JPH0288771A - 連続ドライプレーティング設備のストリップ温度制御装置 - Google Patents

連続ドライプレーティング設備のストリップ温度制御装置

Info

Publication number
JPH0288771A
JPH0288771A JP23659988A JP23659988A JPH0288771A JP H0288771 A JPH0288771 A JP H0288771A JP 23659988 A JP23659988 A JP 23659988A JP 23659988 A JP23659988 A JP 23659988A JP H0288771 A JPH0288771 A JP H0288771A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
strip
cooling
dry plating
temperature
temp
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23659988A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigefumi Katsura
桂 重史
Hisanao Nakahara
中原 久直
Tsuneo Nagamine
長嶺 恒夫
Norio Takahashi
憲男 高橋
Fumihito Suzuki
鈴木 文仁
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kawasaki Steel Corp filed Critical Kawasaki Steel Corp
Priority to JP23659988A priority Critical patent/JPH0288771A/ja
Publication of JPH0288771A publication Critical patent/JPH0288771A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、連続ドライプレーティング処理を経たスト
リップの冷却に供する連続ドライプレーティング設備の
ストリップ温度制御装置に関する。
(従来の技術) 一般にストリップの連続ドライプレーティング処理は第
5図に示すように、ストリップの両面に連続して行われ
る。
ここで図中1および2はストリップの片面毎のドライプ
レーティング処理にそれぞれ供するチャンバー、3は1
O−1torr〜1O−6torrに保たれた真空室、
4はストリップであり、前段のチャンバー1に約350
〜400°Cで導入したストリップは処理後500〜1
000°Cに昇温するので次にストリップを冷却ゾーン
5で再度350〜400°Cまで冷却することによりス
トリップの表面および裏面の蒸着開始温度を同一とする
。ドライプレーティング処理開始時の温度の差を±30
°C以内に収めかつドライプレーティング処理条件をス
トリップ表面用のチャンバーlと同裏面用のチャンバー
2において等しくすることで長手方向に反りの無いドラ
イプレーティング処理済のストリップを得ると共に、表
面及び裏面の蒸発材料の密着性を確保するものである。
さらに冷却ゾーンには、ストリップを冷却することによ
りストリップが過加熱となり破断することを回避すると
いう機能がある。したがってストリップが破断した場合
に真空室内を大気圧状態に戻し、再びストリップを通板
し、真空に引き直すという不便を回避できる。
(発明が解決しようとする課題) さて、ドライプレーティング処理においては蒸発源から
蒸発する蒸発材料は方向特性を有し、すなわちストリッ
プにコーティングされる蒸発材料の量は蒸発源の直上部
からストリップの側縁部へと少なくなることが知られて
いる。したがってドライプレーティング処理後のストリ
ップにはその幅方向に温度差が生じ、かつ冷却後もその
差が維持されるためストリップの表面と裏面のドライプ
レーティング条件が異なってしまい、温度差がはなはだ
しい場合はストリップの中央部が伸びる形状不良が生じ
、歩留りの低下を招く。
この発明はドライプレーティング処理後のストリップ幅
方向の温度差を解消し得る装置を提供することによって
、ストリップの形状不良の発生を回避しようとするもの
である。
(課題を解決するための手段) この発明は、ドライプレーティング処理槽内のチャンバ
ーの出側に設けた冷却ゾーンに、ストリップの通板方向
に延びる複数本の冷却管をストリップの幅方向に並べて
配設し、冷却管に温度の異なる、又は流速の異なる冷却
媒体を導入してなる連続ドライプレーティング設備のス
トリップ温度制御装置である。
さて第1図にこの発明に従う、連続ドライプレーティン
グ設備の冷却ゾーンに配するストリップ温度制御装置の
上面図を、また第2図にその断面図を示す。図中3は1
0− ’ torr〜10−6torrに保たれた真空
室、4はストリップ、5は冷却ゾーンを形成するケーシ
ング、6はストリップのカテナリーを小さくするテーブ
ルローラー、7は冷却媒体を流入するケーシング5の回
