JPH03204872A - ３―フェニルベンゾフラン―２―オン類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、新規な３−フェニルベンＩ　７−ｙシー２−
オン類、これを用いることにより熱的。

酸化的訃よび化学線崩壊に対して安定化された有機材料
、そして有機材料を安定化するためのこれら化合物の使
用法に関する。

（従来の技術） いくつかのベンゾフラン−２−オンの有機ポリマー用安
定剤としての使用は、ＧＢ−ム２Ｊ４２，５６２または
ＢＥ−Ａ８８１，４９６そしてまたＤｅｒｗｅｎｔ　Ａ
ｂｇｔｒａｅ−１１１８６−２０７５９７１５２および
８６−２１４６９５７３５並びにＲｅ５ｅａｒｃｈ　Ｄ
ｌｓｃｌｏｓｕｒａ　２２８，２８８８Ｂ（１９８８）
　　より知られている。いくつかのベンゾフラン−２−
オンのカラー写真における使用はＵ　Ｓ　Ｔ　９０４，
００５　　に記載されている。

（課題を解決するための手段１発明の効果）本発明は。

１ １２のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし４のアル
キル基により置換された炭素原子数５ないし７のシクロ
アルキル基を表わすか、またはフェニル基もしくは炭素
原子数７ないし１２のフェニルアルキル基を表わし、Ｒ
・１は水素原子ま念は炭素原子数１ないし４のアルキル
基を表わしセしてＺはフェニル基、炭素原子数１ないし
８のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基
もしくは塩素原子によ夕置換されたフェニル基、基 Ｃ式中、ｎは１または２を表わす、）または基Ｃ式中、
Ｒ１は炭素原子数１５ないし３０のアルキル基を表わし
、Ｂ８は水素原子、炭素原子数１ないし１Ωのアルキル
基、炭素原子数５ないし（式中、基Ａは互いに独立して
炭素原子数１ないし８のアルキル基、メトキシ基または
エトキシ基を表わす、）ヲ表わす、］で表わされる化合
物に関する。

炭素原子数１３ないし３０のアルキル基、好ましくは炭
素原子数１３ないし２０のアルキル基としてＲ１の例は
、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘ
キサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナ
デシル基およびアイコシル基を表わす、好ましくは、１
−位において枝分れしているこの種のアルキル基、とシ
わけ、１−（炭素原子数１２ないし１６アルキル）エチ
ル基、飼えば１−ドデシルエチル基、１−トリデシルエ
チル基、１−テトラデシルエチルＴｊ、　　１−ペンタ
デシルエチル基訃よび１−ヘキサデシルエチル基である
。１−ドデシルエチル基および１−ヘキサデシルエチル
基が特に好ましい。

炭素原子数１ないし１０のアルキル基としてのＲ１の例
は、メチル基、エチル基、プロピル基。

ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オク
チル基、ノニル基およびデシル基である。鳥は好ましく
は炭素原子数１ないし４のアルキル基、特にメチル基お
よび第三ブチル基である。

炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基としてのＲ
，の例は、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シク
ロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シ
クロデシル基、シクロウンデシル基またはシクロドデシ
ル基である。

またＲ、は好ましくは炭素原子数５ないし７のシクロア
ルキル基、とりわけシクロヘキシル基を表わす。

炭素原子数１ないし４のアルキル基によシ置換された炭
素原子数５ないし７のシクロアルキル基としてのＲ，の
ｎ＃ｉ、メチルシクロヘキシル基および第三ブチルシク
ロヘキシル基ヲ表わす。

炭素原子数７ないし１２の７エニルアルキル基としての
Ｒ，のＮは、ベンジル基シよび２−フェニルエチル基で
ある。

炭素原子数１ないし４のアルキル基としてのＲｓの例は
、メチルＩＥ１エチル基、プロピル基シよびブチル基を
表わす、Ｒ３は好ましくはメチル基を表わす。

置換フェニル基としてのＺのｆＩｌ＃ｉ、　　ｏ　−ａ
　ｍ−またはｐ−メチルフェニル基、０−　ｍ−または
ｐ−エチルフェニル基、ｏ−、ｍ−またはｐ−ブチルフ
ェニル基、ｏ−、ｍ−またはｐ−メトキシフェニル基、
ｏ−、ｔｎ−またはｐ−エトキシフェニルｙＩｉ、ｏ−
，ｍ−またはｐ−クロロフェニル基訃よび２．４．６−
　）ジメチル−５ヒドロキシフエニル基である。

