JPH03195732A - 新規なポリエステルイミド - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は溶解性、低温成形性に優れた新規なポリエステ
ルイミドに関する。
ルイミドに関する。
ポリイミド樹脂は耐熱性が優れているが、多くのものは
、不溶、不融であるため成形性が劣っている。そのため
、フィルムなどに成形するには前駆体であるポリアミド
酸の状態で有機溶媒に溶解したワニスを用いていた。し
かし、ポリアミド酸ワニスは加水分解によって分子量が
低下するため、低温で保存しなければならなかった。ま
た溶媒が吸湿しやすいため、吸湿により樹脂が析出する
等の問題があった。さらにフィルム等に成形した後、イ
ミド化する際に縮合水が発生するため成形物中にボイド
が残るという問題があった。
、不溶、不融であるため成形性が劣っている。そのため
、フィルムなどに成形するには前駆体であるポリアミド
酸の状態で有機溶媒に溶解したワニスを用いていた。し
かし、ポリアミド酸ワニスは加水分解によって分子量が
低下するため、低温で保存しなければならなかった。ま
た溶媒が吸湿しやすいため、吸湿により樹脂が析出する
等の問題があった。さらにフィルム等に成形した後、イ
ミド化する際に縮合水が発生するため成形物中にボイド
が残るという問題があった。
また、イミド化する際に300℃以上の高温にする必要
があるため、熱に弱い基材には用いられないという問題
があった。
があるため、熱に弱い基材には用いられないという問題
があった。
この問題点を解決するために、軟化点を有し、成形加工
が可能なポリイミドが開発されている。
が可能なポリイミドが開発されている。
例えば、特開昭62−10051号公報には、−成人(
) %式%() (ただり、X’は C=O又は S02を示す)で表わ
されるジアミンとピロメリット酸からなるポリイミドが
開示されるが、このポリイミドは軟化点を有し、成形加
工が可能である。
) %式%() (ただり、X’は C=O又は S02を示す)で表わ
されるジアミンとピロメリット酸からなるポリイミドが
開示されるが、このポリイミドは軟化点を有し、成形加
工が可能である。
また、上記の問題点を解決するために、有機溶剤に可溶
なポリエステルイミドが開発されている。
なポリエステルイミドが開発されている。
例えば、特公昭43−22120号公報に示されるアル
キレンビストリメリテートとジイソシアネートからなる
ポリエステルイミド及び特公昭47−30437号公報
に示される芳香族ビストリメリテートとジアミンからな
るポリエステルイミドはクレゾールに可溶である。
キレンビストリメリテートとジイソシアネートからなる
ポリエステルイミド及び特公昭47−30437号公報
に示される芳香族ビストリメリテートとジアミンからな
るポリエステルイミドはクレゾールに可溶である。
特開昭62−10051号公報に示されるポリイミドは
軟化点を有し、成形加工が可能であるが、軟化点が高す
ぎ、300℃を超える温度で成形しなければならない。
軟化点を有し、成形加工が可能であるが、軟化点が高す
ぎ、300℃を超える温度で成形しなければならない。
また、該ポリイミドは有機溶剤に難溶性であるため、フ
ィルムに成形するためにはその前駒体であるポリアミド
酸を有機溶剤に溶解したワニスを用いてフィルム化し、
これを高温に加熱してイミド化しなければならず、前記
したような問題点がある。
ィルムに成形するためにはその前駒体であるポリアミド
酸を有機溶剤に溶解したワニスを用いてフィルム化し、
これを高温に加熱してイミド化しなければならず、前記
したような問題点がある。
特公昭43−22120号公報に示されるポリエステル
イミドは、主鎖にアルキレン鎖を有するため耐熱性が著
しく劣り、特公昭47−30437号公報に示されるポ
リエステルイミドは軟化点が高すぎるため300℃を超
える温度で成形する必要がある。
イミドは、主鎖にアルキレン鎖を有するため耐熱性が著
しく劣り、特公昭47−30437号公報に示されるポ
リエステルイミドは軟化点が高すぎるため300℃を超
える温度で成形する必要がある。
本発明は、−成人(1)
(ただし、式中、Arは二価の芳香族基を示す)で表わ
される二価の基を表し、Zは一般式(3)%式%(3) を示す)で表わされる二価の基を示す)〕で表される構
成単位を含んでなるポリエステルイミドに関する。
される二価の基を表し、Zは一般式(3)%式%(3) を示す)で表わされる二価の基を示す)〕で表される構
成単位を含んでなるポリエステルイミドに関する。
上記ポリエステルイミドは、−成人(1)(ただし、式
中、Arは二価の芳香族基を示す)で表わされる酸二無
水物及び−成人(II)・・・(II) 示し、Yはアミノ基又はイソシアナート基を示す)で表
わされる化合物を反応させることにより製造することが
できる。
中、Arは二価の芳香族基を示す)で表わされる酸二無
水物及び−成人(II)・・・(II) 示し、Yはアミノ基又はイソシアナート基を示す)で表
