JPH0287333A - 焦点制御装置 - Google Patents
焦点制御装置Info
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- JPH0287333A JPH0287333A JP23821088A JP23821088A JPH0287333A JP H0287333 A JPH0287333 A JP H0287333A JP 23821088 A JP23821088 A JP 23821088A JP 23821088 A JP23821088 A JP 23821088A JP H0287333 A JPH0287333 A JP H0287333A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
この発明は焦点□制御装置に係り、より詳細には情報記
録媒体上に光学的に情報を記録する、又は情報記録媒体
」二から情報を光学的に読み出すために利用される光ビ
ームを情報記録媒体上に集光するための焦点制御装置に
関する。
録媒体上に光学的に情報を記録する、又は情報記録媒体
」二から情報を光学的に読み出すために利用される光ビ
ームを情報記録媒体上に集光するための焦点制御装置に
関する。
(従来の技術)
近年、膨大な瓜の情報をファイル化するファイル装置と
して光デイスク装置が実用化されている。光デイスク装
置は、周波数変調した信号を穴(ビット)の形で円盤状
の記録媒体(光ディスク)上に記録し、この情報の記録
された媒体に光ビームを照射し、その反射光ビームある
いは透過光ビームを検出することによって記録情報が読
みだされる。一方上記光ディスク装置とは異なるタイプ
の情報の書替え可能な大容量高密度メモリ(光磁気メモ
リ)を備えた光磁気ディスク装置が実用化されている。
して光デイスク装置が実用化されている。光デイスク装
置は、周波数変調した信号を穴(ビット)の形で円盤状
の記録媒体(光ディスク)上に記録し、この情報の記録
された媒体に光ビームを照射し、その反射光ビームある
いは透過光ビームを検出することによって記録情報が読
みだされる。一方上記光ディスク装置とは異なるタイプ
の情報の書替え可能な大容量高密度メモリ(光磁気メモ
リ)を備えた光磁気ディスク装置が実用化されている。
光磁気記録方式では、情報記録媒体(光磁気ディスク)
の記録面に対して垂直に静磁界を与え、更に情報記録媒
体の記録膜面に集光性のレーザビームLを照射した状態
で、記録材料のlH度がキュリー点を越えて保持力が外
部磁界よりも小さくなる温度まで加熱される。その結果
、照射された領域の磁区において磁気モーメントが反転
されて情報が記録あるいは消去される。一方情報記録媒
体に記録された情報は、その記録媒体上の磁区に直線偏
光のレーザビームLが入射されて、反射もしくは透過さ
れるとき現れる現象、すなわち磁区内の磁気モーメント
の方向によってレーザビームLの偏光面が回転されるフ
ァラデー効果及びカー効果等の光磁気効果を利用して再
生される。
の記録面に対して垂直に静磁界を与え、更に情報記録媒
体の記録膜面に集光性のレーザビームLを照射した状態
で、記録材料のlH度がキュリー点を越えて保持力が外
部磁界よりも小さくなる温度まで加熱される。その結果
、照射された領域の磁区において磁気モーメントが反転
されて情報が記録あるいは消去される。一方情報記録媒
体に記録された情報は、その記録媒体上の磁区に直線偏
光のレーザビームLが入射されて、反射もしくは透過さ
れるとき現れる現象、すなわち磁区内の磁気モーメント
の方向によってレーザビームLの偏光面が回転されるフ
ァラデー効果及びカー効果等の光磁気効果を利用して再
生される。
光学的情報記録再生装置に備えられるコンパクトディス
ク(CD)及び光磁気ディスク(MOD)のような情報
記録媒体に情報を記録、再生又は消去するための一連の
構成要素は光学ヘッドと呼ばれている。光学ヘッドには
、記録媒体と対物レンズとの距離を一定に保ち、光の集
光点を記録媒体上に位置させるために焦点制御装置が備
えられている。記録媒体に集光される光ビームの焦点制
御は、記録媒体に対する光ビームの焦点ぼけ状態を検出
し、焦点ぼけ状態に応じた信号を対物レンズ移動機構に
フィードバックさせ、対物レンズをその先軸方向の最適
位置に駆動することによってなされている。このような
焦点ぼけを検出するための方法として第8図に示される
ような非点収差法が知られている。非点収差法において
は、シリンドリカルレンズのような非点収差を起こすレ
ンズを利用することによって、合焦時及び非合焦時の光
検出器上のビームスポットの形状を変化させ、そのビー
ムスポットの形状変化に伴う光強度分布を検出すること
によって焦点ぼけが検出されている。さらに光学ヘッド
には情報記録媒体から情報を再生するための情報再生装
置もまた備えられている。例えば、コンパクトディスク
(CD)のように記録信号が光強度変調として延出され
るような情報記録再生装置においては、光検出器上で検
出される光強度の総和によって再生信号が得られる。ま
た光磁気ディスク(MOD)から情報を再生するときに
は、上に述べたように光磁気効果による光ビームの偏光
面の回転を利用して信号は再生される。すなわち、第8
図に示した焦点制御装置においては、紙面と平行な偏光
面を冑する光ビーム(光強度■)が光磁気情報記録媒体
に入射され、その記録膜面で反射される。−このとき、
記録膜面トの磁化が上向きか又は下向きかによって(記
録情報に対応する)記録膜面で反射される光ビームの偏
光面が互いに反対方向に回転されて反射される(このと
きの回転角を±φとする)。反射された光ビームはハー
フミラ−で反射された後、1/2波長板でその偏光面が
約45度回転されて偏光ビームスプリッタに入射される
。偏光ビームスプリッタに入射される光ビームは、その
偏光面の回転角±φに応じて反射あるいは透過されてそ
れぞれ光検出器上に入射される。偏光ビームスプリッタ
で反射される光ビームの光強度をIR%透過される光ビ
ームの光強度を■、とするとき、第9図に示されるよう
に、 IR” Io 5in2(45°+φ)−1□ /2
(cosφ+sinφ)217 = Ia cos 2
(45°+φ)−1□/2(cosφ−5inφ)2 であられされ、その反射光ビーム(IR)と透過光ビー
ム(IT)との光強度の差(Δ■)は、Δl−10si
n2φであられされる。
ク(CD)及び光磁気ディスク(MOD)のような情報
記録媒体に情報を記録、再生又は消去するための一連の
構成要素は光学ヘッドと呼ばれている。光学ヘッドには
、記録媒体と対物レンズとの距離を一定に保ち、光の集
光点を記録媒体上に位置させるために焦点制御装置が備
えられている。記録媒体に集光される光ビームの焦点制
御は、記録媒体に対する光ビームの焦点ぼけ状態を検出
し、焦点ぼけ状態に応じた信号を対物レンズ移動機構に
フィードバックさせ、対物レンズをその先軸方向の最適
位置に駆動することによってなされている。このような
焦点ぼけを検出するための方法として第8図に示される
ような非点収差法が知られている。非点収差法において
は、シリンドリカルレンズのような非点収差を起こすレ
ンズを利用することによって、合焦時及び非合焦時の光
検出器上のビームスポットの形状を変化させ、そのビー
ムスポットの形状変化に伴う光強度分布を検出すること
によって焦点ぼけが検出されている。さらに光学ヘッド
には情報記録媒体から情報を再生するための情報再生装
置もまた備えられている。例えば、コンパクトディスク
(CD)のように記録信号が光強度変調として延出され
るような情報記録再生装置においては、光検出器上で検
出される光強度の総和によって再生信号が得られる。ま
た光磁気ディスク(MOD)から情報を再生するときに
は、上に述べたように光磁気効果による光ビームの偏光
面の回転を利用して信号は再生される。すなわち、第8
図に示した焦点制御装置においては、紙面と平行な偏光
面を冑する光ビーム(光強度■)が光磁気情報記録媒体
に入射され、その記録膜面で反射される。−このとき、
記録膜面トの磁化が上向きか又は下向きかによって(記
録情報に対応する)記録膜面で反射される光ビームの偏
光面が互いに反対方向に回転されて反射される(このと
きの回転角を±φとする)。反射された光ビームはハー
フミラ−で反射された後、1/2波長板でその偏光面が
約45度回転されて偏光ビームスプリッタに入射される
。偏光ビームスプリッタに入射される光ビームは、その
偏光面の回転角±φに応じて反射あるいは透過されてそ
れぞれ光検出器上に入射される。偏光ビームスプリッタ
で反射される光ビームの光強度をIR%透過される光ビ
ームの光強度を■、とするとき、第9図に示されるよう
に、 IR” Io 5in2(45°+φ)−1□ /2
(cosφ+sinφ)217 = Ia cos 2
(45°+φ)−1□/2(cosφ−5inφ)2 であられされ、その反射光ビーム(IR)と透過光ビー
ム(IT)との光強度の差(Δ■)は、Δl−10si
n2φであられされる。
したがって、偏光ビームスプリッタでの反射ビームの光
強度と透過ビームの光強度の差を検出することによって
偏光面の回転角φが検出され、それと同時に反射光ビー
ムの光強度と透過ビームの光強度の差に応じて情報記録
媒体上に記録された記録情報が再生される。
強度と透過ビームの光強度の差を検出することによって
偏光面の回転角φが検出され、それと同時に反射光ビー
ムの光強度と透過ビームの光強度の差に応じて情報記録
媒体上に記録された記録情報が再生される。
(発明が解決しようとする課題)
この発明は、情報記録媒体上に集光される光ビームの焦
点を”制御するための新たな焦点制御装置を備えた光学
ヘッドを提供することを目的とする。
点を”制御するための新たな焦点制御装置を備えた光学
ヘッドを提供することを目的とする。
またこの発明は光磁気記録媒体に記録された情報を読取
るための新たな情報再生装置をを提供することを目的と
する。
るための新たな情報再生装置をを提供することを目的と
する。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
この発明の焦点制御装置は、被対象物に向けて光ビーム
を集光するための集光手段と、被対象物からの光ビーム
の光軸に対してその光学軸が互いに異なる角度で配置さ
れると共に、光ビームの偏光面が光ビームの光軸とその
光学軸を含む面に対して略45度の角度で入射されるよ
うに配置され、入射される光ビームを互い略平行な複数
の光ビームに分岐する第1及び第2の複屈折体と、被対
象物に対する前記集光手段の位置を調整するために前記
複数の光ビームに応答する手段とを備えている。
