JPH03197302A - Mocvd法による酸化物超電導体の合成方法 - Google Patents
Mocvd法による酸化物超電導体の合成方法Info
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- JPH03197302A JPH03197302A JP1301940A JP30194089A JPH03197302A JP H03197302 A JPH03197302 A JP H03197302A JP 1301940 A JP1301940 A JP 1301940A JP 30194089 A JP30194089 A JP 30194089A JP H03197302 A JPH03197302 A JP H03197302A
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は有機金属化学気相蒸着、すなわち、いわゆるM
OCV D (Netalorganic Chem
ical VaporDeposition)法を用い
た、酸化物超電導体の合成方法に関するものである。さ
らに詳しくは、本発明は、有機金属を多量かつ安定に反
応部へ供給できるようにして、酸化物超電導体の高速合
成および厚膜合成を可能にした合成方法に関するもので
ある。
OCV D (Netalorganic Chem
ical VaporDeposition)法を用い
た、酸化物超電導体の合成方法に関するものである。さ
らに詳しくは、本発明は、有機金属を多量かつ安定に反
応部へ供給できるようにして、酸化物超電導体の高速合
成および厚膜合成を可能にした合成方法に関するもので
ある。
最近、液体窒素温度(77k)以上で超電導状態を示す
Y−Ba−Cu−0系やB1−5r−Ca−Cu−0系
の酸化物超電導体を各種の方法で作製することが盛んに
行われてきた。それらの中でも、有機金属化合物原料を
用いるMOCVD法は、一般に、合成速度が速い、連続
合成が可能、自由な形状物上に合成できる、厚膜状に合
成できるなどの利点から、酸化物超電導体のデバイス化
および線材化に有力な手法と見られ、これまで広く検討
されている。しかし、実際に従来のMOCVD法を用い
た場合、文献アプライド フィジックス(Applie
d Physics Letters) 54巻、38
G頁、(1989)および日本応用物理学会誌(Jap
anese Journalof Applied P
hysics Letters)27巻、1265頁(
1988)にあるように、原料の加熱温度を高く(特に
Ba等の希土類原料は260〜300℃)設定しなけれ
ば合成は行えなかった。これは、文献アプライドフィジ
ックス (Applied Physics Lett
ers) 53巻、1750頁、(1988)に指摘さ
れているように、代表的な有機金属原料は、一般に非常
に気化しにくいということに起因するものであった。
Y−Ba−Cu−0系やB1−5r−Ca−Cu−0系
の酸化物超電導体を各種の方法で作製することが盛んに
行われてきた。それらの中でも、有機金属化合物原料を
用いるMOCVD法は、一般に、合成速度が速い、連続
合成が可能、自由な形状物上に合成できる、厚膜状に合
成できるなどの利点から、酸化物超電導体のデバイス化
および線材化に有力な手法と見られ、これまで広く検討
されている。しかし、実際に従来のMOCVD法を用い
た場合、文献アプライド フィジックス(Applie
d Physics Letters) 54巻、38
G頁、(1989)および日本応用物理学会誌(Jap
anese Journalof Applied P
hysics Letters)27巻、1265頁(
1988)にあるように、原料の加熱温度を高く(特に
Ba等の希土類原料は260〜300℃)設定しなけれ
ば合成は行えなかった。これは、文献アプライドフィジ
ックス (Applied Physics Lett
ers) 53巻、1750頁、(1988)に指摘さ
れているように、代表的な有機金属原料は、一般に非常
に気化しにくいということに起因するものであった。
上記のように、従来のMOCVD法による酸化物超電導
体の合成においては、原料が難気化性であるので、化学
気相蒸着(CV D )反応部へ多量の原料を安定に輸
送することは不可能であるため、良好な特性を有する酸
化物超電導体を、高速に合成したり、厚膜に合成したり
することができないという大きな問題点があった。さら
に、従来の方法では、合成(反応)時間を連続的に長く
して膜厚を厚くした場合にも、その厚膜は組成が不均質
になるために、超電導性を示さない、臨界温度が低い、
臨界電流密度が小さいなどの欠点が避けられなかった。
体の合成においては、原料が難気化性であるので、化学
気相蒸着(CV D )反応部へ多量の原料を安定に輸
送することは不可能であるため、良好な特性を有する酸
