JPH03237007A - 過酸化水素組成物 - Google Patents
過酸化水素組成物Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B15/00—Peroxides; Peroxyhydrates; Peroxyacids or salts thereof; Superoxides; Ozonides
- C01B15/01—Hydrogen peroxide
- C01B15/037—Stabilisation by additives
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、安定化された新規な過酸化水素組成物に関す
る。
る。
〔従来の技術]
過酸化水素水溶液は繊維の漂白、電子工業用ウェハーの
洗浄および殺菌消毒液などの多くの分野において使用さ
れているが、使用迄の輸送、保存期間において過酸化水
素の分解による過酸化水素の濃度低下を防くために、通
常は、安定剤が添加されている。
洗浄および殺菌消毒液などの多くの分野において使用さ
れているが、使用迄の輸送、保存期間において過酸化水
素の分解による過酸化水素の濃度低下を防くために、通
常は、安定剤が添加されている。
過酸化水素の濃度低下は主として、微量に混入している
鉄および銅などの金属不純物による過酸化水素の分解に
起因するものであり、このため、安定剤としてこれらの
金属不純物を封鎖するキレート剤や、これを吸着除去す
る錫酸塩などが使用されている。
鉄および銅などの金属不純物による過酸化水素の分解に
起因するものであり、このため、安定剤としてこれらの
金属不純物を封鎖するキレート剤や、これを吸着除去す
る錫酸塩などが使用されている。
特に、実用上、有効とされるキレート剤はエチレンシア
ごン4酢酸及びニトリロトリ酢酸またはそれらの塩であ
る。
ごン4酢酸及びニトリロトリ酢酸またはそれらの塩であ
る。
しかしながら、公知の安定剤は実用上、過酸化水素の安
定剤として次の様な欠点を有している。
定剤として次の様な欠点を有している。
すなわち、エチレンシアミン4酢酸およびニトリロトリ
酢酸ならびにそれらの塩は初期の安定性は良好であるも
のの、長時間経過するとともに、これらの化合物が分解
されて安定化能力が低下して過酸化水素が分解されるた
め、長期保存には使用し得ない欠点がある。また、錫酸
塩は劣化が少ないものの、これ自体の安定化能力が不足
しておリ、単独では十分な安定化が行ない得ないといっ
た欠点があった。
酢酸ならびにそれらの塩は初期の安定性は良好であるも
のの、長時間経過するとともに、これらの化合物が分解
されて安定化能力が低下して過酸化水素が分解されるた
め、長期保存には使用し得ない欠点がある。また、錫酸
塩は劣化が少ないものの、これ自体の安定化能力が不足
しておリ、単独では十分な安定化が行ない得ないといっ
た欠点があった。
(問題点を解決するための手段〕
本発明者らは、前記の事情に鑑み、種々検討を行なった
結果、ホスホン酸基を2個以上をするキレート剤が劣化
もなく、かつ、実用的に十分な安定化能を有することを
見出し、この新知見に基づいて本発明を到達した。
結果、ホスホン酸基を2個以上をするキレート剤が劣化
もなく、かつ、実用的に十分な安定化能を有することを
見出し、この新知見に基づいて本発明を到達した。
すなわち、本発明はホスホン酸基を2個以上有するキレ
−ト剤および/またはその塩と過酸化水素とを含存する
ことを特徴とする過酸化水素組成物である。
−ト剤および/またはその塩と過酸化水素とを含存する
ことを特徴とする過酸化水素組成物である。
本発明におけるホスホン酸基を2個以」二有するキレー
ト剤には特に制限はないが、この代表例としては、アミ
ノトリ(メチレンホスホン酸)、1ヒドロキシエチリデ
ン−1,1−ジホスホン酸、エチレンシアごンテトラ(
メチレンホスホン酸)、ヘキサメチレンジアミンテトラ
(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリアミンペンタ
(メチレンホスホン酸)、l・リエチレンテトラミンー
\キサ(メチレンホスホン酸)、トリア呉ノトリエチル
アミンへキザ(メチレンホスホン酸)、トランス1.2
−シクロヘキサンシアξンテトう(メチレンホスホン酸
)、グリコールエーテルジアミンテトラ(メチレンポス
ホン酸)およびテトラエチレンペンタミンヘプタ(メチ
レンホスホン酸)などが挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。
