JPH0348443A - 半導体ウェーハ切断方法 - Google Patents

半導体ウェーハ切断方法

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JPH0348443A
JPH0348443A JP1161278A JP16127889A JPH0348443A JP H0348443 A JPH0348443 A JP H0348443A JP 1161278 A JP1161278 A JP 1161278A JP 16127889 A JP16127889 A JP 16127889A JP H0348443 A JPH0348443 A JP H0348443A
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JP
Japan
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wafer
semiconductor wafer
cut
cutting
double
Prior art date
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Pending
Application number
JP1161278A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshimi Nakamura
中村 俊美
Toshio Yamamoto
俊夫 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd, Kansai Nippon Electric Co Ltd filed Critical Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
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Publication of JPH0348443A publication Critical patent/JPH0348443A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産1コ」lt且公盟. 本発明は半導体ウェーハをダイシング・ブレードにて切
断する方法に関し、特に両面バンプ電極半導体ウェーハ
のスルーカットに好適するものである。
従速ヱU幻紅 ダイシング・ブレードによる半導体ウエーハ切断方法は
、レーザー光によるものに比べ、切断時におけるウェー
ハへの損傷が少ない等の特長があるため広く使われてい
る。
この切断方法を第4図ないし第8図を用いて説明する。
各図において1及びla,lbはバンプ電極,2は半導
体ウェーハ,3は粘着テープ,5はダイシング・ブレー
ド.6はX−Yテーブル,7は吸引穴を示す。
第4図は片側バンプ電極半導体ウェーハ2のハーフ●カ
ッティング中の様子を示す断面図で、粘着テープ3上に
接着した半導体ウェーハ2をX一Yテーブルθ上に載せ
、吸引穴7を通じて吸着した上で、高速回転させたダイ
シング・ブレード5により、半導体ウェーハ2の中程の
深さでカッティングするもので、次工程にてプレーキン
グすることにより、半導体ベレット単体に分割する。
第5図は、片面バンプ電極半導体ウェーハ2のスルーカ
ッティング中の様子を示す断面図で、X−Yテーブルe
上に吸着させた半導体ウエーハ2を、ダイシング・ブレ
ード5により、粘着テーブ3にまで達する深さでカッテ
ィングするもので、次工程のブレーキングが不要になる
利点がある。
又、第6図は、両面バンプ電極半導体ウェーハ2のスル
ーカッティング中の様子を示す断面図で、上面にグリー
スl2を塗布したガラス板4上に半導体ウェーハ2を載
置,圧着し、それらを吸着穴7により、x−yテーブル
6上に吸着させ、ダイシング・ブレード5によりグリー
スl2に達する深さまでスルーカッティングするもので
ある。
第6図に示した方法において、半導体ウェーハ2の切断
点下部は、粘稠物であるグリース12で保持されている
だけであるため、高速回転するダイシング・ブレード5
によって生じる応力によって、半導体ウェーハ2の切断
面にクラック痕8が生じ、半導体ペレットの電気的特性
の劣化が発生して、歩留りの低下の要因となる。
本発明は、両面バンプ電極ウェーハのスルーカット時に
生じる半導体ウェーハの不良を低減させ、歩留り改善を
図るものである。
の 本発明は、上記問題に鑑み提案されたもので、両面バン
プ電極半導体ウェーハをダイシング・ブレードにて切断
するに際して、半導体ウェーハの少なくとも下面側を固
形物により、保持あるいは補強した状態で切断する方法
を提供するものである。
詐』一 上記の構成によれば、半導体ウェーハを保持,補強する
ことにより、切断時に生じる応力を低減させるか、もし
くは、分散させ、半導体ウェーハに応力が作用すること
を防ぐ。
尖胤檄 以下、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。
尚、以下の記述において、従来技術を示す第6図と同一
の構成部材は同一の参照符号で表示し、重複する事項に
関しては説明を省略する。
第1図は、半導体ウェーハの切断中の様子を示す断面図
で、この方法は、半導体ウェーハ2及びバンプ電極1a
,lbで構成される凹凸部を熱あるいはl光線及びその
他化学反応で硬化,固形化し、又、硬化,固形化したも
のは、洗浄,熱,光線等で、容易に取り除くことができ
る保持物質9a ,9bで埋め、両面パンブ電極半導体
ウェーハ2の表,裏面を均一にした状態で、X−Yテー
ブル6に吸着させ切断するものである。この保持物質9
a,9bとして、例えば氷のよろな固形物が使用される
又、第2図の断面図に示す方法は、同様に、バンブ電極
1a,lbよりやや大きい凹面を持つ保持治具1ea,
10bにより半導体ウェーハ2を保持した状態で切断す
るものである。これらの方法によると、半導体ウェーハ
の表面が均一,かつ一体化することにより、切断時に発
生する応力は、きわめて小さくなり、半導体ウェーハ2
に応力が作用することはない。
第3図の断面図に示す方法は、半導体ウェーハ2の切断
部分に半導体ウェーハ2より強度的にすぐれた補強体1
1a,llbをバンブ電極1a.1bより薄く固着させ
た状態で、切断するもので、この場合切断時生じる応力
を、切断点に集中させることなく、半導体ウェーハ2全
体に分散させるため、機械的損傷を低減できる。又、補
強体11a,Ilbは、パッケージとして封止する方法
において、充分に化学的に安定したもので、かつ、絶縁
物を使用した場合、取り除くことなく封止することがで
きる。
発1巳0九監 この発明は、以上のように、両面バ/ブ電極半導体ウェ
ーハを保持,補強した状態で切断することにより、発生
する応力の悪影響による半導体ペレットの特性劣化の発
生を防ぎ得るので、スルーカット工程における歩留りが
向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第3はそれぞれ本発明方法による異なった
実施例の半導体ウェーハの切断時の様子を示す断面図。 第4図ないし第6図はそれぞれ従来の異なった方法によ
る半導体ウェーハの切断時の様子を示す断面図である。 la,lb・・・バンプ電極、 2・・・半導体ウェーハ、 5・・・ダイシング・ブレード、 9a,9b・・・保持物質(固形物)、10a,10b
 ・・・保持治具、 11a,llb・・・補強体。 手続補正書(方式) L 事件の表示 平成 元年 特 許 願 第161278号 2. 発明の名称 半導体ウェーハの切断方法 3. 補正をする者 事件の関係  特許出願人 〒520滋賀県大津市晴嵐2丁目9番1号関西日本電気
株式会社 5. 補正の対象 出願時提出の明細書の「図面の簡単な説明」の欄6. 補正の内容 第6頁第16行の「第1図ないし第3」を、「第1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 両面バンプ電極半導体ウェーハをダイシング・ブレード
    にて切断するに際して、半導体ウェーハの少なくとも下
    面側を、固形物により保持あるいは補強した状態で行う
    ことを特徴とする半導体ウェーハ切断方法。
JP1161278A 1989-06-23 1989-06-23 半導体ウェーハ切断方法 Pending JPH0348443A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04237149A (ja) * 1991-01-22 1992-08-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子チップ部品の製造方法及びボンディング方法
US6588308B2 (en) 1999-01-19 2003-07-08 Meco Equipment Engineers B.V. Method and device for separating products, mounted on a common substrate, from each other along (a) cutting line(s)
JP2008244076A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Toyota Motor Corp 半導体装置の製造方法
JP2014136306A (ja) * 2013-01-18 2014-07-28 Disco Abrasive Syst Ltd 板状物の加工方法
JP2016025112A (ja) * 2014-07-16 2016-02-08 株式会社ディスコ レーザー切断方法及びレーザー加工装置

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