JPH03273253A - 画像の多面焼付け方法および多面焼付けデータ作成装置 - Google Patents
画像の多面焼付け方法および多面焼付けデータ作成装置Info
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- JPH03273253A JPH03273253A JP11200690A JP11200690A JPH03273253A JP H03273253 A JPH03273253 A JP H03273253A JP 11200690 A JP11200690 A JP 11200690A JP 11200690 A JP11200690 A JP 11200690A JP H03273253 A JPH03273253 A JP H03273253A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、いわゆる殖版機を用いて所望の画像を感光
材上に多面焼付けする多面焼付は方法およびそのための
装置に関する。
材上に多面焼付けする多面焼付は方法およびそのための
装置に関する。
(従来の技術)
原画フィルムの画像を48版などの感光材上に多数配列
して焼付ける装置として、いわゆる殖版機が用いられて
いる。殖版機で画像を多面焼付けする場合に、1枚の刷
版でできるだけ多くの画像を1度に印刷できるように、
画像の配列を工夫するのが普通である。
して焼付ける装置として、いわゆる殖版機が用いられて
いる。殖版機で画像を多面焼付けする場合に、1枚の刷
版でできるだけ多くの画像を1度に印刷できるように、
画像の配列を工夫するのが普通である。
第20A図は、多面焼付けされた刷版の例を示す平面図
である。第20B図は、原板フィルムOFとこれに含ま
れる原画像OIを示す平面図である。81版PPには、
原画像OIから4つの同一の画像Ia−Idが焼付けら
れている0画像Ic。
である。第20B図は、原板フィルムOFとこれに含ま
れる原画像OIを示す平面図である。81版PPには、
原画像OIから4つの同一の画像Ia−Idが焼付けら
れている0画像Ic。
Idは、画像Ia、Ibを1800回転させた状態で焼
付けられており、画像Ia、IbとIc。
付けられており、画像Ia、IbとIc。
Idとは互いに入れ違いになるように配列されている。
自動殖版機では、このような傭々の画像を焼付ける際に
、他の画像の領域を露光しないようにするために、自動
マスクを呼ばれる装置を備えているものがある。第20
A図には、画像1aを焼付ける際の自動マスクの開口部
Wを破線で示している。自動マスクは、上下左右にある
4枚のマスク板が移動して開口部Wの大きさを調整でき
るようになっており、従って、開口部Wの形状は長方形
である。この開口部W内の領域は露光され、開口部Wの
外の領域は露光されない。
、他の画像の領域を露光しないようにするために、自動
マスクを呼ばれる装置を備えているものがある。第20
A図には、画像1aを焼付ける際の自動マスクの開口部
Wを破線で示している。自動マスクは、上下左右にある
4枚のマスク板が移動して開口部Wの大きさを調整でき
るようになっており、従って、開口部Wの形状は長方形
である。この開口部W内の領域は露光され、開口部Wの
外の領域は露光されない。
ところが、第20A図のように、画像IaとICとが入
れ違いに配置されていると、自動マスクの開口部Wの中
に、画像Icが焼付けられる領域の一部Rclが含まれ
てしまう場合がある。第20AI!Iに示すように自動
マスクの開口部Wを設定して画像raを焼付けると、画
像Icが焼付けられるはずの領域の一部Rclが同時に
露光されてしまう、ところで、ポジタイプの感光材を用
いる場合には、露光した領域には印刷の際にインクが乗
らず、一方、露光しない領域にはインクが乗る。m像I
aを焼付けると領域Rclが同時に露光されてしまうの
で、その後、画像Icを焼付けたとしても領域Rclは
インクが乗らない領域になってしまうという不具合が生
じる。
れ違いに配置されていると、自動マスクの開口部Wの中
に、画像Icが焼付けられる領域の一部Rclが含まれ
てしまう場合がある。第20AI!Iに示すように自動
マスクの開口部Wを設定して画像raを焼付けると、画
像Icが焼付けられるはずの領域の一部Rclが同時に
露光されてしまう、ところで、ポジタイプの感光材を用
いる場合には、露光した領域には印刷の際にインクが乗
らず、一方、露光しない領域にはインクが乗る。m像I
aを焼付けると領域Rclが同時に露光されてしまうの
で、その後、画像Icを焼付けたとしても領域Rclは
インクが乗らない領域になってしまうという不具合が生
じる。
この不具合は、自動マスクの開口部Wを1つの画像に外
接する長方形の大きさにまで小さくしても、各画像に外
接する長方形が互いに部分的に重なるような場合には解
消することができない。
接する長方形の大きさにまで小さくしても、各画像に外
接する長方形が互いに部分的に重なるような場合には解
消することができない。
従来は、上記のような不具合を防止するために、ビール
オフフィルムで作成したマスク〈以下、rフィルムマス
ク」と呼ぶ)FMを用意して原板フィルムOFに重ね、
このフィルムマスクFMによって領域Rclをマスクす
るようにしていた(第20A図、第20B図参照)。
オフフィルムで作成したマスク〈以下、rフィルムマス
ク」と呼ぶ)FMを用意して原板フィルムOFに重ね、
このフィルムマスクFMによって領域Rclをマスクす
るようにしていた(第20A図、第20B図参照)。
(発明が解決しようとする課題)
しかし、このようなフィルムマスクFMの形状や位置は
1画像Ia〜Idの形状や配列に依存して変えねばなら
ず、その決定にかなりの熟練を要するという問題があっ
た。
1画像Ia〜Idの形状や配列に依存して変えねばなら
ず、その決定にかなりの熟練を要するという問題があっ
た。
(発明の目的)
この発明は、従来技術における上述の課題を解決するた
めになされたものであり、角線した技術者を必要とせず
に多面焼付けをすることができる画像の多面焼付は方法
およびこの方法に用いる装置を提供することを目的とす
る。
めになされたものであり、角線した技術者を必要とせず
に多面焼付けをすることができる画像の多面焼付は方法
およびこの方法に用いる装置を提供することを目的とす
る。
(課題を解決するための手段)
上述の課題を解決するため、この発明では、原板上の画
像とレジスタマークとを感光材上に多面焼付けするに際
して、前記感光材上に焼付ける複数の画像を、その各画
像に外接する長方形が互いに部分的に重なるように配置
する画像の多面焼付は方法において、 (a) 前記
原板上の領域のうちで、前記画像と前記レジスタマーク
とを除く領域を遮光するための第1のマスクと、前記感
光材上の領域のうちで、前記複数の画像の領域と前記レ
ジスタマークの領域とを遮光するための第2のマスクと
を作成し、 (b) 前記原板と前記第1のマスクと
を重ねて、前記感光材上に前記画像と前記レジスタマー
クとを多面焼付けした後、 (c) 前記感光材と前
記第2のマスクとを重ねて路光することにより、前記感
光材上の領域のうちで多面付けされた前記画像と前記レ
ジスタマーク以外の領域を鱈光する。
像とレジスタマークとを感光材上に多面焼付けするに際
して、前記感光材上に焼付ける複数の画像を、その各画
像に外接する長方形が互いに部分的に重なるように配置
する画像の多面焼付は方法において、 (a) 前記
原板上の領域のうちで、前記画像と前記レジスタマーク
とを除く領域を遮光するための第1のマスクと、前記感
光材上の領域のうちで、前記複数の画像の領域と前記レ
ジスタマークの領域とを遮光するための第2のマスクと
を作成し、 (b) 前記原板と前記第1のマスクと
を重ねて、前記感光材上に前記画像と前記レジスタマー
クとを多面焼付けした後、 (c) 前記感光材と前
記第2のマスクとを重ねて路光することにより、前記感
光材上の領域のうちで多面付けされた前記画像と前記レ
ジスタマーク以外の領域を鱈光する。
なお、第2のマスクは、感光材上における複数の画像の
焼付は位置とそれらの向きとを表す多面付はデータと、
第1のマスクの形状を表す第1マスクデータとに基づい
て作成するとともに、ステップ(b)における多面焼付
けは、前記多面付はデータに基づいて殖版機が行っても
よい。
焼付は位置とそれらの向きとを表す多面付はデータと、
第1のマスクの形状を表す第1マスクデータとに基づい
て作成するとともに、ステップ(b)における多面焼付
けは、前記多面付はデータに基づいて殖版機が行っても
よい。
また、第2のマスクは、多面付けされた複数の画像の領
域を遮光する複数の画像マスク部のそれぞれについて、
各画像マスク部に瞬接した所定の位置に、各画像マスク
部ごとに興なる番号の形状を形取った番号マスク部を備
えていてもよい。
域を遮光する複数の画像マスク部のそれぞれについて、
各画像マスク部に瞬接した所定の位置に、各画像マスク
部ごとに興なる番号の形状を形取った番号マスク部を備
えていてもよい。
さらに、この発明では、殖版機を用いて原板上の画像と
レジスタマークとを感光材上に多面焼付けする際に、前
記感光材上に焼付ける複数の画像を、その各画像に外接
する長方形が互いに部分的に重なるように配置する画像
の多面焼付は方法において使用する装置において、 (
a) 前記原板上の前記画像と前記レジスタマークと
の形状および位置に基づいて、前記原板上の領域のうち
で前記画像と前記レジスタマークとを除く領域を遮光す
るための第1のマスクの形状を表わす第1マスクデータ
を作成する第1マスクデータ作成手段と、(b) 前
記第1マスクデータ並びに前記感光材上における前記複
数の画像の位置および方向に基づいて、前記感光材上の
領域のうちで前記複数の画像の領域と前記レジスタマー
クの領域とを遮光するための第2のマスクの形状を表わ
す第2マスクデータを作成する第2マスクデータ作成手
段と、(c) 前記殖版機を制御するためのデータと
して、前記感光材上における前記複数の画像の位置およ
び方向を表わす多面付はデータを作成する多面付はデー
タ作成手段とを備える。
レジスタマークとを感光材上に多面焼付けする際に、前
記感光材上に焼付ける複数の画像を、その各画像に外接
する長方形が互いに部分的に重なるように配置する画像
の多面焼付は方法において使用する装置において、 (
a) 前記原板上の前記画像と前記レジスタマークと
の形状および位置に基づいて、前記原板上の領域のうち
で前記画像と前記レジスタマークとを除く領域を遮光す
るための第1のマスクの形状を表わす第1マスクデータ
を作成する第1マスクデータ作成手段と、(b) 前
記第1マスクデータ並びに前記感光材上における前記複
数の画像の位置および方向に基づいて、前記感光材上の
領域のうちで前記複数の画像の領域と前記レジスタマー
クの領域とを遮光するための第2のマスクの形状を表わ
す第2マスクデータを作成する第2マスクデータ作成手
段と、(c) 前記殖版機を制御するためのデータと
して、前記感光材上における前記複数の画像の位置およ
び方向を表わす多面付はデータを作成する多面付はデー
タ作成手段とを備える。
(作用〉
第1のマスクは、画像の領域の形状とレジスタマークの
位置および形状とがきまっていれば容易に作成できる。
位置および形状とがきまっていれば容易に作成できる。
