JPH03167859A - 半導体素子収納用パッケージ - Google Patents

半導体素子収納用パッケージ

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JPH03167859A
JPH03167859A JP30860489A JP30860489A JPH03167859A JP H03167859 A JPH03167859 A JP H03167859A JP 30860489 A JP30860489 A JP 30860489A JP 30860489 A JP30860489 A JP 30860489A JP H03167859 A JPH03167859 A JP H03167859A
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弘 松本
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors

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  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は半導体素子を収容する半導体素子収納用パッケ
ージの改良に関するものである.(従来の技術) 従来、半導体素子を収容するためのパッケージ、特にガ
ラスの溶着によって封止するガラス封止型半導体素子収
納用パッケージは、vIi縁基体と蓋体とから戒り、内
部に半導体素子を収容する空所を有する絶縁容器と、該
容器内に収容ざれる半導体素子を外部電気回路に電気的
に接続するための外部リード端子とから構威されており
、絶縁基体及び蓋体の相対向する主面に予め封止用のガ
ラス部材を被着形或すると共に、絶縁基体主面に外部リ
ード端子を固定し、半導体素子の各電極と外部リード端
子とをワイヤボンド接続した後、絶縁基体及び蓋体のそ
れぞに被着させた封止用のガラス部材を溶融一体化させ
ることによって内部に半導体素子を気密に封止している
(発明が解決しようとする課題) しかし乍ら、この従来のガラス封止型半導体素子収納用
パッケージは通常、外部リード端子がコハール(29 
WtX Ni−16 WtX Co−55 WtXFe
合金)や42A11oy(42 HtX Ni−58 
WtZ Fe合金)の導電性材料から戒っており、該コ
バールや42A11oy等は導電率が低いことから以下
に述べる欠点を有する。
即ち、 ■コバールや424 I toyはその導電率が3.0
〜3.5χ(IACS)と低い。そのためこのコバール
や42A l loy等から或る外部リード端子に信号
を伝搬させた場合、信号の伝搬速度が極めて遅いものと
なり、高速駆動を行う半導体素子はその収容が不可とな
ってしまう、 ■半導体素子収納用パッケージの内部に収容する半導体
素子の高密度化、高集積化の進展に伴い、半導体素子の
電極数が大幅に増大しており、半導体素子の各電極を外
部電気回路に接続する外部リード端子の線幅も極めて細
くなってきている。そのため外部リード端子は上記のに
記載のコバールや42A11oyの導電率が低いことと
相俊って電気抵抗が極めて大きなものになってきており
、外部リード端子に信号を伝搬させると、該外部リード
端子の電気抵抗に起因して信号が大きく減衰し、内部に
収容する半導体素子に信号を正確に人力することができ
ず、半導体素子に誤動作を生じさせてしまう、 等の欠点を有していた。
(発明の目的) 本発明は上記欠点に鑑み案出されたもので、その目的は
外部リード端子における信号の減衰を極小となし、内部
に収容する半導体素子への信号の入出力を確実に行うこ
とを可能として半導体素子を長期間にわたり正常、且つ
安定に作動させることができる半導体素子収納用パッケ
ージを提供することにある。
また本発明の他の目的は高速駆動を行う半導体素子を収
容することができる半導体素子収納用パッケージを提供
することにある。
(課題を解決するための手段) 本発明は内部に半導体素子を収容するための空所を有す
る絶縁容器に外部リード端子をガラス部材を介して取着
して或る半導体素子収納用パンケージにおいて、前記絶
縁容器を炭化珪素質焼結体で、外部リード端子を熱膨張
係数30乃至40X10−’7℃、導電率20χ(IA
CS)以上の金属で、ガラス部材を酸化亜鉛55.0乃
至65.OWt$ 、酸化ホウ素15.0乃至25.0
Wt% 、シリカl060乃至15.OWtχから成る
ガラスで形成したことを特徴とするものである。
(実施例) 次に本発明を添付図面に基づき詳細に説明する。
第1図及び第2図は本発明の半導体素子収納用パッケー
ジの一実施例を示し、1は絶縁基体、2は蓋体である。
