′−ジメチル−４．４
’　　−’；ニトロジフェニルエーテルかラ出発して、
３．３′　−ジメチル−４．４′−ジアミノジフェニル
エーテル（４．３６ｇ、収率８６．Ｏ％）を得る． 融点：　１００−１０２℃ ＩＲ　　（スジ脅一ル）　　：　　３４００，　　３３
５０，　　１６３０，　　１６００。　１５０５．１４
９５　ｃｍ” ＮＭＲ　＜ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ＞　：
　２．００　（６Ｂ，ｓ），　６．５０（４８，ｓ）．
　　７．５０　（６Ｈ．ｂｓ）Ｍａｓｓ　：　２２９　
（Ｍ＋１）．　　２２ｇ　（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　２１３
．　　１９９．１８５．　　１２２ 叉１藁ｌ並 実施例５９と同様にして、硫化４−アセトアミド−２’
−クロロー４′　一二トロジフエニルカラ出発して、硫
化４−アセトアミドー４′−アミノー２′　−クロロジ
フエニル（１０．７ｇ，収率８４．３％）を得る． 融点：　１３３−１３５℃ ＩＲ　　（スジ−１−４）　　：　　３４２５，　　３
３２５．　　１６８０，　　１６３０．　　１６１０１
５９５．　１４６０　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　’
　２．１０　（３Ｈ．ｓ）．　５．７７（２Ｈ．ｓ）．
　６．６０　（ＩＨ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞．　７．１０　
（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９｝１ｚ），　７．２７　（２Ｈ．ｄ
．Ｊ＝９Ｈｚ）．　７。６０　（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ
）．　　９．９７　（ＩＨ．ｓ）Ｍａｓｓ　　：　　２
９５　　（Ｍ＋３）．　　２９４　　（Ｍ＋２＞．　　
２９３　　（Ｍ◆１）．２９２　（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　
２５０．　　２１４叉』１ｌハ 実施例５９と同様にして、４−アミノー３′−シアノー
４′　一二トロジフェニルエーテルから出発して，４．
４’　−ジアミノ−３−シアノジフエ二ルエーテル（　
１．　１１　ｇ、収率５７．２％）を得る．ＮＭＲ　（
ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：　５．１６
　（２Ｈ．ｓ），６．５０−６．９０　（５｝１．ｍ＞
．　７．２０　（ＩＨ．ｄｄ．Ｊ＝３Ｈｚ，６Ｈｚ）．
　８．３０　（ＩＨ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）Ｍａｓｓ　：　
２５６　（Ｍ＋１），　２５５　（Ｍ）．　ｍ／ｅ　２
０９．　１０８Ｘ凰斑μ 実施例５９と同様にして、４−トリプル才ロメタンスル
ホニルアミノ−４′一二トロジフエニル工一テルから出
発して、４−トリフル才ロメタンスルホニルアミノ−４
′−アミノジフェニルエーテル（１２．５ｇ，収率６４
．９％）を得る．融点：　１５５−１５６°Ｃ ＩＲ　　（ヌ九−４）　　：　　３４２０．　　３３４
０．　　１５１０．　　１３７０．１２００　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　６．００　（２Ｈ，ｂｓ），６．５０−６．８０　＜
４Ｈ．ｍ）．　６．８３　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ），
７、１７　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ＞ Ｍａｓｓ　：３３３　（Ｍ＋１），　３３２　（Ｍ），
　ｍ／ｅ　１９９束１０艷η ピリジン（　２００ｍｌｌ　）中４．４′　−ジアミノ
ベンジル（１０．１ｇ）に塩化メタンスルホニル（　４
＋＋１Ｑ）を氷冷攪拌下５゜Ｃで滴下する．ｉ１！合物
を３−７℃で５時間攪拌し、反応混合物を減圧濃縮する
．残渣を水で粉砕し、水洗、真空乾燥して固体を得る，
固体をシリカゲル（シリカゲル６０、７０−２３０メッ
シュ、メルク社製）（５００ｇ）を使用するカラムクロ
マトグラフィーに付し、ジクロロメタンとアセトンとの
混液（５：１）で溶出する．目的化合物を含む両分を合
わせ、減圧濃總して、４−アミノー４′−メタンスルホ
ニルアミノベンジル（５．９ｇ、収率４０，１％）を得
る．ＩＲ　　（ス九−ル）　　＋　　３４５０．　　３
３７５．　　３２００．　　１７０５．　　１６ｇ０，
１６５５．　１５１０　ｃ１１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　２．１４　（３Ｈ．ｓ）．　６．４９（２Ｈ．ｓ）．
　６．５９　（ＩＨ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　７．３０　
（２８，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）．　７．４１　（２Ｈ．ｑ．