また、第2のマスクも多面付けの配置が決まっていれば
容易に作成できる。第1のマスクを用いて各画像とレジ
スタマークとを感光材上に焼付け、第2のマスクを用い
て感光材上の他の部分を露光すれば、所望の刷版が得ら
れる。
容易に作成できる。第1のマスクを用いて各画像とレジ
スタマークとを感光材上に焼付け、第2のマスクを用い
て感光材上の他の部分を露光すれば、所望の刷版が得ら
れる。
従って、マスクの作成と画像の多面焼付けとを含めた工
程の全般にわたって、熟練を要さずに容易に多面焼付け
ができる。
程の全般にわたって、熟練を要さずに容易に多面焼付け
ができる。
殖版機による多面焼付けを行なうに際して、第2のマス
クの作成時に使用した多面付はデータを利用するように
すれば、殖版機を制御するためのデータを新たに作成す
る必要がない。
クの作成時に使用した多面付はデータを利用するように
すれば、殖版機を制御するためのデータを新たに作成す
る必要がない。
第2のマスク上の各画像マスク部に隣接して番号マスク
部を形成しておけば、多面付けした各画像の品質管理の
ための番号を印刷できる刷版が得られる。
部を形成しておけば、多面付けした各画像の品質管理の
ための番号を印刷できる刷版が得られる。
多面焼付はデータ作成装置における第1マスクデータ作
成手段と第2マスクデータ作成手段とは、それぞれ第1
と第2のマスクを表わすデータを作成するので、これら
のデータに基づいて第1と第2のマスクが容易に作成で
きる。また、多面付けデータ作成手段は殖版機を制御す
るための多面付はデータを作成するので、このデータに
基づいて殖版機における多面焼付けを容易に行なうこと
ができる。
成手段と第2マスクデータ作成手段とは、それぞれ第1
と第2のマスクを表わすデータを作成するので、これら
のデータに基づいて第1と第2のマスクが容易に作成で
きる。また、多面付けデータ作成手段は殖版機を制御す
るための多面付はデータを作成するので、このデータに
基づいて殖版機における多面焼付けを容易に行なうこと
ができる。
(実施例)
A、マスクおよび殖版機用データの作成第1A図は、こ
の発明の一実施例を適用して、多面焼付けに使用するマ
スクと殖版機に引渡す多面付はデータとを作成するため
の紙器設計システムを示す斜視図である。この紙器設計
システムDPSは、設計ワークステーション100とサ
ンプルカット製図機200とで構成されている。
の発明の一実施例を適用して、多面焼付けに使用するマ
スクと殖版機に引渡す多面付はデータとを作成するため
の紙器設計システムを示す斜視図である。この紙器設計
システムDPSは、設計ワークステーション100とサ
ンプルカット製図機200とで構成されている。
設計ワークステーション100は、制御部110とCR
T120とキーボード130と入力タブレット140と
を備えている。制御部110は、マイクロコンピュータ
のほかに磁気ディスク装置やフロッピディスク装置を内
蔵している。入力タブレット140には図示しないメニ
ューシートが載置されており、メニューシート上に割付
けられた処理メニューをマウス141で選択することが
できる0紙パッケージなどの紙器の設計者は、この設計
ワークステーション100を用いて紙器の展開形状や、
紙器上に印刷すべき画像の領域の形状、および刷版上に
多面付けする画像の配列などを設定する。
T120とキーボード130と入力タブレット140と
を備えている。制御部110は、マイクロコンピュータ
のほかに磁気ディスク装置やフロッピディスク装置を内
蔵している。入力タブレット140には図示しないメニ
ューシートが載置されており、メニューシート上に割付
けられた処理メニューをマウス141で選択することが
できる0紙パッケージなどの紙器の設計者は、この設計
ワークステーション100を用いて紙器の展開形状や、
紙器上に印刷すべき画像の領域の形状、および刷版上に
多面付けする画像の配列などを設定する。
サンプルカット製図機200は、図面用紙やビールオフ
フィルムなどを載置するための移動テーブル210を有
している。移動テーブル210は図示しないモータによ
ってX方向に駆動される。
フィルムなどを載置するための移動テーブル210を有
している。移動テーブル210は図示しないモータによ
ってX方向に駆動される。
また、移動テーブル210の上方をまたぐように支持ビ
ーム220が設けられており、支持ビーム220にはヘ
ッド機構230がy方向に移動自在に取付けられている
。このサンプルカット製図機200は、設計ワークステ
ーション100で作成されたデータに基づいて、図面を
描いたり、フィルムマスクを作成したりすることができ
る6図面を描く場合には、移動テーブル210上に図面
用紙をおき、また、ヘッド機構230には製図用のペン
が装着される。一方、ビールオフフィルムの一部を切取
ってフィルムマスクを作成する場合には、移動テーブル
210上にビールオフフィルムを置き、ヘッド機構23
0にはカッターが装着される。なお、カッターを用いて
紙器のサンプルをカットすることもできる。サンプルカ
ット製図機200は、このほかにCRT240とキーボ
ード250も備えており、これらを用いて必要な操作を
指定できる。
ーム220が設けられており、支持ビーム220にはヘ
ッド機構230がy方向に移動自在に取付けられている
。このサンプルカット製図機200は、設計ワークステ
ーション100で作成されたデータに基づいて、図面を
描いたり、フィルムマスクを作成したりすることができ
る6図面を描く場合には、移動テーブル210上に図面
用紙をおき、また、ヘッド機構230には製図用のペン
が装着される。一方、ビールオフフィルムの一部を切取
ってフィルムマスクを作成する場合には、移動テーブル
210上にビールオフフィルムを置き、ヘッド機構23
0にはカッターが装着される。なお、カッターを用いて
紙器のサンプルをカットすることもできる。サンプルカ
ット製図機200は、このほかにCRT240とキーボ
ード250も備えており、これらを用いて必要な操作を
指定できる。
第1BI!Iは、紙器設計システムDPSの電気的構成
を示すブロック図である。設計ワークステーションの制
御部110はマイクロコンピュータ111とフロッピデ
ィスク装置112を有しており、これらはパスライン1
13を介してCRT120゜キーボード130.タブレ
ット140およびサンプルカット製図機200と接続さ
れている。
を示すブロック図である。設計ワークステーションの制
御部110はマイクロコンピュータ111とフロッピデ
ィスク装置112を有しており、これらはパスライン1
13を介してCRT120゜キーボード130.タブレ
ット140およびサンプルカット製図機200と接続さ
れている。
マイクロコンピュータ111は、CPUI OとROM
20とWIIえており、また、図示しないRAMも有し
ている。CPU10はパターン展開手段と、塗り足しデ
ータ作成手段12と殖版用マスクデータ作成手段13と
多面付はデータ作成手段14と焼きおとしマスクデータ
作成手段15とを有している。なお、これらの手段11
〜15はCPU10にロードされたソフトウェアによっ
て実現されている。
20とWIIえており、また、図示しないRAMも有し
ている。CPU10はパターン展開手段と、塗り足しデ
ータ作成手段12と殖版用マスクデータ作成手段13と
多面付はデータ作成手段14と焼きおとしマスクデータ
作成手段15とを有している。なお、これらの手段11
〜15はCPU10にロードされたソフトウェアによっ
て実現されている。
第2図は、紙器設計システムDPSを用いて殖版時に用
いるマスクと多面付はデータとを作成する手順を示すフ
ローチャートである。また、第3A図ないし第3D図は
、この手順において処理される形状を示す説明図である
。
いるマスクと多面付はデータとを作成する手順を示すフ
ローチャートである。また、第3A図ないし第3D図は
、この手順において処理される形状を示す説明図である
。
ステップS1では、オペレータがタブレット140とマ
ウス141とを用いて紙器の定型パターンデータをRO
M20から呼出し、CRT120にその展開図を表示す
る。第3A図は表示された定型パターンSPの展開図を
示している。ROM20は、紙パッケージの形状を示す
数種類の定型パターンデータを記憶しており、オペレー
タはその中の1つを選択すればよい。
ウス141とを用いて紙器の定型パターンデータをRO
M20から呼出し、CRT120にその展開図を表示す
る。第3A図は表示された定型パターンSPの展開図を
示している。ROM20は、紙パッケージの形状を示す
数種類の定型パターンデータを記憶しており、オペレー
タはその中の1つを選択すればよい。
第4A図は、定型パターンデータDspの構成を示す概
念図である。定型パターンデータDspは紙器の外形を
示す外形変数データDOvと折線(折り罫とも言う)の
位置を示す折線変数データDBVとトンボ(レジスタマ
ークともいう)の位置と形状とを示すトンボ位置変数デ
ータDRvとを有している。定型パターンデータDsp
では、各部の寸法(紙器の各面のサイズ、折り代の幅、
コーナ部の半径など)や位置をすべて変数名で表現して
いる。実際の寸法や位置は次のステップにおいて指定さ
れる。
念図である。定型パターンデータDspは紙器の外形を
示す外形変数データDOvと折線(折り罫とも言う)の
位置を示す折線変数データDBVとトンボ(レジスタマ
ークともいう)の位置と形状とを示すトンボ位置変数デ
ータDRvとを有している。定型パターンデータDsp
では、各部の寸法(紙器の各面のサイズ、折り代の幅、
コーナ部の半径など)や位置をすべて変数名で表現して
いる。実際の寸法や位置は次のステップにおいて指定さ
れる。
第3A図において、定型パターンSPの実線は紙器の外
形を示し、また、破線は紙器の折線を示している。また
、トンボRMI 、RM2も定型パターンSPと同時に
表示されている。このうち、トンボRMIはいわゆるセ
ンタトンボであり、その十字形の交点は定型パターンS
Pの上下方向および左右方向の中心を示す位置にそれぞ
れ設定されている。また、センタトンボRMIは定型パ
ターンSPの外形線から所定の距離だけ離れて配置され
ている。
形を示し、また、破線は紙器の折線を示している。また
、トンボRMI 、RM2も定型パターンSPと同時に
表示されている。このうち、トンボRMIはいわゆるセ
ンタトンボであり、その十字形の交点は定型パターンS
Pの上下方向および左右方向の中心を示す位置にそれぞ
れ設定されている。また、センタトンボRMIは定型パ
ターンSPの外形線から所定の距離だけ離れて配置され
ている。
ステップS2では、オペレータがキーボード130、タ
ブレット140およびマウス141を用いて定型パター
ンSPの各部の実寸法を指定する。
ブレット140およびマウス141を用いて定型パター
ンSPの各部の実寸法を指定する。
パターン展開部11は、指定された実寸法に従って紙器
の展開パターンデータを作成するとともに、実寸法に従
った展開図をCRT120に表示する。
の展開パターンデータを作成するとともに、実寸法に従
った展開図をCRT120に表示する。
第4B図は、パターン展開手段11によって作成された
展開パターンデータDpの構成を示す概念図である。展
開パターンデータDpが有する外形データDo、折線デ
ータDBおよびトンボ位置データDRはすべて実寸法を
示すデータとなっている。