りに配設した冷却管であり、数系統に分割してなる。こ
れら冷却管7の各系統に対し、温度の異なる冷却媒体又
は流速の異なる同一温度の冷却媒体を流入することでケ
ーシング5におけるストリップ幅方向の抜熱量に較差を
設け、ストリップ4の幅方向における輻射による抜熱量
に較差を生じさせ、ドライプレーティング処理に起因し
たストリップ幅方向の温度差をなくすことを特徴とする
(作 用) ここに発明者らの実験によれば、ライン速度6m/mi
nで幅500mm、厚み0.18mmのストリップに、
第6図に示す、ストリップの幅方向に蒸発源Rを2個配
列して、TiNをバイアス電圧100Vを印加して0.
3μmの厚みで蒸着を施す場合、蒸着直後の板温には第
7図に示すように中央部が792”C,端部が756°
Cと約35°Cの温度差が生じる。また蒸着後6mの長
さの冷却ゾーン(自然放冷)で冷却しても同図に(八)
として示すように30°C程度の温度差が生じる。
これに対しこの発明に従うストリップ温度制御装置を冷
却ゾーンに適用すれば、同図に(B)および(C)とし
て示すようにストリップの中央部と端部との温度差は減
少し得る。
すなわち同図(B)は、第1図の冷却管において7aお
よび7fには200°C16kg / cm zの蒸気
を、そして7bおよび7eには100°C,1kg/c
m2の蒸気をそれぞれ通し、また7cおよび7dには2
0°Cの水を供給することによって、中央部と端部との
間で180°Cの温度差となるように冷却媒体を流して
なる冷却ゾーンを通過後のストリップ温度を示し、蒸着
直後に35°Cの温度差のあったストリップが冷却ゾー
ン通過後には温度差が5°C程度に減少したことがわか
る。
また同図(C)は、第1図の冷却管において、7aおよ
び7fにはQ、5m/sで、7bおよび7eには1.5
m/Sで、そして7Cおよび7dには4.5m/sでそ
れぞれ30″Cの水を流して中央部と端部との間の流量
差を5 m / sとした冷却ゾーンを通過後のストリ
ップ温度を示し、ストリップの温度差は蒸着面後の35
°Cから15°C程度に減少したことがわかる。
(実施例) 次に第3および4図に示した、この発明の好適例につい
て具体的に説明する。
第3図は冷却管に導入する冷却媒体の温度を変化させる
ストリップ温度制御装置を示し、冷却管78〜7fは第
2図に示したように、冷却ゾーンのケーシング5の上下
外壁に接触させて配設してなる。
また図中8は冷却管を通過した冷却媒体を回収する回収
タンク、9は冷却媒体を空冷するクーリングユニット、
10は冷却媒体を強冷却する冷却器、11は冷却媒体の
温度を検出する温度計、12は冷却媒体の供給圧力を調
整するポンプ、13a〜13cは各温度の冷却媒体を冷
却管へ送給する前に貯える貯蔵タンク、14は貯蔵タン
ク13a〜13cにおいて温度の異なる冷却媒体を温度
に合わせてミキシングするために設けられた仕切弁であ
り、貯蔵タンク13a〜13cから冷却管78〜7fに
温度の異なる冷却媒体を流入できるようになっている。
さらに15は冷却媒体の温度を200°C程度にするだ
めの蒸気配管、16はその戻り配管、17は蒸気配管を
用いる場合と、温度差のない冷却を行う場合の系統切換
え仕切弁である。
また第4図は冷却媒体の流量を調整することによりスト
リップ幅方向温度制御を行う場合の実施例を示す上面図
であって、各系統ごとに流量調整を行う可変絞り弁18
a〜18cを設けることによって冷却管7a〜7fの各
系統に流量の異なる冷却媒体を流入する。また19は流
量計である。
なお前記実施例では、冷却管系統を6分割としているが
、これに限ることなくさらに幅方向に均一な温度を得る
ためにさらに細く分割しても良い。
また冷却ゾーンのケーシングにパイプを溶接した形を示
したが、ケーシングを2重構造としてその間に冷却媒体
を流入しても良い。
(発明の効果) この発明を連続ドライプレーティング設備に適用するこ
とによって、ストリップ幅方向に生じる温度分布をなく
すことでストリップの形状不良が、大きく減少し、従っ
て歩留りの大きな向上をはかれ、また差圧室を有する連
続ドライプレーティング設備に適用した場合は、形状不
良部が、差圧を維持する隙間部にひっかかってストリッ
プの破断に至るという事態の回避が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明に従うストリップ温度制御装置の上面
図、 第2図は第1図のA−A線に沿う断面図、第3および4
図はこの発明の好適例を示す模式第5図は通常の連続ド
ライプレーティング設備を示す説明図、 第6図は実験における蒸発源の配置を示す説明図、 第7図は板幅方向の温度プロフィル測定結果を示すグラ
フ、である。 1.2・・・チャンバー  3・・・真空室4・・・ス
トリップ    5・・・ケーシング6・・・テーブル
ローラー 7a〜7f・・・冷却管8・・・回収タンク
    9・・・クーリングユニット10・・・冷却器 12・・・ポンプ 14・・・仕切弁 16・・・戻り配管 17・・・系統の切換え用仕切弁 18a=18c・・・可変絞り弁 19・・・流量計1
1・・・温度計 13a〜13c・・・貯蔵タンク 15・・・蒸気配管

