JPH03291890A - 高周波誘導加熱装置 - Google Patents
高周波誘導加熱装置Info
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- JPH03291890A JPH03291890A JP2094857A JP9485790A JPH03291890A JP H03291890 A JPH03291890 A JP H03291890A JP 2094857 A JP2094857 A JP 2094857A JP 9485790 A JP9485790 A JP 9485790A JP H03291890 A JPH03291890 A JP H03291890A
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- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 title abstract 4
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
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- General Induction Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明はカレントトランスの１次コイルを蚊取線香型と
し、二次コイルとわ−く加熱用の高周波加熱コイルとを
一体形成した高周波誘導加熱装置に関する。
し、二次コイルとわ−く加熱用の高周波加熱コイルとを
一体形成した高周波誘導加熱装置に関する。
〈従来の技術〉
以下、図面を参照して従来の技術を説明する。
第５図は例えば多量のスタフ）ビンを順次加熱する高周
波誘導加熱装置の一例の説明Ｖである。
波誘導加熱装置の一例の説明Ｖである。
まず、ワークであるスタンドビンＷをターンテーブル５
上に複数個設けられたワーク載置台６の内の一つの載置
台の上に手作業或いは機械によって載置する（スタット
ビンＷ１の位置）。
上に複数個設けられたワーク載置台６の内の一つの載置
台の上に手作業或いは機械によって載置する（スタット
ビンＷ１の位置）。
ワーク載置台６には、スタンドビンＷが安定してワーク
載置台６上に載置されているように、スタンドビンＷの
外形に対応した形状の凹所６ａが形成されている。
載置台６上に載置されているように、スタンドビンＷの
外形に対応した形状の凹所６ａが形成されている。
ターンテーブル５が軸７を中心として矢印への方向に所
定角度回転後停止して、スタッドビンＷが高周波加熱コ
イル４の直下にくると（スタッドビンＷ２の位置）、カ
レントトランス３が高周波加熱コイル４と共に、矢印Ｂ
の方間に、図示しないコイル昇降装置によって陵下して
高周波加熱コイル４がスタッドピンＷを囲繞する。そし
て、高周波電源１から、可撓導体２を経由してカレント
トランス３の図示しない１次コイルに給電された高周波
電流は、カレントトランス３０図示しない２次コイルを
経て高周波加熱コイル４に所定時間通電されてスタッド
ピンＷが加熱される。
定角度回転後停止して、スタッドビンＷが高周波加熱コ
イル４の直下にくると（スタッドビンＷ２の位置）、カ
レントトランス３が高周波加熱コイル４と共に、矢印Ｂ
の方間に、図示しないコイル昇降装置によって陵下して
高周波加熱コイル４がスタッドピンＷを囲繞する。そし
て、高周波電源１から、可撓導体２を経由してカレント
トランス３の図示しない１次コイルに給電された高周波
電流は、カレントトランス３０図示しない２次コイルを
経て高周波加熱コイル４に所定時間通電されてスタッド
ピンＷが加熱される。
この加熱が終了すると、高周波加熱コイル４のスタッド
ピンＷに対向した面に設けた図示しない冷却液噴射孔か
ら冷却液が噴射されてスタッドピンＷの焼入が終了する
。その後、カレントトランス３は高周波加熱コイル４と
共に、矢印Ｂと反対方向に、前記コイル具陳装置によっ
て上昇される。
ピンＷに対向した面に設けた図示しない冷却液噴射孔か
ら冷却液が噴射されてスタッドピンＷの焼入が終了する
。その後、カレントトランス３は高周波加熱コイル４と
共に、矢印Ｂと反対方向に、前記コイル具陳装置によっ
て上昇される。
すると、ターンテーブル５が矢印Ａの方向に所定角度回
転して停止する（スタッドピンＷ３の位置）ので、スタ
ンドビンＷを手作業或いは機械によってワーク載置台６
の上から取り去る。
