JPH0214439A - 焦点制御装置 - Google Patents
焦点制御装置Info
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- JPH0214439A JPH0214439A JP16392888A JP16392888A JPH0214439A JP H0214439 A JPH0214439 A JP H0214439A JP 16392888 A JP16392888 A JP 16392888A JP 16392888 A JP16392888 A JP 16392888A JP H0214439 A JPH0214439 A JP H0214439A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
この発明は、光学装置のフォーカス状態を検出するため
の装置に係り、より詳細には情報記録媒体に情報を記録
する又は記録された情報を情報記録媒体から読出す為の
光ビームを情報記録媒体上にフォーカスさせる装置に関
する。
の装置に係り、より詳細には情報記録媒体に情報を記録
する又は記録された情報を情報記録媒体から読出す為の
光ビームを情報記録媒体上にフォーカスさせる装置に関
する。
(従来の技術)
近年、文書などの画像情報を記録し、必要に応じてその
画像情報を検索してハードコピー或いはソフトコピーと
して再生し得る光デイスク装置のような画像情報記録再
生装置が開発されている。
画像情報を検索してハードコピー或いはソフトコピーと
して再生し得る光デイスク装置のような画像情報記録再
生装置が開発されている。
光デイスク装置においては、集束性の光ビームが円盤状
記録媒体、即ち光ディスクに向けて照射されて情報が記
録又は再生される。すなわち、記録時においては、光ビ
ームが照射されることによって記録面上には状態変化が
起こされ、その結果情報は例えばピットとして光ディス
クに記録される。
記録媒体、即ち光ディスクに向けて照射されて情報が記
録又は再生される。すなわち、記録時においては、光ビ
ームが照射されることによって記録面上には状態変化が
起こされ、その結果情報は例えばピットとして光ディス
クに記録される。
また再生時においては定常光ビームが情報記録媒体上に
照射され、記録情報に応じて光ビームはビットで強度変
調される。光ビームの強度変調を処理して情報が再生さ
れる。記録及び再生時には、光ディスクが線速一定に回
転され、光ビームを光ディスクに向けるための光学ヘッ
ドが光デイスク上の半径方向に直線移動される。
照射され、記録情報に応じて光ビームはビットで強度変
調される。光ビームの強度変調を処理して情報が再生さ
れる。記録及び再生時には、光ディスクが線速一定に回
転され、光ビームを光ディスクに向けるための光学ヘッ
ドが光デイスク上の半径方向に直線移動される。
光学ヘッドは、光学ディスク上にレーザ光を集束させる
対物レンズを備え、対物レンズは所定領域に正確に集光
ビームを照射するためにその光軸方向に移動可能に支持
されている。焦点制御系の可動機構によって対物レンズ
が光軸方向に移動されて対物レンズが合焦状態に維持さ
れ、対物レンズからの光ビームが光ディスクに集束され
る。対物レンズを合焦状態に維持させるために記録媒体
上における焦点ずれ状態が検出されその検出結果が対物
レンズの移動機構にフィードバックされる。
対物レンズを備え、対物レンズは所定領域に正確に集光
ビームを照射するためにその光軸方向に移動可能に支持
されている。焦点制御系の可動機構によって対物レンズ
が光軸方向に移動されて対物レンズが合焦状態に維持さ
れ、対物レンズからの光ビームが光ディスクに集束され
る。対物レンズを合焦状態に維持させるために記録媒体
上における焦点ずれ状態が検出されその検出結果が対物
レンズの移動機構にフィードバックされる。
この焦点ずれの検出方法としてウェッジプリズム法が知
られている。
られている。
ウェッジプリズム法において、フォー力ッシング状態に
応じて情報記録媒体から出射された光ビームは集光レン
ズを経てウェッジプリズムで2つのビームに分岐される
。その際、2つの光ビームは入射ビームの光軸に対して
特定角度で互いに異なる方向に出射される。分岐された
光ビームはそれぞれ所定位置に配置された2つの検出器
上に照射され電気信号に変換される。電気信号は所定の
方法で処理され、フォー力ッシングエラーに応じた電流
が対物レンズ駆動用のボイスコイルに供給される。ボイ