化物超電導体を、高速に合成したり、厚膜に合成したり
することができないという大きな問題点があった。さら
に、従来の方法では、合成(反応)時間を連続的に長く
して膜厚を厚くした場合にも、その厚膜は組成が不均質
になるために、超電導性を示さない、臨界温度が低い、
臨界電流密度が小さいなどの欠点が避けられなかった。
本発明の合成方法は、上記従来のMOCVD法による酸
化物超電導体の合成法における欠点を解消するためにな
されたものであり、有機金属原料を多量にかつ安定に反
応部へ輸送することができるとともに、合成した超電導
体が良好な特性を示すこと、さらにはこれにより酸化物
超電導体の高速合成および厚膜合成が行えることを目的
とするものである。
化物超電導体の合成法における欠点を解消するためにな
されたものであり、有機金属原料を多量にかつ安定に反
応部へ輸送することができるとともに、合成した超電導
体が良好な特性を示すこと、さらにはこれにより酸化物
超電導体の高速合成および厚膜合成が行えることを目的
とするものである。
すなわち本発明は、有機金属を化学気相蒸着させてMO
CVD法により酸化物超電導体を合成する方法において
、有機金属原料中に、または該有機金属原料を加熱する
工程もしくは輸送する工程の少なくともいずれか一つの
場合において、該有機金属原料に1.4ジオキサン蒸気
を接触させることを特徴とする、MOCVD法による酸
化物超電導体の合成方法を提供することにより、上記の
課題を解決するものである。
CVD法により酸化物超電導体を合成する方法において
、有機金属原料中に、または該有機金属原料を加熱する
工程もしくは輸送する工程の少なくともいずれか一つの
場合において、該有機金属原料に1.4ジオキサン蒸気
を接触させることを特徴とする、MOCVD法による酸
化物超電導体の合成方法を提供することにより、上記の
課題を解決するものである。
本発明において、有機金属原料に接触させる1、4ジオ
キサン蒸気の作用の詳細については不明であるが、その
分子構造中に存在する酸素原子と有機金属原料分子中の
金属原子とが配位結合を形成し、有機金属原料が気化し
易くなるような付加物を生成すると推察される。そのよ
うにして 1.4ジオキサンが原料に作用することによ
って、低温加熱においても有機金属原料が多量に気化さ
れ、かつ安定に反応部へ送り込まれるという働きをする
ものと考えられる。また、1.4ジオキサンは吸湿性が
非常に高いという性質を有するので、この中に含有され
る水分が反応部において有機金属原料の酸化剤として働
き、反応を促進することも推定される。
キサン蒸気の作用の詳細については不明であるが、その
分子構造中に存在する酸素原子と有機金属原料分子中の
金属原子とが配位結合を形成し、有機金属原料が気化し
易くなるような付加物を生成すると推察される。そのよ
うにして 1.4ジオキサンが原料に作用することによ
って、低温加熱においても有機金属原料が多量に気化さ
れ、かつ安定に反応部へ送り込まれるという働きをする
ものと考えられる。また、1.4ジオキサンは吸湿性が
非常に高いという性質を有するので、この中に含有され
る水分が反応部において有機金属原料の酸化剤として働
き、反応を促進することも推定される。
以下に、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
大m
5つの原料加熱系統を有する、通常の化学気相蒸着(C
V D ’)装置を用い、イツトリウム系酸化物超電導
体である YBa2Cuz○、−8を酸化マグネシウム
基板上に合成する実験を行った。原料としては、Yおよ
びBaのシクロペンタジェニル誘導体ならびにCuのア
セチルアセトン誘導体を用い、これらを入れた試料室に
、加熱して発生させた1、4ジオキサン蒸気を流入させ
た0合成条件としては、原料の加熱温度を7150℃、
Ba210℃、Cul 45℃に設定し、キャリアガス
はアルゴン、反応ガスは酸素で反応部(炉)内圧力は7
Torr、基板温度は850℃に保持して30分間反応
を行った。
V D ’)装置を用い、イツトリウム系酸化物超電導
体である YBa2Cuz○、−8を酸化マグネシウム
基板上に合成する実験を行った。原料としては、Yおよ
びBaのシクロペンタジェニル誘導体ならびにCuのア
セチルアセトン誘導体を用い、これらを入れた試料室に
、加熱して発生させた1、4ジオキサン蒸気を流入させ
た0合成条件としては、原料の加熱温度を7150℃、
Ba210℃、Cul 45℃に設定し、キャリアガス
はアルゴン、反応ガスは酸素で反応部(炉)内圧力は7
Torr、基板温度は850℃に保持して30分間反応
を行った。
反応後、酸素気流中で室温まで自然放冷を行ったところ
、膜厚3.5ミクロンの酸化物膜が得られた。X線回折
により結晶性および配向性を調査し、四端子法により臨
界温度ならびに77Kにおけるゼロ磁界下の臨界電流密
度を測定した。また、蛍光X線分析による基板への堆積