２は好ましくけフェニル基を表わす。

Ｒ１が炭素原子数１５ないし２０のアルキル基を表わし
かつＺＦ′ｉフェニル基を表わすところの式Ｉの化合物
が好ましい。

また、Ｒ１が炭素原子数１４ないし１８のアルキル基を
表わすところの式■の化合物が好ましい。

ま念、Ｒ，が水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、シクロヘキシルＭ、フェニル基またはベンジル基
を表わすところの式Ｉの化合物が好ましい。

またｂ　Ｒ１が水素原子または炭素原子数１ないし４の
アルキル基を表わすところの式Ｉの化合物が好ましい。

Ｒ３は水素原子ま念はメチル基を表わすのが特に好まし
い。

Ｒ１は炭素原子数１４ないし１８のアルキル基を表わし
そしてＲ，＞よびＲ３は互いに独立して水素原子または
炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わすところの式
Ｉの化合物は、特に興味のあるものである。

以下のものは１式ｌの化合物のうちの好ましい同である
〇 ３−フェニル−５−メチル−７−（１”−ドデシルエチ
ル）−ベンゾフラン−２−オンは特に好ましい式Ｉの化
合物である。

式Ｉの化合物は、熱、酸化または化学線崩壊に対して有
機材料を安定化するのに適する。

以下のものは、この種の材料の例である。

ｔ　モノオレフィンおよびジオレフィンのポリｆｆ＋、
ｎ、ｔばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ
ン−１，ポリメチルペンテン−１１ポリイソプレンまた
はポリブタジェン。

並びにシクロオレフィン同えばシクロペンテンまたはノ
ルボルネンのポリマー　（所望によシ架橋結合できる）
ポリエチレン、ｆｒＩＩえば高密度ポリエチレン（ＨＤ
ＰＥ）、低密度ポリエチレン＜ＬＤＰＥ）および線状低
密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）。

λ　ｔに記載したポリマーの混合物２例えばポリプロピ
レンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンと
ポリエチレンとの混合物（ＮえばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ
／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの異なるタイプの混合
物（ｆｉｌえばＬＤＰＲ／ＨＤＰＥ）。

五　モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニ
ルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレ
ンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）
　　およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混
合物、プロピレン／ブテン−１，エチレン／ヘキセン。

エチレン／メチルペンテン、エチレン／ヘプテン、エチ
レン／オクテン、プロピレン／イソブチレン、エチレン
／ブテン−１，プロピレン／ブタジェン、インブチレン
／イソプレン、エチレン／アルキルアクリレ−）、エチ
レン／フルキルメタクリレート、エチレン／ビニルアセ
テートまたはエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそ
れらの塩類（アイオノマー）、およびエチレンとグロビ
レンとジエン列えばヘキナジエン、ジシクロペンタジェ
ンまたはエチリデン−ノルボルネンとのターポリマー；
並びに前記コポリマーおよびそれらの混合物と１．に記
載したポリマーとの混合物、８ＦＩＩえはボリグロビレ
ン／エチレｙ−グロビレンーコボリマー　ＬＤＰＲ／エ
チレン−酢醸ビニルーコポリマー　ＬＤＰＥ／エチレン
−アクリル酸−コポリマー　ＬＬＤＰＩ／エチレン−酢
散ビニルーコポリマーおよびＬＬＤＰＥ／エチレン−ア
クリル醒−コホリマー ３ａ、　　α−オレフィンと一酸化炭素のランダム共重
合体または交互共重合体。

５ｂ、　　炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし？
）およびそれらの水素化変性物（飼えば粘着付与剤。

表　ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルステンン＞、；
ｆｉｌ）−（α−メチルスチレン）。

＆　スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー　例えばスチレン／ブタ
ジェン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アル
キルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチ
レン／ブタジェン／アルキルアクリレート、スチレン／
アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポ
リマーと別のポリマー例えはポリアクリレート、ジエン
ポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジェンターポリ
マーからの高耐＠Ｓ性混合物；およびスチレンのブロッ
クコポリマー例えばスチレン／ブタジェン／スチレン、
スチレン／イソプレン／スチレン、スチレ／−エチレン
／ブチレン−スチレンまたはスチレン−エチレン／フロ
ピレン−スチレン。

＆　スチレンまたはαメチルスチレンのグラフトコポリ
マー、例えばポリブタジェンにスチレン、ポリブタジエ
ンースチレ７″ｉたはボリブタジェン−アクリロニトリ
ルにスチレン；ポリブタジェンにスチレンおよびアクリ
ロニトリル（またはメタアクリロニトリル）；ポリブタ
ジェンにスチレンおよび無水マレイン酸またはマレイン
イミド：ポリブタジェンにスチレン、アクリロニトリル
およヒ無水マレイン陵またはマレインイミド：ポリブタ
ジェンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタ
アクリレート、ポリブタジェンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタアクリレート、エチレン／プ
ロピレン／ジェンターポリマーにスチレンおよびアクリ
ロニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレー
トにスチレンおよびアクリロニトリル。

