JPH03220551A - Silver halide photographic sensitive material having high sensitivity, high sharpness and less uneven processing - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To improve sensitivity, sharpness and resistance to uneven processing by incorporating dispersed solid fine particles of a specified compd. into a hydrophilic colloidal layer and a 1-phenyl-5-mercaptotetrazole compd. into a silver halide emulsion layer. CONSTITUTION:Dispersed solid fine particles of a compd. represented by formula I are incorporated into a hydrophilic colloidal layer and a 1-phenyl-5- mercaptotetrazole compd. is incorporated into a silver halide emulsion layer. In the formula I, each of Z<1> and Z<2> is a group of atoms required to form a 5- or 6-membered ring, each of X<1> and X<2> is O or S, each of L<1>-L<3> is methine, (n) is 0, 1 or 2, the ring formed by each of Z<1> and Z<2> has at least one among carboxyl, sulfonamido and sulfamoyl and the compd. represented by the formula I has at least two carboxyl, sulfonamido or sulfamoyl groups as a whole. Sensitivity, sharpness and resistance to uneven processing are improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、オキソノール染料を含むハロゲン化銀写真感
光材料に関するものであり、更に詳しくはオキソノール
染料によって特定の層を染着させた、高感度・高鮮鋭か
つ処理ムラの少ないハロゲン化銀写真感光材料に関する
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material containing an oxonol dye. - Concerning silver halide photographic materials that are highly sharp and have little processing unevenness.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

ハロゲン化銀写真感光材料には、優れた鮮鋭性や色再現
性等の高画質特性が要請されている。Silver halide photographic materials are required to have high image quality characteristics such as excellent sharpness and color reproducibility.

一方近年、ハロゲン化銀写真感光材料の分野では執合す
る電子写真材料の即時性に対抗するためにも、よりいっ
そうの処理時間の短縮、即ち超迅速処理適性が要求され
ている。このような写真感光材料に要求されている上記
高画質特性と超迅速処理適性を実現させるために、当業
界においては、写真感光材料のいっそうの薄膜化、また
ハロゲン化銀や添加化合物素材の最適化等の努力がなさ
れてきた。On the other hand, in recent years, in the field of silver halide photographic materials, there has been a demand for further reduction in processing time, that is, suitability for ultra-rapid processing, in order to compete with the immediacy of electrophotographic materials. In order to achieve the above-mentioned high image quality characteristics and ultra-rapid processing suitability that are required of such photographic materials, the industry is working to make photographic materials thinner and to optimize the use of silver halide and additive compound materials. Efforts have been made to improve the

ところでハロゲン化銀写真感光材料中に画質の向上或い
はハロゲン化銀乳剤感度調整を目的として染料を含有さ
せることは良く知られていることであり、かかる技術は
例えばハレーション防止、イラジェーション防止、光吸
収フィルターに使用されている。By the way, it is well known that dyes are incorporated into silver halide photographic materials for the purpose of improving image quality or adjusting the sensitivity of silver halide emulsions. Used in absorption filters.

また最近では、染料を含有させる技術は、カラー写真感
光材料における黄色コロイド銀の代替を目的とした染料
（以下ｒＹＣ染料」と称す）や、Ｘ線写真感光材料にお
けるクロスオーバーカット層の染着染料、印刷写真感光
材料における非感光性乳剤層を染着する染料等を用いる
ことなどに及んでおり、その用途は広がっている。Recently, techniques for incorporating dyes have been developed, such as dyes intended to replace yellow colloidal silver in color photographic materials (hereinafter referred to as rYC dyes), and dyes for dyeing crossover cut layers in X-ray photographic materials. , and the use of dyes for dyeing non-light-sensitive emulsion layers in printed photographic materials, and its uses are expanding.

これらの目的で使用される染料は使用目的に応じて １、良好な吸収スペクトルを有していること２、着色し
た層から他層へ拡散しないこと３、感光性ハロゲン化銀
乳剤に写真的な影響を与えないこと ４、ハロゲン化銀写真感光材料中で安定であること ５、添加が容易であること ６、乳剤塗布液中で安定であり、溶液粘度に影響を与え
ないこと ７、処理後に色が残らないこと 等が、その性質として要求される。The dyes used for these purposes must: 1. have a good absorption spectrum, 2. not diffuse from the colored layer to other layers, 3. 4. Stable in silver halide photographic materials 5. Easy to add 6. Stable in emulsion coating solution and does not affect solution viscosity 7. After processing The properties required include that no color remains.

これら要望される特性を満足させる目的で従来から多数
の染料が提案されており、例えば米国特許第３，５４０
，８８７号、同第３，５４４，３２５号、同第３．５６
０゜２１４号、特公昭３１−１０５７８号及び特開昭５
１−３６２３号には、ベンジリデン染料、英国特許第５
０６．３８５号及び特公昭３９−２２０６９号にはオキ
ソノール染料、米国特許第２，４９３，７４７号にはメ
ロシアニン染料、米国特許第１，８４５，４０４号には
スチリル染料等が提案されている。A large number of dyes have been proposed in the past for the purpose of satisfying these desired properties; for example, U.S. Pat. No. 3,540
, No. 887, No. 3,544,325, No. 3.56
0゜214, Japanese Patent Publication No. 31-10578, and Japanese Patent Application Publication No. 1973
No. 1-3623 describes benzylidene dyes, British patent no.
No. 06.385 and Japanese Patent Publication No. 39-22069 propose oxonol dyes, US Pat. No. 2,493,747 proposes merocyanine dyes, and US Pat. No. 1,845,404 proposes styryl dyes.

これらの染料は、水や水と混和する有機溶媒に溶解させ
て写真構成層中に添加するのが一般的な方法である。し
かし染料が水溶性の場合、染着させたい層に留まらずに
全層に拡散してしまう、そのため、本来の目的を遠戚し
ようとすると他層に拡散する分だけ多量の染料を添加し
なければならず、白層、他層ともに例えば感度低下、階
調変動ｔかぶり異常等の好ましくない現象が現れること
がある。特に、感光材料を経時保存させた場合、かぶり
の発生や減感が著しく、これらを回避するために使用層
を減らすと、本来の光吸収効果が充分得られなくなって
しまう。このような問題に対し特定層を染着するような
拡散性を抑えた染料も知られており、耐拡散型の染料と
して例えば米国特許第２．５３８．００８号、同２．５
３９．００９号、同４，４２０．５５５号の各明細書、
特開昭６１−２０４６３０号、同６１−２０５９３４号
、同６２−３２４６０号、同６２−５６９５８号、同６
２−９２９４９号、同６２−２２２２４８号、同６３−
４０１４３号、同６３−１８４７４９号、同６３−３１
６８５２号の各公報にＹＣ染料が記載されている。The general method is to dissolve these dyes in water or an organic solvent miscible with water and add them to the photographic constituent layers. However, if the dye is water-soluble, it will not stay in the layer you want to dye, but will diffuse throughout the entire layer.Therefore, if you want to achieve the original purpose, you will have to add a large amount of dye to cover the diffusion to other layers. Unfavorable phenomena such as decreased sensitivity, gradation fluctuations, and abnormal fogging may occur in both the white layer and other layers. In particular, when a photosensitive material is stored over time, fogging and desensitization occur significantly, and if the number of layers used is reduced to avoid these problems, the original light absorption effect cannot be obtained sufficiently. To solve this problem, dyes with suppressed diffusion properties that dye specific layers are also known. Examples of diffusion-resistant dyes include U.S. Pat. Nos. 2.538.008 and 2.5
Specifications of No. 39.009 and No. 4,420.555,
JP 61-204630, JP 61-205934, JP 62-32460, JP 62-56958, JP 6
No. 2-92949, No. 62-222248, No. 63-
No. 40143, No. 63-184749, No. 63-31
YC dyes are described in each publication of No. 6852.

また、これらの染料は、カラー写真感光材料において一
般的に使用されているＣａｒｅｙ　Ｌｅａ　５ｉｌｖｅ
ｒと呼ばれる黄色コロイド銀が青色光領域だけでなく一
部長波長側を吸収するために緑色感度を低下させてしま
うこと、及び隣接層のかぶりを増加させるという欠点の
改良、及び責重な銀資源の節約のためという理由もあっ
て、多数提案されている。In addition, these dyes include Carey Lea 5ilve, which is commonly used in color photographic materials.
The yellow colloidal silver called r absorbs not only the blue light region but also part of the long wavelength side, which reduces green sensitivity and increases the fogging of adjacent layers. Many proposals have been made, partly to save money.

しかしながら、これらの耐拡散型の染料によれば、ある
程度上記欠点は改良されるが、保存性が悪く、経時で減
感が生じる。また漂白性が不充分なため、免汚染の原因
になる。また処理ムラが発生しやすく、特に、迅速処理
を施した場合に処理ムラが激しくなる、といった問題が
新たに発生した。However, although these diffusion-resistant dyes improve the above-mentioned drawbacks to some extent, they have poor storage stability and desensitization occurs over time. In addition, since the bleaching property is insufficient, it causes decontamination. In addition, a new problem has arisen in that processing unevenness is likely to occur, and that processing unevenness is particularly severe when rapid processing is performed.

従ってこれらを改良するために、新たな耐拡散型染料が
求められている。Therefore, in order to improve these problems, new diffusion-resistant dyes are required.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、上記要求に合致した耐拡散化された染
料を含有させ、これにより感度・鮮鋭性及び処理ムラ特
性の改良されたハロゲン化銀写真感光材料を提供するこ
とにある。An object of the present invention is to provide a silver halide photographic material that contains a diffusion-resistant dye that meets the above requirements and has improved sensitivity, sharpness, and processing unevenness characteristics.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明者等は上記問題点に鑑みて鋭意検討を行った結果
、本発明の上記目的は、支持体上に、少なくども１層の
ハロゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド層を有するハ
１：Ｉゲン化銀写真感光材料において、親木性３０４１
層の少なくともいずれか１層は下記一般弐Ｎ）で示され
る化合物の固体微粒子分散体を含有し、ハロゲン化銀乳
剤層の少なくともいずれかＩＮは１−フ五ニルー５−メ
ルカプトテトラゾール系化合物を含有することを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料により達成されることを
見い出し、本発明を完成した。The present inventors have conducted intensive studies in view of the above-mentioned problems, and have found that the above-mentioned object of the present invention is to provide a silver halide emulsion layer having a hydrophilic colloid layer including at least one silver halide emulsion layer on a support. :I In silver-genide photographic light-sensitive materials, wood-philicity 3041
At least one of the layers contains a solid fine particle dispersion of a compound represented by the following general 2N), and at least one of the silver halide emulsion layers IN contains a 1-ph5-5-mercaptotetrazole compound. The present invention has been completed based on the discovery that this can be achieved by a silver halide photographic material characterized by the following.