展開パターンデータDpの構成を示す概念図である。展
開パターンデータDpが有する外形データDo、折線デ
ータDBおよびトンボ位置データDRはすべて実寸法を
示すデータとなっている。
ステップS3では、CRT120に表示された展開図を
見ながら、オペレータが紙器の印刷領域を指定する。こ
れは、第3B図に示すように、印刷領域RPの輪郭点P
1〜P8の位置を、マウス141を用いて指定すること
によって行なわれる。
見ながら、オペレータが紙器の印刷領域を指定する。こ
れは、第3B図に示すように、印刷領域RPの輪郭点P
1〜P8の位置を、マウス141を用いて指定すること
によって行なわれる。
なお、印刷領域RPの形状と位置は、輪郭点PI〜P8
の位置データで構成される印刷領域データによって表わ
される。この印刷領域データは、展開パターンデータD
pに付加される。
の位置データで構成される印刷領域データによって表わ
される。この印刷領域データは、展開パターンデータD
pに付加される。
ステップS4では、塗り足しデータ作成手段12が印刷
領域RPの周囲を所望の幅Wlだけ拡張し、拡張した印
刷領域RPaのデータ(以下、単に「塗り足し印刷領域
データ」と呼ぶ)を作成する。第3C図は、塗り足され
た印刷領域RPaを示している。なお、幅W1の値はオ
ペレータがキーボード130を用いて指定する0通常は
、幅W1を3〜5mm程度に指定すればよい、印刷時に
は、量り足された印刷領域RPaの中に絵柄が印刷され
る。
領域RPの周囲を所望の幅Wlだけ拡張し、拡張した印
刷領域RPaのデータ(以下、単に「塗り足し印刷領域
データ」と呼ぶ)を作成する。第3C図は、塗り足され
た印刷領域RPaを示している。なお、幅W1の値はオ
ペレータがキーボード130を用いて指定する0通常は
、幅W1を3〜5mm程度に指定すればよい、印刷時に
は、量り足された印刷領域RPaの中に絵柄が印刷され
る。
このように、もとの印刷領域RPを塗り足すのは、紙器
図形の裁断と印刷画像部が多少ズしても支障のない様に
するためである。
図形の裁断と印刷画像部が多少ズしても支障のない様に
するためである。
ステップS5では、殖版機の原板ホルダに原板(原板フ
ィルム)を貼付けるときに使用するトンボ(この例では
センタトンボ)RMIの周囲を所望の幅だけ拡張し、拡
張されたセンタトンボRM1aのデータ(以下、単に「
量り足しトンボデータ」と呼ぶ)を作成する。この塗り
足し幅は0.3m+a程度が適当である。第3C図には
、黴り足された印刷領域RPaとともに、塗り足された
センタトンボRMlaも示している。Wlり足しトンボ
データは、塗り足し印刷領域データとともに展開パター
ンデータDpに付加される。第4C図は、量り足し印刷
領域データと盪り足しトンボデータとを含む塗り足しデ
ータDelが付加された展開パターンデータDplを示
している。
ィルム)を貼付けるときに使用するトンボ(この例では
センタトンボ)RMIの周囲を所望の幅だけ拡張し、拡
張されたセンタトンボRM1aのデータ(以下、単に「
量り足しトンボデータ」と呼ぶ)を作成する。この塗り
足し幅は0.3m+a程度が適当である。第3C図には
、黴り足された印刷領域RPaとともに、塗り足された
センタトンボRMlaも示している。Wlり足しトンボ
データは、塗り足し印刷領域データとともに展開パター
ンデータDpに付加される。第4C図は、量り足し印刷
領域データと盪り足しトンボデータとを含む塗り足しデ
ータDelが付加された展開パターンデータDplを示
している。
ステップS6では、展開パターンデータDplの塗り足
しデータDelに基づいて殖版用マスクデータ作成手段
13が殖版用マスクの形状を表わすデータ(以下、「殖
版用マスクデータ」と呼ぶ)を作成する。ここで、殖版
用マスクとは、殖版機で殖版を行なう場合に原板に重ね
て用いるマスク(第1のマスク)を言う0M版用マスク
の形状は、第3C図に示す塗り足されたセンタトンボR
M1aをさらに所定の幅(例えば約Q、2mm)広げる
ことによって求められる。ここで拡張(Wlり足し)を
行なうのは、後述の焼きおとしマスクと殖版用マスクの
相互の僅かの位置ズレが起きた場合にセンタトンボに沿
った不要な線がでるのを防ぐためである。ただし、この
拡張は省略してもよい。
しデータDelに基づいて殖版用マスクデータ作成手段
13が殖版用マスクの形状を表わすデータ(以下、「殖
版用マスクデータ」と呼ぶ)を作成する。ここで、殖版
用マスクとは、殖版機で殖版を行なう場合に原板に重ね
て用いるマスク(第1のマスク)を言う0M版用マスク
の形状は、第3C図に示す塗り足されたセンタトンボR
M1aをさらに所定の幅(例えば約Q、2mm)広げる
ことによって求められる。ここで拡張(Wlり足し)を
行なうのは、後述の焼きおとしマスクと殖版用マスクの
相互の僅かの位置ズレが起きた場合にセンタトンボに沿
った不要な線がでるのを防ぐためである。ただし、この
拡張は省略してもよい。
第3D図は、殖版用マスクデータDe2によって表現さ
れる印刷領域RPbとセンタトンボRM1bとを示して
いる。
れる印刷領域RPbとセンタトンボRM1bとを示して
いる。
ステップS7では、殖版用マスクデータDe2がサンプ
ルカット製図機200に伝送され、ここで殖版用マスク
が作成される。サンプルカット製図機200は、まず、
殖版用マスクデータDe2に基づいて、第3DI!lに
示す印刷領域RPbとトンボRM1bとをそれぞれ反転
した形状を表わすミラー塗り足しデータを作成する。第
3El!Iは、ミラー量り足しデータDe3によって表
わされる印刷領域RPcとセンタトンボRM1cとを示
す概念図である。サンプルカット製図機200は、第3
E図に示す反転した印刷領域RPcとセンタトンボRM
ICとの外形に沿って移動テーブル210上に載置され
たビールオフフィルムの赤色薄膜層をカットする。その
後、オペレータが印刷領域RPcとセンタトンボRM1
cの部分の赤色薄膜層を剥離させることによって、殖版
用マスクが完成する。
ルカット製図機200に伝送され、ここで殖版用マスク
が作成される。サンプルカット製図機200は、まず、
殖版用マスクデータDe2に基づいて、第3DI!lに
示す印刷領域RPbとトンボRM1bとをそれぞれ反転
した形状を表わすミラー塗り足しデータを作成する。第
3El!Iは、ミラー量り足しデータDe3によって表
わされる印刷領域RPcとセンタトンボRM1cとを示
す概念図である。サンプルカット製図機200は、第3
E図に示す反転した印刷領域RPcとセンタトンボRM
ICとの外形に沿って移動テーブル210上に載置され
たビールオフフィルムの赤色薄膜層をカットする。その
後、オペレータが印刷領域RPcとセンタトンボRM1
cの部分の赤色薄膜層を剥離させることによって、殖版
用マスクが完成する。
第5A図は、このようにして作成された殖版用マスクM
cを示す平面図である。殖版機に原板と殖版用マスクM
eとをセットする際には、殖版用マスクMeを第5B図
に示すように裏返して、その膜面(赤色薄膜層の面)を
下向きにし、原板の膜面に重ねる。そこで、サンプルカ
ット製図機200では、第5A図に示すように、裏返し
た状態で殖版用マスクMcを作成している。
cを示す平面図である。殖版機に原板と殖版用マスクM
eとをセットする際には、殖版用マスクMeを第5B図
に示すように裏返して、その膜面(赤色薄膜層の面)を
下向きにし、原板の膜面に重ねる。そこで、サンプルカ
ット製図機200では、第5A図に示すように、裏返し
た状態で殖版用マスクMcを作成している。
ステップS8では、展開パターンデータDpl(第4C
図参照)に基づいて、多面付はデータ作成手段14が多
面付はデータを作成する。ROM20は、数種類の多面
付けのパターンを記憶しており、オペレータはその中の
一つを選択する。第6図は、ROM20に記憶されてい
る多面付けのパターン(以下、多面付はパターンと呼ぶ
、)DP1〜DP6を示す図である。各多面付はパター
ンでは、基準箱RBと、Y方向に隣接するYllYBと
の位置関係が次のように規定されている。
図参照)に基づいて、多面付はデータ作成手段14が多
面付はデータを作成する。ROM20は、数種類の多面
付けのパターンを記憶しており、オペレータはその中の
一つを選択する。第6図は、ROM20に記憶されてい
る多面付けのパターン(以下、多面付はパターンと呼ぶ
、)DP1〜DP6を示す図である。各多面付はパター
ンでは、基準箱RBと、Y方向に隣接するYllYBと
の位置関係が次のように規定されている。
DPI(正配置):基fII箱RBとYliYBの向き
が同じで、基準箱RBの左端外形線の位置とY箱YBの
左端外形線の位置とを合わせる。
が同じで、基準箱RBの左端外形線の位置とY箱YBの
左端外形線の位置とを合わせる。
DP2:基準箱RBとYiYBとの向きが逆さま(以下
、DP3〜DP6も同様)で、基準箱RBの左端外形線
とY箱YBの左端外形線とを合わせる。
、DP3〜DP6も同様)で、基準箱RBの左端外形線
とY箱YBの左端外形線とを合わせる。
DP3 :基準箱RBの左端折線とY箱YBの左端折線
とを合わせる。ここでいう折線は垂直線に限っている。
とを合わせる。ここでいう折線は垂直線に限っている。
なお、第6図において、折線は破線で示されている。
DP4 :基準箱RBの左端折線とY箱YBの左端外形
線とを合わせる。
線とを合わせる。
DP5 :基準箱RBの左から2番目の折線とY箱YB
の左端外形線とを合わせる。
の左端外形線とを合わせる。
DP6 :基準箱RBの左から2番目の折線とY箱YB
の左端折線とを合わせる。
の左端折線とを合わせる。
オペレータがこれらのうちの一つの多面付はパターンを
選択すると、選択された多面付はパターンにしたがって
紙器の形状が多面付けされる。この実施例では、多面付
はパターンDP3にしたがって多面付けを行なう。
選択すると、選択された多面付はパターンにしたがって
紙器の形状が多面付けされる。この実施例では、多面付
はパターンDP3にしたがって多面付けを行なう。
第7A図は、多面付けした展開パターンを示す平面図で
ある。ここでは6つの展開パターンPT1−PT6が面
付けされている。このうち、展開パターンPTI 、P
T2 、PT5 、PT6は同じ向きで配置されている
が、展開パターンPT3゜PTAは逆向き(180”回
転した向き)で配置されている。殖版機では、まず矢印
Blで示す順序に従って、展開パターンPTI 、PT
2 、PT6、PT5の順に塗り足し印刷領域RPa内
の画像が焼付けられる。その後、原板フィルムを180
0回転し、矢印B2で示すように展開パターンPT3
、PTAの順に画像が焼付けられる。なお、以下では展
開パターンPTI 、PT2 、PT6 。
ある。ここでは6つの展開パターンPT1−PT6が面
付けされている。このうち、展開パターンPTI 、P
T2 、PT5 、PT6は同じ向きで配置されている
が、展開パターンPT3゜PTAは逆向き(180”回
転した向き)で配置されている。殖版機では、まず矢印
Blで示す順序に従って、展開パターンPTI 、PT
2 、PT6、PT5の順に塗り足し印刷領域RPa内
の画像が焼付けられる。その後、原板フィルムを180
0回転し、矢印B2で示すように展開パターンPT3
、PTAの順に画像が焼付けられる。なお、以下では展
開パターンPTI 、PT2 、PT6 。
PT5をまとめてブロックBl、展開パターンPT3.
