JPH03153666A - Ｎ―（２―ヒドロキシエチル）―２―ヒドロキシメチル―３，４，５―トリヒドロキシピペリジンとその中間体の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、−性成（Ｉ） のＮ−（２−とドロキシエチル）−２−ヒドロキシメチ
ル−３，４，５−トリヒドロキシピペリジンの製造法、
及び−性成（ｎ）及び（Ｉ［［）る。これらの化合物は
従って多数の代謝過程に影響する有用な薬剤である。

特に、式（１）の化合物の好適な立体異性体形を記述す
る式（ＩＶ）の化合物は糖尿病に対する試剤として使用
しうる（ヨーロッパ特許第９４７Ａ１号）。

Ｏ 式（Ｉ）の化合物の公知の合成法は、２−ヒドロキシメ
チル−３，４，５−１リヒドロキシビペリジン（Ｖ） の中間体の合成法に関する。

式（１）の化合物は特にジサッカリダーゼに対する非常
に良好なσ−グリコシダーゼ禁止剤であを出発物質とし
、この式（Ｖ）の化合物を水素供与体還元剤の存在下に
グリコールアルデヒドと反応させる。

式（Ｉ）の化合物は、式（Ｖ）の化合物を公知の方法で
エチレンオキシドと反応させる時に得られることも公知
である（独国公開特許第３．０２４．９０１Ａ１号）。

同様に式（Ｉ）の化合物の製造に至る他のすべての公知
の方法は、ヨーロッパ特許Ｍ第９４７ＡＩ号及び独国公
開特許第３．０２４．９０１Ａ１号及び第３，６１１．
８４１Ａ号に引用されている。

気体の発ガン性原料、高価で入手しにくい出発成分及び
長い反応時間の使用は、過去に記述された方法の多くの
欠点の例として言及しうる。

これらの欠点は本発明による式ＣＩ）の化合物の製造法
によって回避することができる。

それ故に本発明は、式（Ｖ）の化合物を、適当な溶媒又
は溶媒混合物中適当な反応条件下にグリオキサール（Ｖ
Ｉ）と反応させて付加生成物（ＩＩ）を製造し、 （Ｖ）　　　　　　　　　（Ｖｒ） （ＩＩ） 次いでこれを還元条件下適当なｐＨ値及び温度において
水素供与体還元剤で還元して中間体（ＩＩＩ）を得、続
いて適当なｐＨ値及び温度で水素供与体還元剤との反応
により目的の分子（Ｉ）に転化する、 （ＩＩＩ） （Ｉ） ことを含んでなる一般式 のＮ−（２−とドロキシエチル）−２−ヒドロキシメチ
ル−３，４，５−トリヒドロキシピペリジンの新規で化
学的に独特な製造法に関する。

適当な処理後、化合物（Ｉ）は適当な溶媒又は溶媒混合
物からの再結晶によって得られる。

本方法は、更なる合成のための出発物質として再び用い
られる各反応中間体、即ち付加生成物（ＩＩ）及び合成
中間体（Ｉ［Ｉ）を単離することが、反応を適当に行な
い且つ適当な処理条件下に可能であるということも特徴
である。

両Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−アルキルグリシ
ンが得られ［シンセシス（Ｓ　ｙｎｔｈｅｓｉｓ）、１
９８７．９２７］、またＮ、Ｎ’　−ジアルキル−３，
３’−ジオキサシリジン、Ｎ−アルキル−２−オキソモ
ルフォリン、Ｎ−アルキル−２，３−エポキシモルフォ
リン及びＮ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−アルキル
グリシンの生成物混合物がＮ−アルキルアミノエタノー
ルのグリオキサールとの反応中に生成する［プル・ツク
・キム・フル（Ｂ　ｕｌｌ、　Ｓ　ｏｃ、　Ｃｈｉｍ、
　Ｓ　ｏｃ、）、１９８７■、８３］ということは既に
議論されている。更に環式２級アミンがグリオキサール
と反応してｌ。

１．２．２−テトラアミノエタンを生成することも開示
されている。グリシンアミドの生成も記述されている［
Ｊ、ヘテロサイクル・ケム（）ｉ　ｅｔａ−「ｏｃｙｃ
ｌ、　Ｃｈｅｍ、　７．１１５３　（１９７０）］。