−綴代（Ｉ） 式中、Ｚｌ、Ｚｌは５または６Ｒ環を形成するに必要な
原子群を表し、ｘ’　、ｘ”は酸素原子、またはイオウ
原子を表し、Ｌｌ、、Ｌｆｆはメチン基を表ず。ｎは０
．１または２を表し、ｎが２のとき、２つのＬ！、Ｌ３
は同一でも異なってもよい。-Surface (I) In the formula, Zl and Zl represent the atomic group necessary to form a 5 or 6R ring, x' and x'' represent an oxygen atom or a sulfur atom, and Ll, and Lff represent a methine group. n is 0.
．． represents 1 or 2, and when n is 2, two L! ,L3
may be the same or different.

２′、２１により形成される環の少なくとも１つは、カ
ルボキシル基、スルホンアミド基、スルファモイル基の
少なくとも１つを有し、かつ、一般式〔Ｉ〕で示される
化合物全体として、カルボキシル基、スルホンアミド基
、スルファモイル基ヲ少なくとも２つ有する。At least one of the rings formed by 2' and 21 has at least one of a carboxyl group, a sulfonamide group, and a sulfamoyl group, and the compound represented by general formula [I] as a whole has a carboxyl group, a sulfamoyl group, and It has at least two amide groups and sulfamoyl groups.

以下に本発明について、更に詳細に説明する。The present invention will be explained in more detail below.

まず一般式〔Ｉ〕で表される化合物（以下適宜「化合物
〔Ｉ〕」とも称する）について説明する。First, the compound represented by general formula [I] (hereinafter also referred to as "compound [I]" as appropriate) will be explained.

−綴代ＣＩ）において、ｚ’、ｚ”により形成される５
または６員環は、単環に限らず、５または６員環に更に
他の環が縮合した縮合環でもよい。- 5 formed by z', z'' in binding allowance CI)
Alternatively, the 6-membered ring is not limited to a single ring, but may be a condensed ring in which another ring is fused to a 5- or 6-membered ring.

２′、２１により形成される環としては、例えば以下の
ような環が好ましい。As the ring formed by 2' and 21, the following rings are preferable, for example.

４ −６− −５ −７− −１０ −１２ −１４ −１１ −１３ −１５ −１６ −１８ −２０ −２２ ７− −２１ −２３ −２４ −２６ −２８ −２５ −２７ −２９ ３０ ２ ４ １ −３３ −３５ ６ ８ −４０ ７− −４１ ２ ４ ６ ３ −４５ ７ ８ −４９ 上記例示した環は、すべてケト型で示しであるができる
ことは、当然である。4 -6- -5 -7- -10 -12 -14 -11 -13 -15 -16 -18 -20 -22 7- -21 -23 -24 -26 -28 -25 -27 -29 30 2 4 1 -33 -35 6 8 -40 7- -41 2 4 6 3 -45 7 8 -49 All of the rings exemplified above are shown in the keto form, but it is natural that they can be formed.

上記式中、Ｒ　１４，　　Ｒ　１％は水素原子または置
換基を表し、該置換基としては例えば、アルキル基、シ
クロアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環
基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキ
ルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、カルバモ
イル基、スルファモイル基、シアノ基、アミノ基、スル
ホンアミド基、アミド基、ウレイド基、チオウレイド基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、ニトロソ基等を挙げることがで
きる。In the above formula, R 14 and R 1% represent a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkylcarbonyl group, and an arylcarbonyl group. , alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group,
Alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, cyano group, amino group, sulfonamide group, amide group, ureido group, thioureido group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group ,
Examples include an arylthio group, a carboxyl group, a hydroxyl group, a halogen atom, a nitro group, and a nitroso group.

Ｒ１及びＲＩＳで表される置換基としてのアルキル基と
しては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−７”ｏビ／
Ｌ４．１ｓｏ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチ
ル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘ
キシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ペンタデシル基、エイ
コシル基等を挙げることができる。これらの基は置換基
を有するものを含み、該置換基としては例えば、ハロゲ
ン原子（例えば塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等の各原子
）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等）、
ヘテロ環基（例えばピロリジル基、ピリジル基等）、シ
クロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基等）、スルフィン酸基、カルボキシル基、ニト
ロ基、水酸基、メルカプト基、アミノ基（例えばアミノ
基、ジエチルアξ）基等）、アルキルオキシ基（例えば
メチルオキシ基、エチルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基
、ｎ−オクチルオキシ基、イソプロピルオキシ基等）、
アリールオキシ基（フェニルオキシ基、ナフチルオキシ
基等）、カルバモイル基（例えばアミノカルボニル基、
メチルカルバモイル基、ｎ−ペンチルカルバモイル基、
フェニルカルバモイル基等）、アくド基（例えばメチル
アミド基、ベンズアミド基、ｎ−オクチルアξド基等）
、スルファモイル基（例えばスルファモイル基、メチル
スルファモイル基、フェニルスルファモイル基、ｎ−ブ
チルスルファモイル基等）、スルホンアミド基（例えば
メタンスルホンアミド基、ｎ−へブタンスルホンアミド
基、ベンゼンスルホンアミド基等）、スルフィニルＭ（
例、ｔばメチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基
、フェニルスルフィニル基、オクチルスルフィニル基等
のアルキルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基等
のアリールスルフィニル基等）、アルキルオキシカルボ
ニル基（例えばメチルオキシカルボニル基、エチルオキ
シカルボニル基、２−ヒドロキシエチルオキシカルボニ
ル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基等）、アリール
オキシカルボニル基（例えばフェニルオキシカルボニル
基、ナフチルオキシカルボニル基等）、アルキルチオ基
（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−へキシルチ
オ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基、ナ
フチルチオ基等）、アルキルカルボニル基（例えばアセ
チル基、エチルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル５
、ｎ−オクチルカルボニル基等）、アリールカルボニル
基（例えばベンゾイル基、ｐ−メタンスルホンアミドベ
ンゾイル基、ｐ−カルボキシベンゾイル基、ナフトイル
基等）、シアノ基、ウレイド基（例えばメチルウレイド
基、フェニルウレイド基等）、チオウレイド基（例えば
メチルチオウレイド基、フェニルチオウレイド基等）等
を挙げることができる。Examples of the alkyl group as a substituent represented by R1 and RIS include methyl group, ethyl group, n-7''obi/
L4.1 So-propyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-dodecyl group, n-pentadecyl group, eicosyl group, etc. . These groups include those having substituents, such as halogen atoms (e.g., chlorine, bromine, iodine, fluorine, etc.), aryl groups (e.g., phenyl group, naphthyl group, etc.),
Heterocyclic groups (e.g. pyrrolidyl, pyridyl, etc.), cycloalkyl groups (e.g. cyclopentyl, cyclohexyl, etc.), sulfinic acid groups, carboxyl groups, nitro groups, hydroxyl groups, mercapto groups, amino groups (e.g. amino groups, diethyl groups, etc.) ξ) group, etc.), alkyloxy group (e.g., methyloxy group, ethyloxy group, n-butyloxy group, n-octyloxy group, isopropyloxy group, etc.),
Aryloxy groups (phenyloxy groups, naphthyloxy groups, etc.), carbamoyl groups (e.g. aminocarbonyl groups,
Methylcarbamoyl group, n-pentylcarbamoyl group,
phenylcarbamoyl group, etc.), ado group (e.g., methylamide group, benzamide group, n-octylado group, etc.)
, sulfamoyl group (e.g. sulfamoyl group, methylsulfamoyl group, phenylsulfamoyl group, n-butylsulfamoyl group, etc.), sulfonamide group (e.g. methanesulfonamide group, n-hebutanesulfonamide group, benzenesulfone) amide group, etc.), sulfinyl M (
Examples, alkylsulfinyl groups such as methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, octylsulfinyl group, arylsulfinyl group such as phenylsulfinyl group), alkyloxycarbonyl group (e.g. methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group) 2-hydroxyethyloxycarbonyl group, n-octyloxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (e.g. phenyloxycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl group, etc.), alkylthio group (e.g. methylthio group, ethylthio group, n- 5
, n-octylcarbonyl group, etc.), arylcarbonyl group (e.g. benzoyl group, p-methanesulfonamidobenzoyl group, p-carboxybenzoyl group, naphthoyl group, etc.), cyano group, ureido group (e.g. methylureido group, phenylureido group) etc.), thioureido groups (for example, methylthioureido group, phenylthioureido group, etc.), and the like.

ＲＩ４及びＲＩＳで表される置換基としてのアリール基
としては、例えば、フェニル基、ナフチル基を挙げるこ
とができる。これらの基は置換基を有するものを含み、
該置換基としては、例えば、前記のＲ１４で表されるア
ルキル基、またはＲ１で表されるアルキル基の置換基と
して挙げた前述の基を挙げることができる。Examples of the aryl group as a substituent represented by RI4 and RIS include a phenyl group and a naphthyl group. These groups include those having substituents,
Examples of the substituent include the alkyl group represented by R14, or the groups mentioned above as substituents for the alkyl group represented by R1.

ＲＩ４及びＲＩＳで表される置換基としてのアルケニル
基トしては、ビニル基、アリル基、１−７”ロペニルｌ
Ａ、１．３−７’タジエニル基、２−ペンテニル基等を
挙げることができ、これらの基は置換基を有するものを
含み、該置換基としては、前記のＲ１４及びＲＩＳで表
されるアルキル基の置換基として挙げたものを挙げるこ
とができる。Examples of the alkenyl group as a substituent represented by RI4 and RIS include a vinyl group, an allyl group, and a 1-7" lopenyl group.
A, 1.3-7' tadienyl group, 2-pentenyl group, etc., and these groups include those having a substituent, and the substituent includes the alkyl group represented by R14 and RIS described above. Those listed as substituents for the group can be mentioned.

Ｒ１及びＲＩｓで表される置換基としてのシクロアルキ
ル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げる
ことができ、該シクロアルキル基は置換基を有するもの
を含み、該置換基としては前記のアルキル基及びアルキ
ル基の置換基として例示したものを挙げることができる
。Examples of the cycloalkyl group as a substituent represented by R1 and RIs include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and the cycloalkyl group includes those having a substituent. Examples of the substituent include those exemplified as the alkyl group and the substituent for the alkyl group described above.

