JPH032833A - 液晶表示装置の製造法 - Google Patents
液晶表示装置の製造法Info
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- JPH032833A JPH032833A JP13845989A JP13845989A JPH032833A JP H032833 A JPH032833 A JP H032833A JP 13845989 A JP13845989 A JP 13845989A JP 13845989 A JP13845989 A JP 13845989A JP H032833 A JPH032833 A JP H032833A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
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- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、表示電極間に基板間距離を一定に保持するス
ペーサを有する液晶表示装置の製造法に関するものであ
る。
ペーサを有する液晶表示装置の製造法に関するものであ
る。
従来の技術
近年、ニューメディア機器、ＯＡ機器への適用をめざし
て、液晶表示パネルの高精細化、大容量表示化が盛んに
進められている。高精細化、大容量表示化に伴って、従
来以上に大面積にわたって精度よく液晶表示装置の基板
間距離（ギャップ）を均一に制御する必要が生じてきた
。
て、液晶表示パネルの高精細化、大容量表示化が盛んに
進められている。高精細化、大容量表示化に伴って、従
来以上に大面積にわたって精度よく液晶表示装置の基板
間距離（ギャップ）を均一に制御する必要が生じてきた
。
従来より、液晶表示装置のギャップ制御の方法として、
ガラスピーズ、樹脂ビーズ等のスペーサ粒子を基板上に
分散させるビーズ分散方法と、感光性樹脂をフォトマス
クを用いて露光、現像して、所定の位置にギャップ制御
用のスペーサを形成するフォトリソグラフィ方法がある
。
ガラスピーズ、樹脂ビーズ等のスペーサ粒子を基板上に
分散させるビーズ分散方法と、感光性樹脂をフォトマス
クを用いて露光、現像して、所定の位置にギャップ制御
用のスペーサを形成するフォトリソグラフィ方法がある
。
発明が解決しようとする課題
スペーサ分散方法では、基板の帯電、スペーサ粒子の帯
電、吸湿によりスペーサ粒子が凝集して、基板上への分
散が均一にならないことがしばしば生じる。凝集し７た
部分では、基板貼り合せ時に局所的にギャップが厚くな
るため、ギャップの不均一性を生じたり、液晶の配向膜
れを引き起し、その結果表示品位の低下を招くという課
題がある。
電、吸湿によりスペーサ粒子が凝集して、基板上への分
散が均一にならないことがしばしば生じる。凝集し７た
部分では、基板貼り合せ時に局所的にギャップが厚くな
るため、ギャップの不均一性を生じたり、液晶の配向膜
れを引き起し、その結果表示品位の低下を招くという課
題がある。
フォトリソグラフィー法の場合、感光性樹脂を露光する
際にフォトマスクをアライメント（マスク合せ）する必
要がある。表示電極の高精細化。
際にフォトマスクをアライメント（マスク合せ）する必
要がある。表示電極の高精細化。
大容量化に伴って、従来以上に大面積にわたって高精度
にマスク合せをする必要がある。そのためマスクの位置
合せ不良のため、スペーサが所定の位置に形成されない
状態がしばしば発生し、歩留りの低下を招いている。
にマスク合せをする必要がある。そのためマスクの位置
合せ不良のため、スペーサが所定の位置に形成されない
状態がしばしば発生し、歩留りの低下を招いている。
課題を解決するための手段
上記課題を解決するために、本発明の液晶表示装置と液
晶表示装置の製造法は？、ｔｆ＃！！、のストライプ状
に形成した透明電極上に遮光作用を存する金属被膜をコ
ーティングした基板表面に、感光型の樹脂を塗布した後
、前記基板裏面より感光性の樹脂を露光するものである
。
晶表示装置の製造法は？、ｔｆ＃！！、のストライプ状
に形成した透明電極上に遮光作用を存する金属被膜をコ
ーティングした基板表面に、感光型の樹脂を塗布した後
、前記基板裏面より感光性の樹脂を露光するものである
。
作用
上記構成によれば、透明電極上にコーティングした金属
波膜が遮光作用を有してフォトマスクとして作用するの
で、マスク合じを行う必要がなく、基板裏面より露光を
行うだけでギャンプ制御作用のあるスペーサを形成する
ことができる。
波膜が遮光作用を有してフォトマスクとして作用するの
で、マスク合じを行う必要がなく、基板裏面より露光を
行うだけでギャンプ制御作用のあるスペーサを形成する
ことができる。
実施例
以下に本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
第１図は本発明の製造法により作成した液晶表示装置断
面図の一例である。■はガラス基板、２は透明電極、３
はライン・スペーサ、４は配向膜、５はシール材、６は
液晶層である。第２図（ａ）〜（ｅ）は本発明の液晶表
示装置の製造法の一例を示す工程図である。
面図の一例である。■はガラス基板、２は透明電極、３
はライン・スペーサ、４は配向膜、５はシール材、６は
液晶層である。第２図（ａ）〜（ｅ）は本発明の液晶表
示装置の製造法の一例を示す工程図である。
各図の順序に従って工程を説明すると、第２図（ａ）に
示す様に、ガラス基板１上に電子ビーム（ＥＢ）蒸着、
スパフクにより酸化インジュウム錫（ＩＴＯ）の薄膜を
形成する。ＩＴＯの表面抵抗値は１０Ω／口である。
示す様に、ガラス基板１上に電子ビーム（ＥＢ）蒸着、