それ故に、本発明による２−ヒドロキシメチル−３，４
，５−トリヒドロキシピペリジン（Ｖ）のグリオキサー
ルとの反応により、式（Ｉ［）の付加生成物を高純度反
応生成物として単離することを可能にする反応条件が発
見されたということば特に驚くべきことと見做される。

その理由は、従来法に基づいて、Ｎ−アルキル−グリシ
ン及びテトラアミノエタン誘導体のほかに、ジオキサシ
リジン化合物も生成すると予想されるからである。

更に式（ＤＩ）の合成中間体が、式１）の化合物の水素
供与体還元剤との反応において、適当な処理後に高収率
で得られるということが発見された。

また式（ＩＩＩ）の中間体を式（１）の、適当な処理後
に結晶形で得られる最終生成物に高収率及び純度で転化
しうる反応条件も発見された。

式（Ｖ）の化合物を１５〜３５°Ｃの温度でグリオキサ
ールと反応させ、次いでｐＨ４，５〜８゜５及び温度５
〜８０°Ｃにおいて水素供与体還元剤で還元し、ｐＨを
８．５〜１４に調節し、そして再び反応を温度３０〜１
００°Ｃ下に水素供与体還元剤を用いて行う場合に、Ｎ
−（２−ヒドロキシエチル）−２−ヒドロキシメチル−
３，４，５−トリヒドロキシピペリジンぐＩ）が得られ
るということは本発明による反応の並でない特徴として
言及しうる。

斯くして２−ヒドロキシメチル−３，４，５−トリヒド
ロキシピペリジン（Ｖ）のＮ−ヒドロキシエチル化に対
するこの新規な方法は多くの利点を有する。容易に入手
できる経済的な原料を用いることのほか、取り扱いの難
しい反応性の気体及び発ガン性原料の使用が回避される
。従ってＮ−（２−ヒドロキシエチル）−３−ヒドロキ
シメチル−３，４，５−トリヒドロキシピペリジンＣＩ
）は実質的により経済的で安全な方法で製造することが
できる。

例えば本発明の方法に従い、デソキシマンノジリマイシ
ン及びグリオキサール（３０％溶液）を、溶媒の水と共
に出発物質として用いる場合、反応過程は次の方程式で
記すことができる：（■）　　　　　　　　（■） 水素化ホウ素ナトリウムと反応させる場合、反応の過程
は下式で表わされる。

０ （■） 式（■）の付加生成物に、水素化ホウ素ナトリウムを水
性媒体中調節されたｐＨ下に水素供与体還元剤として添
加する場合、次の方程式で反応が進行する。

０ （■） ０ （ｆｆ） 還元生成物（ｎ）を更に塩基性−水性媒体中で０ （ｒｌ） Ｏ ＜Ｘ＞ 反応生成物１．５−ジデソキシ−１，５−［（２−ヒド
ロキシエチル）−イミノ］−Ｄ−マンニトール（Ｘ）は
、酸性イオン交換体への吸着及び水性アンモニア溶液で
の流出、及び生成物含有溶液の濃縮後のアルコール／水
からの結晶化によって得られる。

反応生成物の適当な単離後に、個々の化学的工程を別々
に行なうかどうか、或いは目的の分子を一反応器法に従
い、−速の反応後にはじめて単離するかどうかは反応過
程にとって本質的なことではない。

好適な変化は、処理と関連した収量の低下が起こらない
から一反応器法である。

出発物質として使用される一般式（Ｖ）のアミノ糖は公
知の方法で得られる［独国特許第３．６１１．８４１Ａ
Ｉ号、アンゲブ”　”　ム（Ａ　ｎｇｅｖ。

ＣｈｅＩＩ＋、）ｌ　００．７３７　（１９８８）、カ
ーボハイドル・リス（Ｃａｒｂｏｈｙｄｒｏ、　Ｒｅｓ
、）　１６７．３０５　（１９８７）］　。

他の原料として用いられるグリオキサールはすべての市
販品の形で使用することができる。水性溶液及び固体グ
リオキサール（３量体）は好適である。３０％及び４０
％水溶液は特に好適である。

−性成（ｎ）の付加生成物の好適な製造法は、反応条件
、特に温度の選択によって影響されることがある。高純
度の反応生成物（ＩＩ）を高収率で得るためには、＋５
〜＋５０℃、好ましくは＋１５〜＋３５℃の間隔が維持
されるように反応温度を選択しなければならないことが
明らかになった。