を集光するための集光手段と、被対象物からの光ビーム
の光軸に対してその光学軸が互いに異なる角度で配置さ
れると共に、光ビームの偏光面が光ビームの光軸とその
光学軸を含む面に対して略45度の角度で入射されるよ
うに配置され、入射される光ビームを互い略平行な複数
の光ビームに分岐する第1及び第2の複屈折体と、被対
象物に対する前記集光手段の位置を調整するために前記
複数の光ビームに応答する手段とを備えている。
更に情報記録媒体として光磁気記録媒体が備えられてい
るとき、この発明の焦点制御装置は光磁気記録媒体に向
けて光ビームを集光するための集光手段と、光磁気記録
媒体からの光ビームの光軸に対してその光学軸が互いに
異なる角度で配置され、入射される光ビームを異なる偏
光成分を有する略平行な第1及び第2の偏光ビームにそ
れぞれ分離する第1及び第2の複屈折体と、光磁気記録
媒体に対する集光手段の位置を調整するために第1の偏
光ビームに応答する手段と、′:A1の偏光ビームの光
強度と第2の偏光ビームの光強度を比較して光磁気記録
媒体に記録された情報を読取るための手段を備えている
。
るとき、この発明の焦点制御装置は光磁気記録媒体に向
けて光ビームを集光するための集光手段と、光磁気記録
媒体からの光ビームの光軸に対してその光学軸が互いに
異なる角度で配置され、入射される光ビームを異なる偏
光成分を有する略平行な第1及び第2の偏光ビームにそ
れぞれ分離する第1及び第2の複屈折体と、光磁気記録
媒体に対する集光手段の位置を調整するために第1の偏
光ビームに応答する手段と、′:A1の偏光ビームの光
強度と第2の偏光ビームの光強度を比較して光磁気記録
媒体に記録された情報を読取るための手段を備えている
。
(作用)
この発明の焦点制御装置に設けられている複屈折体から
出射される光ビームL1、L2及びL3の間隔は、各光
学部品の光軸のずれに影響されずに略一定に保たれる。
出射される光ビームL1、L2及びL3の間隔は、各光
学部品の光軸のずれに影響されずに略一定に保たれる。
そのため組立て及び調整の容易な焦点制御装置が提供さ
れる。また復層折体は平行平板上に形成され、その入射
面及び出射面が光軸に垂直に配置される。そのため光学
部品の製造が容易になるとともにコストも低減される。
れる。また復層折体は平行平板上に形成され、その入射
面及び出射面が光軸に垂直に配置される。そのため光学
部品の製造が容易になるとともにコストも低減される。
更に、この発明の装置においては同一の光検出器で検出
される信号炙利用して焦点制御、トラツキンング制御、
情報再生がなされ、特に光磁気記録媒体に記録された情
報は同一の光検出器上に照射された光ビームの検出信号
を利用して再生される。そのため従来の装置に比べてよ
りコンパクトな装置が提供される。
される信号炙利用して焦点制御、トラツキンング制御、
情報再生がなされ、特に光磁気記録媒体に記録された情
報は同一の光検出器上に照射された光ビームの検出信号
を利用して再生される。そのため従来の装置に比べてよ
りコンパクトな装置が提供される。
(実施例)
図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。
第1図にはこの発明の焦点制御装置を備える第1実施例
の光学ヘッドが示されている。
の光学ヘッドが示されている。
第1図に示される光学ヘッドにおいては、情報記録媒体
として光ディスクが備えられている。光ディスク1は、
ガラスあるいプラスチックスなどの円盤状の基板面に情
報記録媒体としてテルルあるいはビスマスなどの金属被
膜がコーティングされて形成される。円盤状の基板上に
は記録領域を定めるグループ5が同心円状に形成されて
いる。
として光ディスクが備えられている。光ディスク1は、
ガラスあるいプラスチックスなどの円盤状の基板面に情
報記録媒体としてテルルあるいはビスマスなどの金属被
膜がコーティングされて形成される。円盤状の基板上に
は記録領域を定めるグループ5が同心円状に形成されて
いる。
光ディスク1に対向して光学ヘッド3が設けられ、記録
、再生及び検索時には、先ディスク1が線速一定で回転
駆動される。第1図の光ビームが照射される領域におい
て記録領域を規定するプルーブ5はZ方向に延出されて
いる。
、再生及び検索時には、先ディスク1が線速一定で回転
駆動される。第1図の光ビームが照射される領域におい
て記録領域を規定するプルーブ5はZ方向に延出されて
いる。
光学ヘッド3は光源としての半導体レーザ11を備え、
半導体レーザ11からはZ方向に偏光面を有する発散性
のレーザビームLが発生される。
半導体レーザ11からはZ方向に偏光面を有する発散性
のレーザビームLが発生される。
レーザビームしは情報を光ディスク1の記録膜に書込む
記録時には書込むべき情報に応じて光強度が変調されて
発生され、また情報を光ディスク1の記録膜から読取る
再生時には一定の光強度で発生される。この半導体レー
ザ11から発生された発散性の光ビームLはコリメータ
レンズ13によって平行光束に変換されてハーフプリズ
ム14に導かれる。ハーフプリズム14に導かれたレー
ザビームしは、ハーフプリズム14を通過して対物レン
ズ16に入射され、対物レンズ16によってレーザビー
ムLは、光ディスク1の記録膜に向けて集束される。
記録時には書込むべき情報に応じて光強度が変調されて
発生され、また情報を光ディスク1の記録膜から読取る
再生時には一定の光強度で発生される。この半導体レー
ザ11から発生された発散性の光ビームLはコリメータ
レンズ13によって平行光束に変換されてハーフプリズ
ム14に導かれる。ハーフプリズム14に導かれたレー
ザビームしは、ハーフプリズム14を通過して対物レン
ズ16に入射され、対物レンズ16によってレーザビー
ムLは、光ディスク1の記録膜に向けて集束される。
対物レンズ16は、その先軸方向及び光軸と直交する面
内方向で移動可能に支持される。対物レンズ16が光軸
上の最適位置、即ち合焦位置に配置されると、対物レン
ズ16から発せられた集束性のレーザビームLのビーム
ウェストが光ディスク1の記録膜の表面上に投射され、
それによって最少のビームが光デイスク上の記録膜の表
面上に形成される。一方、対物レンズ16が光軸と直交
する面内(記録膜面に平行な面内)で最適位置、すなわ
ち合トラック位置に配置されると、光デイスク上に形成
されるビームスポットが記録領域として定められたトラ
ック上に正確に形成され、それによってトラックがレー
ザビームで追跡される。
内方向で移動可能に支持される。対物レンズ16が光軸
上の最適位置、即ち合焦位置に配置されると、対物レン
ズ16から発せられた集束性のレーザビームLのビーム
ウェストが光ディスク1の記録膜の表面上に投射され、
それによって最少のビームが光デイスク上の記録膜の表
面上に形成される。一方、対物レンズ16が光軸と直交
する面内(記録膜面に平行な面内)で最適位置、すなわ
ち合トラック位置に配置されると、光デイスク上に形成
されるビームスポットが記録領域として定められたトラ
ック上に正確に形成され、それによってトラックがレー
ザビームで追跡される。
この2つの状態(合焦状態・合トラック状態)が保たれ
ることによって情報の書込み及び読みだしが可能となる
。即ち、記録時には強度変調されたレーザビームによっ
て記録膜にピット等の状態変化が起こされ、再生時には
一定強度のレーザビームがピットなどで形成されたトラ
ック内の記録領域で強度変調されて反射される。
ることによって情報の書込み及び読みだしが可能となる
。即ち、記録時には強度変調されたレーザビームによっ
て記録膜にピット等の状態変化が起こされ、再生時には
一定強度のレーザビームがピットなどで形成されたトラ
ック内の記録領域で強度変調されて反射される。
光ディスク1の記録膜で反射された発散性のレーザビー
ムしは、合焦時には対物レンズ16によって平行光束に
変換されて、再びハーフプリズム14に戻される。ハー
フプリズム14で反射された光ビームは偏光面を所定角
度、好ましくは45度回転させるための1/2波長板2
1に入射される。1/2波長板21に入射された光ビー
ムは偏光面が45度回転されて出射される。換言すると
、1/2波長板21において光ビームの偏光面は紙面に
平行な平面(Z−Y平面)と、紙面に垂直で入射ビーム
に平行な平面(X−Z平面)とに対し、互いに45度を
なすように傾けられて出射される。
ムしは、合焦時には対物レンズ16によって平行光束に
変換されて、再びハーフプリズム14に戻される。ハー
フプリズム14で反射された光ビームは偏光面を所定角
度、好ましくは45度回転させるための1/2波長板2
1に入射される。1/2波長板21に入射された光ビー
ムは偏光面が45度回転されて出射される。換言すると
、1/2波長板21において光ビームの偏光面は紙面に
平行な平面(Z−Y平面)と、紙面に垂直で入射ビーム
に平行な平面(X−Z平面)とに対し、互いに45度を
なすように傾けられて出射される。
偏光面の傾けられた光ビームは、球面凸レンズ17を透
過されてその光路上に配置された第1及び第2の複屈折
体28.29に入射される。第1及び第2の複屈折体2
8.29は入射される光ビームの光路上に配置され、第
1及び第2の複屈折体28.29によって入射光ビーム
の略半分、すなわち紙面(Z−Y平面)に平行な偏光成
分の光ビームL3は透過され、同時に残りの略半分の光
ビーム、すなわち紙面に垂直な面(X−Z平面)に平行
な偏光成分は複屈折によって光軸を境に2つの互いに平
行な第1の光ビームL1及び第2の光ビームL2に分岐
される。換言すると、入射された光ビームが略等しい強
度の光ビームに分離されるように、複屈折体28.29
の光学軸と光ビームの光軸を含む面は、人、射される光
ビームの偏光面に体して45度傾けられて配置されてい
る。
過されてその光路上に配置された第1及び第2の複屈折
体28.29に入射される。第1及び第2の複屈折体2
8.29は入射される光ビームの光路上に配置され、第
1及び第2の複屈折体28.29によって入射光ビーム
の略半分、すなわち紙面(Z−Y平面)に平行な偏光成
分の光ビームL3は透過され、同時に残りの略半分の光
ビーム、すなわち紙面に垂直な面(X−Z平面)に平行
な偏光成分は複屈折によって光軸を境に2つの互いに平
行な第1の光ビームL1及び第2の光ビームL2に分岐
される。換言すると、入射された光ビームが略等しい強
度の光ビームに分離されるように、複屈折体28.29
の光学軸と光ビームの光軸を含む面は、人、射される光
ビームの偏光面に体して45度傾けられて配置されてい
る。
第1及び第2の複屈折体28.29を透過された光ビー
ムL3、及び第1及び第2の複屈折体28.29で複屈