Ｒ１４及びＲＩＳで表される置換基としてのへテロ環基
としては、例えば、ピリジル基（２−ピリジル基、３−
ピリジル基、４−ピリジル基、５−カルボキシー２−ピ
リジル基、３，５−ジクロ０２−ピリジル基、４，６−
シメチルー２−ピリジル基、６−ヒドロキシ−２−ピリ
ジル基、２，３゜５．６−テトラフルオロ−４−ピリジ
ル基、３ニトロ−２−ピリジル基等）、オキザゾリル基
（５−カルボキシ−２−ベンズオキサシリル基、２−ベ
ンズオキサシリル基、２−オキザゾリル基等）、チアゾ
リル基（５−スルファモイル−２ベンズチアゾリル基、
２−ベンズチアゾリル基、２−チアゾリル基等）、イミ
ダゾリル基（１−メチル−２−イミダゾリル基、１−メ
チル−５−カルボキシ−２−ベンズイミダゾリル基等）
、フリル基（３−フリル基等）、ピロリル基（３−ピロ
リル基等）、チエニル基（２−チエニル基等）、ピラジ
ニル基（２−ピラジニル基等）、ピリミジニル＆（２−
ピリミジニル基、４−クロロ−２ピリミジニル基等）、
ピリダジニル基（２−ピリダジニル基等〉、プリニル基
（８−プリニル基等〉、イソオキサシリル基（３−イソ
オキサシリル基等）、セレナゾリル基（５−カルボニル
−２−セレナゾリルＭ等）　、スルホラニル基（３−ス
ルホラニル基等）、ピペリジニル基（ｌ−メヂル＝−３
−ピペリジニル基等）、ピラゾリル基（３−ピラゾリル
基等）、テトラゾリル基（１−メチル−５−テト・ラゾ
リル基等）等を挙げることかで赤、これらの基は置換基
を有するものを含み、該置換基としては、前記のＲＩ４
及びＲＩＳで表されるアルキル基及びＲＩ４及びＲＩＳ
で表されるアルキル基のｚｍ基として例示したものを挙
げることかで白る。Examples of the heterocyclic group as a substituent represented by R14 and RIS include a pyridyl group (2-pyridyl group, 3-pyridyl group,
Pyridyl group, 4-pyridyl group, 5-carboxy-2-pyridyl group, 3,5-dichloro02-pyridyl group, 4,6-
dimethyl-2-pyridyl group, 6-hydroxy-2-pyridyl group, 2,3゜5.6-tetrafluoro-4-pyridyl group, 3nitro-2-pyridyl group, etc.), oxazolyl group (5-carboxy-2-pyridyl group, etc.), benzoxasilyl group, 2-benzoxasilyl group, 2-oxazolyl group, etc.), thiazolyl group (5-sulfamoyl-2benzthiazolyl group,
2-benzthiazolyl group, 2-thiazolyl group, etc.), imidazolyl group (1-methyl-2-imidazolyl group, 1-methyl-5-carboxy-2-benzimidazolyl group, etc.)
, furyl group (3-furyl group, etc.), pyrrolyl group (3-pyrrolyl group, etc.), thienyl group (2-thienyl group, etc.), pyrazinyl group (2-pyrazinyl group, etc.), pyrimidinyl & (2-
pyrimidinyl group, 4-chloro-2pyrimidinyl group, etc.),
Pyridazinyl group (2-pyridazinyl group, etc.), purinyl group (8-purinyl group, etc.), isoxasilyl group (3-isoxasilyl group, etc.), selenazolyl group (5-carbonyl-2-selenazolyl M, etc.), sulfolanyl group (3-sulfolanyl group, etc.), piperidinyl group (l-medyl=-3
-piperidinyl group, etc.), pyrazolyl group (3-pyrazolyl group, etc.), tetrazolyl group (1-methyl-5-teto-lazolyl group, etc.), etc. Red indicates that these groups include those with substituents. , as the substituent, the above-mentioned RI4
and an alkyl group represented by RIS and RI4 and RIS
I will give examples of the zm group of the alkyl group represented by the following.

以下の各置換基についても、更にｔ換基を有するもので
あってよ（、これは上記各置換基と同様である。Each of the following substituents may also have a t substituent (this is the same as each of the above substituents).

Ｒ１４，Ｒ＋５で表されるアルキルカルボニル基として
は、例えば、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基
、イソプロピルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基
、オクチルカルボニル基、ドデシルカルボニル基等を挙
げることができる。Examples of the alkylcarbonyl group represented by R14 and R+5 include methylcarbonyl group, ethylcarbonyl group, isopropylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, octylcarbonyl group, and dodecylcarbonyl group.

Ｒ１４，Ｒ１５で表されるアリールカルボニル基として
は、例えば、フェニルカルボニル基、）′フチル’ＪＪ
ルボニル基等を挙げることができる。Examples of the arylcarbonyl group represented by R14 and R15 include phenylcarbonyl group, )'phthyl'JJ
Examples include a rubonyl group.

Ｒ１４，ＲＩＳで表されるアルコキシカルボニル基とし
ては、例えば、エトキシカルボニル基、イソプロピルオ
キシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチ
ルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等
を挙げることができる。Examples of the alkoxycarbonyl group represented by R14 and RIS include ethoxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, pentyloxycarbonyl group, and dodecyloxycarbonyl group.

Ｒ＋４．　　Ｒ１で表されるアリールオキシカルボニル
基としては、例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナ
フチルオキシカルボニル基等を挙げることができる。R+4. Examples of the aryloxycarbonyl group represented by R1 include phenyloxycarbonyl group and naphthyloxycarbonyl group.

Ｒｘ、　　Ｒｉｓで表されるアルキルスルホニル基とし
ては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル
基、イソプロピルスルホニル基、Ｌ−ブチルカルボニル
基、オクチルスルホニル基、オクタデシルスルホニル基
等を挙げることができる。Examples of the alkylsulfonyl group represented by Rx and Ris include methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, isopropylsulfonyl group, L-butylcarbonyl group, octylsulfonyl group, and octadecylsulfonyl group.

Ｒ１４，ＲＩｓで表されるアリールスルホニル基として
は、例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニ
ル基等を挙げることができる。Examples of the arylsulfonyl group represented by R14, RIs include a phenylsulfonyl group and a naphthylsulfonyl group.

Ｒ＋４．ＲＩＳで表されるアルキルスルフィニル基とし
ては、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィ
ニル基、イソプロピルスルフィニル基、Ｌ−ブチルスル
フィニル基、オクチルスルフィニル基、ドデシルスルフ
ィニル基等を挙げることができる。R+4. Examples of the alkylsulfinyl group represented by RIS include a methylsulfinyl group, an ethylsulfinyl group, an isopropylsulfinyl group, an L-butylsulfinyl group, an octylsulfinyl group, and a dodecylsulfinyl group.

Ｒ”、Ｒ”で表されるアリールスルフィニル基としては
、例えば、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィ
ニル基等を挙げることができる。Examples of the arylsulfinyl group represented by R", R" include phenylsulfinyl group, naphthylsulfinyl group, and the like.

Ｒ１４，ＲＩＳで表されるカルバモイル基としては、例
えば、アミノカルボニル基、メチルカルバモイル基、エ
チルカルバモイル基、イソプロピルカルバモイル基、ｔ
−ブチルカルバモイル基、ドデシルカルバモイル基、フ
ェニルカルバモイル基、２ピリジルカルバモイル基、４
−ピリジルカルバモイル基、ベンジルカルバモイル基、
モルフォリノカルボニル基、ピペラジノカルボニル基等
を挙げることができる。Examples of the carbamoyl group represented by R14, RIS include aminocarbonyl group, methylcarbamoyl group, ethylcarbamoyl group, isopropylcarbamoyl group, t
-butylcarbamoyl group, dodecylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, 2pyridylcarbamoyl group, 4
-pyridylcarbamoyl group, benzylcarbamoyl group,
Examples include a morpholinocarbonyl group and a piperazinocarbonyl group.

Ｒ１４，ＲＩｓで表されるスルファモイル基としては、
例えば、アミノスルホニル基、メチルスルファモイル基
、エチルスルファモイル基、イソプロピルスルファモイ
ル基、ｔ−ブチルスルファモイル基、ドデシルスルファ
モイル基、フェニルスルファモイル基、２−ピリジルス
ルファモイル基、４−ピリジルスルファモイル基、モル
フォリノスルホニル基、ピペラジノスルホニル基等を挙
げることができる。As the sulfamoyl group represented by R14, RIs,
For example, aminosulfonyl group, methylsulfamoyl group, ethylsulfamoyl group, isopropylsulfamoyl group, t-butylsulfamoyl group, dodecylsulfamoyl group, phenylsulfamoyl group, 2-pyridylsulfamoyl group group, 4-pyridylsulfamoyl group, morpholinosulfonyl group, piperazinosulfonyl group, and the like.

Ｒ１４，ＲＩ５で表されるアミノ基としては、例えば、
アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、イソプロ
ピルアミノ基、ｔ−ブチルアミノ基、オクチルアミノ基
、ドデシルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、
ナフチルアミノ基、モルフォリノ基、ピペラジノ基等を
挙げることができる。As the amino group represented by R14 and RI5, for example,
Amino group, methylamino group, ethylamino group, isopropylamino group, t-butylamino group, octylamino group, dodecylamino group, dimethylamino group, anilino group,
Examples include naphthylamino group, morpholino group, piperazino group and the like.

Ｒａａ、　　ＲＩＢで表されるスルホンアミド基として
は、例えば、メチルスルホンアミド基、エチルスルホン
アミド基、イソプロピルスルホンアミド基、Ｌ−ブチル
スルホンアミド基、ドデシルスルホンアミド基、フェニ
ルスルホンアミド基、ナフチルスルホンアミド基等を挙
げることができる。Examples of the sulfonamide group represented by Raa and RIB include a methylsulfonamide group, an ethylsulfonamide group, an isopropylsulfonamide group, an L-butylsulfonamide group, a dodecylsulfonamide group, a phenylsulfonamide group, and a naphthylsulfonamide group. Examples include groups.

Ｒ”、　　ＲＩＳで表されるアミド基としては、メチル
カルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、イソ
プロピルカルボニルアミノ基、ｔ−ブチルカルボニルア
ミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニル力ルボ
ニルア亀ノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等を挙げる
ことできる。The amide group represented by R'' and RIS includes methylcarbonylamino group, ethylcarbonylamino group, isopropylcarbonylamino group, t-butylcarbonylamino group, dodecylcarbonylamino group, phenylcarbonylamino group, naphthylcarbonylamino group, and naphthylcarbonylamino group. Examples include groups.