この絶縁基体1と蓋体2とにより絶縁容器3が構威され
る。
前記絶縁基体1及び蓋体2はそれぞれの中央部に半導体
素子を収容する空所を形或するための凹部が設けてあ、
り、゛絶縁基体1の凹部底面には半導体素子4が樹脂、
ガラス、ロウ剤等の接着剤を介し取着固定される。
前記絶縁基体l及び蓋体2は炭化珪素質焼結体から戒り
、第1図に示すような絶縁基体1及び蓋体2に対応した
形状を有するプレス型内に、炭化珪素(SiC) 、ベ
リリア(Bed)等の原料籾末を充填させ、しかる後、
これに一定圧力を印加しながら約2000〜2200℃
の温度で加熱焼成することによって製作される。
尚、前記絶縁基体l及び蓋体2を形成する炭化珪素質焼
結体はその熱膨張係数が30乃至40X10−7/℃で
あり、後述する封止用ガラス部材の熱膨張係数との関係
において絶縁基体l及び蓋体2と封止用ガラス部材間に
大きな熱膨張の差が生じることはない。
また前記絶縁基体1及び蓋体2にはその相対向する主面
に封止用のガラス部材6が予め被着形成されており、該
絶縁基体1及び蓋体2の各々に被着されている封止用ガ
ラス部材6を加熱溶融させ一体化させることにより絶縁
容器3内の半導体素子4を気密に封止する。
前記絶縁基体1及び蓋体2の相対向する主面に被着され
る封止用ガラス部材6は、酸化亜鉛55.0乃至65.
0れχ、酸化ホウ素15.0乃至25.OWtZ 、シ
リカ10.0乃至15.OWtχより形成されるガラス
より或り、上記各威分を所定の値となるように秤量混合
すると共に、該混合粉末を1200〜1300℃の温度
で加熱溶融させることによって製作される。このガラス
部材6の熱膨張係数は30乃至50X10−’/ ’C
である. 前記封止用ガラス部材6は、その熱膨張係数が30乃至
50X10−’/ ’Cであり、絶縁基体l及び蓋体2
の各々の熱膨張係数と近似することから絶縁基体l及び
蓋体2の各々に被着されている封止用ガラス部材6を加
熱溶融させ一体化させることにより絶縁容器3内の半導
体素子4を気密に封止する際、絶縁基体l及び蓋体2と
封止用ガラス部材6との間には両者の熱膨張係数の相違
に起因する熱応力が発生することは殆どなく、絶縁基体
lと蓋体2とを封止用ガラス部材6を介し強固に接合す
ることが可能となる。
尚、前記封止用ガラス部材6は酸化亜鉛(ZnO)がs
s.owtχ未満であるとガラス化が困難となってガラ
ス部材6としての機能を喪失してしまい、また65.O
Wtχを越えるとガラスの結晶化が進んで絶縁容器3の
気密封止が困難となるため酸化亜鉛(ZnO)は55.
0乃至65.OWtχの範囲に限定される.また酸化ホ
ウ素(B*Os)が15.0Wt%未満であるとガラス
の結晶化が進んで絶縁容器3の気密封止が困難となり、
また25.0Wt%を越えるとガラスの耐薬品性が劣化
して絶縁容器3の気密封止の信頼性が大きく低下するた
め酸化ホウ素(BgOz)は15.0乃至25.0Wt
%の範囲に限定される。
またシリカ(Si(h)が10.0Wt1未満であると
ガラスの結晶化が進んで絶縁容器3の気密封止が困難と
なり、また15.0Wt%を越えると絶縁容器3に外部
リード端子5をガラス部材6を介して取着する際、ガラ
スの溶融温度が上がり、絶縁容器3内部に収容する半導
体素子に熱劣化を招来させることからシリカ(St(h
)は10.0乃至15.0Wt% (7)範囲に限定さ
れる。
前記封止用ガラス部材6は前述した戒分から成るガラス
に適当な有機溶剤、溶媒を添加して得たガラスペースト
を従来周知の厚膜手法を採用することによって絶縁基体
1及び蓋体2の相対向する主面に被着形成される。
前記絶縁基体1と蓋体2との間には導電性材料から或る
外部リード端子5が配されており、該外部リード端子5
は半導体素子4の各電極がワイヤ7を介し電気的に接続
され、外部リード端子5を外部電気回路に接続すること
によって半導体素子4が外部電気回路に接続されること
となる.前記外部リード端子5は絶縁基体1と蓋体2の
相対向する主面に被着させた封止用ガラス部材6を溶融
一体化させ、絶縁容器3を気密封止する際に同時に絶縁
基体lと蓋体2との間に取着される.前記外部リード端
子5はインバー合金(36.5WtXNi−63.5 
WtχFe合金)の上下面に非磁性体金属である銅(C
u)を接合させたもの等から威り、その導電率は20X
(IACS)以上、熱膨張係数は30乃至40XIO−
’/ ℃の導電性材料から或る。
前記外部リード端子5はその導電率が202 ( IA
CS)以上であり、電気を流し易いことから外部リード
端子5の信号伝搬速度を極めて速いものとなすことがで
き、絶縁容器3内に収容した半導体素子4を高速駆動さ
せたとしても半導体素子4と外部電気回路との間におけ
る信号の出し入れは常に安定、且つ確実となすことがで