折されて透過される光ビームL1、L2は、集束されな
がら光検出器20上に照射される。光検出器20上に照
射された各光ビームは、その光強度に応じて光検出器2
0の光検出領域で電気信号に変換される。これらの電気
信号が所定の方法で処理されることによって、光デイス
ク上に集光される光ビームの焦点ぼけ状態、トラッキン
グずれ状態及び光デイスク上に記録された情報信号が検
出される。
ムL3、及び第1及び第2の複屈折体28.29で複屈
折されて透過される光ビームL1、L2は、集束されな
がら光検出器20上に照射される。光検出器20上に照
射された各光ビームは、その光強度に応じて光検出器2
0の光検出領域で電気信号に変換される。これらの電気
信号が所定の方法で処理されることによって、光デイス
ク上に集光される光ビームの焦点ぼけ状態、トラッキン
グずれ状態及び光デイスク上に記録された情報信号が検
出される。
例えば、光検出器20の各光検出領域から発生された電
気信号は比較回路41で処理され、それによって比較回
路41からは焦点ぼけ状態に対応するフォー力ッシング
エラー信号が発生される。
気信号は比較回路41で処理され、それによって比較回
路41からは焦点ぼけ状態に対応するフォー力ッシング
エラー信号が発生される。
その発生された信号に応じて駆動回路44に電流が供給
され、それに応じてボイスコイル8に電流が供給されて
対物レンズ16がその先軸方向に駆動されて光ビームの
焦点が制御される。また各光検出領域から発生された電
気信号は比較回路42で処理され、それによって比較回
路42からトラッキングずれに対応するトラッキングエ
ラー信号が発生される。そのトラッキング信号に応じて
トラッキング制御用の駆動回路45に電流が供給されて
光学ヘッド3が対物レンズ16の光軸に垂直な面内で直
線的に駆動され、それによって所定のトラックが光ビー
ムによって追跡される。更にコンパクトディスク(C−
D)のような情報記録媒体から記録情報に応じて光強度
変調されて各光検出領域で検出された信号は、信号処理
回路43で処理され記録情報が情報読取り信号として再
生される。
され、それに応じてボイスコイル8に電流が供給されて
対物レンズ16がその先軸方向に駆動されて光ビームの
焦点が制御される。また各光検出領域から発生された電
気信号は比較回路42で処理され、それによって比較回
路42からトラッキングずれに対応するトラッキングエ
ラー信号が発生される。そのトラッキング信号に応じて
トラッキング制御用の駆動回路45に電流が供給されて
光学ヘッド3が対物レンズ16の光軸に垂直な面内で直
線的に駆動され、それによって所定のトラックが光ビー
ムによって追跡される。更にコンパクトディスク(C−
D)のような情報記録媒体から記録情報に応じて光強度
変調されて各光検出領域で検出された信号は、信号処理
回路43で処理され記録情報が情報読取り信号として再
生される。
複屈折体28.29及びその後方に配置された光検出器
20の配置は第2図に示されている。
20の配置は第2図に示されている。
第2図において第1の複屈折体28、第2の複面折体2
9は例えば方解石のような一軸結晶で構成され平行平板
形状を有している。各複屈折体はX−Z平面に平行な側
面を有し、その側面は互いに入射ビームの光軸、即ち中
心軸に接するように配置される。このとき好ましくはそ
の側面が互いに接着されて一体的に形成される。また第
1の複屈折体28及び第2の複屈折体29の入射面及び
出射面は入射光ビームLの光軸に垂直に配置される。更
に第1の複屈折体28の第1の光学軸A及び第2の複屈
折体29の第2の光学軸Bは入射される光ビームLの光
軸に対して互いに所定の角度を何するように配置される
。好ましくはその複屈折体の光学軸A及びBが互いに異
なる方向で向けられ、入射される光ビームの光軸に対し
て等しい角度を成すように配置される。
9は例えば方解石のような一軸結晶で構成され平行平板
形状を有している。各複屈折体はX−Z平面に平行な側
面を有し、その側面は互いに入射ビームの光軸、即ち中
心軸に接するように配置される。このとき好ましくはそ
の側面が互いに接着されて一体的に形成される。また第
1の複屈折体28及び第2の複屈折体29の入射面及び
出射面は入射光ビームLの光軸に垂直に配置される。更
に第1の複屈折体28の第1の光学軸A及び第2の複屈
折体29の第2の光学軸Bは入射される光ビームLの光
軸に対して互いに所定の角度を何するように配置される
。好ましくはその複屈折体の光学軸A及びBが互いに異
なる方向で向けられ、入射される光ビームの光軸に対し
て等しい角度を成すように配置される。
このように構成された複屈折体28.29に対して前に
述べた1/2波長板21からは、好ましくは紙面(Y−
Z平面)と、紙面に垂直で入射光ビームの軸に平行な面
(X−Z平面)とに対して互いに45度(θ−45°こ
の実施例においてφ−0)に傾けられた偏光面を有する
先ビームが入射される。偏光面が略45度の傾けられた
断面円形状の光ビームLが入射されることによって、入
射された光ビームの略半分の光強度のビームはt(屈折
体28.29を一直線に透過され、残りの略半分の光ビ
ームは、1(屈折体28.29でそれぞれt!雇折され
て透過される。さらに詳細に述べ゛ると、入射された光
ビームして紙面と平行な偏光成分の第2の偏光ビームと
しての光ビームL3は一直線に透過される。また残りの
紙面に垂直で光軸に平行な偏光成分の光ビームは、各複
屈折体28.29でそれぞれ複屈折されて第1の偏光ビ
ームとしての断面半月形状の光ビームL1、光ビームL
2とに分岐される。
述べた1/2波長板21からは、好ましくは紙面(Y−
Z平面)と、紙面に垂直で入射光ビームの軸に平行な面
(X−Z平面)とに対して互いに45度(θ−45°こ
の実施例においてφ−0)に傾けられた偏光面を有する
先ビームが入射される。偏光面が略45度の傾けられた
断面円形状の光ビームLが入射されることによって、入
射された光ビームの略半分の光強度のビームはt(屈折
体28.29を一直線に透過され、残りの略半分の光ビ
ームは、1(屈折体28.29でそれぞれt!雇折され
て透過される。さらに詳細に述べ゛ると、入射された光
ビームして紙面と平行な偏光成分の第2の偏光ビームと
しての光ビームL3は一直線に透過される。また残りの
紙面に垂直で光軸に平行な偏光成分の光ビームは、各複
屈折体28.29でそれぞれ複屈折されて第1の偏光ビ
ームとしての断面半月形状の光ビームL1、光ビームL
2とに分岐される。
このように、複屈折体28.29に入射された断面円形
状の光ビームLは、複屈折体28で複屈折されて出射さ
れる断面半円形状の先ビームL1、複屈折体29で複屈
折されて出射される断面半円形状の光ビームL2、複屈
折体28.29を真直ぐに透過される断面円形状の光ビ
ームL3の3つの光ビームに分割される。なおこの複屈
折体28.29が互いに接する側面の延出方向(X方向
)は、光デイスク1上のグループ5での光ビームの回折
によって投影される回折像の投影方向(Y方向)と垂直
となるように設置されている。また第1及び第2の複屈
折体28.29の光学軸A及びBが入射される光ビーム
の光軸に対して所定の角度に配置されることによって複
屈折体28.29で複屈折された第1の偏光ビームとし
ての光ビームは、互いに入射光ビームLの光軸に対して
略平行で且つX方向に所定間隔りを有する第1及び第2
の光ビームL1、L2に分岐される。また同時に複屈折
体28.29に偏光面の傾けられた光ビームが入射され
ることによって複屈折体28.29に入射された光ビー
ムの一部は複屈折されずに第2の偏光ビームとして(光
ビームL3)透過される。
状の光ビームLは、複屈折体28で複屈折されて出射さ
れる断面半円形状の先ビームL1、複屈折体29で複屈
折されて出射される断面半円形状の光ビームL2、複屈
折体28.29を真直ぐに透過される断面円形状の光ビ
ームL3の3つの光ビームに分割される。なおこの複屈
折体28.29が互いに接する側面の延出方向(X方向
)は、光デイスク1上のグループ5での光ビームの回折
によって投影される回折像の投影方向(Y方向)と垂直
となるように設置されている。また第1及び第2の複屈
折体28.29の光学軸A及びBが入射される光ビーム
の光軸に対して所定の角度に配置されることによって複
屈折体28.29で複屈折された第1の偏光ビームとし
ての光ビームは、互いに入射光ビームLの光軸に対して
略平行で且つX方向に所定間隔りを有する第1及び第2
の光ビームL1、L2に分岐される。また同時に複屈折
体28.29に偏光面の傾けられた光ビームが入射され
ることによって複屈折体28.29に入射された光ビー
ムの一部は複屈折されずに第2の偏光ビームとして(光
ビームL3)透過される。
複屈折体における光ビームの複屈折現象は第3図を参照
して詳細に説明される。複屈折体29(28)の入射面
及び出射面が入射される光ビームの光軸に垂直に配置さ
れ、加えてその複屈折体29 (2g)の光学軸Aが入
射される光ビームLの光軸に垂直な面からZ方向に所定
の角度で傾けられている場合、一般に複屈折体29 (
28)に入射された光ビームLのうち主断面に垂直な振
動面を有する光ビームLb(常光線)は通常の屈折の法
則に従うため真直ぐに透過される。また複屈折体29
(28)に入射された光ビームのうち主断面に平行な振
動面を有する光ビームLa(異常光線)は通常の屈折の
法則に従わない。そのため光ビームLaは複屈折体の境
界面で複屈折されて常光線Lbに対して略平行に出射さ
れる。
して詳細に説明される。複屈折体29(28)の入射面
及び出射面が入射される光ビームの光軸に垂直に配置さ
れ、加えてその複屈折体29 (2g)の光学軸Aが入
射される光ビームLの光軸に垂直な面からZ方向に所定
の角度で傾けられている場合、一般に複屈折体29 (
28)に入射された光ビームLのうち主断面に垂直な振
動面を有する光ビームLb(常光線)は通常の屈折の法
則に従うため真直ぐに透過される。また複屈折体29
(28)に入射された光ビームのうち主断面に平行な振
動面を有する光ビームLa(異常光線)は通常の屈折の
法則に従わない。そのため光ビームLaは複屈折体の境
界面で複屈折されて常光線Lbに対して略平行に出射さ
れる。
次に第4図を参照して一対の複屈折体が配置されている
場合について考察する。一対の複屈折体は同−形状及び
同一特性を有し、その光学軸A1Bが入射光ビームLの
光軸に対して互いに異なる方向で等しい角度に予め定め
られる。この一対の複屈折体28.29へ光軸と光学軸
を含む面(主断面)に振動面を有する偏光ビームLが入
射されると、複屈折体28.29を透過される光ビーム
はすべて複屈折される。その結果一方の複屈折体28に
