JPH03233403A - 耐久性の優れた増反射膜付ガラス - Google Patents
耐久性の優れた増反射膜付ガラスInfo
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- JPH03233403A JPH03233403A JP31286990A JP31286990A JPH03233403A JP H03233403 A JPH03233403 A JP H03233403A JP 31286990 A JP31286990 A JP 31286990A JP 31286990 A JP31286990 A JP 31286990A JP H03233403 A JPH03233403 A JP H03233403A
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- Optical Filters (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は耐久性の優れた増反射膜付ガラス、特に実用に
供する高耐久のヘッドアップデイスプレィ用コンバイナ
ーに関するものである。
供する高耐久のヘッドアップデイスプレィ用コンバイナ
ーに関するものである。
[従来の技術]
従来、ガラス基板上に金属酸化物増反射膜を設け、これ
をHUDコンバイナーとして用いることが知られており
、一部商品化も行なわれている。増反射膜を得る方法と
しては、工業的にはデイツプコート法、スプレー法、転
写印刷法、スクリーン印刷法などのゾルゲル法がコスト
的に安く、特にスクリーン印刷法は量産技術としては最
も有望と言える。ただし、スクリーン印刷法は、印刷材
料中に有機成分を多量に含むため、膜質的には真空法や
他のゾルゲル法と比較しておりポーラスになりやすく、
耐薬品性等、化学的耐久性が劣化する恐れがあった。
をHUDコンバイナーとして用いることが知られており
、一部商品化も行なわれている。増反射膜を得る方法と
しては、工業的にはデイツプコート法、スプレー法、転
写印刷法、スクリーン印刷法などのゾルゲル法がコスト
的に安く、特にスクリーン印刷法は量産技術としては最
も有望と言える。ただし、スクリーン印刷法は、印刷材
料中に有機成分を多量に含むため、膜質的には真空法や
他のゾルゲル法と比較しておりポーラスになりやすく、
耐薬品性等、化学的耐久性が劣化する恐れがあった。
[発明の解決しようとする課題]
従来、スクリーン印刷で得られるTi酸化物あるいはT
i−Si複合酸化物からなる膜は、長期の耐薬品性試験
で、膜の変質、溶解等が進行してしまうため露出した状
態で用いるには適さない課題を有していた。
i−Si複合酸化物からなる膜は、長期の耐薬品性試験
で、膜の変質、溶解等が進行してしまうため露出した状
態で用いるには適さない課題を有していた。
[課題を解決するための手段]
本発明は前述の課題を解決すべくなされたものであり、
増反射膜がTi、丁aおよびSiの複合酸化物からなる
耐久性の優れた増反射膜を実現するものである。即ち、
本発明は、増反射膜を表面に有するガラスであって、該
増反射膜がTi。
増反射膜がTi、丁aおよびSiの複合酸化物からなる
耐久性の優れた増反射膜を実現するものである。即ち、
本発明は、増反射膜を表面に有するガラスであって、該
増反射膜がTi。
TaおよびSiの複合酸化物を主成分とする膜であるこ
とを特徴とする耐久性の優れた増反射膜付ガラスを提供
するものである。
とを特徴とする耐久性の優れた増反射膜付ガラスを提供
するものである。
本発明において増反射膜は、Ti、TaおよびSLの複
合酸化物を主成分とする膜である。第1図に、Ti、
Ta、 Siの組成に対する膜の性質を示す。
合酸化物を主成分とする膜である。第1図に、Ti、
Ta、 Siの組成に対する膜の性質を示す。
図において、比率は、膜中のTi酸化物(TiO□換算
) 、 Ta酸化物(Ta20g換算) 、 Si酸化
物(SiO2換算)それぞれの酸化物成分全体に対する
重量比で示した。(以下、酸化物成分全体に対するSi
酸化物含有量(SiO□換算) 、Ti酸化物含有量(
TiOz換算) 、Ta酸化物含有量(Ta20s換算
)をそれぞれa、b、c(wt%)で示す)0〈a<4
0(wt%)で、かつ、b:C=100:O〜90:l
Oである領域(第1図中Bで示した部分)は、耐薬品性
、特に耐酸性に劣る。又、0<a<10(wt%)で、
かつ、b : c 〜90: 10〜O: 100であ
る領域(第1図中Cで示した部分)は、油脂等の汚れに
対する耐久性、即ち耐汚れ性に劣る。
) 、 Ta酸化物(Ta20g換算) 、 Si酸化
物(SiO2換算)それぞれの酸化物成分全体に対する
重量比で示した。(以下、酸化物成分全体に対するSi
酸化物含有量(SiO□換算) 、Ti酸化物含有量(