Ｊ；９Ｈｚ）．　７．７７　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）
．　７．８７　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　１０．５
０　（ＩＨ．ｂｓ） Ｍａｓｓ　　：　　３１９　（Ｍ＋１）．　　３１Ｂ　
（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　２４０．　　２２４．１９８，　
　１２０ 寞』Ｕ艷ハ ４−アミノー４′一メタンスルホニルアミノベンジル（
１３．３ｇ）およびヒドロ亜硫酸ナトリウム（２０．５
ｇ）のメタノール（　ｚｏｓｍｕ　）、水（　ｇｚｍｅ
　）およびＩＮ水酸化ナトリウム水溶液（　８２ｍＱ　
）中混合物を撹拌下２時間還流する．反応混合物を減圧
濃縮し、残渣を酢酸エチルで粉砕する．沈殿を濾取し、
濾液をシリカゲル（シリカゲル５０、７〇一２３０メッ
シュ、メルク社製）（５００ｇ）を使用するカラムクロ
マトグラフィーに付し、ジクロロメタンとアセトンとの
混液（１０：１）で溶出する．目的化合物を含む画分を
合わせ、蒸発乾固して、２−ヒドａキシ−２−（４−ア
ミノフェニル）−１−（４−メタンスルホニルアミノフ
エニル）エタノン（６．２０ｇ，収率４４．６％）を得
る．融点二８５−９０℃ ＩＲ　　（スジａ−Ｌ＞　　：　　３４５０．　　３３
５０．　　３２００．　　１７１０．　　１６６０，１
５９５．　１４６５　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　２．９５　（３Ｈ．ｓ）．　５．５１（１８，ｄ，Ｊ
＝６Ｈｚ），　　５．８３　　（ｌＨ．ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ
＞．　　６．０３＜２８．ｓ）．　　６．４６　＜２Ｈ
．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　　７．０６　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝
９Ｈｚ），　　７．３０　　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞
．　　７．７０　　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　　９
．７０　（ＩＨ．ｓ）Ｍａｓｓ　　：　　３２１　（Ｍ
＋１）．　　３２Ｇ　（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　３０４．　
　２７５．２００．　　１２０ 亥ｍＪＬ四 実施例５９と同様にして、４−アミノー３′−メトキシ
ー４′　一二トロジフエニルエーテルから出発して、４
．４’　−ジアミノ−３−メトキシジ、フェニルエーテ
ル（５．２３ｇ，収率８５．７％）を得る． 融点：　１００−１０３℃ ＩＲ　　（ｘジｗ−ル）　　：　　３４７５．　　３４
００，　　３３５０．　　１６１５．　　１６０５，１
５０５　ｃｔｒｒ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　３．７０　（３Ｈ．ｓ）．　３．６３（４Ｈ．ｂｓ）
．　　６．２０　　（ＩＨ．ｄｄ．Ｊ＝３Ｈｚ，　　６
Ｈｚ），　　６．４０−６，７０　（６Ｈ劃〉 Ｍａｓｓ　：　２３１　　（Ｍ＋１）．　　２３０　（
Ｍ），　　ｍ／ｅ　２１５．　　１８８東ｊＬＩＬ四 実施例５９と同様にして、２．２′−ジメチル−４．４
′　ジニトロジフエニルエーテルから出発してて４．４
′　−ジアミ／−２．２’　−ジメテルジフエニルエー
テル（５．３３ｇ、収率９７，５％）を得る．融点：　
１１１−１１２℃ ＩＲ　　（Ｘジｍ−Ａ）　　’　　３４００．　　３２
０Ｇ．　　１６６０．　　１６０５．　　１４９５．１
３０５．　１２４０　ａｍ−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　：
２．９５　（６Ｈ．ｓ）．４．６０　（４Ｈ．ｂｓ）．
　６．０７−６．９０　（６Ｈ．ｍ）Ｍａｓｓ　：　２
２９　（Ｍ＋１）．　２２８　（Ｍ），　ｍ／ｅ　１２
２．　１０７罠及ΔＵ 実施例５９と同様にして、２−ジフエニルメトキシ力ル
ボニル−４．４′−シニトロジフェニルエーテルから出
発して、２−ジフェニルメトキシカルボニル−４．４′
−ジアミノジフェニルエーテル（８．８２ｇ，収率ｌｏ
ｔ．　１％）を得る．融点：　１３３−１３５℃ ＩＲ　　＜Ｚジｍ−Ｌ）　　’　　３３５０，　　１７
００，　　１６２５．　　１４９５．　　１３３０．１
３１０．　１２７０．　１２４５．　１２２５　ｃｒａ
−’ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）
　：　４．５０−５．３６　（４Ｈ．ｂｓ）．　　６．
４５−７．５０　（１８Ｈ．ｍ）Ｍａｓｓ　：　　４１
１　　（Ｍ＋１）．　　４１０　（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　
３１８．　　２８３．１６７ 太ｍひ ２−ジフェニルメトキシカルボニル−４．４１−ジアミ
ノジフエニルエーテル（８．８０ｇ）のジクロロメタン