Ｒ＋４．　　Ｒｒｓで表されるウレイド基としては、例
えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、イソプロ
ピルウレイド基、ｔ−ブチルウレイド基、ドデシルウレ
イド基、フェニルウレイド基、２〜ピリジルウレイド基
、チアゾリルウレイド基等を挙げることができる。R+4. Examples of the ureido group represented by Rrs include methylureido group, ethylureido group, isopropylureido group, t-butylureido group, dodecylureido group, phenylureido group, 2-pyridylureido group, thiazolylureido group, etc. can be mentioned.

Ｒ′４．　　ＲＩＳで表されるチオウレイド基としては
、例えば、メチルチオウレイド基、イソプロピルチオウ
レイド基、ｔ−ブチルチオウレイド基、ドデシルウレイ
ド基、フェニルウレイド基、２−ピリジルウレイド基、
チアゾリルウレイド基等を挙げることができる。R'4. Examples of the thioureido group represented by RIS include methylthioureido group, isopropylthioureido group, t-butylthioureido group, dodecylureido group, phenylureido group, 2-pyridylureido group,
Examples include thiazolylureido groups.

Ｒ１，Ｒ”で表されるアルコキシ基としては、例えば、
メトキシ基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基、ｔ−
ブチルオキシ基、ドデシルオキシ基等を挙げることがで
きる。As the alkoxy group represented by R1,R'', for example,
Methoxy group, ethoxy group, isopropyloxy group, t-
Examples include butyloxy group and dodecyloxy group.

Ｒ１４，ＲＩＳで表されるアリールオキシ基としては、
例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等を挙げるこ
とができる。As the aryloxy group represented by R14, RIS,
For example, phenoxy group, naphthyloxy group, etc. can be mentioned.

Ｒ１，ＲＩＳで表されるアルキルチオ基としては、例え
ば、メチルチオ基、エチルチオ基、イソプロピルチオ基
、ｔ−ブチルチオ基、ドデシルチオ基等を挙げることが
できる。Examples of the alkylthio group represented by R1 and RIS include methylthio group, ethylthio group, isopropylthio group, t-butylthio group, and dodecylthio group.

Ｒ”、Ｒ”で表されるアリールチオ基としては、例えば
、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等を挙げることがで
きる。Examples of the arylthio group represented by R'' and R'' include phenylthio group and naphthylthio group.

式中、Ｒ”、Ｒ′３．Ｒ”は水素原子、アルキル基、ア
リール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基を表すが、それ
ぞれ置換基を含めてＲＩ　４　、　ＲＩ　５で例示した
ものが挙げられる。In the formula, R'' and R'3.R'' represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, and a hydroxyl group, including those exemplified for RI 4 and RI 5, including substituents, respectively. .

一般式（１）のＬ１〜Ｌ３はメチン基を表すが該メチン
基は置換基を有するものを含み、置換基としてはアルキ
ル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ
−ブチル基、３−ヒドロキシプロピル基、ベンジル基等
）、アリール基（例工ばフェニル基等）、ハロゲン原子
（例えば塩素、臭素、沃素、フッ素等）、アルコキシ基
（例えばメトキシ基、エトキシ基等）、アシルオキシ基
（例えばメチルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニ
ルオキシ基等）等が挙げられる。L1 to L3 in general formula (1) represent a methine group, and the methine group includes those having a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t
-butyl group, 3-hydroxypropyl group, benzyl group, etc.), aryl group (e.g., phenyl group, etc.), halogen atom (e.g., chlorine, bromine, iodine, fluorine, etc.), alkoxy group (e.g., methoxy group, ethoxy group, etc.) ), acyloxy groups (eg, methylcarbonyloxy group, phenylcarbonyloxy group, etc.).

Ｒ１４，ＲＩＳで表される基は好ましくは水素原子、ア
ルキル基、アリール基、アルキルカルボニル基、アリー
ルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、カルバ
モイル基、スルファモイル基、アミノ基、アルコキシ基
、シアノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、アミ
ノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基等であり、より
好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキ
ルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、カルバ
モイル基、スルファモイル基、シアノ基、カルボキシル
基、アルコキシ基である。The group represented by R14 and RIS is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkylcarbonyl group, an arylcarbonyl group, an alkyloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an amino group, an alkoxy group, a cyano group, or a carboxyl group. , a sulfonamide group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, and more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkylcarbonyl group, an alkyloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a cyano group, and a carboxyl group. , is an alkoxy group.

Ｒ”、Ｒ”、Ｒ”で表される基は好ましくはアルキル基
、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基であり、よ
り好ましくはアルキル基、アリール基、ヒドロキシル基
である。The groups represented by R'', R'', and R'' are preferably an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, or a hydroxyl group, and more preferably an alkyl group, an aryl group, or a hydroxyl group.

本発明において、化合物（１）はハロゲン化銀写真感光
材料中に目的に応じて、例えば光学濃度がＯ，ＯＳ〜３
．０の範囲になるように使用される。In the present invention, the compound (1) is added to the silver halide photographic light-sensitive material depending on the purpose, for example, the optical density is O, OS to 3.
．． It is used so that it is in the range of 0.

本発明において、化合物（１）は、その固体微粒子分散
体が感光材料の写真構成層の少なくとも１層に含有され
る。化合物〔１］を固体微粒子分散体で感光材料中に添
加する方法は任意であり、例えば界面活性剤を用いボー
ルミル等で水中に分散して固体微粒子状態で添加する方
法等を用いることができる。添加方法として、例えば米
国特許第４，８５７，４４６号に記載されている方法が
その具体例として挙げられる。In the present invention, a solid fine particle dispersion of the compound (1) is contained in at least one of the photographic constituent layers of the light-sensitive material. Compound [1] can be added to the photosensitive material in the form of a solid fine particle dispersion using any method. For example, a method may be used in which the compound [1] is dispersed in water using a ball mill using a surfactant and added in the form of solid fine particles. A specific example of the addition method is the method described in US Pat. No. 4,857,446.

以下本発明に好ましく用いることができる化合物（１）
の具体的化合物例を挙げるが本発明はこれに限定されな
い。Compounds (1) that can be preferably used in the present invention are as follows:
Although specific examples of compounds are given below, the present invention is not limited thereto.

−１ −５ −６ ■ −８ １−９ Ｉ　−１２ −１３ ■ ４ −１５ ■−１６ ！−１７ 夏−１８ −１９ ■ ０ ■ １ ■ ２ ■ ２３ ■ ４ −２５ しＨ３ し１１ゴ ■ ６ ■ ７ ■ ８ ■ ９ ０ ■ １ ２ ■ ３ ■ ５ ■ ３６ ■ ７ ８ −３９ −４０ ■−４１ ■ ２ ■ ３ ■ ５ ■−４９ ５１ ■ ２ ■ ３ ■ ４ ■ ５ ■ ６ ■ ７ ■ ８ ■ ９ ■ ０ １ ■ ２ ■−６３ ！ ４ ■−６５ ■−６６ ■−６７ ■−６８ ■ ０ ■−７２ Ｈｓ Ｈｓ 化合物ＣＩ）は、例えば特開昭５８−１４３３４２号、
同５９−１１１６４１号、同６４−４０８２７号、同６
３−３０１８８８号、特開平１−１３４４４７号等に示
された合成法と同様に酸性骨核とメチン鎖供給源を反応
させることにより容易に合成できる。-1 -5 -6 ■ -8 1-9 I -12 -13 ■ 4 -15 ■-16 ! -17 Summer-18 -19 ■ 0 ■ 1 ■ 2 ■ 23 ■ 4 -25 Shi H3 Shi 11 Go ■ 6 ■ 7 ■ 8 ■ 9 0 ■ 1 2 ■ 3 ■ 5 ■ 36 ■ 7 8 -39 -40 ■ -41 ■ 2 ■ 3 ■ 5 ■-49 51 ■ 2 ■ 3 ■ 4 ■ 5 ■ 6 ■ 7 ■ 8 ■ 9 ■ 0 1 ■ 2 ■-63 ! 4 ■-65 ■-66 ■-67 ■-68 ■ 0 ■-72 Hs Hs Compound CI) is disclosed in, for example, JP-A-58-143342,
No. 59-111641, No. 64-40827, No. 6
It can be easily synthesized by reacting an acidic bone core with a methine chain source in the same manner as the synthesis method shown in No. 3-301888, JP-A No. 1-134447, etc.

以下化合物（１）の具体的合成例を示すが、以下例示以
外の化合物（１）である他の染料も、同じ合成経路で容
易に合成することができる。A specific synthesis example of compound (1) will be shown below, but other dyes that are compound (1) other than those exemplified below can also be easily synthesized using the same synthetic route.

合或例１（化合物例１−２の合成） 化合物（土）２７ｇ、アミジン誘導体（２）１１．６ｇ
、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１００ｄを加え室温
でトリエチルアミン２５．３ｇを滴下し、そのまま５時
間反応を行った１反応終了後、酢酸カワウム２０　ｇ　
、　ＭｅＯＨ３００Ｉｉ、ＥｔＯＨ４００−中に反応液
を添加、析出固体を濾過し粗結晶を得た（なおＭｅはメ
チル基、Ｅｔはエチル基である０本明細書中において同
じ）、該粗結晶をウェットのままＤＭＦ５５０ａｇに加
熱溶解し、酢酸カリウム２０　ｇ　、　ＭｅＯＨ３００
ｄ。Synthesis Example 1 (Synthesis of Compound Example 1-2) 27 g of compound (earth), 11.6 g of amidine derivative (2)
, 100 d of dimethylformamide (DMF) was added, 25.3 g of triethylamine was added dropwise at room temperature, and the reaction was continued for 5 hours. After the completion of the reaction, 20 g of potassium acetate was added.
, the reaction solution was added to MeOH300Ii and EtOH400-, and the precipitated solid was filtered to obtain crude crystals (Me is a methyl group and Et is an ethyl group (the same is true in this specification)), and the crude crystals were wetted. Heat and dissolve in DMF550ag, potassium acetate 20g, MeOH300
d.

ＥｔＯＨ５００ｊｄ中に添加した。析出固体を取り出し
１５０　ｍの水に分散し溶液が均一になるまで水酸化カ
リウムを加えた。濾過して不溶物を除いた後、濃塩酸を
水溶液ｐＨが２以下になるまで添加し酸析を行った。析
出固体を濾過、乾燥することにより目的物を得た（収１
１５．３ｇ、収率５９％）。Added in 500jd of EtOH. The precipitated solid was taken out and dispersed in 150 m of water, and potassium hydroxide was added until the solution became homogeneous. After filtering to remove insoluble matter, concentrated hydrochloric acid was added until the pH of the aqueous solution became 2 or less to perform acid precipitation. The desired product was obtained by filtering and drying the precipitated solid (Yield 1
15.3 g, yield 59%).