アクリレート／ブタジェンコポリマーにスチレンおよび
アクリロニトリル、並びにこれらと５に列挙したコポリ
マーとの混合物、ｆｌえばＡＢＳ＋、ＭＢＳ−、ＡＳＡ
−またはムＥＳ−ポリマーとして知られているコポリマ
ー混合物。

ｌ　ハロゲン含有ポリマー　例えばポリクロロプレン、
煩累化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレン
、エビクロロヒドリンホモ−およびコポリマー　ハロゲ
ン含有ビニル化合物からのポリマー、９１えはポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリ
７フ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー　例えば塩
化ビニル／塩化ビニリデン。

塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビ
ニルコポリマー。

ａ　σ、β−不飽和不飽和酸上の誘導体から誘導された
ポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。

２　前項ａに挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モ
ノマーとのコポリマー、ｆＩｌえはアクリロニトリル／
ブタジェン、アクリロニトリル／アルキルアクリレート
、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート
または７７’Ｊロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマ
ーまたはアクリロニトリル／アルキルメタアクリレート
／ブタジェンターポリマー１α不飽和アルコールシよび
アミンまたはそれらのアシル誘導体またはそれらのアセ
タールから誘導されたポリマー　例えばポリビニルアル
コール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポ
リビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビ
ニルブチラール。

ポリアリル７タレートまたはポリアリルメラミン：並び
にそれらと上記ｔに記載したオレフィンとのコポリマー １１、環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー　
例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコポリマー １２　ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよ
びエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシ
メチレン；熱可塑性ポリウレタンで変性させたポリアセ
タール・アクリレートま−ｆｉ：、はＭＢＳ。

１五ポリフエニレンオキシドおよびスルフィド並びにポ
リフェニレンオキシドとポリスチレンまたはポリアミド
との混合物。

１４、一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエ
ーテル、ポリエステルまたはポリブタジェンと他方の成
分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから
誘導されたポリウレタン並びにその前駆物質（ポリイソ
シアネート、ポリオールまたはプレポリマー）。

１＆ジアミンおよびジカルボン醗および／ｌたはアミノ
カルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリ
アミド訃よびコボリアオド。例えばポリアミド４．ポリ
アミド６、ポリアミド６／６，６／１０，６／９．６／
１２シよび４／６．ポリアミド１１．ポリアミド１２１
ｍ−キシレンシア之ンおよびアジピン酸の縮合によって
得られる芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミン訃
よびインフタル酸または／およびテレフタル酸および所
望によシ変性剤としてのエラストマーから製造とれるボ
リアミド、例えばポリ２．４．４−　）リメチルへキサ
メチレンテレフタルアミドまたはポリ＝ｍ−７ｘニレン
イソフタルアミド。さらに。

前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマ
ー　アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフトし
たエラストマーとの別のコポリマー；またはこれらとポ
リエーテル。

ｆｌｇえばポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコールまたはポリテトラメチレングリコールとのコポ
リマー、ＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性させ念ポリアミド
ま念はコポリアミド。

加工の間に縮合させたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド
系）。

１＆　ポリ尿素、ポリアミド系よびボリアミドイミ　　
ド　。

１７、ジカルボン酸およびジオールおよび／またはヒド
ロキシカルボンＷ／！または相当するラクトンから誘導
されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメ
チロール−シクロヘキサンテレフタレート訃よびポリヒ
ドロキシベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を含有す
るポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテル
エステル；およびポリカーボネートまたはＭＢＳで変性
させたポリエステル。

１ａ　　ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボ
ネート。

１９、ポリスルホン、ポリエーテルケトンシよびポリエ
ーテルケトン。

２α一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分とし
てフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架橋
ポリマー　例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、
尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムア
ルデヒド樹脂。

２を乾性および不乾性アルキド樹脂。

２２−飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
および架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステル
から誘導てれた不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の
低いそれらのハロゲン含有変性物。

２Ａ　置換アクリル酸エステル、架橋性の例えばエポキ
シアクリレート、ウレタン−アクリレートまたはポリエ
ステル−アクリレートから誘導された熱硬化性アクリル
樹脂。

２４、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートま
たはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエス
テル樹脂またはアクリレート樹脂。

２！ｉ　ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエー
テル５または脂環式ジエボキシドかう誘導された架橋エ
ポキシ樹脂。

２＆天然ポリマー　例えばセルロース、天然ゴム、ゼラ
チンおよびこれらの化学的に変性させた重合同族体誘導
体１例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロースまたはセルロースエーテル、例えば
メチルセルロース；ロジンおよびそれらの誘導体。