転して停止する（スタッドピンＷ３の位置）ので、スタ
ンドビンＷを手作業或いは機械によってワーク載置台６
の上から取り去る。
〈発明が解決しようとする課題〉
上記のように、従来の高周波誘導加熱装置では、大きな
重量であるカレントトランス３を昇降させるので、この
カレントトランス３の昇降のための装置を必要とし、従
って、高周波誘導加熱装置の構造を複雑にしているのみ
ならず、コストを高くしている。
重量であるカレントトランス３を昇降させるので、この
カレントトランス３の昇降のための装置を必要とし、従
って、高周波誘導加熱装置の構造を複雑にしているのみ
ならず、コストを高くしている。
本発明は上記事情に鑑みて創案されたものであって、カ
レントトランスを昇降さける必要がなく、従って、構造
が簡単で廉価な高周波誘導加熱装置を提供することを目
的としている。
レントトランスを昇降さける必要がなく、従って、構造
が簡単で廉価な高周波誘導加熱装置を提供することを目
的としている。
〈課題を解決するための手段〉
上記問題を解決するために、本発明の高周波誘導加熱装
置は、２次コイルと、この２次コイルの下方に固定して
設けた１次コイルとを備え、２次コイルに第１および第
２の開口と両開口間を繋ぐ狭隙とを設け、また、１次コ
イルを第１の開口の周辺部分の形状に対応するように形
成し且つ前記周辺部分に対向するように配置して１次コ
イルと第１の開口の周辺部分とで平面対向型のカレント
トランスを形成すると共に、第２の開口の周辺部分で加
熱コイルを形成し、１次コイルに高周波電流を通電する
ことによって第２の開口内に設置したワークを加熱する
ようにしている。
置は、２次コイルと、この２次コイルの下方に固定して
設けた１次コイルとを備え、２次コイルに第１および第
２の開口と両開口間を繋ぐ狭隙とを設け、また、１次コ
イルを第１の開口の周辺部分の形状に対応するように形
成し且つ前記周辺部分に対向するように配置して１次コ
イルと第１の開口の周辺部分とで平面対向型のカレント
トランスを形成すると共に、第２の開口の周辺部分で加
熱コイルを形成し、１次コイルに高周波電流を通電する
ことによって第２の開口内に設置したワークを加熱する
ようにしている。
く作用〉
１次コイルに高周波電流を所定時間通電すると、２次コ
イルの第１の開口、狭隙および第２の開口の周辺には誘
導電流が流れる。この誘導電流によって前記第２の開口
内に設置されたワークに誘導電流が流れてワークが加熱
される。
イルの第１の開口、狭隙および第２の開口の周辺には誘
導電流が流れる。この誘導電流によって前記第２の開口
内に設置されたワークに誘導電流が流れてワークが加熱
される。
〈実施例〉
以下、凹面を参照して本発明の一実施例を説明する。第
１図〜第４図は本発明の一実施例を説明するための図面
であって、第１図は第２図の八−Ａ線矢視断面図、第２
図は平面図、第３図は第２図のＢ−Ｂ線矢視断面図であ
る。第４図は２次コイル（従来のカレントトランスの２
次コイルと高周波加熱コイルに相当する）を示し、（ａ
）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線矢視断面図、（
Ｃ）は（ａ）のＢ−Ｂ線矢視断面図、（ｄ）は実際的な
２次コイルの平面図である。
１図〜第４図は本発明の一実施例を説明するための図面
であって、第１図は第２図の八−Ａ線矢視断面図、第２
図は平面図、第３図は第２図のＢ−Ｂ線矢視断面図であ
る。第４図は２次コイル（従来のカレントトランスの２
次コイルと高周波加熱コイルに相当する）を示し、（ａ
）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線矢視断面図、（
Ｃ）は（ａ）のＢ−Ｂ線矢視断面図、（ｄ）は実際的な
２次コイルの平面図である。
本実施例は、円柱の両端面に突起を形成した形状のスタ
ンドビンＷの外周面を加熱する高周波誘導加熱装置であ
る。第１図および第２図に示すように、図示しない駆動
装置によって間歇的に回転駆動される軸３２に取り付け
られたガラスラミネート板またはセラミック製等の絶縁
性のターンテーブル３０の上には、４個（３個以上であ
れば良い）の銅等の金属製の２次コイル２０が固定され
ている。
ンドビンＷの外周面を加熱する高周波誘導加熱装置であ
る。第１図および第２図に示すように、図示しない駆動
装置によって間歇的に回転駆動される軸３２に取り付け
られたガラスラミネート板またはセラミック製等の絶縁
性のターンテーブル３０の上には、４個（３個以上であ
れば良い）の銅等の金属製の２次コイル２０が固定され