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ドライプレーティング処理槽内のチャンバーの出側
    に設けた冷却ゾーンに、ストリップの通板方向に延びる
    複数本の冷却管をストリップの幅方向に並べて配設し、
    冷却管に温度の異なる冷却媒体を導入してなる連続ドラ
    イプレーティング設備のストリップ温度制御装置。 2、ドライプレーティング処理槽内のチャンバーの出側
    に設けた冷却ゾーンに、ストリップの通板方向に延びる
    複数本の冷却管をストリップの幅方向に並べて配設し、
    冷却管に流速の異なる冷却媒体を導入してなる連続ドラ
    イプレーティング設備のストリップ温度制御装置。
JP23659988A 1988-09-22 1988-09-22 連続ドライプレーティング設備のストリップ温度制御装置 Pending JPH0288771A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23659988A JPH0288771A (ja) 1988-09-22 1988-09-22 連続ドライプレーティング設備のストリップ温度制御装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23659988A JPH0288771A (ja) 1988-09-22 1988-09-22 連続ドライプレーティング設備のストリップ温度制御装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0288771A true JPH0288771A (ja) 1990-03-28

Family

ID=17003032

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23659988A Pending JPH0288771A (ja) 1988-09-22 1988-09-22 連続ドライプレーティング設備のストリップ温度制御装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0288771A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02175869A (ja) * 1988-12-27 1990-07-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 基板冷却装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02175869A (ja) * 1988-12-27 1990-07-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 基板冷却装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI429773B (zh) 真空汽相沉積裝置
KR910004296A (ko) 만곡 필라멘트 및 기판 냉각 수단을 포함하는 합성 다이어몬드 도포 장치
JPH03281780A (ja) Cvd装置
JP2008150649A (ja) 真空蒸着装置
JPS6218665B2 (ja)
WO2019127675A1 (zh) 冷却***及蒸镀机
JPH0288771A (ja) 連続ドライプレーティング設備のストリップ温度制御装置
US5395647A (en) Apparatus and method for cooling films coated in a vacuum
KR20160025600A (ko) 가스 공급부를 구비한 증발 장치
JP2000107668A (ja) 塗布装置及び塗布方法
SE461038B (sv) Saett foer framstaellning av belagt, plant glas
RU2471588C2 (ru) Литейная установка с устройством подачи на литейную ленту
US642620A (en) Evaporating apparatus.
US3608520A (en) Coating apparatus
JP3672949B2 (ja) 蒸着装置
JPH0671328A (ja) 熱延鋼板の冷却制御装置
JPH02122058A (ja) 冷却機能付き保持帯を有する合金化炉
US3717501A (en) Method of forming minimized spangle coated strip
JPS59129737A (ja) 金属ストリツプの板幅方向温度分布制御方法
CN108642469A (zh) 柔性产品卷绕式真空镀膜设备
JPH04344859A (ja) 連鋳鋳片の冷却装置
JP2575873B2 (ja) 薄鋼板連続焼鈍設備
JP3116724B2 (ja) 加熱炉の炉内ロールクラウン量調整装置
JPH0573809B2 (ja)
JPS63192859A (ja) 連続式真空蒸着装置