JPH031960U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH031960U JPH031960U JP6342389U JP6342389U JPH031960U JP H031960 U JPH031960 U JP H031960U JP 6342389 U JP6342389 U JP 6342389U JP 6342389 U JP6342389 U JP 6342389U JP H031960 U JPH031960 U JP H031960U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- rotating
- angle
- main unit
- shaped body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000008602 contraction Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第1図は本考案の一実施例が適用されたスパツ
タリング装置の概略構成図、第2A図〜第2C図
は本考案の一実施例の動作を説明するための図で
ある。 1……架台、5……蓋体、8……ブラケツト、
10……メインフレーム、14……サブフレーム
、20……第1エアシリンダ、22……シリンダ
ロツド、30……第2シリンダ、32……シリン
ダロツド。
タリング装置の概略構成図、第2A図〜第2C図
は本考案の一実施例の動作を説明するための図で
ある。 1……架台、5……蓋体、8……ブラケツト、
10……メインフレーム、14……サブフレーム
、20……第1エアシリンダ、22……シリンダ
ロツド、30……第2シリンダ、32……シリン
ダロツド。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 本体装置に回動自在に装着された板状体を所定
角度回動させるための回動装置であつて、 一端が前記本体装置に回動自在に連結されたサ
ブフレームと、このサブフレームに装着され前記
板状体を第1の角度に回動させるための第1伸縮
機構と、この第1シリンダの装着された前記サブ
フレームを回動させて前記板状体を第1の角度よ
りも大きな第2の角度に回動させるための第2伸
縮機構とを備えた板状体の回動装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6342389U JPH031960U (ja) | 1989-05-30 | 1989-05-30 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6342389U JPH031960U (ja) | 1989-05-30 | 1989-05-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH031960U true JPH031960U (ja) | 1991-01-10 |
Family
ID=31593459
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6342389U Pending JPH031960U (ja) | 1989-05-30 | 1989-05-30 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH031960U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000055894A1 (fr) * | 1999-03-17 | 2000-09-21 | Hitachi, Ltd. | Appareil de traitement au plasma et son procede d'entretien |
-
1989
- 1989-05-30 JP JP6342389U patent/JPH031960U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000055894A1 (fr) * | 1999-03-17 | 2000-09-21 | Hitachi, Ltd. | Appareil de traitement au plasma et son procede d'entretien |
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