JPH03120555U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH03120555U JPH03120555U JP2883790U JP2883790U JPH03120555U JP H03120555 U JPH03120555 U JP H03120555U JP 2883790 U JP2883790 U JP 2883790U JP 2883790 U JP2883790 U JP 2883790U JP H03120555 U JPH03120555 U JP H03120555U
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- JP
- Japan
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- substrate holder
- target
- around
- attached
- flat
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- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Description
第1図は本考案に係わる両面スパツタリング装
置の基板ホルダ部の一実施例を示す部分構成図、
第2図は従来例の断面構成図である。 31……基板ホルダ、31a……歯部、32…
…基板ホルダに垂直な軸、33〜35,37〜3
9……歯車、36……ターゲツトに水平な軸。
置の基板ホルダ部の一実施例を示す部分構成図、
第2図は従来例の断面構成図である。 31……基板ホルダ、31a……歯部、32…
…基板ホルダに垂直な軸、33〜35,37〜3
9……歯車、36……ターゲツトに水平な軸。
Claims (1)
- 平板状のターゲツトを取り付けたスパツタリン
グ電極と、前記ターゲツトに垂直な軸を中心にタ
ーゲツトの回りを公転しながらターゲツト面に水
平な回転軸の回りを自転することが可能な基板ホ
ルダと、この基板ホルダに垂直な軸を中心に基板
ホルダを回転できる手段を設け、前記基板ホルダ
に取り付けた平板状の基板の両面に均一膜厚の薄
膜を形成することを特徴とする両面スパツタリン
グ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2883790U JPH03120555U (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2883790U JPH03120555U (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03120555U true JPH03120555U (ja) | 1991-12-11 |
Family
ID=31531625
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2883790U Pending JPH03120555U (ja) | 1990-03-20 | 1990-03-20 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03120555U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101532629B1 (ko) * | 2015-05-11 | 2015-06-30 | 이공우 | 가동형 가압판을 구비한 안면 윤곽 축소 및 마사지 기구 |
-
1990
- 1990-03-20 JP JP2883790U patent/JPH03120555U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101532629B1 (ko) * | 2015-05-11 | 2015-06-30 | 이공우 | 가동형 가압판을 구비한 안면 윤곽 축소 및 마사지 기구 |