入射された光ビームは複屈折されて入射光よりも僅かに
上方に変位されて出射される(光ビムLl)。他方の複
屈折体29に入射された先ビームは複屈折されて入射光
よりも僅かに下方に変位されて出射される(光ビームL
2)。他方、主断面に垂直な光ビームが入射されたとき
には、第1及び第2の複屈折体28.29に入射された
光ビームは真直ぐに透過される。なおこの実施例におい
ては、主断面に垂直な振動面を有する常光線Lbと、主
断面に振動面を有する異常光線Laとの光強度比が略一
定になるように、入射される光ビームの偏光面の角度が
予め設定されている。
場合について考察する。一対の複屈折体は同−形状及び
同一特性を有し、その光学軸A1Bが入射光ビームLの
光軸に対して互いに異なる方向で等しい角度に予め定め
られる。この一対の複屈折体28.29へ光軸と光学軸
を含む面(主断面)に振動面を有する偏光ビームLが入
射されると、複屈折体28.29を透過される光ビーム
はすべて複屈折される。その結果一方の複屈折体28に
入射された光ビームは複屈折されて入射光よりも僅かに
上方に変位されて出射される(光ビムLl)。他方の複
屈折体29に入射された先ビームは複屈折されて入射光
よりも僅かに下方に変位されて出射される(光ビームL
2)。他方、主断面に垂直な光ビームが入射されたとき
には、第1及び第2の複屈折体28.29に入射された
光ビームは真直ぐに透過される。なおこの実施例におい
ては、主断面に垂直な振動面を有する常光線Lbと、主
断面に振動面を有する異常光線Laとの光強度比が略一
定になるように、入射される光ビームの偏光面の角度が
予め設定されている。
このようにして複屈折体28.29からは互いに〒行な
複屈折された第1及び第2の光ビームL1、L2、及び
第3の光ビームL3が出射される。
複屈折された第1及び第2の光ビームL1、L2、及び
第3の光ビームL3が出射される。
このように第1及び第2の複屈折体28.29から出射
される第1及び第2の光ビームL1、L2、及び第3の
光ビームL3の間隔は、各光学部品の光軸方向のずれに
影響されずに略一定に保たれる。そのため組立て及び、
調整の容易な焦点制御装置が提供される。
される第1及び第2の光ビームL1、L2、及び第3の
光ビームL3の間隔は、各光学部品の光軸方向のずれに
影響されずに略一定に保たれる。そのため組立て及び、
調整の容易な焦点制御装置が提供される。
またこの発明において、複屈折体は平行平板形状に形成
され、その入射面及び出射面が光軸に垂直に配置される
。そのためプリズム及び傾斜を付けて配置したガラス等
の平行平板に比べて取付けが容易であり、それに応じて
製造性も高くなりコストも低減される。
され、その入射面及び出射面が光軸に垂直に配置される
。そのためプリズム及び傾斜を付けて配置したガラス等
の平行平板に比べて取付けが容易であり、それに応じて
製造性も高くなりコストも低減される。
また複屈折体28.29は互いにその側面で接着されて
一体化されているため組立て及び調整がさらに容易とな
る。なおこの実施例においては、略等しい光強度L1及
びL2、L3に分離されるように入射される光ビームの
偏光面の角度に設定されているが、たとえ同じ光強度の
光ビームに分離されないとしても同様に測定可能である
。
一体化されているため組立て及び調整がさらに容易とな
る。なおこの実施例においては、略等しい光強度L1及
びL2、L3に分離されるように入射される光ビームの
偏光面の角度に設定されているが、たとえ同じ光強度の
光ビームに分離されないとしても同様に測定可能である
。
複屈折された第1の偏光ビーム(第1及び第2の光ビー
ムL1、L2)及び第2の偏光ビーム(第3の光ビーム
)の入射される光検出器の一実施例は第5図及び第6図
に示されている。
ムL1、L2)及び第2の偏光ビーム(第3の光ビーム
)の入射される光検出器の一実施例は第5図及び第6図
に示されている。
第5A図乃至第5C図には光検出器の第1の実施例が示
され、第5B図には合焦時における光検出器上のスポッ
ト像が示され、第5A図及び第5C図には非合焦時にお
ける光検出器上のスポット像が示されている。光検出器
20の光検出領域は、複屈折体28で複屈折されて透過
された光ビームL1を電気信号に変換する光検出領域2
0A120D及び第2の複屈折体29で複屈折されて通
過された先ビームL2を電気信号に変換する光検出領域
20B、20Cと、第1及び第2の複屈折体28.29
を複屈折されずに透過された光ビームL3を電気信号に
変換する光検出領域20E、20Fで構成されている。
され、第5B図には合焦時における光検出器上のスポッ
ト像が示され、第5A図及び第5C図には非合焦時にお
ける光検出器上のスポット像が示されている。光検出器
20の光検出領域は、複屈折体28で複屈折されて透過
された光ビームL1を電気信号に変換する光検出領域2
0A120D及び第2の複屈折体29で複屈折されて通
過された先ビームL2を電気信号に変換する光検出領域
20B、20Cと、第1及び第2の複屈折体28.29
を複屈折されずに透過された光ビームL3を電気信号に
変換する光検出領域20E、20Fで構成されている。
これらの光検出領域を備える光検出器において、第1の
光ビームL1を検出する光検出領域2OA、20D及び
第2の光ビームを検出する光検出領域20B、20Cは
、それぞれ先非検出領域としての縦方向(X方向)の基
準線26.27によって2分割されている。
光ビームL1を検出する光検出領域2OA、20D及び
第2の光ビームを検出する光検出領域20B、20Cは
、それぞれ先非検出領域としての縦方向(X方向)の基
準線26.27によって2分割されている。
また第3の光ビームL3を検出する光検出領域20E、
20Fは、先非検出領域としての横方向(Y方向)の基
準線25によって2分割され、その両側、すなわち光検
出領域2OA、20Dと光検出領域20B、20Cとの
境界は、分割線23と24とによって分離されている。
20Fは、先非検出領域としての横方向(Y方向)の基
準線25によって2分割され、その両側、すなわち光検
出領域2OA、20Dと光検出領域20B、20Cとの
境界は、分割線23と24とによって分離されている。
この互いに分離されている光検出領域2OA乃至20F
の出力は、焦点補正、トラッキング補正、及び情報再生
に利用される。
の出力は、焦点補正、トラッキング補正、及び情報再生
に利用される。
対物レンズ16が光ディスクに対し合焦位置にある場合
は、光検出器には第5B図に示すようなビームスポット
が投影される。第1の複屈折体28で複屈折された光ビ
ームL1は、光検出領域2OA、20Dに半円形状のビ
ームスポットS1として投影される。他方、複屈折体2
9を通過した光ビームは光検出領域20B、20Cに反
対向きの半円形状のビームスポットs2として投影され
る。各半円像が投影される光検出領域20A。
は、光検出器には第5B図に示すようなビームスポット
が投影される。第1の複屈折体28で複屈折された光ビ
ームL1は、光検出領域2OA、20Dに半円形状のビ
ームスポットS1として投影される。他方、複屈折体2
9を通過した光ビームは光検出領域20B、20Cに反
対向きの半円形状のビームスポットs2として投影され
る。各半円像が投影される光検出領域20A。
20D及び光検出領域20B、2OC上には、左右の光
検出領域に等しい強度で投影されるように先非検出領域
としての分割線21及び22が予め定められている。言
替えるならば、光検出領域20A〜20Dで検出される
出力をそれぞれ■〜■とすると、分割線21及び22の
位置は、合焦時においてフォー力ッシングエラー信号(
F、E信号)が0に等しくなる位置、即ちF、E−1(
■+■)−(■+■))−〇の条件を満たすように設定
される。
検出領域に等しい強度で投影されるように先非検出領域
としての分割線21及び22が予め定められている。言
替えるならば、光検出領域20A〜20Dで検出される
出力をそれぞれ■〜■とすると、分割線21及び22の
位置は、合焦時においてフォー力ッシングエラー信号(
F、E信号)が0に等しくなる位置、即ちF、E−1(
■+■)−(■+■))−〇の条件を満たすように設定
される。
また対物レンズ16が光ディスクに対し合焦位置から離
れた場合は、第5A図に示されるように、投影される2
つの半円像は、合焦時の像よりも小さく形成され、出力
はF、E>0となる。逆に対物レンズ16が光ディスク
に対し合焦位置に近づいた場合、第5C図に示されるよ
うに第1のグループと第2のグループに投影された2つ
の半円像は合焦時の像よりも大きく形成され、出力はF
、E<0となる。
れた場合は、第5A図に示されるように、投影される2
つの半円像は、合焦時の像よりも小さく形成され、出力
はF、E>0となる。逆に対物レンズ16が光ディスク
に対し合焦位置に近づいた場合、第5C図に示されるよ
うに第1のグループと第2のグループに投影された2つ
の半円像は合焦時の像よりも大きく形成され、出力はF
、E<0となる。
一方光検出領域2OA、20Dと光検出領域20B、2
0Cの間に配置されている一光検出領域20E、20F
上には、複屈折体28.29で複屈折されずに透過され
る断面円形状の先ビームL3のビームスポットS3が形
成される。ビームスポット上には光デイスク1上の案内
溝5の回折によって生ずる回折像が現れる。この回折像
の延出方向と平行となるように光検出領域の非検出領域
としての基準線25が予め設定されている。そのため光
ビームのトラック上のずれは、光検出領域20E、20
Fの出力信号■〜■に対して、トラッキングエラー信号
(T、E)−((■−■))を比較処理することによっ
て検出される。比較された信号のその差信号すなわちト
ラック位置のずれ信号に応じて対物レンズの位置が光デ
ィスクに対して調整される。
0Cの間に配置されている一光検出領域20E、20F
上には、複屈折体28.29で複屈折されずに透過され
る断面円形状の先ビームL3のビームスポットS3が形
成される。ビームスポット上には光デイスク1上の案内
溝5の回折によって生ずる回折像が現れる。この回折像
の延出方向と平行となるように光検出領域の非検出領域
としての基準線25が予め設定されている。そのため光
ビームのトラック上のずれは、光検出領域20E、20
Fの出力信号■〜■に対して、トラッキングエラー信号
(T、E)−((■−■))を比較処理することによっ
て検出される。比較された信号のその差信号すなわちト
ラック位置のずれ信号に応じて対物レンズの位置が光デ
ィスクに対して調整される。
さらにまた光デイスク上に記録された情報は、記録面で
反射される光ビームが強度変調されて光検出器上に現れ
る。そのため光検出器上の信号の強度変化を検出するこ