この目的に対しては、グリオキサールを溶液又は固体と
して、随時水で希釈し或いは懸濁液として、好ましくは
３０％又は４０％水溶液として、−性成（Ｖ）の２−ヒ
ドロキシメチル−３，４，５−トリヒドロキシピペリジ
ンの水又は水／アルコール混合物中溶液に随時撹拌しな
がら添加する方法が使用できる。この場合アルコールと
しては、炭素数１〜４のもの、好ましくはメタノール又
はエタノール、或いはエーテルアルコール例エバメチル
グリコール又はエチルグリコールが使用される。

この場合の反応温度は上述の温度に相当すべきである。

この反応を行なう場合、関係する物質の割合は広く変化
させうる。一般に式ＣＩ＋）の化合物１モルを製造する
ために、式（Ｖ）の化合物は１〜３モノ呟好ましくは１
〜２モル、特に好ましくは１〜１．５モルのグリオキサ
ールと反応せしめられうる。−性成（Ｉ［）の化合物は
凍結乾燥或いは他の従来法による溶媒の除去法によって
高純度の形で得ることができる。

付加化合物（ｎ）は単に水素供与体還元剤との反応によ
り一般式（ＩＩ［）の化合物に転化しうる。

一方この場合、反応は適当な触媒での接触水素化により
行なうこともできる。この時導入される付加化合物（Ｉ
［）を水又は水／アルコール混合物に溶解し、或いは上
述した工程から直接得られる溶液を用いることができる
。水素化は金属又は貴金属触媒上で行なわれ、触媒濃度
は０．５〜２０モル％、好ましくは０．５〜ｌＯモル％
である。水素及び反応温度は接触水素化において広い範
囲内で変えることができる。従って反応温度１０−１０
０℃及び水素圧１０〜２００バールが選択できる。温度
４０〜７０℃及び水素圧３０〜８０／＜−ルは好適であ
る。

一方この反応は好適な工程変化でもある錯体の水素化ホ
ウ素塩を用いて行なうことができる。

この方法の変化において、付加化合物（［）の同一の水
性又は水性−アルコール溶液は先の変化に記述したよう
に用いることができる。高し１収率及び特に純粋な化合
物を得るためには、錯体水素化ホウ素塩を用いる場合、
反応をｐＨ４，５〜８゜５、有利にはｐＨ５，５〜７．
５内でだけ行なうことが必要である。この目的のｔ；め
には、適当な錯体水素化ホウ素塩の溶液又は懸濁液を、
付加化合物（ＩＩ）の水性又は水性−アルコール性溶液
に添加する。所望のｐＨの確立は、随時冷却しながら酸
を同調的に添加することによって行なう。このｐＨの測
定はガラス電極を用いて行なうことができる。適当な酸
は例えば鉱酸好ましくは塩酸及び硫酸である。酸は好ま
しくは希水性又は水性アルコール性溶液として使用され
、塩酸の場合には５〜３５重量％、また硫酸の場合には
５〜９０重量％の濃度が可能である。

好適に使用される錯体水素化ホウ素塩はジアルキルアミ
ノポラン、水素化ホウ素アルカリ金属塩及び水素化シア
ノホウ素ナトリウムである。水素化ホウ素ナトリウムＮ
　ａ　Ｂ　Ｈａ及びジメチルアミノボランＢ　Ｈ３Ｎ　
（ＣＨ３）　！は特に好適である。

それらは一部ずつ又は連続的に懸濁液として或いは水性
又は水性−アルコール性溶液の形で添加しうる。付加生
成物（ＩＩ）の還元剤に対するモル比は、約１：０．４
〜１．５、好ましくは１：０゜６〜１．０であるべきで
ある。還元は１０〜８０℃の温度で行なうことができる
が、２０〜４０℃の温度が好適である。

反応の完結後、過剰量の還元剤は酸又は反応性ケトンの
添加によって分解せしめられる。

−性成（ＤＩ）の反応生成物を単離し且つ精製するため
に、方法の変化に依存して、それは濃バッチ溶液から直
接結晶化でき、又は適当なイオン交換体又はシリカゲル
でのクロマトグラフィーに供することができ、或いはさ
もなければ生成物を酸性のイオン交換体に吸着させ、随
時希アンモニア又はアミン溶液で流出させ、そして残渣
を適当な溶媒から再結晶することができる。