目的物はマススペクトルにより親ピークをｉ認した。The parent peak of the target product was identified by mass spectroscopy.

合或例２（化合物例■−１４の合ｆｉ、）化合物 （Ｌ）　２３．４　ｇ、 アミジン誘導体 （土）８．４ ｇＳＤＭＦ　１００Ｊｄを加え室温でトリエチルアミン
２５．３ｇを滴下し、そのまま−夜反応を行った０反応
終了後合成例１と同様の精製を行うことにより目的物を
得た（収量１２．７　ｇ、収率７１％）。Synthesis Example 2 (Combination of Compound Example ■-14) 23.4 g of compound (L), 8.4 g of amidine derivative (Sat), 100 Jd of SDMF were added, 25.3 g of triethylamine was added dropwise at room temperature, and the reaction was continued overnight. After the completion of the 0 reaction, the desired product was obtained by performing the same purification as in Synthesis Example 1 (yield: 12.7 g, yield: 71%).

目的物はマススペクトルにより親ピークをｆｌＩ認した
。The parent peak of the target product was identified by mass spectroscopy.

台底例３（化合物例１−１９の台底） 化合物（ｉ）２３．４ｇ、アミジン誘導体（ｉ）８．４
ｇ、ＤＭＦ　１００ｄを加え室温でトリエチルアミン２
５．３ｇを滴下しそのまま７時間反応を行った０反応終
了後合戒例１と同様の精製を行うことにより目的物を得
た（収１１４．８　ｇ、収率６８％）。Base example 3 (base of compound example 1-19) Compound (i) 23.4 g, amidine derivative (i) 8.4
g, DMF 100d and triethylamine 2 at room temperature.
5.3 g was added dropwise and the reaction was continued for 7 hours. After the reaction was completed, the desired product was obtained by performing the same purification as in Example 1 (yield: 114.8 g, yield: 68%).

目的物はマススペクトルにより親ピークを確認した。The parent peak of the target product was confirmed by mass spectrometry.

台底例４（化合物例■−７２の台底） （１） （８） 一一一→　化合物例ｌ−７２ 化合物（７）２９．４ｇ、アミジン誘導体（８）１２．
８ｇ、ＤＭＦ　１００ｄを加え、室温でトリエチルアミ
ン３０ｇを滴下し、そのまま１２時間反応を行った。Base example 4 (base of compound example ■-72) (1) (8) 111 → Compound example l-72 Compound (7) 29.4 g, amidine derivative (8) 12.
8 g of DMF and 100 d of DMF were added thereto, and 30 g of triethylamine was added dropwise at room temperature, and the reaction was continued for 12 hours.

反応終了後合成例１と同様の精製を行うことにより目的
物を得た（収量２１ｇ、収率７１％）。After the reaction was completed, the desired product was obtained by performing the same purification as in Synthesis Example 1 (yield: 21 g, yield: 71%).

目的物はマススペクトルにより親ピークを確認した。The parent peak of the target product was confirmed by mass spectrometry.

本発明において、化合物ＣＩ）は支持体上の親水性コロ
イド層の少なくともいずれか１層に含有される０本発明
において親水性コロゴド層とは、例えば青感性乳剤層、
緑感性乳剤層及び赤感性乳剤層等のハロゲン化銀乳剤層
や、中間層、保護層、フィルター層、ハレーション防止
層、イラジエーシゴン防止層等の非感光性層であり、化
合物（１）はこのような層のいずれか少なくとも１層に
含有されていればよい。In the present invention, the compound CI) is contained in at least one of the hydrophilic colloid layers on the support. In the present invention, the hydrophilic colloid layer is, for example, a blue-sensitive emulsion layer,
These include silver halide emulsion layers such as a green-sensitive emulsion layer and a red-sensitive emulsion layer, and non-photosensitive layers such as an intermediate layer, a protective layer, a filter layer, an antihalation layer, and an anti-irradiation layer. It suffices if it is contained in at least one of the following layers.

本発明において、化合物（１）は好ましくは非感光層中
に含有され、特にハロゲン化銀乳剤層と支持体の間の層
中に含有させることが好ましい。In the present invention, compound (1) is preferably contained in the non-photosensitive layer, particularly preferably in the layer between the silver halide emulsion layer and the support.

次に、１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール系化
合物（以下適宜「化合物■」とも称する）について説明
する。Next, the 1-phenyl-5-mercaptotetrazole compound (hereinafter also referred to as "compound (2)") will be explained.

化合物（ｎ）としては、例えば下記−綴代（ＩＩ）で示
されるものを挙げることができる。Examples of the compound (n) include those represented by the following formula (II).

−綴代〔■〕 一般式〔■〕中、Ｙは水素原子、アルキル基、ＯＨ，−
ＣＯＮＨＲＩ、−５Ｏ，ＮＨＲｌ、−ＮＨＣＯＲ’、　
−ＣＯＯＭ”、または−５Ｏ，Ｍ”を表す。Ｒ１はアル
キル基、アリーれ水素原子、アルキル基、またはアリー
ル基を表し、あるいはＲ１，Ｒ３は互いに結合して環を
形成してもよい。-Spelling allowance [■] In the general formula [■], Y is a hydrogen atom, an alkyl group, OH, -
CONHRI, -5O, NHRl, -NHCOR',
-COOM" or -5O,M". R1 represents an alkyl group, an aryl hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, or R1 and R3 may be bonded to each other to form a ring.

Ｍ’　、Ｍ”はそれぞれ水素原子、アルカリ金属原子ま
たはアンモニウム基を表す。Ｒ３は１または２の整数を
表し、Ｒ３が２のとき、各Ｙは同一でも異なってもよい
。M' and M'' each represent a hydrogen atom, an alkali metal atom, or an ammonium group. R3 represents an integer of 1 or 2, and when R3 is 2, each Y may be the same or different.

上記アルキル基としては、例えば炭素数１〜３のものが
、アリール基としては、例えばフェニル基が挙げられ、
各基は置換基を有するものを含む。Examples of the alkyl group include those having 1 to 3 carbon atoms, and examples of the aryl group include, for example, a phenyl group.
Each group includes those having substituents.

メルカプトテトラゾール系化合物である化合物（Ｉ［）
は、本発明において、その少なくとも１種が感光材料の
ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも１層に含有される。Compound (I[) which is a mercaptotetrazole compound
In the present invention, at least one of these is contained in at least one silver halide emulsion layer of the light-sensitive material.

化合物（Ｉ［）のハロゲン化銀乳剤層への添加量は、ハ
ロゲン化ｉ艮１モル当たり２Ｘ１０−’〜２Ｘ１０−’
モルが好ましく、特に１ｘｌＯ−〜５Ｘ１０−”モルが
好ましい。The amount of compound (I[) added to the silver halide emulsion layer is 2X10-' to 2X10-' per mole of halide i.
Moles are preferred, especially 1×10−” to 5×10−” moles.

添加時期は、特に限定されることはなく、塗布液調製時
でも、それ以前でもよく、添加方法も任意であり、例え
ばメタノール等の適宜の溶媒に溶解して、添加すればよ
い。The time of addition is not particularly limited, and may be added at the time of preparing the coating liquid or before that time, and the addition method may be arbitrary, for example, it may be added after being dissolved in an appropriate solvent such as methanol.

次に化合物（Ｉｌ］の好ましい代表的例示化合物を示す
、但し当然であるが、本発明に用いることができる化合
物は、以下例示に限られるものではない。Next, preferred representative examples of compound (Il) will be shown. However, it goes without saying that the compounds that can be used in the present invention are not limited to the examples below.

例示は、下記−綴代においてＭ及びＲｔ　ｌ、　Ｒ２Ｓ
を特定することによって行う。Examples are given below - M and Rt l, R2S in the binding margin
This is done by identifying the

本発明の感光材料は、特にローラー搬送式自動現像機を
用い、下記式〔■〕の条件で処理した場合に好ましい。The photosensitive material of the present invention is particularly preferably processed using a roller conveyance type automatic developing machine under the conditions of the following formula [■].

式（ＩＩ［） ｆ　”−”Ｓ　Ｘ　Ｔ　＝５０〜１２５０．７　＜　４
２　＜４．０ 式（１）中、ｌはローラー搬送式自動現像機の挿入口の
第１０−ラーの芯から、乾燥出口の最終ローラーの芯ま
での搬送ラインの長さ（単位二ｍ）であり、Ｔは上記ｌ
を通過するのに要する時間（単位二秒）である。Formula (II[) f ”-” S XT = 50 to 1250.7 < 4
2 <4.0 In formula (1), l is the length of the conveyance line from the core of the 10th roller at the insertion port of the roller conveyance type automatic processor to the core of the final roller at the drying outlet (unit: 2 m) , and T is the above l
This is the time required to pass through (unit: 2 seconds).

本発明の感光材料に用いるハロゲン化銀乳剤としては、
通常のハロゲン化銀乳剤の任意のものを用いることがで
きる。The silver halide emulsion used in the light-sensitive material of the present invention includes:
Any of the conventional silver halide emulsions can be used.

該乳剤は、常法により化学増感することができ、増感色
素を用いて、所望の波長域に光学的に増感できる。The emulsion can be chemically sensitized by conventional methods, and can be optically sensitized to a desired wavelength range using a sensitizing dye.

ハロゲン化銀乳剤には、カブリ防止剤、安定剤等を加え
ることができる。該乳剤のバインダーとしては、ゼラチ
ンを用いるのが有利である。Antifoggants, stabilizers, etc. can be added to the silver halide emulsion. Gelatin is advantageously used as binder for the emulsion.

乳剤層、その他の親水性コロイド層は、硬膜することが
でき、また、可塑剤、水不溶性または難溶性合成ポリマ
ーの分散物（ラテックス）を含有させることができる。The emulsion layer and other hydrophilic colloid layers can be hardened and can contain a plasticizer and a dispersion (latex) of a water-insoluble or sparingly soluble synthetic polymer.

カラー写真用感光材料の乳剤層には、一般にカプラーが
用いられる。A coupler is generally used in the emulsion layer of a color photographic light-sensitive material.

更に色補正の効果を有しているカラードカプラ、競合カ
プラー及び現像主薬の酸化体とのカップリングによって
現像促進剤、漂白促進剤、現像剤、ハロゲン化銀溶剤、
調色剤、硬膜剤、カブリ剤、カブリ防止剤、化学増感剤
、分光増感剤、及び増感剤のような写真的に有用なフラ
グメントを放出する化合物等を用いることができる。Furthermore, by coupling with a colored coupler having a color correction effect, a competitive coupler, and an oxidized form of a developing agent, a development accelerator, a bleach accelerator, a developer, a silver halide solvent,
Compounds that release photographically useful fragments such as toning agents, hardeners, fogging agents, antifoggants, chemical sensitizers, spectral sensitizers, and sensitizers can be used.