とによって読取られる。すなわち情報読取り信号は例え
ば 情報再生信号−(■+■+■+■+■+■)を検出する
ことによって得られる。
反射される光ビームが強度変調されて光検出器上に現れ
る。そのため光検出器上の信号の強度変化を検出するこ
とによって読取られる。すなわち情報読取り信号は例え
ば 情報再生信号−(■+■+■+■+■+■)を検出する
ことによって得られる。
第6A図乃至第6C図には光検出器の第2の実施例が示
されている。第6B図には合焦時における光検出器上の
スポット像が示され、第6A図及び第6C図には非合焦
時における光検出器上のスポット像が示されている。光
検出器20の光検出領域は、1!屈折体28で複屈折さ
れて透過された光ビームL1を電気信号に変換する光検
出領域20G、20J及び第2の複屈折体29で複屈折
されて通過された光ビームL2を電気信号に変換する光
検出領域20H,201と、第1及び第2の複屈折体2
8.29を複屈折されずに透過された光ビームL3を電
気信号に変換する光検出領域20に、2OLで構成され
ている。この実施例の光検出領域においては、第1の光
ビームL1を検出する光検出領域20G、20J及び第
2の光ビームを検出する光検出領域20H,201は、
それぞれ先非検出領域としての縦方向(X方向)の基準
線28.29によって2分割されている。
されている。第6B図には合焦時における光検出器上の
スポット像が示され、第6A図及び第6C図には非合焦
時における光検出器上のスポット像が示されている。光
検出器20の光検出領域は、1!屈折体28で複屈折さ
れて透過された光ビームL1を電気信号に変換する光検
出領域20G、20J及び第2の複屈折体29で複屈折
されて通過された光ビームL2を電気信号に変換する光
検出領域20H,201と、第1及び第2の複屈折体2
8.29を複屈折されずに透過された光ビームL3を電
気信号に変換する光検出領域20に、2OLで構成され
ている。この実施例の光検出領域においては、第1の光
ビームL1を検出する光検出領域20G、20J及び第
2の光ビームを検出する光検出領域20H,201は、
それぞれ先非検出領域としての縦方向(X方向)の基準
線28.29によって2分割されている。
また第3の光ビームL3を検出する光検出領域20に、
2OLは先非検出領域としての横方向(Y方向)の基準
線25によって2分割されてその両側、すなわち光検出
領域2OA、20Dと光検出領域20B、20Cとの境
界は分割線23と24によって分離されている。この互
いに分離されている検出領域20G〜2OLの出力は、
焦点補正、トラッキング補正、及び情報再生に利用され
る。
2OLは先非検出領域としての横方向(Y方向)の基準
線25によって2分割されてその両側、すなわち光検出
領域2OA、20Dと光検出領域20B、20Cとの境
界は分割線23と24によって分離されている。この互
いに分離されている検出領域20G〜2OLの出力は、
焦点補正、トラッキング補正、及び情報再生に利用され
る。
対物レンズ16が光ディスクに対し合焦位置にある場合
は、光検出器には第5B図に示すようなビームスポット
が投影される。すなわち第1の複屈折体28で複屈折さ
れた光ビームL1は、光検出領域20G、20Jの間の
非検出領域としての基準線28を中心に微少面積の円形
ビームスポットS1として投影される。他方、複屈折体
29で複屈折された光ビームL2もまたは光検出領域2
0H,201の間の非検出領域としての基準線29を中
心に微少1Iili積の円形ビームスポットS2として
投影される。各微少円形像が投影される光検出領域20
G、20J及び光検出領域20H1201上には、左右
の光検出領域に等しい強度で投影されるように先非検出
領域としての分割線28及び29が予め定められている
。言替えるならば、光検出領域20G〜20Jで検出さ
れる出力をそれぞれ■〜■とすると、分割線28及び2
9の位置は、合焦時においてフォー力ッシングエラー信
号(F、E信号)が零に等しくなる位置、即ちF、E−
1(■+■)−(■+■))−〇の条件を満たすように
設定される。
は、光検出器には第5B図に示すようなビームスポット
が投影される。すなわち第1の複屈折体28で複屈折さ
れた光ビームL1は、光検出領域20G、20Jの間の
非検出領域としての基準線28を中心に微少面積の円形
ビームスポットS1として投影される。他方、複屈折体
29で複屈折された光ビームL2もまたは光検出領域2
0H,201の間の非検出領域としての基準線29を中
心に微少1Iili積の円形ビームスポットS2として
投影される。各微少円形像が投影される光検出領域20
G、20J及び光検出領域20H1201上には、左右
の光検出領域に等しい強度で投影されるように先非検出
領域としての分割線28及び29が予め定められている
。言替えるならば、光検出領域20G〜20Jで検出さ
れる出力をそれぞれ■〜■とすると、分割線28及び2
9の位置は、合焦時においてフォー力ッシングエラー信
号(F、E信号)が零に等しくなる位置、即ちF、E−
1(■+■)−(■+■))−〇の条件を満たすように
設定される。
また対物レンズ16が光ディスクに対し合焦位置から離
れた場合は、第6A図に示されるように、光検出領域2
0G及び光検出領域201上には、合焦時の像よりも大
きい半月形の像が形成される。このときフォー力ッシン
グエラー信号はF、E>0となる。逆に対物レンズ16
が光ディスクに対し合焦位置に近づいた場合、第6C図
に示されるように、光検出領域20J及び光検出領域2
OH上には、合焦時の像よりも大きい半月形の像が形成
される。このときフォー力ッシングエラー信号はF、E
goとなる。第6A図及び第60に示される2つの半円
像は合焦時の円形像よりも大きく形成される。
れた場合は、第6A図に示されるように、光検出領域2
0G及び光検出領域201上には、合焦時の像よりも大
きい半月形の像が形成される。このときフォー力ッシン
グエラー信号はF、E>0となる。逆に対物レンズ16
が光ディスクに対し合焦位置に近づいた場合、第6C図
に示されるように、光検出領域20J及び光検出領域2
OH上には、合焦時の像よりも大きい半月形の像が形成
される。このときフォー力ッシングエラー信号はF、E
goとなる。第6A図及び第60に示される2つの半円
像は合焦時の円形像よりも大きく形成される。
一方光検出領域20G、20Jと光検出領域20H12
01の間に配置されている光検出領域20に、2OL上
には、複屈折体28.29で復層折されずに透過される
断面円形状の光ビームL3のビームスポットS3が形成
される。このビームスポット形状及びこのビームスポッ
トを利用したトラッキングエラー信号の検出は、第5図
に示される光検出器と同様の方法で処理される。さらに
また光デイスク上に記録された情報の再生もまた第5図
に示される光検出器と同様の方法で処理される。
01の間に配置されている光検出領域20に、2OL上
には、複屈折体28.29で復層折されずに透過される
断面円形状の光ビームL3のビームスポットS3が形成
される。このビームスポット形状及びこのビームスポッ
トを利用したトラッキングエラー信号の検出は、第5図
に示される光検出器と同様の方法で処理される。さらに
また光デイスク上に記録された情報の再生もまた第5図
に示される光検出器と同様の方法で処理される。
上に述べた実施例には、記録された情報を光強度変調さ
れた光ビームによって読取るコンパクトディスク(C−
D)のような情報記録媒体が説明されている。しかしな
がらこの発明の焦点制御装置においては、記録情報を偏
光面の回転された光ビームとして読取る光磁気ディスク
のような情報記録媒体が利用されてもよい。光磁気ディ
スクからはその記録面でおこされるファラデー効果又は
カー効果などの光磁気効果を利用して情報が再生される
。このことを詳細にのべると、光磁気ディスクの片面に
は磁性体の薄膜がコーティングされている。情報が記録
されていないとき、光磁気ディスク上の磁性体の薄膜は
その面に垂直な一方の方向に磁化されている。記録時に
おいては記録されるべき情報に応じて強度変調された先
ビームが入射されると共に、記録面と垂直で記録面が磁
化されている方向と反対方向に外部から静磁界が与えら
れる。これによって光ビームの照射された領域の磁性体
の保持力が外部磁界・より弱められたときに、その磁性
体の磁気モーメントの向きが反転されて情報が磁気モー
メントの向きとして記録媒体−Lに記録される。一方こ
のようにして記録された光磁気ディスクから情報を読取
るとき、半導体レーザなどから光記録媒体に向けて直線
偏光された一定強度の光ビームが出射される。直線偏光
された光ビームは光磁気記録媒体上の記録面に照射され
て透過又は反射される。透過又は反射されるとき記録面
に照射された光ビームの偏光面は、記録面の磁気モーメ
ントの向きに応じてわずかに角度±φで回転されて透過
又は反射される。この現象(ファラデー効果又はカー効
果などの光磁気効果)を利用することによって情報が再
生される。
れた光ビームによって読取るコンパクトディスク(C−
D)のような情報記録媒体が説明されている。しかしな
がらこの発明の焦点制御装置においては、記録情報を偏
光面の回転された光ビームとして読取る光磁気ディスク
のような情報記録媒体が利用されてもよい。光磁気ディ
スクからはその記録面でおこされるファラデー効果又は
カー効果などの光磁気効果を利用して情報が再生される
。このことを詳細にのべると、光磁気ディスクの片面に
は磁性体の薄膜がコーティングされている。情報が記録
されていないとき、光磁気ディスク上の磁性体の薄膜は
その面に垂直な一方の方向に磁化されている。記録時に
おいては記録されるべき情報に応じて強度変調された先
ビームが入射されると共に、記録面と垂直で記録面が磁
化されている方向と反対方向に外部から静磁界が与えら
れる。これによって光ビームの照射された領域の磁性体
の保持力が外部磁界・より弱められたときに、その磁性
体の磁気モーメントの向きが反転されて情報が磁気モー
メントの向きとして記録媒体−Lに記録される。一方こ
のようにして記録された光磁気ディスクから情報を読取
るとき、半導体レーザなどから光記録媒体に向けて直線
偏光された一定強度の光ビームが出射される。直線偏光
された光ビームは光磁気記録媒体上の記録面に照射され
て透過又は反射される。透過又は反射されるとき記録面
に照射された光ビームの偏光面は、記録面の磁気モーメ
ントの向きに応じてわずかに角度±φで回転されて透過
又は反射される。この現象(ファラデー効果又はカー効
果などの光磁気効果)を利用することによって情報が再
生される。
再び第1図及び第2図を参照して、情報記録媒体として
