JPH0340514Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔技術分野〕 本考案は放電加工機の加工液循環装置、詳しく
は加工液の循環供給を確実に行うことのできる放
電加工機の加工液循環装置に関する。

〔背景技術〕

放電加工機、例えばワイヤカツト放電加工機は
ワイヤ電極を一方のリールから繰り出し、他方の
リールに巻き取る等の回収をする間に於て、一対
の位置決めガイド間を移動するワイヤ電極の軸に
略直角の方向から被加工物を対向させて加工間隙
を形成し、この間隙に水、油等の加工液を供給す
るとともに、加工用電圧パルスを供給してパルス
放電を発生させ、この放電を繰り返しながら被加
工物とワイヤ電極とを相対的に前記対向方向に加
工送り移動させることによつて加工するものであ
る。

第１図に概略を示すようにワイヤカツト放電加
工装置は、カラム１０１から延びるアーム１０
２，１０３の先端部でワイヤ電極１０４を案内支
持し、テーブル１０５に保持された被加工物１０
６を放電加工するものである。被加工物１０６を
所望の形状に加工するには、軸方向に更新送り移
動するワイヤ電極１０４を加工部に於て所定張力
を保つたまま案内移動させる必要があり、被加工
物１０６の上方と下方とにはワイヤ電極１０４を
位置決め案内するガイドが内部に設けられたガイ
ドホルダ１０７，１０８が設けられている。これ
らガイドホルダ１０７，１０８は、ワイヤ電極１
０４を位置決め案内するガイドを保持すると共
に、ワイヤ電極１０４と被加工物１０６との間に
加工液を噴射供給する加工液噴射ノズルが付設さ
れている。そしてガイドホルダ１０７，１０８の
一対のノズルから噴出された加工液は、被加工物
１０６とワイヤ電極１０４との間の加工部に供給
されて下方に落下する。アーム１０３の下方に
は、落下する加工液を受け止める加工槽１０９が
設けられている。加工槽１０９に落下した加工液
は、加工槽１０９の底部に設けられたドレーン１
１０から、ワイヤカツト放電加工装置の下部ベツ
ト内に、又は該ベツトに隣接して設けられた加工
液循環装置本体２００に流下回収されるようにな
つている。加工液循環装置本体２００内には、第
２図に示すように加工部より回収した加工液の排
液槽２０２と加工部へ清浄加工液を供給する給液
槽２０３とが設けられており、加工槽１０９から
の加工液はドレーン１１０を介して排液槽２０２
内に流れ込む様になつている。そして排液槽２０
２内に溜められた加工液は、ポンプ２０４により
汲み上げられ、フイルタ２０５を通りフイルタ２
０５で加工屑等が除去されて給液槽２０３へ移送
される。給液槽２０３に溜められた加工液は再び
加工液供給装置により、ワイヤ電極と被加工物と
の加工間隙に供給される。このように加工液は、
（給液槽）→（供給装置）→（加工隙間）→（加
工槽）→（排液槽）→（給液槽）の過程を循環す
るようになつている。

前記のように、排液槽２０２と給液槽２０３と
の間にはフイルタ２０５及びポンプ２０４が配設
され、排液槽２０２内の加工液をポンプ２０４に
よつて常時給液槽２０３へ移送し、加工液が給液
槽２０３と排液槽２０２との仕切りから溢流して
排液槽２０２に流下する状態としている。したが
つてポンプ２０４を常時作動させておかなければ
ならず、ポンプ２０４は長時間作動することによ
り熱を発生し、この熱が加工液に伝導し、加工液
の液温が上昇することがあり問題であつた。又、
省エネルギの観点からも、不必要なポンプの長時
間作動には問題があつた。

〔考案の目的〕

本考案は前記従来の事情に鑑みなされたもので
あつて、排液槽内の加工液を給液槽内に供給する
濾過ポンプの作動をオン・オフ制御されるように
構成すると共に、ポンプのオン・オフ作動の制御
を給液槽に設けた液面計から検出信号によつて行
ない、給液槽内の加工液の液位を所定値以上に保
つことによつて加工液の循環を確実なものとする
放電加工Ｋの加工液循環装置を提供することを目
的とする。

