JPH03157892A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
- Publication number
- JPH03157892A JPH03157892A JP1298322A JP29832289A JPH03157892A JP H03157892 A JPH03157892 A JP H03157892A JP 1298322 A JP1298322 A JP 1298322A JP 29832289 A JP29832289 A JP 29832289A JP H03157892 A JPH03157892 A JP H03157892A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bit lines
- bit line
- transistor
- equalization
- transistors
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 5
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 17
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims description 12
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 241000555745 Sciuridae Species 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Dram (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
本発明は半導体記憶装置に関し、特に、メモリセルにキ
ャパシタを用いたダイナミック型RAM(DRAM)の
動作の高速化に関する。
ャパシタを用いたダイナミック型RAM(DRAM)の
動作の高速化に関する。
(ロ)従来の技術
近年、DRAMにおいて、高集積化及び大台1λ化が進
み、IMビットDRAM、4MビットDRAMのような
大容量メモリが実現されている。更に、アクセスタイム
の短縮化が図られ、センスアンプ等に改良が加えられて
いる。
み、IMビットDRAM、4MビットDRAMのような
大容量メモリが実現されている。更に、アクセスタイム
の短縮化が図られ、センスアンプ等に改良が加えられて
いる。
第2図は従来のDRAMの回路図であり、メモリセルM
Ci及びMCjが接続された一対の第1ピッ1−線BL
I及び*B L 1とセンスアンプSA及びリストア回
路R8が接続された一対の第2ビット線BL2及び*B
L 2との間に一対の分離l・ランジスタQ、及びQ
、が設げられ、更に、分離トランジスタQ、及びQ、と
反対側の第1ビット線BLI及び*B L 1の端部に
ビット線プリヂ〜−ジ用トランジスタQ4及びQ6とイ
′ニー1ライズ用1へシンジスタQ、が設けられている
。
Ci及びMCjが接続された一対の第1ピッ1−線BL
I及び*B L 1とセンスアンプSA及びリストア回
路R8が接続された一対の第2ビット線BL2及び*B
L 2との間に一対の分離l・ランジスタQ、及びQ
、が設げられ、更に、分離トランジスタQ、及びQ、と
反対側の第1ビット線BLI及び*B L 1の端部に
ビット線プリヂ〜−ジ用トランジスタQ4及びQ6とイ
′ニー1ライズ用1へシンジスタQ、が設けられている
。
第2図において、プリヂャージ期間は、制御信壮φ1が
電源電圧V ((以ト、即らvcc4−αの電圧とかっ
−〔おり、6)離トシンジスタQ、及びQ2がオンし、
第1ビット線BLI及び*BL1−と第2ピッl−線B
L2及び*B■、2が接続されでいる。
電源電圧V ((以ト、即らvcc4−αの電圧とかっ
−〔おり、6)離トシンジスタQ、及びQ2がオンし、
第1ビット線BLI及び*BL1−と第2ピッl−線B
L2及び*B■、2が接続されでいる。
唄に、制御信号φRQが電源市;圧V、、2Zなっ−(
イコライズトランジスクQ、とブリーフ′へ・−ジ用ト
ランジスタQ4及びQ6がオンt、−rl’、第1ビッ
ト線BL1及び*B L 1と第2ビット線BL2及び
*BI。
イコライズトランジスクQ、とブリーフ′へ・−ジ用ト
ランジスタQ4及びQ6がオンt、−rl’、第1ビッ
ト線BL1及び*B L 1と第2ビット線BL2及び
*BI。
2がV。/2にブリザヤージされ−〔いる。
次に、読み出し状態になると、イコライズ用トランジス
タQ、とブリヂA・−ジトランジスタQ4及びQ6が4
)となる。そし゛〔、選択されたワード線wLiの電圧
が上昇して、メモリセルMCiに蓄積された電荷が第1
ピッI−線B L 1.及び第2ビット線BL2に伝達
