JPH03154691A - 高濃度オゾン水の製造方法及び装置 - Google Patents
高濃度オゾン水の製造方法及び装置Info
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- JPH03154691A JPH03154691A JP1293093A JP29309389A JPH03154691A JP H03154691 A JPH03154691 A JP H03154691A JP 1293093 A JP1293093 A JP 1293093A JP 29309389 A JP29309389 A JP 29309389A JP H03154691 A JPH03154691 A JP H03154691A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/78—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with ozone
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/78—Details relating to ozone treatment devices
- C02F2201/782—Ozone generators
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Water Supply & Treatment (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、オゾン含有ガスを効率良（水に溶解させて高
濃度オゾン水を製造する方法及び装置に関する。
濃度オゾン水を製造する方法及び装置に関する。
（従来技術とその問題点）
オゾンは強力でクリーンな酸化剤として注目されつつあ
り、特にその分解生成物が酸素であり従来から使用され
ている塩素系のものと比較して残留物が被処理物中に残
留しないこと、分解速度が速くオゾンがそれ自身残留せ
ず二次公害の問題も全くないこと等の理由から水処理用
としての使用が増加している。
り、特にその分解生成物が酸素であり従来から使用され
ている塩素系のものと比較して残留物が被処理物中に残
留しないこと、分解速度が速くオゾンがそれ自身残留せ
ず二次公害の問題も全くないこと等の理由から水処理用
としての使用が増加している。
このように酸化剤として有用なオゾンを発生させるため
に従来から主として放電法や電解法が採用されている。
に従来から主として放電法や電解法が採用されている。
この電解法や放電法により発生したオゾンを使用して水
処理等を行うには気液混合状態で得られるオゾン水をそ
のまま処理水と接触させたり、前記電解槽の陽極室に被
処理水を直接送り込んでオゾンと接触させたりしている
が、前者ではオゾンが気泡状で存在するため被処理水と
の接触効率が悪くかつ電解槽で生ずるオゾン水に電極物
質等が混入し該物質が被処理水を汚染することがあり、
又後者の場合にも被処理水中の不純物により電極等が汚
染されるといった問題点がある。従って多くの場合、気
液混合状態で電解槽の陽極室で生成するガス状のオゾン
を一旦例えばフィルターを通して混合槽に供給し該フィ
ルターで不純物を除去するとともに該フィルターで前記
気液混合状態のオゾンを前記混合槽中に分散させてオゾ
ンをほぼ完全に混合槽の水に溶解させガス状のオゾンを
含まない均一濃度のオゾン水を生成するようにしている
。
処理等を行うには気液混合状態で得られるオゾン水をそ
のまま処理水と接触させたり、前記電解槽の陽極室に被
処理水を直接送り込んでオゾンと接触させたりしている
が、前者ではオゾンが気泡状で存在するため被処理水と
の接触効率が悪くかつ電解槽で生ずるオゾン水に電極物
質等が混入し該物質が被処理水を汚染することがあり、
又後者の場合にも被処理水中の不純物により電極等が汚
染されるといった問題点がある。従って多くの場合、気
液混合状態で電解槽の陽極室で生成するガス状のオゾン
を一旦例えばフィルターを通して混合槽に供給し該フィ
ルターで不純物を除去するとともに該フィルターで前記
気液混合状態のオゾンを前記混合槽中に分散させてオゾ
ンをほぼ完全に混合槽の水に溶解させガス状のオゾンを
含まない均一濃度のオゾン水を生成するようにしている
。
従来のフィルターとしては耐蝕性材料で形成されダフシ
リング等の多数の充填材が使用されている。前記オゾン