量結果からこの場合の合成速度を計算で求めた。
、膜厚3.5ミクロンの酸化物膜が得られた。X線回折
により結晶性および配向性を調査し、四端子法により臨
界温度ならびに77Kにおけるゼロ磁界下の臨界電流密
度を測定した。また、蛍光X線分析による基板への堆積
量結果からこの場合の合成速度を計算で求めた。
比較例1として、上記と同一の原料および合成条件を用
いて、ジオキサン蒸気の流入を行わない従来のMOCV
D法により、同一組成の酸化物超電導体の合成を実施し
たところ、YとCuについては基板上への堆積が認めら
れたが、Baについては堆積が殆ど認められず、210
℃の加熱では十分な気化が生じないことが判明した。そ
こで、比較例1については原料の加熱温度を、Y160
、Ba290℃、Cul 50℃に設定し直して合成を
行い、実施例1の方法の場合と同様に、反応後酸素気流
中で室温まで自然放冷を行って0.6ミクロンの厚さの
膜を得た。この膜についても同様に、WI質および超電
導特性の測定を行った。これらの結果を第1表に示す。
いて、ジオキサン蒸気の流入を行わない従来のMOCV
D法により、同一組成の酸化物超電導体の合成を実施し
たところ、YとCuについては基板上への堆積が認めら
れたが、Baについては堆積が殆ど認められず、210
℃の加熱では十分な気化が生じないことが判明した。そ
こで、比較例1については原料の加熱温度を、Y160
、Ba290℃、Cul 50℃に設定し直して合成を
行い、実施例1の方法の場合と同様に、反応後酸素気流
中で室温まで自然放冷を行って0.6ミクロンの厚さの
膜を得た。この膜についても同様に、WI質および超電
導特性の測定を行った。これらの結果を第1表に示す。
第1表
実施Ml B、4 12.8 C軸
85 1870比較例1 0.6 1.2
C軸 79 195第1表から明ら
かなように、本発明の方法によれば、従来の合成方法よ
りも低温加熱によっても合成速度が約10倍以上速くな
り、また臨界温度および臨界電流特性が、従来の方法に
よる膜と比べるとはるかに良好となる。
85 1870比較例1 0.6 1.2
C軸 79 195第1表から明ら
かなように、本発明の方法によれば、従来の合成方法よ
りも低温加熱によっても合成速度が約10倍以上速くな
り、また臨界温度および臨界電流特性が、従来の方法に
よる膜と比べるとはるかに良好となる。
支11副
実施例1と同一のCVD装置を用い、Bi)リブトキシ
ドおよびSr、Ca、Cuのジピバロイルメタネート誘
導体を原料として用い、これらをそれぞれ135℃、1
90℃、160℃、120℃に加熱しながら、この中に
、キャリアガスのアルゴンと共に1.4ジオキサンの蒸
気を流入させて接触させた。その他の条件は実施例1と
全く同様にして、本発明の方法によるビスマス系酸化物
超電導体の合成を行った。比較例2として、ジオキサン
を添加しない従来の方法による合成も行った。
ドおよびSr、Ca、Cuのジピバロイルメタネート誘
導体を原料として用い、これらをそれぞれ135℃、1
90℃、160℃、120℃に加熱しながら、この中に
、キャリアガスのアルゴンと共に1.4ジオキサンの蒸
気を流入させて接触させた。その他の条件は実施例1と
全く同様にして、本発明の方法によるビスマス系酸化物
超電導体の合成を行った。比較例2として、ジオキサン
を添加しない従来の方法による合成も行った。
ただし、実施例1と同様の理由により、各有機金属原料
の設定温度は、それぞれ本発明の方法による実施例2の
場合よりも高い145℃、220℃、185℃、130
℃に保持した。上記2つのサンプルの特性を第2表に示
す。
の設定温度は、それぞれ本発明の方法による実施例2の
場合よりも高い145℃、220℃、185℃、130
℃に保持した。上記2つのサンプルの特性を第2表に示
す。
第2表
実施例2 8.8 15.7 C軸 9
5 2730比較例2 0.6 1.2
C軸 80 273第2表から判るよ
うに、実施例1の場合と同様に、本発明の方法による酸
化物超電導体は、従来の合成方法による場合よりも低温
加熱であるにも拘わらず合成速度が約13倍速くなり、
かつ臨界温度および臨界電流特性が、従来の方法による
ものよりもはるかに良好となることが明らかである。
5 2730比較例2 0.6 1.2
C軸 80 273第2表から判るよ
うに、実施例1の場合と同様に、本発明の方法による酸
化物超電導体は、従来の合成方法による場合よりも低温
加熱であるにも拘わらず合成速度が約13倍速くなり、
かつ臨界温度および臨界電流特性が、従来の方法による
ものよりもはるかに良好となることが明らかである。
比較例1および比較例2において、従来法による酸化物
超電導体の合成速度が低い理由は、有機金属原料が気化
しに<<、かつ安定に輸送されにくいことに起因するも
のと考えられる。そしてこれら従来法により合成された
サンプルの超電導特性が良好でない主な原因は、C軸配