わされる化合物を反応させることにより製造することが
できる。
一般式(1)で表わされる酸二無水物について次に説明
する。
する。
一般式(1)中、Arとしては、例えば、下記(a)又
は(b)で示される二価の基などがある。
は(b)で示される二価の基などがある。
(a)
(ただし、式中、Rはメチル基、エチル基、プロピル基
等の低級アルキル基、塩素、臭素、フッ素等のハロゲン
、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、トリフル
オロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロ
ブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオク
チル基等のフッ素置換アルキル基等を示し、pはベンゼ
ン環tこ結合しているRの数であって0又は1〜3の整
数を示し、pが2以上のとき、複数のRは同一でも異な
っていてもよい。
等の低級アルキル基、塩素、臭素、フッ素等のハロゲン
、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、トリフル
オロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロ
ブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオク
チル基等のフッ素置換アルキル基等を示し、pはベンゼ
ン環tこ結合しているRの数であって0又は1〜3の整
数を示し、pが2以上のとき、複数のRは同一でも異な
っていてもよい。
で、mは1以上の整数 RL及びR2はそれぞれ独立に
、メチル基、エチル基、イソプロピル基等の低級アルキ
ル基、塩素、臭素、フッ素等のハロゲン、メトキシ基、
エトキシ基等のアルコキシ基。
、メチル基、エチル基、イソプロピル基等の低級アルキ
ル基、塩素、臭素、フッ素等のハロゲン、メトキシ基、
エトキシ基等のアルコキシ基。
トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、パーフル
オロブチル、パーフルオロヘキシル、パーフルオロオク
チル基等のフッ素置換アルキル基等を示し、q及びrは
それぞれ、R1及びR2のベンゼン環への結合数であっ
てO又は1〜4の整数を示し、nは1以上の整数を示し
、R”、 Y及びR2がそれぞれ複数個ある場合、複数
個のR1,Y及びR2はそれぞれの場合に同一でも異な
っていてもよい) 一般式(1)で表わされる酸二無水物の具体例としては
カテコールビストリメリテートニ無水物。
オロブチル、パーフルオロヘキシル、パーフルオロオク
チル基等のフッ素置換アルキル基等を示し、q及びrは
それぞれ、R1及びR2のベンゼン環への結合数であっ
てO又は1〜4の整数を示し、nは1以上の整数を示し
、R”、 Y及びR2がそれぞれ複数個ある場合、複数
個のR1,Y及びR2はそれぞれの場合に同一でも異な
っていてもよい) 一般式(1)で表わされる酸二無水物の具体例としては
カテコールビストリメリテートニ無水物。
レゾルシノールビストリメリテートニ無水物、ジヒドロ
キシベンゼンビストリメリテートニ無水物。
キシベンゼンビストリメリテートニ無水物。
ビスフェノールAビストリメリテートニ無水物。
テトラクロロビスフェノールAビストリメリテートニ無
水物、テトラブロモビスフェノールAビストリメリテー
トニ無水物、ビフェニルビストリメリテートニ無水物、
下記−成人(m)で表わされるビストリメリテートニ無
水物等が挙げられる。
水物、テトラブロモビスフェノールAビストリメリテー
トニ無水物、ビフェニルビストリメリテートニ無水物、
下記−成人(m)で表わされるビストリメリテートニ無
水物等が挙げられる。
−成人(III)
υ
本発明において、酸二無水物の反応の相手は、−成人(
II)で表わされる化合物を必須成分とする。
II)で表わされる化合物を必須成分とする。
一般式(n)で表わされる化合物としては、−成人(I
I)中、イソプロピリデン基に対してアミノ基及び酸素
がパラ位又はメタ位に結合しているものが好ましく、特
に、2個のアミノ基及び2個の酸素のうち少なくとも1
個がイソプロピリデン基に対してメタ位であるのが好ま
しい。
I)中、イソプロピリデン基に対してアミノ基及び酸素
がパラ位又はメタ位に結合しているものが好ましく、特
に、2個のアミノ基及び2個の酸素のうち少なくとも1
個がイソプロピリデン基に対してメタ位であるのが好ま
しい。
−成人(II)において、イソプロピリデン基に対する
アミノ基及び酸素の結合位置のうち、メタ位の割合が増
える程、得られるポリイミドの軟化点は低く、有機溶剤
に対する溶解性が良好になるが、軟化点があまり低くな
りすぎるとポリイミド成形物の高温時における強度が低
下しやすくなるので、目的に応じ、上記メタ位の割合を
