JPH03242922A - ウエハ周辺露光方法及びウエハ周辺露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、半導体製造工程で塵の発生原因となるウェ
ハ周辺部の不要レジストを現像工程で除去するための板
状物の周辺部露光装置及びウェハ周辺露光方法に関する
ものである。

［従来の技術］ ＩＣやＬＳＩなどの半導体装置の製造に際しては、微細
パターンを形成するにあたって、シリコンウェハなどの
表面にレジストを塗布し、さらに露光、現像を行ってレ
ジストパターンを形成し、このレジストパターンをマス
クにして、イオン注入、エツチング、リフトオフなどの
加工が施される。通常、レジスト膜の塗布はスピンコー
ド法を用いてウェハの表面全域に塗布される。この塗布
に際しては、膜厚を均一にするためにウェハを回転させ
ながら処理を行っている。

レジスト膜の塗布が終了したウェハは、ウェハの周辺部
を把持しながら搬出される。このとき、把持部分のレジ
ストが剥がれることがある。この剥がれは、ウェハカセ
ットなどの収納器の壁に擦れることによっても生じる。

このような事故が生じた場合には、正しいパターンを形
成できなくなり、歩留りを低下させる。

ウェハ周辺部の不要レジストか塵となって歩留りを低下
させることは、特に、集積回路の高機能化及び微細化が
進みつつある現在、深刻な問題になっている。

そこで、最近では、パターン形成のための露光工程とは
別に、ウェハ周辺部の不要レジストを現像工程で除去す
るために、別途露光を行うウニへ周辺露光法が行われて
いる。このウニへ周辺露光法は、レジストが塗布された
ウェハを回転させながら、ライトガイドファイバで導か
れた光をウニへ周辺部に照射し、環状に露光するもので
ある。

なお、周辺露光に関する技術は、例えば、特願昭６３−
２２４５３１号及び特願昭６３−２７７４５５号に記載
がある。

［発明が解決しようとする課題］ しかし、現像工程で除去する必要のあるレジストが形成
されている部分の形状は一様ではない。

例えば、後の工程で保持部分となる部分の形状や位置は
ウェハや保持機構の種類などによって変る。また、ウェ
ハは逐次移動型縮小投影露光装置（以下、ステッパとい
う）によって、基盤の目状に露光されるが、正しくｌチ
ップ分のパターンを描ききれない部分の形状は、ｌチッ
プの大きさなどのウェハの利用設計などによって様々に
変る。

すなわち、第４図に示すように、ウェハｌの不要レジス
ト部分ＩＡか階段状であるにもかかわらず、従来の露光
装置はウェハ周辺部を環状に一定幅に露光しており、第
４図の如く階段状の形状には対処することができない。

無理に行おうとすれば、ウェハのエツジからの幅の大き
い周状の露光をせざるを得す、必要なレジスト部分まで
露光する結果になる。

この発明の目的は、板状の被処理物の周辺部を任意の形
状に露光できるようにした板状物の周辺部露光装置及び
ウェハ周辺露光方法を提供することにある。

［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成するために、この発明は、光源と、入射
端が光源からの光を受ける位置に配置され、出射端が板
状物の周辺部の表面に向かい合わせて設けられた光ファ
イバと、該光ファイバの出射端を前記板状物の表面に平
行な平面内で少なくとも互いに直角な２つの方向に移動
させる移動機構と、該移動機構を制御する制御機構と、
板状物を回転させる回転機構とを備えた構成にしている
。

さらに、周辺露光の対象がウェハである場合、光源から
の光を導く光ファイバの出射端をウェハ周辺部に対向さ
せて配置し、前記出射端をウェハに平行な平面内で互い
に直交する２つの方向へ移動させながらウェハ周辺部を
階段状に露光し、ついでウェハを９０°回転させる動作
をそれぞれ繰返してつ１′−へ周辺部の全周を露光する
方法が最適である。

［作用］ 上記した手段によれば、光を照射する光ファイバの出射
端は、板状物の周辺上の任意の位置へ移動することがで
きる。したがって、板状物の形状及び不要レジストの形
状がどのような形状であっても周辺露光を行うことがで
きる。

また、板状物を回転機構によって回転させることにより
、移動機構の移動距離を短くし、移動機構の構成の簡略
化及び制御の負担を軽減することができる。

さらに、ウェハを対象とした場合、光ファイバの出射端
を円形なウェハの周辺のほぼ１／４の範囲に移動させな
がら露光し、この露光の終了後にウェハを９０°回転さ
せて次の１／４を露光する動作を４回繰返すと全周の周
辺露光が完了する。

これにより、レジストの不要部分が階段状であっても、
必要なレジストを露光させることなく周辺露光を行うこ
とが可能になる。

［実施例］ 第１図はこの発明の一実施例を示す斜視図である。ここ
では、板状物としてウェハを例にしている。

処理対象のウェハｌは、回転ステージ２に真空吸着され
、この回転ステージ２はモータを備えた駆動機構３によ
って回転駆動される。なお駆動機構３は、制御装置４に
よって制御される。

露光部は、光学系、光ファイバ、及び移動機構から構成
される。光学系は、光源としてのランプ５、このランプ
５の光を集光させて反射する楕円集光鏡６．この楕円集
光鏡６からの光を水平方向へ反射させる反射鏡７．及び
反射鏡７の出射光路に出入可能に配設されるシャッタ８
から成る。

反射鏡７の集光位置には、照射用光ファイバ９の入射端
９ａが配設され、その出射端９ｂはウェハｌの周辺上に
移動可能に配設される。また、照射用光ファイバ９によ
る照射光は、照射面に方形に投影されるようにされてい
る。尚、アームｌｌには、出射端９ａと一体に移動可能
に設けられたエツジ検出用のフォトセンサ（不図示）が
あり、このエツジ検出用のフォトセンサからの信号に従
って、出射端９ｂの位置を制御する。