２７、前記したポリマーの混合物（ポリブレンド）。

例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまた１ｊ
ＡＢｓ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢ８．ＰＶＣ／Ｍ
ＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢ８．ＰＣ／ＡＨＡ
。

ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／７り’Ｊｌ／
−）。

ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ，ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ。

ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢ８．ＰＰＯ／ＨＩ
Ｐ８．ＰＰＯ／ＰＡ瓜６シよびコポリマー　ＰＡ／ＨＤ
ＰＥ、ＦＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ。

従って本発Ｆ！Ａ＃ｉまた。酸化的、熱的または化学線
崩壊を受け易い有機材料および少なくとも一種の式Ｉの
化合物を含有する組成物、ならびに酸化的、熱的または
化学線崩壊に対して有機材料を安定化するために式ｌの
化合物を使用する方法に関する。

好ましい有機材料は、ポリマー、例えば合成ポリマーま
たは熱可塑性ポリマーである。特に好ましい有機材料は
ポリオレフィン、例えばボ１７７’ロビレンまたはポリ
エチレンである。

一般に１式ｌの化合物は、安定化すべき材料に、安定化
すべき材料の全重量に関して［１０１ないし１０チ、好
ましくは（ＬＯＩないし５％そして特にα０１ないし２
チの量添加される。

式ｌの化合物のほかに１本発明による組成物は、さらに
、慣用の添加剤１例えば以下に示したものを含有するこ
とができる。

ジメチルフェノール。

２．６−シオクタデシルー４−メチルフェノール。

２．４．６−）ＩＪシクロヘキシルフェノール。

２．６−ジー第三ブチル−４−メトキシメチルフェノー
ル、シよび ２．６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール。

２．６−ジー第三ブチル−４−メチルフェノール。

２−ＷＪ三ジブチル４，６−ジメチルフェノール。

２．６−ジー第三フチルー４−エチルフェノール。

２．６−ジー第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール。

２．６−ジー第三ブチル−４−イソブチルフェノール。

２．６−シシクロベンチルー４−メチルフェノール、 ２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−２，６−
ジー第三ブチル−４−メトキシフェノール。

２．５−ジー第三ブチルヒドロキノン。

２．５−ジー第三アミルヒドロキノンおよび２．６−ジ
−フェニル−４−オクタデシルオキシフェノール。

例えば。

２．２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェ
ノール）。

２．２′−チオビス（４−オクチルフェノール）。

４．４′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェ
ノール、および ４．４′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェ
ノール）。

ｔ４　アルキリデンビスフェノール、例エバ２．２′−
メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール
）、 ２．２′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチル
フェノール）、 ２．２′−メチレンビス〔４−メチル−６−（σ−メチ
ルシクロヘキシル）フェノール〕。

２．２′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキ
ジルフエノール）。

２．２′−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェ
ノール）。

２．２′−メチレンビス（４，６−ジー第三ブチルフェ
ノール）。

２．２′−エチリデンビス（４，６−ジー第三ブチルフ
ェノール）。

２．２′−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソ
ブチルフェノール）、 ２．２’−７１チレンビス［６−（α−メチルヘンシル
）−４−ノニルフェノール〕。

２．２′−メチレンビス（６−（ａ、ａ−ジメチルベン
ジル）−４−ノニルフェノール〕。

４．４′−メチレンビス（２，６−ジー第三ブチルフェ
ノール）。

４．４′−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチル
フェノール）。

１．１−ビス（５−第三プチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）ブタン。

２．６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒド
ロキシベンジル）−４−メチルフェノール １．１．３−）リス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ
−２−メチルフェニル）ブタン。

１．１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン
。

エチレングリコールビス（３，３−ビス（５’−第三プ
チル−４′−ヒドロキシフェニル）プチレ−ト〕、 ビス（３−第三プチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフ
ェニル）ジシクロペンタジェン、シよび ビス（２−（５’−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５
′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフ
エニル〕テレフタレート。

ｔ５　ベンジル化合物ＩＦＩえば １、５．５−　）リス（３，５−ジー第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）　−２，４，６−）リスチルベン
ゼン。

ビス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）スルフィド。

イソオクチル３．５−ジー第三ブチル−４−ヒ）”　０
−＋ジベンジルメルカプトアセテート。

ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２゜６−シメ
チルベンジル）ジチオテレフタレート。

１、Ｌ５−）リス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジルイソシアヌレート、１、　Ｓ、　５−　
）リス（４−第三プチル−５−ヒドロキシ−２，６−シ
メチルペンジル）インシアヌレート。