きる。
また外部リード端子5の導電率が高いことから外部リー
ド端子5の線幅が細くなったとしても外部リード端子5
の電気抵抗を低く抑えることができ、その結果、外部リ
ード端子5における信号の減衰を極小として内部に収容
する半導体素子4に外部電気回路から供給される電気信
号を正確に人力することができる。
更に前記外部リード端子5はその熱膨張係数が30乃至
40X10−’/ ”Cであり、封止用ガラス部材6の
熱膨張係数と近似することから外部リード端子5を絶縁
基体1と蓋体2の間に封止用ガラス部材6を用いて固定
する際、外部リード端子5と封止用ガラス部材6との間
には両者の熱膨張係数の相違に起因5する熱応力が発生
することはなく、外部リード端子5を封止用ガラス部材
6で強固に固定することも可能となる。
かくして、この半導体素子収納用パッケージによれば絶
縁基体1の凹部底面に半導体素子4を取着固定するとと
もに該半導体素子4の各電極をボンディングワイヤ7に
より外部リード端子5に接続させ、しかる後、絶縁基体
1と蓋体2とを該絶縁基体工及び蓋体2の相対向する主
面に予め被着させておいた封止用ガラス部材6を溶融一
体化させることによって接合させ、これによって最終製
品としての半導体装置が完威する。
(発明の効果) 本発明の半導体素子収納用パッケージによれば、半導体
素子を収容するための絶縁容器を炭化珪素質焼結体で、
外部リード端子を導電率が20χ(IACS)以上、熱
膨張係数が30乃至40X10−?/ ’Cの金属で、
ガラス部材を酸化亜鉛55.0乃至65.0Wtχ、酸
化ホウ素15.0乃至25.0れχ、シリカ10.0乃
至15.0Wt%から戒るガラスで形成したことから外
部リード端子の信号伝搬速度を極めて速いものとなすこ
とができ、絶縁容器内に収容した半導体素子を高速駆動
させたとしても半導体素子と外部電気回路との間におけ
る信号の出し入れを常に安定、且つ確実となすことが可
能となる。
また外部リード端子の線幅が細くなったとしても外部リ
ード端子の電気抵抗を低く抑えることができ、その結果
、外部リード端子における信号の減衰を極小として内部
に収容する半導体素子に外部電気回路から供給される電
気信号を正確に人力することが可能となる。
更に、外部リード端子はその熱膨張係数が絶縁基体、蓋
体及び封止用ガラス部材の各々の熱膨張係数と近似し、
絶縁基体と蓋体との間に外部リード端子を挟み、各々を
封止用ガラス部材で取着接合したとしても絶縁基体及び
蓋体と封止用ガラス部材との間、外部リード端子と封止
用ガラス部材との間のいずれにも熱膨張係数の相違に起
因する熱応力は発生せず、すべてを強固に取着接合する
ことも可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の半導体素子収納用パッケージの一実施
例を示す断面図、第2図は第1図に示すパッケージの絶
縁基体上面より見た平面図である。 l・・絶縁基体  2 ・・蓋体 3・・絶縁容器  5 ・・外部リード端子6・・封止
用ガラス部材

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  内部に半導体素子を収容するための空所を有する絶縁
    容器に外部リード端子をガラス部材を介して取着して成
    る半導体素子収納用パッケージにおいて、前記絶縁容器
    を炭化珪素質焼結体で、外部リード端子を熱膨張係数3
    0乃至40×10^−^7/℃、導電率20%(IAC
    S)以上の金属で、ガラス部材を酸化亜鉛55.0乃至
    65.0Wt%、酸化ホウ素15.0乃至25.0Wt
    %、シリカ10.0乃至15.0Wt%から成るガラス
    で形成したことを特徴とする半導体素子収納用パッケー
    ジ。
JP1308604A 1989-08-25 1989-11-27 半導体素子収納用パッケージ Expired - Lifetime JP2736456B2 (ja)

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5851405A (ja) * 1981-09-12 1983-03-26 京セラ株式会社 電気絶縁性炭化珪素焼結体の製法
JPS6243155A (ja) * 1985-08-21 1987-02-25 Hitachi Ltd 集積回路パッケ−ジ
JPS6265954A (ja) * 1985-09-18 1987-03-25 Nippon Electric Glass Co Ltd アルミナ封着用硼珪酸ガラス

Patent Citations (3)

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