PTAをまとめてブロックB2と呼ぶ。
PTAをまとめてブロックB2と呼ぶ。
第7B図は、8つの展開パターンPTI〜PT8を多面
付けした場合を示す図である。この例では、ブロックB
2に4つの展開パターンPT3、PTA 、PT7 、
PT8が含まれている。なお、以下では主として第7A
llの例について説明する。
付けした場合を示す図である。この例では、ブロックB
2に4つの展開パターンPT3、PTA 、PT7 、
PT8が含まれている。なお、以下では主として第7A
llの例について説明する。
印刷時には、印刷用紙上に塗り足された印刷領域RPa
に絵柄が印刷される。そして、紙器の外影線L1に沿っ
て印刷用紙が切断される。従って、紙器の外形線L1で
囲まれた領域と印刷領域RPaとの和をとった領域が、
1つの紙器に付いて必要な領域である。多面付けの際に
は、この必要領域以外の領域がなるべく小さくなるよう
に、展開パターンPTI−PT6が入れ違いになるよう
に配置される。このようにすれば、所定の大きさの刷版
上に多数の展開パターンを配置することができる。
に絵柄が印刷される。そして、紙器の外影線L1に沿っ
て印刷用紙が切断される。従って、紙器の外形線L1で
囲まれた領域と印刷領域RPaとの和をとった領域が、
1つの紙器に付いて必要な領域である。多面付けの際に
は、この必要領域以外の領域がなるべく小さくなるよう
に、展開パターンPTI−PT6が入れ違いになるよう
に配置される。このようにすれば、所定の大きさの刷版
上に多数の展開パターンを配置することができる。
多面付はデータ作成手段14は、所定の大きさの刷版上
にできるだけ多くの展開パターンを配置できるように、
展開パターンPTI−PT6が互いに重なり合わない程
度に相互の間隔を調整することによって、最適な多面付
は配置を決定し、多面付はデータを作成する。多面付は
データは、殖版機で多面焼付けを行なう際に殖版機に教
示すべきデータである。
にできるだけ多くの展開パターンを配置できるように、
展開パターンPTI−PT6が互いに重なり合わない程
度に相互の間隔を調整することによって、最適な多面付
は配置を決定し、多面付はデータを作成する。多面付は
データは、殖版機で多面焼付けを行なう際に殖版機に教
示すべきデータである。
第8図は多面付はデータの構成を示す概念図である。多
面付はデータDcは、グループデータDgとブロックデ
ータDbl、 Db2とを有している。
面付はデータDcは、グループデータDgとブロックデ
ータDbl、 Db2とを有している。
グループデータDgは、1枚の感光材全体に関するデー
タであり、刷版サイズXPS、YPSと交換指示データ
Dexとを含んでいる。刷版サイズxps、ypsは第
7A図に示すように、刷版(感光材)のX方向とX方向
の寸法である。なお、刷版の外形の内側にある枠Lgは
、くわえ代や断ち代等の内側を示す線である。交換指示
データDexは、1枚の感光材を焼付ける際に原板フィ
ルムやマスクの交換、原板フィルムの回転などを行なう
ことを指示するデータである。第7A図の例では、交換
指示データDexがブロックB1の焼付けとブロックB
2の焼付けとの間に原板フィルムを180”回転する旨
を表わすことになる。
タであり、刷版サイズXPS、YPSと交換指示データ
Dexとを含んでいる。刷版サイズxps、ypsは第
7A図に示すように、刷版(感光材)のX方向とX方向
の寸法である。なお、刷版の外形の内側にある枠Lgは
、くわえ代や断ち代等の内側を示す線である。交換指示
データDexは、1枚の感光材を焼付ける際に原板フィ
ルムやマスクの交換、原板フィルムの回転などを行なう
ことを指示するデータである。第7A図の例では、交換
指示データDexがブロックB1の焼付けとブロックB
2の焼付けとの間に原板フィルムを180”回転する旨
を表わすことになる。
ブロックデータDbl、 Db2は、それぞれブロック
Bl 、B2を焼付ける際に必要とされるデータである
。各ブロックデータは次のようなデータをそれぞれ含ん
でいる。
Bl 、B2を焼付ける際に必要とされるデータである
。各ブロックデータは次のようなデータをそれぞれ含ん
でいる。
■ 焼付はパターンデータPAT : 1つのブロック
内の各印刷領域を焼付けていく順序を示すデータである
。第9図は、8種類の焼付は順序を示している。ブロッ
クBl 、B2はどちらもFAT=1で指定される順序
に従って焼付けられる。
内の各印刷領域を焼付けていく順序を示すデータである
。第9図は、8種類の焼付は順序を示している。ブロッ
クBl 、B2はどちらもFAT=1で指定される順序
に従って焼付けられる。
■ 焼付はズレ量DIS+1つのブロック内の奇数列と
偶数列との位置がX方向(PAT=2゜4.6.8の場
合はX方向)にずれている場合に、そのズレ量を示す、
第7A図の例ではDIS=0である。
偶数列との位置がX方向(PAT=2゜4.6.8の場
合はX方向)にずれている場合に、そのズレ量を示す、
第7A図の例ではDIS=0である。
■ 焼付は開始位置(XF、YF):感光材上の所定の
割付計算原点OQを基準とし、初めに焼付けられるパタ
ーンPTI (ブロックB2の場合はパターンPT3
)の焼付は中心点POIのl!!標を表わす。
割付計算原点OQを基準とし、初めに焼付けられるパタ
ーンPTI (ブロックB2の場合はパターンPT3
)の焼付は中心点POIのl!!標を表わす。
■ 送りピッチXS、YS:1つのブロック内で隣の列
のパターンに原板フィルムを移動させるときの原板ホル
ダの送りピッチである。第7A図の例では、ブロックB
lにおいてはX5=XS1 。
のパターンに原板フィルムを移動させるときの原板ホル
ダの送りピッチである。第7A図の例では、ブロックB
lにおいてはX5=XS1 。
YS=YS1.ブロックB2においてはxS=XS2で
ある。また、第7B図の例では、ブロックBlにおいて
はX5=XS1 、YS=YS1であり、ブO’/ ’
) B21:J9イテはX5=XS2 、YS=YS2
である。
ある。また、第7B図の例では、ブロックBlにおいて
はX5=XS1 、YS=YS1であり、ブO’/ ’
) B21:J9イテはX5=XS2 、YS=YS2
である。
■ 焼付は面数XP、YP:X方向、X方向の焼付は面
数である。第7A図の例では、ブロックB1に対しては
XP=2.YP=2であり、ブロックB2に対してはX
P=2.YP=1である。
数である。第7A図の例では、ブロックB1に対しては
XP=2.YP=2であり、ブロックB2に対してはX
P=2.YP=1である。
また、第7B図の例では、ブロックBl 、B2のどち
らに対してもXP=2.YP=2である。
らに対してもXP=2.YP=2である。
■ 自動マスク開量wx、wy及び自動マスク間食ΔW
X、△WY:これらは殖版機の自動マスクの開口部の寸
法を示すデータである。自動マスクは上下左右にそれぞ
れ移動可能な4枚のマスク板を有しており、4枚のマス
ク板によって形成される長方形の開口部の大きさを調整
できる装置である。自動マスクについては例えば本出願
人による特開昭64−29847号公報に記載されてい
る。
X、△WY:これらは殖版機の自動マスクの開口部の寸
法を示すデータである。自動マスクは上下左右にそれぞ
れ移動可能な4枚のマスク板を有しており、4枚のマス
ク板によって形成される長方形の開口部の大きさを調整
できる装置である。自動マスクについては例えば本出願
人による特開昭64−29847号公報に記載されてい
る。
第10図は自動マスク開量wx、wyと自動マスク間食
△WX、△WYとを示す説明図である。
△WX、△WYとを示す説明図である。
自動マスクが閉じたときには、4つのセンタトンボRM
Iに内接する長方形の開口部W m ]が形成され、ま
た、開いたときには、4つのセンタトンボRMIに外接
する長方形の開口部Wm2が形成される。自動マスク閉
蓋wx、wyは開口部Ww、1のX方向とY方向の寸法
である。また、自動マスク間食△WX、△WYは、自動
マスクの開閉の際のマスク板のX方向とY方向の移動量
である。
Iに内接する長方形の開口部W m ]が形成され、ま
た、開いたときには、4つのセンタトンボRMIに外接
する長方形の開口部Wm2が形成される。自動マスク閉
蓋wx、wyは開口部Ww、1のX方向とY方向の寸法
である。また、自動マスク間食△WX、△WYは、自動
マスクの開閉の際のマスク板のX方向とY方向の移動量
である。
以上のようなデータを有する多層性はデータDCはフロ
ッピディスク装置112によってフロッピディスク内に
収納される。このフロッピディスクは殖版機で読取られ
、後述する殖版の際に利用される。
ッピディスク装置112によってフロッピディスク内に
収納される。このフロッピディスクは殖版機で読取られ
、後述する殖版の際に利用される。
ステップS9では、多層性はデータDcとともに、殖版
用マスクデータDa2(第3D図参照)が焼きおとしマ
スクデータ作成手段15に与えられ、ここで焼きおとし
マスクデータが作成される。この焼きおとしマスクデー
タはサンプルカット製図機200に伝送され、ここで焼
きおとしマスク(第2のマスク)が作成される。第11
図はこのようにして作成された焼きおとしマスクMbを
示す平面図である。なお、前述の焼きおとしマスクデー
タは、この焼きおとしマスクMbの形状を表わすベクト
ルデータである。焼きおとしマスクMbは、殖版機で焼
付けられた感光材上の印刷領域とセンタトンボとを除く
非印刷領域を殖版後に露光して、印刷の際に非印刷領域
にインクが乗らないようにするためのマスクである。第
11図に示すように、焼きおとしマスクMbは、第3D
図に示す塗り足された印刷領域RPbとセンタトンボR
M1bとを第7A図に示す多層性は配列に従って配置し
ている。これらの印刷領域RPbに相当する部分の赤色
薄膜層は画像マスク部として残し、またセンタトンボR
Mlbに相当する部分の赤色薄膜層はトンボマスク部と
して残している。そして、他の部分の赤色薄膜層は剥離
させている。なお、各印刷領域RPbの間にくるような
センタトンボは殖版機で焼付けられないので、焼きおと
しマスクMbはこのようなセンタトンボの部分をマスク
