JPH0323923U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0323923U JPH0323923U JP8414789U JP8414789U JPH0323923U JP H0323923 U JPH0323923 U JP H0323923U JP 8414789 U JP8414789 U JP 8414789U JP 8414789 U JP8414789 U JP 8414789U JP H0323923 U JPH0323923 U JP H0323923U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- susceptor
- chemical vapor
- vapor phase
- reaction chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 5
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 claims description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 2
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Description
第1図は本考案機構の一実施例を適用した化学
気相生成装置の一例の構成を示す簡略縦断面図、
第2図は搬送用フオークに基板を載置した状態を
示す説明図、第3図は本考案におけるリングの一
例を示す平面図、第4図a,bはそれぞれ本考案
におけるサセプタ周りの側面図及び平面図、第5
図は従来機構の一例を示す簡略縦断面図である。 1……反応室、2……サセプタ、3……基板(
ウエーハ)、4……(石英)ヒータカバー、5…
…ヒータ、6……リング状回転部、7……回転駆
動部、8……ガス導入管、9……排気管、12…
…支承部、15……排気管、17……基板支持棒
用孔、18……溝部、19……基板支承棒、20
……爪部、21……(石英)リング、22……(
石英)リング支持棒、23……シール用フレキシ
ブル管、24……昇降駆動部。
気相生成装置の一例の構成を示す簡略縦断面図、
第2図は搬送用フオークに基板を載置した状態を
示す説明図、第3図は本考案におけるリングの一
例を示す平面図、第4図a,bはそれぞれ本考案
におけるサセプタ周りの側面図及び平面図、第5
図は従来機構の一例を示す簡略縦断面図である。 1……反応室、2……サセプタ、3……基板(
ウエーハ)、4……(石英)ヒータカバー、5…
…ヒータ、6……リング状回転部、7……回転駆
動部、8……ガス導入管、9……排気管、12…
…支承部、15……排気管、17……基板支持棒
用孔、18……溝部、19……基板支承棒、20
……爪部、21……(石英)リング、22……(
石英)リング支持棒、23……シール用フレキシ
ブル管、24……昇降駆動部。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 反応室1内に反応ガスを導入しつつ排気し
、サセプタ2上の基板3をヒータカバー4で仕切
られたヒータ5により加熱し、かつ当該サセプタ
2を回転することにより基板3に薄膜を生成する
化学気相生成装置において、サセプタ2の複数箇
所に基板支持棒用孔17を設け、かつこれらの孔
17に連通してサセプタ2の外周下部に溝部18
を設け、これらの溝部18において各基板支持棒
用孔17に挿入した基板支持棒19をそれぞれ爪
部20で支持するリング21を付設すると共に、
これらのリング21に、反応室1に貫通せしめた
リング支持棒22を対向配置し、これらのリング
支持棒22と反応室1との間はシール用フレキシ
ブル管23で連接せしめ、各リング支持棒22を
昇降駆動部24に連結してなる化学気相生成装置
における基板昇降機構。 (2) 化学気相生成装置は反応室1にリング状回
転部6を支承し、この回転部6にヒータカバー4
を取付け、このヒータカバー4上には基板3を載
置したサセプタ2を設置すると共にリング状回転
部6に回転駆動部7を連結せしめる請求項第1項
に記載の化学気相生成装置における基板昇降機構
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8414789U JPH0323923U (ja) | 1989-07-17 | 1989-07-17 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8414789U JPH0323923U (ja) | 1989-07-17 | 1989-07-17 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0323923U true JPH0323923U (ja) | 1991-03-12 |
Family
ID=31632392
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8414789U Pending JPH0323923U (ja) | 1989-07-17 | 1989-07-17 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0323923U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001118837A (ja) * | 1992-09-07 | 2001-04-27 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体製造装置 |
-
1989
- 1989-07-17 JP JP8414789U patent/JPH0323923U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001118837A (ja) * | 1992-09-07 | 2001-04-27 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体製造装置 |
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