ト剤には特に制限はないが、この代表例としては、アミ
ノトリ(メチレンホスホン酸)、1ヒドロキシエチリデ
ン−1,1−ジホスホン酸、エチレンシアごンテトラ(
メチレンホスホン酸)、ヘキサメチレンジアミンテトラ
(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリアミンペンタ
(メチレンホスホン酸)、l・リエチレンテトラミンー
\キサ(メチレンホスホン酸)、トリア呉ノトリエチル
アミンへキザ(メチレンホスホン酸)、トランス1.2
−シクロヘキサンシアξンテトう(メチレンホスホン酸
)、グリコールエーテルジアミンテトラ(メチレンポス
ホン酸)およびテトラエチレンペンタミンヘプタ(メチ
レンホスホン酸)などが挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。
これらは遊離酸の形で使用されるとともに、塩の形でも
使用しうる(以下両者を総称して キレート剤類 と記
すことがある)。
使用しうる(以下両者を総称して キレート剤類 と記
すことがある)。
塩としてはアルカリ金属塩、アンモニウム塩および有機
ア旦ン塩などが使用できる。
ア旦ン塩などが使用できる。
これらの塩の代表例には、ナトリウム塩、カリウム塩5
アンモニウム塩およびトリエタノールアミン塩などが
あり、就中、ナトリウ1、塩、カリウム塩およびアンモ
ニウム塩などが好ましい。
アンモニウム塩およびトリエタノールアミン塩などが
あり、就中、ナトリウ1、塩、カリウム塩およびアンモ
ニウム塩などが好ましい。
これらのキレート剤は、通常は、過酸化水素水溶液と混
合される。
合される。
/
このときの過酸化水素水溶液の過酸化水素濃度には特に
制限はないが、通常ば、l〜90wt%程度とされる。
制限はないが、通常ば、l〜90wt%程度とされる。
キレート剤類の使用量は、過酸化水素水溶液中の金属不
純物の濃度によって異なり、−概に特定しえないが、実
用上、本発明組成物中のキレート剤類の濃度が、約1〜
11000ppとなるような量が好適に使用される。な
お、このキレート剤類の使用量は、一般に、過酸化水素
の濃度とは無関係である。
純物の濃度によって異なり、−概に特定しえないが、実
用上、本発明組成物中のキレート剤類の濃度が、約1〜
11000ppとなるような量が好適に使用される。な
お、このキレート剤類の使用量は、一般に、過酸化水素
の濃度とは無関係である。
過酸化水素水溶液中の金属不純物濃度が極めて低く、ま
た、保存中の汚染も殆どない場合には、キレート剤類の
使用量をlppm未満どしても有効な場合もある。
た、保存中の汚染も殆どない場合には、キレート剤類の
使用量をlppm未満どしても有効な場合もある。
本発明において、ボスホン酸基を2個以上有するキレー
ト剤および/またはその塩を過酸化水素の安定剤として
用いることにより、他の公知のキレ−1・剤を使用した
場合に較べて、過酸化水素水溶液の長期間の安定化が可
能となる。
ト剤および/またはその塩を過酸化水素の安定剤として
用いることにより、他の公知のキレ−1・剤を使用した
場合に較べて、過酸化水素水溶液の長期間の安定化が可
能となる。
通常は、ホスホン酸基を2個以上有するキレト剤および
/ 7Hたはその塩の中の1種または2種以上の化合物
を安定剤として使用することが好ましいが、必要に応し
て、従来の安定剤のような他の安定剤を併用することを
妨げない。
/ 7Hたはその塩の中の1種または2種以上の化合物
を安定剤として使用することが好ましいが、必要に応し
て、従来の安定剤のような他の安定剤を併用することを
妨げない。
また、必要に応して、りん酸塩およびほう酸塩などのp
H調節剤、塩化すトリウムなとの等張化剤ならびにケ
イ酸ナトリウムなどの安定化助剤などを併用することを
妨げない。
H調節剤、塩化すトリウムなとの等張化剤ならびにケ
イ酸ナトリウムなどの安定化助剤などを併用することを
妨げない。
(実施例]
本発明を、実施例により、さらに具体的に説明する。
実施例1
金属不純物として硫酸第二鉄0.5ppm (重量)を
含有し、過酸化水素濃度が31.2wtχの過酸化水素
水溶液に、ホスホン酸基を2個以上有するキレト剤、そ
の塩ならびに他のキレート剤をそれぞれ50ppmとな
るように添加して6力月間、40’Cでの保存安定性試
験を行ない、安定化の比較を行なった。
含有し、過酸化水素濃度が31.2wtχの過酸化水素
水溶液に、ホスホン酸基を2個以上有するキレト剤、そ
の塩ならびに他のキレート剤をそれぞれ50ppmとな
るように添加して6力月間、40’Cでの保存安定性試
