JPH0340514Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0340514Y2 JPH0340514Y2 JP9014483U JP9014483U JPH0340514Y2 JP H0340514 Y2 JPH0340514 Y2 JP H0340514Y2 JP 9014483 U JP9014483 U JP 9014483U JP 9014483 U JP9014483 U JP 9014483U JP H0340514 Y2 JPH0340514 Y2 JP H0340514Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- machining
- fluid
- machining fluid
- tank
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 110
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 91
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 88
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 18
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 5
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 5
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000009760 electrical discharge machining Methods 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009763 wire-cut EDM Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 235000014676 Phragmites communis Nutrition 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000004134 energy conservation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔技術分野〕
本考案は放電加工機の加工液循環装置、詳しく
は加工液の循環供給を確実に行うことのできる放
電加工機の加工液循環装置に関する。
は加工液の循環供給を確実に行うことのできる放
電加工機の加工液循環装置に関する。
放電加工機、例えばワイヤカツト放電加工機は
ワイヤ電極を一方のリールから繰り出し、他方の
リールに巻き取る等の回収をする間に於て、一対
の位置決めガイド間を移動するワイヤ電極の軸に
略直角の方向から被加工物を対向させて加工間隙
を形成し、この間隙に水、油等の加工液を供給す
るとともに、加工用電圧パルスを供給してパルス
放電を発生させ、この放電を繰り返しながら被加
工物とワイヤ電極とを相対的に前記対向方向に加
工送り移動させることによつて加工するものであ
る。
ワイヤ電極を一方のリールから繰り出し、他方の
リールに巻き取る等の回収をする間に於て、一対
の位置決めガイド間を移動するワイヤ電極の軸に
略直角の方向から被加工物を対向させて加工間隙
を形成し、この間隙に水、油等の加工液を供給す
るとともに、加工用電圧パルスを供給してパルス
放電を発生させ、この放電を繰り返しながら被加
工物とワイヤ電極とを相対的に前記対向方向に加
工送り移動させることによつて加工するものであ
る。
第1図に概略を示すようにワイヤカツト放電加
工装置は、カラム101から延びるアーム10
2,103の先端部でワイヤ電極104を案内支
持し、テーブル105に保持された被加工物10
6を放電加工するものである。被加工物106を
所望の形状に加工するには、軸方向に更新送り移
動するワイヤ電極104を加工部に於て所定張力
を保つたまま案内移動させる必要があり、被加工
物106の上方と下方とにはワイヤ電極104を
位置決め案内するガイドが内部に設けられたガイ
ドホルダ107,108が設けられている。これ
