JPH03180463A - 部分薄膜形成装置 - Google Patents
部分薄膜形成装置Info
- Publication number
- JPH03180463A JPH03180463A JP31958789A JP31958789A JPH03180463A JP H03180463 A JPH03180463 A JP H03180463A JP 31958789 A JP31958789 A JP 31958789A JP 31958789 A JP31958789 A JP 31958789A JP H03180463 A JPH03180463 A JP H03180463A
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- thin film
- mask
- lens
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- Pending
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は一般的には薄膜形成装置に関し、更に具体的に
は試料の一部分を除いてその周辺に薄膜を形成する簡易
な部分薄膜形成装置に関する。
は試料の一部分を除いてその周辺に薄膜を形成する簡易
な部分薄膜形成装置に関する。
真空蒸着法、スパッタ法などで試料の一部分に薄膜を形
成する場合、薄膜形成が不要な部分をマスクで保護し、
マスクに設けた窓を通して薄膜を試料の所定の部分に被
着する方法が一般的である。
成する場合、薄膜形成が不要な部分をマスクで保護し、
マスクに設けた窓を通して薄膜を試料の所定の部分に被
着する方法が一般的である。
ところで試料の一部分が膜形成不要でその周辺に薄膜を
形成する場合にはマスクが孤立して支持できないためマ
スクを所定の位置に設置することが困難であった。この
ような場合には薄膜を試料全面に形成したのち、部分的
に薄膜を除去する方法が用いられていた。しかし試料の
形状が平面でない場合には部分的に薄膜を除去する場合
のバタン形成が困難であり、この従来方法による薄膜形
成装置は適用できないという問題点があった。
形成する場合にはマスクが孤立して支持できないためマ
スクを所定の位置に設置することが困難であった。この
ような場合には薄膜を試料全面に形成したのち、部分的
に薄膜を除去する方法が用いられていた。しかし試料の
形状が平面でない場合には部分的に薄膜を除去する場合
のバタン形成が困難であり、この従来方法による薄膜形
成装置は適用できないという問題点があった。
本発明の目的は試料の一部分を除いてその周辺に薄膜を
形成する簡易な部分薄膜形成装置を提供することにある
。
形成する簡易な部分薄膜形成装置を提供することにある
。
本発明による部分薄膜形成装置は、試料の一部分を除い
てその周辺に薄膜を形成する場合、該−部分を薄膜の被
着から保護するマスクに強磁性体材料から成るマスクま
たは非磁性体と永久磁石から成る構造体を用い、試料の
裏面に設置した永久磁石または電磁石で前記マスクを所
定の位置に保持することを特徴とする。
てその周辺に薄膜を形成する場合、該−部分を薄膜の被
着から保護するマスクに強磁性体材料から成るマスクま
たは非磁性体と永久磁石から成る構造体を用い、試料の
裏面に設置した永久磁石または電磁石で前記マスクを所
定の位置に保持することを特徴とする。
本発明の構成は下記の通りである。即ち、本発明は試料
の一部分を除いてその周辺に薄膜を形成する装置におい
て、該試料の一部分を薄膜の被着から保護するマスクに
強磁性体材料から成る構造体または非磁性体と永久磁石
から成る複合構造体から成るマスクを用い、試料の裏面
に設置した永久磁石または電磁石で前記マスクを所定の
位置に保持することを特徴とする部分薄膜形成装置の構
成となっている。
の一部分を除いてその周辺に薄膜を形成する装置におい
て、該試料の一部分を薄膜の被着から保護するマスクに
強磁性体材料から成る構造体または非磁性体と永久磁石
から成る複合構造体から成るマスクを用い、試料の裏面
に設置した永久磁石または電磁石で前記マスクを所定の
位置に保持することを特徴とする部分薄膜形成装置の構
成となっている。
第1図は本発明による第1の実施例としての部分薄膜形
成装置の概略的構成図である。第1図において、lはガ
ラスレンズ、2は強磁性材料から戊るマスク、3は非磁
性体から成るレンズホルダ、4は永久磁石、5は回転軸
、6はモータ、7は蒸着源である。第1図の実施例はガ
ラスモールドレンズの半田付は固定のために外周面にの
みメタライズを施すことを目的に本発明の部分薄膜形成
装置を適用したもので、その動作は以下の通りである。
成装置の概略的構成図である。第1図において、lはガ
ラスレンズ、2は強磁性材料から戊るマスク、3は非磁
性体から成るレンズホルダ、4は永久磁石、5は回転軸