（　４４１１１１！）とア二ソール（　１７．６ｆｆＬ
Ｉｌ　）との混合物溶液に、トリフル才口酢酸（　３５
．２ｆｆｌｌｌ　）を攪拌下５゜Ｃで滴下する．混合物
を室温で２時間攪拌する．反応混合物を減圧濃縮する．
残渣をジインプロビルエーテル（　５００−）に加え、
次いで冷凍室内に一夜放置する．沈殿を濾取してジイソ
プロビルエーテルおよびジエデルエーテルで洗浄し、真
空乾燥して、２−カルボキシ−４．４′−ジアミノジフ
ェニルエーテル（３．３ｇ，収率６４．５％）を得る． 融点：　１４４−１８５℃ ＩＲ　　（スジ昏−ル）　　：　　３５２０．　　３４
５０．　　３３５０．　　１８７Ｇ．　　１６２５．１
５６Ｇ．　１４９５．　１２５５．　１１４５　ａｍ−
１ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　
：５．３０−７．１０（１２Ｈ．ｍ） Ｍａｓｓ　　：　２４５　（Ｍ◆１），　　２４４　（
Ｍ），　　ｍ／ｅ　２００，　　１３６衷』畳艷益 実施例５９と同様にして、２−シアノー４．４′ージニ
トロジフエニルエーテ゛ルから出発して、４．４′　−
ジアミノー２−ンアノジフエニルエーテル（３．３２ｇ
、収率７０．ｌ％）を得る．融点：　１０４−１０６℃ ＩＲ　　（Ｘ九−ル）　　：　　３４２０．　　３３５
０．　　２２５０．　　１６３０，　　１５１５，１３
０５．　１２４０　ｃｍ−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ．ｐｐｍ＞　：
　４．９３　（２Ｈ，ｂｓ）．５．２０　（２Ｈ．ｂｇ
），　６．４６−６．９３　（７Ｈ．ｍ＞Ｍａｓｓ　：
　２２７　（Ｍ＋２）．　２２６　（Ｍ＋１＞，　２２
５　（Ｍ）．ｍ／ｅ　１９６．　　１５７，　　１４９
．　　１０８叉Ｊｌ靭 ４．４１−ジアミノー３−メテルジフエニルケトン（１
５ｇ）の酢＃　（　１５０ｍＱ　）溶液に、無水酢酸（
１６ｇ）を攪拌下１０℃で滴下する．屈合物を室温で１
．５時間攪拌する．反応混合物を攪拌下氷水中に注ぐ．
沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して固体を得る．固体をエ
タノールから再結晶してＡ　４。 ４′　−ジアセトアミド−３−メチルジフェニルケトン
（１５．２ｇ、収率７３．９％）を得る．融点：　２１
７−２１８℃ ＩＲ　　（Ｘジｉ−４）　　’　　３２７０．　　３１
７０．　　１６６５．　　１６００．　　１５５０．１
５３０　ｃｒｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ．ｐｐａ＋）　
’　２．１７　（３Ｈ．ｓ）．　２．２０（３Ｈ．ｓ）
，　２．３８　（３８，ｓ），　？、７３　（２Ｈ．ｄ
，Ｊ＝８Ｈｚ）．７．８０　（５Ｈ．ｍ）．　９．４７
　（ＩＨ．ｓ）．　１０．３５　（ＬＨ，ｓ）Ｍａｓｓ
　：　３１１　（Ｍａ１），　３１０　（Ｍ），　ｍ／
ｅ　２６８．　２５３，２２６．　２１１ 東』０』牡 実施例５２と同様にして、４−アセトアミド−４′　一
二トロ−２′　−クロロジフェニルケトンから出発して
、４−アセトアミドー４′−アミノー２′−クロロジフ
ェニルケトン（７．７０ｇ，収率９９，７％）を得る． 融点＋　１６２−１８５”Ｃ ＩＲ　　（スジｉ４）　　：　３４００．　　３３２０
．　　３２００．　　１６６５．　　１６４０，１６０
０，　１５４５．　１３１５　ｃｍ−’ＮＭＲ　（ＤＭ
ＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ＞　：　２．１５　（
３｝１．ｓ＞．　６．０３（２Ｈ．ｂｓ），　　６．５
３−６．８０　（２Ｈ，ｍ），　　７．２３　（ＩＨ．
ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞．　　７．７０−７．８０　（４Ｈ，
ｍ），　　１０．３０　＜１８，ｂｓ）Ｍａｓｓ　　：
　　２９１　　（Ｍ＋３）．　　２９０　（Ｍ＋２），
　　２８９　（Ｍ＋１）．２８８　　（Ｍ）．　　ｍ／
ａ　２４ｇ．　　２４６．　　１５４．　　１２０東』
饗生婬 実施例５３と同様にして、４−アセトアミドー４′　−
アミノー２′−クロロジフエニルケトンから出発して、
４．４′−ジアミノー２−クロロジフェニルケトン（　
８．　９８　ｇ、収率５９．０％）を得る．融点：８７
−９５℃ ＩＲ　　（スジａ−４）　　：　　３３５０，　　３２
００，　　１６４０，　　１６３０．　　１５８５，１
５４０．　１３２０，　１２８０．　１２４０　ｃｍ”
ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　５．４７　（４｝１．ｍ）．６．５０−６．７７　（
４Ｈ，ｍ）．　７．０７　（ＩＨ，ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ＞，
７．４７　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ） Ｍａｓｓ　：　２４９　（Ｍ＋３＞，　２４８　（Ｍ＋
２）．　２４７　（Ｍ＋１＞．２４６　　（Ｍ）．　　
ｍ／ｅ　　１５４．　　　１２０東１ｄ艷競 実施例５２と同様にして、４−アセトアミド−２−メチ