ジオクタデシル３．５−ジー第三ブチル−４−ヒトロキ
シペンジルホスホ＄−）。

モノエチル３．５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホネートのカルシウム塩。

１．５．５−トリス（３，５−ジシクロへキシル−４−
ヒドロキシベンジル）インシアヌレート。

ｔ６　アシルアミノフェノール、９１えはラウリン酸４
−とドロキシアニリド。

ステアリンｊｌ！４−ヒドロキシアニリド。

２．４−ビス（オクチルメルカプト）　−６−（３゜５
−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−８−ト
リアジン、および オクチルＮ−（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−カルバメート。

アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１．６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）インシアヌ
レート、チオジエチレングリ；−ル、およびＮ、Ｎ’−
ビス（ヒドロキシエチル）シェラ醗ジアミド。

コール、オクタデカノール、トリエチレングリコール、
１．６−ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネ
オペンチルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレート、チオジエチレングリコール、およびＮ
、Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ醸ジアミド。

アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１．６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、およびＮ、Ｎ’−
ビス（ヒドロキシエチル）シェラ酸ジアミド。

ば Ｎ、Ｎ’−ビス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロビオニル）へキサメチレンジアミン。

Ｎ、Ｎ’−ビス（５，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、お
よび Ｎ、Ｎ’−ビス（３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。

アルコールの例：メタノール、ジエチレングリ５メチル
、３．５−ジー第三ブチル−１５−第三ブチル−５−（
１，１，３，３−テトラメチルブチル）−１５−クロロ
−３，５′−ジー第三ブチル−５−クロロ−３′−第三
ブチル−５′〜メチル−，３−＠ニブチルー５′−第三
ブチル：４′−オクトキシ−５，５−ジー第三アミルお
よＯｓ’、ｓ’−ヒス（ａ、σ−ジメチルベンジル）誘
導体。

２．２２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン　例えば ４−ヒドロキシ−４−メトキシ−４−オクトキシ−４−
デシルオキシ−４−）’ｆデシルキシー　４−ベンジル
オキシ−４，２，４−トリヒドロキシ−および２′−ヒ
ドロキシ−４゜４−ジメトキシ誘導体。

２．３　　置換されたおよび非置換安息香酸のエステル
、例えば ４−第三プチルフェニルサリチ′−トモフェニルサリチ
レート。

オクチルフェニルサリチレート。

ジベンゾイルレゾルシノール。

ビス（４１！三ブチルベンゾイル）レゾルシノール ベンゾイルレゾルシノール。

２．４−ジー第三ブチルフェニル３．５−ジー第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゾエート、および ｓ、ｓ−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート
。

ａ−シアノ−β、β−ジフェニルーアクリル酸エチルエ
ステル、 σ−シアノーβ、β−ジフェニルーアクリル酸イソオク
チルエステル。

σ−カルボメトキシー桂皮酸メチルエステル。

ａ−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチル
エステル。

α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸ブチル
エステル。

ａ−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ桂皮酸メチルエステ
ル、および Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−
メチルインドリン。

２．５　　ニッケル化合物１例えば ２．２−チオビス−（４−（１，１，３，３−テトラメ
チルブチル）−フェノール〕のニッケル錯体１例えば１
：１またｉｊｌ：２錯体であって。

所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンも
しくＨＮ−シクロヘキシル−ジ−エタノールアミンのよ
うな他の配位子を伴うもの。

ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ
−５，５−ジー第三ブチルベンジルホスホン酸七ノアル
キルエステル、９１えばメチルモｔ、＜ｈエチルエステ
ルのニッケル塩、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニ
ルラフデシルケトキシムのよう表ケトキシムのニッケル
錯体。

１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−ピラ
ゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配位子
を伴うもの。

ビス（２，２，６，６−テトラメチルビペリジル）セバ
ケート。

とｘ（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）
セバケート。

ビス（１，２，２，４，６−ペンタメチルピペリジル）
ｎ−ブチル−３，５−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルマロネート。

１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮
合生成物。

Ｎ、Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）へキサメチレンジアミンと４−第三オクチ
ルアミノ−２，６−ジクロロ−１゜３．５−トリアジン
との縮合生成物。

トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ニトリロトリアセテート。

テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）　−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシ
レート。

１．１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（５゜５、
５．５−テトラメチルピペラジノン）。

４．４−ジーオクチルーオΦシオキ？二ｌＪ）’、２．
２′−ジ−オクチルオキシ−５，５−ジー第三ブチルオ
キサニリド、 ２．２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジー第三ブ
チルオキサニリド。

２−エトキシ−２−エチルオキサニリド。

Ｎ、Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル−オキサ
ルアミド、 ２−エトキシ−５−第三プチル−２−エチルオキサニリ
ドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−５，
４−ジー第三ブチル−オキサニリドとの混合物。