〔実施例〕

以下図示の実施例によつて本考案を説明する。

第３図に本考案の一実施例である加工液循環装
置１０の概略を示す。図示のように排液槽１と給
液槽２とは隣接して通常一体に設けられている。
排液槽１には、前記加工槽１０９底部と連結され
たドレーン１１０から加工間隙に供給された使用
済加工液が流れ込み、溜められるようになつてい
る。そして排液槽１内に溜められた加工液は、圧
力、流量調節弁１１Ａ付の濾過ポンプ１１により
汲み上げられ、フイルタ１２を通り給液槽２内に
導入される。給液槽２内に溜められる加工液は、
フイルタ１２を通過することによつて濾過されて
加工液中にある加工屑等が除去される為、清浄な
加工液となつている。しかし加工間隙に供給され
たこと等によつて、加工液の液抵抗が所定数値と
なつていない為、給液槽２内の加工液の液抵抗を
比抵抗検出器２６により加工部へ供給される加工
液から検出するようになつている。この比抵抗検
出器２６によつて検出された数値は、制御盤２２
に入力される。制御盤２２に入力された数値が、
所定の液抵抗数値でない場合には、制御盤２２か
らイオン交換ポンプ２３へ信号が送られ、イオン
交換ポンプ２３が作動して給液槽２内の加工液を
汲み上げ、イオン交換樹脂２４へ加工液が移送さ
れ、イオン交換樹脂２４を通過した加工液が再び
給液槽２内へ戻ることによつて、給液槽２内の加
工液の比抵抗を増加制御するようになつている。
そして、イオン交換ポンプ２３によつて給液槽２
から汲み上げられ、イオン交換樹脂２４により処
理されて給液槽２に帰還する加工液の比抵抗値が
所定値より増大すると、これが比抵抗検出器２１
によつて検出され、この検出信号が制御盤２２に
入力し、制御盤２２はイオン交換ポンプ２３の作
動停止信号を出力する。２５は供給液の液圧、流
量調節弁２５Ａ付きの送液ポンプであり、上記の
ようにして給液槽２内に溜められた所定比抵抗値
の加工液を汲み上げ、前記比抵抗検出器２６を介
して放電加工装置の加工間隙へと送るものであ
る。従つて、給液槽２内の加工液は、比抵抗検出
器２１及び２６の両者によつて給液槽２内の加工
液が所定の液比抵抗数値を保つよう、またイオン
交換ポンプ２３が必要時のみ作動するような構成
となつている。又、排液槽１及び給液槽２の内部
側壁には、それぞれ液面計３及び液面計４が設け
られている。液面計３及び４は、排液槽１及び給
液槽２の加工液の液面の高さを検出する為のもの
であり、排液槽１においては上部に、給液槽２に
おいては下部に配設されている。これら液面計３
及び４は、排液槽１側へ設けられた濾過ポンプ１
１の作動を制御する為のものであり、液面計３又
は４からの信号が作動制御装置１３に入力され、
作動制御装置１３からの信号によつてのみ濾過ポ
ンプ１１が作動するようになつている。そして、
液面計３は、排液槽１内に溜められる加工液が溢
れ出さないように、加工液液面の上限位置を検出
するために設けられるものであり、給液槽２に設
けられる液面計４は給液槽２内の加工液がなくな
らないように加工液液面の下限位置を検出するた
めに設けられたものである。従つて排液槽１内に
溜められる加工液が所定の量よりも超えた時には
液面計３がこれを検知し、作動制御装置１３に信
号を送り作動制御装置１３から濾過ポンプ１１へ
信号が送られて濾過ポンプ１１が作動し、この作
動はタイマ等により所定期間続くか、又は排液槽
１内の液面が液面計３の作動等により所定位置に
下がるまで続けられ、その間排液槽１内の加工液
がフイルタ１２を通過して給液槽２側へ移され
る。又給液槽２内の加工液が減少し、所定の量よ
りも液面が下がつた場合には液面計４がそれを検
知し、作動制御装置１３へ信号を送り、作動制御
装置１３から濾過ポンプ１１へ信号が送られ、濾
過ポンプ１１が作動して排液槽１内の加工液をフ
イルタ１２に送り、これを通過させて給液槽側へ
と移送する作動をタイマ等による所定期間、又は
給液槽２内の液面が液面計４の作動等により所定
位置以上に達するまで続けられるようになつてい
る。

