JPH0330269U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0330269U JPH0330269U JP9138689U JP9138689U JPH0330269U JP H0330269 U JPH0330269 U JP H0330269U JP 9138689 U JP9138689 U JP 9138689U JP 9138689 U JP9138689 U JP 9138689U JP H0330269 U JPH0330269 U JP H0330269U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- susceptor
- chamber
- point
- flow channel
- wafer mounting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
第１図は本考案の薄膜形成装置の概略縦断面図
。第２図は第１図において最大流速の流れを説明
するための拡大断面図。第３図は従来例に係る薄
膜形成装置の概略縦断面図。第４図は第３図にお
いて最大流速の流れを説明するための片側拡大断
面図。第５図は壁で仕切られた流路内で線流速最
大の部分が一方の壁近くに偏つている場合の境界
層の厚みを示すための図。第６図は最大流速の流
れの延長がウエハの中点Ｒを通る場合の配置図。
第７図は最大流速の流れの延長がウエハの上端Ｇ
を通る場合の配置図。第８図は最大流速の流れの
延長がウエハの上端より３cm上の点Ｌを通る場合
の配置図。 １……フローチヤネル、２……サセプタ、３…
…チヤンバ、４……導入口、５……ウエハ、６…
…シヤフト。
。第２図は第１図において最大流速の流れを説明
するための拡大断面図。第３図は従来例に係る薄
膜形成装置の概略縦断面図。第４図は第３図にお
いて最大流速の流れを説明するための片側拡大断
面図。第５図は壁で仕切られた流路内で線流速最
大の部分が一方の壁近くに偏つている場合の境界
層の厚みを示すための図。第６図は最大流速の流
れの延長がウエハの中点Ｒを通る場合の配置図。
第７図は最大流速の流れの延長がウエハの上端Ｇ
を通る場合の配置図。第８図は最大流速の流れの
延長がウエハの上端より３cm上の点Ｌを通る場合
の配置図。 １……フローチヤネル、２……サセプタ、３…
…チヤンバ、４……導入口、５……ウエハ、６…
…シヤフト。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 真空に引くことができ上頂部に原料ガスを
導入する導入口４を有する縦長のチヤンバ３と、
チヤンバ３の中に設けられ側周に複数枚のウエハ
５を取付けることのできるサセプタ２と、チヤン
バ３内でサセプタ２の上方に設けられ原料ガスの
流れをサセプタの側周へ導くためのフローチヤネ
ル１とを含み、サセプタ２とフローチヤネル１の
境界点Ｆより下方の点Ｅに於てチヤンバ３の壁面
が外側へ角度αで拡開し、サセプタ２は傾斜角β
をなすように上方で狭く下方で広い円錐台又は角
錐台形状でありチヤンバ３の拡開点Ｅにおける壁
面に対する接線の延長線ｆがサセプタのウエハ取
付面の中点Ｒとウエハ取付面の上端Ｇより上方３
cmの点Ｌとで決まる線分ＲＬを切るようにしてあ
り、かつ、０＜α＜４５°、０＜β＜４５°であ
る事を特徴とする薄膜形成装置。 (2) サセプタ２の上端、下端におけるサセプタ
とチヤンバ壁との距離をＤ，ｄとするとき、Ｄ＞
ｄであり、かつα＜β、３°＜β＜１５°である
事を特徴とする請求項１記載の薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9138689U JPH0718765Y2 (ja) | 1989-08-01 | 1989-08-01 | 薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9138689U JPH0718765Y2 (ja) | 1989-08-01 | 1989-08-01 | 薄膜形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0330269U true JPH0330269U (ja) | 1991-03-25 |
| JPH0718765Y2 JPH0718765Y2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=31640871
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9138689U Expired - Fee Related JPH0718765Y2 (ja) | 1989-08-01 | 1989-08-01 | 薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0718765Y2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000002780A1 (fr) * | 1998-07-08 | 2000-01-20 | Saitama Medicom Co., Ltd. | Systeme de confection d'emballages de medicaments |
| JP2002282340A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-02 | Higashi Nihon Medicom Kk | 薬剤の服用時点別包装システム |
| US7276125B2 (en) | 2003-12-22 | 2007-10-02 | Toshiba Ceramics Co., Ltd. | Barrel type susceptor |
-
1989
- 1989-08-01 JP JP9138689U patent/JPH0718765Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000002780A1 (fr) * | 1998-07-08 | 2000-01-20 | Saitama Medicom Co., Ltd. | Systeme de confection d'emballages de medicaments |
| JP2002282340A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-02 | Higashi Nihon Medicom Kk | 薬剤の服用時点別包装システム |
| US7276125B2 (en) | 2003-12-22 | 2007-10-02 | Toshiba Ceramics Co., Ltd. | Barrel type susceptor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0718765Y2 (ja) | 1995-05-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |