JPH03275666A - ヘテロ環を有するフェニルカルボン酸誘導体 - Google Patents

ヘテロ環を有するフェニルカルボン酸誘導体

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JPH03275666A
JPH03275666A JP2103834A JP10383490A JPH03275666A JP H03275666 A JPH03275666 A JP H03275666A JP 2103834 A JP2103834 A JP 2103834A JP 10383490 A JP10383490 A JP 10383490A JP H03275666 A JPH03275666 A JP H03275666A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は新規なヘテロ環を有するフェニルカルボン酸誘
導体又はその塩、より詳しくは血中脂質低下作用を有し
、医薬として有用な上記化合物に関する。
従来技術とその問題点 本発明は、殊に医薬として有用な文献等に未載の新規な
フェニルカルボン酸誘導体及びその塩を提供することを
目的とする。
本発明によれば、一般式 〔式中Ｒ＋はハロゲン原子、低級アルキル基、シクロア
ルキル基、水酸基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子も
しくは低級アルキル基を有するフェノキシ基、カルボキ
シル基、低級アルキルスルホニルオキシ基、ハロゲン原
子を置換基として有することのあるフェニルスルホニル
オキシ基、低級アルキルスルホニルオキシ低級アルコキ
シ基、アミン基、低級アルカノイルアミノ基、ベンゾイ
ルアミノ基、低級アルケニルオキシ基、フェニル低級ア
ルコキシ低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルコキシ
基、フェニル環上に置換基としてハロゲン原子、低級ア
ルキル基及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれる
基を１〜３個有することのあるフェニル低級アルコキシ
基、ハロゲン置換低級アルキル基、ヒドロキシ基を置換
基として有することのある炭素数３〜８のシクロアルキ
ルオキシ基、ヒドロキシ基を置換基として有することの
ある炭素数３〜８のシクロアルキル置換低級アルコキシ
基、イミダゾリル低級アルキル基又はイミダゾリル低級
アルコキシ基を示し、ｋはＯ又は１〜３の整数を示す。
また（Ｒ１）ｋは低級アルキレンジオキシ基であっても
よい。Ａは低級アルキレン基又は低級アルキレンオキシ
基を示し、ｌはＯ又はｌである。Ｂはメチレン基又はカ
ルボニル基を示す。ｍはＯ又は１である。Ｄは低級アル
キレン基を示す。Ｅは低級アルキレン基又は低級アルケ
ニレン基を示し、ｎは０又は１である；Ｒ２は水素原子
又は低級アルキル基を示す。〕 で表わされるヘテロ環を有するフェニルカルボン酸誘導
体及びその塩が提供される。
尚、本明細書中基（Ｒ１）、においてｋが２又は３の場
合、各Ｒ１基は前記定義の同−基である必要はなく異な
る基であってもよい。
上記一般式（１）で表わされる本発明化合物及びその塩
は、投与後生体内でＣｏＡ化されることにより、コレス
テロール及び脂肪酸生合成系酵素を更により強力に阻害
すると考えられ、脂肪酸合成阻害作用及びコレステロー
ル合成阻害作用を有している。また生体内への吸収性が
よく、薬効の持続時間が長く、更に安全性が高く、吸収
、排出性にも優れ、低毒性である特徴を有している。従
って之等は、高脂血症治療剤、動脈硬化予防及び治療剤
、抗肥満薬、糖尿病治療剤等の医薬品として有用である
。
上記一般式（１）中Ａ、Ｂ、Ｄ、Ｅ、Ｒ１及びＲ２で定
義される各基その他の本明細書に記載の各基はより具体
的にはそれぞれ次の通りである。
ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子
、沃素原子を例示できる。
低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−
ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数ｌ〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
シクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル、シ
クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
ヘプチル、シクロオクチル基等の炭素数３〜８のシクロ
アルキル基を例示できる。
低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ
、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−
ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素
数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を例示できる
。
ハロゲン原子もしくは低級アルキル基を有するフェノキ
シ基としては、例えば２−クロロフェノキシ、３−クロ
ロフェノキシ、４−クロロフェノキシ、２−フルオロフ
ェノキシ、３−フルオロフェノキシ、４−フルオロフェ
ノキシ、２−ブロモフェノキシ、３−ブロモフェノキシ
、４−ブロモフェノキシ、２−ヨードフェノキシ、３−
ヨードフェノキシ、４−ヨードフェノキシ基等のフェニ
ル環上に置換基としてハロゲン原子を有するフェノキシ
基や２−メチルフェノキシ、３−メチルフェノキシ、４
−メチルフェノキシ、２−エチルフェノキシ、３−プロ
ピルフェノキシ、４−イソプロピルフェノキシ、４−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェノキシ、２−ペンチルフェノキシ、
３−へキシルフェノキシ、４−へキシルフェノキシ基等
のフェニル環上に置換基として炭素数１〜６のアルキル
基を有するフェノキシ基を例示できる。
低級アルキルスルホニルオキシ基としては、前記例示の
低級アルキル基を置換基として有するスルホニルオキシ
基を例示できる。
ハロゲン原子を置換基として有することのあるフェニル
スルホニルオキシ基としては、ハロゲン原子が１〜３個
置換していてもよいフェニルスルホニルオキシ基を例示
できる。
低級アルキルスルホニルオキシ低級アルコキシ基として
は前記例示の低級アルキルスルホニルオキシ基を置換基
として有する低級アルコキシ基を例示できる。
低級アルカノイルアミノ基としては、例えばアセチルア
ミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、ペンタノ
イルアミノ、ヘキサノイルアミノ基等の炭素数２〜６の
アルカノイル基を有するアミノ基を例示できる。
低級アルケニルオキシ基としては、例えばビニルオキシ
、アリルオキシ、１−プロペニルオキシ、ブテニルオキ
シ、ペンテニルオキシ、ヘキセニルオキシ基等の炭素数
２〜６のアルケニルオキシ基を例示できる。
フェニル低級アルコキシ低級アルコキシ基としては、例
えばフェニルメトキシメトキシ、１−フェニルメトキシ
エトキシ、２−フェニルメトキシプロポキシ、４−フェ
ニルメトキシブトキシ、５−フェニルメトキシペンチル
オキシ、６−フェニルメトキシへキシルオキシ、ｌ−フ
ェニルエトキシメトキシ、１−フェニルエトキシエトキ
シ、２−フェニルエトキシプロポキシ基等のフェニル低
級アルコキシ基を有する低級アルコキシ基を例示できる
。
ヒドロキシ低級アルコキシ基としは、例えばヒドロキシ
メトキシ、２−ヒドロキシエトキシ、２−ヒドロキシプ
ロポキシ、２−ヒドロキシイソプロポキシ、４−ヒドロ
キシブトキシ、２−ヒドロキシ−１ｅ「１−ブトキシ、
５−ヒドロキシペンチルオキシ、６−ヒドロキシへキシ
ルオキシ、１．２ジヒドロキシプロポキシ、１．２．３
−トリヒドロキシブトキシ、１．１．４−トリヒドロキ
シブトキシ基等のｌ〜３個のヒドロキシ基を置換基とし
て有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基
を例示できる。
フェニル環上にハロゲン原子、低級アルキル基及び低級
アルコキシ基からなる群から選ばれる基の１〜３個を有
することのあるフェニル低級アルコキシ基としては、例
えばベンジルオキシ、２−フェニルエトキシ、３−フェ
ニルプロポキシ、４−フェニルブトキシ、１．１−ジメ
チル−２−フェニル−ブトキシ、５−フェニルペンチル
オキシ、６−フエニルヘキシルオキシ基等のアルコキシ
部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状である無置換の
フェニルアルコキシ基、及び例えば２−クロロベンジル
オキシ、３−クロロベンジルオキシ、４−クロロベンジ
ルオキシ、２−ブロモベンジルオキシ、３−ブロモベン
ジルオキシ、４−ブロモベンジルオキシ、２−フルオロ
ベンジルオキシ、３−フルオロベンジルオキシ、４−フ
ルオロベンジルオキシ、２−ヨードベンジルオキシ、３
−ヨードベンジルオキシ、４−ヨードベンジルオキシ、
２−メチルベンジルオキシ、３−メチルベンジルオキシ
、４−メチルベンジルオキシ、２−エチルベンジルオキ
シ、３−プロピルベンジルオキシ、４−イソプロピルベ
ンジルオキシ、４−ｔｅｒｌ−ブチルベンジルオキシ、
２−ペンチルベンジルオキシ、３−へキシルベンジルオ
キシ、２−（２−クロロフェニル）エトキシ、３−（４
−ブロモフェニル）プロポキシ、１，１−ジメチル−２
−（３−フルオロフェニル）ブトキシ、６−　（４−ク
ロロフェニル）へキシルオキシ、２−（４−エチルフェ
ニル）エトキシ、３−（２−メチルフェニル）プロポキ
シ、２−　（４−ｔｅｒｊ−ブチルフェニル）へキシル
オキシ、６−　（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）へキ
シルオキシ、６−　（４−へキシルフェニル）へキシル
オキシ、４−メトキシベンジルオキシ、２−エトキシベ
ンジルオキシ、３−プロピルオキシベンジルオキシ、４
−イソプロピルオキシベンジルオキシ、４−ｊｅｒｌ−
ブチルオキシベンジルオキシ、２−ペンチルオキシベン
ジルオキシ、３−へキシルオキシベンジルオキシ、２−
　（２メトキシフエニル）エトキシ、３−（４−メトキ
シフェニル）プロポキシ、２−　（４−エトキシフェニ
ル）エトキシ、３−　（２−メトキシフェニル）プロポ
キシ、２−（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）へキシ
ルオキシ、６−　（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）
へキシルオキシ、６−（４−へキシルオキシフェニル）
へキシルオキシ基等のフェニル環上にハロゲン原子、炭
素数１〜６の直鎖状又は分枝鎖状アルキル基及び炭素数
１〜６の直鎖状又は分枝鎖状アルコキシ基からなる群か
ら選ばれる置換基の１〜３個を有し、アルコキシ部分が
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状であるフェニルアルコ
キシ基を例示できる。
ハロゲン置換低級アルキル基としては、ハロゲン原子の
１〜３個を置換基として有する低級アルキル基を例示で
きる。
ヒドロキシ基を置換基として有することのある炭素数３
〜８のシクロアルキルオキシ基としては、例えばヒドロ
キシシクロプロピルオキシ、１−ヒドロキシシクロブチ
ルオキシ、１−ヒドロキシシクロペンチルオキシ、１−
ヒドロキシシクロへキシルオキシ、１，２−ジヒドロキ
シシクロへキシルオキシ、１，２．３４リヒドロキシシ
クロへキシルオキシ、１−ヒドロキシシクロへブチルオ
キシ、１−ヒドロキシシクロオクチルオキシ基等のヒド
ロキシ基の１〜３個を置換基として有する炭素数３〜８
のシクロアルキルオキシ基を例示できる。
ヒドロキシ基を置換基として有することのある炭素数３
〜８のシクロアルキル置換低級アルコキシ基としては、
前記例示の１〜３個のヒドロキシ基を置換基として有す
ることのある炭素数３〜８のシクロアルキル基で置換さ
れた低級アルコキシ基を例示できる。
イミダゾリル低級アルキル基としては、例えばイミダゾ
リルメチル、１−（１−イミダゾリル）エチル、２−（
１−イミダゾリル）プロピル、２−（２−イミダゾリル
）イソプロピル、３−（１イミダゾリル）ブチル、３−
（２−イミダゾリル）イソブチル、２−　（１−イミダ
ゾリル）−１ｅｒｊ−ブチル、５−（１−イミダゾリル
）ペンチル、６−（１−イミダゾリル）ヘキシル基等の
イミダゾリル基を置換基として有する炭素数１〜６の直
鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
イミダゾリル低級アルコキシ基としては、例えばイミダ
ゾリルメトキシ、１−（１−イミダゾリル）エトキシ、
２−（上−イミダゾリル）プロポキシ、２−（２−イミ
ダゾリル）イソプロピルオキシ、３−（１−イミダゾリ
ル）ブトキシ、３−（２−イミダゾリル）イソブチルオ
キシ、２−（■−イミダゾリル）　−ｔｅｎｔ−ブチル
オキシ、５−（１−イミダゾリル）ペンチルオキシ、６
−（１−イミダゾリル）へキシルオキシ基等のイミダゾ
リル基を置換基として有する炭素数１〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルコキシ基を例示できる。
低級アルキレンジオキシ基としては、例えばメチレンジ
オキシ、エチレンジオキシ、トリメチレンジオキシ、テ
トラメチレンジオキシ基等の炭素数１〜４のアルキレン
ジオキシ基を例示できる。
低級アルキレン基としては、例えばメチレン、エチレン
、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘ
キサメチレン、２，２−ジメチルトリメチレン、２−メ
チルトリメチレン、メチルメチレン基等の炭素数１〜６
の直鎖又は分枝鎖状アルキレン基を例示できる。
低級アルキレンオキシ基としては、例えばメチレンオキ
シ、エチレンオキシ、トリメチレンオキシ、テトラメチ
レンオキシ、ペンタメチレンオキシ、ヘキサメチレンオ
キシ、２，２−ジメチルトリメチレンオキシ、２−メチ
ルトリメチレンオキシ、メチルメチレンオキシ基等の炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキレンオキシ基を例
示できる。
低級アルケニレン基としては、例えばビニレン、プロペ
ニレン、１−メチルビニレン、２−ブテニレン、３−ペ
ンテニレン、２−ヘキセニレン等の炭素数２〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルケニレン基を例示できる。
本発明の前記一般式（１）で表わされるヘテロ環を有す
るフェニルカルボン酸誘導体は、種々の化合物を原料と
して、各種方法により製造することができる。その具体
例を反応工程式を挙げて、以下に詳述する。
〈反応工程式−１〉 〔式中Ａ、、Ｂ、Ｄ、Ｅ、Ｒ’　、Ｒ２、Ｋ、／、ｍ及
びｎは前記に同じ。Ｘはハロゲン原子、置換基を有する
ことのある低級アルカンスルボニルオキシ基又は置換基
を有することのあるアリールスルホニルオキシ基を示す
。〕 上記反応工程式−１によれば、一般式（２）で表わされ
る化合物と一般式（３）で表わされる化合物とを、適当
な不活性溶媒中、塩基性化合物の存在下に反応させるこ
とにより、所望の一般式（１）で表わされる本発明化合
物を製造できる。
一般式（２）の化合物において、Ｘで示されるハロゲン
原子としては、前記例示のものと同様のものを、置換基
を有することのある低級アルカンスルホニルオキシ基と
しては、例えばメタンスルホニルオキシ、エタンスルホ
ニルオキシ、プロパンスルホニルオキシ、トリフルオロ
メタンスルホニルオキシ基等のハロゲン原子で置換され
ていてもよい炭素数１〜６のアルカンスルホニルオキシ
基を、また置換基を有することのあるアリールスルホニ
ルオキシ基としては、例えばベンゼンスルホニルオキシ
、トルエンスルホニルオキシ、ｐ−クロロベンゼンスル
ホニルオキシ、ｐ−ニトロベンゼンスルホニルオキシ基
等の炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子もしくは
ニトロ基で置換されていてもよいアリールスルホニルオ
キシ基をそれぞれ例示できる。
反応工程式−１に示す方法において用いられる不活性溶
媒としては、反応に悪影響を与えない各種のもの、例え
ばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）　
、ジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭
化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン等
のアミン類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化素水素
類、メタノール、エタノール、プロパツール等のアルコ
ール類、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）　、ジメチル
アセトアミド（ＤＭＡ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭ
ＳＯ）　、ヘキサメチルリン酸トリアミド（ＨＭＰＡ）
等の非プロトン性極性溶媒や二硫化炭素等を例示できる
。また塩基性化合物としては、例えばトリエチルアミン
、ピリジン等の第３級アミン類等の有機塩基性化合物及
び炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸
塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカ
リ金属炭酸水素塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等のアルカリ金属水酸化塩、ナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属、水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金
属等の無機塩基性化合物を例示できる。
一般式（２）の化合物に対する一般式（３）の化合物の
使用割合は通常１〜５倍モル量程度、好ましくは１〜２
倍モル量程度とされ、塩基性化合物は一般式（２）の化
合物に対して、通常１〜１００倍モル量程度、好ましく
は１〜３倍モル量程度とされるのがよい。また上記反応
は、一般に０〜２００℃程度、好ましくは室温〜１２０
℃程度の温度条件下に２０分〜７２時間程度、好ましく
は３０分〜４８時間程度を要して実施される。
また上記反応工程式−１において、Ｒ１基として低級ア
ルコキシ基又はフェニル環上に置換基としてハロゲン原
子もしくは低級アルキル基を有することのあるフェニル
低級アルコキシ基を有する一般式（１）の本発明化合物
は、同Ｒ１基が水酸基である一般式（１）の本発明化合
物を原料とし、これを反応工程式−１に示したエーテル
結合生成反応と同条件下に反応させることによっても製
造できる。
逆に上記Ｒ１基が水酸基である一般式（１）の本発明化
合物は、同Ｒ１基がフェニル環上に置換基としてハロゲ
ン原子もしくは低級アルキル基を有することのあるベン
ジルオキシ基である一般式（１）の本発明化合物〔但し
Ｅが低級アルケニレン基の場合を除く〕を原料とし、こ
れを接触還元反応させることによっても製造できる。こ
の接触還元反応は、適当な触媒を用いて不活性溶媒中で
実施できる。ここで用いられる接触還元触媒・とじては
、例えば酸化白金、白金黒、白金線、白金板、スポンジ
状白金、コロイド状白金等のプラチナ触媒、パラジウム
黒、塩化パラジウム、酸化パラジウム、パラジウム−炭
素、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリ
ウム、スポンジ状パラジウム等のパラジウム触媒、還元
ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケル等のニッケル
触媒、還元コバルト、ラネーコバルト等のコバルト触媒
、還元鉄、ラネー鉄等の鉄触媒、還元銅、ラネー銅等の
銅触媒等を例示できる。また不活性溶媒としては、反応
に悪影響を与えない各種のもの、例えばジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、ＴＨＦ１ジオキサン、アニソー
ル等のエーテル類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、
クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン等のアミン類
、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類
、メタノール、エタノール、プロパツール等のアルコー
ル類、酢酸エチル、酢酸メチル等の酢酸エステル類、Ｄ
ＭＦ、ＨＭＰＡ等の非プロトン性極性溶媒や水、或いは
水と上記各種有機溶媒との混合溶媒等を例示できる。原
料化合物に対する上記接触還元触媒の使用量は、触媒量
〜大過剰量とするのがよい。反応温度は、通常０〜２０
０°Ｃ程度、好ましくはＯ〜１００℃程度を採用程度、
反応は通常３０分〜４８時間程度、好ましくは３０分〜
２４時間程度で終了する。
〈反応工程式−２〉 〔式中Ａ、Ｂ、、、Ｄ、Ｅ、Ｒ’　　ｋ、ＩＩ、ｍ及び
ｎは前記に同じ。Ｒ３は低級アルキル基を示す。〕上上
記反応工程−２によれば、一般式（１ａ）で表わされる
本発明化合物の脱エステル化反応により一般式（１ｂ）
で表わされる本発明化合物を製造できる。
該脱エステル化反応は、適当な不活性溶媒中で、一般式
（１ａ）の化合物に酸性化合物又は塩基性化合物を作用
させることにより実施できる。
上記反応工程式−２に示す方法において、不活性溶媒と
しては、反応に悪影響を与えない各種のもの、例えばジ
メチルエーテル、ジエチルエーテル、ＴＨＦ１ジオキサ
ン、アニソール等のエーテル類、ジクロロメタン、ジク
ロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化
炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン
等のアミン類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪
族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパツール
等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸メチル等の酢酸エ
ステル類、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ。
ＨＭＰＡ等の非プロトン性極性溶媒や二硫化炭素、水等
、或いは水と上記各種有機溶媒との混合溶媒等を使用で
きる。また酸性化合物としては、例えば無水塩化アルミ
ニウム、塩化第二錫、四塩化チタン、三塩化硼素、三弗
化硼素−エチルエーテル錯体、塩化亜鉛等のルイス酸、
塩酸、硝酸、硫酸等の無機酸、トリクロロ酢酸、トリフ
ルオロ酢酸、メタンスルホン酸、酢酸等の有機酸、酸型
イオン交換樹脂等を使用でき、更に塩基性化合物として
は、例えばトリエチルアミン、トリブチルアミン等のト
リアルキルアミン類、ピリジン、ピコリン、１．５−ジ
アザビシクロ［４，３，０］　ノネン−５（ＤＢＮ）　
、１．８−ジアザビシクロ［５，４゜Ｏコランデセン−
７（ＤＢＵ）　、１．４−ジアザビシクロ［２，２，２
］オクタン（ＤＡＢＣＯ）等の有機塩基、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属
炭酸水素塩等の無機塩基を使用できる。
上記酸性化合物及び塩基性化合物の使用量は、通常一般
式（１ａ）の化合物に対して１〜１００倍モル量程度、
好ましくは１〜２０倍モル量程度とされるのがよい。上
記反応は通常−２０℃〜１５０℃程度、好ましくは−り
０℃〜１２０℃程度の温度条件下に、３０分〜４８時間
程度、好ましくは１〜２４時間程度を要して実施される
。
上記各反応工程式に示す方法に従い、所望の本発明化合
物を製造できる。
前記反応工程式−１に示す方法において出発原料として
用いられる一般式（２）の化合物には、一部新規化合物
が包含され、之等化合物は例えば下記反応工程式−３に
示す方法により製造できる。
〈反応工程式−３〉 （４） ↓ （５） ↓ （２） 〔式中Ａ、Ｂ、Ｄ、Ｒ’　　ｋ、ｌ、ｍ及びＸは前記に
同じ。Ｄ′はＤより主鎖の炭素数が１少ない低級アルキ
レン基を示し、ｐはＯ又は１を示す。〕 上記反応工程式−３によれば、まず一般式（４）の化合
物の還元反応により一般式（５）の化合物を製造できる
。
この還元反応は、一般式（４）の化合物のＲ１で示され
る置換基及びＢの種類等に応じてそれぞれ通常の還元方
法により行ない得る。
即ち、基Ｂがカルボニル基である一般式（４）の化合物
を原料とし該Ｂ基を維持した一般式（５）の化合物を製
造する場合、上記還元反応は、予め一般式（４）の化合
物をエステル化した後に行なうか、又は一般式（４）の
化合物を酸ハライドとした後行なうのがよい。
上記エステル化反応は、一般式（４）の化合物とアルコ
ール類とを、適当な不活性溶媒中、酸触媒の存在下に反
応させることにより実施できる。
用いられる不活性溶媒としては、反応に悪影響を与えな
い各種のもの、例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ、ジオ
キサン等のエーテル類、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン
、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、メタノール、エタノ
ール、プロパツール等のアルコール類、之等の混合溶媒
等を例示できる。また酸触媒としては、例えば塩化アル
ミニウム、塩化第二錫、四塩化チタン、三塩化硼素、三
弗化硼素−エチルエーテル錯体、塩化亜鉛等のルイス酸
、塩酸、硝酸、硫酸等の無機酸、トリクロロ酢酸、トリ
フルオロ酢酸、メタンスルホン酸、酢酸等の有機酸等の
他、酸型イオン交換樹脂等を使用できる。尚、上記にお
いて一般式（４）の化合物に反応させるアルコールとし
ては、メタノール、エタノール、プロパツール等を利用
でき、之等は溶媒としても機能する。一般式（４）の化
合物に対する該アルコールの使用割合は、通富士なくと
も等モル量、好ましくは１〜３０倍モル量程度とするの
がよ（、この反応は一般に室温〜溶媒の還流温度程度の
温度条件下に、１〜７２時間程度、好ましくは３〜２４
時間程度を要して行なわれる。
上記に引続く還元反応は、通常の方法に従い、例えば適
当な溶媒中で一般的な還元剤を用いて実施できる。ここ
で用いられる溶媒としては、通常の各種の不活性溶媒、
例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ、ジオキサン等のエー
テル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、メ
タノール、エタノール、プロパツール等のアルコール類
、之等の混合溶媒等を例示できる。還元剤としては通常
の金属水素化物、例えば水素化シアノ硼素ナトリウム、
水素化硼素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム等
やボラン等を使用でき、より好ましくは水素化硼素ナト
リウムにメタノールを滴下しながら使用するのがよい。
上記還元剤の使用量は原料エステルに対して通常０．１
〜５倍モル量程度、好ましくは０．５〜２倍モル量程度
とするのがよく、反応は通常−５０℃程度〜溶媒の還流
温度付近の温度条件下に、１０分〜２４時間程度、好ま
しくは１〜５時間程度を要して行ない得る。またメタノ
ールを滴下する場合は、該メタノールを還元剤に対して
通常１〜５０倍モル量程度、好ましくは４〜２０倍モル
量程度用いるのが適当である。
一方、前記一般式（４）の化合物を酸ハライドとした後
還元する方法において、酸ハライド化反応は常法に従い
実施できる。より詳しくは、例えば塩素、臭素、沃素等
のハロゲン分子、チオニルクロリド、チオニルプロミド
等のチオニルハライド等のハロゲン化剤を使用して、通
常適当な溶媒、例えば塩化メチレン、１．２−ジクロロ
エタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベン
ゼン、キシレン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ＴＨ
Ｆ、ジオキサン等のエーテル類等の溶媒中で行ない得る
。上記ハロゲン化剤の使用量は、原料化合物に対して少
なくとも等モル量、好ましくは１〜２倍モル量程度とす
るのがよい。反応は通常＝１０〜１５０℃程度、好まし
くは０℃〜１００℃程度で行なわれ、１〜２０時間程度
、好ましくは１．〜１０時間程度で完結する。
上記で得られる酸ハライドの還元反応は、通常の方法、
例えば適当な溶媒中で一般的な還元剤を用いる方法に従
い実施できる。ここで用いられる溶媒としては、通常の
各種の不活性溶媒、例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ、
ジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、ジクロロ
エタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、Ｄ
ＭＦ、ＤＭＳＯ，ＨＭＰＡ等の非プロトン性極性溶媒、
之等の混合溶媒等を例示できる。また還元剤としては、
例えば水素化シアノ硼素ナトリウム、水素化硼素ナトリ
ウム、水素化アルミニウムリチウム等の金属水素化物、
より好ましくは水素化硼素ナトリウムを使用できる。上
記還元剤の使用量は原料酸ハライドに対して通常０．１
〜５倍モル量程度、好ましくは０．５〜３倍モル量程度
とされるのが適当である。反応温度は通常−５０℃程度
〜室温付近、好ましくは−り０℃〜１０℃程度とされ、
反応は通常１０分〜８時間程度、好ましくは３０分〜２
時間程度で完結する。
上記反応工程式−３においては、また基Ｂがカルボニル
基である一般式（４）の化合物を原料として、そのカル
ボキシル基の還元と同時に上記基Ｂをメチレン基に還元
して一般式（５）の化合物を得ることもできる。この還
元反応は、例えば前記例示の各種不活性溶媒中で、還元
剤として水素化シアノ硼素ナトリウム、水素化硼素ナト
リウム、水素化アルミニウムリチウム等の金属水素化物
やボラン等、好ましくは水素化アルミニウムリチウムを
用いて実施できる。上記還元剤の使用量は原料化合物に
対して通常０．１〜１００倍モル、好ましくは１〜１０
倍モル量程度とするのがよく、反応は通常−２０〜１８
０℃程度、好ましくはＯ〜１００℃程度の温度程度下に
、１０分〜２４時間程度、好ましくは３〜２０時間程度
を要して行ない得る。
上記反応工程式−３において、基Ｂがメチレン基である
一般式（４）の化合物のカルボキシル基の還元反応は、
前記した基Ｂがカルボニル基である一般式（４）の化合
物から該Ｂ基を維持した一般式（５）の化合物を製造す
る場合のエステル化後の還元反応及び酸ハライドとした
後の還元反応と同様にして実施することができる。
また、上記反応工程式−３において、一般式（４）の化
合物をエステル化機還元して一般式（５）の化合物を得
る際に、Ｒ１基が水酸基である一般式（４）の化合物を
用いた場合は、そのエステル化物をエーテル化反応させ
て、上記Ｒ１基を低級アルコキシ基又はフェニル環上に
置換基としてハロゲン原子もしくは低級アルキル基を有
することのあるフェニル低級アルコキシ基に変換した後
、還元反応させることもできる。このＲ１基の変換反応
（エーテル化反応）は、前記反応工程式−１に示したエ
ーテル結合生成反応と同条件下に実施できる。
かくして所望の一般式（５）の化合物を製造できる。
反応工程式−３によれば、次いで上記で得られる一般式
（５）の化合物の有する水酸基をＸ基に変換して、所望
の一般式（２）の化合物を得る。
上記水酸基を有する化合物から対応する基Ｘを有する化
合物への反応は、溶媒の存在下に、一般式（５）の化合
物に、スルホン酸化合物もしくはそのスルホ基における
反応性誘導体、又はハロゲン化剤を反応させることによ
り行なわれる。
一般式（５）の化合物とスルホン酸化合物もしくはその
スルホ基における反応性誘導体との反応は、溶媒の存在
下、一般式（５）の化合物に上記Ｘのスルホニルオキシ
基に対応するスルホン酸化合物もしくはそのスルホ基に
おける反応性誘導体（例えばクロライド、ブロマイド等
のハライド類、酸無水物等）を反応させることにより行
なわれる。
この反応で使用される溶媒としては、例えばベンゼン、
トルエン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、Ｔ
ＨＦ等のエーテル類、塩化メチレン、クロロホルム、ジ
クロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ＤＭＦ、ＤＭ
ＳＯ，ＨＭＰＡ等の非プロトン性極性溶媒、アセトニト
リル等を例示できる。
一般式（５）の化合物に対する上記スルホン酸化合物も
しくはそのスルホ基における反応性誘導体の使用割合は
、少なくとも等モル量、好ましくは１〜１．５倍モル量
程度とするのがよい。該反応は、好ましくは塩基性化合
物の存在下に行なわれる。塩基性化合物としては、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化
物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム等のアルカリ金属炭酸塩もしくは炭酸水素塩等の無機
塩基、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ、　　Ｎ−ジメ
チルアニリン、ＤＢＮ、ＤＡＢＣＯ。
ＤＢＵ等の有機塩基が挙げられ、之等の内では有機塩基
が好ましい。また該反応は、通常−１０℃〜１００℃程
度、好ましくはＯ℃〜室温程度で行なわれ、１〜２０時
間程度、好ましくは１〜１０時間程時間路了する。
Ｘがハロゲン原子である一般式（２）の化合物は、一般
式（５）の化合物にハロゲン化剤を反応させることによ
り製造できる。この反応において使用されるハロゲン化
剤としては、例えば塩素、臭素、沃素等のハロゲン分子
、チオニルクロリド、チオニルプロミド等のチオニルハ
ライド等が挙げられる。該反応は、通常、溶媒中で行な
われ、溶媒としては、例えば塩化メチレン、１，２−ジ
クロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類
、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類等が
挙げられる。一般式（５）の化合物に対するハロゲン化
剤の使用量は、水酸基を有する化合物に対して、ハロゲ
ン化剤を少なくとも等モル量、好ましくは１〜２倍モル
量程度用いられるのがよい。該反応は、通常−１０〜１
００°Ｃ程度、好ましくは０〜５０℃程度で行なわれ、
１〜２０時間、好ましくは■〜１０時間程度で終了する
。
上記反応工程式−３において原料とする一般式（４）の
化合物には、一部新規化合物が包含され、之等の化合物
は下記反応工程式−４及び−５に示す方法に従い製造で
きる。
〈反応工程式−４〉 （６） （７） 〔式中Ａ、Ｒ１、ｋ及びｌは前記に同じ。ｑは１又は２
を示す。〕 上記反応工程式−４によれば、一般式（６）の化合物と
一般式（７）の化合物との反応により、所望の一般式（
４ａ）の化合物を製造できる。
この反応は、不活性溶媒の存在下もしくは非存在（原料
化合物の溶融条件）下、好ましくは非存在下に実施でき
る。用いられる不活性溶媒としては、例えばジメチルエ
ーテル、ジエチルエーテル、ＴＨＦ、ジオキサン、アニ
ソール等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロ
パツール等のアルコール類、ＤＭＦＳＤＭＳＯＸＨＭＰ
Ａ等の非プロトン性極性溶媒、水等、或いは之等の混合
溶媒を使用できる。上記一般式（６）の化合物に対する
一般式（７）の化合物の使用量は、通常１〜１．５倍モ
ル量程度、好ましくは１倍モル量程度とされるのがよい
。上記反応は通常１００〜２００℃程度、好ましくは１
２０〜１５０℃程度（但し溶媒の沸点以上の温度条件を
採用する場合は加圧下に行なわれる）の温度条件下に、
１〜２４時間程度、好ましくは２〜５時間程度を要して
実施される。
尚、上記一般式（６）の化合物において、Ｒが低級アル
コキシ基又はフェニル環上に置換基としてハロゲン原子
もしくは低級アルキル基を有することのあるフェニル低
級アルコキシ基（但しベンジルオキシ基を除く）である
化合物は、例えば対応するＲ１基として水酸基を有する
ニトロ化合物の該水酸基をまず反応工程式−１の項に示
した方法に従い前記特定のＲ１基に変換し、次いで該化
合物のニトロ基を反応工程式−１の項に示した接触還元
反応に従って還元してアミノ基に変換させることにより
製造できる。
〈反応工程式−５〉 （４） 〔式中Ａ、Ｂ、Ｄ’　、Ｒ’　、に、ＩＳｍ、、ｐ及び
Ｘは前記に同じ。〕 上記反応工程式−５によれば、一般式（２ａ）の化合物
をシアン化合物と反応させて一般式（８）の化合物とし
、これを更に加水分解することにより、所望の一般式（
４）の化合物を製造できる。
上記一般式（２ａ）の化合物から一般式（８）の化合物
を得る反応は、適当な不活性溶媒中で、シアン化合物を
用いて実施できる。用いられる不活性溶媒としては、例
えばジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ＴＨＦ１ジ
オキサン、アニソール等のエーテル類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エ
タノール、プロパツール等のアルコール類、ＤＭＦｌＤ
ＭＳＯ，ＨＭＰＡ等の非プロトン性極性溶媒等を例示で
きる。シアン化合物としては、例えばシアン化ナトリウ
ム、シアン化カリウム、シアン化カルシウム、シアン化
銅、シアン化銀、シアン化銀カリウム、シアン化水銀等
を例示できる。一般式（２ａ）の化合物に対するシアン
化合物の使用量は、通常１〜５倍モル量程度、好ましく
は１〜２倍モル量程度とされるのがよい。上記反応は通
常０〜２００℃程度、好ましくは室温〜１２０℃程度の
温度条件下に、１〜７２時間程度、好ましくは３〜２４
時間程度を要して実施される。
また、上記に引続く加水分解反応は、前記反応工程式−
２に示す脱エステル化反応と同様の反応条件下に実施す
ることができる。
更に前記反応工程式−３に示した一般式（５）の化合物
は、以下の別製法によっても製造することができる。
〈反応工程式−６〉 〔式中Ｄ’、Ｒ’、ｋ、ｍ及びｐは前記に同じ。
Ａ′は基Ａより主鎖の炭素数が１少ない低級アルキレン
基又は基Ａより主鎖の炭素数が１少ない低級アルキレン
オキシ基を示し、ｒは０又は１を示し、Ｒ３は低級アル
キル基を示す。〕上上記反応工程−６によれば、一般式
（９）のカルボン酸化合物と一般式（１０）の化合物と
を通常のアミド結合生成反応に従い反応させることによ
り、一般式（１１）の化合物を得ることができ、該一般
式（１１）の化合物を還元反応させることにより、所望
の一般式（５ｂ）の化合物を製造できる。
上記アミド結合生成反応は、通常の各種方法、例えば混
合酸無水物法、活性エステル法、縮合剤を用いる方法、
カルボン酸無水物法、高温高圧法、酸ハライド法等に従
い実施できる。
酸ハライド法につき詳述すれば、この方法は、まず一般
式（９）の化合物を前記反応工程式−３に示した方法と
同様にして酸ハライドに変換した後、該酸ハライドと一
般式（１ｏ）の化合物とを脱酸剤の存在下に、適当な溶
媒中で反応させることにより実施できる。ここで脱酸剤
としては通常よく知られているもの、例えば炭酸水素ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ピリジン、
トリエチルアミン等を使用できる。溶媒としても通常使
用されているもの、例えばベンゼン、クロロホルム、塩
化メチレン、ジオキサン、ＴＨＦ等をいずれも使用でき
る。上記反応における酸ハライドの使用量は、一般式（
１０）の化合物に対して通富士なくとも等モル量程度、
好ましくは等モル−３倍モル量程度とされるのが適当で
ある。反応温度は、通常−３０〜１００’Ｃ程度、好ま
しくは室温〜８０℃程度とされ、反応は通常２０分〜２
０時間程度で終了する。
かくして得られる一般式（１１）の化合物より一般式（
５ｂ）の化合物を得る反応は、前記反応工程式−３の項
に記載の、基Ｂがカルボニル基である一般式（４）の化
合物から該基Ｂがメチレン基である一般式（５）の化合
物を得る還元反応と同様の還元反応条件下に実施するこ
とができる。
また前記反応工程式−１に示した一般式（３）の化合物
は、一部新規化合物を包含しており、之等は下記反応工
程式−７に示す方法により製造できる。
〈反応工程式−７〉 〔式中Ｒ４は水素原子又は低級アルキル基を示す。〕 上記反応工程式−７によれば、一般式（■２）の化合物
を、一般式（１３）の脂肪族カルボン酸無水物或いはそ
のナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩と共に
加熱して反応（パーキン反応）させることにより、一般
式（３ａ）の化合物を製造できる。
この反応において、化合物（１３）又はその塩類は、化
合物（１２）に対して通常１〜１００倍モル量程度、好
ましくは１〜２０倍モル量程度使用される。反応温度は
Ｏ〜２００℃程度、好ま程度は室温〜↓５０℃程度、反
程度間は３０分〜９６時間程度、好ましくは１〜４８時
間程度とされるのがよい。
かくして得られる本発明の一般式（１）で表わされる化
合物は、その有する基Ｒ１及び基Ｅの種類を、前述した
ように種々変化させ得る。
また、本発明の一般式（１）で表わされる化合物及びそ
の製造のための前記各工程に示された中間体化合物の内
、以下の各Ｒ１基を有するものは、それぞれ以下に詳述
するような各種の反応に従って、それぞれ対応する所望
のＲ１基を有する本発明化合物及びその中間体化合物に
導くことができる。
即ち、Ｒ１基か水酸基である化合物は、これを原料とし
て、前記反応工程式−３に示す反応と同様の条件下に反
応させることによって、Ｒ１基が低級アルキルスルホニ
ルオキシ基である対応する化合物に誘導できる。
Ｒ１基が低級アルカノイルアミノ基である化合物は、通
常のアミド加水分解反応によって、該基がアミノ基であ
る対応化合物に誘導できる。
この加水分解反応は、例えば前記反応工程式−２に示し
た脱エステル化反応に例示の酸触媒を用いた反応と同様
にして、適当な不活性溶媒中で実施できる。ここで不活
性溶媒としては、例えば反応に悪影響を与えない各種の
もの、例えばジメチルエーテル、ジエチルエーテル、Ｔ
ＨＦ１ジオキサン、アニソール等のエーテル類、ジクロ
ロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素
等ノハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、オク
タン等の脂肪族炭化水素類、メタノール、エタノールプ
ロパノール等のアルコール類、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ，ＨＭ
ＰＡ等の非プロトン性極性溶媒、水等、或いは水と上記
各種有機溶媒との混合溶媒等を使用でき、之等の内では
特に原料化合物の有するＲ２基と同一の低級アルキル基
を有するアルコール類の使用が好ましい。上記反応の反
応温度、反応時間は、前記脱エステル化反応と同様のも
のとすることができ、かくして該加水分解反応により対
応するＲ１基がアミノ基である所望の化合物を収得でき
る。
尚、上記加水分解反応において、溶媒として原料化合物
の有するＲ２基と同一の低級アルキル基を有するアルコ
ール類以外の前記例示の各種溶媒を用いる場合には、上
記Ｒ１基の脱アシル化反応と同時に、Ｒ２基の脱エステ
ル化反応も併起し、Ｒ１基がアミノ基であり且つＲ２基
がカルボキシル基である対応する化合物が得られる。こ
の反応もまた本発明化合物及びその中間体化合物の製造
に利用することができる。
Ｒ１基がフェニル低級アルコキシ低級アルコキシ基であ
る化合物は、これを原料として前記反応工程式−１の項
に示した接触還元反応と同様の条件下に反応させること
によって、同Ｒ１基がヒドロキシ低級アルコキシ基であ
る化合物に導くことができる。
Ｒ１基が水酸基である化合物は、これに一般式〔Ｒは水
酸基以外の前記Ｒ１基を示し、Ｘは））ロゲン原子を示
す。〕 を、前記反応工程式−１に示したエーテル結合生成反応
に準じる条件下に反応させることによって、対応するＲ
基を有する所望の化合物に誘導することができる。但し
、この反応において上記化合物Ｒ−Ｘの使用量は、原料
化合物に対して１〜３０倍モル量程度置去ましくは１〜
１０倍モル量程度置去れるのがよい。
またＲ１基が水酸基である化合物は、これに適当なエポ
キシ化合物（アルケンオキシド）を反応させることによ
って、該Ｒ１基が対応するヒドロキシ低級アルコキシ基
である所望化合物に誘導できる。この反応は、例えば適
当な不活性溶媒中、塩基性化合物の存在下に実施できる
。ここで用いられる不活性溶媒としては、反応に悪影響
を与えない各種のもの、例えばジエチルエーテル、ＴＨ
Ｆ、ジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、ジク
ロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化
炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン
等のアミン類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素
類、メタノール、エタノール、プロパツール等のアルコ
ール類、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ＤＭＳＯ，ＨＭＰＡ等の非プ
ロトン性極性溶媒や二硫化炭素等を例示できる。また塩
基性化合物としては、例えばトリエチルアミン、ピリジ
ン等の第３級アミン類等の有機塩基性化合物及び炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭
酸水素塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアル
カリ金属水酸化塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド
、カリウム−１ｅｒ！−ブトキシド等のアルカリ金属ア
ルコキシド類、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属
、水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金属等の無機塩
基性化合物を例示できる。
Ｒ＋が水酸基である原料化合物に対するエポキシ化合物
の使用割合は、通常１〜１００倍モル量程度、置去しく
は１〜３０倍モル量程度置去れ、塩基性化合物は上記原
料化合物に対して、通常０．０１〜１０倍モル量程度、
置去しくは０．１〜３倍モル量程度とされるのがよい。
また上記反応は一般に０〜２００°Ｃ程度、好ましくは
室温〜１２０℃程度の温度条件下に、５時間〜１０日間
程度、好ましくは１〜７日間程度を要して実施される。
Ｒ１基がヒドロキシ低級アルコキシ基である化合物は、
これを反応工程式−３に示した反応と同様の反応に供す
ることにより、同Ｒ１基が低級アルキルスルホニルオキ
シ低級アルコキシ基である対応化合物に導くことができ
る。
Ｒ１基が低級アルキルスルホニルオキシ低級アルコキシ
基である化合物及びハロゲン置換低級アルキル基である
化合物は、之等を出発原料として、之等にイミダゾール
を反応させることにより、Ｒ１基がイミダゾリル低級ア
ルキル基である化合物及びイミダゾリル低級アルコキシ
基である化合物にそれぞれ導くことができる。この反応
は前記反応工程式−１に示したエーテル結合生成反応と
ほぼ同様にして実施することができる。尚、上記におい
て出発原料として用いられるＲ１基がハロゲン置換低級
アルキル基である化合物は、Ｒ１基が低級アルキル基で
ある対応化合物のハロゲン化反応に従い容易に合成でき
、このハロゲン化反応は常法に従うことができる。
Ｒ１基が水酸基である化合物は、これに０−ｊｅｒｌ−
ブチル−Ｎ、Ｎ’　−ジシクロヘキシルイソ尿素を、下
記条件に従って反応させることにより、Ｒ１基が１ｅ「
１−ブトキシ基である対応化合物に誘導できる。このア
ルキル化反応は、適当な溶媒中、例えばジエチルエーテ
ル、ＴＨＦ１ジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭
化素水素類、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ＤＭＳＯ，ＨＭＰＡ等の
非プロトン性極性溶媒等の溶媒中で実施できる。ｏ−＋
ｃｒｔ−ブチルーＮ、　　Ｎ’　−ジシクロヘキシルイ
ソ尿素の使用量は、Ｒ１基が水酸基である化合物に対し
て通常１〜３０倍モル量程度程度ましくは１〜５倍モル
量程程度されるのがよく、反応は一般に０〜１５０℃程
度、好ましくは室温〜８０℃程度の温度条件下に進行す
る。
本発明の一般式（１）で表わされるヘテロ環を有するフ
ェニルカルボン酸誘導体のうち、塩基性基を有する化合
物は、これに医薬的に許容される酸を作用させることに
より容易に酸付加塩とすることができる。該酸としては
、例えば塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸等の無機酸、
シュウ酸、マレイン酸、フマール酸、リンゴ酸、酒石酸
、クエン酸、安息香酸、酢酸、ｐ−）ルエンスルホン酸
、エタンスルホン酸等の有機酸を例示できる。
また、本発明の一般式（１）で表わされるヘテロ環を有
するフェニルカルボン酸誘導体のうち、酸性基を有する
化合物は、これに医薬的に許容される塩基性化合物を作
用させることにより容易に塩を形成させ得る。該塩基性
化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物、炭酸ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素カリウム等のアルカ
リ金属炭酸塩又は重炭酸塩等を例示できる。
かくして得られる本発明化合物は、通常の分離手段によ
り容易に単離精製することができる。該分離手段として
は、例えば溶媒抽出法、希釈法、再結晶法、カラムクロ
マトグラフィー、プレパラテイブ薄層クロマトグラフィ
ー等を例示できる。
尚、本発明の一般式（１）で表わされる化合物には、光
学異性体の形態をとりうるちのが存在しており、本発明
はかかる異性体をも当然に包含するものである。かかる
異性体は、また慣用の分割法、例えば光学分割剤を使用
する方法等により容易に分離できる。
本発明の誘導体及びその塩は、通常−殻内な医薬製剤の
形態で用いられる。製剤は通常使用される充填剤、増量
剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の
希釈剤或は賦形剤を用いて調製される。この医薬製剤と
しては各種の形態が治療目的に応じて選択でき、その代
表的なものとして錠剤、乳剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳
剤、顆粒剤、カプセル剤、塗剤、注射剤（液剤、懸濁剤
等）、軟膏剤等が挙げられる。錠剤の形態に成形するに
際しては、担体として例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウ
ム、ブドウ糖、尿素、デンプン、炭酸カルシウム、カオ
リン、結晶セルロース、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノ
ール、プロパツール、単シロップ、ブドウ糖液、デンプ
ン液、ゼラチン溶液、カルボキシメチルセルロース、セ
ラック、メチルセルロース、リン酸カリウム、ポリビニ
ルピロリドン等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナ
トリウム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレンソルビタン
脂肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリ
ン酸モノグリセリド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖
、ステアリン、カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制
剤、第４級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム
等の吸収促進剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デ
ンプン、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケ
イ酸等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸
末、ポリエチレングリコール等の滑沢剤等を使用できる
。更に錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例え
ば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコーテ
ィング錠或は二重錠、多層錠とすることができる。乳剤
の形態に成形するに際しては、担体として例えばブドウ
糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオリン
、タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、トラガント末、
ゼラチン、エタノール等の結合剤、ラミナラン、カンテ
ン等の崩壊剤等を使用できる。
塗剤の形態に成形するに際しては、担体として例えばポ
リエチレングリコール、カカオ脂、高級アルコール、高
級アルコールのエステル類、ゼラチン、半合成グリセラ
イド等を使用できる。カプセル剤は常法に従い通常本発
明化合物を上記で例示した各種の担体と混合して硬質ゼ
ラチンカプセル、軟質カプセル等に充填して調製される
。注射剤として調製される場合、液剤、乳剤及び懸濁剤
は殺菌され、且つ血液と等張であるのが好ましく、これ
らの形態に成形するに際しては、希釈剤として例えば水
、乳酸水溶液、エチルアルコール、プロピレングリコー
ル、エトキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシ
化イソステアリルアルコール、ポリオキシエチレンソル
ビタン脂肪酸エステル類等を使用できる。尚、この場合
等優性の溶液を調製するに充分な量の食塩、ブドウ糖或
はグリセリンを医薬製剤中に含有せしめてもよく、また
通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛化剤等を添加してもよ
い。更に必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、
甘味剤等や他の医薬品を医薬製剤中に含有せしめてもよ
い。ペースト、クリーム及びゲルの形態に製剤するに際
しては、希釈剤として例えば白色ワセリン、パラフィン
、グリセリン、セルロース誘導体、ポリエチレングリコ
ール、シリコン、ベントナイト等を使用できる。
上記医薬製剤中に含有されるべき本発明の一般式（１）
で表わされる化合物又はその塩（有効成分化合物）の量
としては、特に限定されず広範囲に適宜選択されるが、
通常医薬製剤中に１〜７０重量％とするのがよい。
上記医薬製剤の投与方法は特に限定なく、各種製剤形態
、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等に応じ
て決定される。例えば錠剤、乳剤、液剤、懸濁剤、乳剤
、顆粒剤及びカプセル剤は経口投与される。注射剤は単
独で又はブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して
静脈内投与され、更に必要に応じ単独で筋肉内、皮肉、
皮下もしくは腹腔内投与される。塗剤は直腸内投与され
る。
上記医薬製剤の投与量は、用法、患者の年齢、性別その
他の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、通常
有効成分とする本発明化合物の量が１日当り体重１ｋｇ
当り約０．５〜１００ｍｇ程度、好ましくは２〜２０ｍ
ｇ程度とするのがよく、該製剤は１日に１〜４回に分け
て投与できる。
実　　　施　　　例 以下、本発明を更に詳しく説明するため実施例を挙げる
。
実施例　１ （１）１−　（４−トリル）−５−オキソ−３−ピロリ
ジンカルボン酸 ｐ−トルイジン２３．０５ｇとイタコン酸２８．０ｇを
混合して１３０℃で１時間加熱溶融後放冷し、水２００
２／を加えて反応混合物を破砕した。得られる沈澱を炉
取、水洗の後、酢酸エチル−ヘキサン混合溶媒（１：　
３　（ｖ／ｖ）　）約３００ｙＡ’から再結晶して、目
的物４５．７３ｇを得た。
ｍｐ、１８５〜１８７°Ｃ （２）１−　（４−１リル）−５−オキソ−３−ピロリ
ジンカルボン酸メチル １−（４−トリル）−５−オキソ−３−ピロリジンカル
ボン酸４５．５０ｇを塩化メチレン４６０２／に懸濁し
、メタノール５０．５ｚＡ’と濃硫酸０．７’ｌｘｌと
を加えて１９時間加熱還流した。
反応混合物を冷却後減圧濃縮し、残渣に水と重ソウ水と
を加えて中和し、析出する結晶を炉取、水洗して目的物
４６．０７ｇを得た。
ｍｐ、７１〜７４°Ｃ （３）１−　（４−１リル）−４−ヒドロキシメチル−
２−ピロリドン １−（４−１リル）−５−オキソ−３−ピロリジンカル
ボン酸メチル４６．ＯＯｇと水素化ホウ素ナトリウム５
．９４ｇとをテトラヒドロフラン４６０１１に懸濁後、
加熱還流下、メタノール４６．２ｙＡ’を１時間を要し
てゆっくりと滴下し、その後更に１時間加熱した。反応
混合物を冷却後、濃塩酸１３．７ｚＡ’と本釣５７Ａ７
を加えた後、減圧濃縮し、残渣に塩化メチレン４００ｘ
ｌを加えて不溶物を情夫し、炉液を約１００ｚＡ’の水
で洗浄した。
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して
固体状の目的物３９．８０ｇを得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐｐｍニ ア、４４　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）７．１５　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）４．０３〜３．５３　（ｍ
、４Ｈ） ２．７８〜２．０３　（ｍ、７Ｈ） （４）４−　［１−（４−トリル）−２−ピロリドン−
４−イルコメトキシ安息香酸メチル１−（４４リル）−
４−ヒドロキシメチル２−ピロリドン３９．７０ｇを塩
化メチレン４０Ｃ）ｙＡ’に溶解後氷冷し、塩化メタン
スルホニル２２．４７ｙＡ’とトリエチルアミン５３．
５９ｙｌをそれぞれ滴下後、室温下２２時間撹拌した。
反応混合物を減圧濃縮後、酢酸エチル５００ｙ／を加え
、水で３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧濃縮して油状のメシル体５２．７５ｇを得た。
これをジメチルホルムアミド６３０ｙ／に溶解させ、ｐ
−ヒドロキシ安息香酸メチル２８．３３ｇ及び炭酸カリ
ウム５１．４５ｇを加えて８０℃で５時間加熱撹拌した
。反応混合物を冷却後、減圧濃縮し、残渣に水５００ｚ
ｌを加えて、析出する沈澱を炉取、水洗し、約２０％含
水メタノール４００ｚＡ’から再結晶して目的物５８．
７４ｇを得た。
ｍｐ、　１１０〜１１２°Ｃ （５）４−　［１−（４−トリル）−２−ピロリドン−
４−イル］メトキシ安息香酸 ４−　［１−（４４リル）−２−ピロリドンー４−イル
］メトキシ安息香酸メチル５８．７４ｇ及び水酸化ナト
リウム１０．４０ｇを約２０％含水メタノール６３０ｚ
Ａ’に溶解させ、６０℃１４時間加熱撹拌した。反応混
合物を冷却後、約半量まで減圧濃縮し、水１３０ｆｆ／
と濃塩酸２２．６ｚＩを加え、析出結晶を炉取し、５０
％含水メタノール、水の順に洗浄した。これを、酢酸エ
チル−ヘキサン混合溶媒（２：　１　（ｖ／ｖ）　）約
４００ｘｌから再結晶して、目的物５１．６５ｇを得た
。
ｍｐ、２１２〜２１３℃ 実施例２〜２２ 実施例１と同様にして適当な出発原料を用いて、下記実
施例２〜２２の各化合物を得た。
実施例２ （２）１−　（４−フルオロフェニル）−５−オキソ−
３−ピロリジンカルボン酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＪ’３）δｐｐｍニ ア、６２〜７．４７　（ｍ、２Ｈ） ７、１４〜６．９５　　（ｍ、　　２Ｈ）４、１０〜３
．９９　　（ｍ、　　２Ｈ）３、７８　　（ｓ、　　３
Ｈ） ３、５６〜３．２１　　（ｍ、　　ＩＨ）２、９３〜２
．８２　　（ｍ、　　２Ｈ）（３）１−　（４−フルオ
ロフェニル）−４−ヒドロキシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐｐｍニ ア、６３〜７．４７　（ｍ、２Ｈ） ７．１３〜７．０１　（ｍ、２Ｈ） ４．１０〜３．４８　（ｍ、４Ｈ） ２．９５〜２．２３　（ｍ、４Ｈ） （４）４−　［１−（４−フルオロフェニル）−２−ピ
ロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ｍ９１１４〜１１６℃ （５）４−　［１−（４−フルオロフェニル）−２−ピ
ロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸ｍｐ２３ｃ）〜
２３２°Ｃ 実施例３ （２）１−　（４−クロロフェニル）−５−オキソ−３
−ピロリジンカルボン酸メチル ｍｐ８５〜８７℃ （３）１−　（４−クロロフェニル）−４−ヒドロキシ
メチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍニ ア、５３　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７．３０　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）４．０１〜３．５２　（ｍ
、４Ｈ） ２．７８〜２．３４　（ｍ、４Ｈ） （４）４−　［１−（４−クロロフェニル）−２−ピロ
リドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ｍ９１２２〜１２４℃ （５）４−　［１−（４−クロロフェニル）−２−ピロ
リドン−４−イル］メトキシ安息香酸ｍｐ２１４〜２１
５°Ｃ 実施例４ （２）１−　（３−クロロフェニル）−５−オキソ−３
−ピロリジンカルボン酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐｐｍニ ア、６７〜７．０７　（ｍ、４Ｈ） ４．１１〜４．００　（ｍ、２Ｈ） ３．７８　（ｓ、３Ｈ） ３．５６〜３．２０　（ｍ、ＬＨ） ２．９５〜２．８４　（ｍ、２）Ｔ） （３）１−　（３−クロロフェニル）−４−ヒドロキシ
メチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐｐｍニ ア、６８〜７．０４　（ｍ、４Ｈ） ４．０２〜３．５４　（ｍ、４Ｈ） ２．８７〜２．２４　（ｍ、４Ｈ） （４）４−　［１−（３−クロロフェニル）−２−ピロ
リドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ｍｐ９０〜９１°Ｃ （５）ｌ−［１−（３−クロロフェニル）−２＝ピロリ
ドン−４−イル］メトキシ安息香酸ｍｐ２２０〜２２３
℃ 実施例５ （２）１．−（２−クロロフェニル）−５−オキソ−３
−ピロリジンカルボン酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐｍニ ア、５４〜７．２３　（ｍ、４Ｈ） ４．０３〜３．９５　（ｍ、２Ｈ） ３．７８　（ｓ、３Ｈ） ３．６３〜３．２９　（ｍ、ＩＨ） ２．９２〜２．８１　（ｍ、２Ｈ） （３）１−　（２−クロロフェニル）−４−ヒドロキシ
メチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ　３　）δｐｐｍニ ア、５１〜７．２０　（ｍ、４Ｈ） ３、９３〜３．５０　　（ｍ、　　４Ｈ）２、９２〜２
．１８　　（ｍ、　　４Ｈ）（４）４−　［１−（２−
クロロフェニル）−２−ピロリドン−４−イル］メトキ
シ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’　３　）　　δｐｐｍニア、９９　
（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）７．５６〜７．２３　（
ｍ、４Ｈ） ６．９５　　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）４．１７〜
３．６６　（ｍ、７Ｈ） ３、３０〜２．３７　（ｍ、　　３Ｈ）（５）４−　［
１−（２−クロロフェニル）−２＝ピロリドン−４−イ
ル］メトキシ安息香酸ｍｐ２２０〜２２３°Ｃ 実施例６ （２）１−フェニル−５−オキソ−３−ピロリジンカル
ボン酸メチル ｍｌ）　６８〜６９°Ｃ （３）ｔ−フェニル−４−ヒドロキシメチル−２ピロリ
ドン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐｍニ ア、６３〜７．１２　（ｍ、５Ｈ） ４．０８〜３．４９　（ｍ、４Ｈ） ２．９４〜２．２４　（ｍ、４８） （４）４−　（１−フェニル−２−ピロリドン−４−イ
ル）メトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐｍニ ア、９９　（ｄ、、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）７．６６〜
７．１４　（ｍ、５Ｈ） ６．９１　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）４．１７〜３
．７４　（ｍ、７Ｈ） ３．１７〜２．４７　（ｍ、３Ｈ） （５）ｌ−（１−フェニル−２−ピロリドン−４イル）
メトキシ安息香酸 ｍｐ、１９６〜１９９℃ 実施例７ （１）１−（４−ｎ−プロピルフェニル）−５−オキソ
−３−ピロリジンカルボン酸 ｍす、１２９〜１３２℃ （２）　１−　（４−ｎ−プロピルフェニル）−５−オ
キソ−３−ピロリジンカルボン酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣ
／３）δｐｐｍニ ア、４６　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）７．１８　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）４．１１〜４．０１　（ｍ
、２Ｈ） ３．７７　（ｓ、３Ｈ） ３．５４〜３．１８　（ｍ、ＩＨ） ２．９３〜２．８２　（ｍ、２Ｈ） ２．５７　（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）１．８４〜１
．４３　（ｍ、２Ｈ） ０．９３　（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）（３）１−（
４−ｎ−プロピルフェニル）−４−ヒドロキシメチル−
２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）δｐｐｍ： ７．４７　　（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）７．１
７　　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）４、０４〜３．６
３　　（ｍ、　　４Ｈ）２、９３〜２．１０　　（ｍ、
６Ｈ） １、８３〜１．４３　　（ｍ、　　２Ｈ）０．９２　　
（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）（４）　４−　［１−（
４−ｎ−プロピルフェニル）−２−ピロリドン−４−イ
ルコメトキシ安息香酸メチル ｍｐ、９７〜９８℃ （５）　４−　［１−（４−ｎ−プロピルフェニル）−
２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、１９３〜１９５℃ 実施例８ （１）１−（４−ｎ−ブチルフェニル）−５−オキソ−
３−ピロリジンカルボン酸 ＮＭＲ（ＤＭ　Ｓ　Ｏ−ｄ　ｅ　）δｐｐｍニア、　　
５２　　（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ−８，６Ｈｚ）７、１８　
　（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）４．１６〜３、９
４　　（ｍ、　　２Ｈ）３、５１〜３．１５　　（ｍ、
　　ＩＨ）２、７７〜２．４７　　（ｍ、　　４Ｈ）１
、７２〜１．１１　　（ｍ、　　４Ｈ）０、８９　　（
ｔ、　　３Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）（２）１−（４−ｎ−
ブチルフェニル）−５−オキソ−３−ピロリジンカルボ
ン酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣ７３）δｐｐｍニ ア、４５　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）７．１９　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）４．１１〜４．００　（ｍ
、２Ｈ） ３．７７　（ｓ、３Ｈ） ３．５４〜３．１９　（ｍ、ＩＨ） ２．９３〜２．８２　（ｍ、２Ｈ） ２．５９　（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）１．７５〜１
．１５　（ｍ、４Ｈ） ０．９２　　（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）（３）１−
（４−ｎ−ブチルフェニル）−４−ヒドロキシメチル−
２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐｐｍニ ア、４６　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）７．１６　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）４．０４〜３．５２　（ｍ
、４Ｈ） ２．８５〜２．２１　（ｍ、６Ｈ） １．７４〜１．１４　（ｍ、４Ｈ） ０．９１　（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）（４）　４−
　［１−（４−ｎ−ブチルフェニル）−２−ピロリドン
−４−イルコメトキシ安息香酸メチル ｍｐ、８２〜８５℃ （５）　４−　［１−（４−ｎ−ブチルフェニル）−２
−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、　　１８６〜１８８℃ 実施例９ （１）　　１−　（４−１ｅｒｌ−ブチルフェニル）−
５オキソ−３−ピロリジンカルボン酸 ｍｐ、２０８〜２０９°Ｃ （２）　１−　（４−１ｅｒｌ−ブチルフェニル）−５
−オキソ−３−ピロリジンカルボン酸メチルｍｐ、２０
６〜２０９°Ｃ （３）　１−　（４−１ｃｒｔ−ブチルフェニル）−４
ヒドロキシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤ（１３）δｐｐｍニ ア、４９　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）７．３９　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）４．０５〜３．５３　（ｍ
、４Ｈ） ２．９３〜２．８３　（ｍ、５Ｈ） １．３０　（ｓ、９Ｈ） （４）　４−　［１−（４−ｔｅｒｊ−ブチルフェニル
）−２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸メチ
ル ｍｐ、　　１４２〜１４４℃ （５）　４−　［１−（４−ｊｅｒｔ−ブチルフェニル
）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、２５８〜２６０°Ｃ 実施例１０ （１）１−（４−ｎ−ペンチルフェニル）−５オキソ−
３−ピロリジンカルボン酸 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍニ ア、５２　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）７．１８　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）４．１６〜３．８３　（ｍ
、２Ｈ） ３．５１〜３．１７　（ｍ、ＩＨ） ２．７７〜２．４６　（ｍ、４Ｈ） １．７３〜１．１３　（ｍ、６Ｈ） ０．８５　（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）（２）１−（
４−ｎ−ペンチルフェニル）−５−オキソ−３−ピロリ