していない。
用マスクデータDa2(第3D図参照)が焼きおとしマ
スクデータ作成手段15に与えられ、ここで焼きおとし
マスクデータが作成される。この焼きおとしマスクデー
タはサンプルカット製図機200に伝送され、ここで焼
きおとしマスク(第2のマスク)が作成される。第11
図はこのようにして作成された焼きおとしマスクMbを
示す平面図である。なお、前述の焼きおとしマスクデー
タは、この焼きおとしマスクMbの形状を表わすベクト
ルデータである。焼きおとしマスクMbは、殖版機で焼
付けられた感光材上の印刷領域とセンタトンボとを除く
非印刷領域を殖版後に露光して、印刷の際に非印刷領域
にインクが乗らないようにするためのマスクである。第
11図に示すように、焼きおとしマスクMbは、第3D
図に示す塗り足された印刷領域RPbとセンタトンボR
M1bとを第7A図に示す多層性は配列に従って配置し
ている。これらの印刷領域RPbに相当する部分の赤色
薄膜層は画像マスク部として残し、またセンタトンボR
Mlbに相当する部分の赤色薄膜層はトンボマスク部と
して残している。そして、他の部分の赤色薄膜層は剥離
させている。なお、各印刷領域RPbの間にくるような
センタトンボは殖版機で焼付けられないので、焼きおと
しマスクMbはこのようなセンタトンボの部分をマスク
していない。
以上のように、紙器設計ワークステーションlOOとサ
ンプルカット製図機200によって殖版用マスクMc、
焼きおとしマスクMbおよび多層性はデータDcが作成
される。なお、殖版用マスクは、焼きおとしマスクとと
もに最後のステップで作成するようにしてもよい。
ンプルカット製図機200によって殖版用マスクMc、
焼きおとしマスクMbおよび多層性はデータDcが作成
される。なお、殖版用マスクは、焼きおとしマスクとと
もに最後のステップで作成するようにしてもよい。
B、刷版の作成
第12図は、殖版用マスクMcや焼きおとしマスクMb
を用いて刷版を作成する手順を示すフローチャートであ
る。
を用いて刷版を作成する手順を示すフローチャートであ
る。
ステップSllでは、原板フィルムと殖版用マスクとを
重ねて殖版機の原板ホルダにセットする。
重ねて殖版機の原板ホルダにセットする。
第13図は殖版機を示す斜視図である9図において、殖
版機300は、感光材を載置する感光材取付台301と
、感光材取付台301の上をX方向に移動可能な移動荷
台302を有している。移動荷台302はY方向に伸び
るガイドレール303を有しており、ガイドレール30
3には後述する原板ホルダを組込んだ原板架台304が
Y方向に移動可能に取付けられている。さらに、原板架
台304の上には光源ボックス305と光源306とが
固定されている。また、殖版機300はコントローラ3
11を有しており、コントローラ311によって自動運
転が制御される。焼付けに際しては、移動架台302が
X軸駆動モータ307によってX方向に移動するととも
に、原板架台304がY軸駆動モータ308によってY
方向に移動する。感光材取付台301の隣りには回転式
原板供給台309が設置されている。
版機300は、感光材を載置する感光材取付台301と
、感光材取付台301の上をX方向に移動可能な移動荷
台302を有している。移動荷台302はY方向に伸び
るガイドレール303を有しており、ガイドレール30
3には後述する原板ホルダを組込んだ原板架台304が
Y方向に移動可能に取付けられている。さらに、原板架
台304の上には光源ボックス305と光源306とが
固定されている。また、殖版機300はコントローラ3
11を有しており、コントローラ311によって自動運
転が制御される。焼付けに際しては、移動架台302が
X軸駆動モータ307によってX方向に移動するととも
に、原板架台304がY軸駆動モータ308によってY
方向に移動する。感光材取付台301の隣りには回転式
原板供給台309が設置されている。
第14図は、殖版機の電気的構成を示すブロック図であ
る0図において、コントローラ311はCPU311f
と、CPU311 fにそれぞれ接続された殖版データ
入力装置(フロッピディスク装置)311a、CPU3
11f、専用キーボード311c、ROM311d、R
AM311e。
る0図において、コントローラ311はCPU311f
と、CPU311 fにそれぞれ接続された殖版データ
入力装置(フロッピディスク装置)311a、CPU3
11f、専用キーボード311c、ROM311d、R
AM311e。
および、殖版機の各駆動部に制御データを伝達するため
の各種のインタフェイス311g〜311kを有してい
る。
の各種のインタフェイス311g〜311kを有してい
る。
X軸サーボ系インタフェイス311gとY*Ihサーボ
系インダインタインタフェイス311h原板架 それぞれ接続されている。X軸サーボ系は、X軸ディジ
タルサーボ321aと、X@ドライブユニット321b
と、X軸駆動モータ307(第13図参照)と、X軸エ
ンコーダ321cとで構成されている。Y軸サーボ系も
同様に、Y軸ディジタルサーボ322aと、Y軸ドライ
ブユニット322bと、Y軸駆動モータ308 (第1
3図参照)と、Y軸エンコーダ322Cとで構成されて
いる。
系インダインタインタフェイス311h原板架 それぞれ接続されている。X軸サーボ系は、X軸ディジ
タルサーボ321aと、X@ドライブユニット321b
と、X軸駆動モータ307(第13図参照)と、X軸エ
ンコーダ321cとで構成されている。Y軸サーボ系も
同様に、Y軸ディジタルサーボ322aと、Y軸ドライ
ブユニット322bと、Y軸駆動モータ308 (第1
3図参照)と、Y軸エンコーダ322Cとで構成されて
いる。
自動マスク駆動系インタフェイス311iは、原板架台
304内に備えられている自動マスク装置を駆動する自
動マスク駆動部に接続されている。
304内に備えられている自動マスク装置を駆動する自
動マスク駆動部に接続されている。
自動マスク駆動部は、自動マスクコントローラ331と
、4つのパルスモータ332a 〜332dと、パルス
モータ332a〜332dでそれぞれ駆動される4枚の
マスク板333a〜333dとを有している。マスク板
333a〜333dは遮光板であり、原板フィルムの回
りを正方形状に取り囲むように配置されている。
、4つのパルスモータ332a 〜332dと、パルス
モータ332a〜332dでそれぞれ駆動される4枚の
マスク板333a〜333dとを有している。マスク板
333a〜333dは遮光板であり、原板フィルムの回
りを正方形状に取り囲むように配置されている。
回転台駆動系インタフェイス311jは、回転式原板供
給台309 (第13図参照)の回転台(原板供給台)
を回転させるための回転駆動部に接続されている0回転
駆動部は、回転モータコントローラ341と、回転モー
タ342と、角度センサ342と、電磁弁343とを有
している。これらの働きについては後述する。
給台309 (第13図参照)の回転台(原板供給台)
を回転させるための回転駆動部に接続されている0回転
駆動部は、回転モータコントローラ341と、回転モー
タ342と、角度センサ342と、電磁弁343とを有
している。これらの働きについては後述する。
空圧系インタフェイス311には、空圧系の各種の電磁
弁351に接続されている。空圧系には、回転式原板供
給台309の原板供給台に原板フィルムを吸着するため
の系統や、感光材取付台301を支持するためのエアシ
リンダなどが含まれている。
弁351に接続されている。空圧系には、回転式原板供
給台309の原板供給台に原板フィルムを吸着するため
の系統や、感光材取付台301を支持するためのエアシ
リンダなどが含まれている。
さらに、CPU311 fは光源306とも接続されて
おり、光源306のオン/オフをコントロールする。
おり、光源306のオン/オフをコントロールする。
ステップ311では、オペレータは回転式原板供給台3
09の上に原板フィルムと殖版用マスクMeとを重ねて
置く、すると、原板架台304が原板供給台309の上
方まで移動し、原板架台304内に組込まれている原板
ホルダが原板フィルムと殖版用マスクMeとを吸着する
。こうして原板フィルムと殖版用マスクMeとが原板ホ
ルダにセットされる。
09の上に原板フィルムと殖版用マスクMeとを重ねて
置く、すると、原板架台304が原板供給台309の上
方まで移動し、原板架台304内に組込まれている原板
ホルダが原板フィルムと殖版用マスクMeとを吸着する
。こうして原板フィルムと殖版用マスクMeとが原板ホ
ルダにセットされる。
第15図は、原板フィルム○Faを示す平面図である。
原板フィルムOFaには、印刷領域RPa内の画像○I
a (文字や図形など)とトンボRMl 、RM2と
が記録されている。
a (文字や図形など)とトンボRMl 、RM2と
が記録されている。
第16A図は原板ホルダを示す平面図である。
第16B図はその正面断面図であり、原板フィルムOF
aと殖版用マスクMcとをセットする状態を示している
。原板ホルダ310の下面には原板用真空吸着溝Goと
マスク用真空吸着溝Gmとが2重に形成されており、こ
れらの真空吸着溝Go。
aと殖版用マスクMcとをセットする状態を示している
。原板ホルダ310の下面には原板用真空吸着溝Goと
マスク用真空吸着溝Gmとが2重に形成されており、こ
れらの真空吸着溝Go。
Gmによって原板フィルムOFaと殖版用フィルムMe
とを同時に真空吸着できるようになっている。
とを同時に真空吸着できるようになっている。
ステップS12では、第8図に示す多属性はデータDC
が殖版機300のコントローラ311に入力される。こ
の操作は、多属性はデータDCを収納したフロッピディ
スクをコントローラ311のフロッピディスク装置31
1aに投入してそのデータを読取ることによって行なわ
れる。この多属性はデータDCは コントローラ31
1内のRAM311eに記憶される。
が殖版機300のコントローラ311に入力される。こ
の操作は、多属性はデータDCを収納したフロッピディ
スクをコントローラ311のフロッピディスク装置31