尚、以上の第３図実施例に於ける排液槽１の液
面計３は本考案の要旨とする構成要件ではなく必
要に応じて設けられるものである。

又、前記液面計としては、例えば第４図に示す
もの等を採用できる。第４図に示す液面計は、い
わゆる浮動式のものであり、下方に開口部を有す
る筒体３１と、この筒体３１内に上下動自在に設
けられるフロート３２とから構成されている。フ
ロート３２の下部には樹脂等からなる中空体３３
が形成され、中空体３３から上方へ軸３４が延
び、この軸３４の上端部に磁石３５が設けられて
いる。又、筒体３１の中間部には仕切板３６，３
７が形成され、この仕切板３６，３７の中心にフ
ロート３２の軸３４が上下滑動自在に挿通されて
いる。さらに、筒体３１の内壁部には、例えばリ
ードスイツチ３８と３９とが離間されて設けられ
ている。スイツチ３８，３９は、外側が樹脂やセ
ラミツク等の非磁性体により覆われており、内部
に回路の開閉器が設けられている。スイツチ３
８，３９の回路の開閉は、スイツチ３８，３９の
外側にフロート３２の磁石３５が最接近した時に
磁力によつて内部の開閉器の接点を閉じることに
より行われる。したがつて、第４図に示す液面計
は、加工液面に浮かぶフロート３２の中空体３３
が、加工液面位置の変化に伴い上下動し、この上
下動によつて移動する磁石３５が、スイツチ３８
又は３９に接近したときに、スイツチの回路が閉
じて、第３図の作動制御装置１３へ信号が送られ
る構成となつている。

そしてこのような構成の液面計を、液面計３と
した場合について述べると排液槽１内の加工液が
増え始め、フロート３２が浮動して徐々に上昇
し、フロート３２上部の磁石３５がスイツチ３９
に所定の接近する位置に達すると、スイツチ３９
の回路を閉じて作動制御装置１３へ信号が送られ
る。作動制御装置１３は、この信号を受けると、
濾過ポンプ１１を作動させ、排液槽１内き加工液
を給液槽２内へ移送する。濾過ポンプ１１の作動
により排液槽１内の加工液が減少し、フロート３
２が下降して、スイツチ３９が開き磁石３５がス
イツチ３８に接近すると、スイツチ３８の回路が
閉じて作動制御装置１３へ信号が送られ、作動制
御装置１３からは濾過ポンプ１１へ作動停止の指
令がなされる。そして再び排液槽１内の加工液が
増加すると、前記の操作がくり返され、排液槽１
内の加工液量が一定値に保たれるようになつてい
る。

尚、第４図の液面計を液面計４とした場合に
は、液面計３の場合とは逆に、磁石３５がスイツ
チ３８と接近した時に濾過ポンプ１１が作動し、
磁石３５がスイツチ３９と接近した時にポンプ１
１の作動が停止されるようにすればよい。そして
液面計３のスイツチ３９と液面計４のスイツチ３
９とが、同時に作動したときには図示していない
警報装置で警報を発する。