スコイルに電流が供給されることによって対物レンズが
駆動され、光ビームが情報記録媒体上に合焦される。
応じて情報記録媒体から出射された光ビームは集光レン
ズを経てウェッジプリズムで2つのビームに分岐される
。その際、2つの光ビームは入射ビームの光軸に対して
特定角度で互いに異なる方向に出射される。分岐された
光ビームはそれぞれ所定位置に配置された2つの検出器
上に照射され電気信号に変換される。電気信号は所定の
方法で処理され、フォー力ッシングエラーに応じた電流
が対物レンズ駆動用のボイスコイルに供給される。ボイ
スコイルに電流が供給されることによって対物レンズが
駆動され、光ビームが情報記録媒体上に合焦される。
(発明が解決しようとする課題)
ウェッジプリズム法を用いた焦点制御においては、光ビ
ームはウェッジプリズムで入射光軸に対して特定角度で
互いに異なる方向に出射する2つのビームに分岐される
。このため2つのビームを検出する2つの検出器の間隔
は、ウェッジプリズムと検出器の間の光軸方向の距離に
大きく依存する。正確なフォー力ッシング制御を達成す
るにはウェッジプリズムの取付は位置に応じて検出器間
隔が調整されなければならない。
ームはウェッジプリズムで入射光軸に対して特定角度で
互いに異なる方向に出射する2つのビームに分岐される
。このため2つのビームを検出する2つの検出器の間隔
は、ウェッジプリズムと検出器の間の光軸方向の距離に
大きく依存する。正確なフォー力ッシング制御を達成す
るにはウェッジプリズムの取付は位置に応じて検出器間
隔が調整されなければならない。
この発明は、情報記録媒体上のフォーカス状態を検出す
るための、新たな焦点制御装置を提供することを目的と
する。
るための、新たな焦点制御装置を提供することを目的と
する。
また、この発明は光学部品の光軸方向の位置ずれによっ
ておこる検出器間隔の位置調整の問題を解決し、それに
よって組立てや調整の容易な焦点制御装置を提供するこ
とを目的とする。
ておこる検出器間隔の位置調整の問題を解決し、それに
よって組立てや調整の容易な焦点制御装置を提供するこ
とを目的とする。
[発明の構成]
(課頴を解決するための手段)
この発明によれば、光ビームを発生する光源と、前記光
源からの光ビームを記録媒体上に集束するための集束手
段と、前記光源からの光ビーム及び前記記録媒体からの
光ビームの同一の光路上に配置され前記記録媒体からの
光ビームを互いに略平行な第1及び第2の光ビームに分
岐する第1及び第2の複屈折体と、前記記録媒体に対す
る前記集束手段の位置を調整する前記第1及び第2の光
ビームに応答する手段を備える焦点制御装置が提供され
る。
源からの光ビームを記録媒体上に集束するための集束手
段と、前記光源からの光ビーム及び前記記録媒体からの
光ビームの同一の光路上に配置され前記記録媒体からの
光ビームを互いに略平行な第1及び第2の光ビームに分
岐する第1及び第2の複屈折体と、前記記録媒体に対す
る前記集束手段の位置を調整する前記第1及び第2の光
ビームに応答する手段を備える焦点制御装置が提供され
る。
(作用)
この発明においては、第1及び第2の複屈折体から入射
される光ビームの間隔りが各光学部品の光軸のずれに影
響されずに略一定に保たれるため組立て及び調整が容易
となる。
される光ビームの間隔りが各光学部品の光軸のずれに影
響されずに略一定に保たれるため組立て及び調整が容易
となる。
(実施例)
この発明の一実施例を図面を参照しながら以下に説明す
る。
る。
第1図は、この発明の焦点制御装置が組込まれる光デイ
スク装置の側面図を示している。第1図において光ディ
スク(記録媒体)1は、ガラス或いは、プラスチックス
等の円盤状の基板上に情報記録膜としてテルル或いは、
ビスマス等の金属波膜がコーティングされて形成される
。円盤状の基板上には、記録領域を定めるグループ5が
同心円状に形成されている。光ディスク1に対向して光
学ヘッド3が設けられ、記録、再生及び検索時には、光
ディスク1が光学ヘッド3に対して線速−定で回転駆動
される。第1図に示した光ディスクにおいて、記録領域
を規定するグループ5はY方向に延出されている。
スク装置の側面図を示している。第1図において光ディ
スク(記録媒体)1は、ガラス或いは、プラスチックス
等の円盤状の基板上に情報記録膜としてテルル或いは、
ビスマス等の金属波膜がコーティングされて形成される
。円盤状の基板上には、記録領域を定めるグループ5が
同心円状に形成されている。光ディスク1に対向して光
