JPH03254094A - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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Publication number
JPH03254094A
JPH03254094A JP5213790A JP5213790A JPH03254094A JP H03254094 A JPH03254094 A JP H03254094A JP 5213790 A JP5213790 A JP 5213790A JP 5213790 A JP5213790 A JP 5213790A JP H03254094 A JPH03254094 A JP H03254094A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cavity
heating chamber
heated
wall surface
heating
Prior art date
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Pending
Application number
JP5213790A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomotaka Nobue
等隆 信江
Naoyoshi Maehara
前原 直芳
Takahiro Matsumoto
松本 孝広
Daisuke Betsusou
大介 別荘
Yuji Nakabayashi
裕治 中林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP5213790A priority Critical patent/JPH03254094A/ja
Publication of JPH03254094A publication Critical patent/JPH03254094A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
  • Electric Ovens (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はマイクロ波によって固形体や流動体からなる被
加熱物を加熱する高周波加熱装置に関するものであり、
さらに詳細に言えば電子レンジ専用食品などのような1
〜2人用の食品を加熱調理できるコンパクトな加熱室を
もった高周波加熱装置に関する。
従来の技術 高周波加熱装置の代表は電子レンジである。従来の電子
レンジは一家庭(3〜5人)の調理が行えるような加熱
室の容積を備えている。このような電子レンジは3〜5
人用の調理加熱が行えるように加熱室に給電されるマイ
クロ波量が調整されていた。
このマイクロ波量は被加熱物の大きさ、形状、素材によ
って一様ではなく、一般には水を用いてそのマイクロ波
量が測定されている。電子レンジの製品に明示されてい
るマイクロ波出力はJISで規定された水負荷2000
ccにおける出力値である。
ところが電子レンジはその最大の長所であるスピード加
熱調理を活かし、たとえば電子レンジ専用食品の調理力
り熱、晩酌用の酒のかんなとに使用されている。これら
の調理は水負荷に換算すれば高々500cc程度である
電子レンジは負荷の量が少なくなると実質のマイクロ波
出力が低下する。たとえば牛乳パンク、酒−合等の量に
相当する水200ccに対するマイクロ波出力は水20
00ccに対して70%前後の出力になっている。
一方、社会環境を振り返れば電子レンジ専用食品、冷凍
食品の出現および外食産業の増大にともなって食生活に
変化が現れているし、さらには余暇の充実にともなって
アウトドアーレジャーが盛んになってきた。このような
社会環境に対して軽量コンパクト、できれば持ち運びで
きアウトドアで使用できる高周波加熱装置が望まれてい
る。
この種の装置をコンパクトにするには被加熱物を収納す
る加熱室の容量を小さくする必要がある。
従来の加熱室はそこに給電されるマイクロ波の波長の約
2〜3倍の幅及び奥行き寸法で構成されている。このた
めこの加熱室には数個から十数個の強い電界空間が形成
される。この強電界空間の分布はそのままでは被加熱物
を不均一に加熱するので実用構成ではこの強電界分布を
乱す手段を用いたり被加熱物を回転させる手段を用いて
均一加熱を促進している。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、この加熱室を仮にマイクロ波の波長の2
倍以下の寸法でもって幅および奥行き寸法を構成しよう
とすると加熱室内に生しる強電界空間は数個以下になり
、強電界分布をかなり強引に乱さないと被加熱物の均一
加熱が促進されにくい課題がある。この強引な手段とは
たとえて言えば一畳相当の底面積をもつ加熱室に金属羽
根を持った一般的な大きさの扇風機を置くようなもので
あり、加熱室の使用可能な実質空間が非常に狭くなる課
題を有する。
本発明はかかる従来の課題を解消するもので、コンパク
トな容積の加熱室を有し持ち運びをも可能にする利便性
をもった高周波加熱装置を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段 上記課題を解決するために本発明の高周波加熱装置は給
電されるマイクロ波を実質的に閉じ込める空胴内部にあ
って被加熱物が収納される実質空間を形成する加熱室に
おいて、前記空胴の壁面に対して少なくとも略中央部が
所定の隙間をもって配設された非金属性の材料からなる
前記被加熱物が載置される壁面と、前記載置壁面に対面
する壁面が非金属性の材料で構成されている。
作用 本発明は上記した構成により、被加熱物を空胴の壁面よ
り実質的に遠ざけることで被加熱物が存在する空間の電
界の強弱の差を緩和し均一加熱を促進している。
実施例 以下、本発明の実施例を添付図面にもとづいて説明する
第1図および第2図において、■はマイクロ波を発生す
るマグネトロン、2はマグネトロン1より発生するマイ
クロ波を実質的に閉じ込める空胴3に伝送する導波管、
4は空胴の壁面に設けられたマイクロ波給電開口、5は