水は高濃度であるほど被処理水の処理効率が上昇しかつ
電解で生成するオゾンを有効に利用できるため好ましい
が、オゾンガス自体の水に対する溶解度が小さく、従来
のダフシリング等ではオゾン分散が十分に生ずるとは言
い難い。
リング等の多数の充填材が使用されている。前記オゾン
水は高濃度であるほど被処理水の処理効率が上昇しかつ
電解で生成するオゾンを有効に利用できるため好ましい
が、オゾンガス自体の水に対する溶解度が小さく、従来
のダフシリング等ではオゾン分散が十分に生ずるとは言
い難い。
電解や放電により生成するオゾンを有効利用するため及
び被処理水を短時間で処理するためにもより高濃度のオ
ゾン水を製造することが好ましく、高濃度オゾン水を容
易に製造できる方法が要請されている。
び被処理水を短時間で処理するためにもより高濃度のオ
ゾン水を製造することが好ましく、高濃度オゾン水を容
易に製造できる方法が要請されている。
（発明の目的）
本発明は、上述した高濃度オゾンを製造し難く電解法や
放電法により生成したオゾンが無駄になりかつオゾン処
理の効率を上昇させ得ないという従来技術の欠点に鑑み
、容易に高濃度オゾン水を得ることのできる方法及び装
置を提供することを目的とする。
放電法により生成したオゾンが無駄になりかつオゾン処
理の効率を上昇させ得ないという従来技術の欠点に鑑み
、容易に高濃度オゾン水を得ることのできる方法及び装
置を提供することを目的とする。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、第１に水の微粒子にオゾン含有ガスを接触さ
せて該オゾン含有ガス中のオゾンを前記水の微粒子に溶
解させて高濃度オゾン水を製造する方法であり、第２に
オゾン含有ガスを水に溶解してオゾン水を製造する溶解
槽を有する高濃度オゾン水製造装置において、該溶解槽
が水を噴射して水の微粒子を形成するためのスプレィ部
、オゾン含有ガスを供給するための供給口、及び生成す
るオゾン水を取り出すための取出口を有することを特徴
とする高濃度オゾン水製造装置である。
せて該オゾン含有ガス中のオゾンを前記水の微粒子に溶
解させて高濃度オゾン水を製造する方法であり、第２に
オゾン含有ガスを水に溶解してオゾン水を製造する溶解
槽を有する高濃度オゾン水製造装置において、該溶解槽
が水を噴射して水の微粒子を形成するためのスプレィ部
、オゾン含有ガスを供給するための供給口、及び生成す
るオゾン水を取り出すための取出口を有することを特徴
とする高濃度オゾン水製造装置である。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明は、電解法や放電法等の各種方法で得られるオゾ
ンをオゾン含有ガス単独としであるいは気液混合状態の
オゾン含有ガスとして、水の微粒子と接触させて該微粒
子中に溶解させて高濃度オゾン水を製造することを特徴
とする。
ンをオゾン含有ガス単独としであるいは気液混合状態の
オゾン含有ガスとして、水の微粒子と接触させて該微粒
子中に溶解させて高濃度オゾン水を製造することを特徴
とする。
比較的水に溶は難いオゾンを水に溶解して高濃度オゾン
水を製造するためには、前記オゾン含有ガスを大きな接
触面積でオゾンが溶解すべき水に接触させる必要があり
、この接触面積が大きいほどより高濃度のオゾン水を製
造することができる。
水を製造するためには、前記オゾン含有ガスを大きな接
触面積でオゾンが溶解すべき水に接触させる必要があり
、この接触面積が大きいほどより高濃度のオゾン水を製
造することができる。
本発明では水の微粒子を形成する方法は特に限定されな
いが、水をスリットを通して噴射することが好ましい。
いが、水をスリットを通して噴射することが好ましい。
本発明装置では、この水微粒子へのオゾンの溶解は溶解
槽内で行う。この溶解槽は、水を噴射して水微粒子を形
成するスプレィ部、該混合槽にオゾン含有ガスを供給し
て前記水微粒子と接触させるための供給口及び生成する
高濃度オゾン水を槽外に取り出すための取出口を有して
いる。
槽内で行う。この溶解槽は、水を噴射して水微粒子を形
成するスプレィ部、該混合槽にオゾン含有ガスを供給し
て前記水微粒子と接触させるための供給口及び生成する
高濃度オゾン水を槽外に取り出すための取出口を有して
いる。
この溶解槽を使用して高濃度オゾン水を製造するには、
好ましくは槽内の気体をオゾン含有ガスで置換した後、
徐々にオゾン含有ガスを供給しながらオゾンを溶解すべ