らガイドホルダ107,108は、ワイヤ電極1
04を位置決め案内するガイドを保持すると共
に、ワイヤ電極104と被加工物106との間に
加工液を噴射供給する加工液噴射ノズルが付設さ
れている。そしてガイドホルダ107,108の
一対のノズルから噴出された加工液は、被加工物
106とワイヤ電極104との間の加工部に供給
されて下方に落下する。アーム103の下方に
は、落下する加工液を受け止める加工槽109が
設けられている。加工槽109に落下した加工液
は、加工槽109の底部に設けられたドレーン1
10から、ワイヤカツト放電加工装置の下部ベツ
ト内に、又は該ベツトに隣接して設けられた加工
液循環装置本体200に流下回収されるようにな
つている。加工液循環装置本体200内には、第
2図に示すように加工部より回収した加工液の排
液槽202と加工部へ清浄加工液を供給する給液
槽203とが設けられており、加工槽109から
の加工液はドレーン110を介して排液槽202
内に流れ込む様になつている。そして排液槽20
2内に溜められた加工液は、ポンプ204により
汲み上げられ、フイルタ205を通りフイルタ2
05で加工屑等が除去されて給液槽203へ移送
される。給液槽203に溜められた加工液は再び
加工液供給装置により、ワイヤ電極と被加工物と
の加工間隙に供給される。このように加工液は、
(給液槽)→(供給装置)→(加工隙間)→(加
工槽)→(排液槽)→(給液槽)の過程を循環す
るようになつている。
工装置は、カラム101から延びるアーム10
2,103の先端部でワイヤ電極104を案内支
持し、テーブル105に保持された被加工物10
6を放電加工するものである。被加工物106を
所望の形状に加工するには、軸方向に更新送り移
動するワイヤ電極104を加工部に於て所定張力
を保つたまま案内移動させる必要があり、被加工
物106の上方と下方とにはワイヤ電極104を
位置決め案内するガイドが内部に設けられたガイ
ドホルダ107,108が設けられている。これ
らガイドホルダ107,108は、ワイヤ電極1
04を位置決め案内するガイドを保持すると共
に、ワイヤ電極104と被加工物106との間に
加工液を噴射供給する加工液噴射ノズルが付設さ
れている。そしてガイドホルダ107,108の
一対のノズルから噴出された加工液は、被加工物
106とワイヤ電極104との間の加工部に供給
されて下方に落下する。アーム103の下方に
は、落下する加工液を受け止める加工槽109が
設けられている。加工槽109に落下した加工液
は、加工槽109の底部に設けられたドレーン1
10から、ワイヤカツト放電加工装置の下部ベツ
ト内に、又は該ベツトに隣接して設けられた加工
液循環装置本体200に流下回収されるようにな
つている。加工液循環装置本体200内には、第
2図に示すように加工部より回収した加工液の排
液槽202と加工部へ清浄加工液を供給する給液
槽203とが設けられており、加工槽109から
の加工液はドレーン110を介して排液槽202
内に流れ込む様になつている。そして排液槽20
2内に溜められた加工液は、ポンプ204により
汲み上げられ、フイルタ205を通りフイルタ2
05で加工屑等が除去されて給液槽203へ移送
される。給液槽203に溜められた加工液は再び
加工液供給装置により、ワイヤ電極と被加工物と
の加工間隙に供給される。このように加工液は、
(給液槽)→(供給装置)→(加工隙間)→(加
工槽)→(排液槽)→(給液槽)の過程を循環す
るようになつている。
前記のように、排液槽202と給液槽203と
の間にはフイルタ205及びポンプ204が配設
され、排液槽202内の加工液をポンプ204に
よつて常時給液槽203へ移送し、加工液が給液
槽203と排液槽202との仕切りから溢流して
排液槽202に流下する状態としている。したが
つてポンプ204を常時作動させておかなければ
ならず、ポンプ204は長時間作動することによ
り熱を発生し、この熱が加工液に伝導し、加工液
の液温が上昇することがあり問題であつた。又、
省エネルギの観点からも、不必要なポンプの長時
間作動には問題があつた。
の間にはフイルタ205及びポンプ204が配設
され、排液槽202内の加工液をポンプ204に
よつて常時給液槽203へ移送し、加工液が給液
槽203と排液槽202との仕切りから溢流して
排液槽202に流下する状態としている。したが
つてポンプ204を常時作動させておかなければ