ル−４′　一二トロジフエニルケトンカラ出発して、４
−アセトアミドー２−メチル−４′ーアミノジフエニル
ケトン（１９．９４ｇ，収率９４．７％）を得る． ＩＲ　　（ニート）　　：　　３５００．　　　３３５
０，　　　３２３０．　　　３０１０．　　　１６８０
−１５００．　１４４０．　１４１０−１３７０．　１
３３０−１２４０．　１２２０．　１１７０　ａｍ’Ｎ
ＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　７　
２．１０　（３Ｈ．ｓ）．　２．２０（３Ｈ．ｓ）．　
６．１５　（２Ｈ．ｂｓ）．　６．６０　（２Ｈ．ｄ．
Ｊ：９Ｈｚ＞．　７．２０　（ＬＨ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）
，　７．３７−７．６３（４Ｈ，ｍ），　１０．０３　
（ＩＨ，ｂｓ）Ｍａｓｓ　：　２６９　（Ｍ＋１）．　
２６９　（Ｍ）．　ｍ／ｅ　２６７．　２５１．２２５
．２０９，１３４，１２０ 東』畳沈む 実施例５３と同様にして、４−アセトアミド−２＝メチ
ル−４′−アミノジフェニルケトンから出発して、４．
４’　−ジアミノー２−メチルジフェニルケトン（２．
９ｇ，収率ｌ７．８％）を得る．融点：　１３８−１３
９℃ ＩＲ　　（スジｓ−ｘ）　　：　　３４９０，　　３４
２０．１５９５．　　１５５０， １２９０　ｃ１ｌ ３３３０． １４４０． ３２２０． １３２０． １６３５， ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　２．１８　（３Ｈ．ｓ）．　５．４８（２Ｈ．ｂｓ）
，　　５．９５　（２Ｈ．ｂｓ）．　　６．３０−６．
７７　（４Ｈ．ｍ）．　　７．０３　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝
９Ｈｚ＞，　　７．４５　（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝９ＨＺ） Ｍａｓｓ　　：２２７　（Ｍ＋１）．　　２２６　（Ｍ
）．　　ｍ／ｅ　２２５．　　２１０，２０９，　　！
３４．　　１２０ 東１０４匹 アセトアニリド（０．５８ｇ），無水塩化アルミニウム
（３．４１ｇ）およびニトロベンゼン（１−）の混合物
を室温で３０分間攪拌する．混合物を１００℃で攪拌し
、次いで塩化４−アセトアミド−３−クロロベンゾイル
（　１．０９ｇ　）を加える．混合物をｔｏｏ’ｃで２
．５時間攪拌し水冷撹拌下水中に注ぐ．沈殿を濾取して
水および炭酸水素ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、真空
乾燥して、４．４′−ジアセトアミド−３−クロロジフ
エニルケトン（　０．　２５ｇ、収率１７．６％）を得
る． 融点２０７−２０９’Ｃ ＩＲ　　（スジａ４）　　：　　３４００．　　３２ｇ
０．　　１７１０．　　１６５５，　　１５９５．１５
１０．　１３０５．　１２６５　ｃｍ−’ＮＭＲ　　（
ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　　２．１２　
　（３Ｈ．ｓ），　　２、２０（３Ｈ．ｓ）．　７．５
３−７．９０　（６Ｈ．ａ＋）．　８．０８　（ＩＨ．
ｄ．Ｊ；８Ｈｚ＞．　９．６７　（ＩＨ．ｂｓ）．　１
０．３２　（ＩＨ，ｂｓ）Ｍａｓｓ　：　３３２　（Ｍ
＋２），　３３１　（Ｍ＋１＞．　３３０　（Ｍ）．ｍ
／ａ　２９４．　２８８，　２４６，　１５４，　１２
０実施例８６ 実施例５３と同様にして、４．４’　−ジアセトアミド
−３−クロロジフエニルケトンから出発して，４；４’
　−ジアミノー３−クロロジフエニルケトン（２．２ｇ
、収率６８．６％）を得る．融点：　１６６−１７０℃ ＩＲ　　（スジａ−ル）　　：　　３４９０．　　３３
５０．　　３２００，　　１６３０．　　１５ｇ０，１
５５０．　１３３０．　１３１０，　１２８５．１１７
５　ｃｒｔｒ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　６．９３　（２｝１．ｂｓ），６．０７　（２Ｈ．ｂ
ｓ）．　６．５５−６．９２　（３Ｈ，ｍ），　７．３
３−７．６３　　（４Ｈ．ｍ） Ｍａｓｓ　　：　　２４８　（Ｍ＋２）．２４７　（Ｍ
＋１），２４６　（Ｍ）．ｍ／ｅ　　１９９．　　１７
１，　　１５６，　　１５４，　　１２６．　　１２０
大Ｕ虹 実施例５２と同様にして、４−アセトアミド−４′一二
トロ−３．３′−ジメチルジフエニルケトンから出発し
て、４−アセトアミドー４′アミノー３，３′−ジメテ
ルジフェニルケトン（１０．０６ｇ、収率４７．６％）
を得る．融点：　１６３−１６５℃ ＩＲ　　（ニート）　　　：　　３４５０．　　　３３
５０，　　　３２５０．　　　１６５０．　　　１６３
０．１８００．　１５８０．　１５２５，　１３３０．
　１３０５．１２８０　ａｍ’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ＞　’
　２．１０　（３Ｈ．ｓ）．　２．３０（３８，ｓ）．
　５．８７　（２Ｈ．ｂｓ）．　６．６８　（ＬＨ．ｄ
．Ｊ＝９Ｈｚ），　７．４５−７．８３　（５Ｈ，ｍ＞
．　９．４２　（ＩＨ．ｂｓ）Ｍａｓｓ　：　２８３　