される。これにより、第1ビット線B L 1及び第2
ビット線BL2と第1ビット線*BL1及び第2ビット
・線*BL2の間1・、−電位差が生じる。そし5て丁
、制御信冒φ1を接地電位とすることζiY J:っで
分離j・シンジスクQ、及びQ、を才)17た後、制御
信号φ、によりセンスアンプSAを動作さ旦、[づンス
終了後制御信υφ、によりリス1−ア回路R8を動作さ
せると共に制御信号φ1をvcc(−αとし、−(]分
離トトランジスタQlびQ、をオンすることにより、メ
モリセルMCiへのリス1〜アが行われる。
タQ、とブリヂA・−ジトランジスタQ4及びQ6が4
)となる。そし゛〔、選択されたワード線wLiの電圧
が上昇して、メモリセルMCiに蓄積された電荷が第1
ピッI−線B L 1.及び第2ビット線BL2に伝達
される。これにより、第1ビット線B L 1及び第2
ビット線BL2と第1ビット線*BL1及び第2ビット
・線*BL2の間1・、−電位差が生じる。そし5て丁
、制御信冒φ1を接地電位とすることζiY J:っで
分離j・シンジスクQ、及びQ、を才)17た後、制御
信号φ、によりセンスアンプSAを動作さ旦、[づンス
終了後制御信υφ、によりリス1−ア回路R8を動作さ
せると共に制御信号φ1をvcc(−αとし、−(]分
離トトランジスタQlびQ、をオンすることにより、メ
モリセルMCiへのリス1〜アが行われる。
アクセスが終rするとセンスアンプSA及びリストア回
路R8の動作を停市し2、イコライズ用トランジスクQ
、とプリチX・−ジ用1へシンジスタQ4及びQ、をオ
ンすることにより、ピッ1へ線のブリヂ〜〜−ジ及びイ
コライズを行う。
路R8の動作を停市し2、イコライズ用トランジスクQ
、とプリチX・−ジ用1へシンジスタQ4及びQ、をオ
ンすることにより、ピッ1へ線のブリヂ〜〜−ジ及びイ
コライズを行う。
(ハ)発明が解決しようとする課題
しかしながら、第2図に示されたDRAMでは、アクセ
スタイムは短縮されるがブリヂA・−ジ期間が長くリー
ドサイクルタイムを短縮できなかった。すなわち、イコ
ライズ用トランジスタQ。
スタイムは短縮されるがブリヂA・−ジ期間が長くリー
ドサイクルタイムを短縮できなかった。すなわち、イコ
ライズ用トランジスタQ。
の設げられた第1ビット線B111及び*BT−1の端
部からみたインピーダンスは、第1ビット線BL1及び
*BL1の配線抵抗と分離1、ランジスタQ、及びQ、
のオン抵抗と第2ピッl−線BI、2及び*B L 2
の配線抵抗の和となり、極めて太きくなるため、ブリチ
〜−−−ジ期間に入ったとき、第2ビット線BL2及び
*BL2の末端までイコライズするのに時間がかかった
。
部からみたインピーダンスは、第1ビット線BL1及び
*BL1の配線抵抗と分離1、ランジスタQ、及びQ、
のオン抵抗と第2ピッl−線BI、2及び*B L 2
の配線抵抗の和となり、極めて太きくなるため、ブリチ
〜−−−ジ期間に入ったとき、第2ビット線BL2及び
*BL2の末端までイコライズするのに時間がかかった
。
(ニ)課題を解決4−るための手段
本発明は1.述した点に鑑み゛C創作されたものCあり
、複数のメモリセルが接続された一対の第1ピッl−線
と、センスアンプの接続された一対の第2し゛ツト線と
、前記第1ビット線と前記第2ビット線の間に設(」ら
れた一対の分離トランジスタとを備λた甲−導体記憶装
置において、前記第1ビット線の前記分離トランジスタ
側に前記一対の第1ビット線を短絡するイコライズトラ
ンジスタを設しJだものであり、これにJ:す、ブリヂ
、\・−ジ及びイ:−1クイズ時間を短縮し、″l′:
、導体記憶装置の高速化を図ったものである。
、複数のメモリセルが接続された一対の第1ピッl−線
と、センスアンプの接続された一対の第2し゛ツト線と
、前記第1ビット線と前記第2ビット線の間に設(」ら
れた一対の分離トランジスタとを備λた甲−導体記憶装
置において、前記第1ビット線の前記分離トランジスタ
側に前記一対の第1ビット線を短絡するイコライズトラ
ンジスタを設しJだものであり、これにJ:す、ブリヂ
、\・−ジ及びイ:−1クイズ時間を短縮し、″l′:
、導体記憶装置の高速化を図ったものである。
〈ホ)作用
上述の手段゛1こ」これば、イ′ニアライス用1〜ラン
ジスタからみたインピーダンスは、第1ビット線の配線
抵抗と分離トランジスタのオン抵抗及び第2ビット線の
配線抵抗に分割され、第1ビット線の末端、及び、第2
ピッl−線の末端」・でのインビダンスが低減される。
ジスタからみたインピーダンスは、第1ビット線の配線
抵抗と分離トランジスタのオン抵抗及び第2ビット線の
配線抵抗に分割され、第1ビット線の末端、及び、第2
ピッl−線の末端」・でのインビダンスが低減される。
これにより、イア1ライズ時間が短縮される。
(へ)実施例
第1図は本発明の実施例を示すDRA、Mの回路図−℃