スパフクにより酸化インジュウム錫（ＩＴＯ）の薄膜を
形成する。ＩＴＯの表面抵抗値は１０Ω／口である。
その後、フォトレジストをスピンナー又はロール・コー
タにより塗布した後、所定の方法によりパターニングを
行い、エツチングを行うことにより透明電極２を形成す
る。
タにより塗布した後、所定の方法によりパターニングを
行い、エツチングを行うことにより透明電極２を形成す
る。
次に第２図伽）に示す様に、無電解Ｎｉメッキを行うこ
とにより、透明電極２上にＮ ｔ−Ｐの金属被膜７を形
成する。
とにより、透明電極２上にＮ ｔ−Ｐの金属被膜７を形
成する。
無電解Ｎｉメッキは選択性があり、金属＞ＪＨ９７はＩ
ＴＯからなる透明電極２上のみに析出して、ガラス上に
析出することはない、金属被膜７の膜厚は約０．５〜１
μｍ程度であり、十分遮光作用を有する。
ＴＯからなる透明電極２上のみに析出して、ガラス上に
析出することはない、金属被膜７の膜厚は約０．５〜１
μｍ程度であり、十分遮光作用を有する。
第２図（Ｃ）に示す様に、前記構成のガラス基板１表面
上にネガ型の感光性ポリイミド８をスピンナーまたはロ
ールコータにより塗布する０次にガラス基板ｌを裏面か
ら露光する。この時、金属被膜７はフォトマスクとして
作用するので、金属被膜７上の感光性ポリイミドは露光
されず、電極間のスペース部分のみ露光される０次に現
像することによって、スペース部分にのみ感光性ポリイ
ミドが残り、基板間距離制御用のライン・スペーサ９が
形成される（第２図（ｄ））。
上にネガ型の感光性ポリイミド８をスピンナーまたはロ
ールコータにより塗布する０次にガラス基板ｌを裏面か
ら露光する。この時、金属被膜７はフォトマスクとして
作用するので、金属被膜７上の感光性ポリイミドは露光
されず、電極間のスペース部分のみ露光される０次に現
像することによって、スペース部分にのみ感光性ポリイ
ミドが残り、基板間距離制御用のライン・スペーサ９が
形成される（第２図（ｄ））。
金属被膜７をエツチングにより除去する。この時エンチ
ングによりライン・スペーサ９が除去されることはない
（第２図（ｅ））。
ングによりライン・スペーサ９が除去されることはない
（第２図（ｅ））。
前記の方法によりライン・スペーサを形成した基板とラ
イン・スペーサを形成していない基板とに配向処理を施
した後、直交方向に２枚の基板をシール材により貼り合
せることによって、基板間距離を均一に保持することが
できる。
イン・スペーサを形成していない基板とに配向処理を施
した後、直交方向に２枚の基板をシール材により貼り合
せることによって、基板間距離を均一に保持することが
できる。
第３図に感光性樹脂塗布時のスピンナー回転数と基板間
距離との関係を示す。曲線Ａは感光性樹脂の粘度が５０
ｃｐＳＢは２５ｃｐである。スピンナーの回転数、感光
性樹脂の粘度をパラメータにすることにより、基板間距
離を１．５〜６μｍ程度まで任意に変えることができる
。
距離との関係を示す。曲線Ａは感光性樹脂の粘度が５０
ｃｐＳＢは２５ｃｐである。スピンナーの回転数、感光
性樹脂の粘度をパラメータにすることにより、基板間距
離を１．５〜６μｍ程度まで任意に変えることができる
。
次に他の実施例について説明する。
第２図（ａ）で形成した透明電極群に導電性のテープを
張り付け、すべての透明電極群を電気的に接続する。ガ
ラス基板を硫酸ニッケル溶液に漬け、透明電極群を陰極
にし、陽極にＮｉ棒を用い、両極間にパルス電流波形、
または交直交互波形を加えることにより透明電極群上に
金１）ｉＮｉを析出させる。金属Ｎｉの膜圧は１〜３μ
ｍ程度あり、十分遮光作用を有する。
張り付け、すべての透明電極群を電気的に接続する。ガ
ラス基板を硫酸ニッケル溶液に漬け、透明電極群を陰極
にし、陽極にＮｉ棒を用い、両極間にパルス電流波形、
または交直交互波形を加えることにより透明電極群上に
金１）ｉＮｉを析出させる。金属Ｎｉの膜圧は１〜３μ
ｍ程度あり、十分遮光作用を有する。
上述の製造法により作製した液晶表示装置は画素全体に
わたって均一にギャップを制御できるので、表示ムラが
見られず、優れた表示品位を得ることができる。工法的
にもフォトマスクが不要であり、かつマスク合せをする
必要がないので、電極ピッチの高精細化、または大容量
化に対して、容易に実現できる。
わたって均一にギャップを制御できるので、表示ムラが
見られず、優れた表示品位を得ることができる。工法的
にもフォトマスクが不要であり、かつマスク合せをする
必要がないので、電極ピッチの高精細化、または大容量
化に対して、容易に実現できる。
発明の効果
本発明の液晶表示装置の製造法は表示用の透明電極上に
コーティングした金属被膜がフォトマスクとして作用す
るので、マスク合せを行うことなくキャップ制御作用の
あるスペーサを画素全体にわたって均一に形成すること
ができ、表示品位を高めることができかつ表示の高精細
化、大容量表示化を図れ、非常に大きな効果がある。
コーティングした金属被膜がフォトマスクとして作用す
るので、マスク合せを行うことなくキャップ制御作用の
あるスペーサを画素全体にわたって均一に形成すること
ができ、表示品位を高めることができかつ表示の高精細
化、大容量表示化を図れ、非常に大きな効果がある。
第１図は本発明の製造方法により作製した液晶表示装置
の断面図、第２図は液晶表示装置の製造法を示す工程図
、第３図は基板間距離とスピンナー回転数との関係を示
したグラフである。 ｌ・・・・・・ガラス基板、２・・・・・・透明電極、
３・・・・・・ラインスペーサ、４・・・・・・配向膜
、５・・・・・・シール材、６・・・・・・液晶層。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか１名第３図 ２−ｆｉ期’＊ｇＩＬ ターーーシーノムシらＦ Ｃ−二５夜晶１ スビ°ソゲー回卑之蛋（ （ＸＩＱＯＩＩ） ｒｐｍ ） ζｑ