（Ｍ＋１＞，　２８２　（Ｍ）．　ｍ／ｅ　２６７．　
２４５，１４９．　１３４ 東ＪＪＬ競 実施例５３と同様にして、４−アセトアミドー４″　−
アミノー３．３′−ジメデルフェニルケトンから出発し
て、４．４′−ジアミノ−３．３′ジメチルジフェニル
ケトン（１．０７ｇ，収率３９．３％）を得る． 融点：　１２６−１３１’Ｃ ＩＲ　　（スジ＠−Ｌ’）　　：　　３４００．　　３
３３０．　　３２００．　　１６２５．　　１５ｇ０．
１５６５．　１５００．　１４３０．　１３２０．　１
３００．１２６０　ａ１ｌ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　１．９３−２．１０　（６Ｈ．ｍ）．４．９３　（２
Ｈ．ｂｓ），　５．６７　（２Ｈ．ｂｓ）．　６．４７
−７．４３（６Ｈ．ｓｅ） Ｍａｓｓ　　：　２４１　　（Ｍ＋１）．　　２４０　
（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　２３０．　　１３４．１０６ 塞』む艷競 実施例８５と同様にして、アセトアニリドおよび塩化４
−フルオロベンゾイルから出発して、４ーアセトアミド
ー４′−フルオロジフェニルケトン（４．４３ｇ，収率
３３．３％）を得る．ＩＲ　　（二一！）　　：　　３
５００，　　　３３００，　　　３２００．　　　３１
００．　　　１７００．１６９０，　　１６８０．　　
１６５０．　　１６００．　　１５３０．１５１０．　
１４１Ｇ，　１３７０．　１３１５　ｃｍ−’ＮＭＲ　
（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：　２．１
３　（３Ｈ．ｓ），７．１０−７．８９　（８Ｈ．ｍ）
．　　１０．７０　（ＬＨ．ｂｓ）Ｍａｓｓ　　；　２
５ｇ　（Ｍ＋１＞．　　２５７　（Ｍ）．ｍ／ｅ　２１
５．１７７．１４０ 束』己ｌ四 実施例５３と同様にして、４−アセトアミド−４′　−
フル才ロジフェニルケトンから出発して、４−アミノー
４′　−フルオロジフエニルケトン（１．０６ｇ、収率
２８．８％）を得る．融点：　１２６−１２８℃ ＩＲ　　（スジ書−４）　　：　　３４５０．　　３３
５０．　　１６３０．　　１６００．　　１５ｇ０．１
３２０．　１２３０　ｃｍ’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ，ｐｐａ＋）　
：　６．１７　＜２Ｈ，ｂｓ）．６．６３　（２Ｈ．ｄ
．Ｊ＝９Ｈｚ＞．　７．１３−８．００　（６Ｈ，ｍ）
Ｍａｓｓ　：　２１６　（Ｍ＋１＞．　２１５　（Ｍ）
．ｍ／ｅ　　１８６．　　１２０ 束１０４鮭 実施例５２と同様にして、３．５−ジクロロ−４−アミ
ノー４′一二トロジフェニルケトンから出発して、３．
５−ジクロロ−４．４′　−ジアミノジフエニルケトン
（６．　８７　ｇ、収率８８．８％）を得る．融点ｉ　
１７４−１７６℃ ＩＲ　　（二−｝）　　：　　３４２０．　　３３２０
．　　１７４０−１７００．　　１５８０．１５２５．
　ｔ３４５．　１２８５．　１１７５　０ｒａ−”ＮＭ
Ｒ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　：　５
．７７−６．２７　（４Ｈ．ｂｍ）．　６．５３−６．
９３　（２Ｈ．ｍ）．　７．３３−７．６６　（４Ｈ．
ｍ）Ｍａｓｓ　　：　　２８２　　（Ｍ＋１），　　２
８１　　（Ｍ）．　　ｍ／ｅ　　２８０．　　２４８，
２４６，　２１１，　１５４．　１２０塞１０１婬 ４−アセトアミド−３．５−ジメテル−４′二トロジフ
ェニルケトン（１２．２ｇ）および塩化アンモニウム（
１．２５ｇ）のエタノール（　１２０Ｉｌ１１１　）、
テトラヒドロフラン（　６０１１１１１　）および水（
　６０ｍｔ　）の混合物溶媒中混合物に、鉄粉（１２．
５ｇ）を攪拌下８０℃で少量ずつ分割して加える．ｉ１
！合物を攪拌下１．５時間還流する．反応混合物を吸引
濾過し、濾液の溶媒を減圧下に留去する．残渣に水を加
え、酢酸エチルで抽出して水洗し、硫酸マグネシウムで
乾燥する．濾過後、濾液の溶媒を減圧下に留去して、４
−アセトアミドー３．５−ジメチル−４′−アミノジフ
エニルケトン（１０．７ｇ，収率９７．０％）を得る． 融点＋　１７３−１７５°Ｃ ＩＲ　　（スジ謬−ル）　　：　　３４５０．　　３３
５０，　　３２５０，　　１７３０，　　１６７０，１
６４５，　１６２０．　１５８５．　１３１５　ｃｍ”
ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　２．００　（３Ｈ．ｓ），　２．１０（３Ｈ，ｓ），
　２．２７　（３８，ｓ）．　６．２２　（２Ｈ．ｂ−
ｓ）．６．６０　（２｝１．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）．　７．
０３　（１｝１．ｄ．．Ｃ８Ｈｚ＞．７．２３　（ＩＨ
．ｄ．Ｊ＝８｝１ｚ）．　７．５０　（２Ｈ，ｄ．Ｊ＝
９Ｈｚ），９．３３　（ＬＨ．ｓ） Ｍａｓｓ　：　２８３　（Ｍ＋１）．　２８２　（Ｍ）
．　ｍ／ｅ　２Ｂ７，　２３９，２２４ 叉１目生り ４−アセトアミド−３．５−ジメデル−４′アミノジフ
ェニルケトン（８．０ｇ）のエタノール（　１６０１ｄ
　）および濃塩＃　（　６０ｍＱ　）中混合物を攪拌下