オルト−およびパラ−メトキシｍ＝置換オキサニリドの
混合物、および ０−およびｐ−エトキシー二置換オキサニリドの混合物
。

２．４．６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオ
キシフェニル）−１，３，５−）ＩＪアシン。

２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）
−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）　−１，
３，５−トリアジン。

２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４゜６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１゜３．５−）リアジ
ン、 ２．４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフ
ェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３
，５−）リアジン。

２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）
−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−
トリアジン、および ２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）
−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）　−１，
５，５−トリアジン。

五　金属不活性化剤、阿えば Ｎ、Ｎ’−ジフェニルシニウ酸ジアミド。

Ｎ−サリチラルーＷ−サリチロイルヒドラジン。

Ｎ、Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン。

Ｎ、Ｎ’−ビス（３，５−ジー第三ズチルー４−ヒドロ
キシフェニルグロビオニル）ヒドラジン。

３−サリチロイルアミノ−ｆ、　２．４−　）リアゾー
ル、および ビス（ベンジリデン）オキサロジヒドラジン。

トリフェニルホスフィツト、 ジフェニルアルキルホスフィツト。

フエニルジアルキルホスフィツト。

トリス（ノニルフェニル）ホスフィツト。

トリラウリルホスフィツト。

トリオクタデシルホスフィツト。

ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット。

トリス（２，４−ジー第三ブチルフェニル）ホスフィツ
ト。

ジイノデシルペンタエリトリトールジホスフィット。

ビス（２，４−ジー第三ブチルフェニル）ベンタエリト
リトールジホスフィット。

トリステアリルソルビトールトリホスフィツト。

テトラキス（２，４−ジー第三ブチルフェニル）４．４
−ビフェニレンジホスホナイト、および３．９−ビス（
２，４−ジー第三ブチルフェノキシ）−２，４，８，１
０−テトラオキサ−３，９−ジホスフ７スピロ（Ｓ、Ｓ
）ウンデカノウβ−チオジプロピオン酸のエステル、例
えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシ
ルエステル。

メルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプト
ベンズイミダゾールの亜鉛塩。

ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛。

ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛。

ジオクタデシルジスルフィド、および ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカ
プト）プロピオネート。

＆　ポリアミド安定剤、例えば ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、お
よび二価マンガンの塩。

メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミン、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体。

ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン 高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩
、ｇＫＪえばＣａステアレー）、Ｚｎ　ステアレート、
Ｍｇステアレート、Ｎａリシル−トおよびにパルミテー
ト。

ピロカテコール酸アンチモン、または ピロカテコール酸亜鉛。

ａ　核剤、例えば ４−＠三ブチル安息香酸、アジピン酸、またはジフェニ
ル酢酸。

２　充填剤および強化剤１例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、
タルク、カオリン、ｇ−ａ、硫酸バリウム、金属酸化物
および水酸化物、カーボンブラック、およびグラファイ
ト。

１ＣＬ　その他の添加剤５例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、螢光漂白剤。

難燃剤、静電防止剤、および発泡剤。

慣用の添加剤は、例えば、安定化される材料の全重量に
関して、ＣＬＯｌないし１０チの濃度で添加ちれる。

式Ｉの化合物および、望むならば、他の添加剤のポリマ
ー性有機材料への混入は１例えば成形前もしくは成形中
に公知の方法によｐ、またはポリマー性有機材料に該化
合物を溶解もしくけ分散の形態で用い、適当ならば続い
て溶媒を蒸発させることによ夕行われる。また式１の化
合物は安定化すべき材料に添加して５例えば、２．５な
いし２５重量％の濃度で存在するマスターバラ千の形態
とすることができる。

ｆた式Ｉの化合物は重合前もしくは重合中にまたは架橋
前に添加することができる。

式Ｉの化合物は安定化すべき材料に非希釈形態で混入す
るかまたけロウ、油脂もしくはポリマー中に封入するこ
とができる。

また式ｌの化合物は、安定化すべきポリマー上に噴霧す
ることができる。それらは、安定化すべきポリマー上に
他の添加剤（例えば上記に示した慣用の添加剤）と−緒
に噴霧するようにして該添加剤またはその溶融物を希釈
することができる。重合触媒の不活性化の間に噴霧によ
り添加することは特に有利であＶｌ例えば、不活性化の
ために使用する蒸気を噴霧するために使用することがで
きる。

球形前に重合されたポリマーの場合には１例えば、適当
ならば他の添加剤と一緒に、噴霧することにより式１の
化合物を適用するのが有利でありうる。

したがって１本発明の好ましい態様は、酸化的、熱的ま
たは化学線崩壊に対してポリマーを安定化するために式
Ｉの化合物を使用する方法において５式１の化合物をポ
リマー上に噴霧する方法である。