決定するのが好ましい。このような観点から、本発明に
おけるジアミン成分は、一般式(IV) ・・・(IV) (ただし、X及びYは一般式(n)に同じ)で表わされ
る化合物が特に好ましい。
アミノ基及び酸素の結合位置のうち、メタ位の割合が増
える程、得られるポリイミドの軟化点は低く、有機溶剤
に対する溶解性が良好になるが、軟化点があまり低くな
りすぎるとポリイミド成形物の高温時における強度が低
下しやすくなるので、目的に応じ、上記メタ位の割合を
決定するのが好ましい。このような観点から、本発明に
おけるジアミン成分は、一般式(IV) ・・・(IV) (ただし、X及びYは一般式(n)に同じ)で表わされ
る化合物が特に好ましい。
一般式(II)で表わされる化合物は、酸二無水物の反
応の相手として、好ましくは50モル%以上、特に好ま
しくは75モル%以上使用される。
応の相手として、好ましくは50モル%以上、特に好ま
しくは75モル%以上使用される。
一般式(II)で表わされる化合物が少なすぎると得ら
れるポリエステルイミドの軟化点が高くなりやすく、ま
た、有機溶剤に難溶性になりやすい。
れるポリエステルイミドの軟化点が高くなりやすく、ま
た、有機溶剤に難溶性になりやすい。
一般式(II)で表わされる化合物のうち、基Yがアミ
ノ基であるジアミンとしては、4.4′ビスC3−(4
−アミノ−α、α′−ジメチルベンジル)フェノキシュ
ジフェニルスルホン、4゜4′−ビス(3−(4−アミ
ノ−α、α′−ジメチルベンジル)フェノキシフベンゾ
フェノン、4゜4′−ビス[4−(4−アミノ−α、α
′−ジメチルベンジル)フェノキシ]ジフェニルスルホ
ン、4.4′−ビス(4−(4−アミノ−α、α′ジメ
チルベンジル)フェノキシフベンゾフェノン、4− (
3−(4−アミノ−α、α −ジメチルベンジル)フェ
ノキシ) −4’ −(4−(4−アミノ−α、α′−
ジメチルベンジル)フェノキシュジフェニルスルホン、
4− (3−(4−アミノ−α、α′−ジメチルベンジ
ル)フェノキシ〕−4’ −(4−アミノ−α、α′−
ジメチルベンジル)フェノキシフベンゾフェノン、4,
4′−ビス(3−(3−アミノ−α、α −ジメチルベ
ンジル)フェノキシュジフェニルスルホン、4゜4′−
ビス(3−(3−アミノ−α、α′−ジメチルベンジル
)フェノキシフベンゾフェノン、4゜4′−ビス(2−
(4−アミノ−α、α′−ジメチルベンジル)フェノキ
シ〕ジフェニルスルホン。
ノ基であるジアミンとしては、4.4′ビスC3−(4
−アミノ−α、α′−ジメチルベンジル)フェノキシュ
ジフェニルスルホン、4゜4′−ビス(3−(4−アミ
ノ−α、α′−ジメチルベンジル)フェノキシフベンゾ
フェノン、4゜4′−ビス[4−(4−アミノ−α、α
′−ジメチルベンジル)フェノキシ]ジフェニルスルホ
ン、4.4′−ビス(4−(4−アミノ−α、α′ジメ
チルベンジル)フェノキシフベンゾフェノン、4− (
3−(4−アミノ−α、α −ジメチルベンジル)フェ
ノキシ) −4’ −(4−(4−アミノ−α、α′−
ジメチルベンジル)フェノキシュジフェニルスルホン、
4− (3−(4−アミノ−α、α′−ジメチルベンジ
ル)フェノキシ〕−4’ −(4−アミノ−α、α′−
ジメチルベンジル)フェノキシフベンゾフェノン、4,
4′−ビス(3−(3−アミノ−α、α −ジメチルベ
ンジル)フェノキシュジフェニルスルホン、4゜4′−
ビス(3−(3−アミノ−α、α′−ジメチルベンジル
)フェノキシフベンゾフェノン、4゜4′−ビス(2−
(4−アミノ−α、α′−ジメチルベンジル)フェノキ
シ〕ジフェニルスルホン。
4.4′−ビス(2−(4−アミノ−α、αジメチルベ
ンジル)フェノキシフベンゾフェノン。
ンジル)フェノキシフベンゾフェノン。
3.3′−ビス(3−(4−アミノ−α、αジメチルベ
ンジル)フェノキシュジフェニルスルホン、3,3′−
ビス(3−(4−アミノ−α。
ンジル)フェノキシュジフェニルスルホン、3,3′−
ビス(3−(4−アミノ−α。
α′−ジメチルベンジル)フェノキシフベンゾフェノン
等が挙げられ、これらを混合して用いても良い。
等が挙げられ、これらを混合して用いても良い。
一般式(U)で表わされる化合物がジアミンである場合
、酸二無水物の反応の相手として併用してもよい他のジ
アミンとしては、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノ
ジフェニルエーテル、ジアミノジフェニルスルホン、ジ
アミノジフェニルケトン、ジアミノジフェニルプロパン
、フェニレンジアミン、トルエンジアミン、ビス(アニ
リノイソプロピリデン)ベンゼン、ビス(アミノフェノ
キシ)ベンゼン、ジアミノジフェニルスルフィド。
、酸二無水物の反応の相手として併用してもよい他のジ
アミンとしては、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノ
ジフェニルエーテル、ジアミノジフェニルスルホン、ジ