TiOz換算) 、Ta酸化物含有量(Ta20s換算
)をそれぞれa、b、c(wt%)で示す)0〈a<4
0(wt%)で、かつ、b:C=100:O〜90:l
Oである領域(第1図中Bで示した部分)は、耐薬品性
、特に耐酸性に劣る。又、0<a<10(wt%)で、
かつ、b : c 〜90: 10〜O: 100であ
る領域(第1図中Cで示した部分)は、油脂等の汚れに
対する耐久性、即ち耐汚れ性に劣る。
本発明における増反射膜は、増反射膜としての機能を発
揮するためには、ガラスよりも屈折率が高いことが好ま
しい。用途によって必要な屈折率が異なるが、特にヘッ
ドアップデイスプレィ用のコンバイナーとしては、屈折
率が1.8以上であることが好ましい。ヘッドアップデ
イスプレィ用のコンバイナーとしては、屈折率が1.8
未満であると、膜厚を厚くしても好ましい反射率が得ら
れにくいからである、。本発明の増反射膜の構成要素の
屈折率は、TiO□が約2.2〜2.3、丁a20.が
約 2.1〜2.0、Sin、が約 1.5であるため
、Si酸化物及びTa酸化物の含有量が多いと、比較的
低屈折率の膜になる傾向がある。
揮するためには、ガラスよりも屈折率が高いことが好ま
しい。用途によって必要な屈折率が異なるが、特にヘッ
ドアップデイスプレィ用のコンバイナーとしては、屈折
率が1.8以上であることが好ましい。ヘッドアップデ
イスプレィ用のコンバイナーとしては、屈折率が1.8
未満であると、膜厚を厚くしても好ましい反射率が得ら
れにくいからである、。本発明の増反射膜の構成要素の
屈折率は、TiO□が約2.2〜2.3、丁a20.が
約 2.1〜2.0、Sin、が約 1.5であるため
、Si酸化物及びTa酸化物の含有量が多いと、比較的
低屈折率の膜になる傾向がある。
即ち、a > 50(wt%)の領域、および、10<
a <50 (wt%)で、かつ、b : c =5
0+ 50〜O: 100の領域(第1図中りで示し
た部分)は、屈折率が低く、増反射膜としては好ましく
ない。
a <50 (wt%)で、かつ、b : c =5
0+ 50〜O: 100の領域(第1図中りで示し
た部分)は、屈折率が低く、増反射膜としては好ましく
ない。
以上より本発明の増反射膜は、第1図中領域Aで示した
部分、即ち、 (i) 10≦a≦40、かつ、b:C=90:lO〜
50:500組成、あるいは (ii)40≦a≦50、かつ、b:c=100:O〜
50 : 50 (ただし、b : c= 100:
Oを除く)の組成(第1図の白い部分)を有すること
が好ましい。特に、20≦a≦50、かつ、b:c=9
0:10〜50:50の組成が最も好ましい。
部分、即ち、 (i) 10≦a≦40、かつ、b:C=90:lO〜
50:500組成、あるいは (ii)40≦a≦50、かつ、b:c=100:O〜
50 : 50 (ただし、b : c= 100:
Oを除く)の組成(第1図の白い部分)を有すること
が好ましい。特に、20≦a≦50、かつ、b:c=9
0:10〜50:50の組成が最も好ましい。
本発明の増反射膜は、スクリーン印刷等で塗布した後焼
結する際の焼結性向上の為、又、膜の耐摩耗性向上の為
に、P(リン)を含んでいてもよい。
結する際の焼結性向上の為、又、膜の耐摩耗性向上の為
に、P(リン)を含んでいてもよい。
ヘッドアップデイスプレィ用コンバイナーに用いる場合
の、かかる増反射膜の膜厚は、表面反射率を高め、かつ
、増反射膜が形成されていない部分と比較して色調差を
目立たないようにするために、光学膜厚(屈折率nと実
際の膜厚dとの積)で400〜2300人、特に400
〜1500人、中でも 700〜1200人とすること
が好ましい。光学膜厚がこの範囲内であれば、膜厚のバ
ラつきが目立たないため、外観上好ましいし、又、生産
性も良い。又、光学膜厚が400〜1500人であれば
、特にニュートラルな外観が得られやすいので好ましい
。
の、かかる増反射膜の膜厚は、表面反射率を高め、かつ
、増反射膜が形成されていない部分と比較して色調差を
目立たないようにするために、光学膜厚(屈折率nと実
際の膜厚dとの積)で400〜2300人、特に400
〜1500人、中でも 700〜1200人とすること
が好ましい。光学膜厚がこの範囲内であれば、膜厚のバ
ラつきが目立たないため、外観上好ましいし、又、生産
性も良い。又、光学膜厚が400〜1500人であれば
、特にニュートラルな外観が得られやすいので好ましい
。
増反射膜の製法としては特に限定されないが、真空蒸着
法、スパッタリング法、イオンブレーティング法等の真
空成膜法の他、浸漬法やプリント法等のゾルゲル法も使
用可能である。
法、スパッタリング法、イオンブレーティング法等の真
空成膜法の他、浸漬法やプリント法等のゾルゲル法も使
用可能である。
中でも、金属アルコキシドを金属酸化物原料として含む