給電開口の下方を回転しながら実質的にこの開口より給
電されるマイクロ波を攪拌して空胴内に乱放射する電波
攪拌羽根、6は電波攪拌羽根が設けられた空間を覆う低
誘電損失材料からなる仕切り板、7は空胴3を形成する
壁面に設けられた空胴外方向に所定の深さ(10〜20
mm)をもった凸形状しぼり部、8はこの凸形状しぼり
部を覆うとともに被加熱物が載置される底平面を形成す
る硝子、セラミック、シリコン積層板などの非金属材料
でもって構成された底面である。以上の構成において、
被加熱物が実質的に収納できる加熱室9の空間は上下の
壁面が被金属材料で構成されている。
10はマグネトロンを駆動制御する電源部、11は加熱
室9の前面を開閉じ被加熱物を加熱室に出し入れする扉
、12は操作パネル、13は本体ボディ、14は本体支
持部である。
このような構成において、被加熱物が載置される底面は
マイクロ波を実質的に閉じ込める空胴壁面に対して所定
の隙間をもって配設される領域が形成される。この隙間
によってマイクロ波は被加熱物を透過し空胴壁に当たっ
て反射しふたたび被加熱物に入射するので均一加熱が促
進できる。また、小さな容積の空胴に対して空胴内には
数個の強電界空間が生しるがこの強電界空間は空胴壁面
上あるいは空胴内部の空間に点在する。この強電界空間
に被加熱物を存在させないことが均一加熱を促進させる
手法である。凸形状しぼり部の深さを10〜20鵬にす
ることでこれを達成している。また電波攪拌羽根によっ
て空胴内の強電界分布はいくらか乱されることになるた
め被加熱物が強電界空間に介在してもその介在部は常時
強電界空間に支配されることなく均一加熱が促進される
。なお、電波攪拌手段は可能な範囲で薄型でかつ大径に
するのがよい。
第3図は本発明の他の実施例を示すものであり、加熱室
の底板8は空胴に設けられた複数の凸形状しぼり部15
〜19によって空胴壁と底板との隙間が分散配列されて
いる。被加熱物としてたとえばコヒー20が加熱室に収
納された場合、同図に示したように空胴の凸形状しぼり
部がコーヒーコツプ底面下に分散される。これによって
コーヒーは上下方向が均一に加熱される。
以下に本発明の構成寸法の一実施例を示す。加熱室は幅
寸法185 mm、奥行き寸法155閣、高さ寸法11
0mm、しぼり部は半径60mm、深さ10肛、電波攪
拌手段は高さ11碓、半径60mm、上下の非金属性材
料はシリコン積層板厚み1.6肛である。この加熱室を
用いて自動販売機用のコーヒーカ、7プに150ccの
コーヒーを入れたものをマイクロ波加熱すると、その上
部の温度は66°C1底部の塩度は67°Cであった。
発明の効果 以上のよう乙こ本発明の高周波加熱装置によれば次の効
果が得られる。
(1)被加熱物か収納される実質の加熱室の底板をマイ
クロ波を閉じ込める空胴の壁面に対して間隙をもたせて
配設するとともに非金属性材料で構成したことにより、
被加熱物の上下方向からマイクロ波を入射できるととも
に入射位置をより広範囲にすることができ均一加熱が促
進できる。
(2)被加熱物が載置される実質の加熱室の底板を空胴
壁面に対して隙間を持たせて配設した構成により、被加
熱物を空胴壁面に生しる強電界空間に介在させることを
回避して被加熱物の均一加熱を促進できる。
(3)マイクロ波は閉じ込める空胴内に被加熱物を実質
的に収納する加熱室の上下壁面を非金属性材料でもって
構成することにより、均一加熱を損なわないコンパクト
な空洞を構成できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す高周波加熱装置の断面
図、第2図は同主要部の断面図、第3図は本発明の他の
実施例を示す高周波加熱装置の主要部の断面図である。 1・・・・・マグネトロン、3・・・・・・空胴、6・
・・・・・低誘電損失材料からなる仕切り板(非金属性
の材料からなる壁面L7,15〜1つ・・・・・・しぼ
り部、8・・・・・・非金属性の材料からなる底板、9
・・・・・・加熱室。 第 1図 1− マグネトロン 3− 色幅 ♂   イ氏)もttt大、iオgb\5tJるイ士ち
ηオ器ヒγ、 15.IQ−f、l1g1S 8 − u 4J+l’t=−の鰐f)P 5ris 
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Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)給電されるマイクロ波を実質的に閉じ込める空胴
    内部にあって被加熱物が収納される実質空間を形成する
    加熱室を設け、前記空胴の壁面に対して少なくとも略中
    央部が所定の隙間をもって配設された非金属性の材料か
    らなる前記被加熱物が載置される壁面と、前記載置壁面
    に対面する壁面が非金属性の材料で構成された高周波加
    熱装置。
  2. (2)給電されるマイクロ波を実質的に閉じ込める空胴
    内部にあって被加熱物が収納される実質空間を形成する
    加熱室を設け、前記空胴の壁面に対して少なくとも略中
    央部が所定の隙間をもって配設された非金属性の材料か
    らなる前記被加熱物が載置される壁面と、前記載置壁面
    に対面する壁面が低誘電損失材料で構成された高周波加
    熱装置。
JP5213790A 1990-03-02 1990-03-02 高周波加熱装置 Pending JPH03254094A (ja)

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JP5213790A JPH03254094A (ja) 1990-03-02 1990-03-02 高周波加熱装置

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JPH03254094A true JPH03254094A (ja) 1991-11-13

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JP5213790A Pending JPH03254094A (ja) 1990-03-02 1990-03-02 高周波加熱装置

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