の断面図、第２図は液晶表示装置の製造法を示す工程図
、第３図は基板間距離とスピンナー回転数との関係を示
したグラフである。 ｌ・・・・・・ガラス基板、２・・・・・・透明電極、
３・・・・・・ラインスペーサ、４・・・・・・配向膜
、５・・・・・・シール材、６・・・・・・液晶層。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか１名第３図 ２−ｆｉ期’＊ｇＩＬ ターーーシーノムシらＦ Ｃ−二５夜晶１ スビ°ソゲー回卑之蛋（ （ＸＩＱＯＩＩ） ｒｐｍ ） ζｑ
Claims (4)
- （１）遮光作用のある金属被膜をコーティングした複数
の透明電極を有する基板表面に感光性の樹脂を塗布した
後、前記基板裏面より感光性の樹脂を露光することによ
り前記透明電極間に基板間距離を一定に保持するスペー
サを形成することを特徴とする液晶表示装置の製造法。 - （２）遮光作用のある金属被膜を無電解ニッケルメッキ
によって形成することを特徴とする請求項（１）記載の
液晶表示装置の製造法。 - （３）遮光作用のある金属被膜を電気メッキによって形
成することを特徴とする請求項（１）記載の液晶表示装
置の製造法。 - （４）感光性の樹脂がネガ型であることを特徴とする請
求項（１）記載の液晶表示装置の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13845989A JPH032833A (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | 液晶表示装置の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13845989A JPH032833A (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | 液晶表示装置の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH032833A true JPH032833A (ja) | 1991-01-09 |
Family
ID=15222519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13845989A Pending JPH032833A (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | 液晶表示装置の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH032833A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5490001A (en) * | 1990-11-19 | 1996-02-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Ferroelectric liquid crystal device with an AC electric field producing a helical structure |
| EP0725303A1 (en) * | 1995-02-06 | 1996-08-07 | International Business Machines Corporation | Liquid crystal display device |
| US5739882A (en) * | 1991-11-18 | 1998-04-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | LCD polymerized column spacer formed on a modified substrate, from an acrylic resin, on a surface having hydrophilic and hydrophobic portions, or at regular spacings |
| US5861932A (en) * | 1997-03-31 | 1999-01-19 | Denso Corporation | Liquid crystal cell and its manufacturing method |
| JP2004145084A (ja) * | 2002-10-25 | 2004-05-20 | Fujitsu Ltd | 液晶パネル及びその製造方法 |
| KR20220027843A (ko) | 2019-07-08 | 2022-03-08 | 가부시키가이샤 월드메탈 | 접합기재와 금속층의 접합체 |
-
1989
- 1989-05-31 JP JP13845989A patent/JPH032833A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| KR20220027843A (ko) | 2019-07-08 | 2022-03-08 | 가부시키가이샤 월드메탈 | 접합기재와 금속층의 접합체 |
| US11889635B2 (en) | 2019-07-08 | 2024-01-30 | World Metal Co., Ltd | Joined body of joining base material and metal layer |
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