光磁気ディスク(MOD)が備えられるときの、再生信
号を含む光ビームの検出方法とその処理方法を説明する
。
光磁気ディスク(MOD)が備えられるときの、再生信
号を含む光ビームの検出方法とその処理方法を説明する
。
第1図において半導体レーザなどの光源11から一定強
度で例えばZ方向に偏光面を有する光ビームLが発生さ
れる。この光ビームLはコリメータレンズ13によって
平行光束に変換されてハーフプリズム14に導かれる。
度で例えばZ方向に偏光面を有する光ビームLが発生さ
れる。この光ビームLはコリメータレンズ13によって
平行光束に変換されてハーフプリズム14に導かれる。
ハーフプリズム14に導かれた光ビームLは、透過され
て対物レンズ16で集光されて光磁気ディスク1の垂直
磁化膜に照射される。垂直磁化膜上に照射された光ビー
ムは反射されて発散性の光ビームとして対物レンズ16
に再び戻される。垂直磁化膜上で光ビームが反射される
際、入射光ビームは垂直磁化膜の磁化方向に応じてその
偏光面が回転される。すなわち例えば2方向又はX方向
に偏光面を宵して入射された光ビームは、光磁気効果に
よってその偏光面が基準面に対してわずかに角度(+φ
°)又は角度(−φ°)で回転されて出射される。偏光
面の回転されて出射された光ビームは、ハーフプリズム
14に戻されてその接合面で反射される。ハーフプリズ
ム14で反射された光ビームは偏光面を所定角度、好ま
しくは45度回転させるための1/2波長板21に入射
される。1/2波長板21に入射された光ビームは偏光
面が45度回転されて出射される。換言すると、1/2
波長板21において光ビームの偏光面は紙面に平行な平
面(Z−Y平面)と、紙面に垂直で入射ビームに平行な
平面(X−Z平面)とに対して互いにθ−(45±φ)
0で回転されて出射される。より正確に述べると、光磁
気ディスクの垂直磁化膜で反射されて戻される光ビーム
は、カー効果によってその偏光面がわずかに回転角(+
φ°)又は回転角(−φ°)で回転されて出射される。
て対物レンズ16で集光されて光磁気ディスク1の垂直
磁化膜に照射される。垂直磁化膜上に照射された光ビー
ムは反射されて発散性の光ビームとして対物レンズ16
に再び戻される。垂直磁化膜上で光ビームが反射される
際、入射光ビームは垂直磁化膜の磁化方向に応じてその
偏光面が回転される。すなわち例えば2方向又はX方向
に偏光面を宵して入射された光ビームは、光磁気効果に
よってその偏光面が基準面に対してわずかに角度(+φ
°)又は角度(−φ°)で回転されて出射される。偏光
面の回転されて出射された光ビームは、ハーフプリズム
14に戻されてその接合面で反射される。ハーフプリズ
ム14で反射された光ビームは偏光面を所定角度、好ま
しくは45度回転させるための1/2波長板21に入射
される。1/2波長板21に入射された光ビームは偏光
面が45度回転されて出射される。換言すると、1/2
波長板21において光ビームの偏光面は紙面に平行な平
面(Z−Y平面)と、紙面に垂直で入射ビームに平行な
平面(X−Z平面)とに対して互いにθ−(45±φ)
0で回転されて出射される。より正確に述べると、光磁
気ディスクの垂直磁化膜で反射されて戻される光ビーム
は、カー効果によってその偏光面がわずかに回転角(+
φ°)又は回転角(−φ°)で回転されて出射される。
そのため172波長板から出射される光ビームの偏光面
もそれに応じて紙面に平行な平面(Z−Y平面)と、紙
面に垂直で入射ビームに平行な平面(X−Z平面)とに
対してθ−(45+φ)°又はθ−(45−φ)0で傾
けられる。偏光面の傾けられた光ビームは、球面レンズ
17を透過されれてその光路上に配置された第1及び第
2の複屈折体28.29に入射される。第1及び第2の
複屈折体28.29は入射される光ビームの光路上に配
置され、第1及び第2の複屈折体28.29によって入
射ビームの一部、すなわち紙面(Z−Y平面)に平行な
偏光成分の光ビームL3は透過され、同時に残りの光ビ
ームすなわち紙面に垂直な面(X−Z平面)に平行な偏
光成分は複屈折によって光軸を境に2つの互いに平行な
第1の光ビームL1及び第2の光ビームL2に分岐され
る。なお光磁気ディスクの垂直磁化膜から反射されて戻
される光ビームは、光磁気効果によって1/2波長板2
1でその偏光面が紙面に平行な平面(Z−Y平面)と、
紙面に垂直で入射ビムに平行な平面(X−Z平面)とに
対してθ−(45+φ)°又はθ−(45−φ)°で傾
けられる。そのため回転角が+φか又は−φかに応じて
紙面(Z−Y平面)に平行な偏光成分の光強度と紙面に
垂直な面(X−Z平面)に平行な偏光成分の光強度との
比が異なる。このようにして第1及び第2の複屈折体2
8.29を真直ぐ透過される光ビームL3、及び第1及
び第2の複屈折体で准屈折されて透過される光ビームL
1、L2は集束されながら光検出器20上に照射される
。
もそれに応じて紙面に平行な平面(Z−Y平面)と、紙
面に垂直で入射ビームに平行な平面(X−Z平面)とに
対してθ−(45+φ)°又はθ−(45−φ)0で傾
けられる。偏光面の傾けられた光ビームは、球面レンズ
17を透過されれてその光路上に配置された第1及び第
2の複屈折体28.29に入射される。第1及び第2の
複屈折体28.29は入射される光ビームの光路上に配
置され、第1及び第2の複屈折体28.29によって入
射ビームの一部、すなわち紙面(Z−Y平面)に平行な
偏光成分の光ビームL3は透過され、同時に残りの光ビ
ームすなわち紙面に垂直な面(X−Z平面)に平行な偏
光成分は複屈折によって光軸を境に2つの互いに平行な
第1の光ビームL1及び第2の光ビームL2に分岐され
る。なお光磁気ディスクの垂直磁化膜から反射されて戻
される光ビームは、光磁気効果によって1/2波長板2
1でその偏光面が紙面に平行な平面(Z−Y平面)と、
紙面に垂直で入射ビムに平行な平面(X−Z平面)とに
対してθ−(45+φ)°又はθ−(45−φ)°で傾
けられる。そのため回転角が+φか又は−φかに応じて
紙面(Z−Y平面)に平行な偏光成分の光強度と紙面に
垂直な面(X−Z平面)に平行な偏光成分の光強度との
比が異なる。このようにして第1及び第2の複屈折体2
8.29を真直ぐ透過される光ビームL3、及び第1及
び第2の複屈折体で准屈折されて透過される光ビームL
1、L2は集束されながら光検出器20上に照射される
。
光検出器20上に照射された光ビームは、その光検出領
域で電気信号に変換されて所定の方向で処理される。光
検出器20の光検出領域上には光ビームによって第5図
及び第6図と同一のビームスポットが形成される。その
ため、例えば焦点制御及びトラッキング制御は第7図に
説明した方法と同様の信号処理方法で制御される。一方
、光磁気記録媒体に記載された情報の読取りは、読取り
情報に対応する垂直磁化膜の回転角(+φ又は−φ)に
応じて変化される、紙面(Z−Y平面)に平行な偏光成
分の光強度と紙面に垂直な面(X−Z平面)に平行な偏
光成分の光強度とを比較することによって検出される。
域で電気信号に変換されて所定の方向で処理される。光
検出器20の光検出領域上には光ビームによって第5図
及び第6図と同一のビームスポットが形成される。その
ため、例えば焦点制御及びトラッキング制御は第7図に
説明した方法と同様の信号処理方法で制御される。一方
、光磁気記録媒体に記載された情報の読取りは、読取り
情報に対応する垂直磁化膜の回転角(+φ又は−φ)に
応じて変化される、紙面(Z−Y平面)に平行な偏光成
分の光強度と紙面に垂直な面(X−Z平面)に平行な偏
光成分の光強度とを比較することによって検出される。
換言すると、光ビームL3の光強度と光ビームL1、L
2の光強度との差信号を検出することによって光ディス
ク1 (MOD)上の情報は読取られる。光検出領域2
OA乃至20F上(光検出領域20G乃至2OL)で検
出される信号を■〜■とすると光磁気ディスク用(MO
D用)の情報再生信号は、 情報再生信号(MOD用) −((■+■+■+■)−(■+■))であられされる
。
2の光強度との差信号を検出することによって光ディス
ク1 (MOD)上の情報は読取られる。光検出領域2
OA乃至20F上(光検出領域20G乃至2OL)で検
出される信号を■〜■とすると光磁気ディスク用(MO
D用)の情報再生信号は、 情報再生信号(MOD用) −((■+■+■+■)−(■+■))であられされる
。
このMOD用の情報再生信号は第1図に示した15号処
理回路50に供給されて所定の方法で処理される。
理回路50に供給されて所定の方法で処理される。
次に第7図を参照して光検出器で検出された電気信号の
処理回路について説明する。光検出領域2OA及び20
C(20G及び20■)の出力は増幅回路31Aに供給
される。光検出領域20B及び20D (20H及び2
0J)の出力は増幅回路31Bに供給される。光検出領
域20E(20K)の出力は増幅回路31Cに供給され
る。光検出領域20F (2OL)の出力は増幅回路3
1Dにそれ供給される。各増幅器31A〜31Dに供給
された各信号はそれぞれ増幅されて加算回路36に供給
される。加算回路36で加算された信号、すなわち情報
記録媒体で光強度変調される情報再生信号は、図示しな
い制御回路に供給される。
処理回路について説明する。光検出領域2OA及び20
C(20G及び20■)の出力は増幅回路31Aに供給
される。光検出領域20B及び20D (20H及び2
0J)の出力は増幅回路31Bに供給される。光検出領
域20E(20K)の出力は増幅回路31Cに供給され
る。光検出領域20F (2OL)の出力は増幅回路3
1Dにそれ供給される。各増幅器31A〜31Dに供給
された各信号はそれぞれ増幅されて加算回路36に供給
される。加算回路36で加算された信号、すなわち情報
記録媒体で光強度変調される情報再生信号は、図示しな
い制御回路に供給される。
増幅回路31Aの出力及び増幅回路31Bの出力は、フ
ォー力ッシング制御信号を駆動回路44に供給するため
に利用される。すなわち増幅回路31Aの出力は比較回
路41の反転入力端に供給され、増幅回路31Bの出力
は比較回路41の非反転入力端に供給される。比較回路
41において光検出領域2OA、20Cの検出信号の加
算結果と光検出領域20B、20Dの検出信号の加算結
果とは比較され、その差信号に応じた出力即ち、フォー
カス制御信号がフォー力ッシング用の駆動回路44にフ
ィードバックされる。駆動回路44にフィードバックさ
れる焦点ぼけ検出信号に応じて対物レンズ16をその先
軸方向に駆動するコイル(図示しない)に電流が供給さ
れる。供給された電流に応じて対物レンズ16が駆動さ
れて焦点ぼけが補正される。
ォー力ッシング制御信号を駆動回路44に供給するため