アミノジフェニルケトン、ジアミノジフェニルプロパン
、フェニレンジアミン、トルエンジアミン、ビス(アニ
リノイソプロピリデン)ベンゼン、ビス(アミノフェノ
キシ)ベンゼン、ジアミノジフェニルスルフィド。
ビス(アミノフェノキシフェニル)プロパン、ビス(ア
ミノフェノキシフェニル)スルホン、ビス(アミノフェ
ノキシフェニル)ケトン、ビス(アミノフェノキシフェ
ニル)へキサフルオロプロパン、ジアミノジフェニルへ
キサフルオロプロパン。
ミノフェノキシフェニル)スルホン、ビス(アミノフェ
ノキシフェニル)ケトン、ビス(アミノフェノキシフェ
ニル)へキサフルオロプロパン、ジアミノジフェニルへ
キサフルオロプロパン。
ジアミノジアルキルジフェニルメタン等があり、これら
は二種以上併用してもよい。
は二種以上併用してもよい。
一般式(II)で表わされる化合物のうち、基Yがイソ
シアナート基であるジイソシアナートとしては、4,4
′−ビス(3−(4−イソシアナート−α、α′−ジメ
チルベンジル)フェノキシュジフェニルケトン、4,4
′−ビス(3−(4−イソシアナート−α、α −ジメ
チルベンジル)フェノキシュジフェニルスルホン等があ
り、その他、一般式(I)で表わされる化合物のうち、
基Yがアミノ基であるジアミンにおいては、アミノ基を
イソシアナート基に代えたものがある。このようなジイ
ソシアナートと併用してもよいジイソシアナートとして
は、ジフェニルメタンジイソシアナート、トルイレンジ
イソシアナート等の前記した他のジアミンのアミノ基を
イソシアナート基にかえたものがある。
シアナート基であるジイソシアナートとしては、4,4
′−ビス(3−(4−イソシアナート−α、α′−ジメ
チルベンジル)フェノキシュジフェニルケトン、4,4
′−ビス(3−(4−イソシアナート−α、α −ジメ
チルベンジル)フェノキシュジフェニルスルホン等があ
り、その他、一般式(I)で表わされる化合物のうち、
基Yがアミノ基であるジアミンにおいては、アミノ基を
イソシアナート基に代えたものがある。このようなジイ
ソシアナートと併用してもよいジイソシアナートとして
は、ジフェニルメタンジイソシアナート、トルイレンジ
イソシアナート等の前記した他のジアミンのアミノ基を
イソシアナート基にかえたものがある。
本発明において、ポリエステルイミドは1次のようにし
て製造することができる。
て製造することができる。
酸二無水物の反応の相手としてジアミンを使用する場合
、これらを有機溶媒中、必要に応じてトリブチルアミン
、トリエチルアミン、亜リン酸トリフェニル等の触媒の
存在下、100℃以上、好ましくは180℃以上に加熱
して、イミド化までを行なわせて、直接ポリエステルイ
ミドを得る方法(触媒は、反応成分の総量に対して0〜
15重量%使用するのが好ましく、特に0.01〜15
重量%使用するのが好ましい)、酸二無水物及びジアミ
ンを有機溶媒中100℃未満で反応させてポリエステル
イミドの前駆体であるポリアミド酸のワニスをいったん
製造し、この後、このワニスを加熱してイミド化するか
、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸等の酸無
水物、ジシクロへキシルカルボジイミド等のカルボジイ
ミド等の閉環剤、必要に応じてピリジン、イソキノリン
。
、これらを有機溶媒中、必要に応じてトリブチルアミン
、トリエチルアミン、亜リン酸トリフェニル等の触媒の
存在下、100℃以上、好ましくは180℃以上に加熱
して、イミド化までを行なわせて、直接ポリエステルイ
ミドを得る方法(触媒は、反応成分の総量に対して0〜
15重量%使用するのが好ましく、特に0.01〜15
重量%使用するのが好ましい)、酸二無水物及びジアミ
ンを有機溶媒中100℃未満で反応させてポリエステル
イミドの前駆体であるポリアミド酸のワニスをいったん
製造し、この後、このワニスを加熱してイミド化するか
、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸等の酸無
水物、ジシクロへキシルカルボジイミド等のカルボジイ
ミド等の閉環剤、必要に応じてピリジン、イソキノリン
。
トリメチルアミン、アミノピリジン、イミダゾール等の
閉環触媒を添加して化学閉環(イミド化)させる方法(
閉環剤及び閉環触媒は、それぞれ、酸無水物1モルに対
して1〜8モルの範囲内で使用するのが好ましい)等が
ある。
閉環触媒を添加して化学閉環(イミド化)させる方法(
閉環剤及び閉環触媒は、それぞれ、酸無水物1モルに対
して1〜8モルの範囲内で使用するのが好ましい)等が
ある。
前記有機溶剤としては、N−メチル−ピロリドン(NM
P) 、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N−ジメ
チルホルムアミド(DMF) 、ジメチルスルホキシド
、スルホラン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、1,3