而して安定化式れた材料は、大変いろいろな形にて１例
えばフィルム、繊維、テープ、成型材料もしくは異形材
として、または塗料、接着剤もしくはパテのバインダと
して使用することができる。

式Ｉの化合物は公知の方法と同様に１例えば、ＧＢ−Ａ
　２．０４２．５６２　Ｋ記載されるように、式■（式
中、Ｒ，、Ｒ，およびＲ，は上記に定義したのを表わす
。）で表わされるフェノールと、１ないしｔ３モルのマ
ンデル酸もしくはマンデル酸誘導体との縮合によシ製造
することができる。マンデル酸もしくはマンデル酸誘導
体の代わシに、また弐■または式■ （１）　　　　　　　　　　　　　　（ＩＶ）ｃ式中、
２は上記に定義したのを表わしそしてＸは、ｆｌえば、
アセトキシ基、トリルスルホニルオキシ基またはメジ千
ルスルホニルオキシ基を表わす。）で表わされる化合物
を使用することができる。式■の化合物を使用する場合
には。

ＢＥ　−Ａ８１Ｎ、　４９乙の実施例３に記載された方
法を用いるのが適当である。

反応は好ましく＃１１８０ないし２２０℃の温度範囲内
でかつ１０ないしｆ　０１３　ｍｂａｒ　の圧力下で行
なう。

それらが市販にて入手できない限りにおいて。

弐Ｈの化合物は公知の方法と同様に、例えば線状σ−オ
レフィン（炭素原子数１５ないし３ａ）を用いた式 で表わ濱れるフェノールの触媒アルキル化により製造す
ることができる。アルキル化は主に液相中で溶媒を用い
ずに行なう、 以下の本のは、適当な触媒として挙げることができる。

ａ）フリーデル　クラ−フッ触媒、９１えはプロト／８
１２（（ｉＨｉｌ、！Ｊン酸、ｐ−トルエンスルホン駿
）、固形無機触媒（酸活性化漂白土壌１列えはモンモソ
ロナイト種のもの、アルミニラムシよび珪素の醗化物等
）シよび他の７リーデルクラフツ触媒（三フッ化ホウ素
、塩化アルミニウム、塩化第二鉄（■）、塩化亜鉛等）
。

ｂ）　　ｏ−選択性触媒１例えばＵＳ−ＡＳ、３４７，
９８１およびＤＥ−Ｂ１，１４２，８７３に記載される
ようなアルミニウムフェノラートシよびｒ−アルミナ、
そしてまた他の変態の酸化アルミニウム。

〇−選択性触媒が好ましく、そして上記ＵＳ−Ａおよび
ＤＥ−Ｈに記載された活性γ−アルミナが特に好ましい
。

フリーデル　クラ７ツ触媒を用いて、反応は“常圧“の
下、同えば、３０ないし１５０℃の温度範囲内で適当に
行なわれる。〇−選択性触媒を用いてのアルキル化の場
合には１反応を高められた温度（およそ２００ないし３
５０℃）Ｋて加圧下（およそ２０ないし２ｏｏｂａｒ）
行なうのが有利である。

アルキル化の後触媒を粗生成物より１例えば洗浄による
抽出または濾過により除去し、そしてその後後者を蒸留
によシ精製することができる。

弐■の化合物は１例えばクロマトグラフィー法、　％［
ガスクロマトグラフィーおよび高圧液体クロマトグラフ
ィー（ＨＰＬＣ）　′ｆＩ：用いて分離することができ
るところの異性体混合物の形態で得る仁とができる。し
かし１式ｌの化合物の製造のために異性体混合物を用い
ることもまた可能であり、このため式ｌの化合物はまた
異性体の混合物として得られる０式ｌの化合物のこの異
性体混合物は、必要ならば１分離することができまた酸
化的、熱的または化学線崩壊に対して有機材料を安定化
するための処理に用いずに使用することができる。

また式■の化合物の製造のために市販にて入手できるオ
レフィン（ＨＩＣ＝ＣＨ−ＣＨ鵞−Ａ、　　（式中、Ａ
１は１例えば、炭素原子数１３ないし１７のアルキル基
、炭素原子数１７ないし２１のアルキル基または炭素原
子数２１ないし２７のアルキル基を表わす、））の混合
物を用いることができる。