ジンカルボン酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）　　δｐ
ｐｍニア、４５　　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）７、
１８　　（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）４、１０〜
３．９９　　（ｍ、　　２Ｈ）３、７６　　（ｓ、　　
３Ｈ） ３、５２〜３．１８　　（ｍ、　　ＩＨ）２、９２〜２
．８１　　（ｍ、　　２Ｈ）２．５８　　（ｔ、　　２
Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）１、７８〜１．１６　　（ｍ、　
　６Ｈ）０、８８　　（ｔ、　　３Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ
）（３）１−（４−ｎ−ペンチルフェニル）−４−ヒド
ロキシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍニ ア、４７　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）７．１７　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）４．０５〜３．５５　（ｍ
、４Ｈ） ２．８９〜２．３２　（ｍ、５Ｈ） ２．１２　（ｂ、ＬＨ） １、７７〜１．１６　　（ｍ、　　６Ｈ）０、８８　　
（ｔ、　　３Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）（４）　４−［１−
（４−ｎ−ペンチルフェニル）−２−ピロリドン−４−
イル］メトキシ安息香酸メチル ｍｌ）、１０５〜１０８℃ （５）　４−　［１−（４−ｎ−ペンチルフェニル）２
−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、１９０〜１９２°Ｃ 実施例１１ （１）１−（４−ｎ−ヘキシルフェニル）−５オキソ−
３−ピロリジンカルボン酸 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｅ　）δｐｐｍニア、５２　（ｄ
、２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）７．１７　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝
８．６Ｈｚ）４．１６〜３．８３　（ｍ、２Ｈ） ３．５１〜３．１６　（ｍ、ＩＨ） ２、７７〜２．４６　　（ｍ、　　４Ｈ）１、７１〜１
．１１　　（ｍ、　　８Ｈ）０、８５　　（ｂ、　　３
Ｈ） （２）１−（４−ｎ−へキシルフェニル）−５−オキソ
−３−ピロリジンカルボン酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣＡ’
３　）δｐｐｍニ ア、４５　（ｄ、２Ｉ−１，Ｊ＝８．６Ｈｚ）７．１７
　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）４．１０〜３．９９　
（ｍ、２Ｈ） ３．７６　（ｓ、３Ｈ） ３．５５〜３．１７　（ｍ、ＩＨ） ２．９１〜２．８１　（ｍ、２Ｈ） ２．５８　（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）１．７７〜１
．１４　（ｍ、８Ｈ） ０．８８　（ｂ、３Ｈ） （３）１−（４−ｎ−ヘキシルフェニル）−４−ヒドロ
キシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐｍ： ７、４４　　（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）７．１
５　　（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）４、０６〜３
．５３　　（ｍ、　　４Ｈ）３、０７　　（ｂ、　　Ｌ
Ｈ） ２、８４〜２．２０　　（ｍ、　　５Ｈ）１、７５〜１
．１７　　（ｍ、　　８Ｈ）０、８８　　（ｂ、　　３
Ｈ） （４）　４−　［１−（４−ｎ−ヘキシルフェニル）−
２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ｍｐ、１１９〜１２２℃ （５）　４−　［１−（４−ｎ−へキシルフェニル）−
２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸 ｍｐ、１９１〜１９２℃ 実施例１２ （１）１−　（４−シクロヘキシルフェニル）−５−オ
キソ−３−ピロリジンカルボン酸 ｍｐ、１８７〜１９１℃ （２）１−　（４−シクロヘキシルフェニル）−５オキ
ソ−３−ピロリジンカルボン酸メチルｍｐ、　　１０４
〜１０６°Ｃ （３）１−　（４−シクロヘキシルフェニル）−４ヒド
ロキシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍニ ア、４７　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）７．２０　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）４．０４〜３．５４　（ｍ
、４Ｈ） ２．８７〜２．２４　（ｍ、５Ｈ） １．８７〜１．２８　（ｍ、１０Ｈ） （４）４−　［１−（４−シクロヘキシルフェニル）−
２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸メチル ｍｐ、１３６〜１３８℃ （５）４−　［１−（４−シクロヘキシルフェニル）−
２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸 ｍｐ、２４１〜２４３℃ 実施例１３ （１）１−　（４−メトキシフェニル）−５−オキソ−
３−ピロリジンカルボン酸 ｍｐ、１７１〜１７２℃ （２）１−　（４−メトキシフェニル）−５−オキソ−
３−ピロリジンカルボン酸メチル ｍｐ、８４〜８６℃ （３）１−　（４−メトキシフェニル）−４−ヒドロキ
シメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍニ ア、４５　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）６．８９　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）４．０８〜３．５２　（ｍ
、７Ｈ） ２．８５〜２．１９　（ｍ、４Ｈ） （４）４−　［１−（４−メトキシフェニル）−２−ピ
ロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸メチル ｍｐ、　　１０９〜１１１°Ｃ （５）４−　［１−（４−メトキシフェニル）−２−ピ
ロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸ｍｐ、１９３〜
１９５°Ｃ 実施例１４ （１）１−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−５オキソ−
３−ピロリジンカルボン酸 ｍｐ、１２５〜１２８°Ｃ （２）１−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−５オキソ−
３−ピロリジンカルボン酸メチルｍｐ、６９〜７０℃ （３）１−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４−ヒドロ
キシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）δｐｐｍニ ア、４３　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）６．８８　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）４．００〜３．６２　（ｍ
、６Ｈ） ２．９１〜２．１９　　（ｍ、４Ｈ） １．９０〜１．２７　　（ｍ、４Ｈ） ０．９６　　（ｔ、３Ｈ，Ｊ　〜６．６Ｈｚ）（４）　
４　　　［１−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−２−ピ
ロリドン−４−イルＪメトキシ安息香酸メチル ｍｐ、１０８〜１１０°Ｃ （５）　４−　［１−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−
２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸 ｍｐ、１８７〜１８８℃ 実施例１５ （１）１−　［４−（４−クロロフェノキシ）フェニル
ゴー５−オキソ−３−ピロリジンカルボン酸 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ　）　　δｐｐｍニア、６７　
（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７．４０　（ｄ、２Ｈ，
Ｊ＝９．０Ｈｚ）７、１０〜６．９４　　（ｍ、　　４
Ｈ）４、１８〜３．８６　　（ｍ、　　２Ｈ）３、５２
〜３．１８　　（ｍ、　　ＬＨ）２、７９〜２．６８　
　（ｍ、　　２Ｈ）（２）１−　［４−（４−クロロフ
ェノキシ）フェニル］−５−オキソー３−ピロリジンカ
ルボン酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ！３）δｐｐｍニ ア、５３　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７．３０　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７、０５〜６．８６　（ｍ
、　　４Ｈ）４．１２〜４．０１　（ｍ、２Ｈ） ３、７８　（ｓ、　　３Ｈ） ３、５８〜３．２２　（ｍ、　　Ｈ−ｒ）２．９５〜２
．８４　（ｍ、２Ｈ） （３）１−　［４−（４−クロロフェノキシ）フェニル
］−４−ヒドロキシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ，（ＣＤＣＡ’３　）　　δｐｐｍニア、　　５
５　　（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）７、２５　　
（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）７、０１　　（ｄ、
、　　２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）６、９２　　（ｄ、　　
２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）４、０６〜３．５３　　（ｍ、
　　４Ｈ）２．８２〜２．３５　　（ｍ、　　３Ｈ）１
、９６　　（ｂｓ、　　１８） （４）４−　（：１−　［４−（４−クロロフェノキシ
）フェニルゴー２−ピロリドンー４−イルコメトキシ安
息香酸メチル ｍｐ、１２４〜１２７℃ （５）４−　［１−［４−（４−クロロフェノキシ）フ
ェニルゴー２−ピロリドンー４−イル］メトキシ安息香
酸 ｍｐ、”　１８２〜１８３°Ｃ 実施例１６ （１）１−　（３，４−メチレンジオキシフェニル）５
−オキソ−３−ピロリジンカルボン酸ＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄｓ）δｐｐｍニ ア、　　　　３６　　　（ｄ、　　　　ＬＨ，Ｊ＝１．
　　１Ｈｚ）７．０３〜６．８２　（ｍ、２Ｈ） ６．００　（ｓ、２Ｈ） ４．０１〜３．９１　（ｍ、２Ｈ） ３．４９〜３．１５　（ｍ、ＩＨ） ２．６６　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝１０．９Ｈｚ）（２）１−
　（３，４−メチレンジオキシフェニル）５−オキソ−
３−ピロリジンカルボン酸メチル ｍ、Ｉ）、１４４〜↓４６°Ｃ （３）ｉ−（３，４−メチレンジオキシフェニル）４−
ヒドロキシメチル−２−ピロリドンＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ／
　３　）δｐｐｍニア、２６　（ｄ、ＬＨ，Ｊ＝１．８
Ｈｚ）６．９２〜６．７１　（ｍ、２Ｈ） ５．９３　（ｓ、２Ｈ） ３、９９〜３．５１　　（ｍ、　　４Ｈ）２．８５〜２
．３０　　（ｍ、　　４Ｈ）（４）４−　［１−（３，
４−メチレンジオキシフェニル）−２−ピロリドン−４
−イル］メトキシ安息香酸メチル ｍｐ、　　１５７〜１５９℃ （５）４−　［１−（３，４−メチレンジオキシフェニ
ル）−２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸 ｍｐ、２３５〜２３８℃ 実施例１７ （２）１−　（３，４−ジクロロフェニル）−５オキソ
−３−ピロリジンカルボン酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣＡ’
３）δｐｐｍニ ア、７７　（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）７．５９〜７
．３６　（ｍ、２Ｈ） ４．０９〜３．９９　（ｍ、２Ｈ） ３．７９　（ｓ、３Ｈ） ３、５５〜３．２０　　（ｍ、　　ＬＨ）２、９５〜２
．８４　　（ｍ、　　２Ｈ）（３）１−　（３，４−ジ
クロロフェニル）−４ヒドロキシメチル−２−ピロリド
ン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍニ ア、７９　（ｄ、ＬＨ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）７．５９〜７
．３３　（ｍ、２Ｈ） ４．００〜３．４７　（ｍ、４Ｈ） ２．９４〜２．２５　（ｍ、４Ｈ） （４）４−　［１−（３，４−ジクロロフェニル）−２
−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸メチル ｍｐ、１２４〜１２７℃ （５）４−　［１−（３，４−ジクロロフェニル）−２
−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、２３９〜２４２℃ 実施例１８ （１）１−　（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−
５−オキソ−３−ピロリジンカルボン酸ｍｐ、１９３〜
１９５°Ｃ （２）１−　（５−クロロ−２−メトキシフェニル）−
５−オキソ−３−ピロリジンカルボン酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）　　δｐｐｍニ ア、　　２８〜７．１７　（ｍ、　　２Ｈ）６．８８　
（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝９．５Ｈｚ）３．９３　（ｄ、２Ｈ，
Ｊ＝７．３Ｈｚ）３、８２　（ｓ、　　３Ｈ） ３、７７　（ｓ、　　３Ｈ） ３．５９〜３．２２　（ｍ、ＩＨ） ２．８７〜２．７６　（ｍ、２Ｈ） （３）１−　（５−クロロ−２−メトキシフェニル）４
−ヒドロキシメチル−２−ピロリドンＮＭＲ（ＣＤＣ／
３）δｐｐｍ＋ ７、．３１〜７．１７　（ｍ、２Ｈ） ６、８８　　（ｄ、　　ＩＨ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）３、９
４〜３．４９　　（ｍ、　　７Ｈ）２、８４〜２．２８
　　（ｍ、　　３Ｈ）２、１３　　（ｂ、　　ＩＨ） （４）４−　［１−（５−クロロ−２−メトキシフェニ
ル）−２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸メ
チル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐｍニ ア、９９　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７、２８〜７
．１６　（ｍ、　　２Ｈ）６．９８〜６．８０　（ｍ、
３Ｈ） ４．１３〜３．６２　（ｍ、１０Ｈ） ３．１５〜２．３２　（ｍ、３Ｈ） （５）４−　［１−（５−クロロ−２−メトキシフェニ
ル）−２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸 ｍｐ、　　１７２〜１７３°Ｃ 実施例１９ （１）１−　（４−クロロ−２−メチルフェニル）〜５
−オキソー３−ピロリジンカルボン酸ＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄ６）δｐｐｍニ ア、３６　（ｂｓ、ＬＨ） ７．２５　（ｂｓ、２Ｈ） ４．０３〜３．７０　（ｍ、２Ｈ） ３．５７〜３．２５　（ｍ、ＩＨ） ２．７２〜２．６１　（ｍ、２Ｈ） ２．１３　（ｓ、３Ｈ） （２）１−　（４−クロロ−２−メチルフェニル）−５
−オキソ−３−ピロリジンカルボン酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐｍニ ア、２６〜７．０１　（ｍ、３Ｈ） ３．９５〜３．８５　（ｍ、２Ｈ） ３、７８　（ｓ、　　３Ｈ） ３、５９〜３．２５　（ｍ、　　ＬＨ）２、８９〜２．
８０　（ｍ、　　２Ｈ）２、２１　　（ｓ、　　３Ｈ） （３）１−　（４−クロロ−２−メチルフェニル）−４
−ヒドロキシメチル−２−ピロリドンＮＭＲ（ＣＤＣＡ
’３）δｐｐｍニ ア、２４〜７．００　（ｍ、３Ｈ） ３．８７〜３．４５　（ｍ、４Ｈ） ２．８４〜２．２９　（ｍ、４Ｈ） ２．１９　（Ｓ、３Ｈ） （４）４−　［１−（４−クロロ−２−メチルフェニル
）−２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸メチ
ル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐｍ： ８．００　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７．２６〜６
．８７　（ｍ、５Ｈ） ４．１６〜３．５８　（ｍ、７Ｈ） ３．２２〜２．３７　（ｍ、３Ｈ） ２．２３　（ｓ、３Ｈ） （５）４−　［１−（４−クロロ−２−メチルフェニル
）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、１６５〜１６７°Ｃ 実施例２０ （１，）１−（３，５−ジメチルフェニル）−５オキソ
−３−ピロリジンカルボン酸 ｍｐ、１７２〜１７５°Ｃ （２）１−　（３，５−ジメチルフェニル）−５−オキ
ソ−３−ピロリジンカルボン酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣＡ
’３）δｐｐｍニ ア、１８　（ｂｓ、２Ｈ） ６．８１　（ｂｓ、ＩＨ） ４．０９〜３．９８　（ｍ、２Ｈ） ３．７６　（ｓ、３Ｈ） ３．５３〜３．１７　（ｍ、ＩＨ） ２．９１〜２．８０　（ｍ、２Ｈ） ２、３１　（ｓ、　　６Ｈ） （３）１−　（３，５−ジメチルフェニル）−４−ヒド
ロキシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐｍニ ア、１９　（ｂｓ、２Ｈ） ６．７９　（ｂｓ、ＩＨ） Ｃ０３〜３．５２　（ｍ、４Ｈ） ２．８５〜２．４２　（ｍ、４Ｈ） ２．３０　（ｓ、６Ｈ） （４）４−　［１−（３，５−ジメチルフェニル）−２
−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ｍｐ、　　１４７〜１４８°Ｃ （５）４−　［１−（３，５−ジメチルフェニル）−２
−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、２１５〜２１７℃ 実施例２１ （１）１−　（２，５−ジメチルフェニル）−５オキソ
−３−ピロリジンカルボン酸 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）　　δｐｐｍニア、　　２５
〜６．９９　　（ｍ、　　３Ｈ）４．０ｆ〜３．６６　
　（ｍ、　　２Ｈ）３、５３〜３．２１　　（ｍ、　　
ＬＨ）２．７０〜２．６０　　（ｍ、　　２Ｈ）２、２
６　　（ｓ、　　３Ｈ） ２、０７　　（ｓ、　　３Ｈ） （２）１−　（２，５−ジメチルフェニル）−５オキソ
−３−ピロリジンカルボン酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣＡ’
３　）δｐｐｍニ ア、２１〜６．９６　（ｍ、３Ｈ） ３．９６〜３．８７　（ｍ、２Ｈ） ３．７８　（ｓ、３Ｈ） ３．６６〜３．２５　（ｍ、ＩＨ） ２．９１〜２．８１　（ｍ、２Ｈ） ２．３１　（ｓ、３Ｈ） ２．１８　（ｓ、３Ｈ） （３）１−　（２，５−ジメチルフェニル）−４−ヒド
ロキシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐｍニ ア、１９〜６．９４　（ｍ、３Ｈ） ３．９０〜３．４６　（ｍ、４Ｈ） ２．８９〜１．９２　（ｍ、１０Ｈ） （４）４−　［１−（２，５−ジメチルフェニル）−２
−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐｍ： ８．０１　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７．２２〜６
．８８　（ｍ、５Ｈ） ４．１５〜３．５８　（ｍ、７Ｈ） ３、２０〜２．５５　（ｍ、　　３Ｈ）２．３０　（ｓ
、３Ｈ） ２、２０　（ｓ、　　３Ｈ） （５）４−　［１−（２，５−ジメチルフェニル）−２
−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸 ｍｐ、　　１５１〜１５４℃ 実施例２２ （１）１−　（２，４−ジメチルフェニル）−５オキソ
−３−ピロリジンカルボン酸 ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍニ ア、０７　（ｂｓ、ＩＨ） ７．０２　（ｂｓ、２Ｈ） ３．９５〜３．８６　（ｍ、２Ｈ） ３．５６〜３．２４　（ｍ、ＩＨ） ２．９５〜２．８６　（ｍ、２Ｈ） ２．３０　（ｓ、３Ｈ） ２．１８　（ｓ、３Ｈ） （２）１−　（２，４−ジメチルフェニル）−５−オキ
ソ−３−ピロリジンカルボン酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣＡ
’３）δｐｐｍニ ア、０８　（ｂｓ、ＩＨ） ７．０３　（ｂｓ、２Ｈ） ３．９５〜３．８６　（ｍ、２Ｈ） ３、７８　　（ｓ、　　３Ｈ） ３、５７〜３．２３　　（ｍ、　　ＬＨ）２、９０〜２
．８０　　（ｍ、　　２Ｈ）２、３１　　（ｓ、　　３
Ｈ） ２、１９　　（ｓ、　　３Ｈ） （３）１−　（２，４−ジメチルフェニル）−４ヒドロ
キシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐｍニ ア、０６　（ｂｓ、ＬＨ） ７．０１　（ｂｓ、２Ｈ） ３．８９〜３．４４　（ｍ、４Ｈ） ２．７６〜２．１８　（ｍ、１０Ｈ） （４）４−　［１−（２，４−ジメチルフェニル）−２
−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐｐｍニ ア、９９　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７．０７〜６
．８７　（ｍ、５Ｈ） ４、１４〜３．５６　　（ｍ、　　７Ｈ）３．１７〜２
．５４　　（ｍ、　　３Ｈ）２、３０　　（ｓ、　　３
Ｈ） ２、２１　　（ｓ、　　３Ｈ） （５）４−　［１−（２，４−ジメチルフェニル）〜２
−ピロリドンー４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、１３９〜１４２℃ 実施例２３ （１）１−　（４−エチルフェニル）−５−オキソ−３
−ピロリジンカルボン酸 実施例１−（１）と同様にして合成した。
ｍｐ、１４４〜１４６℃ （２）１−　（４−エチルフェニル）−４−ヒドロキシ
メチル−２−ピロリドン １−（４−エチルフェニル）−５−オキソ−３−ピロリ
ジンカルボン酸５．ＯＯｇを四塩化炭素１５１１に懸濁
させ、塩化チオニル２．３２．ｎを加えて還流下１時間
加熱撹拌後、減圧濃縮した。残渣をテトラヒドロフラン
２５２／に溶解後、水冷下に水素化ホウ素ナトリウム１
．６１ｇのジメチルホルムアミド溶液（約１６ｚｌ）を
滴下し、更に１時間撹拌した。反応液中にメタノール１
３ｚｌ！と濃塩酸１．８７ｙＡ’とを順に滴下した後、
減圧濃縮し、残渣に酢酸エチル１２０２／を加え、水で
３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、再度減圧