、6はモータ、7は蒸着源である。第1図の実施例はガ
ラスモールドレンズの半田付は固定のために外周面にの
みメタライズを施すことを目的に本発明の部分薄膜形成
装置を適用したもので、その動作は以下の通りである。
強磁性材料から成るマスク2はレンズホルダ3に固定さ
れた永久磁石4に吸引され、ガラスレンズ1をレンズホ
ルダ3に押しつけ、マスク2とガラスレンズlとレンズ
ホルダ3の三者の相対位置が保持される。この状態で回
転軸5によりモータ6の回転を伝達すればガラスレンズ
lは回転軸を中心として回転し、ガラスレンズlの蒸着
源7に対向する側面が順次蒸着されてガラスレンズlの
外周が全面蒸着される。
れた永久磁石4に吸引され、ガラスレンズ1をレンズホ
ルダ3に押しつけ、マスク2とガラスレンズlとレンズ
ホルダ3の三者の相対位置が保持される。この状態で回
転軸5によりモータ6の回転を伝達すればガラスレンズ
lは回転軸を中心として回転し、ガラスレンズlの蒸着
源7に対向する側面が順次蒸着されてガラスレンズlの
外周が全面蒸着される。
本実施例では永久磁石4を用いたが永久磁石の代わりに
電磁石を使用しても同様の効果が得られることは自明で
ある。
電磁石を使用しても同様の効果が得られることは自明で
ある。
第2図は本発明による第2の実施例であって、8はガラ
スレンズ、9はマスクを構成する非磁性体構造部材、l
Oは構造部材9に固定された第1の永久磁石、11は非
磁性体から成るレンズホルダ、12は第2の永久磁石、
13は回転軸、14はモータ、15は蒸着源である。第
2図の実施例はガラスモールドレンズの半田付は固定の
ために外周面にのみメタライズを施すことを目的に本発
明の方法を適用したもので、その動作は以下の通りであ
る。構造部材9と第1の永久磁石1oから成るマスクは
レンズホルダ11に固定された第2の永久磁石12に吸
引され、ガラスレンズ8をレンズホルダ11に押しっけ
、マスクとガラスレンズ8とレンズホルダ11の三者の
相対位置が保持される。この状態で回転軸13によりモ
ータL4の回転を伝達すればガラスレンズ8は回転軸を
中心として回転し、ガラスレンズ8の蒸着源15に対向
する側面が順次蒸着されてガラスレンズ8の外周が全面
蒸着される。
スレンズ、9はマスクを構成する非磁性体構造部材、l
Oは構造部材9に固定された第1の永久磁石、11は非
磁性体から成るレンズホルダ、12は第2の永久磁石、
13は回転軸、14はモータ、15は蒸着源である。第
2図の実施例はガラスモールドレンズの半田付は固定の
ために外周面にのみメタライズを施すことを目的に本発
明の方法を適用したもので、その動作は以下の通りであ
る。構造部材9と第1の永久磁石1oから成るマスクは
レンズホルダ11に固定された第2の永久磁石12に吸
引され、ガラスレンズ8をレンズホルダ11に押しっけ
、マスクとガラスレンズ8とレンズホルダ11の三者の
相対位置が保持される。この状態で回転軸13によりモ
ータL4の回転を伝達すればガラスレンズ8は回転軸を
中心として回転し、ガラスレンズ8の蒸着源15に対向
する側面が順次蒸着されてガラスレンズ8の外周が全面
蒸着される。
本実施例では永久磁石12を用いたが永久磁石の代わり
に電磁石を使用しても同様の効果が得られることば自明
である。
に電磁石を使用しても同様の効果が得られることば自明
である。
第1の実施例では永久磁石4が軸方向に磁化されている
場合にマスク2には吸引力と同時に回転力が働き試料の
着脱に注意を要するが、第2の実施例では第1の永久磁
石10と第2の永久磁石12をともに軸方向で逆極性に
磁化すれば吸引力のみが働いて回転力は働かないため一
層安定なマスクの保持が実現される利点を有する。
場合にマスク2には吸引力と同時に回転力が働き試料の
着脱に注意を要するが、第2の実施例では第1の永久磁
石10と第2の永久磁石12をともに軸方向で逆極性に
磁化すれば吸引力のみが働いて回転力は働かないため一
層安定なマスクの保持が実現される利点を有する。
以上述べた如く、本発明による部分薄膜形成装置の構成
により、試料の一部分を除いてその周辺に薄膜を形成す
る簡易な装置が提供された。
により、試料の一部分を除いてその周辺に薄膜を形成す
る簡易な装置が提供された。
本発明の装置はガラスレンズの外周面におけるメタライ
ズのみならず他の材料からなる光学部品、或いは半導体
装置、セラミック材料による各種部品においても適用で
き、広範囲な応用分野が期待され、工業的価値の高いも
のである。
ズのみならず他の材料からなる光学部品、或いは半導体
装置、セラミック材料による各種部品においても適用で
き、広範囲な応用分野が期待され、工業的価値の高いも
のである。
本発明による部分薄膜形成装置によればl〉マスク2も
しくは複合構造体としてのマスク9.10を支持する支
柱などがないため、機構が簡単であり、2)マスク2も
しくは複合構造体としてのマスク9.10を支持する支