式（ＩＩＩ）の化合物と同様に、式（Ｉ）の目的の分子
は水素供与体還元剤での還元によって製造できる。この
目的のために、化合物（Ｉ［Ｉ）の水性又は水性−アル
コール性溶液が使用され、また上述の還元から得られる
溶液も使用できる。

十分な反応速度を達成するために、反応中のｐＨの選択
は重要である。ｐＨ８，５〜１４、有利にはｐＨ９〜１
１のｐＨ範囲は接触水素化及び錯体水素かホウ素塩の双
方において選択することができる。

すべての水酸化物及び炭酸塩は、それが水及び水性−ア
ルコール性混合物に十分溶解するならばｐＨ８節のため
の塩基として使用することができる。それらは固体形又
は溶液中で使用でき、選択しうる使用濃度は任意である
。

接触水素化において、反応はｐＨ調節後に０゜１〜２０
モル％、好ましくは０．４〜ｌＯモル％の触媒濃度を有
する金属又は貴金属触媒を添加して行なわれる。

この場合の反応温度は２０〜１５０℃、好ましくは５０
〜９０℃であり、水素圧は１０〜２５０バール、好まし
くは４０〜８０バールである。

得られた化合物（［１１）の水性又は水性−アルコール
性溶液も錯体水素化ホウ素塩を用いて目的の分子（１）
に転化することができ、これは本方法の好適な変化であ
る。

この目的のためには、適当な錯体水素化ホウ素塩の溶液
又は懸濁液を、ｐＨの調節後に化合物（ＩＩＩ）の水性
又は水性−アルコール性溶液に添加する。この場合、随
時冷却しながら懸濁液として或いは水性又は水性−アル
コール性溶液の形で一部ずつ又は連続的に添加を行なう
ことが可能である。式（ＤＩ）の化合物の、還元剤に対
するモル比は約１：ｏ、４〜１．５、好ましくはＩ：０
．６〜１．Ｏであるべきである。還元は２０〜９０℃の
温度で行なうことができ、４０〜７０℃の温度は好適で
ある。用いる錯体水素化ホウ素塩は好ましくは水素化ホ
ウ酸アルカリ金属塩及びジアルキルアミノポランである
。水素化ホウ酸ナトリウムＮａＢＨ，は特に好適である
。

反応の完了後、酸又は反応性ケトンの添加によって過剰
量の還元剤を分解する。

目的の分子（Ｉ）を単離し且つ精製するために、生成物
を適当なイオン交換体又はシリカゲルでのクロマトグラ
フィーに供し、或いは酸性イオン交換体に吸着させ、随
時アンモニア又はアミン溶液で流出させ、そして生成物
含有含分を濃縮し、残渣を適当な溶媒から再結晶させる
。

使用しうる酸性イオン交換体は本質的にすべての弱及び
強酸性種である。それらはゲル形及び多孔性の双方であ
ってよい。

実施例　】 （７５，８Ｒ，９Ｒ，９ａＲ）−３，４，７，８゜９−
ペンタヒドロキシ−オクタヒドロピリド−［２，１−ｃ
ｌ　　Ｎ、４１オキサジンＨＯ０Ｈ ４０％水性グリオキサール溶液７．７ｍＱを、脱イオン
水２０ｍＱ中１，５−ジデソキシ−１゜５−アミノ−Ｄ
−グルシトールｌｏｇの溶液に室温で添加し、混合物を
室温で３０分間撹拌した。

次いで溶媒を凍結し、溶媒を凍結乾燥で除去しｔ；。

結晶を乳鉢で粉砕し、少量のジイソプロピルエーテル中
に懸濁させ、室温で約３０分間撹拌した。

生成物を濾過によって単離した。

収量：１３９（理論量の９５．８％） 質量スペクトル：大きい質量数範囲での最も重要なピー
クはｍ／ｅ−２０３（Ｍ−Ｈ，Ｏ）に存在した。

この物質はジアステレオマー化合物の混合物であった。

実施例　２ （７Ｓ、８Ｒ，９Ｓ、９ａＲ）−３，４，７，８゜９−
ペンタヒドロキシルオクタヒドロピリド［２゜１−ｃｌ
　　［１，４］オキサジン Ｈ 製造は実施例１と同様に、１，５−ジデソキシー１，５
−イミノーＤ−ガラクチトール及び対応するモル割合の
３０％水性グリオキサールから行なった。