濃縮した。この残渣に酢酸エチル−ヘキサン混合溶媒（
１：　２０　（ｖ／ｖ）　）約５０１１を加えて放置後
、析出した結晶を炉取して目的物３．８１ｇを得た。
ＮＭＲ（ＣＤ　Ｃｌ　３　）　　δｐｐｍニア、４６　
（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）７．１８　（ｄ、２Ｈ，
Ｊ＝８．７Ｈｚ）４．０２〜３．４９　（ｍ、４Ｈ） ３．０８〜２．２０　（ｍ、６Ｈ） １．２１　（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）（３）４−　
［１−（４−エチルフェニル）−２ピロリドン−４−イ
ル］メトキシ安息香酸メチル 実施例１−（４）と同様にして合成した。
ｍｐ、８７〜８８℃ （４）４−　［１−（４−エチルフェニル）−２ピロリ
ドン−４−イルコメトキシ安息香酸実施例１−（５）と
同様にして合成した。
ｍｐ、１９５〜１９７℃ 実施例２４〜２６ 実施例２３と同様にして、適当な出発原料を用いて下記
実施例２４〜２６の各化合物を得た。
実施例２４ （２）１−　（４−ブロモフェニル）−４−ヒドロキシ
メチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ／　３　）δｐｐｍニア、４６　（ｂ
ｓ、４Ｈ） ３．９９〜３．５０　（ｍ、４Ｈ） ３、２４　　（ｂ、　　ＬＨ） ２、９１〜２．３３　　（ｍ、　　３Ｈ）（３）４−　
［１−（４−ブロモフェニル）−２ピロリドン−４−イ
ル］メトキシ安息香酸メチル ｍｐ、１３０〜１３３°Ｃ （４）４−　［１−（４−ブロモフェニル）−２ピロリ
ドン−４−イル］メトキシ安息香酸ｍｐ、　　２１６〜
２２０°Ｃ 実施例２５ （１）１−　（４−イソプロピルフェニル）−５オキソ
−３−ピロリジンカルボン酸 ｍｐ、１６６〜１６８°Ｃ （２）１−　（４−イソプロピルフェニル）−４ヒドロ
キシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍニ ア、４７　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）７．２１　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）４、０９〜３．５２　　（
ｍ、　　４Ｈ）３．０９〜２．１７　　（ｍ、　　５Ｈ
）１、２３　　（ｄ、　　６Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）（３
）４−　［１−（４−イソプロピルフェニル）２−ピロ
リドン−４−イルコメトキシ安息香酸メチル ｍｐ、１０４〜１０５℃ （４）４−　［１−（４−イソプロピルフェニル）−２
−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、　　２０９〜２１０℃ 実施例２６ （１）１−　（４−エトキシカルボニルフェニル）−５
−オキソ−３−ピロリジンカルボン酸ｍｐ、１８２〜１
８６℃ （２）１−　（４−エトキシカルボニルフェニル）−４
−ヒドロキシメチル−２−ピロリドンＮＭＲ（ＣＤＣＩ
！３）δｐｐｍ： ８、０１　　（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）７、７
２　　（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）４、３６　　
（ｑ、　　２Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）４、１０〜３．５８
　　（ｍ、　　４Ｈ）２、８３〜２．３９　　（ｍ、　
　３Ｈ）２、０９　　（ｂ、　　ＩＨ） １、３８　　（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）（３）４−
　［１−（４−エトキシカルボニルフェニル）−２−ピ
ロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ｍｐ、１２１〜１２３℃ （４）４−　［１−（４−カルボキシフェニル）−２−
ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸ｍｐ、＞３０
０℃ ＮＭＲ（ＤＭ　Ｓ　Ｏ−ｄ　ａ　）δｐｐｍ：８．０２
〜７．７５　（ｍ、６Ｈ） ７．０４　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）４．１９〜３
．７１　（ｍ、４Ｈ） ３、１３〜２．３１　　（ｍ、　　３Ｈ）実施例２７ （１）１−　（４−ヒドロキシフェニル）−５−オキソ
−３−ピロリジンカルボン酸 実施例１−（１）と同様にして合成した。
ｍｐ、２０１〜２０４℃ （２）１−　（４−ヒドロキシフェニル）−５−オキソ
−３−ピロリジンカルボン酸メチル実施例１−（２）と
同様にして合成した。
ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍニ ア、２４　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）６．７７　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）４．０６〜３．９６　（ｍ
、２Ｈ） ３．７６　（ｓ、３Ｈ） ３．５５〜３．２０　（ｍ、ＬＨ） ２．９３〜２．８２　（ｍ、２Ｈ） （３）１−　（４−エトキシフェニル）−５−オキソ−
３−ピロリジンカルボン酸メチル １−（４−ヒドロキシフェニル）−５−オキソ−３−ピ
ロリジンカルボン酸メチル３．００ｇをジメチルホルム
アミド３０ｚｌに溶解させ、炭酸カリウム４．４０ｇと
ヨウ化エチル２．５６ｚ／とを加えて８０℃で２２時間
加熱撹拌した。反応液を減圧濃縮後残渣に水とＩＮ塩酸
を加えて中性とし、析出する結晶を炉取、水洗して目的
物３．０７ｇを得た。
ｍｐ、６７〜６９℃ （４）１−　（４−エトキシフェニル）−４−ヒドロキ
シメチル−２−ピロリドン 実施例１−（３）と同様にして合成した。
ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）δｐｐｍ＋ ７．４３　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）６．８８　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）４．１３〜３．５０　（ｍ
、６Ｈ） ２．９５〜２．１８　（ｍ、４Ｈ） １．３９　（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）（５）４．−
　［１−（４−エトキシフェニル）−２ピロリドン−４
−イル］メトキシ安息香酸メチル 実施例１−（４）と同様にして合成した。
ｍｐ、１１７〜１１８°Ｃ （６）４−　［１−（４−エトキシフェニル）−２−ピ
ロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸実施例１−（５
）と同様にして合成した。
ｍｐ、２１８〜２２０℃ 実施例２８〜３３ 実施例２７−（３）〜（６）と同様にして適当な出発原
料を用いて下記実施例２８〜３３の各化合物を得た。
実施例２８ （１）１−（４−ｎ−プロポキシフェニル）−５−オキ
ソ−３−ピロリジンカルボン酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣＡ
’３）δｐｐｍニ ア、４３　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９°ＩＨｚ）６、９０　　
（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）４、０８〜３．８３
　　（ｍ、　　４Ｈ）３、７７　　（ｓ、　　３Ｈ） ３、５４〜３．１９．（ｍ、　　ＬＨ）２、９１〜２．
８０　　（ｍ、　　２Ｈ）２、　　ＯＯ〜１．６０　　
（ｍ、　　２Ｈ）１、０２　　（ｔ、　　３Ｈ，Ｊ＝７
．１Ｈｚ）（２）１−（４−ｎ−プロポキシフェニル）
−４−ヒドロキシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）δｐｐｍニ ア、４３　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）６．８８　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）３．９６〜３°６１　（ｍ
、６Ｈ） ２．９９〜２．１９　（ｍ、４Ｈ） １．９９〜１．６０　（ｍ、２Ｈ） １．０２　ｃｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）（３）　４−
　［１−（４−ｎ−プロポキシフェニル）〜２−ピロリ
ドンー４−イルコメトキシ安息香酸メチル ｍｐ、１０４〜１０５°Ｃ （４）　４−　［１−（４−ｎ−プロポキシフェニル）
−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、１９７〜１９８°Ｃ 実施例２９ （１）１−　（４−イソプロポキシフェニル）〜５オキ
ソー３−ピロリジンカルボン酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣＡ
’３）δｐｐｍニ ア、４２　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）６．８９　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）４°６４〜４．３７　（ｍ
、ＩＨ） ４．０８〜３．９７　（ｍ、２Ｈ） ３．７７　（ｓ、３Ｈ） ３．５２〜３．１８　（ｍ、ＩＨ） ２．９１〜２°８１　（ｍ、２Ｈ） １．３２　（ｄ、６Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）（２）１−　
（４−イソプロポキシフェニル）−４−ヒドロキシメチ
ル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐｍニ ア、４４　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）６．８８　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）４．６４〜４．３７　（ｍ
、ＬＨ） ４．０１〜３．５３　（ｍ、４Ｈ） ２．９４〜１．９８　（ｍ、４Ｈ） １、　　３１　　　（ｄ、　　　　６Ｈ，Ｊ＝６．　　
２Ｈｚ）（３）４−　［１−（４−イソプロポキシフェ
ニル）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸
メチル ｍｐ、９９〜１０００Ｃ （４）４−　［１−（４−イソプロポキシフェニル）−
２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸 ｍｐ、１８６〜１８８°Ｃ 実施例３０ （１）１−　（４−ベンジルオキシフェニル）−５−オ
キソ−３−ピロリジンカルボン酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣ
１３）δｐｐｍニ ア、５１〜７．２５　（ｍ、７Ｈ） ６．９７　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）５．０４　（
ｓ、２Ｈ） ４．０７〜３．９６　（ｍ、２Ｈ） ３．７６　（ｓ、３Ｈ） ３．５１〜３．１８　（ｍ、ＩＨ） ２．９０〜２．８０　（ｍ、２Ｈ） （２）１−　（４−ベンジルオキシフェニル）−４−ヒ
ドロキシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍ＋ ７．５１〜７．２６　（ｍ、７Ｈ） ６．９５　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）５．０２　（
ｓ、２Ｈ） ３．９８〜３．４７　（ｍ、４Ｈ） ２．８８〜２．１６　（ｍ、４Ｈ） （３）４−　［１−（４−ベンジルオキシフェニル）２
−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐｐｍニ ア、９９　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）７．５５〜７
．３７　（ｍ、７Ｈ） ７．０１〜６．８６　（ｍ、４Ｈ） ５、０５　（ｓ、　　２Ｈ） ４．０９〜３．４９　（ｍ、７Ｈ） ３、１３〜２．３４　（ｍ、　　３Ｈ）（４）４−　［
１−（４−ベンジルオキシフェニル）−２−ピロリドン
−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、２０８〜２１１℃ 実施例３１ （１）１−　［４−（４−クロロベンジルオキシ）フェ
ニル］−５−オキソー３−ピロリジンカルボン酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）　　δｐｐｍニア、４５　　
（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）７、３４　　（ｓ、　　
４Ｈ） ６．９５　　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）５、０１　
　（ｓ、　　２Ｈ） ４．０８〜３．９７　　（ｍ、２Ｈ） ３、７７　　（ｓ、　　３Ｈ） ３．５３〜３．１８　　（ｍ、ＩＨ） ２．９１〜２．８１　　（ｍ、２Ｈ） （２）１−［４−（４−クロロベンジルオキシ）フェニ
ル］−４−ヒドロキシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）　　δｐｐｍニア、５４〜７．
２６　　（ｍ、６Ｈ） ６．９４　　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）５．０１　
（ｓ、、２Ｈ） ４．０３〜３．５６　　（ｍ、４Ｈ） ２．９３〜２．３２　　（ｍ、３Ｈ） ２、０９　　（ｂ、　　ＬＨ） （３）４−　［１−［４−（４−クロロベンジルオキシ
）フェニルコー２−ピロリドンー４−イルコメトキシ安
息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐｍニ ア、９９　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）７．５１　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７、３３　（ｓ、　　４Ｈ
） ６、９９〜６．８６　（ｍ、　　４Ｈ）５、００　（ｓ
、　　２Ｈ） ４．０９〜３．５４　（ｍ、７Ｈ） ３．１２〜２．３１　（ｍ、３Ｈ） （４）４−［１−［４−（４−クロロベンジルオキシ）
フェニルコー２−ピロリドンー４−イルコメトキシ安息
香酸 ｍｐ、２１４〜２１７°Ｃ 実施例３２ （１）１−　［４−（４−イソプロビルベンジルオキシ
）フェニルヨー５−オキソ−３−ピロリジンカルボン酸
メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍニ ア、５１〜７．１７　（ｍ、６Ｈ） ６．９８　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）５．０１　（
ｓ、２Ｈ） ４．０８〜３．９７　（ｍ、２Ｈ） ３．７７　（ｓ、３Ｈ） ３．５２〜３．０８　（ｍ、ＩＨ） ２．９１〜２．８１　（ｍ、２Ｈ） １．２５　（ｄ、６Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）（２）１−　
［４−（４−イソプロピルベンジルオキシ）フェニルヨ
−４−ヒドロキシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍニ ア、５２〜７．１８　（ｍ、６Ｈ） ６．９６　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）４．９９　（
ｓ、２Ｈ） ４、００〜３．５２　　（ｍ、４Ｈ） ３、１８〜２．４０　　（ｍ、４Ｈ） ２、２９　　（ｂ、　　ＬＨ） １．２４　　（ｄ、６Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）（３）４−
　［１−［４−（４−イソプロピルベンジルオキシ）フ
ェニルヨー２−ピロリドン４−イル］メトキシ安息香酸
メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’　３　）δｐｐｍニア、９９　（ｄ
、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７．４８　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝
９．２Ｈｚ）７．４１〜７．１８　（ｍ、、４Ｈ） ７．０２〜６．８６　（ｍ、４Ｈ） ５、０１　（ｓ、　　２Ｈ） ４、１０〜３．６９　（ｍ、　　７Ｈ）３、１８〜２．
４３　（ｍ、　　３Ｈ）１．２５　（ｄ、６Ｈ，Ｊ＝７
．０Ｈｚ）（４）４−　［１−［４−（４−イソプロピ
ルベンジルオキシ）フェニルヨー２−ピロリドンー４−
イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、２０８〜２１１°Ｃ 実施例３３ （１）　１　　　［４−（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジ
ルオキシ）フェニルヨー５−オキソー３−ピロリジンカ
ルボン酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍニ ア、５１〜７．３３　（ｍ、６Ｈ） ６、９８　（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ＝９°２Ｈｚ）５．０１
　（ｓ、２Ｈ） ４．０８〜３．９７　（ｍ、２Ｈ） ３、７６　（ｓ、　　３Ｈ） ３．５４〜３．１８　（ｍ、ＩＨ） ２．９１〜２．８０　（ｍ、２Ｈ） １．３２　（ｓ、９Ｈ） （２）　ＬＬ［４−（４−ｊｅｒｆ−ブチルベンジルオ
キシ）フェニルヨ−４−ヒドロキシメチル−２−ピロリ
ドン ＮＭＲ（ＣＤＣｊｉ’　３　）　　δｐｐｍニア、　５
３〜７．３７　　（ｍ、　　６Ｈ）６、９７　　（ｄ、
　　２Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）５、００　　（ｓ、　　２
Ｈ） ４、０１〜３．５３　　（ｍ、４Ｈ） ２、７８〜２．３１　　（ｍ、　　３Ｈ）２、０８　　
（ｂ、　　ＩＨ） １、３２　　（ｓ、　　９Ｈ） （３）　４−　［１−［４−（４−ｔｅｒｔ−ブチルベ
ンジルオキシ）フェニルヨー２−ピロリドン−４−イル
］メトキシ安息香酸メチル ｍｐ、１３６〜１３９°Ｃ （４）　４−　［１−［４−（４−ｔｅｒｌ−ブチルベ
ンジルオキシ）フェニルヨー２−ピロリドン４−イル］
メトキシ安息香酸 ｍｐ、２８０℃（分解） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍニ ア、８７　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）７、５４　　
（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７．３７　　（ｓ、
　　４Ｈ） ７、０４〜６．８６　　（ｍ、　　４Ｈ）５、０４　　
（ｓ、　　２Ｈ） ４、１１〜３．６０　　（ｍ、　　４Ｈ）３、０５〜２
．２５　　（ｍ、　　３Ｈ）１、２８　　（ｓ、　　９
Ｈ） 実施例３４ （１）４−　［１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−
ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ４−　［１−（４−ベンジルオキシフェニル）−２−ピ
ロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸メチル２、ＯＯ
ｇをクロロホルム５０１１とメタノール２０ｘｌの混合
溶媒に溶解させ、１０％パラジウム炭素０．２ｇを加え
て、常圧水素雰囲気下室温で２２時間撹拌し、触媒を消
去後、炉液を減圧濃縮し、残渣を５０％含水メタノール
約２０ｙｌｌから結晶化させて、目的物１．５０ｇを得
た。
ｍｐ、１４１〜１４４℃ （２）４−　［１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−
ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 実施例１−（５）と同様にして合成した。
ｍｐ、２４６〜２４９℃ 実施例１と同様にして適当な出発原料を用いて下記実施
例３５〜４２の各化合物を得た。
実施例３５ （１）４−　［１−（４−クロロフェニル）−２−ピロ
リドン−４−イル］メトキシ桂皮酸メチル ｍｐ、１３７〜１３８℃ （２）４−　［１−（４−クロロフェニル）−２−ピロ
リドン−４−イルコントキシ桂皮酸ｍｐ、２０６〜２０
７℃ 実施例３６ （１）４−　［１−（４−クロロフェニル）−２−ピロ
リドン−４−イルコントキシ−α−メチル桂皮酸メチル ｍｐ、１５６〜１５８℃ （２）４−　［１−（４−クロロフェニル）−２ピロリ
ドン−４−イルコントキシ−α−メチル桂皮酸 ｍｐ、１９３〜１９４℃ 実施例３７ （１）３−　［４−［１−（４−クロロフェニル）−２
−ピロリドン−４−イル］メトキシコフェニルプロピオ
ン酸メチル ｍｐ、１１３〜１１５℃ （２）３−　［４−［１−（４−クロロフェニル）−２
−ピロリドン−４−イル］メトキシコフェニルプロピオ
ン酸 ｍｐ、１２２〜１２３℃ 実施例３８ （１）３−　［４−［１−（４−クロロフェニル）−２
−ピロリドン−４−イル］メトキシ］フェニルー２−メ
チルプロピオン酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δｐｐｍ
ニ ア、５９　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．２３Ｈｚ）７．３１　
（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．４５Ｈｚ）７．０８　（ｄ、２Ｈ
，Ｊ＝８．７９Ｈｚ）６．８０　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．
７９Ｈｚ）４．０３〜３．８１　（ｍ、４Ｈ） ３．６３　（ｓ、３Ｈ） ３．００〜２．４６　（ｍ、６Ｈ） １．１３　（ｄ、３Ｈ，Ｊ−６，６Ｈｚ）（２）３−、
［４−［１−（４−クロロフェニル）−２−ピロリドン
−４−イルコメトキシコフェニルー２−メチルプロピオ
ン酸 ｍｐ、９５〜９７℃ 実施例３９ （１）２−　［１−（４−クロロフェニル）−２−ピロ
リドン−４−イルコメトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）　　δｐｐｍニア、　　８４〜
７．７５　（ｍ、　　ＩＨ）７．６１　（ｄ、、２Ｈ，
Ｊ＝９．２３Ｈｚ）７、３６〜７．２６　（ｍ、、　　
３Ｈ）７、０９〜６．９１　（ｍ、　　２Ｈ）４、１４
〜３．９４　（ｍ、　　４Ｈ）３．８３　　（ｓ、３Ｈ
） ３、１０〜２．６３　　（ｍ、　　３Ｈ）（２）２−　
［１−（４−クロロフェニル）−２−ピロリドン−４−
イル］メトキシ安息香酸ｍｐ、１５５〜１５６℃ 実施例４０ （４）３−　［１−（４−クロロフェニル）−２−ピロ
リドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）　　δｐｐｍニア、７１〜７
．０４　　（ｍ、８Ｈ） ４．１２〜３．５７　　（ｍ、７Ｈ） ３°　１４〜２．３６　　（ｍ、３Ｈ）（５）３−　［
１−（４−クロロフェニル）−２ピロリドン−４−イル
］メトキシ安息香酸ｍｐ、１５６〜１５８°Ｃ 実施例４１ （１）１−　（４−クロロベンジル）−５−オキソ３−
ピロリジンカルボン酸 ｍｐ、１４８〜１５０℃ （２）１−　（４−クロロベンジル）−５−オキソ−３
−ピロリジンカルボン酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）δｐｐｍニ ア、３７〜７．１１　（ｍ、４Ｈ） ４．４２　（ｓ、２Ｈ） ３．７１　（ｓ、３Ｈ） ３．５１〜３．０６　（ｍ、３Ｈ） ２．７７〜２．６７　（ｍ、２Ｈ） （３）１−　（４−クロロベンジル）−４−ヒドロキシ
メチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐｍニ ア、３６〜７．１１　（ｍ、４Ｈ） ４．４０　（ｓ、２Ｈ） ３．６２〜３．０１　（ｍ、４Ｈ） ２．７７〜１．６７　（ｍ、４Ｈ） （４，）４−　［１−（４−クロロベンジル）−２−ピ
ロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）δｐｐｍ＋ ７．９６　　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７°３６〜
７．１２　（ｍ、　　４Ｈ）６、８３　　（ｄ、２Ｈ，
Ｊ＝９．０Ｈｚ）４、４３　（ｓ、　　２Ｈ） ３、９９〜３．８８　（ｍ、　　５Ｈ）３．６０〜３．
１１　（ｍ、２Ｈ） ２．９６〜２．２４　（ｍ、３Ｈ） （５）４−　［１−（４−クロロベンジル）−２ピロリ
ドン−４−イル］メトキシ安息香酸ｍｐ、１８０〜１８
３°Ｃ 実施例４２ （１）１−　（３，５−ジー１ｅ「１−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−５−オキソ−３−ピロリジンカル
ボン酸 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ　）δｐｐｍニア、２８　（ｓ
、２Ｈ） ６．８８　（ｓ、ＩＨ） ４．００〜３．９１　（ｍ、２Ｈ） ３．５４〜３．１９　（ｍ、ＬＨ） ２．７１〜２．６２　（ｍ、２Ｈ） １．３７　（ｓ、１８Ｈ） （２）１−　（３，５−ジー１ｃｒｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−５−オキソ−３−ピロリジンカル
ボン酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍ： ７、２８　　（ｓ、２Ｈ） ５．１５　　（ｓ、　　ＬＨ） ４．０８〜３．９７　　（ｍ、２Ｈ） ３．７７　　（ｓ、３Ｈ） ３．５３〜３．１８　　（ｍ、ＩＨ） ２．９０〜２．８０　　（ｍ、２Ｈ） １．４４　　（ｓ、１８Ｈ） （３）１−　（３，５−ジーｔｅｔｔ−ブチルー４−ヒ
ドロキシフェニル）−４−ヒドロキシメチル−２−ピロ
リドン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍニ ア、３１　（ｓ、２Ｈ） ５．１５　（ｓ、ＩＨ） ４．０２〜３．５０　（ｍ、４Ｈ） ２．７７〜２．３０　（ｍ、４Ｈ） １．４３　（ｓ、１８Ｈ） （４）４−　［１−（３，５−ジーｊｅｒｔ−ブチル４
−ヒドロキシフェニル）−２−ピロリドン−４−イル］
メトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐｍニ ア、９８　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）７．３３　（
ｓ、２Ｈ） ６．９２　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）５．１５　（
ｓ、　　ＩＨ） ４．１２〜３．６２　（ｍ、７Ｈ） ３．０６〜２．４３　（ｍ、３Ｈ） １．４４　（ｓ、１８Ｈ） （５）４−　［１−（３，５−ジーｊｅｒｆ−ブチル４
−ヒドロキシフェニル）−２−ピロリドン−４−イルコ
メトキシ安息香酸 ｍｐ、２１４〜２１７℃（分解） 実施例２３と同様にして適当な出発原料を用いて、下記
実施例４３の化合物を得た。
実施例４３ （１）１−（４−クロロフェニル）−６−オキソ−３−
ピペリジンカルボン酸 ｍｐ、１８４〜１８７℃ （２）１−　（４−クロロフェニル）−５−ヒドロキシ
メチル−２−ピペリドン ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δｐｐｍニ ア、４０〜７．１３　（ｍ、４Ｈ） ３．８１〜３．３６　（ｍ、４Ｈ） ２．９４〜１．４８　（ｍ、６Ｈ） （３）４−　［１−（４−クロロフェニル）−２ピペリ
ドン−５−イル］メトキシ安息香酸メチル ｍｐ　１４８〜１５０℃ （４）４−　［１−（４−クロロフェニル）−２−ピペ
リドン−５−イル］メトキシ安息香酸ｍｐ　１９５〜１
９７℃ 実施例４４ （１）１−　（４−クロロフェニル）−４−シアノメチ
ル−２−ピロリドン １−（４−クロロフェニル）−４−ヒドロキシメチル−
２−ピロリドン６．００ｇを塩化メチレン６０ｚｌに溶
解後、水冷し、塩化メタンスルホニル２．８８ｙ／とト
リエチルアミン７．３６ｘｌをそれぞれ滴下後、室温下
２６時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水
を加えて沈澱を破砕後、炉取し、水及びｎ−ヘキサンで
洗浄、乾燥して粉末状のメシル体８．０３ｇを得た。
次いで、これをＤＭＦ４０ｚ／に溶解させ、シアン化ナ
トリウム１．５６ｇを加えて、１００℃で２２時間加熱
撹拌した。反応混合物を冷却後、酢酸エチル１００ｚＡ
’で希釈し、水で３回洗浄後減圧濃縮し、残渣に約２０
％含水メタノール３０ｚ／を加え、結晶を炉取して、目
的物５．２０ｇを得た。
ｍｐ、９２〜９４℃ （２）１−　（４−クロロフェニル）−５−オキソピロ
リジン−３−イル酢酸メチル １−（４−クロロフェニル）−４−シアノメチル−２−
ピロリドン５．００ｇと水酸化ナトリウム２．５６ｇと
をエタノール２．５ｚＩ！、水１５１１１の混合溶媒中
８時間加熱還流した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣を
再度水溶液としてからジエチルエーテルで洗浄し、濃塩
酸を加えて中和後、塩化メチレン８０１１×２回抽出を
行い硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して油状物を
得た。
これを無水メタノール１００．ｖＡ’に溶解させ、硫酸
０．１１ｚ／を加えて１５時間加熱還流後、減圧濃縮し
た。残渣に酢酸エチル１００ｚ／を加えて重ソウ水及び
水の順に洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮
して目的物５．３６ｇを得た。
ｍｐ、６３〜６７℃ （３）１−　（４−クロロフェニル）−４−（２−ヒド
ロキシエチル）−２−ピロリドン 実施例１−（３）と同様の方法によって、１−（４−ク
ロロフェニル）−５−オキソピロリジン−３−イル酢酸
メチル５．２０ｇを原料として油状の目的物４．２４ｇ
を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）　　δｐｐｍニ ア、５３　　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７、３１　
　（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）４、０５〜３．４
５　　（ｍ、４Ｈ） ２、９１〜２．１５　　（ｍ、３Ｈ） １、８９〜１．６９　　（ｍ、３Ｈ） （４）４−　［２−［１−（４−クロロフェニル）〜２
−ピロリドンー４−イル］エトキシ］安息香酸メチル 実施例１−（４）と同様の方法によって、１−（４−ク
ロロフェニル）−４−（２−ヒドロキシエチル）−２−
ピロリドン４．２３ｇを原料として目的物５．４４ｇを
得た。
ｍｐ、１２６〜１２８℃ （５）４−　［２−［１−（４−クロロフェニル）−２
−ピロリドン−４−イル］エトキシ］安息香酸 実施例１−（５）と同様の方法によって、４−［２−［
↓−（４−クロロフェニル）−２−ピロリドン−４−イ
ル］エトキシ］安息香酸メチル５．２０ｇを原料として
目的物５．１３ｇを得た。
ｍｐ、２２８〜２２９°Ｃ 実施例４５ （１）１−　（３，４−メチレンジオキシフェノキシア
セチル）ピペリジン−４−カルボン酸エチル ３．４−メチレンジオキシフェノキシ酢酸３．５０ｇを
四塩化炭素８　ｘｌｌに懸濁し、塩化チオニル１．９３
７７を加えて１時間３０分加熱還流後減圧濃縮して酸ク
ロリドを得た。ＴＨＦ３０ｚｌにイソニペコチン酸エチ
ル２．７２ｚｌとトリエチルアミン７．４１ｚ／とを溶
解させ、水冷下これに先の酸クロリドを加えた後、室温
下１９時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮後、残渣に
水と酢酸エチルとを加えて分配し、有機層を水で３回洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥の後、減圧濃縮して油状
の目的物６．５８ｇを得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣＡ！３　）δｐｐｍ： ６．６８　（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）６．５３　（
ｄ、ＬＨ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）６°４２〜６．２９　（ｍ
、　　１）Ｊ）５．９１　（ｓ、２Ｈ） ４．６０　（ｓ、２Ｈ） ４．４２〜３°８５　（ｍ、４Ｈ） ３．３１〜２．７７　（ｍ、２Ｈ） ２．６７〜２．４０　（ｍ、ＬＨ） ２．０７〜１．５２　（ｍ、４Ｈ） ■、２５　（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．　　↑Ｈｚ）（２）１
−　［２−（３，４−メチレンジオキシフェノキシ）エ
チル］−４−ヒドロキシメチルピペリジン ＴＨＦ６０７／に氷冷下、水素化リチウムアルミニウム
１．８１ｇを懸濁させ、１−（３，４−メチレンジオキ
シフェノキシアセチル）ピペリジン４−カルボン酸エチ
ル４．００ｇのＴＨＦ２０ｚＡ’溶液を滴下後、室温下
に３０分、更に加熱還流下に１４時間撹拌した。反応混
合物に酢酸エチルと少量のＩＮ水酸化ナトリウム水溶液
を加えて、過剰の還元剤を分解の後、濾過し、減圧濃縮
して目的物３．２５ｇを得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐｐｍ： ６．６９　（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）６．５０　（
ｄ、ＬＨ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）６．３８〜６．２６　（ｍ
、ＬＨ） ５、９０　（ｓ、　　２Ｈ） ４．０３　（ｔ、２Ｈ′、Ｊ＝５．９Ｈｚ）３．４９　
（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）３、０９〜２．９７　（
ｍ、　　２Ｈ）２．７６　（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ
）２、２７〜２．０３　（ｍ、　　２Ｈ）１、８４〜１
．３７　（ｍ、　　６Ｈ）（３）４−　［１−［２−（
３，４−メチレンジオキシフェノキシ）エチルコピベリ
ジン−４イル］メトキシ安息香酸メチル １−　［２−（３，４−メチレンジオキシフェノキシ）
エチルコー４−ヒドロキシメチルピペリジン３．２５ｇ
を塩化メチレン３５１１に溶解後、水冷し、塩化メタン
スルホニル１．０８Ａ’とトリエチルアミン４．８４ｘ
ｌとを加えた後室温下１４時間撹拌後、減圧濃縮した。
残渣をＤＭＦ１５．ｖ／に溶解させ、ｐ−ヒドロキシ安
息香酸メチル１．７６ｇ及び炭酸カリウム３．２０ｇを
加えてｌＯＯ℃２日間加熱撹拌した。反応混合物を冷却
後、水と酢酸エチルを加えて分配し、有機層を水で３回
洗浄し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにチャージし、クロロホルム−メタノール
（４：　１　（ｖ／ｖ）　）混合溶媒で溶出して、油状
の目的物１．３９ｇを得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐｐｍニ ア、９５　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）６、８６　　
（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）６、６７　　（ｄ、
　　ＩＨ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）６、５０　　（ｄ、　　Ｉ
Ｈ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）６、３８〜６．２６　　（ｍ、　
　ＩＨ）５、９０　　（ｓ、　　２Ｈ） ４、０９〜３．８８　　（ｍ、　　７Ｈ）３、０６〜１
．３９　　（ｍ、　　ＩＩＨ）（４）４−　［１−［２
−（３，４−メチレンジオキシフェノキシ）エチルコピ
ベリジン−４イルコメトキシ安息香酸 実施例１−（５）と同様の方法に依って４−［１−［２
−（３，４−メチレンジオキシフェノキシ）エチルコピ
ベリジン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル１．３８
ｇを原料として目的物１．１４ｇを得た。
ｍｐ、　　１３３〜１３６℃ 実施例４５と同様にして適当な出発原料を用いて、下記
実施例４６〜５１の各化合物を得た。
実施例４６ （１）１−　（ピペロニロイル）ピペリジン−４カルボ
ン酸エチル ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐｐｍ： ６、９６〜６．７４　（ｍ、　　３Ｈ）５、９９　（ｓ
、　　２Ｈ） ４、２８〜３．９０　（ｍ、　４Ｈ） ３、２０〜２．８９　（ｍ、　　２Ｈ）２．７５〜２．
４２　（ｍ、ＩＨ） ２、０４〜１．６０　（ｍ、　４Ｈ） １．２６　（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）（２）■−ピ
ペロニルー４−ヒドロキシメチルピペリジン ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）　　δｐｐｍ： ６．８４　（ｓ、　　１Ｈ） ６．７３　（ｂｓ、２Ｈ） ５、９２　（ｓ、　　２Ｈ） ３．４８　　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）３．４０　
　（ｓ、２Ｈ） ２．９５〜２．８３　　（ｍ、２Ｈ） ２．０８〜１．０９　　（ｍ、８Ｈ） （３）４−（１−ピペロニルピペリジンー４−イル）メ
トキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣ（１３）δｐｐｍニ ア、９５　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）６．９２〜６
．７３　（ｍ、５Ｈ） ５．９２　（ｓ、２Ｈ） ４．０６〜３．８７　（ｍ、５Ｈ） ３．５１　（ｓ、２Ｈ） ２．９９〜１．２５　（ｍ、９Ｈ） （４）４−　（１−ピペロニルピペリジンー４−イル）
メトキシ安息香酸 ｍｐ、１６４〜１６８℃（分解） 実施例４７ （１）１−　（ピペロニロイル）ピペリジン−３−カル
ボン酸エチル ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）　　δｐｐｍ： ６、９７〜６．７５　　（ｍ、　　３Ｈ）５、９９　　
（ｓ、　　２Ｈ） ４、３６〜３．９１　　（ｍ、　　４Ｈ）３、３３〜２
．９０　　（ｍ、　　２Ｈ）２、６７〜２．３７　　（
ｍ、　　ＩＨ）２、２４〜１．５３　　（ｍ、　　４Ｈ
）１、２４　　（ｔ、　　３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）（２
）３−ヒドロキシメチル−１−ピペロニルビペリジン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍ： ６．８２　（ｓ、ＩＨ） ６．７３　（ｂｓ、２Ｈ） ５．９２　（ｓ、２Ｈ） ３．６２〜３．５４　（ｍ、２Ｈ） ３．３８　（ｓ、２Ｈ） ２．８０〜２．４５　（ｍ、２Ｈ） ２．２０〜１．４７　（ｍ、８Ｈ） （３）ｌ−（１−ピペロニルピペリジンー３−イル）メ
トキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δｐｐｍニ ア、９５　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）６．９２〜６
．７１　（ｍ、５Ｈ） ５．９２　（ｓ、２Ｈ） ３．９１〜３．８４　（ｍ、５Ｈ） ３．４１　（ｓ、２Ｈ） ２．９９〜２．６１　（ｍ、２Ｈ） ２．２８〜０．８８　（ｍ、７Ｈ） （４）４−　（１−ピペロニルビペリジンー３−イル）
メトキシ安息香酸 ｍｐ、２１３〜２１６℃（分解） 実施例４８ １）１−（３，４−メチレンジオキシフェニルアセチル
）ピペリジン−３−カルボン酸エチルＮＭＲ（ＣＤＣＩ
　３　）δｐｐｍ： ６．８０〜６．６１　（ｍ、３Ｈ） ５、９３　　（ｓ、　　２Ｈ） ４、６８〜２．７６　　（ｍ、　　８Ｈ）２、５７〜１
．１７　　（ｍ、　　８Ｈ）（２）１−　［２−（３，
４−メチレンジオキシフェニル）エチルコー３−ヒドロ
キシメチルピペリジン ＮＭＲ（ＣＤＣ１２）　　δｐｐｍ： ６．８１〜６．６１　（ｍ、３Ｈ） ５．９０　（ｓ、２Ｈ） ３．６４〜３．５４　（ｍ、２Ｈ） ２．９６〜１．５１　（ｍ、１４Ｈ） （３）４−　［１−［２−（３，４−メチレンジオキシ
フェニル）エチルコピベリジン−３−イル］メトキシ安
息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）δｐｐｍニ ア、９７　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）６．９４〜６
．５６　（ｍ、５Ｈ） ５．９０　（ｓ、２Ｈ） ３、８８　　（ｂｓ、　　５Ｈ） ３．１２〜２．４４　　（ｍ、　　６Ｈ）２、２４〜１
．５４　　（ｍ、　　６Ｈ）１、３４〜０．９１　　（
ｂ、　　ＩＨ）（４）４−　［１−［２−（３，４−メ
チレンジオキシフェニル）エチルコピベリジン−３−イ
ルコメトキシ安息香酸 ｍｌ）、９２〜９５℃ 実施例４９ （１）１−　（３，４−メチレンジオキシフェニルアセ
チル）ピペリジン−４−カルボン酸エチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ３）　　δｐｐｍ： ６、８１〜６．６０　　（ｍ、　　３Ｈ）５、９３　　
（ｓ、　　２Ｈ） ４、４７〜３．３７　　（ｍ、　　６Ｈ）３、２４〜２
．３３　　（ｍ、　　３Ｈ）２、０７〜１．００　　（
ｍ、　　７Ｈ）（２）１−　［２−（３，４−メチレン
ジオキシフェニル）エチルゴー４−ヒドロキシメチルピ
ペリジン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍ： ６、７７〜６．５６　（ｍ、　　３Ｈ）５、９１　（ｓ
、　　２Ｈ） ３．５０　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）３．０７〜２
．４１　（ｍ、６Ｈ） ２、１４〜１．１５　（ｍ、　　８Ｈ）（３）４−　［
１−［２−（３，４−メチレンジオキシフェニル）エチ
ルコピベリジン−４−イルコメトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍニ ア、９６　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）６．９３〜６
．５７　（ｍ、５Ｈ） ５、９０　（ｓ、　　２Ｈ） ４．０９〜３．８８　（ｍ、５Ｈ） ３．００〜１．７８　（ｍ、１２Ｈ） １、６２〜１．２２　　（ｂ、　　ＩＨ）（４）４−　
［１−［２−（３，４−メチレンジオキシフェニル）エ
チルコピベリジン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、１１３〜１１６℃ 実施例５０ （１）　１−　（４−ｔｅｒｌ−ブチルベンゾイル）ピ
ペリジン−３−カルボン酸エチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍニ ア、４８〜７．２５　（ｍ、４Ｈ） ４．３９〜３．８３　（ｍ、４Ｈ） ３．３１〜２．８７　（ｍ、２Ｈ） ２．６６〜２．３７　（ｂ、ＩＨ） １．９２〜１．４８　（ｍ、４Ｈ） １．３２〜１．１５　（ｍ、１２Ｈ） （２）　１−　（４−ｔｅｒｊ−ブチルベンジル）−３
−ヒドロキシメチルピペリジン ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐｐｍニ ア、３８〜７．１８　　（ｍ、４Ｈ） ３．６３〜３．５５　　（ｍ、２Ｈ） ３．４４　　（ｓ、　　２Ｈ） ２、８３〜２．４４　　（ｍ、　　２Ｈ）２．３２〜１
、４７　　（ｍ、　　８Ｈ）１、３１　　（ｓ、　　９
Ｈ） （３）　４−　［１−（４−ｔｅｒｌ−ブチルベンジル
）ピペリジン−３−イル］メトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣｆ３）　　δｐｐｍニ ア、９６　　（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７、３
８〜７．１６　（ｍ、　　４Ｈ）６．８７　　（ｄ、　
　２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）３、９２’〜３．８８　（ｍ
、　　５Ｈ）３．４９　（ｂｓ、２Ｈ） ２．９９〜２．６１　（ｍ、　　２Ｈ）２、２７〜１．
４９　（ｍ、　　６Ｈ）１．３９〜０．８９　（ｂ、Ｉ
ＯＨ） （４）　４−［１−（４−１ｃｒｔ−ブチルベンジル）
ピペリジン−３−イル］メトキシ安息香酸ｍｐ、２４１
〜２４４°Ｃ（分解） 実施例５１ （１）１−　（４−クロロベンゾイル）ピペリジン−３
−カルボン酸エチル ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐｐｍニ ア、３６　（ｂｓ、４Ｈ） ４．６７〜３．５０　（ｍ、４Ｈ） ３．３５〜２．９３　（ｍ、２Ｈ） ２．７０〜２．３３　（ｍ、ＩＨ） ２．２７〜１．１６　（ｍ、７Ｈ） （２）１−　（４−クロロベンジル）−３−ヒドロキシ
メチルピペリジン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐｍニ ア、３６〜７．１５　（ｍ、４Ｈ） ３．７６〜３．４３　（ｍ、４Ｈ） ２．８１〜２．４７　（ｍ、２Ｈ） ２、２７〜１．４６　　（ｍ、　　８Ｈ）（３）４−　
［１−（４−クロロベンジル）ピペリジン−３−イルコ
メトキシ安息香酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）δｐｐ
ｍニ ア、９６　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７．２４　（
ｂｓ、４Ｈ） ６．８６　（ｄ、２Ｈ，Ｊ−〜９．０Ｈｚ）３．９１〜
３．８５　（ｍ、５Ｈ） ３．４６　（ｂｓ、２Ｈ） ２．９８〜２．５３　（ｍ、２Ｈ） ２．２５〜１．４８　（ｍ、６Ｈ） １．３６〜０．８０　（ｍ、ＩＨ） （４）４−　［１−（４−クロロベンジル）ピペリジン
−３−イルコメトキシ安息香酸 ｍｐ、１４９〜１５１℃（分解） 実施例５２ （１）１−　（４−クロロフェニル）−３−ヒドロキシ
メチルピロリジン Ｔ　ＨＦ　９０７７’に水冷下、水素化リチウムアルミ
ニウム２．９３ｇを懸濁させ、１−（４−クロロフェニ
ル）−５−オキソ−３−ピロリジンカルボン酸４．６３
ｇを少量ずつ加えた後、加熱還流下２０時間攪拌した。
反応混合物に酢酸エチルと少量の１Ｎ水酸化ナトリウム
水溶液を加えて、過剰の還元剤を分解の後、濾過し、減
圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにチャージし、クロロホルム−メタノール（４０：１
（Ｙ／Ｖ）　）混合溶媒で溶出して、目的物４．００ｇ
を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍニ ア、１４　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）６．４５　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）３．６６　（ｄ、２Ｈ，Ｊ
＝６．４Ｈｚ）３．４９°〜２．９９　（ｍ、４Ｈ） ２．７１〜１．６３　（ｍ、４Ｈ） （２）４−　［１−（４−クロロフェニル）ピロリジン
−３−イルコメトキシ安息香酸メチル実施例１−（４）
と同様の方法によって、■（４−クロロフェニル）−３
−ヒドロキシメチルピロリジン３．９９ｇを原料として
、目的物３．７８ｇを得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐｐｍニ ア、９９　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７．１６　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）６．９１　（ｄ、２Ｈ，Ｊ