柱などがないため、試料を回転しても支柱の陰となる場
所が無く、レンズの外周全面を蒸着することが可能であ
り、3)マスク2或いは9.lOおよびガラスレンズl
或いは8が磁気吸引で固定されていて機械的固定機構が
無いためガラスレンズl或いは8およびマスク2或いは
9,10の着脱が容易である、等の効果がある。
しくは複合構造体としてのマスク9.10を支持する支
柱などがないため、機構が簡単であり、2)マスク2も
しくは複合構造体としてのマスク9.10を支持する支
柱などがないため、試料を回転しても支柱の陰となる場
所が無く、レンズの外周全面を蒸着することが可能であ
り、3)マスク2或いは9.lOおよびガラスレンズl
或いは8が磁気吸引で固定されていて機械的固定機構が
無いためガラスレンズl或いは8およびマスク2或いは
9,10の着脱が容易である、等の効果がある。
第1図は本発明の第1の実施例としての部分薄膜形成装
置の概略的構成図であって、■はガラスレンズ、2は強
磁性材料からなるマスク、3は非磁性体から成るレンズ
ホルダ、4は永久磁石、5は回転軸、6はモータ、7は
蒸着源である。 第2図は本発明の第2の実施例としての部分薄膜形成装
置の概略的構成図であって、8はガラスレンズ、9はマ
スクを構成する非磁性体構造部材、10は構造部材9に
固定された第1の永久磁石、11は非磁性体から成るレ
ンズホルダ、12は第2の永久磁石、13は回転軸、1
4はモータ、15は蒸着源である。
置の概略的構成図であって、■はガラスレンズ、2は強
磁性材料からなるマスク、3は非磁性体から成るレンズ
ホルダ、4は永久磁石、5は回転軸、6はモータ、7は
蒸着源である。 第2図は本発明の第2の実施例としての部分薄膜形成装
置の概略的構成図であって、8はガラスレンズ、9はマ
スクを構成する非磁性体構造部材、10は構造部材9に
固定された第1の永久磁石、11は非磁性体から成るレ
ンズホルダ、12は第2の永久磁石、13は回転軸、1
4はモータ、15は蒸着源である。
Claims (1)
- 試料の一部を除いてその周辺に薄膜を形成する装置にお
いて、該試料の一部分を薄膜の被着から保護するマスク
に強磁性体材料から成るマスクまたは非磁性体と永久磁
石から成る複合構造体から成るマスクを用い、試料の裏
面に設置した永久磁石または電磁石で前記マスクを所定
の位置に保持することを特徴とする部分薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31958789A JPH03180463A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 部分薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31958789A JPH03180463A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 部分薄膜形成装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03180463A true JPH03180463A (ja) | 1991-08-06 |
Family
ID=18111935
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31958789A Pending JPH03180463A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 部分薄膜形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03180463A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009249706A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Sumco Corp | 蒸着用マスク、ならびにそれを用いる蒸着パターン作製方法、半導体ウェーハ評価用試料の作製方法、半導体ウェーハの評価方法および半導体ウェーハの製造方法 |
-
1989
- 1989-12-08 JP JP31958789A patent/JPH03180463A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009249706A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Sumco Corp | 蒸着用マスク、ならびにそれを用いる蒸着パターン作製方法、半導体ウェーハ評価用試料の作製方法、半導体ウェーハの評価方法および半導体ウェーハの製造方法 |
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