感光材料には、フィルター層、ハレーション防止層、イ
ラジェーション防止層等の補助層を設けることができる
が、これらの層中及び／または乳剤層中には現像処理中
に感光材料から流出するかもしくは漂白される染料が含
有させられてもよい。A photosensitive material can be provided with auxiliary layers such as a filter layer, an antihalation layer, an antiirradiation layer, etc., but these layers and/or emulsion layers contain substances that may flow out from the photosensitive material during development. Alternatively, a bleaching dye may be included.

感光材料には、ホルマリンスカベンジャ−２蛍光増白剤
、マット剤、滑剤、画像安定剤、界面活性剤、色カプリ
防止剤、現像促進剤、現像遅延剤や漂白促進剤を添加で
きる。A formalin scavenger-2 optical brightener, a matting agent, a lubricant, an image stabilizer, a surfactant, an anti-color capri agent, a development accelerator, a development retardant and a bleach accelerator can be added to the photosensitive material.

感光材料の支持体としては、ポリエチレン等をラミネー
トした紙、ポリエチレンテレフタレートフィルム、バラ
イタ紙、三酢酸セルロース等を用いることができる。As the support for the photosensitive material, paper laminated with polyethylene or the like, polyethylene terephthalate film, baryta paper, cellulose triacetate, etc. can be used.

本発明の感光材料を用いて画像を得るには、露光後、通
常知られている写真処理を行う手段によることができる
。An image can be obtained using the photosensitive material of the present invention by means of commonly known photographic processing after exposure.

（実施例） 以下に本発明の具体的実施例を述べるが、本発明の実施
の態様はこれらに限定されない。(Examples) Specific examples of the present invention will be described below, but the embodiments of the present invention are not limited thereto.

実施例１ 本実施例においては、下記のようにしてハロゲン化銀写
真感光材料を作成した。Example 1 In this example, a silver halide photographic material was prepared as follows.

まず、次のようにして乳剤を調製した。First, an emulsion was prepared as follows.

（Ａ）単分散乳剤の作成 反応釜の条件として６０°Ｃ，ｐＡｇ＝８、そしてｐＨ
＝２に保ちつつダブルジェット法により、平均粒径０．
３μｍのヨウ化銀２モル％を含むヨウ臭化銀の単分散立
方晶乳剤を得た。電子顕微鏡観察によれば、双晶の発生
率は個数で１％以下であった。この乳剤を種晶として、
更に以下のように成長させた。(A) Creation of monodisperse emulsion The reaction vessel conditions were 60°C, pAg=8, and pH
= 2 by double jet method, the average particle size was 0.
A monodisperse cubic emulsion of silver iodobromide having a diameter of 3 μm and containing 2 mol % of silver iodide was obtained. According to electron microscopic observation, the incidence of twins was 1% or less in number. Using this emulsion as a seed crystal,
It was further developed as follows.

反応釜内にゼラチン水溶液を４０”Ｃに保ち上記種晶を
添加し、更にアンモニア水と酢酸を加えてｐＨ＝９．５
に調製した。Keep the aqueous gelatin solution at 40"C in the reaction vessel, add the above seed crystals, and add ammonia water and acetic acid to pH = 9.5.
It was prepared as follows.

アンモニア性銀イオン液にてｐＡｇ７．３に調整後、ｐ
Ｈ及びｐＡｇを一定に保ちつつアンモニア性銀イオンを
ヨウ化カリウムと臭化カリウムを含む溶液をダブルジェ
ット法で添加し、ヨウ化銀３０モル％を含むヨウ臭化銀
層を形成せしめた。After adjusting pAg to 7.3 with ammoniacal silver ion solution, p
While keeping H and pAg constant, ammoniacal silver ions were added to a solution containing potassium iodide and potassium bromide by a double jet method to form a silver iodobromide layer containing 30 mol % of silver iodide.

酢酸と臭化銀を用いてｐＨ＝９、ｐ　Ａ　ｇ　＝９．０
に調整し、その後にアンモニア性銀イオン液と臭化カリ
ウムを同時に添加し、成長後粒径の９０％にあたるまで
成長させた。この時ｐＨは９．０から８．２０まで徐々
に下げた。pH = 9, p A g = 9.0 using acetic acid and silver bromide
After that, an ammoniacal silver ion solution and potassium bromide were added at the same time, and the grain size was grown to 90% of the grain size after growth. At this time, the pH was gradually lowered from 9.0 to 8.20.

臭化カリウム液を加えＰ　Ａ　ｇ　＝１１とした後に更
にアンモニア性銀イオン液と臭化カリウムを加えてｐＨ
を徐々にｐＨ８まで下げながら成長せしめ、平均粒径０
．７μｍ、ヨウ化銀を２モル％含むヨウ臭化銀乳剤を得
た。After adding potassium bromide solution to make P A g = 11, further add ammoniacal silver ion solution and potassium bromide to adjust the pH.
was grown while gradually lowering the pH to 8, and the average particle size was 0.
．． A silver iodobromide emulsion having a diameter of 7 μm and containing 2 mol % of silver iodide was obtained.

また乳剤の調製の際に、下記増感色素〈ａ〉を乳剤中の
！！１モル当たり３００■、増感色素＜ｂ＞を１５■添
加し、乳剤を得た。Also, when preparing the emulsion, add the following sensitizing dye <a> to the emulsion! ! An emulsion was obtained by adding 300 µm/mol and 15 µm of sensitizing dye <b>.

増感色素＜ａ＞ 増感色素＜ｂ＞ 次に、下記に示すように、過剰塩をとり除く脱塩工程を
行った。Sensitizing dye <a> Sensitizing dye <b> Next, as shown below, a desalting step for removing excess salt was performed.

ハロゲン化銀乳剤溶液を４０℃に保ち、下記化合物（イ
）（特開昭５８−１４０３２２号公報中に示しである例
示化合物■−１）を加えてハロゲン化銀粒子を沈降せし
め、上澄液を排出後に更に４０°Ｃの純水を加えた。そ
して硫酸マグネシウムを添加し再度ハロゲン化銀粒子を
沈降せしめ上澄液をとりさる。The silver halide emulsion solution was kept at 40°C, and the following compound (a) (exemplary compound (1) shown in JP-A-58-140322) was added to precipitate the silver halide grains, and the supernatant liquid After the water was discharged, pure water at 40°C was added. Then, magnesium sulfate is added to precipitate the silver halide grains again, and the supernatant liquid is removed.

これをもう−度行いゼラチンを加えｐＨ６，０、ｐＡｇ
８．５の乳剤を得た。Repeat this process again and add gelatin to pH 6.0 and pAg.
An emulsion of 8.5 was obtained.

化合物（イ） （ｍは重合度を示す） 上記により得られた乳剤を５５°Ｃに保ち、塩化金酸、
そしてハイポを加えて化学増感を行い、４ヒドロキシ−
６−メチル−１，３，３ａ、７−チトラザインデンを加
えて感光性乳剤を得た。これを乳剤（Ａ）とする。Compound (A) (m indicates the degree of polymerization) The emulsion obtained above was kept at 55°C, and chloroauric acid,
Then, chemical sensitization is performed by adding hypo to 4-hydroxy-
A photosensitive emulsion was obtained by adding 6-methyl-1,3,3a,7-chitrazaindene. This is referred to as emulsion (A).

（Ｂ）平板粒子乳剤の調製 水ｌｌ中にＫＢｒｌｏ、５ｇ、チオエーテル化合物であ
るＨＯ（ＣＨＩ）！５（ＣＨり！５（ＣＨりＺＯＨの０
．５ｗｔ％水溶液１０ｃｃ、及びゼラチン３０ｇを加え
て溶解し、７０°Ｃに保った。この溶液中に、攪拌しな
がら、硝酸銀水溶液０．８８モル／１３０−と、沃化カ
リウムと臭化カリウム（モル比３．５　：　９６．５）
の水溶液０．８８モル／１３０−とをダブルジェット法
により添加し、平均粒径０．６０μｍで沃化銀含有率が
３．５モル％の粒子を得た。該混合溶液の添加終了後４
０°Ｃまで降温した。これにナフタレンスルホン酸ナト
リウムとホルマリンの縮合物及びＭｇＳＯ３をそれぞれ
２４．６　ｇ　／　ＡｇＸ１　モル添加し、ＰＨ４，０
に降下させ脱塩を行い、その後、後ゼラチン１５ｇ／Ａ
ｇＸ１モルを添加して、平板粒子含有の乳剤を調製した
。(B) Preparation of tabular grain emulsion In 1 liter of water, 5 g of KBrlo, HO (CHI) which is a thioether compound! 5 (CHri! 5 (CHri ZOH's 0
．． 10 cc of a 5 wt % aqueous solution and 30 g of gelatin were added and dissolved, and the mixture was maintained at 70°C. Into this solution, while stirring, a silver nitrate aqueous solution of 0.88 mol/130-, potassium iodide and potassium bromide (molar ratio 3.5:96.5).
An aqueous solution of 0.88 mol/130 - was added by a double jet method to obtain grains having an average grain size of 0.60 μm and a silver iodide content of 3.5 mol %. After the addition of the mixed solution 4
The temperature was lowered to 0°C. To this was added a condensate of sodium naphthalene sulfonate and formalin and MgSO3 in an amount of 24.6 g/AgX1 mol each, and the pH was adjusted to 4.0.
After that, 15 g/A of post-gelatin was added.
An emulsion containing tabular grains was prepared by adding 1 mol of gX.

（Ｃ）多分散乳剤の調製 順混合法により、下記の４種の溶液により多分散乳剤を
調製した。(C) Preparation of Polydisperse Emulsion Polydisperse emulsions were prepared using the following four solutions by the mixing method.

溶液Ｂと溶液Ｃを乳剤調製用の反応釜に注入し、回転数
３００回転／分のプロペラ型攪拌器で攪拌し、反応温度
を５５℃に保った。Solution B and solution C were poured into a reaction vessel for emulsion preparation and stirred with a propeller type stirrer at a rotation speed of 300 revolutions/minute, and the reaction temperature was maintained at 55°C.

次に、Ａ液を１容：２容の割合に分割し、その内の１容
である１００−を１分間かけて投入した。Next, the A solution was divided into 1 volume: 2 volumes, and 1 volume of 100-volume was added over 1 minute.