ならず、ポンプ204は長時間作動することによ
り熱を発生し、この熱が加工液に伝導し、加工液
の液温が上昇することがあり問題であつた。又、
省エネルギの観点からも、不必要なポンプの長時
間作動には問題があつた。
本考案は前記従来の事情に鑑みなされたもので
あつて、排液槽内の加工液を給液槽内に供給する
濾過ポンプの作動をオン・オフ制御されるように
構成すると共に、ポンプのオン・オフ作動の制御
を給液槽に設けた液面計から検出信号によつて行
ない、給液槽内の加工液の液位を所定値以上に保
つことによつて加工液の循環を確実なものとする
放電加工Kの加工液循環装置を提供することを目
的とする。
あつて、排液槽内の加工液を給液槽内に供給する
濾過ポンプの作動をオン・オフ制御されるように
構成すると共に、ポンプのオン・オフ作動の制御
を給液槽に設けた液面計から検出信号によつて行
ない、給液槽内の加工液の液位を所定値以上に保
つことによつて加工液の循環を確実なものとする
放電加工Kの加工液循環装置を提供することを目
的とする。
以下図示の実施例によつて本考案を説明する。
第3図に本考案の一実施例である加工液循環装
置10の概略を示す。図示のように排液槽1と給
液槽2とは隣接して通常一体に設けられている。
排液槽1には、前記加工槽109底部と連結され
たドレーン110から加工間隙に供給された使用
済加工液が流れ込み、溜められるようになつてい
る。そして排液槽1内に溜められた加工液は、圧
力、流量調節弁11A付の濾過ポンプ11により
汲み上げられ、フイルタ12を通り給液槽2内に
導入される。給液槽2内に溜められる加工液は、
フイルタ12を通過することによつて濾過されて
加工液中にある加工屑等が除去される為、清浄な
加工液となつている。しかし加工間隙に供給され
たこと等によつて、加工液の液抵抗が所定数値と
なつていない為、給液槽2内の加工液の液抵抗を
比抵抗検出器26により加工部へ供給される加工
液から検出するようになつている。この比抵抗検
出器26によつて検出された数値は、制御盤22
に入力される。制御盤22に入力された数値が、
所定の液抵抗数値でない場合には、制御盤22か
らイオン交換ポンプ23へ信号が送られ、イオン
交換ポンプ23が作動して給液槽2内の加工液を
汲み上げ、イオン交換樹脂24へ加工液が移送さ
れ、イオン交換樹脂24を通過した加工液が再び
給液槽2内へ戻ることによつて、給液槽2内の加
工液の比抵抗を増加制御するようになつている。
そして、イオン交換ポンプ23によつて給液槽2
から汲み上げられ、イオン交換樹脂24により処
理されて給液槽2に帰還する加工液の比抵抗値が
所定値より増大すると、これが比抵抗検出器21
によつて検出され、この検出信号が制御盤22に
入力し、制御盤22はイオン交換ポンプ23の作
動停止信号を出力する。25は供給液の液圧、流
量調節弁25A付きの送液ポンプであり、上記の
ようにして給液槽2内に溜められた所定比抵抗値
の加工液を汲み上げ、前記比抵抗検出器26を介
して放電加工装置の加工間隙へと送るものであ
る。従つて、給液槽2内の加工液は、比抵抗検出
器21及び26の両者によつて給液槽2内の加工
液が所定の液比抵抗数値を保つよう、またイオン
交換ポンプ23が必要時のみ作動するような構成
となつている。又、排液槽1及び給液槽2の内部
側壁には、それぞれ液面計3及び液面計4が設け
られている。液面計3及び4は、排液槽1及び給
液槽2の加工液の液面の高さを検出する為のもの
であり、排液槽1においては上部に、給液槽2に
おいては下部に配設されている。これら液面計3
及び4は、排液槽1側へ設けられた濾過ポンプ1
1の作動を制御する為のものであり、液面計3又
は4からの信号が作動制御装置13に入力され、
作動制御装置13からの信号によつてのみ濾過ポ
ンプ11が作動するようになつている。そして、
液面計3は、排液槽1内に溜められる加工液が溢
れ出さないように、加工液液面の上限位置を検出
するために設けられるものであり、給液槽2に設
けられる液面計4は給液槽2内の加工液がなくな
らないように加工液液面の下限位置を検出するた
めに設けられたものである。従つて排液槽1内に
溜められる加工液が所定の量よりも超えた時には
液面計3がこれを検知し、作動制御装置13に信
号を送り作動制御装置13から濾過ポンプ11へ
信号が送られて濾過ポンプ11が作動し、この作
動はタイマ等により所定期間続くか、又は排液槽