に利用される。すなわち増幅回路31Aの出力は比較回
路41の反転入力端に供給され、増幅回路31Bの出力
は比較回路41の非反転入力端に供給される。比較回路
41において光検出領域2OA、20Cの検出信号の加
算結果と光検出領域20B、20Dの検出信号の加算結
果とは比較され、その差信号に応じた出力即ち、フォー
カス制御信号がフォー力ッシング用の駆動回路44にフ
ィードバックされる。駆動回路44にフィードバックさ
れる焦点ぼけ検出信号に応じて対物レンズ16をその先
軸方向に駆動するコイル(図示しない)に電流が供給さ
れる。供給された電流に応じて対物レンズ16が駆動さ
れて焦点ぼけが補正される。
増幅回路31Cの出力及び増幅回路31Dの出力は、ト
ラッキング制御信号(T−E)を駆動回路45に供給す
るために利用される。増幅回路31Cの出力は比較回路
42の反転入力端に供給され、増幅回路31Dの出力は
比較回路42の非反転入力端に供給される。比較回路4
2において、光検出領域20Eの検出出力と光検出領域
20Fの検出出力の加算結果とは比較され、その差に応
じた出力即ち、トラッキングずれ検出信号が駆動回路4
5にフィードバックされる。駆動回路45にフィードバ
ックされるトラッキング制御信号に応じて対物レンズ1
6をその先軸に垂直な平面内で駆動するコイルに(図示
しない)電流が供給される。これにより対物レンズ16
が駆動されてトラッキングずれが補正される。
ラッキング制御信号(T−E)を駆動回路45に供給す
るために利用される。増幅回路31Cの出力は比較回路
42の反転入力端に供給され、増幅回路31Dの出力は
比較回路42の非反転入力端に供給される。比較回路4
2において、光検出領域20Eの検出出力と光検出領域
20Fの検出出力の加算結果とは比較され、その差に応
じた出力即ち、トラッキングずれ検出信号が駆動回路4
5にフィードバックされる。駆動回路45にフィードバ
ックされるトラッキング制御信号に応じて対物レンズ1
6をその先軸に垂直な平面内で駆動するコイルに(図示
しない)電流が供給される。これにより対物レンズ16
が駆動されてトラッキングずれが補正される。
加算回路36の出力は信号処理回路43に供給される。
この信号処理回路43に供給された光検出信号は、コン
パクトディスク(C−D)のように記録情報が光強度変
調された反射される情報記録媒体から情報を再生するた
めに利用される。
パクトディスク(C−D)のように記録情報が光強度変
調された反射される情報記録媒体から情報を再生するた
めに利用される。
さらにまた光磁気記録媒体(MOD)から情報が読取ら
れるべきときには、増幅回路31Aの出力及び増幅回路
31Bの出力が比較回路48の反転入力端に供給され、
増幅回路31Cの出力及び増幅回路31Dの出力が比較
回路48の非反転入力端に供給される。したがって比較
回路48において、光検出領域2OA乃至20Dの検出
信号の加算結果と光検出領域20E及び20Fの検出信
号の加算結果とが比較されて情報再生信号に相当するそ
の差信号が検出される。この差信号が信号処理回路50
で処理されることによって光磁気記録媒体に記録された
情報が再生される。
れるべきときには、増幅回路31Aの出力及び増幅回路
31Bの出力が比較回路48の反転入力端に供給され、
増幅回路31Cの出力及び増幅回路31Dの出力が比較
回路48の非反転入力端に供給される。したがって比較
回路48において、光検出領域2OA乃至20Dの検出
信号の加算結果と光検出領域20E及び20Fの検出信
号の加算結果とが比較されて情報再生信号に相当するそ
の差信号が検出される。この差信号が信号処理回路50
で処理されることによって光磁気記録媒体に記録された
情報が再生される。
上述した焦点制御装置においては、半導体レーザ11か
ら発生された発散性のレーザビームLは、コリメータレ
ンズ13によって平行光束に変換され、ハーフプリズム
14に導かれる。このハーフプリズム14に導かれたレ
ーザ光りは、このハーフプリズム14を通過した後に対
物レンズ16に入射される。入射された光ビームは対物
レンズ16によって光ディスク1の記録膜に向けて集光
される。
ら発生された発散性のレーザビームLは、コリメータレ
ンズ13によって平行光束に変換され、ハーフプリズム
14に導かれる。このハーフプリズム14に導かれたレ
ーザ光りは、このハーフプリズム14を通過した後に対
物レンズ16に入射される。入射された光ビームは対物
レンズ16によって光ディスク1の記録膜に向けて集光
される。
情報の記録においては、光デイスク1上へ強光度の変調
されたレーザビーム(記録ビーム)が照射されることに
より光デイスク1上のトラックにピットが形成される。
されたレーザビーム(記録ビーム)が照射されることに
より光デイスク1上のトラックにピットが形成される。
情報の再生においては、弱光度の定常レーザビーム(再
生ビーム光)が光デイスク1上に照射されビットによっ
て強度変調される。再生ビームに対する光ディスク1か
らの反射光は対物レンズ16によって・「行光束に変換
されて再びハーフプリズム14に戻される。そして、ハ
ーフプリズム14で反射されたレーザビームしは、1/
2波長板21を透過されて、その偏光面が傾けられる。
生ビーム光)が光デイスク1上に照射されビットによっ
て強度変調される。再生ビームに対する光ディスク1か
らの反射光は対物レンズ16によって・「行光束に変換
されて再びハーフプリズム14に戻される。そして、ハ
ーフプリズム14で反射されたレーザビームしは、1/
2波長板21を透過されて、その偏光面が傾けられる。
偏光面の傾けられた光ビームは、球面凸レンズ17を通
過されて第1及び第2の複屈折体28.29に入射され
る。第1及び第2の複屈折体28.29に入射された光
ビームのうち、その略半分の光ビーム、すなわち紙面に
平行な偏光成分の第3の光ビームL3は真直ぐに透過さ
れて光検出器20の光検出領域20E、20F上に照射
される。また残りの紙面に垂直な偏光成分の先ビームは
複屈折されて入射ビームの光軸、すなわち複屈折体28
.29の接合面を境にして互いに反対方向に複屈折され
て略平行な第1の光ビームL1及び第2の光ビームL2
に分岐される。第1の複屈折体28で複屈折されて透過
される光ビームL1は光検出領域2OA、2OD上に照
射され、また第2の複屈折体29で複屈折されて透過さ
れる光ビームL1は光検出領域20B、2OC上に照射
される。その結果、照射光に応じた信号が光検出領域2
0A〜20Fから出力され、それらの信号が増幅回路3
1A〜31Dに供給される。
過されて第1及び第2の複屈折体28.29に入射され
る。第1及び第2の複屈折体28.29に入射された光
ビームのうち、その略半分の光ビーム、すなわち紙面に
平行な偏光成分の第3の光ビームL3は真直ぐに透過さ
れて光検出器20の光検出領域20E、20F上に照射
される。また残りの紙面に垂直な偏光成分の先ビームは
複屈折されて入射ビームの光軸、すなわち複屈折体28
.29の接合面を境にして互いに反対方向に複屈折され
て略平行な第1の光ビームL1及び第2の光ビームL2
に分岐される。第1の複屈折体28で複屈折されて透過
される光ビームL1は光検出領域2OA、2OD上に照
射され、また第2の複屈折体29で複屈折されて透過さ
れる光ビームL1は光検出領域20B、2OC上に照射
される。その結果、照射光に応じた信号が光検出領域2
0A〜20Fから出力され、それらの信号が増幅回路3
1A〜31Dに供給される。
このような状態におけるフォーカシング動作について説
明する。すなわち、上記増幅回路31A131Bからの
信号は比較回路41に供給される。
明する。すなわち、上記増幅回路31A131Bからの
信号は比較回路41に供給される。
これにより比較回路41において、上記光検出領域2O
A、20Cの検出信号の加算結果と上記光検出領域20
B、20Dの検出信号の加算結果とが比較され、その差
信号つまり焦点制御信号が駆動回路44にフィードバッ
クされる。駆動回路44にフィードバックされた焦点制
御信号に応じてコイル(図示しない)に電流が供給され
る。供給された電流に応じて対物レンズ16が光軸方向
に駆動されて光ビームのフォーカス状態が制御される。
A、20Cの検出信号の加算結果と上記光検出領域20
B、20Dの検出信号の加算結果とが比較され、その差
信号つまり焦点制御信号が駆動回路44にフィードバッ
クされる。駆動回路44にフィードバックされた焦点制
御信号に応じてコイル(図示しない)に電流が供給され
る。供給された電流に応じて対物レンズ16が光軸方向
に駆動されて光ビームのフォーカス状態が制御される。
まなトラッキング動作について説明する。すなわち増幅
回路31C,31Dからの信号は比較回路42に供給さ
れる。これにより光検出領域20Eと検出領域20Fの
検出信号の加算結果とは、比較回路42で比較されてそ
の差に応じた出力つまりトラッキング制御信号が駆動回
路45にフィードバックされる。トラッキング制御信号
に応じて駆動回路45からコイル(図示しない)に電流
が供給される。供給された信号に応じて対物レンズ16
はその先軸に垂直な平面上で駆動され光ビームのトラッ
キング位置が制御される。
回路31C,31Dからの信号は比較回路42に供給さ
れる。これにより光検出領域20Eと検出領域20Fの
検出信号の加算結果とは、比較回路42で比較されてそ
の差に応じた出力つまりトラッキング制御信号が駆動回
路45にフィードバックされる。トラッキング制御信号
に応じて駆動回路45からコイル(図示しない)に電流
が供給される。供給された信号に応じて対物レンズ16
はその先軸に垂直な平面上で駆動され光ビームのトラッ
キング位置が制御される。
次に情報の再生について説明する。記録情報が光強度変
調された反射光ビームとして現れるコンパクトディスク
(C−D>のような情報記録媒体から情報を再生すると
きには、半導体レーザ11から一定の光強度のレーザビ
ームLが発生される。
調された反射光ビームとして現れるコンパクトディスク
(C−D>のような情報記録媒体から情報を再生すると
きには、半導体レーザ11から一定の光強度のレーザビ
ームLが発生される。
記録された情報に応じて再生ビーム光全体は強度変調さ
れて光検出器に入射される。光検出器の光検出領域20
A〜20Fの出力は増幅回路31A131B、31C,
31Dに供給される。増幅回路31A、31B、31C
,31Dの総出力が信号処理回路43で処理されること
によって記録されたデータは再生される。
れて光検出器に入射される。光検出器の光検出領域20
A〜20Fの出力は増幅回路31A131B、31C,
31Dに供給される。増幅回路31A、31B、31C