２４時間還流する．反応混合物を２Ｎ水酸化ナトＪウム
水溶液で水冷下ｐＨ９．　０にｌｌｔする．浣合物を水
冷下１時間攪拌し、沈殿を減圧下に濾取して固体を得る
． 固体をシリカゲル（シリカゲル６０、７０−２３０メッ
シュ、メルク社製）（２５０ｇ）を使用するカラムクロ
マトグラフィーに付し、メタノールとクロロホルムとの
混液（１：３０）で溶出する．目的化合物を含む画分を
合わせ、減圧濃縮して、４．４’　−ジアミノ−３．５
−ジメチルジフエニルケトン（２．８Ｇ．、収率５４．
８％）を得る．融点：　２０２−２０４’Ｃ ＩＲ　　（スジＩ−４＞　　＋　　３４７０．　　３３
５０，　　３２００．　　１６２５．　　１５９０．１
３２０　ａｍ−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　’
　１．８７　（３Ｈ，ｓ）．　２．１０（３Ｈ．ｓ）．
　４．６３　（２Ｈ．ｓ）．　６．０５　（２Ｈ．ｓ）
．　６．３０（ＩＨ．ｄ．Ｊ＝７Ｈｚ＞．　６．５３　
（２Ｈ．ｄ．Ｊ；９Ｈｚ＞．　６．８７（ＩＨ．ｄ．Ｊ
＝７Ｈｚ）．　７．４０　（２Ｈ．ｄ．Ｊ：９Ｈｚ）Ｍ
ａｓｓ　：　２４１　（Ｍ＋１）．　２４０　（Ｍ）．
　ｍ／ａ　２２５．　２１０．１２０ 東１口艷Ｕ ４−Ｎ−エチルアミノー３−メチル−４′一二トロジフ
ェニルケトン（５．３０ｇ）および塩化アンモニウム（
０．６ｇ）のエタノール（　１１Ｇ１ｄ　）、テトラヒ
ド口フラン（　５５ｆｆｌｌｌ　）および水（　５５１
Ｑ　）の混合溶媒中混合物に、鉄粉（５．９７ｇ）を攪
拌下８０゜Ｃで少量ずつ分割して加える．混合物を攪拌
下１時間還流する．反応混合物を減圧濾過し、濾液を減
圧濃縮する． 残渣を水で粉砕し、沈殿を濾取する．固体をエタノール
から再結晶して、４−Ｎ一エチルアミノー３−メチル−
４′−アミノジフエニルケトン（３．４４ｇ）を得る． 融点：　１４７−１４８℃ ＩＲ　　（スジｍ−ＩＬ）　　’　　３４００，　　３
３５０．　　３２５０．　　１６５０．　　１６２５，
１５９５．　１５６０．　１４４０．　１４２５．１３
１５　ａｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　１．２５　（３１，ｔ．Ｊ＝７Ｈｚ）．　２．２０　
（３｝１，ｓ）．　２、９７−３．５０　（２Ｈ．ｍ）
，４．９７　（１｝１．ｔ．Ｊ＝６Ｈｚ）．　６．０７
　（２１，ｓ）．　６．６７（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）
．　　６．７０−６．９０　　（２Ｈ．ｍ）．　　７．
１５（ＬＨ，ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ）．　　７．６３　（２Ｈ
．ｄ．Ｊ＝９Ｈｚ）Ｍａｓｓ　　：　　２５５　（Ｍ＋
１）．　　２５４　（Ｍ），　　ｍ／ｅ　２３９．　　
２２５．１８０ 東ｍ四 硫化４−アセトアミドベンジル−４′−ニトロフエニル
（ｔｓ．Ｏｇ）およヒ塩化アンモニ’）ム（２．０ｇ）
のテトラヒドロフラン（　３００１１１　）　、エタノ
ール（　３００ｍＱ　）および水（　１００ｍＱ　）　
（ｙ）混合溶媒中混合物に、鉄粉（１５．０ｇ）を攪拌
下８０゜Ｃで少量ずつ分割して加える．ｆｉ金物を攪拌
下２時間還流する，反応混合物を吸引濾過し、濾液を減
圧濃縮する．残渣を水で粉砕し、沈殿を濾取、水洗、真
空乾燥して、硫化４−アセトアミドベンジル−４′−ア
ミノフェニル（１１．５ｇ、収率６３．８％）を得る．
ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　２．０６　（３｝１．ｓ）．　３．９０（２Ｈ．ｓ）
．　５．３０　（２Ｈ，ｓ），　６．５３　（２Ｈ．ｄ
．Ｊ＝８Ｈｚ）．７．　Ｇｏ−７。３０　（４Ｂ，ｍ）
．　７．５０　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ＞．９．９０　
（１８，ｓ） Ｍａｓｓ　：　Ｍ＋１２７３．　Ｍ　２７２，　ｍ／ｅ
　２２９．　２１６，　１８３．１４８．　　１０６ 東』Ｕ艷四 硫化４−アセトアミドベンジル−４゛−アミノフエニル
（４．０ｇ）の酢酸エチル（　１５Ｑｍｌｌ　）および
Ｎ．Ｎ−ジメテルホルムアミド（　３９ｍＱ　）の混合
物溶液に、３−クロロ過安息香ａ（６．０ｇ）の酢酸エ
チル溶液を攪拌下５℃で滴下する．混合物を室温で２６
時間攪拌する．反応ａ合物を炭酸水素ナトノウム水溶漬
中に注ぎ、水冷下１時間攪拌する．混合物を吸引濾過し
、濾液を酢酸エチルとテトラヒドロフランとの混合物で
抽出する．有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液および水
で洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥する．溶媒を
減圧濃縮して、４−（４−アセトアミドベシジルスルホ
ニル）アニリン（４．０ｇ、収率８９，４％）を得る．
融点：　２４０−２４５゜Ｃ（分解） ＩＲ　　（スジ−ａ−４）　　’　　３５００．　　３
３５０，　　３２５０，　　１６６０，　　１５９５．
１５１５　ａｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　：