験を行ない、安定化の比較を行なった。
結果を第1表に示す。 (以下余白)第1表
〔発明の効果〕
本発明において、ホスホン酸基を2個以上有するキレー
ト剤および/またはその塩を過酸化水素の安定剤として
用いることにより、公知の他のキレート剤を使用した場
合に較べて、長期間の過酸化水素水溶液の安定化が可能
となる。これにより過酸化水素水溶液を、その濃度を実
質的に低下させることなく長期間保存することが可能と
なる。
ト剤および/またはその塩を過酸化水素の安定剤として
用いることにより、公知の他のキレート剤を使用した場
合に較べて、長期間の過酸化水素水溶液の安定化が可能
となる。これにより過酸化水素水溶液を、その濃度を実
質的に低下させることなく長期間保存することが可能と
なる。
Claims (1)
- ホスホン酸基を2個以上有するキレート剤および/また
はその塩と過酸化水素とを含有することを特徴とする過
酸化水素組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3174890A JPH03237007A (ja) | 1990-02-13 | 1990-02-13 | 過酸化水素組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3174890A JPH03237007A (ja) | 1990-02-13 | 1990-02-13 | 過酸化水素組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03237007A true JPH03237007A (ja) | 1991-10-22 |
Family
ID=12339645
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3174890A Pending JPH03237007A (ja) | 1990-02-13 | 1990-02-13 | 過酸化水素組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03237007A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0657627A (ja) * | 1992-06-10 | 1994-03-01 | Fmc Corp | 繊維から二酸化マンガンを除去するための過酸化水素及びホスホン酸の使用 |
EP1035446A3 (en) * | 1999-03-08 | 2001-04-18 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist stripping composition and process for stripping resist |
WO2003027008A1 (de) * | 2001-09-21 | 2003-04-03 | Solvay Interox Gmbh | Stabilisiertes wasserstoffperoxid |
WO2010073976A1 (ja) * | 2008-12-24 | 2010-07-01 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 安定性に優れる過酸化水素水溶液 |
US8802613B2 (en) | 2007-12-13 | 2014-08-12 | Akzo Nobel N.V. | Stabilized hydrogen peroxide solutions |
JP2016121061A (ja) * | 2014-12-24 | 2016-07-07 | オーシーアイ カンパニー リミテッドOCI Company Ltd. | 黄リンの精製方法 |
-
1990
- 1990-02-13 JP JP3174890A patent/JPH03237007A/ja active Pending
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US6323169B1 (en) | 1999-03-08 | 2001-11-27 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resist stripping composition and process for stripping resist |
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