収量：Ｉ２．８ｇ　（理論量の９４％）計算値：Ｃ４３
，４％　Ｈ６，８％　Ｎ　６．３％実験値：Ｃ４３，２
％　Ｈ６，６％　Ｎ　６，５％実施例　３ （７Ｓ、８Ｒ，９３，９ａＲ）−３，７，８，９−テト
ラヒドロキシ−オクタヒドロピリド−〔２゜１−ｃｌ　
　［１，４１オキサジン Ｈ 方法Ａ： 実施例２からの化合物５０ｇを脱イオン水４００１１（
２に溶解し、Ｉ　Ｏ％　Ｐ　ｄ　／　０４　ｇ　全添加
Ｌ　ｆ：。

この混合物を６０℃及び水素圧５０バールで水素化し、
反応過程をＨＰＬＣで追跡した。触媒を吸引炉別し、こ
れを濃縮、残渣をインプロパツール／脱イオン水から再
結晶した。

収量：３４．８ｇ　（理論量の７５．２％）方法Ｂ： 実施例２からの化合物５０ｇを脱イオン水３５０ｍ４に
溶解した。ｐＨ５〜５．５のｐＨ値を１５％硫酸で確立
した。次いでこの反応混合物に、脱イオン水３ＱｔｎＱ
中水素化ホウ素ナトリウム７゜０ｇの溶液を連続的に添
加しｔ；。ｐＨ値を１５％硫酸の滴下によって６．５〜
７．１に保ち、温度を冷却で２０〜３５℃に保った。続
いて混合物を３０分間撹拌し、次いで粗溶液をＨｅ形の
酸性イオン交換体を通して洗浄した。この交換体を脱イ
オン水で洗浄し、次いで５％アンモニア溶液で流出させ
た。生成物の画分を濃縮し、残渣をイングロバノール／
脱イオン水から再結晶した。

収量４３９．５ｇ　（理論量の８５．３％）質量スペク
トル二人きい質量数範囲で最も重要なピークはｍ／ｅ＝
２０５及び１８８に存在した。

他のピークはｍ／ｅ＝１４６．５５に見出された。

この物質は２つのジアステレオマー化合物の混合物であ
った。

モル比を考慮して、撹拌時間後に実施例２で得られた溶
液を直接方法Ａ又は方法Ｂの反応に用いることができに
。

実施例　４ （７３，８Ｒ，９Ｒ，９ａＲ）−３，７，８，９−テト
ラヒドロキシ−オクタヒドロピリド−［２゜１−ｃ］［
１，４］オキサジン ＯＨＯＨ 製造は実施例３と同様に、実施例１からの化合物５０ｇ
及びそれぞれ異なる方法で示される原料から行なった。

収量：方法Ａ：３５．４ｇ　　（理論量の７６．４％）
方法Ｂ：３９．３ｇ　（理論量の８４゜６％）計算値；
Ｃ４６，８％　Ｈ７，４％　Ｎ　６．８％実験値：Ｃ４
６，６％　Ｈ７，６％　Ｎ　６．９％この物質は２つの
ジアステレオマー化合物の混合物であった。

モル比を考慮して、撹拌時間後に実施例１で得られた溶
液を直接方法人又は方法Ｂの反応に用いることができＩ
；。

実施例　５ １．５−ジデソキシ−１，５−［（２−ヒドロキシエチ
ル）−イミノ１−Ｄ−グルシトールの製造ＯＨＯＨ 方法Ａ： 実施例４からの化合物１００ｇを脱イオン水６００＋ｎ
Ｑに溶解し、４５％水酸化ナトリウム溶液を用いてｐＨ
９の値を確立した。次いで脱イオン水５０ｄ中水素化ホ
ウ素ナトリウム１２ｇの溶液を室温で滴下した。温度を
５０℃にし、この温度を維持した。反応の過程はＨＰＬ
Ｃで追跡した。