1aに投入してそのデータを読取ることによって行なわ
れる。この多属性はデータDCは コントローラ31
1内のRAM311eに記憶される。
ステップS13では、多属性はデータDcに従って、感
光材上に原板フィルム○Faの画像が焼付けられる。第
17図は、多面焼付けがなされた感光材PFを示す平面
図である。図において、6つの画像11〜工6は、第7
A図に示す6つの展開パターンPTI−PT6の画像で
ある。これらの画像11〜■6のうちで、まずブロック
B1(第7A図参照)に属する展開パターンPT1゜P
T2 、PT6 、PT5の画像II、I2.I6゜I
5がこの順に焼付けられる。そして、原板フィルム○F
aと殖版用マスクMeとを180°回転させた後、ブロ
ックB2に属する展開パターンPT3.PT4の画像I
3.I4がこの順に焼付けられる。
光材上に原板フィルム○Faの画像が焼付けられる。第
17図は、多面焼付けがなされた感光材PFを示す平面
図である。図において、6つの画像11〜工6は、第7
A図に示す6つの展開パターンPTI−PT6の画像で
ある。これらの画像11〜■6のうちで、まずブロック
B1(第7A図参照)に属する展開パターンPT1゜P
T2 、PT6 、PT5の画像II、I2.I6゜I
5がこの順に焼付けられる。そして、原板フィルム○F
aと殖版用マスクMeとを180°回転させた後、ブロ
ックB2に属する展開パターンPT3.PT4の画像I
3.I4がこの順に焼付けられる。
第18図は、殖版機300による画像焼付けの手順(第
12図のステップ513)の詳細を示すフローチャート
である。
12図のステップ513)の詳細を示すフローチャート
である。
ステップS31では総焼付面数を表すパラメータメータ
Ntをゼロに設定する。
Ntをゼロに設定する。
ステップS32では、RAM311e内に読み出されて
いないブロックデータ(第8図のデータDbl、 Db
2)が残っているか否かが判定される。
いないブロックデータ(第8図のデータDbl、 Db
2)が残っているか否かが判定される。
ブロックデータが残っている場合には、ステップS33
に移行する。
に移行する。
ステップS33では、ブロック内の焼付は面数を表すパ
ラメータメータNbをゼロに設定する。
ラメータメータNbをゼロに設定する。
次に、ステップS34では、総焼付面数Ntが、交換指
示データDex(第8図参照)で指定される回転/交換
面数Ncrと等しいか否かが判定される。
示データDex(第8図参照)で指定される回転/交換
面数Ncrと等しいか否かが判定される。
第7A図の例では、ブロックB1が4つの展開パターン
を有しているので、回転/交換面数Ncrが4に設定さ
れている。最初の展開パターンPTIの画像11の焼き
付は時には、Nt=Oなので、ステップ334からステ
ップ838に移行する。
を有しているので、回転/交換面数Ncrが4に設定さ
れている。最初の展開パターンPTIの画像11の焼き
付は時には、Nt=Oなので、ステップ334からステ
ップ838に移行する。
(ステップ535a−337については後述する)ステ
ップS38では、ブロックデータDblの焼付は開始位
置データ(XF、YF)にしたがって、原板架台304
を焼付は位置に移動させる。このとき、まずCPU31
1 fがX軸方向の焼付は位置データXFをインタフェ
イス311gを介してX軸サーボ系に与えるとともに、
Y軸方向の焼付は位置データYFをインタフェイス31
1hを介してY軸サーボ系に与え、これによってモータ
307.308をそれぞれ駆動する。
ップS38では、ブロックデータDblの焼付は開始位
置データ(XF、YF)にしたがって、原板架台304
を焼付は位置に移動させる。このとき、まずCPU31
1 fがX軸方向の焼付は位置データXFをインタフェ
イス311gを介してX軸サーボ系に与えるとともに、
Y軸方向の焼付は位置データYFをインタフェイス31
1hを介してY軸サーボ系に与え、これによってモータ
307.308をそれぞれ駆動する。
ステップS39では、ブロック内焼付は面数Nbと、ブ
ロックデータDbl中の焼付はパターンデータPATお
よび焼付は面数データXP、YPとに基づいて、CPU
311fが焼付けの対象となっている展開パターン(こ
こではPTI )の相対位置関係を判定する。ここで、
展開パターンの相対位置関係とは、その展開パターンの
上下左右のそれぞれの位置に他の展開パターンが存在す
るか否かを表している。ステップS39ではさらに、判
定された相対位置関係および自動マスク間食Wx、wy
と自動マスク間食△WX1△WYとから、自動マスクの
各マスク板333a〜333dの移動量を求める0例え
ば第7A図において、展開パターンPTIの左側と下側
には他の展開パターンが無いので、これらの部分のマス
ク板を開き、方、右側と上側のマスク板は閉じるように
移動量が求められる。データPAT、XP、YP、WX
。
ロックデータDbl中の焼付はパターンデータPATお
よび焼付は面数データXP、YPとに基づいて、CPU
311fが焼付けの対象となっている展開パターン(こ
こではPTI )の相対位置関係を判定する。ここで、
展開パターンの相対位置関係とは、その展開パターンの
上下左右のそれぞれの位置に他の展開パターンが存在す
るか否かを表している。ステップS39ではさらに、判
定された相対位置関係および自動マスク間食Wx、wy
と自動マスク間食△WX1△WYとから、自動マスクの
各マスク板333a〜333dの移動量を求める0例え
ば第7A図において、展開パターンPTIの左側と下側
には他の展開パターンが無いので、これらの部分のマス
ク板を開き、方、右側と上側のマスク板は閉じるように
移動量が求められる。データPAT、XP、YP、WX
。
WY、ΔWx、およびΔWYに基づく上記の処理は、R
OM311 dに予め記憶されている処理プログラムに
従ってCPU311 fが行なう。
OM311 dに予め記憶されている処理プログラムに
従ってCPU311 fが行なう。
ステップS40では、自動マスクのマスク板の移動量が
、CPU311fから自動マスク駆動系インタフェイス
3111を介して自動マスク装置に送られ、これによっ
て4枚のマスク板を上述のように移動させる。
、CPU311fから自動マスク駆動系インタフェイス
3111を介して自動マスク装置に送られ、これによっ
て4枚のマスク板を上述のように移動させる。
ステップS41では、光源306が点灯されて感光材が
露光される。この時、マスク板が開いている部分ではセ
ンタトンボが焼付けられ、閉じている部分では焼付けら
れないので、第17図に示すように、画像工1の左側と
下側のみにセンタトンボが焼付けられる。
露光される。この時、マスク板が開いている部分ではセ
ンタトンボが焼付けられ、閉じている部分では焼付けら
れないので、第17図に示すように、画像工1の左側と
下側のみにセンタトンボが焼付けられる。
なお、焼付けに際しては、貢光前に原板と感光材との密
着がなされ、露光後にはその解除が行なわれるのは周知
の通りであり、図示しない真空ポンプ等による真空圧を
電磁弁351で切り替え制御して行なわれる。
着がなされ、露光後にはその解除が行なわれるのは周知
の通りであり、図示しない真空ポンプ等による真空圧を
電磁弁351で切り替え制御して行なわれる。
ステップS42では、総焼付面数Ntとブロック内焼付
面数Nbとにそれぞれ1が加算される。
面数Nbとにそれぞれ1が加算される。
ステップS43では、ブロック内焼付面数Nbが、ブロ
ックデータ内の焼付は面数データXP。
ックデータ内の焼付は面数データXP。
YPの積(XP*YP)と比較される。ブロック内焼付
面数Nbが積(XP*YP)よりも小さい時は、そのブ
ロック内の焼付けがまだ終了していないので、ステップ
S44に移行して焼付けを続行する。一方、ブロック内
焼付面数Nbが積(XP*YP)以上の場合には、その
ブロック内の焼付けが終了しているので、ステップS3
2に戻り、次のブロックの焼付は処理を実行する。
面数Nbが積(XP*YP)よりも小さい時は、そのブ
ロック内の焼付けがまだ終了していないので、ステップ
S44に移行して焼付けを続行する。一方、ブロック内
焼付面数Nbが積(XP*YP)以上の場合には、その
ブロック内の焼付けが終了しているので、ステップS3
2に戻り、次のブロックの焼付は処理を実行する。
ステップS44では、ブロック内焼付面数Nbと、焼付
はパターンデータPATと、焼付は面数データXP、Y
Pから、原板架台304の移動方向を判定し、また、送
りピッチxs、ysと焼付はズレ量DISから原板架台
304の移動距離を算出する。これらの処理は、ROM
311 dに予め記憶されている処理プログラムに従っ
てCPU31 Ifが行なう、そして、ステップS34
.838に戻り、次の焼付は位置に移動、する。
はパターンデータPATと、焼付は面数データXP、Y
Pから、原板架台304の移動方向を判定し、また、送
りピッチxs、ysと焼付はズレ量DISから原板架台
304の移動距離を算出する。これらの処理は、ROM
311 dに予め記憶されている処理プログラムに従っ
てCPU31 Ifが行なう、そして、ステップS34
.838に戻り、次の焼付は位置に移動、する。
ステップ834〜S44が繰り返し実行されることによ
り、ブロックBlの展開パターンPTI、PT2 、P
T6 、PT5の画像I]、I2、工6、I5が焼付け
られる。ブロックBl内の画像がすべて焼付けられると
、ステップS43からステップS32に移行し、ブロッ
クB2の焼付は処理が行なわれる。この時のステップS
34において、総統付面数Ntが4であり、交換/回転
面数Ncrの値に等しいので、ステップ535a以下の
処理が実行される。
り、ブロックBlの展開パターンPTI、PT2 、P
T6 、PT5の画像I]、I2、工6、I5が焼付け
られる。ブロックBl内の画像がすべて焼付けられると
、ステップS43からステップS32に移行し、ブロッ
クB2の焼付は処理が行なわれる。この時のステップS
34において、総統付面数Ntが4であり、交換/回転
面数Ncrの値に等しいので、ステップ535a以下の
処理が実行される。