−ジメチル−2−イミダゾリトン等の非プロトン性極性
溶媒、フェノール、クレゾール、キシレノール、P−ク
ロルフェノール等のフェノール系溶媒等が挙げられる。
P) 、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N−ジメ
チルホルムアミド(DMF) 、ジメチルスルホキシド
、スルホラン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、1,3
−ジメチル−2−イミダゾリトン等の非プロトン性極性
溶媒、フェノール、クレゾール、キシレノール、P−ク
ロルフェノール等のフェノール系溶媒等が挙げられる。
これらの溶媒にベンゼン、トルエン、キシレン。
メチルエチルケトン、アセトン、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、モノグライム、ジグライム。
ジオキサン、モノグライム、ジグライム。
メチルセロソルブ、セロソルブアセテート、メタノール
、エタノール、インプロパツール、塩化メチレン、クロ
ロホルム、トリクレン、テトラクロロエタン等の溶媒を
ポリイミド又はポリアミド酸の溶解性をそこなわない範
囲で混合して用いることができる。
、エタノール、インプロパツール、塩化メチレン、クロ
ロホルム、トリクレン、テトラクロロエタン等の溶媒を
ポリイミド又はポリアミド酸の溶解性をそこなわない範
囲で混合して用いることができる。
前記したポリイミド及びその前駆体であるポリアミド酸
の製造に際し、場合により、同相反応、300℃以下で
の溶融反応等を利用することができる。
の製造に際し、場合により、同相反応、300℃以下で
の溶融反応等を利用することができる。
また、酸二無水物の反応の相手としてジイソシアナート
を使用する場合は、前記した直接ポリエステルイミドを
得る方法に準じて行なうことができる。ただし1反応温
度は室温、特に60’C以上であれば充分である。
を使用する場合は、前記した直接ポリエステルイミドを
得る方法に準じて行なうことができる。ただし1反応温
度は室温、特に60’C以上であれば充分である。
本発明において、酸二無水物とその反応の相手は、はぼ
等モルで用いるのが好ましいが、いずれか一方の過剰量
が10モル%、特に好ましくは5モル%までは許容され
る。
等モルで用いるのが好ましいが、いずれか一方の過剰量
が10モル%、特に好ましくは5モル%までは許容され
る。
本発明で得られるポリエステルイミドは、N。
N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒、
ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、
塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素等に可溶であり、
これらの溶液からフィルム等に成形することができる。
ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、
塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素等に可溶であり、
これらの溶液からフィルム等に成形することができる。
また、軟化点は、1o。
〜250℃に容品に調整することができる。
本発明におけるポリエステルイミドは成形品。
接着剤、構造材料等として用いることができる。
本発明で得られるポリエステルイミドは、その前駆体か
ら適宜、製造し、使用に供することができる。
ら適宜、製造し、使用に供することができる。
なお、一般式(1)で表わされる化合物の基Yがアミノ
基であるジアミンは、対応するヒドロキシフェニルアミ
ノフェニルプロパン2モルに対し、4.4′−ジフルオ
ロベンゾフェノン又は4゜4′−ジクロロジフェニルス
ルホン1モルを水酸化カリウム、無水炭酸カリウム等の
塩基の存在下。
基であるジアミンは、対応するヒドロキシフェニルアミ
ノフェニルプロパン2モルに対し、4.4′−ジフルオ
ロベンゾフェノン又は4゜4′−ジクロロジフェニルス
ルホン1モルを水酸化カリウム、無水炭酸カリウム等の
塩基の存在下。
極性有機溶剤中で、100’C以上に加熱することによ
って製造することができる。
って製造することができる。
また、一般式(1)で表わされる化合物の基Yがイソシ
アナート基であるジイソシアナートは、上記のようにし
て得られたジアミンを常法に従いホスゲンと反応させる
ことによって製造することができる。
アナート基であるジイソシアナートは、上記のようにし
て得られたジアミンを常法に従いホスゲンと反応させる
ことによって製造することができる。
前記したポリエステルイミドの前駆体であるアミド酸は
、一般式(4) であり、同一ベンゼン環に結合しているアミド基とカル
ボキシル基はAに対してメタ位又はパラ位に結合してい
る〕で表される構成単位を有する。