1内の液面が液面計3の作動等により所定位置に
下がるまで続けられ、その間排液槽1内の加工液
がフイルタ12を通過して給液槽2側へ移され
る。又給液槽2内の加工液が減少し、所定の量よ
りも液面が下がつた場合には液面計4がそれを検
知し、作動制御装置13へ信号を送り、作動制御
装置13から濾過ポンプ11へ信号が送られ、濾
過ポンプ11が作動して排液槽1内の加工液をフ
イルタ12に送り、これを通過させて給液槽側へ
と移送する作動をタイマ等による所定期間、又は
給液槽2内の液面が液面計4の作動等により所定
位置以上に達するまで続けられるようになつてい
る。
置10の概略を示す。図示のように排液槽1と給
液槽2とは隣接して通常一体に設けられている。
排液槽1には、前記加工槽109底部と連結され
たドレーン110から加工間隙に供給された使用
済加工液が流れ込み、溜められるようになつてい
る。そして排液槽1内に溜められた加工液は、圧
力、流量調節弁11A付の濾過ポンプ11により
汲み上げられ、フイルタ12を通り給液槽2内に
導入される。給液槽2内に溜められる加工液は、
フイルタ12を通過することによつて濾過されて
加工液中にある加工屑等が除去される為、清浄な
加工液となつている。しかし加工間隙に供給され
たこと等によつて、加工液の液抵抗が所定数値と
なつていない為、給液槽2内の加工液の液抵抗を
比抵抗検出器26により加工部へ供給される加工
液から検出するようになつている。この比抵抗検
出器26によつて検出された数値は、制御盤22
に入力される。制御盤22に入力された数値が、
所定の液抵抗数値でない場合には、制御盤22か
らイオン交換ポンプ23へ信号が送られ、イオン
交換ポンプ23が作動して給液槽2内の加工液を
汲み上げ、イオン交換樹脂24へ加工液が移送さ
れ、イオン交換樹脂24を通過した加工液が再び
給液槽2内へ戻ることによつて、給液槽2内の加
工液の比抵抗を増加制御するようになつている。
そして、イオン交換ポンプ23によつて給液槽2
から汲み上げられ、イオン交換樹脂24により処
理されて給液槽2に帰還する加工液の比抵抗値が
所定値より増大すると、これが比抵抗検出器21
によつて検出され、この検出信号が制御盤22に
入力し、制御盤22はイオン交換ポンプ23の作
動停止信号を出力する。25は供給液の液圧、流
量調節弁25A付きの送液ポンプであり、上記の
ようにして給液槽2内に溜められた所定比抵抗値
の加工液を汲み上げ、前記比抵抗検出器26を介
して放電加工装置の加工間隙へと送るものであ
る。従つて、給液槽2内の加工液は、比抵抗検出
器21及び26の両者によつて給液槽2内の加工
液が所定の液比抵抗数値を保つよう、またイオン
交換ポンプ23が必要時のみ作動するような構成
となつている。又、排液槽1及び給液槽2の内部
側壁には、それぞれ液面計3及び液面計4が設け
られている。液面計3及び4は、排液槽1及び給
液槽2の加工液の液面の高さを検出する為のもの
であり、排液槽1においては上部に、給液槽2に
おいては下部に配設されている。これら液面計3
及び4は、排液槽1側へ設けられた濾過ポンプ1
1の作動を制御する為のものであり、液面計3又
は4からの信号が作動制御装置13に入力され、
作動制御装置13からの信号によつてのみ濾過ポ
ンプ11が作動するようになつている。そして、
液面計3は、排液槽1内に溜められる加工液が溢
れ出さないように、加工液液面の上限位置を検出
するために設けられるものであり、給液槽2に設
けられる液面計4は給液槽2内の加工液がなくな
らないように加工液液面の下限位置を検出するた
めに設けられたものである。従つて排液槽1内に
溜められる加工液が所定の量よりも超えた時には
液面計3がこれを検知し、作動制御装置13に信
号を送り作動制御装置13から濾過ポンプ11へ
信号が送られて濾過ポンプ11が作動し、この作
動はタイマ等により所定期間続くか、又は排液槽
1内の液面が液面計3の作動等により所定位置に
下がるまで続けられ、その間排液槽1内の加工液
がフイルタ12を通過して給液槽2側へ移され
る。又給液槽2内の加工液が減少し、所定の量よ
りも液面が下がつた場合には液面計4がそれを検
知し、作動制御装置13へ信号を送り、作動制御
装置13から濾過ポンプ11へ信号が送られ、濾
過ポンプ11が作動して排液槽1内の加工液をフ
イルタ12に送り、これを通過させて給液槽側へ
と移送する作動をタイマ等による所定期間、又は