,31Dの総出力が信号処理回路43で処理されること
によって記録されたデータは再生される。
さらにまた光磁気ディスクのように記録情報が光ビーム
の偏光面の回転としてあられれ光磁気ディスクのような
情報記録媒体から情報を再生するときには、半導体レー
ザ11から一定強度の直線偏光されたレーザビームLが
発生される。記録された情報に応じて再生ビームの偏光
面が回転され、その偏光面の回転に応じて複屈折体28
.29を真直ぐに透過される光ビームL3の光強度と、
複屈折されて透過される先ビームL1、L2の光強度の
差信号が変化される。そのため光検出領域2OA乃至2
0Dの総信号に相当する増幅回路31A、31Bの総出
力は比較回路48の反転入力端に供給され、他方光検出
領域20E乃至20Fの総信号に相当する増幅回路31
C131Dの総出力は他方の非反転入力端に供給される
。比較回路48において各信号は比較され、その差信号
が信号処理回路5oで処理されることによって光磁気デ
ィスクに記録されたデータは再生される。
の偏光面の回転としてあられれ光磁気ディスクのような
情報記録媒体から情報を再生するときには、半導体レー
ザ11から一定強度の直線偏光されたレーザビームLが
発生される。記録された情報に応じて再生ビームの偏光
面が回転され、その偏光面の回転に応じて複屈折体28
.29を真直ぐに透過される光ビームL3の光強度と、
複屈折されて透過される先ビームL1、L2の光強度の
差信号が変化される。そのため光検出領域2OA乃至2
0Dの総信号に相当する増幅回路31A、31Bの総出
力は比較回路48の反転入力端に供給され、他方光検出
領域20E乃至20Fの総信号に相当する増幅回路31
C131Dの総出力は他方の非反転入力端に供給される
。比較回路48において各信号は比較され、その差信号
が信号処理回路5oで処理されることによって光磁気デ
ィスクに記録されたデータは再生される。
この発明の焦点制御装置においては、情報記録媒体から
の光ビームが複屈折体において容易に略同じ光強度の光
ビームに分岐されるように、偏光面を45度回転するた
めの1/2波長板21が配置されている。しかしながら
1/2波長板21は必ずしも配置されなくてもよい。た
とえまた偏光面が正確に45度に設定されないとしても
焦点制御、トラッキング制御、情報の再生は可能となる
。
の光ビームが複屈折体において容易に略同じ光強度の光
ビームに分岐されるように、偏光面を45度回転するた
めの1/2波長板21が配置されている。しかしながら
1/2波長板21は必ずしも配置されなくてもよい。た
とえまた偏光面が正確に45度に設定されないとしても
焦点制御、トラッキング制御、情報の再生は可能となる
。
(発明の効果)
この発明の焦点制御装置に設けられた入る複屈折体から
出射される光ビームL1、L2、及びL3の間隔は、各
光学部品の光軸方向のずれに影響されずに略一定に保た
れる。っそのため組立て及び調整の容易な焦点制御装置
が提供される。また複屈折体は平行平板形状に形成され
、その入射面及び出射面が光軸に垂直に配置される。そ
のため光学部品の製造が容易となるとともにコストも低
減される。
出射される光ビームL1、L2、及びL3の間隔は、各
光学部品の光軸方向のずれに影響されずに略一定に保た
れる。っそのため組立て及び調整の容易な焦点制御装置
が提供される。また複屈折体は平行平板形状に形成され
、その入射面及び出射面が光軸に垂直に配置される。そ
のため光学部品の製造が容易となるとともにコストも低
減される。
またこの発明の装置においては同一の光検出器で検出さ
れる信号を利用して焦点制御、トラッキング制御、情報
再生がなされ、特に光磁気記録媒体に記録された情報は
同一の光検出器上に照射された光ビームの検出信号を利
用して再生さ″れる。
れる信号を利用して焦点制御、トラッキング制御、情報
再生がなされ、特に光磁気記録媒体に記録された情報は
同一の光検出器上に照射された光ビームの検出信号を利
用して再生さ″れる。
そのため従来の装置に比べてコンンバクトな装置が提供
される。
される。
第1図はこの発明の焦点制御装置を備える光学ヘッドの
正面図、第2図はこの発明の焦点制御装置の要部を示す
斜視図、第3図は複屈折体に入射される光ビームの光路
図、第4図は異なる角度で傾けられた光学軸を有する2
つの複屈折体に入射される光ビームの光路図、第5A図
乃至第5C図は合焦状態及び非合焦状態における光ビー
ムのビームスポット形状を示す第2図に示した光検出器
の正面図、第6A図乃至第6C図は合焦状態及び非合焦
状態における光ビームのビームスポット形状を示す第2
図に示した光検出器の他の実施例の正面図、第7図は第
5図及び第6図の光検出器で検出された信号の処理方法
を示す電気回路図、第8図は従来の焦点制御装置を備え
る光磁気記録再生装置の正面図、第9図は第8図の1/
2波長板に入射され光ビームの偏光状態を示す図である
。 1・・・情報記録媒体(光ディスク、光磁気ディスク)
、8・・・ボイスコイル、11・・・半導体レーザ、1
4・・・ハーフプリズム、16・・・対物レンズ、20
・・・−光検出器、2OA乃至20F (20G乃至2
0L)・・・光検出領域、21〜25・・・基準線、2
8.29・・・複屈折体、L、Ll、L2、L3・・・
光ビーム、Sl、S2、S3・・・ビームスポット出願
人代理人 弁理士 鈴江武彦
正面図、第2図はこの発明の焦点制御装置の要部を示す
斜視図、第3図は複屈折体に入射される光ビームの光路
図、第4図は異なる角度で傾けられた光学軸を有する2
つの複屈折体に入射される光ビームの光路図、第5A図
乃至第5C図は合焦状態及び非合焦状態における光ビー
ムのビームスポット形状を示す第2図に示した光検出器
の正面図、第6A図乃至第6C図は合焦状態及び非合焦
状態における光ビームのビームスポット形状を示す第2
図に示した光検出器の他の実施例の正面図、第7図は第
5図及び第6図の光検出器で検出された信号の処理方法
を示す電気回路図、第8図は従来の焦点制御装置を備え
る光磁気記録再生装置の正面図、第9図は第8図の1/
2波長板に入射され光ビームの偏光状態を示す図である
。 1・・・情報記録媒体(光ディスク、光磁気ディスク)
、8・・・ボイスコイル、11・・・半導体レーザ、1
4・・・ハーフプリズム、16・・・対物レンズ、20
・・・−光検出器、2OA乃至20F (20G乃至2
0L)・・・光検出領域、21〜25・・・基準線、2
8.29・・・複屈折体、L、Ll、L2、L3・・・
光ビーム、Sl、S2、S3・・・ビームスポット出願
人代理人 弁理士 鈴江武彦
Claims (2)
- (1)被対象物に向けて光ビームを集光するための集光
手段と、 前記被対象物からの光ビームの光軸に対してその光学軸
が互いに異なる角度で配置されると共に、前記光ビーム
の偏光面が光ビームの光軸とその光学軸を含む面に対し
て略45度の角度で入射されるように配置され、入射さ
れる光ビームを互い略平行な複数の光ビームに分岐する
第1及び第2の複屈折体と、 前記被対象物に対する前記集光手段の位置を調整するた
めに前記複数の光ビームに応答する手段とを備えること
を特徴とする焦点制御装置。 - (2)光磁気記録媒体に向けて光ビームを集光するため
の集光手段と、 前記光磁気記録媒体からの光ビームの光軸に対してその
光学軸が互いに異なる角度で配置され、入射される光ビ
ームを異なる偏光成分を有する略平行な第1及び第2の
偏光ビームにそれぞれ分離する第1及び第2の複屈折体
と、 前記光磁気記録媒体に対する前記集光手段の位置を調整
するために前記第1の偏光ビームに応答する手段と、 前記第1の偏光ビームの光強度と第2の偏光ビームの光
強度を比較して光磁気記録媒体に記録された情報を読取
るための手段を備えることを特徴とする焦点制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23821088A JPH0287333A (ja) | 1988-09-22 | 1988-09-22 | 焦点制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23821088A JPH0287333A (ja) | 1988-09-22 | 1988-09-22 | 焦点制御装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0287333A true JPH0287333A (ja) | 1990-03-28 |
Family
ID=17026786
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23821088A Pending JPH0287333A (ja) | 1988-09-22 | 1988-09-22 | 焦点制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0287333A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5369630A (en) * | 1991-03-20 | 1994-11-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical information recording/reproducing apparatus having means for tracking adjustment and a method of use therefore |
KR20010048414A (ko) * | 1999-11-26 | 2001-06-15 | 정주호 | 파워 유닛 마운트 시스템 |
-
1988
- 1988-09-22 JP JP23821088A patent/JPH0287333A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5369630A (en) * | 1991-03-20 | 1994-11-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical information recording/reproducing apparatus having means for tracking adjustment and a method of use therefore |
KR20010048414A (ko) * | 1999-11-26 | 2001-06-15 | 정주호 | 파워 유닛 마운트 시스템 |
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