１０分間撹拌を続けた後、Ａ液の残余の２容である２０
０　ｄを１０分間かけて投入した。更に３０分間攪拌を
継続した。そして、Ｄ液を加えて、反応釜中の溶液のｐ
Ｈを６．０に調整し、反応を停止させた。After continuing stirring for 10 minutes, the remaining 2 volumes of Solution A, 20
0 d was added over 10 minutes. Stirring was continued for an additional 30 minutes. Then, add solution D to increase the p of the solution in the reaction vessel.
H was adjusted to 6.0 to stop the reaction.

ハロゲン化銀粒子の平均粒径は０．５６μｍであり、分
散度は０．３２であった。また沃化銀含有率は１．２モ
ル％であった。The average grain size of the silver halide grains was 0.56 μm, and the degree of dispersion was 0.32. Further, the silver iodide content was 1.2 mol%.

上記（Ｂ）（Ｃ）で得られた乳剤について、化学増感を
行った。っまた、チオシアン酸アンモニウムと塩化金酸
とハイポを加え、金−硫黄増感を施した。The emulsions obtained in (B) and (C) above were subjected to chemical sensitization. Furthermore, ammonium thiocyanate, chloroauric acid, and hypo were added to perform gold-sulfur sensitization.

この化学増感終了後、４−ヒドロキシ−６−メチル−１
，３，３ａ、７−チトラザインデンを加えた。その後、
沃化カリウム１５０■／ＡｇＸ　１モルと、前記増感色
素＜ａ＞（ｂ）を乳剤（Ａ）のときと同量添加して、分
光増感を行った。これにより得られた乳剤を、それぞれ
乳剤（Ｂ）、（Ｃ）とする。After this chemical sensitization, 4-hydroxy-6-methyl-1
,3,3a,7-chitrazaindene was added. after that,
Spectral sensitization was carried out by adding 150 μm of potassium iodide/1 mol of AgX and the same amount of the sensitizing dye <a>(b) as in emulsion (A). The emulsions thus obtained are referred to as emulsions (B) and (C), respectively.

上記（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）それぞれの感光性乳剤に、添加
剤として、ハロゲン化ＳＮ１モル当たり、ｔ−ブチル−
カテコール　　　　　　４００■。As an additive, t-butyl-
Catechol 400■.

ポリビニルピロリドン（分子量１０，０００）スチレン
−無水マレイン酸共重合体 トリメチロールプロパン ジエチレングリコール ニトロフェニル−トリフェニルフォス フオニウムクロライド ｌ　３−ジヒドロキシベンゼン−４ スルホン酸アンモニウム ２−メルカプトベンゾイミダゾール− ５−スルホン酸ソーダ １．０　ｇ ２．５ｇ ０ｇ ｇ ５０■ ｇ ５■ ｔ＋Ｕ ■。Polyvinylpyrrolidone (molecular weight 10,000) styrene-maleic anhydride copolymer trimethylolpropane diethylene glycol nitrophenyl-triphenylphosphonium chloride l 3-dihydroxybenzene-4 ammonium sulfonate 2-mercaptobenzimidazole-5-sodium sulfonate 1.0 g 2.5g 0g g 50■ g 5■ t+U ■.

■ ジメチロール−１ ブロム ■−二トロメタン １０■ 等を加えて、乳剤塗布液とした。■ Dimethylol-1 Blom ■-Nitromethane 10■ etc. to prepare an emulsion coating solution.

更に、保護層液として、次の塗布液を調製した。Furthermore, the following coating solution was prepared as a protective layer solution.

即ち、下記の化合物をゼラチン１ｇ当たり下記の量加え
て、保護層用塗布液とした。That is, the following compounds were added in the following amounts per 1 g of gelatin to prepare a protective layer coating solution.

Ｆ＋ｑＣｑ　　０（ＣＨｚＣＨｚＯ）＋ａＣＨｚＣＨｚ
Ｏ）１　　　　　３■。F+qCq 0(CHzCHzO)+aCHzCHz
O) 1 3 ■.

平均粒径７μｍのポリメチルメタクリ レートからなるマット剤　　　　　　　　７■。Polymethyl methacrylate with an average particle size of 7 μm Matting agent consisting of rate 7■.

平均粒径０．０１３μｍのコロイダルシリカ７０■　。Colloidal silica 70cm with an average particle size of 0.013μm.

ＣＨｚ＝ＣＨＳＯ□Ｃ１ｈＯＣＨｚＳＯＩＣＩ＝ＣＨｚ
　　　　　７■。CHz=CHSO□C1hOCHzSOICI=CHz
7■.

上記各塗布液を用いた、以下のごとき各試料Ａ１〜Ａ９
、Ｂｌ−Ｂ７、Ｃ１〜Ｃ８を作成した。Each of the following samples A1 to A9 using each of the above coating liquids
, Bl-B7, and C1 to C8 were created.

（試料ＡＩの作成） 下引液としては、グリシジルメタクリレート５〇−ｔ％
、メチルメタクリレ−）１０ｗｔ％、ブチルメタクリレ
−）４０ｗｔ％の共重合体を、その濃度が１０−ｔ％に
なるように希釈した共重合体水溶性分散液を用い、これ
を両面に塗布することにより、下引加工した支持体を得
た。ついで該支持体上に、乳剤（Ａ）から戒る乳剤層、
及び保１１１ｉを塗設した。(Creation of sample AI) As the subbing liquid, glycidyl methacrylate 50-t%
Using an aqueous copolymer dispersion prepared by diluting a copolymer containing 10 wt% of methyl methacrylate and 40 wt% of butyl methacrylate to a concentration of 10-t%, this was applied to both sides. By doing so, a subbed support was obtained. Then, on the support, an emulsion layer formed from emulsion (A),
and Ho 111i were applied.

即ち片面銀量として３．２ｇ／ｎｆとなるように乳剤層
を、片面ゼラチン量として０．９８ｇ／ｒｙｆとなるよ
うに保護層を、塗布スピード１４０ｍ／分にて両面同時
塗布した。That is, the emulsion layer was coated with a silver content of 3.2 g/nf on one side and the protective layer was coated with a gelatin content of 0.98 g/ryf on each side at a coating speed of 140 m/min.

（試料Ａ２〜Ａ９の作成） 試料ＡＩの写真構成層に更に、その乳剤層と下引層の間
に、クロスオーバーカット物質として表１−１に示す染
料（比較染料、または本発明の化合物（Ｉ）である染料
）を含有するクロスオーバーカット層を挿入するように
塗布を行った。但し染料の添加方法は、次の添加方法く
イ〉またはく口〉のいずれかを採用して、行うようにし
た。(Preparation of Samples A2 to A9) In addition to the photographic constituent layer of Sample AI, between the emulsion layer and the subbing layer, dyes shown in Table 1-1 (comparative dyes or compounds of the present invention) were added as crossover cut substances. Coating was performed so as to insert a crossover cut layer containing dye I). However, the dye was added using either of the following methods.

添加方法〈イ〉 （固体微粒子として添加する方法） 使用する染料を、以下の手順によりポールミル固体微粒
子分散する。Addition Method (A) (Method of Adding as Solid Fine Particles) The dye to be used is dispersed into solid fine particles using a pole mill according to the following procedure.

即ち、ボールミル容器に水と界面活性剤アルカノールＸ
Ｃ（アルキルナフタレン−スルホネートデュポン社製）
を入れ、それぞれの添加すべき染料を加え、酸化ジルコ
ニウムのビーズを入れて容器を密閉し４日間ボールミル
分散する。That is, water and surfactant alkanol X are placed in a ball mill container.
C (alkylnaphthalene-sulfonate manufactured by DuPont)
, add each dye to be added, add zirconium oxide beads, seal the container, and disperse in a ball mill for 4 days.

その後、ゼラチン水溶液を加えて１０分間混ぜ、前記ビ
ーズをとり除き、塗布液を得る。Thereafter, an aqueous gelatin solution is added and mixed for 10 minutes, and the beads are removed to obtain a coating solution.

添加方法く口〉 （比較の添加方法） 染料を少量のトリエチルアミンを含むメタノールに溶解
後、ゼラチン水溶液に添加してｐＨを６．０とし塗布液
とする。Addition method (Comparative addition method) After dissolving the dye in methanol containing a small amount of triethylamine, it is added to an aqueous gelatin solution to adjust the pH to 6.0 to prepare a coating solution.

各試料について、その染料の添加量は、表に示した量に
なるようにした。For each sample, the amount of dye added was as shown in the table.

また試ｐＡ５〜Ａ９についてはその乳剤層に本発明の化
合物（ＩＩ）を、表に示す種類及び量で含有させて、本
発明の試料とした。化合物（ＩＩ）は、１％メタノール
溶液として塗布液調製時に添加した。Samples pA5 to A9 were used as samples of the present invention by containing the compound (II) of the present invention in the emulsion layer in the type and amount shown in the table. Compound (II) was added as a 1% methanol solution during preparation of the coating solution.

（試料８１〜Ｂ７の作成） 乳剤として、前記平版状粒子乳剤（Ｂ）を用い、かつ表
１−２に示すクロスオーバーカット物質を含有する（そ
の添加方法も同表に示す）クロスオーバーカット層を有
する構成にして、上記試料と同様に試料Ｂ１〜Ｂ７を作
成した。(Creation of Samples 81 to B7) A crossover cut layer using the planar grain emulsion (B) as the emulsion and containing the crossover cut substance shown in Table 1-2 (the addition method thereof is also shown in the same table). Samples B1 to B7 were created in the same manner as the above sample, using a configuration having the following.

また試料８４〜Ｂ７についてはその乳剤層に本発明の化
合物（ｎ）を、表に示す種類及び量で含有させて、本発
明の試料とした。Samples 84 to B7 were made into samples of the present invention by containing the compound (n) of the present invention in the emulsion layer in the type and amount shown in the table.

（試料Ｃ１〜Ｃ７の作成） 乳剤として、前記多分散乳剤（Ｃ）を用い、かつ表１−
３に示すクロスオーバーカット物質を含有する（その添
加方法も同表に示す）クロスオーバーカット層を有する
構成にして、上記試料と同様に試料Ｃｌ−Ｃ８を作成し
た。(Creation of Samples C1 to C7) The polydisperse emulsion (C) was used as the emulsion, and Table 1-
Sample Cl-C8 was prepared in the same manner as the above sample, having a structure having a crossover cut layer containing the crossover cut substance shown in No. 3 (the method of adding it is also shown in the same table).

また試料Ｃ５〜Ｃ８については、その乳剤層に本発明の
化合物（ＩＩ）を、表に示す種類及び量で含有させて、
本発明の試料とした。In addition, for samples C5 to C8, the emulsion layer contained the compound (II) of the present invention in the type and amount shown in the table.
This was used as a sample of the present invention.