学ヘッド3が設けられ、記録、再生及び検索時には、光
ディスク1が光学ヘッド3に対して線速−定で回転駆動
される。第1図に示した光ディスクにおいて、記録領域
を規定するグループ5はY方向に延出されている。
光学ヘッド3には光源としての半導体レーザ11が備え
られている。この発明においては半導体レーザ11は後
に述べる光検出器20X。
られている。この発明においては半導体レーザ11は後
に述べる光検出器20X。
20Yに接近して設けられ、好ましくは光検出器20X
と光検出器20Yの間に挟まれるように配置されると共
に、各光検出器の受光面と光源11の光ビーム出射面が
略同−平面上に配置されるように配置されている。半導
体レーザ11からは発散性のレーザビームLが発生され
る。光ビームLは情報を光ディスク1の記録膜に書込む
記録時には書込むべき情報に応じてその光強度が変調さ
れて発生され、又情報を光ディスク1の記録膜から読み
出す再生時には一定の強度で発生される。半導体レーザ
11からは特定方向、例えば第1図に於いてはY方向に
直線偏光された発散性の光ビームLが発生される。直線
偏光された光ビームLはその光路上に配置、された第1
及び第2の複屈折体28.29に入射される。第1図に
おいて複屈折体28.29は互いにその側面で接合され
て紙面に垂直な方向(Y方向)に延出されている。また
複屈折体の各光学軸A、Bは光軸に対して互いに異なる
方向に傾けて配置されている。複屈折体28.29に入
射された光ビームLは透過されてレンズ17に入射され
る。入射された光ビームLはレンズ17によって平行光
束に変換されてその光路上に配置された1/4波長板1
8に入射される。1/4波長板18に入射されたY方向
に偏光面ををする直線偏光された光ビームLはその位相
がシフトされて円偏光の光ビームLに変換される。
と光検出器20Yの間に挟まれるように配置されると共
に、各光検出器の受光面と光源11の光ビーム出射面が
略同−平面上に配置されるように配置されている。半導
体レーザ11からは発散性のレーザビームLが発生され
る。光ビームLは情報を光ディスク1の記録膜に書込む
記録時には書込むべき情報に応じてその光強度が変調さ
れて発生され、又情報を光ディスク1の記録膜から読み
出す再生時には一定の強度で発生される。半導体レーザ
11からは特定方向、例えば第1図に於いてはY方向に
直線偏光された発散性の光ビームLが発生される。直線
偏光された光ビームLはその光路上に配置、された第1
及び第2の複屈折体28.29に入射される。第1図に
おいて複屈折体28.29は互いにその側面で接合され
て紙面に垂直な方向(Y方向)に延出されている。また
複屈折体の各光学軸A、Bは光軸に対して互いに異なる
方向に傾けて配置されている。複屈折体28.29に入
射された光ビームLは透過されてレンズ17に入射され
る。入射された光ビームLはレンズ17によって平行光
束に変換されてその光路上に配置された1/4波長板1
8に入射される。1/4波長板18に入射されたY方向
に偏光面ををする直線偏光された光ビームLはその位相
がシフトされて円偏光の光ビームLに変換される。
円偏光された光ビームLは光デイスク上に光ビームを集
光するための対物レンズ16に入射され、それによって
集束性の光ビームLが光ディスク1の記録膜上に集光さ
れる。
光するための対物レンズ16に入射され、それによって
集束性の光ビームLが光ディスク1の記録膜上に集光さ
れる。
対物レンズ16は、その先軸方向及び光軸と直交する面
内方向で移動可能に支持される。対物レンズ16が光軸
上の最適位置即ち、合焦位置に配置されると、この対物
レンズ16から発せられた集束性のレーザビームLのビ
ームウェストが光ディスク1の記録膜の表面上に投射さ
れ、それによって最少ビームスポットが光ディスク1の
記録膜の表面上に形成される。一方、対物レンズ16が
光軸と直交する面内(記録膜面に平行な面内)で最適位
置即ち、合トラック位置に配置されると光デイスク1上
に形成されるビームスポットが記録領域として定められ
たトラック上に正確に形成され、それによってトラック
がレーザビームで追跡される。この2つの状態(合焦状
態・合トラック状態)が保たれることによって情報の書
込み及び読出しが可能となる。即ち、記録時には強度変
調されたレーザービームによって記録膜にビット等の状
態変化が起こされ、再生時には一定強度のレーザビーム
がトラック内のビット等で形成された記録領域で強度変
調されて反射される。