おる。図において、BT、1、*BL1は第1ビット線
、BL2、*B L 2は第2ビット線、SA及びR8
は第2ビット線BL2及び*BL2に接続されたセンス
アンプ及びリストア回路、Q。
おる。図において、BT、1、*BL1は第1ビット線
、BL2、*B L 2は第2ビット線、SA及びR8
は第2ビット線BL2及び*BL2に接続されたセンス
アンプ及びリストア回路、Q。
及びQ、は第1ビット線BLI及び*B L 1と第2
ビット線B L 2及び*BI、2を接続するNチヘ・
ンネル型の分離トランジスタ、MCi及びMCjは第1
ビット線BLI及び*B L 1に接続されたメモリセ
ル、QsはNチャンネル型のイコライズ用トランジスタ
、Q4及びQ5はNチャンネル型のプリヂ〜−ジ用トラ
ンジスタである。
ビット線B L 2及び*BI、2を接続するNチヘ・
ンネル型の分離トランジスタ、MCi及びMCjは第1
ビット線BLI及び*B L 1に接続されたメモリセ
ル、QsはNチャンネル型のイコライズ用トランジスタ
、Q4及びQ5はNチャンネル型のプリヂ〜−ジ用トラ
ンジスタである。
図において、分離1〜ランジスタQ、及びQ、を制御す
る制御信号φ、は、メモリセルMCi及びMcjの読み
出し時及びセンスアンプSAのセンス動作時に、ブリチ
〜−−ジ電圧Vcc/2より分離1・ランジスクQ、及
びQ、のスレッシテ1ルド電圧Vt+Δv、(Δ■、は
バックゲ−1へバイアスにより上−臂、−4るスレッシ
3Iルド電圧分)た0高い電圧、即ちv r、 c、
/ 2 + V t+Δ■1かあるいはそれよりわずか
高い電圧になり、また、リストア回路R8の動作時及び
ブリデー\・−ジ期間に、完全な電圧、即ち電源電圧■
41.より分離l・ランジスタQ、及びQ、のス1ツシ
コルド電圧Vt十へ■、(AV、はこのときのバックゲ
ートバイアスにより1−昇するスレッショ1ルドie用
分)以I−9高い電圧、即ち、■Cc/2+Vt:4−
八V、以1−の電圧が印加される。通常、電源電圧vc
cを5.Ovとすると、メモリセルの読み出し時及びセ
ンス動作時に制御信号φ1は5.0■とするのが適当で
あり、このとき分離トランジスタQ、及びQ、は」ンす
るが抵抗成分を持、ったものとなる。この分離トランジ
スタQ、及びQ、の抵抗成分によりセ〉・スアツブSA
は、第1ビット線BLI及び*BL1の容量性負荷から
開放され高速−1・ンスが可能となる。、また、リス1
−ア及びブリデ\・−ジ時には、制御信号φ□は8.0
■程度とするのが適当であり、このとき分離トランジス
タQ1及びQ、は完全にオンし、低抵抗となる。これに
より、分離1−シンジスタQ、及びQ、はリス1ヘア及
びプリチャージの障害にならなくなる。
る制御信号φ、は、メモリセルMCi及びMcjの読み
出し時及びセンスアンプSAのセンス動作時に、ブリチ
〜−−ジ電圧Vcc/2より分離1・ランジスクQ、及
びQ、のスレッシテ1ルド電圧Vt+Δv、(Δ■、は
バックゲ−1へバイアスにより上−臂、−4るスレッシ
3Iルド電圧分)た0高い電圧、即ちv r、 c、
/ 2 + V t+Δ■1かあるいはそれよりわずか
高い電圧になり、また、リストア回路R8の動作時及び
ブリデー\・−ジ期間に、完全な電圧、即ち電源電圧■
41.より分離l・ランジスタQ、及びQ、のス1ツシ
コルド電圧Vt十へ■、(AV、はこのときのバックゲ
ートバイアスにより1−昇するスレッショ1ルドie用
分)以I−9高い電圧、即ち、■Cc/2+Vt:4−
八V、以1−の電圧が印加される。通常、電源電圧vc
cを5.Ovとすると、メモリセルの読み出し時及びセ
ンス動作時に制御信号φ1は5.0■とするのが適当で
あり、このとき分離トランジスタQ、及びQ、は」ンす
るが抵抗成分を持、ったものとなる。この分離トランジ
スタQ、及びQ、の抵抗成分によりセ〉・スアツブSA
は、第1ビット線BLI及び*BL1の容量性負荷から
開放され高速−1・ンスが可能となる。、また、リス1
−ア及びブリデ\・−ジ時には、制御信号φ□は8.0
■程度とするのが適当であり、このとき分離トランジス
タQ1及びQ、は完全にオンし、低抵抗となる。これに
より、分離1−シンジスタQ、及びQ、はリス1ヘア及
びプリチャージの障害にならなくなる。
イコライズ用トランジスタQ、は、第1ビット線BLI
及びmB L 1と分離トランジスタQ、及びQ、の接
続側に設()られ、第1ビット線B I、 1と本BL
Iを短絡してイコライズする。また、イコライズ用1ヘ
ランジスタQ、と並設してブリデ\・−ジ用トシンジス
タQ4及びQ6が設けられる。これらイコライズ用[・
ランジスタQ、とブリチ〜−−ジ用トランジスタQ4及
びQ6は制御信号φ1によって制御されるが、他の実施
例として、イー1シイズ用1−ランジスタQ、とブリヂ
〜−ジ用トランジスタQ4及びQ、を独立した制御信号