ステップ535aおよびS35bでは、交換を行なうか
回転を行なうかを判定する。どちらの動作を行なうかは
、交換指示データDexによって指定されている。第7
A図の例では、ブロックB2の展開パターンPT3、P
T4がブロックB2の展開パターンに対して180°回
転しているので、ステップS36が実行されて原板ホル
ダを180回転させる。この時、まずX軸駆動モータ3
07とY軸駆動モータ308とを駆動することにより、
原板架台304を回転式原板供給台309の上まで移動
させる。そして、原板架台304内の原板ホルダ310
のための吸着用空圧系の電磁弁351を作動させて、原
板フィルムOFaと殖版用マスクMcとを原板ホルダ3
10から一旦離脱させる。その後、原板フィルム○Fa
と殖版用マスクMcとを乗せた回転式原板供給台309
を180°回転させる。さらに、電磁弁343を作動さ
せて原板供給台309の向きを固定するためのラッチを
かける。なお、原板供給台309は、090” 1
80°および270°の向きで固定できるようになって
いる。そして、原板フィルムOFaと殖版用マスクMe
とを再び原板ホルダ310に吸着させることにより、回
転動作が終了する。
回転を行なうかを判定する。どちらの動作を行なうかは
、交換指示データDexによって指定されている。第7
A図の例では、ブロックB2の展開パターンPT3、P
T4がブロックB2の展開パターンに対して180°回
転しているので、ステップS36が実行されて原板ホル
ダを180回転させる。この時、まずX軸駆動モータ3
07とY軸駆動モータ308とを駆動することにより、
原板架台304を回転式原板供給台309の上まで移動
させる。そして、原板架台304内の原板ホルダ310
のための吸着用空圧系の電磁弁351を作動させて、原
板フィルムOFaと殖版用マスクMcとを原板ホルダ3
10から一旦離脱させる。その後、原板フィルム○Fa
と殖版用マスクMcとを乗せた回転式原板供給台309
を180°回転させる。さらに、電磁弁343を作動さ
せて原板供給台309の向きを固定するためのラッチを
かける。なお、原板供給台309は、090” 1
80°および270°の向きで固定できるようになって
いる。そして、原板フィルムOFaと殖版用マスクMe
とを再び原板ホルダ310に吸着させることにより、回
転動作が終了する。
そして、ステップ535bで、原板フィルムOFaや殖
版用マスクMeを交換する場合には、ステップS37が
実行される。この際には、原板架台304が回転式原板
供給台309の上まで移動した後、原板フィルムと殖版
用フィルムを原板ホルダ310から離脱させて、オペレ
ータがこれらを交換する。ただし第7A図、第7B図の
例ではステップS37は実行されない。
版用マスクMeを交換する場合には、ステップS37が
実行される。この際には、原板架台304が回転式原板
供給台309の上まで移動した後、原板フィルムと殖版
用フィルムを原板ホルダ310から離脱させて、オペレ
ータがこれらを交換する。ただし第7A図、第7B図の
例ではステップS37は実行されない。
この後、ステップ338以降の処理が上述と同様に実行
されて、ブロックB2の画像I3、I4の焼付けが行な
われる。
されて、ブロックB2の画像I3、I4の焼付けが行な
われる。
このようにして焼付けが行われた感光材PFには、画像
11〜工6とともに、センタトンボRMlの画像が画像
工1〜工6 の周囲に焼付けられている。なお、各画像
1l−16の間に位置するセンタトンボは、自動マスク
が閉じて焼付けられないようになっている。
11〜工6とともに、センタトンボRMlの画像が画像
工1〜工6 の周囲に焼付けられている。なお、各画像
1l−16の間に位置するセンタトンボは、自動マスク
が閉じて焼付けられないようになっている。
感光材PF上において、画像11〜■6とセンタトンボ
RMI以外の非印刷領域URは、インクが乗らないよう
にするために露光すべき領域である。但し、第12図の
ステップ513(第18図のステップ331〜544)
ではこの非印JjIIglt域URはまだ露光されてい
ない。
RMI以外の非印刷領域URは、インクが乗らないよう
にするために露光すべき領域である。但し、第12図の
ステップ513(第18図のステップ331〜544)
ではこの非印JjIIglt域URはまだ露光されてい
ない。
ステップS14では、第17図の感光材PFの上に第1
1図の焼きおとし用マスクMbを重ね、感光材PF上の
非印刷領域URを露光する。この露光は、いわゆる密着
焼付機を用いて行なうことができる。この処理によって
、非印刷領域URが焼き落とされて印刷時にインクが乗
らないようになる。
1図の焼きおとし用マスクMbを重ね、感光材PF上の
非印刷領域URを露光する。この露光は、いわゆる密着
焼付機を用いて行なうことができる。この処理によって
、非印刷領域URが焼き落とされて印刷時にインクが乗
らないようになる。
ステップS15では、以上のようにして焼付けが行われ
た感光材PFを現像し、これによって印刷版が完成する
。
た感光材PFを現像し、これによって印刷版が完成する
。
以上のように、殖版用マスクMeと焼きおとし用マスク
Mbとを作成し、これらのマスクを用いて多面焼付けを
行うようにすれば、紙パッケージの画像とトンボとを感
光材上に焼付けるとともに、画像とトンボ以外の領域を
焼きおとすことを容易に行なうことができる。また、殖
版用マスクMeと焼きおとし用マスクMbは紙器設計シ
ステムDPSによって容易に作成できる。従って、上記
実施例によれば、多面焼付けを行うための処理の全体に
わたって、熟練を必要とせずに容易に多面焼付けができ
るという利点がある。
Mbとを作成し、これらのマスクを用いて多面焼付けを
行うようにすれば、紙パッケージの画像とトンボとを感
光材上に焼付けるとともに、画像とトンボ以外の領域を
焼きおとすことを容易に行なうことができる。また、殖
版用マスクMeと焼きおとし用マスクMbは紙器設計シ
ステムDPSによって容易に作成できる。従って、上記
実施例によれば、多面焼付けを行うための処理の全体に
わたって、熟練を必要とせずに容易に多面焼付けができ
るという利点がある。
C0変形例
なお、この発明は上記実施例に限られたものではなく、
次のような変形も可能である。
次のような変形も可能である。
■ 焼きおとしマスクデータに形成された印刷領域用の
画像マスク部に隣接して、管理番号を焼付けるための管
理番号マスク部を作成してもよい。
画像マスク部に隣接して、管理番号を焼付けるための管
理番号マスク部を作成してもよい。
第19図は、管理番号マスク部を有する焼きおとしマス
クMblを示す平面図である0図において、6つの印刷
領域RPbの画像マスク部の外側に、rNo、lJ 〜
rNo、6Jという管理番号マスク部MNが形成されて
いる。管理番号マスク部MNは、紙器の外形線Ll
(第7A図参照)の内側で、かつ、印刷領域RPbの外
側に配置されている。この焼きおとしマスクMblを用
いてステップS14の露光を行なうと、管理番号マスク
部MNが露光されず、従って、インクの乗る領域として
刷版上に形成される。そして、この刷版を用いて印刷す
れば、紙器に管理番号を印刷することができる1紙器に
管理番号を印刷しておけば、紙器に不具合が生じた場合
に、刷版上のどの部分でその不具合が生じたかを容易に
見いだすことができるという利点がある。なお、管理番
号は、上記のように配列順でもよく、殖版機における焼
付けの順序でもよい。
クMblを示す平面図である0図において、6つの印刷
領域RPbの画像マスク部の外側に、rNo、lJ 〜
rNo、6Jという管理番号マスク部MNが形成されて
いる。管理番号マスク部MNは、紙器の外形線Ll
(第7A図参照)の内側で、かつ、印刷領域RPbの外
側に配置されている。この焼きおとしマスクMblを用
いてステップS14の露光を行なうと、管理番号マスク
部MNが露光されず、従って、インクの乗る領域として
刷版上に形成される。そして、この刷版を用いて印刷す
れば、紙器に管理番号を印刷することができる1紙器に
管理番号を印刷しておけば、紙器に不具合が生じた場合
に、刷版上のどの部分でその不具合が生じたかを容易に
見いだすことができるという利点がある。なお、管理番
号は、上記のように配列順でもよく、殖版機における焼
付けの順序でもよい。
■ 上記実施例は、紙パッケージなどの紙器に画像を印
刷するための刷版を作成する例を示した。
刷するための刷版を作成する例を示した。
しかし、この発明は紙器に限らず、ラベルの印刷などに
使用する刷版の作成にも適用できる。一般的には、多面
付けする各画像に外接する長方形を仮想したときに、そ
の各長方形が互いに部分的に重なるように画像を多面付
けする場合に本発明を効果的に適用することができる。
使用する刷版の作成にも適用できる。一般的には、多面
付けする各画像に外接する長方形を仮想したときに、そ
の各長方形が互いに部分的に重なるように画像を多面付
けする場合に本発明を効果的に適用することができる。
(発明の効果)
以上説明したように、この発明の多面焼付は方法によれ
ば、第1のマスクは、画像の領域の形状とレジスタマー
クの位置・形状とが決まっていれば容易に作成でき、ま
た、第2のマスクも多面付けの配置が決まっていれば容
易に作成できる。第1のマスクを用いて各画像とレジス
タマークとを感光材上に焼付け、第2のマスクを用いて
感光材上の他の部分を露光すれば、所望の刷版が得られ
る。従って、マスクの作成と焼付けとを含めた工程の全
般にわてって、熟練を要さずに容易に多面焼付けができ
るという効果がある。
ば、第1のマスクは、画像の領域の形状とレジスタマー
クの位置・形状とが決まっていれば容易に作成でき、ま
た、第2のマスクも多面付けの配置が決まっていれば容
易に作成できる。第1のマスクを用いて各画像とレジス
タマークとを感光材上に焼付け、第2のマスクを用いて
感光材上の他の部分を露光すれば、所望の刷版が得られ
る。従って、マスクの作成と焼付けとを含めた工程の全
般にわてって、熟練を要さずに容易に多面焼付けができ
るという効果がある。
また−1殖版機による多面焼付けを行なうに際して、第