き水好ましくは純水を、前記溶解槽内に噴射しながら微
粒子として供給し、表面積の大きい該微粒子を溶解槽内
に存在するオゾン含有ガスと接触させてオゾンを溶解さ
せる。
好ましくは槽内の気体をオゾン含有ガスで置換した後、
徐々にオゾン含有ガスを供給しながらオゾンを溶解すべ
き水好ましくは純水を、前記溶解槽内に噴射しながら微
粒子として供給し、表面積の大きい該微粒子を溶解槽内
に存在するオゾン含有ガスと接触させてオゾンを溶解さ
せる。
オゾンが溶解した水の微粒子は溶解槽の下部に向かって
下降し高濃度オゾン水として貯溜される。
下降し高濃度オゾン水として貯溜される。
この高濃度オゾン水は適宜前記取出口から槽外に取り出
されて、所定の用途に使用される。なおこの操作によっ
てもなお濃度が十分にならない場合はこのオゾン水を再
度溶解槽内に噴射して前記オゾン含有ガスと接触させて
濃度を上昇させることができる。
されて、所定の用途に使用される。なおこの操作によっ
てもなお濃度が十分にならない場合はこのオゾン水を再
度溶解槽内に噴射して前記オゾン含有ガスと接触させて
濃度を上昇させることができる。
この場合の水とオゾン含有ガスの供給速度は必要な濃度
のオゾン水が得られるように適宜設定すればよいが、該
速度の設定に際しては溶解槽内のオゾン含有ガスは有効
に使用するため槽外に取り出さず全てが水への溶解に使
用するようにするのが好ましく、かつ溶解槽内に供給さ
れる水は全て所定濃度のオゾン水として取り出されるこ
とを考慮する必要がある。換言すると、本発明では溶解
槽に供給されるオゾン含有ガスを全てオゾン水製造に有
効に使用することができ、排オゾン含有ガスを槽外に取
り出し処理する必要がなくなり、単に高濃度オゾン水が
得られるだけでなく付随する操作上の利点も得ることが
できる。
のオゾン水が得られるように適宜設定すればよいが、該
速度の設定に際しては溶解槽内のオゾン含有ガスは有効
に使用するため槽外に取り出さず全てが水への溶解に使
用するようにするのが好ましく、かつ溶解槽内に供給さ
れる水は全て所定濃度のオゾン水として取り出されるこ
とを考慮する必要がある。換言すると、本発明では溶解
槽に供給されるオゾン含有ガスを全てオゾン水製造に有
効に使用することができ、排オゾン含有ガスを槽外に取
り出し処理する必要がなくなり、単に高濃度オゾン水が
得られるだけでなく付随する操作上の利点も得ることが
できる。
（実施例）
以下添付図面に示す本発明装置の一実施例に基づいて本
発明による高濃度オゾン水の製造につき説明するが、該
実施例は本発明を限定するものではない。
発明による高濃度オゾン水の製造につき説明するが、該
実施例は本発明を限定するものではない。
大施炭
添付図面に示す高濃度オゾン水製造装置を使用して次の
条件でオゾン水を製造した。
条件でオゾン水を製造した。
電解有効面積９０−の電解槽（図示略）に、陽極面に二
酸化鉛粉末を、陰極何に白金粉末を付着させた固体電解
質であるナフィオン（商品名）製隔膜を装着してＳＰＥ
型電解槽とし、該電解槽内には純水１１を満たした。該
電解槽に１００Ａ／ｄｍ”の電流密度となるように通電
することにより、オゾンを１５重量％含有するオゾンと
酸素の混合ガスが、２７ｇ／時（３０°Ｃで約２０１／
時）の割合（オゾンは４ｇ／時）で得られた。
酸化鉛粉末を、陰極何に白金粉末を付着させた固体電解
質であるナフィオン（商品名）製隔膜を装着してＳＰＥ
型電解槽とし、該電解槽内には純水１１を満たした。該
電解槽に１００Ａ／ｄｍ”の電流密度となるように通電
することにより、オゾンを１５重量％含有するオゾンと
酸素の混合ガスが、２７ｇ／時（３０°Ｃで約２０１／
時）の割合（オゾンは４ｇ／時）で得られた。
前記混合ガスは気液分離した後、縦１０ｃｍ、横１０ａ
ｍ、高さ４０ＣＩ１１（容Ｍ４１）の溶解槽１にそのオ
ゾン含有ガス供給口２から供給し、該溶解槽１内の気体
を完全にオゾン含有ガスと置換した。その後オゾンを溶
解する純水を前記溶解槽ｌの上部から２個のスプレィ部
３の多数のスリット４を通して０．１１７分の速度で供
給し噴射して微粒子５とし、かつ排気弁９を調節するこ
とによりオゾン含有ガスを溶解槽内のガス圧が一定にな
るように供給した。１０分後に溶解槽１の取出口６のバ
ルブ７を開いて該溶解槽１の底板上に貯溜されたオゾン
水８を取り出してその濃度を測定したところ、約２５ｐ
ｐｍであった。
ｍ、高さ４０ＣＩ１１（容Ｍ４１）の溶解槽１にそのオ
ゾン含有ガス供給口２から供給し、該溶解槽１内の気体