（実　施　例） 以下の実施例は本発明をさらに説明する。別設言及しな
い限り１部および百分率は重量部および重量百分率を表
わす。

実施例１：化合物３−フェニル−７−（１’−ヘキサデ
シルエチル）−ベンゾフラン −２−オンの製造 マンデル酸４．８．９　（３１，５ミリモル）シよび１
−　ヘ＄　９７’シルエチルフエ／−ルｌＱ、４１（３
０ミリモル）を−緒に１９０ないし２００℃にて減圧下
約８時間加熱した。この経過において反応中生成した水
を蒸留により除去した０反応が完了したとき１反応生成
物をシリカゲル上で濾過しくヘキサン）そしてその後冷
ヘキサンで処理した。生成物は６０−６２℃の融点を有
しそして白色粉末の形態であった。収量は７ｇ（＝＝理
論値の５０チ）であった。

元素分析： 計算値：　　ＣａＮＯ３％　；　　　Ｈｌ［１０２％実
測値：　　ＣＢ１０４％　；　　　Ｈｌ（ＬＯ２％実施
例２ないし５： 表１・に示された化合物を実施列と同様に製造した。

表１： 現 実施的６：ポリプロピレンの安定化 ポリプロピレン粉末（メルトインデックス二五２９／分
、２３０℃／２．１６に９にて測定）　１．３　ｋｇを
ステアリン酸カルシウムα０５チ、テトラキス［３，５
−ジー第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ルオキシメチル］−メタンａａＳチおよび表２に示され
た安定剤［１０５％　　と混合した。この混合物ｆ、２
０ｖｇのシリンダ直径と４００１１１の長さを有し、か
つ三つの加熱ゾーンが２６０℃、２７０℃および２８０
℃　に調節式れた押出機より毎分回転数１００にて押出
した。

押出物を水浴に引き通して冷却しそしてその後粒状化し
た。得られた粒剤を第二回目および第三回目に押出した
。これら３回の押出しの後。

メルトインデックスを２３０℃／２．１６に９にて測定
した。結果を表２に示す。

表２：

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. （１）式 I ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｒ＿１は炭素原子数１３ないし３０のアルキル
   基を表わし、Ｒ＿２は水素原子、炭素原子数、ないし１
   ０のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアル
   キル基、炭素原子数、ないし４のアルキル基により置換
   された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基を表わ
   すか、またはフェニル基もしくは炭素原子数７ないし１
   ２のフェニルアルキル基を表わし、Ｒ＿２は水素原子ま
   たは炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わしそして
   Ｚはフエニル基、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
   炭素原子数１ないし４のアルコキシ基もしくは塩素原子
   により置換されたフェニル基、基 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｎは１または２を表わす。）または基▲数式、
   化学式、表等があります▼ （式中、基Ａは互いに独立して炭素原子数１ないし８の
   アルキル基、メトキシ基またはエトキシ基を表わす。）
   を表わす。］で表わされる化合物。
2. （２）式中、Ｒ＿１は炭素原子数１３ないし２０のアル
   キル基を表わしそしてＺはフェニル基を表わす請求項１
   記載の化合物。
3. （３）式中、Ｚはフェニル基を表わす請求項１記載の化
   合物。
4. （４）式中、Ｒ＿１は炭素原子数１４ないし１８のアル
   キル基を表わす請求項１記載の化合物。
5. （５）式中、Ｒ＿２は水素原子、炭素原子数、ないし４
   のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基またはベ
   ンジル基を表わす請求項１記載の化合物。
6. （６）式中、Ｒ＿２は水素原子または炭素原子数１ない
   し４のアルキル基を表わす請求項１記載の化合物。
7. （７）式中、Ｒ＿２は水素原子またはメチル基を表わす
   請求項１記載の化合物。
8. （８）式中、Ｒ＿１は炭素原子数１４ないし１８のアル
   キル基を表わしそしてＲ＿２およびＲ＿３は互いに独立
   して水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基
   を表わす請求項１記載の化合物。
9. （９）請求項１記載の、 ３−フェニル−７−（１′−ヘキサデシルエチル）ベン
   ゾフラン−２−オン、 ３−フェニル−５−メチル−７−（１′−ヘキサデシル
   エチル）ベンゾフラン−２−オン、３−フェニル−５−
   メチル−７−（１′−ドデシルエチル）ベンゾフラン−
   ２−オン、 ３−フェニル−５−第三ブチル−７−（１′−ヘキサデ
   シルエチル）ベンゾフラン−２−オンおよび ３−フェニル−４−メチル−７−（１′−ヘキサデシル
   エチル）ベンゾフラン−２−オン。
10. （１０）請求項１記載の３−フェニル−５−メチル−７
    −（１０−ドデシルエチル）ベンゾフラン−２−オン。
11. （１１）酸化的、熱的および化学線崩壊を受け易い有機
    材料および少なくとも一種の請求項１記載の化合物を含
    有する組成物。