ている。
４個の２次コイル２０は軸３１を中心として９０°ずつ
ずれた位置に配置されている。
ずれた位置に配置されている。
第４図に示すように、良導電金属製でほぼ８字形状の２
次コイル２０は、はぼ円形の開口２１ （第１の開口）
と、スタンドビンＷの直径より大きい直径を有する円形
の開口２２（第２の開口）と、開口２１と２２とを接続
している長方形状の狭隙２３とを備えている。狭隙２３
には通常第４図（ｄ）に示すように、テフロン等の絶縁
物２５を充填しである。開口２１の周辺部分２１ａは従
来のカレントトランスの２次コイルに相当し、開口２２
の周辺部分２２ａは従来の高周波加熱コイルに相当する
。
次コイル２０は、はぼ円形の開口２１ （第１の開口）
と、スタンドビンＷの直径より大きい直径を有する円形
の開口２２（第２の開口）と、開口２１と２２とを接続
している長方形状の狭隙２３とを備えている。狭隙２３
には通常第４図（ｄ）に示すように、テフロン等の絶縁
物２５を充填しである。開口２１の周辺部分２１ａは従
来のカレントトランスの２次コイルに相当し、開口２２
の周辺部分２２ａは従来の高周波加熱コイルに相当する
。
第１図および第３図に示すように、２次コイル２０の開
口２２の下方でターンテーブル３０の表面に設けた凹所
３４には、スタッドピンＷを載置するセラミック製等の
絶縁性のワーク載置台３１が取り付けられている。ワー
ク蔵置台３１には載置されたスタッドビンＷが倒れない
ようにスタッドビンＷの下部の突起が挿入される凹部３
１ａが穿設されている。
口２２の下方でターンテーブル３０の表面に設けた凹所
３４には、スタッドピンＷを載置するセラミック製等の
絶縁性のワーク載置台３１が取り付けられている。ワー
ク蔵置台３１には載置されたスタッドビンＷが倒れない
ようにスタッドビンＷの下部の突起が挿入される凹部３
１ａが穿設されている。
ターンテーブル３０の下方で、４個の２次コイル２０の
内の１個の２次コイル２０（第２図上で上方の２次コイ
ル２０）の開口２１に対向する位置には、１次コイル１
０が設けられている。１次コイル１０は、２次コイル２
０の開口２１の周辺部分２１ａの形状に対応するように
中央に開口部分１０ａが有るように形成され、且つ、前
記周辺部分２１ａに対向した位置に配置されている。１
次コイル１０は、絶縁物１３を介してスパイラル状に多
重に巻かれた良導電金属製の導体１１と、導体１１の２
次コイル２０に対向した面以外の面を覆うように形成さ
れたフェライト製等のコア１４とを備えている。導体１
１は中空部分１４を有し、この中空部分１４に導体１１
を冷却するために冷却液が流通される。そして、１次コ
イル１０は絶縁板１５の上に取り付けられている。また
、１次コイル１０の一端および他端はそれぞれリード線
１０１および１０２を介して高周波電源１００に接続さ
れている。
内の１個の２次コイル２０（第２図上で上方の２次コイ
ル２０）の開口２１に対向する位置には、１次コイル１
０が設けられている。１次コイル１０は、２次コイル２
０の開口２１の周辺部分２１ａの形状に対応するように
中央に開口部分１０ａが有るように形成され、且つ、前
記周辺部分２１ａに対向した位置に配置されている。１
次コイル１０は、絶縁物１３を介してスパイラル状に多
重に巻かれた良導電金属製の導体１１と、導体１１の２
次コイル２０に対向した面以外の面を覆うように形成さ
れたフェライト製等のコア１４とを備えている。導体１
１は中空部分１４を有し、この中空部分１４に導体１１
を冷却するために冷却液が流通される。そして、１次コ
イル１０は絶縁板１５の上に取り付けられている。また
、１次コイル１０の一端および他端はそれぞれリード線
１０１および１０２を介して高周波電源１００に接続さ
れている。
上記のように、１次コイル１０と２次コイル２０の開口
２１の周辺部分２１ａとで、平面対向型のカレントトラ
ンスを形成している。
２１の周辺部分２１ａとで、平面対向型のカレントトラ
ンスを形成している。
次に、本実施例の動作について説明する。
まず、第２図上で右方に示す２次コイル２０の開口２２
内のワーク載置台３１の凹所３１ａにスタッドビンＷの
下部の突起を挿入してスタッドビンＷをワーク載置台３
１に載置する。次いで、ターンテーブル駆動装置３３に
よってターンテーブル３０を矢印Ｃの方向に９０°回転
させて後停止させる。すると、２次コイル２０は第２図
上で上方に示す２次コイル２０の位置にくる。このとき
、第１図に示すように、２次コイル２０の開口２１の外
周部分２１ａが１次コイル１０に対向した位置にある。