2のマスクの作成時に使用した多面付はデータを利用す
るようにすれば、殖版機を制御するためのデータを別途
新たに作成すること無く、多面焼付けを行なうことがで
きるという効果がある。
2のマスクの作成時に使用した多面付はデータを利用す
るようにすれば、殖版機を制御するためのデータを別途
新たに作成すること無く、多面焼付けを行なうことがで
きるという効果がある。
さらに、第2のマスク上の画像マスク部に隣接して、番
号マスク部を形成しておけば、多面付けした各画像の品
質管理のための番号を印刷できる刷版が得られるという
効果がある。
号マスク部を形成しておけば、多面付けした各画像の品
質管理のための番号を印刷できる刷版が得られるという
効果がある。
また、多面焼付はデータ作成装置では、原板上および感
光材上における画像とレジスタマークとの位置や方向に
基づいて、第1と第2のマスクの形状を表わすマスクデ
ータを作成する手段と、殖版機を制御するための多面付
はデータを作成する手段とを備えるようにしたので、こ
れらのデータを用いて第1と第2のマスクを容易に作成
でき、かつ、殖版機で多面焼付けを容易に行なうことが
できるという効果がある。
光材上における画像とレジスタマークとの位置や方向に
基づいて、第1と第2のマスクの形状を表わすマスクデ
ータを作成する手段と、殖版機を制御するための多面付
はデータを作成する手段とを備えるようにしたので、こ
れらのデータを用いて第1と第2のマスクを容易に作成
でき、かつ、殖版機で多面焼付けを容易に行なうことが
できるという効果がある。
第1A図は、この発明の一実施例を適用してマスク等を
作成する紙器設計システムを示す斜視図、第1B図は、
その電気的構成を示すブロック図、第2図は、実施例に
おけるマスクの作成手順を示すフローチャート、 第3八図ないし第3E図は、第2図の手順において処理
される形状を示す説明図、 第4八図ないし第4C図は、紙器設計システムによって
作成されるデータを示す説明図、第5A図および第5B
図は、殖版用マスクを示す平面図、 第6図は、多面付けのパターンを示す説明図、第7A図
および第7B図は、多面付けの配置を示す説明図、 第8図は、多面付はデータの内容を示す説明図、第9図
は、焼付は順序のパターンを示す説明図、第10図は、
自動マスクの開閉状態を示す説明図、 第11図は、焼きおとし用マスクを示す平面図、第12
図は、刷版の作成手順を示すフローチャート、 第13図は、殖版機を示す斜視図、 第14図は、殖版機の電気的構成を示すブロック図、 第15図は、原板を示す平面図、 第16A図は、原板ホルダを示す平面図、第16B図は
、その正面図、 第17図は、多面焼付けされた感光材を示す平面図、 第18図は、多面焼付けの手順を示すフローチャート、 第19図は、焼きおとし用マスクの他の実施例を示す平
面図、 第20A図および第20B図は、従来技術におけるマス
クを示す説明図である。 OF、OFa・・・原板フィルム、
作成する紙器設計システムを示す斜視図、第1B図は、
その電気的構成を示すブロック図、第2図は、実施例に
おけるマスクの作成手順を示すフローチャート、 第3八図ないし第3E図は、第2図の手順において処理
される形状を示す説明図、 第4八図ないし第4C図は、紙器設計システムによって
作成されるデータを示す説明図、第5A図および第5B
図は、殖版用マスクを示す平面図、 第6図は、多面付けのパターンを示す説明図、第7A図
および第7B図は、多面付けの配置を示す説明図、 第8図は、多面付はデータの内容を示す説明図、第9図
は、焼付は順序のパターンを示す説明図、第10図は、
自動マスクの開閉状態を示す説明図、 第11図は、焼きおとし用マスクを示す平面図、第12
図は、刷版の作成手順を示すフローチャート、 第13図は、殖版機を示す斜視図、 第14図は、殖版機の電気的構成を示すブロック図、 第15図は、原板を示す平面図、 第16A図は、原板ホルダを示す平面図、第16B図は
、その正面図、 第17図は、多面焼付けされた感光材を示す平面図、 第18図は、多面焼付けの手順を示すフローチャート、 第19図は、焼きおとし用マスクの他の実施例を示す平
面図、 第20A図および第20B図は、従来技術におけるマス
クを示す説明図である。 OF、OFa・・・原板フィルム、
Claims (4)
- (1)原板上の画像とレジスタマークとを感光材上に多
面焼付けするに際して、前記感光材上に焼付ける複数の
画像を、その各画像に外接する長方形が互いに部分的に
重なるように配置する画像の多面焼付け方法であつて、 (a)前記原板上の領域のうちで、前記画像と前記レジ
スタマークとを除く領域を遮光するための第1のマスク
と、 前記感光材上の領域のうちで、前記複数 の画像の領域と前記レジスタマークの領域とを遮光する
ための第2のマスクとを作成し、 (b)前記原板と前記第1のマスクとを重ねて、前記感
光材上に前記画像と前記レジスタマークとを多面焼付け
した後、 (c)前記感光材と前記第2のマスクとを重ねて露光す
ることにより、前記感光材上の領域のうちで多面付けさ
れた前記画像と前記レジスタマーク以外の領域を露光す
ることを特徴とする画像の多面焼付け方法。 - (2)第2のマスクは、感光材上における複数の面像の
焼付け位置とそれらの向きとを表す多面付けデータと、
第1のマスクの形状を表す第1マスクデータとに基づい
て作成するとともに、ステップ(b)における多面焼付
けは、前記多面付けデータに基づいて殖版機が行なう請
求項1記載の画像の多面焼付け方法。 - (3)第2のマスクは、多面付けされた複数の画像の領
域を遮光する複数の画像マスク部のそれぞれについて、
各画像マスク部に隣接した所定の位置に、各画像マスク
部ごとに異なる番号の形状を形取った番号マスク部を備
える請求項1または2記載の画像の多面焼付け方法。 - (4)殖版機を用いて原板上の画像とレジスタマークと
を感光材上に多面焼付けする際に、前記感光材上に焼付
ける複数の画像を、その各画像に外接する長方形が互い
に部分的に重なるように配置する画像の多面焼付け方法
において使用する装置であって、 (a)前記原板上の前記画像と前記レジスタマークとの
形状および位置に基づいて、前記原板上の領域のうちで
前記画像と前記レジスタマークとを除く領域を遮光する
ための第1のマスクの形状を表わす第1マスクデータを
作成する第1マスクデータ作成手段と、 (b)前記第1マスクデータ並びに前記感光材上におけ
る前記複数の画像の位置および方向に基づいて、前記感
光材上の領域のうちで前記複数の画像の領域と前記レジ
スタマークの領域とを遮光するための第2のマスクの形
状を表わす第2マスクデータを作成する第2マスクデー
タ作成手段と、(c)前記殖版機を制御するためのデー
タとして、前記感光材上における前記複数の画像の位置
および方向を表わす多面付けデータを作成する多面付け
データ作成手段とを備えることを特徴とする多面焼付け
データ作成装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP91101347A EP0441254B1 (en) | 1990-02-06 | 1991-02-01 | Photocomposing method and system therefor |
DE69111477T DE69111477T2 (de) | 1990-02-06 | 1991-02-01 | Photosatzverfahren und -system. |
US07/651,571 US5077573A (en) | 1990-02-06 | 1991-02-06 | Photocomposing method and system therefor |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2-26877 | 1990-02-06 | ||
JP2687790 | 1990-02-06 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03273253A true JPH03273253A (ja) | 1991-12-04 |
JP2562711B2 JP2562711B2 (ja) | 1996-12-11 |
Family
ID=12205525
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2112006A Expired - Lifetime JP2562711B2 (ja) | 1990-02-06 | 1990-04-27 | 画像の多面焼付け方法および多面焼付けデータ作成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2562711B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9477910B2 (en) | 2013-11-25 | 2016-10-25 | Fujifilm Corporation | Image editing apparatus, image editing method, and non-transitory storage medium |
-
1990
- 1990-04-27 JP JP2112006A patent/JP2562711B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9477910B2 (en) | 2013-11-25 | 2016-10-25 | Fujifilm Corporation | Image editing apparatus, image editing method, and non-transitory storage medium |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2562711B2 (ja) | 1996-12-11 |
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