T制御することも考えられる。ここで、イコライズ用ト
シンジスタQ、からみだインピーダンスは、第1ビット
線BL1及び*BLJの配線抵抗及び容量二の部分と、
分離トランジスタQ、及びQ、のオン抵抗及び容量と第
2ピッ1−・線B L 2及び*BL2の配線抵抗及び
容(−1の和の部分に分割されることになる。従っ千、
イー1:/イズ用1〜′/ンジスタQ、を中心にして各
々第1ビット線BLIとmB L 1の末端間のインビ
ーニーダンスと第2ビット・線BL2と*BL2の末端
間のインピーダンスは、従来に比1.−[約半分となる
。そのために、すべてのビット線B L 1、mB L
1、B T−2、*BL2の末端の電圧が等しくなる
まで二の時間が短くなる。
及びmB L 1と分離トランジスタQ、及びQ、の接
続側に設()られ、第1ビット線B I、 1と本BL
Iを短絡してイコライズする。また、イコライズ用1ヘ
ランジスタQ、と並設してブリデ\・−ジ用トシンジス
タQ4及びQ6が設けられる。これらイコライズ用[・
ランジスタQ、とブリチ〜−−ジ用トランジスタQ4及
びQ6は制御信号φ1によって制御されるが、他の実施
例として、イー1シイズ用1−ランジスタQ、とブリヂ
〜−ジ用トランジスタQ4及びQ、を独立した制御信号
T制御することも考えられる。ここで、イコライズ用ト
シンジスタQ、からみだインピーダンスは、第1ビット
線BL1及び*BLJの配線抵抗及び容量二の部分と、
分離トランジスタQ、及びQ、のオン抵抗及び容量と第
2ピッ1−・線B L 2及び*BL2の配線抵抗及び
容(−1の和の部分に分割されることになる。従っ千、
イー1:/イズ用1〜′/ンジスタQ、を中心にして各
々第1ビット線BLIとmB L 1の末端間のインビ
ーニーダンスと第2ビット・線BL2と*BL2の末端
間のインピーダンスは、従来に比1.−[約半分となる
。そのために、すべてのビット線B L 1、mB L
1、B T−2、*BL2の末端の電圧が等しくなる
まで二の時間が短くなる。
また、プリチャージ用!・ランジスタQ4及びQ6も第
1ビット線BLI及びmB L 1の分離トランジスタ
Q、及びQ、側に設けられるため、制御信号φ、によっ
てプリチャージ用トランジスタQ、及びQ6がオン17
てから各ピッ1−線B L 1.、*BL1、BL2、
mB L 2の末端まて゛のプリチャージが極め[速く
行える。
1ビット線BLI及びmB L 1の分離トランジスタ
Q、及びQ、側に設けられるため、制御信号φ、によっ
てプリチャージ用トランジスタQ、及びQ6がオン17
てから各ピッ1−線B L 1.、*BL1、BL2、
mB L 2の末端まて゛のプリチャージが極め[速く
行える。
くト)発明の効果
一ト述の如く本発明によれば、プリチャージ期間に」づ
けるビット線のイコライズ用極めて高速に行え、史に、
プリチャージも高速になるため、リドザイクルタイムを
大幅に短縮4−ることかiT能となる。特に、大容量メ
モリにおい−しは、ビット線の長さが長く幅が狭まくな
るため本発明の効果は大となる。
けるビット線のイコライズ用極めて高速に行え、史に、
プリチャージも高速になるため、リドザイクルタイムを
大幅に短縮4−ることかiT能となる。特に、大容量メ
モリにおい−しは、ビット線の長さが長く幅が狭まくな
るため本発明の効果は大となる。
第1図は本発明の実施例を示す回路図、第2図は従来例
を示す回路図である。 BLI、*BIl・・・第1ビット線、 BL2 、
*BL2・・・第2ビット線、 SA・・・センスア
ンプ、R8・・・リストア回路、 MCi、MCj・・
・メモリセル、 Qt、Qt・・・分離1ヘシンジスタ
、Qs・・・イコライズ用l・ランジスタ、 Q4.Q
、・・・ブリチヘ・−ジ用トランジスタ。
を示す回路図である。 BLI、*BIl・・・第1ビット線、 BL2 、
*BL2・・・第2ビット線、 SA・・・センスア
ンプ、R8・・・リストア回路、 MCi、MCj・・
・メモリセル、 Qt、Qt・・・分離1ヘシンジスタ
、Qs・・・イコライズ用l・ランジスタ、 Q4.Q
、・・・ブリチヘ・−ジ用トランジスタ。
Claims (2)
- (1)複数のメモリセルが接続された一対の第1ビット
線と、 センスアンプの接続された一対の第2ビット線と、 前記第1ビット線と前記第2ビット線の間に設けられた
一対の分離トランジスタと、 を備えた半導体記憶装置において、 前記第1ビット線の前記分離トランジスタ側に前記一対
の第1ビット線を短絡するイコライズトランジスタを設
けたことを特徴とする半導体記憶装置。 - (2)前記イコライズトランジスタと並設されてプリチ
ャージトランジスタが設けられることを特徴とする請求