内のワーク載置台３１の凹所３１ａにスタッドビンＷの
下部の突起を挿入してスタッドビンＷをワーク載置台３
１に載置する。次いで、ターンテーブル駆動装置３３に
よってターンテーブル３０を矢印Ｃの方向に９０°回転
させて後停止させる。すると、２次コイル２０は第２図
上で上方に示す２次コイル２０の位置にくる。このとき
、第１図に示すように、２次コイル２０の開口２１の外
周部分２１ａが１次コイル１０に対向した位置にある。
この状態で高周波電源１００から１次コイル１０に高周
波電流を所定時間通電すると、第２図に示すように、２
次コイル２０の開口２１の周辺部分２１ａ、狭隙２３の
両側および開口２２の周辺部分２２ａには誘導電流ｉが
流れる。この誘導電流ｉによって、開口２２内に配置さ
れたスタッドビンＷに誘導電流が流れてスタッドビンＷ
が加熱される。このように、スタ・ンドピンＷを所定時
間加熱した後、１次コイル１０への通電を断つ。
波電流を所定時間通電すると、第２図に示すように、２
次コイル２０の開口２１の周辺部分２１ａ、狭隙２３の
両側および開口２２の周辺部分２２ａには誘導電流ｉが
流れる。この誘導電流ｉによって、開口２２内に配置さ
れたスタッドビンＷに誘導電流が流れてスタッドビンＷ
が加熱される。このように、スタ・ンドピンＷを所定時
間加熱した後、１次コイル１０への通電を断つ。
次いで、図示しないジャケットから冷却液をスタッドビ
ンＷに噴射してスタッドビンＷを冷却後、図示しない駆
動装置によってターンテーブル３０を矢印Ｃの方向に９
０°回転させてから停止させる。
ンＷに噴射してスタッドビンＷを冷却後、図示しない駆
動装置によってターンテーブル３０を矢印Ｃの方向に９
０°回転させてから停止させる。
そして、手作業或いは機械によってスタッドビンＷをワ
ーク載置台３１から取り外す。
ーク載置台３１から取り外す。
以下、上記の動作を繰り返すことによって多数のスタン
ドビンＷを順次自動的に高周波誘導加熱してゆくことが
できる。
ドビンＷを順次自動的に高周波誘導加熱してゆくことが
できる。
なお、本実施例ではターンテーブル３０が全体的に絶縁
性であるとしたが、これにこだわるものではな′く、２
次コイル２０の周辺その他必要個所のみを絶縁性とし、
その他の部分を導電性とすることもできる。また、開口
２１の周辺部分２１ａには１次コイル１０と同様にコア
を取り付けたり、２次コイル２０の内部に冷却液を流通
して冷却することも可能である。
性であるとしたが、これにこだわるものではな′く、２
次コイル２０の周辺その他必要個所のみを絶縁性とし、
その他の部分を導電性とすることもできる。また、開口
２１の周辺部分２１ａには１次コイル１０と同様にコア
を取り付けたり、２次コイル２０の内部に冷却液を流通
して冷却することも可能である。
〈発明の効果〉
以上説明したように、本発明の高周波誘導加熱装置は、
２次コイルと、この２次コイルの下方に固定して設けた
１次コイルとを備え、２次コイルに第１および第２の開
口と両開口間を繋（狭隙とを設け、また、１次コイルを
第１の開口の周辺部分の形状に対応するように形成し且
つ前記周辺部分に対向するように配置して１次コイルと
第１の開口の周辺部分とで平面対向型のカレントトラン
スを形成すると共に、第２の開口の周辺部分で加熱コイ
ルを形成し、１次コイルに高周波電流を通電することに
よって第２の開口内に設置したワークを加熱する。
２次コイルと、この２次コイルの下方に固定して設けた
１次コイルとを備え、２次コイルに第１および第２の開
口と両開口間を繋（狭隙とを設け、また、１次コイルを
第１の開口の周辺部分の形状に対応するように形成し且
つ前記周辺部分に対向するように配置して１次コイルと
第１の開口の周辺部分とで平面対向型のカレントトラン
スを形成すると共に、第２の開口の周辺部分で加熱コイ
ルを形成し、１次コイルに高周波電流を通電することに
よって第２の開口内に設置したワークを加熱する。
従って、本発明の高周波誘導加熱装置は、カレントトラ
ンスを具陳させる必要がないから、構造が簡単で廉価で
ある利点を有する。
ンスを具陳させる必要がないから、構造が簡単で廉価で
ある利点を有する。
第１図〜第４図は本発明の一実施例を説明するための図
面であって、第１図は第２図のＡ−Ａ線矢視断面図、第
２図は平面図、第３図は第２図のＢ−Ｂ線矢視断面図で
ある。第４図は２次コイルを示し、（ａ）は平面図、（
ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線矢視断面図、（Ｃ）は（ａ）の