向しているにも拘わらず、各原料の不安定輸送に起因す
る合成膜中における組成の不均質性であると推定される
。
超電導体の合成速度が低い理由は、有機金属原料が気化
しに<<、かつ安定に輸送されにくいことに起因するも
のと考えられる。そしてこれら従来法により合成された
サンプルの超電導特性が良好でない主な原因は、C軸配
向しているにも拘わらず、各原料の不安定輸送に起因す
る合成膜中における組成の不均質性であると推定される
。
本発明方法における 1,4ジオキサン蒸気の接触は、
化学気相蒸着(CV D )反応前であれば、どのよう
な形で有機金属原料と接触させてもよい0例えば、実施
例1および2のように原料中に流入させてもよく、また
キャリアガスとともに原料中に流入させて接触させても
よい、さらに、この接触は任意の2通り以上の方法を使
用しても良い、ただし、液体状のジオキサンを原料と混
合させても効果は全く認められず、従って、本発明では
ジオキサンの蒸気(ガス)を用いることが必要である。
化学気相蒸着(CV D )反応前であれば、どのよう
な形で有機金属原料と接触させてもよい0例えば、実施
例1および2のように原料中に流入させてもよく、また
キャリアガスとともに原料中に流入させて接触させても
よい、さらに、この接触は任意の2通り以上の方法を使
用しても良い、ただし、液体状のジオキサンを原料と混
合させても効果は全く認められず、従って、本発明では
ジオキサンの蒸気(ガス)を用いることが必要である。
また、本発明で用いる有機金属原料としては、金属のア
セチルアセトネート、ジピバロイルメタネート、アルコ
キシド、ヘキサフルオロアセチルアセトネート、ペンタ
フルオロプロパノイルピバロイルメタネート、シクロペ
ンタジェニルおよびそれらの誘導体並びに他の有機金属
錯体をも使用可能である。
セチルアセトネート、ジピバロイルメタネート、アルコ
キシド、ヘキサフルオロアセチルアセトネート、ペンタ
フルオロプロパノイルピバロイルメタネート、シクロペ
ンタジェニルおよびそれらの誘導体並びに他の有機金属
錯体をも使用可能である。
以上のように、本発明の方法は、有機金属原料中もしく
は原料加熱工程、輸送工程の少なくともいずれか一つの
場合において、有機金属原料に1.4ジオキサン蒸気を
接触させることを特徴とする合成方法であるので、有機
金属原料を多量にがつ安定に反応部へ輸送することがで
きるとともに、合成した超電導体が良好な特性を示す、
さら°にはこれにより酸化物超電導体の高速合成および
NWI合成が行える効果がある。
は原料加熱工程、輸送工程の少なくともいずれか一つの
場合において、有機金属原料に1.4ジオキサン蒸気を
接触させることを特徴とする合成方法であるので、有機
金属原料を多量にがつ安定に反応部へ輸送することがで
きるとともに、合成した超電導体が良好な特性を示す、
さら°にはこれにより酸化物超電導体の高速合成および
NWI合成が行える効果がある。
Claims (1)
- 有機金属を化学気相蒸着させてMOCVD法により酸
化物超電導体を合成する方法において、該有機金属原料
に1.4ジオキサン蒸気を接触させることを特徴とする
、MOCVD法による酸化物超電導体の合成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1301940A JP2821207B2 (ja) | 1989-11-22 | 1989-11-22 | Mocvd法による酸化物超電導体の合成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1301940A JP2821207B2 (ja) | 1989-11-22 | 1989-11-22 | Mocvd法による酸化物超電導体の合成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03197302A true JPH03197302A (ja) | 1991-08-28 |
JP2821207B2 JP2821207B2 (ja) | 1998-11-05 |
Family
ID=17902943
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP1301940A Expired - Fee Related JP2821207B2 (ja) | 1989-11-22 | 1989-11-22 | Mocvd法による酸化物超電導体の合成方法 |
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1989
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JP2821207B2 (ja) | 1998-11-05 |
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