インクをスクリーン印刷して焼成する方法が最も生産性
が高く、低コストなので好ましい。
インクをスクリーン印刷して焼成する方法が最も生産性
が高く、低コストなので好ましい。
このように、スクリーン印刷法を用いる場合は印刷安定
性、経時安定性を確保するために、アルコキシドをオク
タツール、フェニルセロソルブ混合等の高沸点溶媒に溶
解し、エチルセルロース等で増粘したインクを用いるこ
とが望ましい。
性、経時安定性を確保するために、アルコキシドをオク
タツール、フェニルセロソルブ混合等の高沸点溶媒に溶
解し、エチルセルロース等で増粘したインクを用いるこ
とが望ましい。
本発明の耐久性の優れた増反射膜を風防ガラスのヘッド
アップデイスプレィのコンバイナーとして用いる場合、
かかる風防ガラスとしては、通常、安全性の点から、2
枚のガラスをプラスチック中間膜を介して接合した合せ
ガラスが用いられるが、特にこれに限らず、単板のガラ
スから成っていても構わない。
アップデイスプレィのコンバイナーとして用いる場合、
かかる風防ガラスとしては、通常、安全性の点から、2
枚のガラスをプラスチック中間膜を介して接合した合せ
ガラスが用いられるが、特にこれに限らず、単板のガラ
スから成っていても構わない。
本発明の増反射膜付ガラスはヘッドアップデイスプレー
用コンバイナーに限らず、自動車のその他の用途や、建
築用、電子部品等の各種用途に使用できる。
用コンバイナーに限らず、自動車のその他の用途や、建
築用、電子部品等の各種用途に使用できる。
[作用]
本発明の増反射膜において、Ta酸化物は主として酸、
アルカリ等の薬品類に対する耐久性を高め、又、Si酸
化物は膜の平滑性を向上させ、その結果、主として有機
酸や、油脂等の汚れに対する耐久性を高める働きをして
いると考えられる。
アルカリ等の薬品類に対する耐久性を高め、又、Si酸
化物は膜の平滑性を向上させ、その結果、主として有機
酸や、油脂等の汚れに対する耐久性を高める働きをして
いると考えられる。
[実施例]
〈サンプル1〉
酸化セリウム研磨、水洗後、十分乾燥させた2mmmm
ワクリヤーーダライムガラス基板を準備し、これ番こT
iおよび丁aのアルコキシドを50対50(酸化物換算
重量比)の割合で含むスクリーン印刷用インクをプリン
トした。インク中には、金属アルコキシドが金属酸化物
換算で2.0wt%含有され、インクの粘度は360Q
cpsであった。600℃で10分間焼成後にガラス表
面に膜厚500人、屈折率1.89 (λ=6328人
)の透明酸化物が形成され、可視光透過率は83%、可
視光反射率は15%であった。
ワクリヤーーダライムガラス基板を準備し、これ番こT
iおよび丁aのアルコキシドを50対50(酸化物換算
重量比)の割合で含むスクリーン印刷用インクをプリン
トした。インク中には、金属アルコキシドが金属酸化物
換算で2.0wt%含有され、インクの粘度は360Q
cpsであった。600℃で10分間焼成後にガラス表
面に膜厚500人、屈折率1.89 (λ=6328人
)の透明酸化物が形成され、可視光透過率は83%、可
視光反射率は15%であった。
〈サンプル2〉
十分に洗浄乾燥した2mmmmワクリヤーーダライムガ
ラス基板に、Ti、 Ta、 SLのアルコキシドを各
々49%、21%、30%(酸化物換算重量比)の割合
で含むインクを用いてスクリーン印刷した。インク中に
は、金属アルコキシドが金属酸化物換算で2.0wt%
含まれ、粘度は4300cpsであった。600℃で1
0分間焼成後の膜厚は500人、屈折率1.92であり
、Tv=81%、Rv=17%であった。
ラス基板に、Ti、 Ta、 SLのアルコキシドを各
々49%、21%、30%(酸化物換算重量比)の割合
で含むインクを用いてスクリーン印刷した。インク中に
は、金属アルコキシドが金属酸化物換算で2.0wt%
含まれ、粘度は4300cpsであった。600℃で1
0分間焼成後の膜厚は500人、屈折率1.92であり
、Tv=81%、Rv=17%であった。
〈サンプル3〉
十分に洗浄乾燥した2mmmmワクリヤーーダライムガ
ラス基板に、Ti、Ta、Siのアルコキシドを各々4
2%、18%、40%(酸化物換算重量比)の割合で含
むインクを用いてスクリーン印刷した。インク中の金属
アルコキシド含有量は金属酸化物換算で2.0wt%、
インクの粘度は4100cpsであった。600℃で1
0分間焼成後の膜厚は500人、屈折率1.90、Tv
=82%、Rv = 16%であった。
ラス基板に、Ti、Ta、Siのアルコキシドを各々4
2%、18%、40%(酸化物換算重量比)の割合で含
むインクを用いてスクリーン印刷した。インク中の金属
アルコキシド含有量は金属酸化物換算で2.0wt%、
インクの粘度は4100cpsであった。600℃で1
0分間焼成後の膜厚は500人、屈折率1.90、Tv