、一般式(4) であり、同一ベンゼン環に結合しているアミド基とカル
ボキシル基はAに対してメタ位又はパラ位に結合してい
る〕で表される構成単位を有する。
以下、実施例により本発明の詳細な説明するが、本発明
はこれらの範囲に限定されるものではない。
はこれらの範囲に限定されるものではない。
製造例1
冷却管、温度計、撹拌機、窒素ガス導入管を備えた4つ
目フラスコに、2− (3−ヒドロキシフェニル) −
2−(4’−アミノフェニル)プロパン45.4g、ジ
メチルスルホキシド100mQ、クロルベンゼン120
mQを加え室温で溶解した後、水酸化カリウム13gを
同様の水に溶解した水溶液を加えた。窒素ガスを流しな
がら加熱撹拌し、水を演出させた。水の演出がとまった
後、温度を100”Cに下げ、4,4′−ジフルオロベ
ンゾフェノン21.8 g を加え、165℃で4時
間反応させた。室温まで冷却し、沈殿をろ過して除いた
後、水中に注ぎ粗生成物を得た。粗生成物をトルエン−
ヘキサン混合溶媒より再結晶し、目的の化合物4,4′
−ビス(3−(4−アミノ−α。
目フラスコに、2− (3−ヒドロキシフェニル) −
2−(4’−アミノフェニル)プロパン45.4g、ジ
メチルスルホキシド100mQ、クロルベンゼン120
mQを加え室温で溶解した後、水酸化カリウム13gを
同様の水に溶解した水溶液を加えた。窒素ガスを流しな
がら加熱撹拌し、水を演出させた。水の演出がとまった
後、温度を100”Cに下げ、4,4′−ジフルオロベ
ンゾフェノン21.8 g を加え、165℃で4時
間反応させた。室温まで冷却し、沈殿をろ過して除いた
後、水中に注ぎ粗生成物を得た。粗生成物をトルエン−
ヘキサン混合溶媒より再結晶し、目的の化合物4,4′
−ビス(3−(4−アミノ−α。
α′−ジメチルベンジル)フェノキンフジフェニルケト
ンを得た。収量45.5g 、融点107〜111℃液
体クロマトグラフィー(カラム:東ソー(株)TSK
Gel G2000H及びG3000Hを連結、溶離液
テトラヒドロフラン)による純度99.0%(面積比)
であった。
ンを得た。収量45.5g 、融点107〜111℃液
体クロマトグラフィー(カラム:東ソー(株)TSK
Gel G2000H及びG3000Hを連結、溶離液
テトラヒドロフラン)による純度99.0%(面積比)
であった。
このジアミンの分析結果は次のとおりである。
(1)元素分析値(%)C43H4゜N、O。
CHN
計算値 81,65 6.33 4.43実測値
81,57 6.41 4.32(2)赤外線吸収スペ
クトルエRの吸収位置(KBr錠剤法、C!l−1) 3460.3390 (アミノ基) 2970.2870 (メチル基) 1600 (カルボニル基)1250
(エーテル基)(3)核磁気共鳴スペクトル
NMRのスペクトル位置(DMSO−dct ppm) 1.57 (12H−重線) 4.86 (4H−重線) 6.4〜7.8 (24H多重線) 注)DMSOはジメチルスルホキシドの意味である。
81,57 6.41 4.32(2)赤外線吸収スペ
クトルエRの吸収位置(KBr錠剤法、C!l−1) 3460.3390 (アミノ基) 2970.2870 (メチル基) 1600 (カルボニル基)1250
(エーテル基)(3)核磁気共鳴スペクトル
NMRのスペクトル位置(DMSO−dct ppm) 1.57 (12H−重線) 4.86 (4H−重線) 6.4〜7.8 (24H多重線) 注)DMSOはジメチルスルホキシドの意味である。
製造例2
冷却管、温度計、撹拌機、窒素ガス導入管を備えた4つ
ロフラスコに、2−(3−ヒドロキシフェニル)−2−
(4’−アミノフェニル)フロパン68.1g、ジメチ
ルスルホキシド150mM、クロルベンゼン180mQ
、4.4’ −ジクロルジフェニルスルホン40.75
g 、無水炭酸カリウム20.5 g を仕込み、窒
素ガス通気下に加熱撹拌し、水を演出させた。165℃
で4時間反応させた後、室温まで冷却した。反応液を水
中に注いで粗生成物を得た。ベンゼン−ヘキサン混合溶
媒で再結晶して目的の化合物4,4′−ビス〔3−(4
−アミノ−α、α′−ジメチルベンジル)フェノキシ〕
ジフェニルスルホン71.1 g を得た。融点67
〜70℃、液体クロマトグラフィーによる純度は99.
4%であった。
ロフラスコに、2−(3−ヒドロキシフェニル)−2−
(4’−アミノフェニル)フロパン68.1g、ジメチ
ルスルホキシド150mM、クロルベンゼン180mQ
、4.4’ −ジクロルジフェニルスルホン40.75
g 、無水炭酸カリウム20.5 g を仕込み、窒
素ガス通気下に加熱撹拌し、水を演出させた。165℃
で4時間反応させた後、室温まで冷却した。反応液を水
中に注いで粗生成物を得た。ベンゼン−ヘキサン混合溶
媒で再結晶して目的の化合物4,4′−ビス〔3−(4
−アミノ−α、α′−ジメチルベンジル)フェノキシ〕
ジフェニルスルホン71.1 g を得た。融点67
〜70℃、液体クロマトグラフィーによる純度は99.