を完全にオゾン含有ガスと置換した。その後オゾンを溶
解する純水を前記溶解槽ｌの上部から２個のスプレィ部
３の多数のスリット４を通して０．１１７分の速度で供
給し噴射して微粒子５とし、かつ排気弁９を調節するこ
とによりオゾン含有ガスを溶解槽内のガス圧が一定にな
るように供給した。１０分後に溶解槽１の取出口６のバ
ルブ７を開いて該溶解槽１の底板上に貯溜されたオゾン
水８を取り出してその濃度を測定したところ、約２５ｐ
ｐｍであった。
このオゾン水を再度前記スプレィ部３から溶解槽ｌ内に
供給してオゾン含有ガスと接触させ、槽外に取り出して
その濃度を測定したところ約３５ｐｐｍであった。
供給してオゾン含有ガスと接触させ、槽外に取り出して
その濃度を測定したところ約３５ｐｐｍであった。
且較■
実施例の溶解槽に１１の純水を入れ、実施例で使用した
オゾン含有ガスを約２０１／時の割合で内径１ｃＩ１１
の管を通して前記純水にバブリングし１０分経過後に前
記純水中のオゾン濃度を測定したところ５ｐｐｍであっ
た。
オゾン含有ガスを約２０１／時の割合で内径１ｃＩ１１
の管を通して前記純水にバブリングし１０分経過後に前
記純水中のオゾン濃度を測定したところ５ｐｐｍであっ
た。
（発明の効果）
本発明方法は、水の微粒子にオゾン含有ガスを接触させ
て該オゾン含有ガス中のオゾンを前記水の微粒子に溶解
させて高濃度オゾン水を製造する方法であり、大きな表
面積を有する水の微粒子にオゾン含有ガスが接触するこ
とにより、例えば水の中にオゾン含有ガスをバブリング
させてオゾンを溶解させる従来法と比較して、より高濃
度のオゾン水を製造することができる。
て該オゾン含有ガス中のオゾンを前記水の微粒子に溶解
させて高濃度オゾン水を製造する方法であり、大きな表
面積を有する水の微粒子にオゾン含有ガスが接触するこ
とにより、例えば水の中にオゾン含有ガスをバブリング
させてオゾンを溶解させる従来法と比較して、より高濃
度のオゾン水を製造することができる。
又本発明装置は、水を噴射して水の微粒子を形成するた
めのスプレィ部、オゾン含有ガスを供給するための供給
口、及び生成するオゾン水を取り出すための取出口を有
する溶解槽を使用して高濃度オゾン水を製造する装置で
ある。この装置でも大きな表面積を有する水の微粒子に
オゾン含有ガスが接触して高濃度のオゾン水を製造する
ことができる。更に溶解槽内に供給されたオゾン含有ガ
スは槽外に取り出すことなく４１１続してオゾン水製造
に使用できるため、電解法や放電法により製造されるオ
ゾン含有ガスの無駄がなくなり、かつ取り出したオゾン
含有ガスの処理が不要になるため、安価に高濃度オゾン
水を製造することが可能になる。
めのスプレィ部、オゾン含有ガスを供給するための供給
口、及び生成するオゾン水を取り出すための取出口を有
する溶解槽を使用して高濃度オゾン水を製造する装置で
ある。この装置でも大きな表面積を有する水の微粒子に
オゾン含有ガスが接触して高濃度のオゾン水を製造する
ことができる。更に溶解槽内に供給されたオゾン含有ガ
スは槽外に取り出すことなく４１１続してオゾン水製造
に使用できるため、電解法や放電法により製造されるオ
ゾン含有ガスの無駄がなくなり、かつ取り出したオゾン
含有ガスの処理が不要になるため、安価に高濃度オゾン
水を製造することが可能になる。
添付図面は、本発明装置に係わる高濃度オゾン水製造装
置の一実施例を示す概略縦断面図である。 ・溶解槽 ２・・・供給口 ・スプレィ部 ４・・・スリット ・微粒子 ６・・・取出口 ・バルブ ８・・・オゾン水 ・排気弁
置の一実施例を示す概略縦断面図である。 ・溶解槽 ２・・・供給口 ・スプレィ部 ４・・・スリット ・微粒子 ６・・・取出口 ・バルブ ８・・・オゾン水 ・排気弁
Claims (2)
- （１）水の微粒子にオゾン含有ガスを接触させて該オゾ
ン含有ガス中のオゾンを前記水の微粒子に溶解させて高
濃度オゾン水を製造する方法。 - （２）オゾン含有ガスを水に溶解してオゾン水を製造す
る溶解槽を有する高濃度オゾン水製造装置において、該
溶解槽が、水を噴射して水の微粒子を形成するためのス
プレイ部、オゾン含有ガスを供給するための供給口、及
び生成するオゾン水を取り出すための取出口を有するこ
とを特徴とする高濃度オゾン水製造装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1293093A JPH03154691A (ja) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | 高濃度オゾン水の製造方法及び装置 |