＝９．０Ｈｚ）６．４８　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ
）４．０３　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）３．８８　
（ｓ、３Ｈ） ３．６１〜２．７０　（ｍ、５Ｈ） ２．４３〜１．８２　（ｍ、２Ｈ） （３）４−　［１−（４−クロロフェニル）ピロリジン
−３−イルコメトキシ安息香酸 実施例１−（５）と同様の方法によって、４−［１−（
４−クロロフェニル）ピロリジン−３−イル］メトキシ
安息香酸メチル３．７７ｇを原料として、目的物３．２
０ｇを得た。
ｍｐ、２００〜２０３℃（分解） 実施例５３〜５６ 実施例５２と同様にして、適当な出発原料を用いて、下
記実施例５３〜５６の各化合物を得た。
実施例５３ （１）　１−　（４−ｔａｒｔ−ブチルフェニル）−３
ヒドロキシメチルピロリジン ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐｐｍニ ア、２６　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）６．５４　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）３．６５　（ｄ、２Ｈ，Ｊ
＝６．４Ｈｚ）３．５１〜３．０３　（ｍ、４Ｈ） ２．６９〜１．６０　（ｍ、４Ｈ） １．２９　（ｓ、９Ｈ） （２）　４−［１−（４−ｔｅｒｊ−ブチルフェニル）
ピロリジン−３−イル］メトキシ安息香酸メチル ｍｐ、１０３〜１０５℃ （３）　４−　［１−（４−１ｅｒｊ−ブチルフェニル
）ピロリジン−３−イル］メトキシ安息香酸ｍｐ、２１
４〜２１７℃（分解） 実施例５４ （１）　１−　［４−（４−１ｃｒｔ−ブチルフェノキ
シ）フェニル］−５−オキソー３−ピロリジンカルボン
酸 ｍｐ、１９１〜１９３℃ （２）　１−　［４−（４−１ｃｒｔ−ブチルフェノキ
シ）フェニル］−３−ヒドロキシメチルピロリジン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）　　δｐｐｍニア、２８　　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）７．０１〜６．７９　　（
ｍ、４Ｈ） ６．５４　　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）３．６９　
　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）３、５２〜３．０３　
　（ｍ、４Ｈ） ２、７２〜１．６２　　（ｍ、４Ｈ） １、３０　　（ｓ、　　９Ｈ） （３）　４−　［１−［４−（４−ｔｅｒｆ−ブチルフ
ェノキシ）フェニルコピクリジン−３−イルコメトキシ
安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐｐｍニ ア、９９　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７．２７　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）７．０２〜６．７９　（ｍ
、６Ｈ） ６．５５　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）４．０３　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）３．８８　（ｓ、３Ｈ） ３．６１〜２．７０　（ｍ、５Ｈ） ２．４３〜１．７３　（ｍ、２Ｈ） １、２９　（ｓ、　　９Ｈ） （４）　４−　［１−［４−（４−ｔｃｒｔ−ブチルフ
ェノキシ）フェニル］ピロリジンー３−イル］メトキシ
安息香酸 ｍｐ、１７２〜１７５℃ 実施例５５ （１）１−　［４−（４−クロロフェノキシ）フェニル
コー３−ヒドロキシメチルピロリジンＮＭＲ（ＣＤＣＡ
’３　）δｐｐｍニ ア、２０　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）６．９８〜６
．７８　（ｍ、４Ｈ） ６．５４　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）３．６９　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）３．５２〜３．０３　（ｍ
、４Ｈ） ２．７３〜１．６０　（ｍ、４Ｈ） （２）４−　［１−［４−（４−クロロフェノキシ）フ
ェニル］ピロリジンー３−イルコメトキシ安息香酸メチ
ル ｍｐ、９９〜１０３℃ （３）４−　［１−［４−（４−クロロフェノキシ）フ
ェニルコピロリジン−３−イル］メトキシ安息香酸・塩
酸塩 実施例１−（５）と同様の方法によって得た後、通常の
方法により塩酸塩とした。
ｍｐ、１９９〜２０２℃（分解） 実施例５６ （１）１−　（４−クロロフェニル）−３−ヒドロキシ
メチルピペリジン ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δｐｐｍニ ア、１７　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）６．８７　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）３．７３〜３．３７　（ｍ
、４Ｈ） ２．８７〜２．４３　（ｍ、２Ｈ） １．９８〜１．５１　（ｍ、６Ｈ） （２）４−［１−（４−クロロフェニル）ピペリジン−
３−イルコメトキシ安息香酸メチル・塩酸塩 実施例１−（４）と同様の方法によって得た後、通常の
方法により塩酸塩とした。
ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）　　δｐｐｍ：８．０３〜７．
８６　　（ｍ、４Ｈ） ７．４９　　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）６、８７　
　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）４、０５〜３．５４　
　（ｍ、　　７Ｈ）３．４３〜２．５４　　（ｍ、４Ｈ
） ２、２１〜１．１１　　（ｍ、　　４Ｈ）（３）４−　
［１−（４−クロロフェニル）ピペリジン−３−イル］
メトキシ安息香酸 ｍｐ、２１４〜２１７℃（分解） 実施例５７ （１）４−　［１−（４−メタンスルホニルオキシフェ
ニル）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸
メチル ４−　［１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−ピロリ
ドン−４−イルコメトキシ安息香酸メチル１．５０ｇを
塩化メチレン１５１１に懸濁後、水冷攪拌下塩化メタン
スルホニル０．６８ｚｌとトリエチルアミン１．８２ｙ
ｌをそれぞれ滴下し、更に室温下１９時間攪拌した。反
応混合物を減圧濃縮後、酢酸エチル８０ｙ／を加えて水
で３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃
縮して目的物の結晶１．７９ｇを得た。
ｍｐ、１１１〜１１３℃ （２）４−　［１−（４−メタンスルホニルオキシフェ
ニル）−２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸 ４−　［１−（４−メタンスルホニルオキシフェニル）
−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル
１．７８ｇをジオキサン２０ｚｌに溶解後、水酸化ナト
リウム０．３４ｇを水５　ｘｉに溶解して加え、室温下
１６時間攪拌した。反応混合物中に濃塩酸約０．７ｙｌ
を加えて減圧濃縮し、得られる残渣に水を加えて沈殿を
炉取し、水洗し、約１５％含水メタノールから再結晶し
て目的物１．４３ｇを得た。
ｍｐ、　　１９９〜２０１°Ｃ 実施例５８〜６２ 実施例５７と同様にして適当な出発原料を用いて、下記
実施例５８〜６２の各化合物を得た。
実施例５８ （１）４−　［１−（４−エタンスルホニルオキシフェ
ニル）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸
メチル ｍｐ、１００〜１０１．５℃ （２）４−　［１−（４−エタンスルホニルオキシフェ
ニル）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、２１０〜２１１°Ｃ 実施例５９ （１）　４−［１−（４−ｎ−プロパンスルホニルオキ
シフェニル）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安
息香酸メチル ｍｐ、１０７〜１０９℃ （２）　４−　［１−（４−ｎ−プロパンスルホニルオ
キシフェニル）−２−ピロリドン−４−イルコメトキシ
安息香酸 ｍｐ、１９７〜１９９℃ 実施例６０ （１）　４　　［１（４−ｎ−ブタンスルホニルオキシ
フェニル）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息
香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δｐｐｍニ ア、９９　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７．６７　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）７．２８　（ｄ、２Ｈ，Ｊ
＝９．２Ｈｚ）６．９１　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ
）４．３０〜３．７４　（ｍ、７Ｈ） ３．３１〜２．４９　（ｍ、５Ｈ） ２．１２〜１．７９　（ｍ、２Ｈ） １．７１〜１．３１　（ｍ、２Ｈ） ０．９７　（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）（２）　４　
　［１−（４−ｎ−ブタンスルホニルオキシフェニル）
−２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸 ｍｐ、１８５〜１８７℃ 実施例６１ （１）４−　［１−（４−ベンゼンスルホニルオキシフ
ェニル）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香
酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍ： ８、０４〜７．４３　（ｍ、　　９Ｈ）７、０２〜６．
８５　（ｍ、　　４Ｈ）４、１６〜３．６９　（ｍ、　
　７Ｈ）３、１５〜２．３５　（ｍ、　、３Ｈ）（２）
４−　［１−（４−ベンゼンスルホニルオキシフェニル
）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、１９６〜１９８℃ 実施例６２ （１）４−　［１−［４−（４−クロロベンゼンスルホ
ニル）オキシフェニル］−２−ピロリドン−４−イル］
メトキシ安息香酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐ
ｍ： ８、０４〜７．９４　（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ＝９．０　Ｈ
ｚ）７．８０〜７．４３　（ｍ、６Ｈ） ７．０３〜６．８５　（ｍ、４Ｈ） ４．１６〜３．７１　（ｍ、７Ｈ） ３．１５〜２．３６　（ｍ、３Ｈ） （２）４−　［１−［４−（４−クロロベンゼンスルホ
ニル）オキシフェニル〕−２−ピロリドン−４−イルコ
メトキシ安息香酸 ｒｒｌ、１９７〜１９９℃ 実施例６３〜６９ 実施例１と同様にして適当な出発原料を用いて下記実施
例６３〜６９の各化合物を得た。
実施例６３ （１）１−　（４−イソブチリルアミノフェニル）−５
−オキソ−３−ピロリジンカルボン酸ｍｐ、２０３〜２
０６℃ （２）１−　（４−イソブチリルアミノフェニル）〜５
−オキソー３−ピロリジンカルボン酸メチル ｍｐ、　　１４３〜１４５°Ｃ （３）１−　（４−イソブチリルアミノフェニル）−４
−ヒドロキシメチル−２−ピロリドンｍｐ、１５７〜１
５９℃ （４）４−　［１−（４−イソブチリルアミノフェニル
）−２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸メチ
ル ｍｐ、　　１７５〜１７７°Ｃ （５）４−　［１−（４−イソブチリルアミノフェニル
）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香、酸 ｍｐ、２４５〜２４６℃ 実施例６４ （１）１−　（４−ピバロイルアミノフェニル）５−オ
キソ−３−ピロリジンカルボン酸ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ
６）δｐｐｍ： ９．１７　（ｂｓ、ＬＨ） ７．７０〜７．４７　（ｍ、４Ｈ） ４．０４〜３．９５　（ｍ、２Ｈ） ３．５２〜３．１８　（ｍ、ＬＨ） ２．７２　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）１．２２　（
ｓ、９Ｈ） （２）１−　（４−ピバロイルアミノフェニル）−５−
オキソ−３−ピロリジンカルボン酸メチル ｍｐ、　　１５４．５〜１５７℃ （３）１−　（４−ピバロイルアミノフェニル）−４−
ヒドロキシメチル−２−ピロリドンｍｐ、１９８〜２０
１℃ （４）４−　［１−（４−ピバロイルアミノフェニル）
−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐｐｍ： ９．０８　（ｂｓ、ＩＨ） ７．９２　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７．７２〜７
．４８　（ｍ、４Ｈ） ７．０２　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９°０Ｈｚ）４．１８〜３
．６５　（ｍ、７Ｈ） ３．０６〜２．３２　（ｍ、３Ｈ） １、２４　（ｓ、　　９Ｈ） （５）４−　［１−（４−ピバロイルアミノフェニル）
−２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸 ｍｐ、２６４〜２６６°Ｃ 実施例６５ （１）１−　（４−アセチルアミノフェニル）−５−オ
キソ−３−ピロリジンカルボン酸 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ： ９．８９　（ｂｓ、ＬＨ） ７、５６　　（ｓ、４Ｈ） ４．０３〜３．９３　　（ｍ、２Ｈ） ３．５１〜３．１８　　（ｍ、１Ｈ） ２．７７〜２．６７　　（ｍ、２Ｈ） ２、０３　　（ｓ、　　３Ｈ） （２）１−　（４−アセチルアミノフェニル）−５オキ
ソ−３−ピロリジンカルボン酸メチルＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄ６）δｐｐｍ： ９．８２　（ｂｓ、ＩＨ） ７．６７〜７．４５　（ｍ、４Ｈ） ４．０７〜３．９７　（ｍ、２Ｈ） ３．７０〜３．２１　（ｍ、４Ｈ） ２．７６　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）２．０４　（
ｓ、３Ｈ） （３）１−　（４−アセチルアミノフェニル）−４−ヒ
ドロキシメチル−２−ピロリドン ｍｐ、１５９〜１６２℃ （４）４−　［１−（４−アセチルアミノフェニル）−
２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸メチル ｒｒｌ、１７７〜１８０℃ （５）４−　［１−（４−アセチルアミノフェニル）２
−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、２４０．５〜２４２．５℃ 実施例６６ （１）１−（４−ベンゾイルアミノフェニル）−５−オ
キソ−３−ピロリジンカルボン酸ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ
６）δｐｐｍ： ８．０２〜７．４６　（ｍ、１０Ｈ） ４．０７〜３．９８　（ｍ、２Ｈ） ３．５４〜３．２０　（ｍ、ＩＨ） ２．７９〜２．６９　（ｍ、２Ｈ） （２）１−　（４−ベンゾイルアミノフェニル）−５−
オキソ−３−ピロリジンカルボン酸メチル ｍｐ、　　１９１〜１９４℃ （３）１−　（４−ベンゾイルアミノフェニル）−４−
ヒドロキシメチル−２−ピロリドンＮＭＲ（ＤＭ　Ｓ　
Ｏ−ｄ　ｅ　）δｐｐｍ：８．０２〜７．４３　（ｍ、
１０Ｈ） ５．２５〜４．２９　（ｂ、ＩＨ） ４．１４〜３．００　（ｍ、４Ｈ） ２．８７〜２．１２　（ｍ、３Ｈ） （４）４−゛［１−（４−ベンゾイルアミノフェニル）
−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ｍｐ、２３６〜２３８℃ （５）４−［１−（４−ベンゾイルアミノフェニル）−
２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、２７１〜２７４℃ 実施例６７ （１）１−　（２，４−ジメトキシフェニル）−５オキ
ソ−３−ピロリジンカルボン酸 ｍｐ、１８３．５〜１８５℃ （２）１−　（２，４−ジメトキシフェニル）−５−オ
キソ−３−ピロリジンカルボン酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣ
Ａ’３）δｐｐｍニ ア、１４　（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）６．５７〜６
．４４　（ｍ、２Ｈ） ３．９４〜３．７７　（ｍ、ＩＩＨ） ３．５７〜３．２１　（ｍ、ＩＨ） ２．８７〜２．７６　（ｍ、２Ｈ） （３）１−　（２，４−ジメトキシフェニル）−４−ヒ
ドロキシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣＪ’３）δｐｐｍニ ア、１０　（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）６．５４〜６
．４１　（ｍ、２Ｈ） ３．８８〜３．４１　（ｍ、１０Ｈ） ２．９９〜２．１６　（ｍ、４Ｈ） （４）４−　［１−（２，４−ジメトキシフェニル）〜
２−ピロリドンー４−イル］メトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍ： ８．００　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７．１３　（
ｄ、ＩＨ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）６．９３　（ｄ、２Ｈ，Ｊ
＝９．０Ｈｚ）６．５５〜６．４２　（ｍ、２Ｈ） ４．１０　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）３、８９〜３
．５７　（ｍ、　　ＩＩＨ）３、１２〜２．２６　（ｍ
、　　３Ｈ）（５）４−　［１−（２，４−ジメトキシ
フェニル）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息
香酸 ｍｐ、１９８〜２００℃ 実施例６８ （１）１−　（３，４−ジメトキシフェニル）−５−オ
キソ−３−ピロリジンカルボン酸 ｍｐ、１９４〜１９５．５℃ （２）１−　（３，４−ジメトキシフェニル）−５オキ
ソ−３−ピロリジンカルボン酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣＡ
’３）δｐｐｍニ ア、４４　（ｂｓ、ＩＨ） ６．８４　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝１．３Ｈｚ）４．０９〜３
．７８　（ｍ、ＩＩＨ） ３．５５〜３．１９　（ｍ、１）（） ２．９３〜２．８２　（ｍ、２Ｈ） （３）１−　（３，４−ジメトキシフェニル）−４−ヒ
ドロキシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤ（、／３）δｐｐｍ＋ ７．４６　（ｓ、ＩＨ） ６．９７〜６．７７　（ｍ、２Ｈ） ４．０３〜３．５０　（ｍ、１０Ｈ） ２．８７〜１．９３　（ｍ、４Ｈ） （４）４−［１−（３，４−ジメトキシフェニル）−２
−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸メチル ｍｐ、１４５．５〜１４７．５℃ （５）４−　［１−（３，４−ジメトキシフェニル）−
２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、１８１〜１８２℃ 実施例６９ （１）１−　（２，５−ジメトキシフェニル）−５＝オ
キソ−３−ピロリジンカルボン酸 ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍ： ６．８４　（ｓ、３Ｈ） ３．９７　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）３．７８　（
ｓ、３Ｈ） ３．７５　（ｓ、３Ｈ） ３．６０〜３．２５　（ｍ、ＬＨ） ２．９３〜２．８２　（ｍ、２Ｈ） （２）１−　（２，５−ジメトキシフェニル）−５−オ
キソ−３−ピロリジンカルボン酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣ
Ａ’３　）δｐｐｍ： ６．８５　　（ｓ、　　３Ｈ） ３．９５　　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７．０ｌ−１ｚ）３、７
７　　（ｂｓ、　　９Ｈ） ３、６０〜３．２４　　（ｍ、　　ＬＨ）２．８９〜２
°　７７　　Ｃｍ、　　２Ｈ）（３）１−　（２，５−
ジメトキシフェニル）−４−ヒドロキシメチル−２−ピ
ロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３）δｐｐｍ： ６．９７〜６．７２　（ｍ、３Ｈ） ３°９８〜３．５１　（ｍ、１０Ｈ） ２．８５〜１．７８　（ｍ、４Ｈ） （４）４−　［１−（２，５−ジメトキシフェニル）−
２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐｐｍ： ８．００　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）６．９８〜６
．８４　（ｍ、５Ｈ） ４．１０　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）４、００〜３
．６３　　（ｍ、　　ＩＩＨ）３、１５〜２．２９　　
（ｍ、３Ｈ） （５）４−　［１−（２，５−ジメトキシフェニル）２
−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、１６８〜１６９．５℃ 実施例７０ （１）４−　［１−（４−アミノフェニル）−２−ピロ
リドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ４−　［１−（４−アセチルアミノフェニル）−２−ピ
ロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸メチル１．７０
ｇをメタノール３０７ｍ’に溶解し、濃硫酸０．２４ｚ
ｌを加えて２３時間加加熱流下攪拌した。次いで、反応
液を減圧濃縮し、残渣に水と中和量の炭酸水素ナトリウ
ムを加え、析出する結晶を炉取、水洗の後目的物１．４
７ｇを得た。
ｍｐ、１３６〜１３８℃ （２）４−　［１−（４−アミノフェニル）−２ピロリ
ドン−４−イル］メトキシ安息香酸実施例１−（５）と
同様にして合成した。
ｍｐ、２０４〜２０７°Ｃ 実施例７１〜７３ 実施例２７−（３）〜（６）と同様にして適当な出発原
料を用いて下記実施例７１〜７３の各化合物を得た。
実施例７１ （１）１−　（４−アリルオキシフェニル）−５オキソ
−３−ピロリジンカルボン酸メチルｍｐ、６２．５〜６
４．５℃ （２）１−　（４−アリルオキシフェニル）−４−ヒド
ロキシメチル−２−ピロリドン ｍｐ、７９〜８１℃ （３）４−［１−（４−アリルオキシフェニル）２−ピ
ロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ｍｐ、　　８３〜８４℃ （４）４−　［１−（４−アリルオキシフェニル）−２