4%であった。
このジアミンの分析結果は次のとおりである。
(1)元素分析値(%)C42H4゜N20.SCHN
計算値 75.45 5,99 4,19 4゜9
実測値 75.18 6.03 4.02 .4゜6
(2)IRの吸収位置(KBrBr法、Ql−’)34
50.3390 (アミノ基) 2970.2870 (メチル基) 1290.1110 (スルホニル基)1250
(エーテル基)(3)NMRのスペクトル位置
(DMSO−dsyPPl)1.55 (12H
−重線) 4.87 (4H−重線) 6.4〜8.0 (24H多重線) 実施例1 撹拌機、温度計、窒素ガス導入管、下向き冷却管を備え
た4つロフラスコに製造例1で得られた4、4′−ビス
(3−(4−アミノ−α、α′ジメチルベンジル)フェ
ノキシ〕ベンゾフェノン3.16 g とビスフェノ
ールAビストリメリテート二無水物2.88g、N−メ
チルピロリドン15mQ、亜リン酸トリフェニル0.2
g を入れ、窒素ガスを流しながら200℃で5時
間反応させてポリイミドワニスを得た。このワニスを水
に注いで再沈し、粉砕、乾燥してポリイミド粉末を得た
。DMF中、濃度0−1g/dQ 、温度30℃で測定
した還元粘度は0.47dQ/g 、荷重10kg/a
Jで高化式フローテスターで測定した軟化点は165℃
、5%重量減少温度は、437℃であった。また、溶解
性試験(ポリイミド粉末を有機溶剤に、5重量%の濃度
になるように添加し、室温で溶解状態を観察)において
、上記ポリイミド粉末は、DMF、NMP、ジオキサン
、テトラヒドロフラン(THF)及び塩化メチレンにそ
れぞれ可溶であった。上記ポリイミドの赤外線吸収スペ
クトルを第1図に示す。
50.3390 (アミノ基) 2970.2870 (メチル基) 1290.1110 (スルホニル基)1250
(エーテル基)(3)NMRのスペクトル位置
(DMSO−dsyPPl)1.55 (12H
−重線) 4.87 (4H−重線) 6.4〜8.0 (24H多重線) 実施例1 撹拌機、温度計、窒素ガス導入管、下向き冷却管を備え
た4つロフラスコに製造例1で得られた4、4′−ビス
(3−(4−アミノ−α、α′ジメチルベンジル)フェ
ノキシ〕ベンゾフェノン3.16 g とビスフェノ
ールAビストリメリテート二無水物2.88g、N−メ
チルピロリドン15mQ、亜リン酸トリフェニル0.2
g を入れ、窒素ガスを流しながら200℃で5時
間反応させてポリイミドワニスを得た。このワニスを水
に注いで再沈し、粉砕、乾燥してポリイミド粉末を得た
。DMF中、濃度0−1g/dQ 、温度30℃で測定
した還元粘度は0.47dQ/g 、荷重10kg/a
Jで高化式フローテスターで測定した軟化点は165℃
、5%重量減少温度は、437℃であった。また、溶解
性試験(ポリイミド粉末を有機溶剤に、5重量%の濃度
になるように添加し、室温で溶解状態を観察)において
、上記ポリイミド粉末は、DMF、NMP、ジオキサン
、テトラヒドロフラン(THF)及び塩化メチレンにそ
れぞれ可溶であった。上記ポリイミドの赤外線吸収スペ
クトルを第1図に示す。
実施例2
撹拌機、温度計、塩化カルシウム管、窒素ガス導入管の
ついた4つロフラスコに製造例2で得られた4、4′−
ビス(3−(4−アミノ−α。
ついた4つロフラスコに製造例2で得られた4、4′−
ビス(3−(4−アミノ−α。
α′−ジメチルベンジル)フェノキシフジフェニルスル
ホン3.34g とN、N−ジメチルホルムアミド(
DMF)20mAを入れ溶解する。5℃以下に冷却しな
がらビスフェノールAビストリメリテート二無水物2.
88 g を少しずつ加えた後。
ホン3.34g とN、N−ジメチルホルムアミド(
DMF)20mAを入れ溶解する。5℃以下に冷却しな
がらビスフェノールAビストリメリテート二無水物2.
88 g を少しずつ加えた後。
5℃以下で3時間、室温で1時間反応させてポリイミド
の前睨体であるポリアミド酸のワニスを得た。このワニ
スに無水酢酸1.3g、ピリジン1.0 g を加え
室温で3時間反応させてポリイミドワニスを得た。この
ワニスを水に注いで再沈し、粉砕、乾燥してポリイミド
粉末を得た。DMF中、濃度0.1g/dQ 、温度3
0℃で測定した還元粘度は0.33dQ/g、荷重10
kg/ajで高化式フローテスタで測定した軟化点は、
162℃であった。
の前睨体であるポリアミド酸のワニスを得た。このワニ
スに無水酢酸1.3g、ピリジン1.0 g を加え
室温で3時間反応させてポリイミドワニスを得た。この
ワニスを水に注いで再沈し、粉砕、乾燥してポリイミド
粉末を得た。DMF中、濃度0.1g/dQ 、温度3
0℃で測定した還元粘度は0.33dQ/g、荷重10
kg/ajで高化式フローテスタで測定した軟化点は、
162℃であった。
このポリイミド粉末は、溶解性試験においてDMF、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、塩化メチレンに可溶で
あった。5%重量減少温度は432℃であった。上記ポ
リイミドの赤外線吸収スペクトルを第2図に示す。
オキサン、テトラヒドロフラン、塩化メチレンに可溶で
あった。5%重量減少温度は432℃であった。上記ポ
リイミドの赤外線吸収スペクトルを第2図に示す。
実施例3
実施例1において、ビスフェノールAビストリメリテー
ト二無水物のかわりに0,0′−ビスフェノールビスト
リメリテートニ無水物2.67 gを使用する以外は同
様にしてポリイミド粉末を得た。このポリイミドの還元
粘度は0.52dj2/g、軟化点は140T:、5%
重量減少温度は445℃であり、溶解性試験においてD
MF、NMP。
ト二無水物のかわりに0,0′−ビスフェノールビスト
リメリテートニ無水物2.67 gを使用する以外は同
様にしてポリイミド粉末を得た。このポリイミドの還元
粘度は0.52dj2/g、軟化点は140T:、5%
重量減少温度は445℃であり、溶解性試験においてD
MF、NMP。
ジオキサン、THF、塩化メチレンに可溶であった。上
記ポリイミドの赤外線吸収スペクトルを第3図に示す。
記ポリイミドの赤外線吸収スペクトルを第3図に示す。
実施例4
実施例2において、ビスフェノールAビストリメリテー
ト二無水物のかわりに、下記(V)式で表わされる二無
水物3.47 g を使用する以外は同様にしてポリ
イミド粉末を得た。このポリイミドの還元粘度は0.3
5dQ/g、軟化点は165℃、5%重量減少温度は4
50”Cであり、溶解性試験においてDMF、NMP、
ジオキサン、THF。
ト二無水物のかわりに、下記(V)式で表わされる二無
水物3.47 g を使用する以外は同様にしてポリ
イミド粉末を得た。このポリイミドの還元粘度は0.3
5dQ/g、軟化点は165℃、5%重量減少温度は4