| US07/610,663 US5246556A (en) | 1989-11-10 | 1990-11-08 | Process and apparatus for producing high concentrating ozone water |
| EP90830513A EP0430904B1 (en) | 1989-11-10 | 1990-11-09 | Process for treating waste water with high concentration ozone water |
| DE69006462T DE69006462T2 (de) | 1989-11-10 | 1990-11-09 | Verfahren zur Abwasserbehandlung mit hochkonzentriertem Ozonwasser. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1293093A JPH03154691A (ja) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | 高濃度オゾン水の製造方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03154691A true JPH03154691A (ja) | 1991-07-02 |
Family
ID=17790339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1293093A Pending JPH03154691A (ja) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | 高濃度オゾン水の製造方法及び装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5246556A (ja) |
| EP (1) | EP0430904B1 (ja) |
| JP (1) | JPH03154691A (ja) |
| DE (1) | DE69006462T2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009501621A (ja) * | 2005-07-21 | 2009-01-22 | 煙台聯鋭環保科技有限公司 | 噴霧化保存式オゾン水生成装置 |
| JP2010253373A (ja) * | 2009-04-23 | 2010-11-11 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 気体溶解装置 |
| CN111593365A (zh) * | 2020-05-13 | 2020-08-28 | 宁波宜美日光精密制造有限公司 | 一种水电解装置和臭氧水喷雾器 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5971368A (en) * | 1997-10-29 | 1999-10-26 | Fsi International, Inc. | System to increase the quantity of dissolved gas in a liquid and to maintain the increased quantity of dissolved gas in the liquid until utilized |
| US6235641B1 (en) | 1998-10-30 | 2001-05-22 | Fsi International Inc. | Method and system to control the concentration of dissolved gas in a liquid |
| US6406551B1 (en) | 1999-05-14 | 2002-06-18 | Fsi International, Inc. | Method for treating a substrate with heat sensitive agents |
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