−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、１８０〜１８１．５℃ 実施例７２ （１）１−　（４−メタリルオキシフェニル）−５＝オ
キソ−３−ピロリジンカルボン酸メチルｍｐ、５８〜６
１℃ （２）１−　（４−メタリルオキシフェニル）−４−ヒ
ドロキシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲＣＣＤＣｌ３　）δｐｐｍニ ア、４７　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）６．９０　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）５．０２　（ｄ、２Ｈ，Ｊ
＝８．８Ｈｚ）４．４１　（ｓ、２Ｈ） ４．０１〜３．５３　（ｍ、４Ｈ） ２．８８〜２．２１　（ｍ、３Ｈ） ２、１３〜１．９１　　（ｂ、　　ＩＨ）１、８１　　
（ｓ、　　３Ｈ） （３）４−［１−（４−メタリルオキシフェニル）−２
−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ｍｐ、９９〜１００℃ （４）４−　［１−（４−メタリルオキシフェニル）−
２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｌ）、１９２〜１９４℃ 実施例７３ （１）１−　［４−（２−ベンジルオキシエトキシ）フ
ェニル］−５−オキソー３−ピロリジンカルボン酸メチ
ル ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）δｐｐｍニ ア、５１〜７．２８　（ｍ、７Ｈ） ６．９１　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）４、６２　（
ｓ、　　２Ｈ） ４、１９〜３．６３　　（ｍ、９Ｈ） ３、５４〜３．１８　　（ｍ、　　ＩＨ）２、９２〜２
．８１　　（ｍ、２Ｈ） （２）１−　［４−（２−ベンジルオキシエトキシ）フ
ェニルコー４−ヒドロキシメチル−２−ピロリドン ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）δｐｐｍニ ア、４７　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７．３３　（
ｂｓ、５Ｈ） ６．９０　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）４．６２　（
ｓ、２Ｈ） ４．１８〜３．５０　（ｍ、８Ｈ） ２．８９〜１．９８　（ｍ、４Ｈ） （３）４−　［１−［４−（２−ベンジルオキシエトキ
シ）フェニル］−２−ピロリドンー４−イル］メトキシ
安息香酸メチル ｍｐ、８６〜８９℃ （４）４−　［１−［４−（２−ベンジルオキシエトキ
シ）フェニルコー２−ピロリドンー４イル］メトキシ安
息香酸 ｍｐ、１４３〜１４４℃ 実施例７４ （１）４−　［１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）
フェニル］−２−ピロリドンー４−イルコメトキシ安息
香酸メチル 実施例３４−　（１）と同様の方法によって、４−　［
１−［４−（２−ベンジルオキシエトキシ）フェニル］
−２−ピロリドンー４−イル］メトキシ安息香酸メチル
１３．０ｇを出発原料として目的物９．３８ｇを得た。
ｍｐ、１２９〜１３１℃ （２）４−　ｃｉ−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）
フェニルコー２−ピロリドンー４−イル］メトキシ安息
香酸 実施例１−（５）と同様にして、上記目的化合物を合成
した。
ｍｐ、２０７〜２０９°Ｃ 実施例７５ （１）４−　［１−（４−イソブトキシフェニル）−２
−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ４−　［１−（４−ヒドロキシフェニル）−２ピロリド
ン−４−イルコメトキシ安息香酸メチル２．００ｇ、イ
ソブチルプロミド２．５８ｖｌ！及び炭酸カリウム３．
２４ｇをジメチルホルムアミド２０１１に溶解、懸濁さ
せ、８０℃で２４時間加熱攪拌後、溶媒を減圧留去し、
得られる残渣に水を加えて沈殿を炉取した。これを約２
０％含水メタノールから再結晶して目的物２．１１ｇを
得た。
ｍｐ、１１７．５〜１１８．５℃ （２）４−　［１−（４−イソブトキシフェニル）＝２
−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 実施例１−　（５）と同様にして、上記目的化合物を合
成した。
ｍｐ、２０３〜２０４．５℃ 実施例７６〜８１ 実施例７５と同様にして適当な出発原料を用いて下記実
施例７６〜８１の各化合物を得た。
実施例７６ （１）４−　［１−（４−イソペンチルオキシフェニル
）−２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸メチ
ル ｍｐ、１１４〜１１５℃ （２）４−　［１−（４−イソペンチルオキシフェニル
）−２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸 ｍｐ、１９７．５〜１９８．５℃ 実施例７７ （１）　４−　［１−（４−ｎ−ペンチルオキシフェニ
ル）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メ
チル ｍｐ、　　１１２．５〜１１４°Ｃ （２）　４−　［１−（４−ｎ−ペンチルオキシフェニ
ル）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、１９０〜１９１°Ｃ 実施例７８ （１）　４−　［１−（４−ｎ−ヘキシルオキシフェニ
ル）−２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸メ
チル ｍｐ、１０８．５〜１０９．５℃ （２）　４　　　［１−（４−ｎ−へキシルオキシフェ
ニル）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、１９３〜１９４℃ 実施例７９ （１）４−”　［１−［４−（４−メトキシベンジルオ
キシ）フェニル］−２−ピロリドンー４−イルコメトキ
シ安息香酸メチル ｍｐ、１１４〜１１５．５°Ｃ （２）　４−［１−［４−（４−メトキシベンジルオキ
シ）フェニル］−２−ピロリドンー４＝イルコメトキシ
安息香酸 ｍｐ、２０７．５〜２０８．５°Ｃ 実施例８０ （１）４−　［１−（４−シクロペンチルオキシフェニ
ル）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メ
チル ｍｐ、　　１ｉｏ〜１１１℃ （２）４−　［１−（４−シクロペンチルオキシフェニ
ル）−２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸 ｍｐ、１９４．５〜１９６℃ 実施例８１ （１）４−　［１−（４−シクロへキシルメトキシフェ
ニル）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸
メチル ｍｐ、　　１５５〜１５６．５℃ （２）４−　［１−（４−シクロヘキシルメトキシフェ
ニル）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、２２０〜２２２℃ 実施例８２ （１）４−　［１−［４−（２−メタンスルホニルオキ
シエトキシ）フェニルコー２−ピロリドンー４−イル］
メトキシ安息香酸メチル４−　［１−［４−（２−ヒド
ロキシエトキシ）フェニル］−２−ピロリドンー４−イ
ル］メトキシ安息香酸メチル３．ＯＯｇを塩化メチレン
３０ｚｌに溶解後水冷し、これに塩化メタンスルホニル
０．９０ｚＡ’とトリエチルアミン２．１６ｚＡ’とを
それぞれ加えた後、室温下１６時間攪拌した。反応混合
物を減圧濃縮後、酢酸エチル６０ｘｌを加え、水で３回
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した
。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにチャー
ジし、クロロホルムで溶出して、粉末状の目的物３．３
９ｇを得た。
元素分析値：　Ｃ２２Ｈ２ｓ　ＮＯｓ　Ｓ（分子量４６
３．５０９） 計算値　Ｃ５７，０１％　　Ｈ５，４４％　Ｎ３．０２
％実測値　Ｃ５６，８６％　　　８５．４８％　Ｎ２．
７８％（２）４−　［１−［４−［２−（１−イミダゾ
リル）エトキシコフェニルコー２−ピロリドン−４−イ
ル］メトキシ安息香酸メチル イミダゾール０．５３ｇをジメチルホルムアミド２．５
ｘｌに溶解させ、Ｎ２置換後、６０％水素化ナトリウム
０．３１ｇを加えて８０℃で２０分間加熱攪拌した。反
応液を一旦室温に戻し、これに４−　［１−［４−（２
−メタンスルホニルオキシエトキシ）フェニルコー２−
ピロリドンー４イル］メトキシ安息香酸メチル３．３５
ｇをジメチルホルムアミド５．０２／に溶解して加え、
再度８０℃で４時間加熱攪拌後、減圧濃縮した。得られ
る残渣をｎ−ヘキサンで３回洗浄し、酢酸エチル８０ｙ
ｌに溶解させて水で３回洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧濃縮した。これをシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにチャージし、クロロホルムで洗浄後、
クロロホルム−メタノール（２０：　１　（Ｖ／Ｖ）　
’）混合溶媒で溶出し、減圧濃縮後、約３０％含水メタ
ノールから結晶化して目的物２．５３ｇを得た。
ｍｐ、１３５〜１３８℃ （３）４−　［１−［４−［２−（１−イミダゾリル）
エトキシ］フェニル］−２−ピロリドン−４−イルコメ
トキシ安息香酸 実施例１−（５）と同様にして、上記目的化合物を合成
した。
ｍｐ、２４１〜２４４℃ 実施例８３ （１）４−　［１−（４−ブロモメチルフェニル）−２
−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル ４−　［１−（４４リル）−２−ピロリドン４−イルコ
メトキシ安息香酸メチル３．ＯＯｇ及びＮ−ブロモスク
シンイミド１．８１ｇを四塩化炭素５０ｘｌに懸濁させ
、これに過酸化ベンゾイル０．２１ｇを加えて加熱還流
下５時間攪拌した。
反応混合物を濾過後、減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル６
０ｙ／に溶解させ、炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮
した。得られる油状物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにチャージし、クロロホルム−ｎ−へキサン（１
：　１　（Ｖ／Ｖ）　）混合溶媒で溶出して、目的物２
．１０ｇを得た。
元素分析値：Ｃ２ｏＨ２ｏＢｒＮＯ４ （分子量４１８．２９１） 計算値　Ｃ５７，４３％　　Ｈ４，８２％　Ｎ３．３５
％実測値　Ｃ５７，５８％　　８４．８５％　Ｎ３．１
７％（２）４−　［１−［４−（１−イミダゾリル）メ
チルフェニル］−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ
安息香酸メチル 実施例８２−（２）と同様にして４−［１（４−ブロモ
メチルフェニル］−２−ピロリドン−４−イル］メトキ
シ安息香酸メチル２．０６ｇを出発原料として、無晶形
の上記目的物１．５０ｇを得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’３　）δｐｐｍニ ア、９９　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）７．６３　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）７．５２　（ｓ、ＬＨ） ７．１６　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）７．０７　（
ｓ、ＬＨ） ６．９６〜６．８６　（ｍ、３Ｈ） ５．０８　（ｓ、２Ｈ） ４．１６〜３．７２　（ｍ、７Ｈ） ３．１７〜２．３２　（ｍ、３Ｈ） （３）４−　［１−［４−（１−イミダゾリル）メチル
フェニルゴ−２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息
香酸 実施例１−（５）と同様にして、上記目的化合物を合成
した。
ｍｐ、２５０〜２５３℃（分解） 実施例８４ （１）　４−　［１−（４−ｆｅｒｔ−ブトキシフェニ
ル）−２−ピロリドン−４−イル］メトキシ安息香酸メ
チル ｔｅｒｔ−ブタノール１．５８ｇ、ジシクロへキシルカ
ルボジイミド４．０４ｇ及び塩化第一銅３５■を塩化メ
チレン５ｘｌに懸濁し、遮光して４日間室温にて攪拌後
、４−　［１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−ピロ
リドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル１．５２ｇ
を塩化メチレン３０ｘｌに懸濁させて加え、更に１４時
間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮後、クロロホルムを
加えて不溶物を消去し、炉液をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにチャージし、クロロホルムで溶出して、
目的物０．９３ｇを得た。
ｍｐ、１２６〜１２７．５°Ｃ （２）４−　［↓−（４−ｆｅｒｌ−ブトキシフェニル
）２−ピロリドン−４−イルコメトキシ安息香酸 実施例１−（５）と同様にして、上記目的化合物を合成
した。
ｍｐ、２０３〜２０５℃ 実施例８５ （１）４−　［１−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチ
ルプロポキシ）フェニル］−２−ピロリドンー４−イル
コメトキシ安息香酸メチル４−　［１−（４−ヒドロキ
シフェニル）−２ピロリドン−４−イルコメトキシ安息
香酸メチル２．００ｇ及び炭酸カリウム１．６２ｇをジ
メチルホルムアミド２０１１に溶解、懸濁し、これにイ
ソブチレンオキシド１．０６ｚＡ’を加えて８０℃で１
７時間攪拌後、イソブチレンオキシド１．０６１１を追
加し、更に５時間加熱攪拌した。反応混合物を減圧濃縮
後、水を加えて不溶の沈殿を炉取し、水洗し、約３０％
含水メタノールから再結晶して、目的物２．１５ｇを得
た。
ｍｐ、８９．５〜９０．５°Ｃ （２）４−　［：１−　［４−（２−ヒドロキシ−２メ
チルプロポキシ）フェニル］−２−ピロリドンー４−イ
ルコメトキシ安息香酸 実施例１−（５）と同様にして、上記目的化合物を合成
した。
ｍｌ）、１７５〜１７６℃ 実施例８６ ４−　［１−［４−（２−ヒドロキシシクロへキシルオ
キシ）フェニルゴー２−ピロリドン−４−イル］メトキ
シ安息香酸 ４−　［１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−ピロリ
ドン−４−イル］メトキシ安息香酸メチル２、ＯＯｇ及
びナトリウムメトキシド６３■を無水メタノール２０１
１に溶解し、これにシクロヘキセンオキシド合計５．３
４ｘｌを６回に分けて（０，８９ｚ／／１回×６回）、
３日間に亘り加えながら加熱還流した。反応混合物を減
圧濃縮後、残渣をｎ−ヘキサンで３回洗浄し、塩析後、
酢酸エチル約１００ｚ／で抽出し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧濃縮して、油状物（メチルエステル体
）を得た。
これを単離精製することなく、約２０％含水メタノール
７５１１に溶解し、水酸化ナトリウム０．４０ｇを加え
て６０℃で１８時間加熱攪拌した。反応混合物を減圧濃
縮し、水と１Ｎ塩酸１０１１とを加え、析出結晶を炉取
後、約２０％含水メタノールから再結晶して、目的物２
．２４ｇを得た。
ｍｐ、　　２０３〜２０８℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）　　δｐｐｍニア、　　８９
　　（ｄ、　　２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）７、５１　　（
ｄ、　　２）１．　　Ｊ＝９．０Ｈｚ）７、０８〜６．
９０　　（ｍ、　　４Ｈ）４、９５〜４．６６　　（ｍ
、　　ＬＨ）４、１６〜３．４０　　（ｍ、　　６Ｈ）
３．１０〜２°　２１　　（ｍ、　　３Ｈ）２、１３〜
１．０１　　（ｍ、８Ｈ） 実施例８７ ４−［１−［４−（２−ヒドロキシシクロペンチルオキ
シ）フェニル］−２−ピロリドン＝４−イル］メトキシ
安息香酸 実施例８６と同様にして、上記目的化合物を合成した。
ｍｐ、１７６〜１７８℃ 実施例８８及び８９ 実施例８５と同様にして適当な出発原料を用いて下記実
施例８８及び８９の各化合物を得た。
実施例８８ （１）４−　［１−［４−（１−ヒドロキシシクロヘキ
サン−１−イル）メトキシフェニル］２−ピロリドン−
４−イル］メトキシ安息香酸メチル ｍｐ、１３８〜１４１’Ｃ （２）４−　［１−［４−（１−ヒドロキシシクロヘキ
サン−１−イル）メトキシフェニル］２−ピロリドン−
４−イルコメトキシ安息香酸 ｍｐ、　　１９０．５〜１９３°Ｃ 実施例８９ （１）４−　［１−［４−（１−ヒドロキシシクロペン
タン−１−イル）メトキシフェニル］２−ピロリドン−
４−イルコメトキシ安息香酸メチル ｍｐ、　　１２８〜１３０℃ （２）４−　［１−［４−（−１−ヒドロキシシクロペ
ンタン−１−イル）メトキシフェニル］−２−ピロリド
ン−４−イル］メトキシ安息香酸 ｍｐ、　　１８５〜１８７℃ 実施例９０ 実施例７５と同様にして適当な出発原料を用いて下記各
化合物を得た。
（１）４−　［１−［４−（３，４，５−）リフトキシ
ベンジルオキシ）フェニル］−２−ピロリドンー４−イ
ル］メトキシ安息香酸メチルＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δｐ
ｐｍニ ア、９９　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）７．５１　（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）６．９８　（ｄ、２Ｈ，Ｊ
＝８．８Ｈｚ）６．９１　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ
）６．６４　（ｓ、２Ｈ） ４．９７　（ｓ、２Ｈ） ４．２５〜３．５８　（ｍ、１６Ｈ） ３．１５〜２．４０　（ｍ、３Ｈ） （２）ｌ［１−［４−（３，４，５−トリメトキシベン
ジルオキシ）フェニル］−２−ピロリドンー４−イル］
メトキシ安息香酸 ｍｐ、１４５〜１４７℃ 次に、本発明誘導体を用いた製剤例及び薬理試験例を挙
げる。
製剤例　１ 実施例２の化合物　　　　　　　　２００■ブドウ糖　
　　　　　　　　　　　　２５０■注射用蒸留水に、実
施例２の化合物及びブドウ糖を溶解させた後、５　ｚＡ
’アンプルに注入し、窒素置換後、１２１℃で１５分間
加圧滅菌を行なって上記組成の注射剤を得る。
製剤例　２ 実施例３の化合物　　　　　　　　１００ｇアビセル（
商標名、旭化威（株）製）４０ｇコーンスターチ　　　
　　　　　　　　３０ｇステアリン酸マグネシウム　　
　　　　２ｇＴＣ−５（商標名、信越化学工業　　１０
ｇ（株）製、ヒドロキシプロピルメ チルセルロース） ポリエチレングリコール−６０００３ｇヒマシ油　　　
　　　　　　　　　　　４０ｇエタノール　　　　　　
　　　　　　　４０ｇ実施例３の化合物、アビセル、コ
ーンスターチ及びステアリン酸マグネシウムを、混合研
磨後、糖衣Ｒ１０ｍｍのキネで打錠する。得られた錠剤
をＴＣ−５、ポリエチレングリコール−６０００゜ヒマ
シ油及びエタノールからなるフィルムコーティング剤被
覆を行い、上記組成のフィルムコーティング錠を製造す
る。
製剤例　３ 実施例４の化合物　　　　　　　　　　２ｇ精製ラノリ
ン ｇ サラシミツロウ ｇ サラシミッロウを加温して液状となし、次いで実施例４
の化合物、精製ラノリン及び白色ワセリンを加え、液状
となるまで加温後、固化しはじめるまで撹拌して、上記
組成の軟膏剤を得る。
〔薬理試験例■〕
この試験には、ウィスター系雄性ラット（体重約２００
　ｇ）を、屠殺後肝臓を摘出し、冷クレブス−リンゲル
（Ｋｒｅｂｓ−Ｒｉｎｇｅｒ）重炭酸緩衝液（以下ＫＲ
Ｂと略す）で肝潅流を行ない、細片とした肝細片を利用
し、下記文献を参考として、以下の操作に従い実施した
。
ｏＢｏｒｌｘ　　Ｗ、　Ｍ、　ａｎｄ　　５ｆｅｅｌｅ
、　Ｌ、＾、　（１９７３）、　ＢｉｏｃｈｉｍＢｉｏ
ｐｈｙｓ、Ａｃｔａ　、　　３０６．８５−９４ｏＴｓ
ｕｉｉｔａ、　Ｙ、　、　Ｋｕｒｏｄａ、　Ｍ、　、　
Ｓｈｉｍａｄａ、　Ｙ、　、　ＴａｎｚａｗａＫ　　Ａ
ｒａｉ　　Ｍ、　　Ｋａｎｅｋｏ、１．、Ｔａｎａｋａ
、Ｍ、、Ｍａｓｕｄａ、ＨＴａｒｕｍｉ、　Ｃ，、Ｗａ
！ａｎａｂｅ、　Ｙ、　ａｎｄ　Ｆｕｊｉｉ、　Ｓ、　
（１９８６）Ｂｉｏｃｈｉｍ、　Ｂｉｏｐｈｙｓ、　Ａ
ｃｔａ　、　　８７７、５０−６０即ち、上記肝細片１
００ｍｇを秤取し、［１１４Ｃ］酢酸（２μＣｉ／２μ
ｍｏ　ｌ）及び所定濃度となる量の供試化合物を含むＫ
ＲＢ１７／中に加え、９５％０２−５％ＣＯ２気相下で
３７℃下に２時間振盪反応を行なわせる。その後、１５
％水酸化ナトリウム・エタノール液（ｌｙ／）を加えて
、更に７５℃で２時間加熱する。冷却後、石油エーテル
（２２Ａ’）を加えて振盪・分離操作を行ない、石油エ
ーテル層（上層）を抽出する。これを濃縮乾固の後、ジ
ギトニン溶液（ｌｚ７′）を加えて、ステロールを沈澱
画分として分取する。この画分をジエチルエーテルで洗
浄後、酢酸１　ｙｌに溶解させ、放射能を測定して、ス
テロール生合成活性を求める。
供試化合物を使用しない対照（コントロール）につき、
上記と同一操作を行なって得られた値を基準として、そ
のステロール生合成活性を５０％阻害する各供試化合物
の使用濃度（μＭ）を、５０％阻害濃度として求める。
一方、上記方法において、石油エーテル抽出により得ら
れる下層に塩酸を加え、これを酸性下で石油エーテル抽
出し、抽出液を濃縮後、同様にして放射能を測定して、
脂肪酸合成活性を求める。
また同様にして対照（コントロール）の脂肪酸合成活性
値を基準として、各供試化合物の脂肪酸合成活性５０％
阻害濃度を求める。
得られた結果を下記第１表に示す。
（以 上）

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ［１］一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１はハロゲン原子、低級アルキル基、シクロ
    アルキル基、水酸基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子
    もしくは低級アルキル基を有するフェノキシ基、カルボ
    キシル基、低級アルキルスルホニルオキシ基、ハロゲン
    原子を置換基として有することのあるフェニルスルホニ
    ルオキシ基、低級アルキルスルホニルオキシ低級アルコ
    キシ基、アミノ基、低級アルカノイルアミノ基、ベンゾ
    イルアミノ基、低級アルケニルオキシ基、フェニル低級
    アルコキシ低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルコキ
    シ基、フェニル環上に置換基としてハロゲン原子、低級
    アルキル基及び低級アルコキシ基からなる群から選ばれ
    る基を１〜３個有することのあるフェニル低級アルコキ
    シ基、ハロゲン置換低級アルキル基、ヒドロキシ基を置
    換基として有することのある炭素数３〜８のシクロアル
    キルオキシ基、ヒドロキシ基を置換基として有すること
    のある炭素数３〜８のシクロアルキル置換低級アルコキ
    シ基、イミダゾリル低級アルキル基又はイミダゾリル低
    級アルコキシ基を示し、ｋは０又は１〜３の整数を示す
    。また（Ｒ＾１）＿ｋは低級アルキレンジオキシ基であ
    ってもよい。 Ａは低級アルキレン基又は低級アルキレンオキシ基を示
    し、ｌは０又は１である。 Ｂはメチレン基又はカルボニル基を示す。 ｍは０又は１である。 Ｄは低級アルキレン基を示す。 Ｅは低級アルキレン基又は低級アルケニレン基を示し、
    ｎは０又は１である。 Ｒ＾２は水素原子又は低級アルキル基を示す。〕で表わ
    されるヘテロ環を有するフェニルカルボン酸誘導体又は
    その塩。
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