さらに液面計３及び４としては種々の構成を採
用できるが、第４図とは別の液面計の一例を第５
図に示す。第５図に示すものは、いわゆる電導度
式のものであり、電極５１と５２との間に加工液
面が達した時に、電極５１と５２との間が通電さ
れて回路が形成されて信号を送れるものである。
このように液面計としては様々なものを使用でき
るものであり、又、その他の構成も前記実施例に
限定されるものでなく、本考案の要旨を逸脱しな
い範囲での変更が可能である。しかして、本考案
は、排液槽１から給液槽２へ加工液を補給する濾
過ポンプ１１が常時作動状態にあるのではなく、
作動がオン・オフ制御されるように構成されてい
る点と、加工部へ加工液を供給する送液ポンプ２
５が設けられる給液槽２に設けられた液面計４に
より前記濾過ポンプ１１がオン・オフ制御される
ように構成されていて、該給液槽２内の加工液の
液位を所定値以上に保つように為されている点に
特徴が存するもので、その理由は以下の如くであ
る。

先ず、本考案の加工液循環装置をワイヤカツト
放電加工用のそれとして用いた場合、ワイヤ電極
と被加工物間の加工隙間には被加工物の両側から
対向して設けた一対の加工液噴射ノズルによつて
加工液が供給されるのが普通であるが、仮令濾過
ポンプ１１を省エネルギ等のためにオン・オフ制
御するとは言え、仮りに１時でも給液槽２の加工
液が減少し過ぎて加工液の供給が中断又は停止等
すると、ワイヤ電極の断線等の発生如何にかかわ
らず、折角その時点まで加工して来た被加工物が
損傷等して無駄になつてしまうことがあり、大き
な損失の発生を防止することができないものであ
る。そして近時ワイヤカツト放電加工の高速化の
ために給液槽２から、必要に応じて二対等の加工
液噴射ノズル等に従来の数倍またはそれ以上の加
工液を汲み上げ高圧力及び高流量で１箇所の加工
部へ供給する等のことが行なわれるようになつて
来ており、かかる場合例えば、排液槽１側の液面
計３のみによる濾過ポンプ１１のオン・オフ等の
制御では、給液槽２内の加工液液位が送液ポンプ
２５等による汲み上げ可能位置よりも低下してし
まうことが生ずる可能性が皆無とは言えない場合
があるからである。

また上記のようなワイヤカツト放電加工の場合
に限らず、近時火災等防止のために、比較的微量
の有機物を水に添加混合した加工液を用いて、電
極、被加工物を気中に於いて相対向させ前記加工
液を比較的微少な必要量だけ加工間隙に直接順次
供給させつつ加工を行なう加工方式があるが、か
かる加工方式の場合にも水または有機物、又はそ
れ等の混合物を供給する際にも前出と同様な注意
が必要なものである。

〔考案の効果〕

以上説明したように本考案によれば、排液槽か
ら給液槽へ移送される加工液を給液槽の内部に溜
められた加工液が所定量以下になつた場合にも移
送する構成とした為、移送する為のポンプを常時
作動する必要がなく、加工液の液温上昇を防止で
きるとともに、ポンプの作動のために供給される
電力も節約できるものである。

また、排液槽の加工液が所定量を越えたとき
に、加工液を排液槽から給液槽へ移送する構成を
付加したとしても前記効果を有するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図はワイヤカツト放電加工装置及び加工液
循環装置の概略を示す側面図、第２図は従来の加
工液循環装置の概略を示す説明図、第３図は本考
案の一実施例を示す加工液循環装置の概略説明
図、第４図及び第５図は液面計の異なる実施例を
示す構成図である。 １……排液槽、２……給液槽、３，４……液面
計、１２……フイルタ、２４……イオン交換樹
脂、１０９……加工槽。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 被加工体の加工部付近に加工液を供給する給液
   槽と、加工済の加工液が溜められる排液槽と、排
   液槽の加工液を汲み上げフイルタを介して給液槽
   に供給するポンプとを有する加工液循環装置に於
   て、前記給液槽の内部に加工液面の位置を測定す
   る液面計を設け、更に前記給液槽内の加工液面が
   所定下位位置になつたとき前記液面計の検出信号
   により前記ポンプを作動させて排液槽の加工液を
   給液槽に供給すると共に、前記ポンプ作動開始か
   ら所定期間後又は前記液面計の検出信号により前
   記ポンプの作動を停止させるポンプの作動制御装
   置を設けて成ることを特徴とする放電加工機の加
   工液循環装置。