Ｂ−Ｂ線矢視断面図、（ｄ）は実際的な２次コイルの平
面図である。第５図は多量のスタッドビンを順次加熱す
る従来の高周波誘導加熱装置の一例の説明図である。 １０・・・１次コイル、２０・・・２次コイル、２１．
２２・・・開口、２１ａ 、 ２２ａ ・・・外周部
分、２３・・狭隙、３０・・・ターンテーブル、Ｗ・・
・スタッドピン。
面であって、第１図は第２図のＡ−Ａ線矢視断面図、第
２図は平面図、第３図は第２図のＢ−Ｂ線矢視断面図で
ある。第４図は２次コイルを示し、（ａ）は平面図、（
ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線矢視断面図、（Ｃ）は（ａ）の
Ｂ−Ｂ線矢視断面図、（ｄ）は実際的な２次コイルの平
面図である。第５図は多量のスタッドビンを順次加熱す
る従来の高周波誘導加熱装置の一例の説明図である。 １０・・・１次コイル、２０・・・２次コイル、２１．
２２・・・開口、２１ａ 、 ２２ａ ・・・外周部
分、２３・・狭隙、３０・・・ターンテーブル、Ｗ・・
・スタッドピン。
Claims (1)
- （１）２次コイルと、この２次コイルの下方に固定して
設けた１次コイルとを備え、２次コイルに第１および第
２の開口と両開口間を繋ぐ挟隙とを設け、また、１次コ
イルを第１の開口の周辺部分の形状に対応するように形
成し且つ前記周辺部分に対向するように配置して１次コ
イルと第１の開口の周辺部分とで平面対向型のカレント
トランスを形成すると共に、第２の開口の周辺部分で加
熱コイルを形成し、１次コイルに高周波電流を通電する
ことによって第２の開口内に設置したワークを加熱する
ことを特徴とする高周波誘導加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2094857A JPH0719649B2 (ja) | 1990-04-09 | 1990-04-09 | 高周波誘導加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2094857A JPH0719649B2 (ja) | 1990-04-09 | 1990-04-09 | 高周波誘導加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03291890A true JPH03291890A (ja) | 1991-12-24 |
| JPH0719649B2 JPH0719649B2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=14121704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2094857A Expired - Lifetime JPH0719649B2 (ja) | 1990-04-09 | 1990-04-09 | 高周波誘導加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0719649B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010080073A (ja) * | 2008-09-24 | 2010-04-08 | Dai Ichi High Frequency Co Ltd | 誘導加熱溶解装置 |
| WO2012056957A1 (ja) * | 2010-10-28 | 2012-05-03 | 三菱電機株式会社 | 誘導加熱装置及びこれを用いた加熱システム |
-
1990
- 1990-04-09 JP JP2094857A patent/JPH0719649B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010080073A (ja) * | 2008-09-24 | 2010-04-08 | Dai Ichi High Frequency Co Ltd | 誘導加熱溶解装置 |
| WO2012056957A1 (ja) * | 2010-10-28 | 2012-05-03 | 三菱電機株式会社 | 誘導加熱装置及びこれを用いた加熱システム |
| JP2013122932A (ja) * | 2010-10-28 | 2013-06-20 | Mitsubishi Electric Corp | 誘導加熱調理器 |
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