反応の完結後、混合物を１５％Ｍ酸でｐＨ７に調節し、
粗溶液をＨｅ形の酸性イオン交換体中に注いだ。この交
換体を脱イオン水で洗浄し、次いで６％アンモニア溶液
で流出させた。生成物の画分を濃縮し、残渣をエタノー
ル／脱イオン水で再結晶した善 収量：８４．３ｇ　（理論量の８３．６％）方法Ｂ： １．５−ジデソキシー１，５−イミノーＤ−グルシトー
ル１００ｇを脱イオン水２００ｍ４に溶解し、グリオキ
サール（４０％）９１ｍｇを室温で添加しｔ；。統いて
この混合物を３０分間撹拌し、１０％塩酸でｐＨ５〜５
．５に調節し、次いで脱イオン水５０ｍｆｆ中水素化ホ
ウ素ナトリウム１４９の溶液を添加した。１０％塩酸を
滴下してｐＨを６．５〜７．１に保ち、温度を冷却によ
って２０〜４０℃に維持した。反応の完結から３０分後
に、３０％水酸化ナトリウム溶液で２０°Ｃ下にｐＨ９
を確立し、次いで脱イオン水８０ｎ＋４中水素化ホウ素
ナトリウム１７．４ｇの溶液を添加しｔ；。

温度を５０℃にし、この温度を維持した。反応過程をＨ
ＰＬＣで追跡しｌ；。反応の完了後、混合物を１０％塩
酸でｐＨ７に調節し、粗溶液をＨｅ形の酸性イオン交換
体中に注いだ。交換体を脱イオン水で洗浄し、次いで６
％アンモニア溶液で流出させた。生成物の画分を濃縮し
、残渣をエタノール／脱イオン水から再結晶した。

収量：１０９．７ｇ　（理論量の８６．３％）融点＝１
４５〜１４７°Ｃ 実施例　６ １．５−ジデソキシ−１，５−［（２−七ドロキシエチ
ル）−イミノ］−Ｄ−ガラクチトールの製造 収量：１０４．８９　　（理論量の８２．５％）。

質量スペクトル：大きい質量数範囲で最も重要なピーク
はｍ／　ｅ　−１７６（Ｍ−ＣＨ，ＯＨ）　？：存在し
た。

本発明の特徴及び態様は以下の通りである。

１、式（Ｖ）の化合物を、適当な溶媒又は溶媒混合物中
適当な反応条件下にグリオキサール（ＶＩ）と反応させ
て付加生成物（ＩＩ）を製造し、ＯＨ 製造は、実施例５の方法Ａに従い、実施例３からの化合
物１００ｇ及び方法Ａで示す原料から行なった： 収量：８１．１ｇ　（理論量の８０．３％）或いは方法
Ｂに従い、ｌ、５−ジデソキシ−１゜５〜イミノ−Ｄ−
ガラクチトール１００ｇ及び方法Ｂに示す原料から行な
った： （ｙ）　　　　　　　　　（ｖｒ） （ＩＩ） 次いでこれを還元条件下適当なｐＨ値及び温度において
水素供与体還元剤で還元して中間体（ＩＩ［）を得、統
いて適当なｐＨ値及び温度で水素供与体還元剤との反応
により式Ｉの化合物を製造する、（ＩＩ＋） （Ｉ） ことを含んでなる一般式 ％式％ ［２，１−Ｃ３Ｎ、４］オキサジン及びｄ）（７Ｓ、８
Ｒ，９Ｒ，９ａＲ）−７，８，，９−テトラヒドロキシ
−オクタヒドロ−ピリド［２，１−ｅｌ　　［１，４１
オキサジンからの化合物の製造のｌ；めの上記ｌの方法
。

のＮ−（２−ヒドロキシエチル）−２−ヒドロキシメチ
ル−３，４，５−）リヒドロキシビベリジンの製造法。

２、詳

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式（Ｖ）の化合物を、適当な溶媒又は溶媒混合物中
   適当な反応条件下にグリオキサール（VI）と反応させて
   付加生成物（II）を製造し、 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）＋▲数式、化
   学式、表等があります▼（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 次いでこれを還元条件下適当なｐＨ値及び温度において
   水素供与体還元剤で還元して中間体（III）を得、続い
   て適当なｐＨ値及び温度で水素供与体還元剤との反応に
   より式 I の化合物を製造する、▲数式、化学式、表等
   があります▼ （III） ▲数式、化学式、表等があります▼ （ I ） ことを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） のＮ−（２−ヒドロキシエチル）−２−ヒドロキシメチ
   ル−３，４，５−トリヒドロキシピペリジンの製造法。