給液槽2内の液面が液面計4の作動等により所定
位置以上に達するまで続けられるようになつてい
る。
尚、以上の第3図実施例に於ける排液槽1の液
面計3は本考案の要旨とする構成要件ではなく必
要に応じて設けられるものである。
面計3は本考案の要旨とする構成要件ではなく必
要に応じて設けられるものである。
又、前記液面計としては、例えば第4図に示す
もの等を採用できる。第4図に示す液面計は、い
わゆる浮動式のものであり、下方に開口部を有す
る筒体31と、この筒体31内に上下動自在に設
けられるフロート32とから構成されている。フ
ロート32の下部には樹脂等からなる中空体33
が形成され、中空体33から上方へ軸34が延
び、この軸34の上端部に磁石35が設けられて
いる。又、筒体31の中間部には仕切板36,3
7が形成され、この仕切板36,37の中心にフ
ロート32の軸34が上下滑動自在に挿通されて
いる。さらに、筒体31の内壁部には、例えばリ
ードスイツチ38と39とが離間されて設けられ
ている。スイツチ38,39は、外側が樹脂やセ
ラミツク等の非磁性体により覆われており、内部
に回路の開閉器が設けられている。スイツチ3
8,39の回路の開閉は、スイツチ38,39の
外側にフロート32の磁石35が最接近した時に
磁力によつて内部の開閉器の接点を閉じることに
より行われる。したがつて、第4図に示す液面計
は、加工液面に浮かぶフロート32の中空体33
が、加工液面位置の変化に伴い上下動し、この上
下動によつて移動する磁石35が、スイツチ38
又は39に接近したときに、スイツチの回路が閉
じて、第3図の作動制御装置13へ信号が送られ
る構成となつている。
もの等を採用できる。第4図に示す液面計は、い
わゆる浮動式のものであり、下方に開口部を有す
る筒体31と、この筒体31内に上下動自在に設
けられるフロート32とから構成されている。フ
ロート32の下部には樹脂等からなる中空体33
が形成され、中空体33から上方へ軸34が延
び、この軸34の上端部に磁石35が設けられて
いる。又、筒体31の中間部には仕切板36,3
7が形成され、この仕切板36,37の中心にフ
ロート32の軸34が上下滑動自在に挿通されて
いる。さらに、筒体31の内壁部には、例えばリ
ードスイツチ38と39とが離間されて設けられ
ている。スイツチ38,39は、外側が樹脂やセ
ラミツク等の非磁性体により覆われており、内部
に回路の開閉器が設けられている。スイツチ3
8,39の回路の開閉は、スイツチ38,39の
外側にフロート32の磁石35が最接近した時に
磁力によつて内部の開閉器の接点を閉じることに
より行われる。したがつて、第4図に示す液面計
は、加工液面に浮かぶフロート32の中空体33
が、加工液面位置の変化に伴い上下動し、この上
下動によつて移動する磁石35が、スイツチ38
又は39に接近したときに、スイツチの回路が閉
じて、第3図の作動制御装置13へ信号が送られ
る構成となつている。
そしてこのような構成の液面計を、液面計3と
した場合について述べると排液槽1内の加工液が
増え始め、フロート32が浮動して徐々に上昇
し、フロート32上部の磁石35がスイツチ39
に所定の接近する位置に達すると、スイツチ39
の回路を閉じて作動制御装置13へ信号が送られ
る。作動制御装置13は、この信号を受けると、
濾過ポンプ11を作動させ、排液槽1内き加工液
を給液槽2内へ移送する。濾過ポンプ11の作動
により排液槽1内の加工液が減少し、フロート3
2が下降して、スイツチ39が開き磁石35がス
イツチ38に接近すると、スイツチ38の回路が
閉じて作動制御装置13へ信号が送られ、作動制
御装置13からは濾過ポンプ11へ作動停止の指
令がなされる。そして再び排液槽1内の加工液が
増加すると、前記の操作がくり返され、排液槽1
内の加工液量が一定値に保たれるようになつてい
る。
した場合について述べると排液槽1内の加工液が
増え始め、フロート32が浮動して徐々に上昇
し、フロート32上部の磁石35がスイツチ39
に所定の接近する位置に達すると、スイツチ39
の回路を閉じて作動制御装置13へ信号が送られ
る。作動制御装置13は、この信号を受けると、
濾過ポンプ11を作動させ、排液槽1内き加工液
を給液槽2内へ移送する。濾過ポンプ11の作動
により排液槽1内の加工液が減少し、フロート3
2が下降して、スイツチ39が開き磁石35がス