　２．００　（３Ｈ．ｓ）．　４．３０（２Ｈ．ｓ），
　６．００　（２Ｈ，ｓ）．　６．５５　（２Ｈ．ｄ．
Ｊ＝８Ｈｚ）．７．１５　（４Ｈ．ｄｄ．Ｊ＝４Ｈｚ．
　　８Ｈｚ＞．　　７．４６　（２Ｈ．ｄ．．Ｃ８Ｈｚ
）．　　９．９０　（ＬＨ．ｓ）Ｍａｓｓ　：　Ｍ”　
３０４．　Ｍ　３０３．　ｍ／ｅ　２６０，　２４０，
　１９７，１４８．　　１０６ 叉１０４ｒ ４−（４−アセトアミドベンジルスルホニル）アニリン
（４．４ｇ）の濃塩酸（　２０１Ｑ　）およびエタノー
ル（　１００１ｄ　）中混合物を撹拌下５時間還流する
．反応混合物を減圧濃縮し、残渣を水に溶解する．ｍ液
を炭酸水素ナトリウム水溶液で水冷攪拌下ｐｔｔｓに調
整する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、４−（４−
アミノベンジルスルホニル）アニリン（２．５ｇ、収率
６５．７％）を得る．融点：　２４５−２５０℃（分解
） ＩＲ　　（ス九−ル）　　ｉ　　３３５０．　　３２５
０，　　１６３０，　　１６１０．　　１５９５，１５
１５．　１２８０　ａｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ＞　’
　４．１３　（２Ｈ．ｓ）．　５．１０（２Ｈ．ｓ），
　６．００　（２Ｈ．ｓ）．　６．４５　（２Ｈ．ｄ．
Ｊ：８Ｈｚ）．６．６７　（４Ｈ．ｄｄ．Ｊ＝４｝１ｚ
．　８Ｈｚ）．　７．２３　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ） Ｍａｓｓ　：　Ｍ”　２６３．　Ｍ　２６２．　ｔａｌ
ｅ　２１１，　１９７，　１５６．１０６ 束』ｄ生り １．１−ビス（４−アミノフェニル）−１−ヒドロキシ
イミノメタン（６．７ｇ）．沃化インブロビル（ｌＯ．
２ｇ）および炭酸カリウム（６．２ｇ）のＮ．Ｎ−ジメ
チルホルムアミド（　６７ｍｌ１　）中混合物を室温で
７時間攪拌する．反応混合物を氷水中に注ぎ、沈殿を濾
取、水洗、真空乾燥して固体を得る．固体をシリカゲル
（シリカゲル６０、７０−２３０メッシュ、メルク社製
）（５００ｇ）を使用する力ラムクロマトグラフィーに
付し、クロロホルムとメタノールとの混液（１０：１）
で溶出する．目的化合物を含む画分を合わせ、減圧濃縮
して、１．１−ビス（４−アミノフエニル）−１−イン
ブロボキシイミノメタン（０．８８ｇ，収率１１．１％
）を得る． ＮＭＲ　（ＣＤＣＩ３．９０ＭＨｚ，ｐｐｍ＞　７　１
．２０　（６Ｈ．ｄ．Ｊ＝３Ｈｚ＞，３．４０−３．８
　（４Ｈ．ｂ−ｓ），　４．００　（ＩＨ．ｍ）．　６
．４０−６．７０　（２Ｈ．ｍ），　７．２０−７．５
０　（２Ｈ．ｍ＞Ｍａｓｓ　：　Ｍ＋１２７０．　Ｍ　
２６９，　ｍ／ｅ　２５４．　２３９，　２１０，１９
６ 叉』藁艷昶 実施例５２と同様にして、４−アセトアミド−３．６−
ジメチル−４′一二トロジフエニルケトンから出発して
、４−アセトアミドー３．６−ジメチル−４′　−アミ
ノジフェニルケトン（　１２．６ｇ、収率８９，９％）
を得る． 融点：　２１１−２１３゜Ｃ ＩＲ　　（ス九−ル）　　：　　３４５０，　　３３５
０，　　３２８０．　　１６５５．　　１５９０．１５
２５　ｃｍ” ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ，ｐｐｍ）　’
　２．１３　（６｝１．ｍ）．　２．２０（３Ｈ．ｓ）
．　６．１７　（２Ｈ．ｂ−ｓ），　６．６０　（２Ｈ
．ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ）．　７．０７　（ＬＨ．ｓ）．　７
．４０−７．６０　（３Ｈ．ｍ＞．９．３０　（ｌＨ．
ｂ−ｓ） Ｍａｓｓ　：　Ｍ　２８２．　ｍ／ｅ　２ｇ１，　２６
５，　２３９．　２２４衷遍１１東 実施例５３と同様にして、４−アセトアミド＝３．６−
ジメテル−４′−アミノジフエニルケトンから出発して
、３．６−ジメチル−４．４’　−ジアミノジフエニル
ケトン（３．８４ｇ，収率６４．５％）を得る． 融点：　２０３−２０４℃ ＩＲ　　（ス九−ル）　　：　　３５００，　　３４０
０，　　３３６０，　　３２４０．　　１６２５．１５
９０．　１５６５　ｃｍ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　２．０７　（３Ｈ．ｓ），　２．２０（３Ｈ．ｓ）．
　５．２７　（２Ｈ．ｂ−ｓ）．　５．９７　（２Ｈ．
ｂ−ｓ）．６．５３−６．８０　（３Ｈ．ｍ）．　６．
９７　（ＬＨ，ｓ），　７．５０（２Ｈ．ｄ，Ｊ＝８｝
１２） Ｍａｓｓ　：　Ｍ”　２４０，　Ｍ　２４０，　ｍ／ｅ
　２３９．　２２３．　１４８衷韮』４吋 ４．４′−ジアミノー３−メチルジフエニルケトン（５
．４ｇ）のエチレングリコールジエチル工一テル（　５
５１１１２　）　！液に、水素化ホウ素ナトリウム（１
．８１ｇ）および水酸化カリウム（０．１２ｇ）の水（
　ＩＯＩＩＩＱ　’）中混合物を攪拌下７０６Ｃで滴下
する．混合物を７０゜Ｃで２時間攪拌する．反応混合物
を塩化ナトリウム飽和水溶液中に攪拌下に注ぐ．沈殿を
濾取、水洗、真空乾燥して、４．４′−ジアミノー３−
メチルベンゾヒドロール（４．５４ｇ，収率８３．３％
）を得る， 融点：６２℃ ＩＲ　　（スジジール）　　：　　３４２０，　　３３