50”Cであり、溶解性試験においてDMF、NMP、
ジオキサン、THF。
塩化メチレンに可溶であった。上記ポリイミドの赤外線
吸収スペクトルを第4図に示す。
吸収スペクトルを第4図に示す。
本発明に係るポリエステルイミドは、有機溶剤に対する
溶解性が優れ、比較的低軟化点を示す。
溶解性が優れ、比較的低軟化点を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼…(1) 〔ただし、式中、Aは一般式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼…(2) (ただし、式中、Arは二価の芳香族基を示す)で表わ
される二価の基を表し、Zは一般式(3)▲数式、化学
式、表等があります▼…(3) (ただし、式中、Xは■C=Oまたは■SO_2を示す
)で表わされる二価の基を示す)〕で表される構成単位
を含んでなるポリエステルイミド。 2、一般式(3)で表わされる二価の基が、一般式(3
)中、イソプロピリデン基に対して、結合及び酸素がそ
れぞれパラ位又はメタ位に結合しているものである請求
項1記載のポリエステルイミド。 3、一般式(3)で表わされる二価の基が、請求項2に
記載のものであつて、かつ、一般式(3)中、2個の結
合及び2個の酸素のうち、少なくとも1個がイソプロピ
リデン基に対してメタ位に結合しているものである請求
項2記載のポリエステルイミド。 4、一般式(3)で表わされる二価の基が、請求項3に
記載のものであつて、かつ、一般式(3)中、イソプロ
ピリデン基に対して、結合がパラ位に及び酸素がメタ位
に結合しているものである請求項3記載のポリエステル
イミド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33599989A JPH03195732A (ja) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | 新規なポリエステルイミド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33599989A JPH03195732A (ja) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | 新規なポリエステルイミド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03195732A true JPH03195732A (ja) | 1991-08-27 |
Family
ID=18294651
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33599989A Pending JPH03195732A (ja) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | 新規なポリエステルイミド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03195732A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000061658A1 (fr) * | 1999-04-09 | 2000-10-19 | Kaneka Corporation | Resine polyimide, composition de resine a resistance amelioree a l'humidite la comprenant, solution adhesive, colle en film adhesif en couches et leurs procedes de production |
JP2005298623A (ja) * | 2004-04-09 | 2005-10-27 | Manac Inc | 高い有機溶媒溶解性、高熱可塑性、高靭性および高ガラス転移温度を併せ持つポリイミド、およびその製造方法 |
JP2006306990A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Manac Inc | エステルイミドオリゴマー、その熱硬化物およびこれらの製造方法 |
JP2009001793A (ja) * | 2008-06-06 | 2009-01-08 | Kaneka Corp | 接着剤 |
Citations (7)
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---|---|---|---|---|
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JPS492999A (ja) * | 1972-04-07 | 1974-01-11 | ||
JPS51117798A (en) * | 1975-04-09 | 1976-10-16 | Hitachi Cable Ltd | A process for preparing condensates |
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-
1989
- 1989-12-25 JP JP33599989A patent/JPH03195732A/ja active Pending
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US6693162B2 (en) | 1999-04-09 | 2004-02-17 | Kaneka Japan Corporation | Polyimide resin and resin composition, adhesive solution, film-state joining component,and adhesive laminate film improved in moisture resistance using it, and production methods therefor |
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JP4603929B2 (ja) * | 2005-04-28 | 2010-12-22 | マナック株式会社 | エステルイミドオリゴマー、その熱硬化物およびこれらの製造方法 |
JP2009001793A (ja) * | 2008-06-06 | 2009-01-08 | Kaneka Corp | 接着剤 |
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