イツチ38に接近すると、スイツチ38の回路が
閉じて作動制御装置13へ信号が送られ、作動制
御装置13からは濾過ポンプ11へ作動停止の指
令がなされる。そして再び排液槽1内の加工液が
増加すると、前記の操作がくり返され、排液槽1
内の加工液量が一定値に保たれるようになつてい
る。
尚、第4図の液面計を液面計4とした場合に
は、液面計3の場合とは逆に、磁石35がスイツ
チ38と接近した時に濾過ポンプ11が作動し、
磁石35がスイツチ39と接近した時にポンプ1
1の作動が停止されるようにすればよい。そして
液面計3のスイツチ39と液面計4のスイツチ3
9とが、同時に作動したときには図示していない
警報装置で警報を発する。
は、液面計3の場合とは逆に、磁石35がスイツ
チ38と接近した時に濾過ポンプ11が作動し、
磁石35がスイツチ39と接近した時にポンプ1
1の作動が停止されるようにすればよい。そして
液面計3のスイツチ39と液面計4のスイツチ3
9とが、同時に作動したときには図示していない
警報装置で警報を発する。
さらに液面計3及び4としては種々の構成を採
用できるが、第4図とは別の液面計の一例を第5
図に示す。第5図に示すものは、いわゆる電導度
式のものであり、電極51と52との間に加工液
面が達した時に、電極51と52との間が通電さ
れて回路が形成されて信号を送れるものである。
このように液面計としては様々なものを使用でき
るものであり、又、その他の構成も前記実施例に
限定されるものでなく、本考案の要旨を逸脱しな
い範囲での変更が可能である。しかして、本考案
は、排液槽1から給液槽2へ加工液を補給する濾
過ポンプ11が常時作動状態にあるのではなく、
作動がオン・オフ制御されるように構成されてい
る点と、加工部へ加工液を供給する送液ポンプ2
5が設けられる給液槽2に設けられた液面計4に
より前記濾過ポンプ11がオン・オフ制御される
ように構成されていて、該給液槽2内の加工液の
液位を所定値以上に保つように為されている点に
特徴が存するもので、その理由は以下の如くであ
る。
用できるが、第4図とは別の液面計の一例を第5
図に示す。第5図に示すものは、いわゆる電導度
式のものであり、電極51と52との間に加工液
面が達した時に、電極51と52との間が通電さ
れて回路が形成されて信号を送れるものである。
このように液面計としては様々なものを使用でき
るものであり、又、その他の構成も前記実施例に
限定されるものでなく、本考案の要旨を逸脱しな
い範囲での変更が可能である。しかして、本考案
は、排液槽1から給液槽2へ加工液を補給する濾
過ポンプ11が常時作動状態にあるのではなく、
作動がオン・オフ制御されるように構成されてい
る点と、加工部へ加工液を供給する送液ポンプ2
5が設けられる給液槽2に設けられた液面計4に
より前記濾過ポンプ11がオン・オフ制御される
ように構成されていて、該給液槽2内の加工液の
液位を所定値以上に保つように為されている点に
特徴が存するもので、その理由は以下の如くであ
る。
先ず、本考案の加工液循環装置をワイヤカツト
放電加工用のそれとして用いた場合、ワイヤ電極
と被加工物間の加工隙間には被加工物の両側から
対向して設けた一対の加工液噴射ノズルによつて
加工液が供給されるのが普通であるが、仮令濾過
ポンプ11を省エネルギ等のためにオン・オフ制
御するとは言え、仮りに1時でも給液槽2の加工
液が減少し過ぎて加工液の供給が中断又は停止等
すると、ワイヤ電極の断線等の発生如何にかかわ
らず、折角その時点まで加工して来た被加工物が
損傷等して無駄になつてしまうことがあり、大き
な損失の発生を防止することができないものであ
る。そして近時ワイヤカツト放電加工の高速化の
ために給液槽2から、必要に応じて二対等の加工
液噴射ノズル等に従来の数倍またはそれ以上の加
工液を汲み上げ高圧力及び高流量で1箇所の加工
部へ供給する等のことが行なわれるようになつて
来ており、かかる場合例えば、排液槽1側の液面
計3のみによる濾過ポンプ11のオン・オフ等の
制御では、給液槽2内の加工液液位が送液ポンプ
25等による汲み上げ可能位置よりも低下してし
まうことが生ずる可能性が皆無とは言えない場合
があるからである。
放電加工用のそれとして用いた場合、ワイヤ電極
と被加工物間の加工隙間には被加工物の両側から
対向して設けた一対の加工液噴射ノズルによつて
加工液が供給されるのが普通であるが、仮令濾過