５０，　　３１７０．　　１６１５，　　１５１０．１
２８０　ｃｍ−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，９０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　：
　２．００　（３Ｈ，ｓ）．　４．５６（２Ｈ．ｂ−ｓ
）．　　４．７７　（２Ｈ．ｂ−ｓ），　　５．０７　
（ＬＨ．ｄ，Ｊ＝４。５Ｈｚ）．　　５．２９　（ＬＨ
．ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ）．　　６．３０−６．５３　（
３Ｈ．ｍ）．　　６．６７−６．９７　＜４Ｈ．ｍ）Ｍ
ａｓｓ　　：　　Ｍ　２２８．ｍ／ｅ　２２６，２２４
，２１４，２１２．２１０衷韮１則り ４．４’　　−ジアミノー３−メチルジフェニルケトン
（６．１ｇ）（７），’タノ−　ル（　６１ｍｌｌ　）
溶液に、〇一メチルヒドロキシルアミン・塩ｍ塩（１３
．５ｇ）を攪拌下室温で加える．混合物を室温で１８．
５時間攪拌する．反応混合物を減圧濃縮する．残渣を水
で希釈し、次いでＩＮ水酸化ナトリウム水溶液で水冷下
にｐＨ１２に調整する．残渣を酢酸エチルで抽出し、水
洗して硫酸マグネシウムで乾燥する．有機層を減圧濃縮
して固体を得る．固体をエタノールおよび水で粉砕し、
沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、４．４′　−ジアミ
ノー３−メチルジフエニル−１−メトキシイミノメタン
（５．７５ｇ，収率８１．６％）を得る． 融点：　９２−９７”Ｃ ＩＲ　　（スジ曹−ル）　　：　　３４００，　　３３
５０．　　３１７０，　　１６４０，　　１６１０．１
５１５　ｃａｂ−’ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６．６０ＭＨｚ．ｐｐｍ）　’
　２．０５　（３Ｈ，ｓ）．　３．７７（３Ｈ．ｓ），
　５．１０　（２Ｈ，ｂ−ｓ），　５．３２　（２１，
ｂ−ｓ），６．４３−７．２０　（７１，ｍ） Ｍａｓｓ　：　Ｍ　　２５６．　Ｍ　２５５，　ｍ／ｅ
　２２５，　２２４束遍土はり １．１−ビス（４−アセトアミドフェニル）−１−ヒド
ロキシイミノメタン（５．０ｇ）のエタノール（１００
ＩＩＩＱ）およびＩＮ水酸化ナトリウム水溶液（　ｌｏ
ｏｍＱ　）中混合物をＦ９１拌下２６時間還流する．反
応混合物を減圧濃縮し、残清を塩酸で水冷下ｐＨ７に調
整する．沈殿を濾取、水洗、真空乾燥して、１．１−ビ
ス（４−アミノフェニル）１−ヒドロキシイミノメタン
（　３．０ｇ　，　収率８８．０％）を得る． 融点：　１９ｇ−２００℃ ＩＲ　　（ス九−ル）　　：　　３４７５．　　３４０
０，１５２０．　　１３２５ Ｎ　ＭＲ　（　ＤＭＳｏ−ｄ　ｓ　，　９　０　ＭＨｚ
　．ｐｐｍ　＞６．４６　　（２Ｈ．ｄ．Ｊ＝６｝１ｚ
），６．９５　　（２Ｈ，ｄ．Ｊ＝６Ｈｚ）．Ｍａｓｓ
　：　Ｍ＋１２２８．　Ｍ　２２７．３２５０．　　１
６２０．　　１６０５，ｃｍ’ ：　　５．３０　　（４Ｈ，ｂ−ｓ）．６．５３　　（
２Ｈ．ｄ．Ｊ＝６Ｈｚ＞，７．０３　　（２Ｈ，ｄ．Ｊ
＝６Ｈｚ＞ｍ／ｅ　２１０．１９６．１２０

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｒ＾１はハロゲン、アミノ基、保護されたアミ
   ノ基、ヒドラジノ基、アミノベンゼンスルホニルアミノ
   基、保護されたアミノベンゼンスルホニルアミノ基、低
   級アルカンスルホニルアミノ基、アミノフェノキシ基、
   ヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基、 Ｒ＾２はハロゲン、ジ（低級アルカンスルホニル）アミ
   ノ基、低級アルキルアミノ基、アミノ基、保護されたア
   ミノ基、ヒドラジノ基、保護されたヒドラジノ基、ハロ
   （低級）アルカンスルホニルアミノ基または低級アルカ
   ンスルホニルアミノ基、Ｒ＾３は水素、低級アルキル基
   、ハロゲン、シアノ基、カルボキシ基、保護されたカル
   ボキシ基、低級アルカンスルホニルアミノ基、ヒドロキ
   シ基または保護されたヒドロキシ基、 Ｒ＾３＾ａは水素または低級アルキル基、 Ｒ＾４は水素、低級アルキル基またはハロゲン、Ｒ＾４
   ＾ａは水素、低級アルキル基またはハロゲン、Ａは−Ｃ
   Ｈ（ＯＨ）−、−ＣＨ＿２−、−ＣＯ−、−ＣＯＣＨ（
   ＯＨ）−、−ＣＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ
   −、−ＳＯ−、−ＳＯ＿２−、−ＣＯＣ（＝ＮＯＲ＾ｂ
   ）−（式中、Ｒ＾ｂは水素または低級アルキル基を意味
   する）、−Ｃ（＝ＮＯＲ＾ａ）−｛式中、Ｒ＾ａは水素
   、低級アルキル基、低級アルケニル基、カルボキシ（低
   級）アルキル基または保護されたカルボキシ（低級）ア
   ルキル基を意味する｝、−ＳＯ＿２Ｎ（Ｒ＾Ｃ）−（式
   中、Ｒ＾Ｃは水素または低級アルキル基を意味する）、
   −ＣＨ＿２Ｓ−または−ＣＨ＿２ＳＯ＿２−を意味する
   ］で示されるジフェニル化合物および医薬として許容さ
   れるその塩類。