項第1項記載の半導体記憶装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1298322A JPH03157892A (ja) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1298322A JPH03157892A (ja) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03157892A true JPH03157892A (ja) | 1991-07-05 |
Family
ID=17858153
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1298322A Pending JPH03157892A (ja) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03157892A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61229299A (ja) * | 1984-07-26 | 1986-10-13 | テキサス インスツルメンツ インコ−ポレイテツド | 半導体メモリ装置 |
-
1989
- 1989-11-16 JP JP1298322A patent/JPH03157892A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61229299A (ja) * | 1984-07-26 | 1986-10-13 | テキサス インスツルメンツ インコ−ポレイテツド | 半導体メモリ装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5532955A (en) | Method of multilevel dram sense and restore | |
US4004284A (en) | Binary voltage-differential sensing circuits, and sense/refresh amplifier circuits for random-access memories | |
US4069475A (en) | MOS Dynamic random access memory having an improved sense and restore circuit | |
JPS6057159B2 (ja) | Mos半導体記憶器 | |
KR950000958B1 (ko) | 반도체 메모리 회로 | |
US6049493A (en) | Semiconductor memory device having a precharge device | |
JPS58122692A (ja) | 能動昇圧回路 | |
EP0048464A2 (en) | Semiconductor memory device | |
JP2781080B2 (ja) | ランダムアクセスメモリ | |
EP0464548B1 (en) | Semiconductor memory device | |
US4443868A (en) | Semiconductor memory device | |
US4858193A (en) | Preamplification method and apparatus for dram sense amplifiers | |
US5515315A (en) | Dynamic random access memory | |
JPS62134894A (ja) | 半導体記憶装置 | |
US7663952B2 (en) | Capacitor supported precharging of memory digit lines | |
JPS61158095A (ja) | ダイナミツク型メモリのビツト線プリチヤ−ジ回路 | |
US4736343A (en) | Dynamic RAM with active pull-up circuit | |
JP2814862B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPH03157892A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPH04353693A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPH029084A (ja) | ダイナミックram | |
JPS61273792A (ja) | 半導体メモリ | |
JP3646344B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPS59139196A (ja) | 半導体メモリ装置 | |
JPS63244397A (ja) | 半導体記憶装置 |