ポンプ11を省エネルギ等のためにオン・オフ制
御するとは言え、仮りに1時でも給液槽2の加工
液が減少し過ぎて加工液の供給が中断又は停止等
すると、ワイヤ電極の断線等の発生如何にかかわ
らず、折角その時点まで加工して来た被加工物が
損傷等して無駄になつてしまうことがあり、大き
な損失の発生を防止することができないものであ
る。そして近時ワイヤカツト放電加工の高速化の
ために給液槽2から、必要に応じて二対等の加工
液噴射ノズル等に従来の数倍またはそれ以上の加
工液を汲み上げ高圧力及び高流量で1箇所の加工
部へ供給する等のことが行なわれるようになつて
来ており、かかる場合例えば、排液槽1側の液面
計3のみによる濾過ポンプ11のオン・オフ等の
制御では、給液槽2内の加工液液位が送液ポンプ
25等による汲み上げ可能位置よりも低下してし
まうことが生ずる可能性が皆無とは言えない場合
があるからである。
また上記のようなワイヤカツト放電加工の場合
に限らず、近時火災等防止のために、比較的微量
の有機物を水に添加混合した加工液を用いて、電
極、被加工物を気中に於いて相対向させ前記加工
液を比較的微少な必要量だけ加工間隙に直接順次
供給させつつ加工を行なう加工方式があるが、か
かる加工方式の場合にも水または有機物、又はそ
れ等の混合物を供給する際にも前出と同様な注意
が必要なものである。
に限らず、近時火災等防止のために、比較的微量
の有機物を水に添加混合した加工液を用いて、電
極、被加工物を気中に於いて相対向させ前記加工
液を比較的微少な必要量だけ加工間隙に直接順次
供給させつつ加工を行なう加工方式があるが、か
かる加工方式の場合にも水または有機物、又はそ
れ等の混合物を供給する際にも前出と同様な注意
が必要なものである。
以上説明したように本考案によれば、排液槽か
ら給液槽へ移送される加工液を給液槽の内部に溜
められた加工液が所定量以下になつた場合にも移
送する構成とした為、移送する為のポンプを常時
作動する必要がなく、加工液の液温上昇を防止で
きるとともに、ポンプの作動のために供給される
電力も節約できるものである。
ら給液槽へ移送される加工液を給液槽の内部に溜
められた加工液が所定量以下になつた場合にも移
送する構成とした為、移送する為のポンプを常時
作動する必要がなく、加工液の液温上昇を防止で
きるとともに、ポンプの作動のために供給される
電力も節約できるものである。
また、排液槽の加工液が所定量を越えたとき
に、加工液を排液槽から給液槽へ移送する構成を
付加したとしても前記効果を有するものである。
に、加工液を排液槽から給液槽へ移送する構成を
付加したとしても前記効果を有するものである。
第1図はワイヤカツト放電加工装置及び加工液
循環装置の概略を示す側面図、第2図は従来の加
工液循環装置の概略を示す説明図、第3図は本考
案の一実施例を示す加工液循環装置の概略説明
図、第4図及び第5図は液面計の異なる実施例を
示す構成図である。 1……排液槽、2……給液槽、3,4……液面
計、12……フイルタ、24……イオン交換樹
脂、109……加工槽。
循環装置の概略を示す側面図、第2図は従来の加
工液循環装置の概略を示す説明図、第3図は本考
案の一実施例を示す加工液循環装置の概略説明
図、第4図及び第5図は液面計の異なる実施例を
示す構成図である。 1……排液槽、2……給液槽、3,4……液面
計、12……フイルタ、24……イオン交換樹
脂、109……加工槽。
Claims (1)
- 被加工体の加工部付近に加工液を供給する給液
槽と、加工済の加工液が溜められる排液槽と、排
液槽の加工液を汲み上げフイルタを介して給液槽
に供給するポンプとを有する加工液循環装置に於
て、前記給液槽の内部に加工液面の位置を測定す
る液面計を設け、更に前記給液槽内の加工液面が
所定下位位置になつたとき前記液面計の検出信号
により前記ポンプを作動させて排液槽の加工液を
給液槽に供給すると共に、前記ポンプ作動開始か
ら所定期間後又は前記液面計の検出信号により前
記ポンプの作動を停止させるポンプの作動制御装
置を設けて成ることを特徴とする放電加工機の加