=82%、Rv = 16%であった。
くサンプル4〉
十分に洗浄乾燥した2mmmmワクリヤーーダライムガ
ラス基板に、Ti、 Ta、 SLのアルコキシドを各
々46%、42%、11%(酸化物換算重量比)の割合
で含むインクを用いてスクリーン印刷した。インク中に
は、金属アルコキシドが金属酸化物換算で1.8wt%
含まれ、粘度は5200cpsであった。600℃で1
0分間焼成後の膜厚は500人、屈折率1.89であり
、Tv=83.3%、Rv=14.8%であった。
ラス基板に、Ti、 Ta、 SLのアルコキシドを各
々46%、42%、11%(酸化物換算重量比)の割合
で含むインクを用いてスクリーン印刷した。インク中に
は、金属アルコキシドが金属酸化物換算で1.8wt%
含まれ、粘度は5200cpsであった。600℃で1
0分間焼成後の膜厚は500人、屈折率1.89であり
、Tv=83.3%、Rv=14.8%であった。
くサンプル5〉
十分に洗浄乾燥した2mmmmワクリヤーーダライムガ
ラス基板に、Ti、 Ta、 Siのアルコキシドを各
々40%、36%、24%(酸化物換算重量比)の割合
で含むインクを用いてスクリーン印刷した。インク中の
金属アルコキシド含有量は金属酸化物換算で2.0wt
%、インクの粘度は5340cpsであった。600℃
で10分間焼成後の膜厚は600人、屈折率1.88、
Tv=82%、Rv = 16%であった。
ラス基板に、Ti、 Ta、 Siのアルコキシドを各
々40%、36%、24%(酸化物換算重量比)の割合
で含むインクを用いてスクリーン印刷した。インク中の
金属アルコキシド含有量は金属酸化物換算で2.0wt
%、インクの粘度は5340cpsであった。600℃
で10分間焼成後の膜厚は600人、屈折率1.88、
Tv=82%、Rv = 16%であった。
〈サンプル6〉
十分に洗浄乾燥した2mmmmワクリヤーーダライムガ
ラス基板に、Ti、Siのアルコキシドを各々90%、
10%の割合で含有するインクを用いてスクリーン印刷
した(インク中の金属アルコキシド含有量1 wt%、
インクの粘度: 3800CI)S ) 600°
Cで10分間焼成後の膜厚は350人、屈折率2.0で
あり、Tv=81%、Rv = 17%であった。
ラス基板に、Ti、Siのアルコキシドを各々90%、
10%の割合で含有するインクを用いてスクリーン印刷
した(インク中の金属アルコキシド含有量1 wt%、
インクの粘度: 3800CI)S ) 600°
Cで10分間焼成後の膜厚は350人、屈折率2.0で
あり、Tv=81%、Rv = 17%であった。
上記4例のサンプルについて、耐酸性テスト(0,1N
H2SO,室温浸漬10日)、耐アルカリ性テスト(
0,1N NaOH室温浸漬10日)および耐脂肪分テ
スト(有機酸、有機物混合物浸漬1日)に対する耐久性
を各試験前後の可視光線透過率Tvの変化で評価した。
H2SO,室温浸漬10日)、耐アルカリ性テスト(
0,1N NaOH室温浸漬10日)および耐脂肪分テ
スト(有機酸、有機物混合物浸漬1日)に対する耐久性
を各試験前後の可視光線透過率Tvの変化で評価した。
表1に示されているように、Ti酸化物、Ta酸化物お
よびSi酸化物を所定量含む場合に、良好な耐久性を有
することが確認できた。なお、サンプルl〜6において
、屈折率は、t = 6328人における値であり、エ
リプ表 *表中、変化なしとは、テスト前後のTv変化幅が1%
未満の場合を言う。
よびSi酸化物を所定量含む場合に、良好な耐久性を有
することが確認できた。なお、サンプルl〜6において
、屈折率は、t = 6328人における値であり、エ
リプ表 *表中、変化なしとは、テスト前後のTv変化幅が1%
未満の場合を言う。
又、サンプル1〜4についてテーバ試験(C8−10F
摩耗輸、荷重500g、 1000回転)を行なったが
、どのサンプルもTv及びヘイズ変化は2%以下でほと
んど問題のない範囲であった。
摩耗輸、荷重500g、 1000回転)を行なったが
、どのサンプルもTv及びヘイズ変化は2%以下でほと
んど問題のない範囲であった。
[発明の効果]
本発明は優れた耐久性をもつ増反射膜が安価に生産性良
く、スクリーン印刷法で実現可能であって、特にTi、
TaおよびSi酸化物を各々所定割合で含有させること
で、真空蒸着膜並みの化学的耐久性をもたせることがで
きるという効果が認められる。
く、スクリーン印刷法で実現可能であって、特にTi、
TaおよびSi酸化物を各々所定割合で含有させること
で、真空蒸着膜並みの化学的耐久性をもたせることがで
きるという効果が認められる。
本発明は、十分実用に供する高耐久のヘッドアップデイ
スプレィ用のコンバイナーを提供できる。
スプレィ用のコンバイナーを提供できる。
第1図は、Ti酸化物、 Ta酸化物、Si酸化物の含
有量に対する膜の性質を示す組成図である。