照射用光ファイバ９の出射端９ｂは、移動機構１０のア
ーム１１に保持されている。アーム１１は、移動機構１
０に設けられた複数のモータによりＸ−Ｙ方向へ自在に
移動可能に構成されている。

次に、第１図及び第２図に従って、上記構成の実施例の
動作について説明する。

まず、板状物が第１図及び第２図のような円板状のウェ
ハｌの場合についで、その周辺露光の方法を説明する。

制御装置４には、予め被処理物のレジスト不要部分の幅
や長さがデータとしてメモリされている。そして、この
メモリから読出したデータにしたがって、制御装置４は
移動機構ｌＯのアーム１１の移動を制御する。

■まず、ウェハｌを回転ステージ２上に載置し、真空吸
着する。ついで、前述のフォトセンサによるエツジ検出
を開始しながら、出射端９ｂを第１図のＹ方向に移動さ
せ、該フォトセンサの０Ｎ４ＯＦＦによってウェハｌの
エツジを検出し、出射端９ｂをエツジから所定距離の周
辺部を露光する位置に配置する。この位置が第２図のａ
点を露光する位置てあり、この状態て、シャッタ８を開
け（光路から引き出す）る。これにより、ランプ５の光
は照射用光ファイバ９を介して出射端９ｂに到達し、ウ
ェハｌ上のａ点からエツジにかけて方形状に照射する。

■ついで、ｂ位置に向けて出射端９ｂから光を照射しな
からＸ方向へ移動させる。

■次に、ｂ位置からＣ位置まで、出射端９ｂから光を照
射しなからＹ方向へ移動させる。

■次に、Ｃ位置からｄ位置へ、出射端９ｂから光を照射
しなからＸ方向へ移動させる。

■ここで、回転ステージ２を９０”回転させ、ウェハｌ
を横向きにさせる。

■ついで、前記■〜■まての作業を繰返し、２度の露光
が終了した時点で、回転ステージ２を９０°回転させる
。

■さらに、前記■〜■を２回繰返して行うことにより、
ウェハｌの周辺部の全周の露光が終了する。

なお、シャッタ８は、上記の９０’の回転の際には、パ
ターン形成部１００が露光されるのを防止するために、
シャッタ８を閉じている。

第３図は板状物が、プリント基板、液晶基板などの角形
物１２である場合である。この場合の処理は次のように
なる。

■ウェハ１の場合と同様に、回転ステージ２上に角形ｖ
ｌＪ１２を載置、真空吸着し、エツジをフォトセンサて
検出し、出射端を所定位置に配置する。

■そして、シャッタを開き、辺ｅに沿って出射端９ｂか
移動するように移動機構１０を駆動し、−辺の周縁部を
露光する。この場合、出射端９ｂの移動は、Ｘ方向から
行っても、−Ｘ方向から行ってもよい。

■次に、回転ステージ２を９０’回転させ、辺ｆのコー
ナ部に出射端９ｂを移動させた後、他端　０ に向って出射端９ｂを移動させ、辺ｆを露光する。

■ついで、回転ステージ２を９０°回転させ、■と同様
の処理を繰返し、辺ｇを露光する。

０次に、前記■と同一の処理を実行することにより、辺
りの周縁部の露光を行い、４辺の周縁部の露光が終了す
る。

以上のように、露光に際し、回転ステージ２を９０″単
位で回転させる操作を加えることにより、アーム１１の
Ｘ方向及びＹ方向の移動距離を少くすることができ、移
動機構ｌＯの構造を簡略化することができる。

［発明の効果］ この発明は上記の通り構成されているので、次に記載す
る効果を奏する。

請求項（１）に記載の板状物の周辺部露光装置において
は、板状及び不要レジストの形状がどのような形状であ
っても周辺露光を行うことかでき、移動機構の移動操作
を少くし、周辺露光の処理時間の低減、移動機構の構成
の簡略化及び制御１ の負担を軽減することを図ることができる。

請求項（２）に記載のウェハ周辺露光方法においては、
レジストの不要部分が階段状てあっても、必要なレジス
トを露光させることなく周辺露光を行うことが可能にな
る。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例を示す斜視図、第２図は板
状物がウェハの場合の平面図、第３図は板状物が角形物
の場合の平面図、第４図は不要部分が階段状に形成され
た板状物の平面図である。 図中、 １：ウェハ ２：回転ステージ ３：駆動機構 ４：制御装置 ５：ランプ ９：照射用光ファイバ ９ａ：入射端 ９ｂ：出射端 １０：移動機構 　２ １１：アーム

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）光源と、 入射端が光源からの光を受ける位置に配置され、出射端
   が板状物の周辺部の表面に向かい合わせて設けられた光
   ファイバと、 該光ファイバの出射端を前記板状物の表面に平行な平面
   内で少なくとも互いに直角な２つの方向に移動させる移
   動機構と、 該移動機構を制御する制御機構と、板状物を回転させる
   回転機構とを具備することを特徴とする板状物の周辺部
   露光装置。
2. （２）光源からの光を導く光ファイバの出射端をウェハ
   周辺部に対向させて配置し、 前記出射端をウェハに平行な平面内で互いに直交する２
   つの方向へ移動させながらウェハ周辺部を階段状に露光
   し、 ついで、ウェハを９０゜回転させる動作をそれぞれ繰返
   してウェハ周辺部の全周を露光することを特徴とする板
   状物の周辺露光方法。