得られた試料に対し、次の評価を行った。The following evaluations were performed on the obtained samples.

〈センシトメトリーの測定〉 「新編、照明のデータブック」に記載の標準の光Ｂを光
源とし、露光時間０．１秒、３，２ｃ＋ｍｓでノンフィ
ルターでフィルムの両面に同一の光量となるように露光
した。上記試料は、Ｓ　ＲＸ　−１００１自動現像機（
コニカ■製）を用い、ＸＤ−３Ｒ現像液及びＸＦ−３Ｒ
定着液を用いて乾燥工程までを含めて４５秒処理を行い
、各試料の感度を求めた。尚、上記処理の条件は、Ｔ−
４５、ｆ　＝３．７１、（Ｉｏ・７５×Ｔ＝１２０．３
であった。感度は、黒化濃度が１．０だけ増加するのに
必要な光量の逆数を求め、表１−１についてはその試料
１の場合の感度を１００とした相対感度で表した。表１
−２１表１−３についても、同様に各々の試料１の感度
を１００とした相対値で表した。<Measurement of sensitometry> Using the standard light B described in the "New Edition, Lighting Data Book" as the light source, use an exposure time of 0.1 seconds, 3.2 c + ms, and use a non-filter to ensure the same amount of light on both sides of the film. exposed to light. The above sample was processed using an SRX-1001 automatic processor (
(manufactured by Konica ■), XD-3R developer and XF-3R
Processing was performed for 45 seconds including the drying process using a fixing solution, and the sensitivity of each sample was determined. The conditions for the above processing are T-
45, f = 3.71, (Io・75×T=120.3
Met. The sensitivity was determined by the reciprocal of the amount of light required to increase the blackening density by 1.0, and in Table 1-1, it was expressed as a relative sensitivity with the sensitivity of sample 1 set as 100. Table 1
-21 Table 1-3 is similarly expressed as a relative value with the sensitivity of each sample 1 set as 100.

（ＭＴＦの評価〉 ０．５〜１０ライン／閣の鉛製の矩形波の入ったＭＴＦ
チャートを蛍光スクリーンＫＯ−２５０（コニカ■製）
のフロント側の裏面に密着させ、フィルム面の鉛のチャ
ートで遮蔽されていない部分の濃度が、両面で約１．０
になるようにＸ線を照射した。(MTF evaluation) 0.5 to 10 lines/MTF with lead square wave
Chart on fluorescent screen KO-250 (manufactured by Konica ■)
The concentration of the part of the film surface that is not shielded by the lead chart is approximately 1.0 on both sides.
X-rays were irradiated so that

上記のようにしてＸ線を照射した試料について前述と同
様の現像処理をした後、記録された矩形波のパターンを
サクラマイクロデンシトメーターＭ−５型（コニカ■製
）を用い、測定した。なお、この時のアパーチャーサイ
ズは矩形波の平行方向に３００μｍ１直角方向に２５μ
ｍであり、拡大倍率は２０倍であった。得られたＭＴＦ
値を代表し、空間周波数２．０ライン／閣の値で示す。After the sample irradiated with X-rays as described above was developed in the same manner as described above, the recorded rectangular wave pattern was measured using a Sakura Microdensitometer Model M-5 (manufactured by Konica ■). The aperture size at this time is 300 μm in the parallel direction of the rectangular wave and 25 μm in the perpendicular direction.
m, and the magnification was 20 times. Obtained MTF
The value is shown as a spatial frequency of 2.0 line/height.

（処理ムラの評価） 四ツ切試料を処理後の濃度が０．５になるように全面露
光してから、上記と同様の処理を行った。(Evaluation of processing unevenness) The entire surface of the four-cut sample was exposed to light so that the density after processing was 0.5, and then the same processing as above was performed.

評価は以下の５段階で行った。Evaluation was performed on the following five levels.

１、非常に劣る ２、劣る ３、普通 ４、良好 ５、非常に良好 各評価の結果は表１−１〜１−３に示す。1.Very poor 2. Inferior 3. Normal 4. Good 5.Very good The results of each evaluation are shown in Tables 1-1 to 1-3.

比較染料１ 表１−１−１−３から明らかなように、本発明に係る試
料は、比較試料と比べて、感度低下が少ないにもかかわ
らず、鮮鋭性が向上し、かつ処理ムラも少ないことがわ
かる。Comparative Dye 1 As is clear from Table 1-1-1-3, the sample according to the present invention has improved sharpness and less processing unevenness than the comparative sample, despite less decrease in sensitivity. I understand that.

実施例２ 実施例工と同様にして、表２に示す乳剤、染料等を用い
て試料２−１〜２−１３を作成した。但し、増感色素＜
ａ＞＜ｂ＞は添加しなかった。また、ＭＴＦ鮮鋭性の評
価において、蛍光スクリーンはＮＲ−２５０（コニカ■
製）を用いた。Example 2 Samples 2-1 to 2-13 were prepared in the same manner as in Example using the emulsions, dyes, etc. shown in Table 2. However, sensitizing dye <
a><b> were not added. In addition, in the evaluation of MTF sharpness, the fluorescent screen was NR-250 (Konica ■
(manufactured by) was used.

また現像処理は第１図または第２図に示す試作自動現像
機を用い、処理時間を変化させた。Further, for the development process, a prototype automatic developing machine shown in FIG. 1 or 2 was used, and the processing time was varied.

第１図及び第２図中、ｌは感光材料挿入口の第１０−ラ
ー、２は乾燥出口の最終ローラー、３ａは現像槽、３ｂ
は定着槽、３ｃは水洗槽、４は被処理対象である感光材
料、５はスクイズ部、６は乾燥部、７は乾燥空気の吹出
口である。In FIGS. 1 and 2, l is the 10th roller at the photosensitive material insertion port, 2 is the final roller at the drying outlet, 3a is the developer tank, and 3b
3c is a fixing tank, 3c is a washing tank, 4 is a photosensitive material to be processed, 5 is a squeeze section, 6 is a drying section, and 7 is a drying air outlet.

評価結果も併せて、表２に示す。The evaluation results are also shown in Table 2.

表２から、本実施例においても本発明に係る試料がすぐ
れた性能を有することが理解されよう。From Table 2, it will be understood that the samples according to the present invention also have excellent performance in this example.

また、試料２−７を、第１図の自動現像機を用い、Ｔ＝
９０秒（ｊ！ｏ・？５ＸＴ＝１９１．７　＞　−（’処
理した場合及び、試料２−８のメルカプトテトラゾール
１１−１をＩ［−３，ｌｌ−２２、■−２５に代えた各
試料の場合も、本発明の効果が認められた。In addition, sample 2-7 was processed using the automatic developing machine shown in Fig. 1, and T=
90 seconds (j!o・?5XT=191.7 >−(') and each sample in which mercaptotetrazole 11-1 of sample 2-8 was replaced with I[-3, ll-22, ■-25 The effects of the present invention were also observed in these cases.

比較染料２ 比較染料３ 比較染料４ 〔発明の効果〕 上述の如く本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、感度
の低下を抑えてかつ鮮鋭性が向上し、しかも処理ムラが
少ないという効果を有するものである。Comparative Dye 2 Comparative Dye 3 Comparative Dye 4 [Effects of the Invention] As described above, the silver halide photographic material of the present invention has the effects of suppressing a decrease in sensitivity, improving sharpness, and having little processing unevenness. It is something.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第１図及び第２図は、本発明の実施例に用いた自動現像
機の構成図である。FIGS. 1 and 2 are block diagrams of an automatic developing machine used in an embodiment of the present invention.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 １、支持体上に、少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層
を含む親水性コロイド層を有するハロゲン化銀写真感光
材料において、親水性コロイド層の少なくともいずれか
１層は下記一般式〔 I 〕で示される化合物の固体微粒
子分散体を含有し、ハロゲン化銀乳剤層の少なくともい
ずれか１層は１−フェニル−５−メルカプトテトラゾー
ル系化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀写
真感光材料。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｚ＾１、Ｚ＾２は５または６員環を形成するに必
要な原子群を表し、Ｘ＾１、Ｘ＾２は酸素原子、または
イオウ原子を表し、Ｌ＾１〜Ｌ＾３はメチン基を表す。 ｎは０，１または２を表し、ｎが２のとき、２つのＬ＾
２、Ｌ＾３は同一でも異なってもよい。 Ｚ＾１、Ｚ＾２により形成される環の少なくとも１つは
、カルボキシル基、スルホンアミド基、スルファモイル
基の少なくとも１つを有し、かつ、一般式〔 I 〕で示
される化合物全体として、カルボキシル基、スルホンア
ミド基、スルファモイル基を少なくとも２つ有する。 ２、下記式〔III〕に相当する条件で処理を行うローラ
ー搬送式自動現像機により処理するものであることを特
徴とする請求項１に記載のハロゲン化銀写真感光材料。 式〔III〕 ｌ＾０＾．＾７＾５×Ｔ＝５０〜１２５ ０．７＜ｌ＜４．０ 式〔III〕中、ｌはローラー搬送式自動現像機の挿入口
の第１ローラーの芯から、乾燥出口の最終ローラーの芯
までの搬送ラインの長さ（単位：ｍ）であり、Ｔは上記
ｌを通過するのに要する時間（単位：秒）である。[Claims] 1. In a silver halide photographic material having a hydrophilic colloid layer including at least one silver halide emulsion layer on a support, at least one of the hydrophilic colloid layers is as follows: A halogenated compound comprising a solid fine particle dispersion of a compound represented by the general formula [I], wherein at least one of the silver halide emulsion layers contains a 1-phenyl-5-mercaptotetrazole compound. Silver photosensitive material. General formula [I] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ In the formula, Z^1 and Z^2 represent the atomic group necessary to form a 5- or 6-membered ring, and X^1 and X^2 It represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L^1 to L^3 represent a methine group. n represents 0, 1 or 2, and when n is 2, two L^
2, L^3 may be the same or different. At least one of the rings formed by Z^1 and Z^2 has at least one of a carboxyl group, a sulfonamide group, and a sulfamoyl group, and the compound represented by the general formula [I] as a whole has a carboxyl group. group, sulfonamide group, or sulfamoyl group. 2. The silver halide photographic material according to claim 1, wherein the silver halide photographic material is processed using a roller conveyance type automatic developing machine which performs processing under conditions corresponding to the following formula [III]. Formula [III] l^0^. ^7^5×T=50~125 0.7<l<4.0 In formula [III], l is the distance from the core of the first roller at the insertion port of the roller conveyance automatic developing machine to the final roller at the drying exit. It is the length of the conveyance line to the core (unit: m), and T is the time required to pass through the above l (unit: seconds).