有量に対する膜の性質を示す組成図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、増反射膜を表面に有するガラスであって、該増反射
膜がTi、TaおよびSiの複合酸化物を主成分とする
膜であることを特徴とする耐久性の優れた増反射膜付ガ
ラス。 2、上記増反射膜は、膜中の酸化物成分全体に対するS
i酸化物含有量(SiO_2換算)、Ti酸化物含有量
(TiO_2換算)、Ta酸化物含有量(Ta_2O_
5換算)をそれぞれa、b、c(wt%)とすると、 (i)10≦a≦40、かつ、b:c=90:10〜5
0:50の組成、あるいは (ii)40≦a≦50、かつ、b:c=100:0〜
50:50(ただし、b:c=100:0を除く)の組
成 を有することを特徴とする請求項1記載の耐久性の優れ
た増反射膜付ガラス。 3、上記増反射膜は、20≦a≦50、かつ、b:c=
90:10〜50:50の組成を有することを特徴とす
る請求項2記載の耐久性の優れた増反射膜付ガラス。 4、請求項1〜3いずれか1項記載の構成を有する耐久
性の優れた増反射膜付ガラスを用いたヘッドアップディ
スプレー用コンバイナー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2312869A JPH0780691B2 (ja) | 1989-12-26 | 1990-11-20 | 耐久性の優れた増反射膜付ガラス |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33485789 | 1989-12-26 | ||
JP1-334857 | 1989-12-26 | ||
JP2312869A JPH0780691B2 (ja) | 1989-12-26 | 1990-11-20 | 耐久性の優れた増反射膜付ガラス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03233403A true JPH03233403A (ja) | 1991-10-17 |
JPH0780691B2 JPH0780691B2 (ja) | 1995-08-30 |
Family
ID=26567348
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2312869A Expired - Fee Related JPH0780691B2 (ja) | 1989-12-26 | 1990-11-20 | 耐久性の優れた増反射膜付ガラス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0780691B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009502490A (ja) * | 2005-08-03 | 2009-01-29 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 表面の少なくとも一部若しくは全部がマクロ構造形成されたコーティングを含んでなる基板、その製造方法及びその使用 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03232746A (ja) * | 1989-08-01 | 1991-10-16 | Asahi Glass Co Ltd | 電導性ガラスの製造方法 |
-
1990
- 1990-11-20 JP JP2312869A patent/JPH0780691B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03232746A (ja) * | 1989-08-01 | 1991-10-16 | Asahi Glass Co Ltd | 電導性ガラスの製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009502490A (ja) * | 2005-08-03 | 2009-01-29 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 表面の少なくとも一部若しくは全部がマクロ構造形成されたコーティングを含んでなる基板、その製造方法及びその使用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0780691B2 (ja) | 1995-08-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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