工液循環装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9014483U JPS59193637U (ja) | 1983-06-13 | 1983-06-13 | 放電加工機の加工液循環装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9014483U JPS59193637U (ja) | 1983-06-13 | 1983-06-13 | 放電加工機の加工液循環装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59193637U JPS59193637U (ja) | 1984-12-22 |
JPH0340514Y2 true JPH0340514Y2 (ja) | 1991-08-26 |
Family
ID=30220055
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9014483U Granted JPS59193637U (ja) | 1983-06-13 | 1983-06-13 | 放電加工機の加工液循環装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59193637U (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2709670B2 (ja) * | 1992-03-10 | 1998-02-04 | 三菱電機株式会社 | 放電加工装置 |
-
1983
- 1983-06-13 JP JP9014483U patent/JPS59193637U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59193637U (ja) | 1984-12-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR920006506B1 (ko) | 방전 가공 장치 | |
EP0171196B1 (en) | Electroerosion machine | |
US5071567A (en) | Installation and process for filtration of a machining liquid in a continuous supply circuit | |
JPH0340514Y2 (ja) | ||
JPH0632259Y2 (ja) | 放電加工機の加工液循環装置 | |
KR101387043B1 (ko) | 침적식 와이어 커트 방전 가공기의 가공 수조 자동 수위 측정 및 조절장치 | |
JP2830692B2 (ja) | ワイヤ放電加工装置 | |
US9884276B2 (en) | Filtration filter of electric discharge machine | |
CN202994251U (zh) | 液位检测装置和浆料更新*** | |
JPS6133820A (ja) | 放電加工の加工液循環供給装置 | |
JPH0211334A (ja) | インクジェット記録装置 | |
KR0147108B1 (ko) | 와이어컷 방전가공기의 가공액 공급장치 및 방법 | |
JPS59152027A (ja) | 放電加工装置 | |
JPH0472654B2 (ja) | ||
CN113894089B (zh) | 在线清洁靶头的方法及装置 | |
CN218755945U (zh) | 一种光伏焊带退火冷却池 | |
JPS6049532B2 (ja) | 放電加工装置 | |
JP3006254B2 (ja) | ワイヤ放電加工機における加工液供給装置 | |
SU747677A1 (ru) | Устройство дл очистки жидкостей при электрохимической обработке | |
CN112539807A (zh) | 一种建筑信息收集用利用漂浮力节能的水泥浓度检测装置 | |
SU1125419A1 (ru) | Вибронасос дл подачи жидкого металла | |
SU1353507A1 (ru) | Установка дл очистки диэлектрических жидкостей от механических примесей | |
JPH0271921A (ja) | 放電加工法 | |
JPS58219908A (ja) | 汚泥排出制御方法 | |
KR100868069B1 (ko) | 프라이밍탱크 보충수 자동공급장치 |