内方向で移動可能に支持される。対物レンズ16が光軸
上の最適位置即ち、合焦位置に配置されると、この対物
レンズ16から発せられた集束性のレーザビームLのビ
ームウェストが光ディスク1の記録膜の表面上に投射さ
れ、それによって最少ビームスポットが光ディスク1の
記録膜の表面上に形成される。一方、対物レンズ16が
光軸と直交する面内(記録膜面に平行な面内)で最適位
置即ち、合トラック位置に配置されると光デイスク1上
に形成されるビームスポットが記録領域として定められ
たトラック上に正確に形成され、それによってトラック
がレーザビームで追跡される。この2つの状態(合焦状
態・合トラック状態)が保たれることによって情報の書
込み及び読出しが可能となる。即ち、記録時には強度変
調されたレーザービームによって記録膜にビット等の状
態変化が起こされ、再生時には一定強度のレーザビーム
がトラック内のビット等で形成された記録領域で強度変
調されて反射される。
光ディスク1の記録膜で反射された発散性の光ビームL
は、合焦時において対物レンズ16によって平行光束に
変換されて再び1/4波長板18に戻される。1/4波
長板18に戻される光ビームLは再び位相シフトされて
円偏光ビームからX方向に偏光面を有する直線偏光ビー
ムに変換される。X方向に直線偏光された光ビームLは
、集束用のレンズ17を透過され再びその光路上に配置
された第1及び第2の複屈折体28.29に入射される
。このとき、第1及び第2の複屈折体28.29の形状
及び光学軸の傾きは、入射された光ビームに対して所望
の特性があられれるように設定されている。すなわち第
1及び第2の複屈折体28.29はそこを透過されるX
方向に直線偏光された光ビームLが、その光軸が互いに
平行な第1及び第2の光ビームに分岐されるように配さ
れている。このように配置された複屈折体28.29で
分岐された光ビームL1、L2はそれぞれ光Mllの出
射面の両側に近接して配置された光検出器20X、20
Yに照射される。
は、合焦時において対物レンズ16によって平行光束に
変換されて再び1/4波長板18に戻される。1/4波
長板18に戻される光ビームLは再び位相シフトされて
円偏光ビームからX方向に偏光面を有する直線偏光ビー
ムに変換される。X方向に直線偏光された光ビームLは
、集束用のレンズ17を透過され再びその光路上に配置
された第1及び第2の複屈折体28.29に入射される
。このとき、第1及び第2の複屈折体28.29の形状
及び光学軸の傾きは、入射された光ビームに対して所望
の特性があられれるように設定されている。すなわち第
1及び第2の複屈折体28.29はそこを透過されるX
方向に直線偏光された光ビームLが、その光軸が互いに
平行な第1及び第2の光ビームに分岐されるように配さ
れている。このように配置された複屈折体28.29で
分岐された光ビームL1、L2はそれぞれ光Mllの出
射面の両側に近接して配置された光検出器20X、20
Yに照射される。
光検出320X、2OY上に照射された光ビームL1及
びL2は光検出器の各光検出領域で電気信号に変換され
て所定の方法で処理される。信号が処理されることによ
って比較回路41からは光デイスク1上の光ビームの焦
点ぼけに相当する信号、すなわちフォー力ッシングエラ
ー信号(F、E)が発生される。その発生された信号に
応じて駆動回路44に電流が供給され、それに応じてボ
イスコイル8に電流が供給されて対物レンズ16がその
光軸方向に駆動されて光ビームの焦点が制御される。ま
た比較回路42からはトラッキングエラー信号(T、E
)が発生される。そのトラッキング信号に応じてトラッ
キング制御用の駆動回路45に電流が供給されて光学ヘ
ッド3が対物レンズ16の光軸に垂直な面内で直線的に
駆動され、それによつて所定のトラックが光ビームによ
って追跡される。更に光検出器20X、20Yの光検出
領域で検出された信号の全ては信号処理回路43で処理
されて情報再生信号として利用される。
びL2は光検出器の各光検出領域で電気信号に変換され
て所定の方法で処理される。信号が処理されることによ
って比較回路41からは光デイスク1上の光ビームの焦
点ぼけに相当する信号、すなわちフォー力ッシングエラ
ー信号(F、E)が発生される。その発生された信号に
応じて駆動回路44に電流が供給され、それに応じてボ
イスコイル8に電流が供給されて対物レンズ16がその
光軸方向に駆動されて光ビームの焦点が制御される。ま
た比較回路42からはトラッキングエラー信号(T、E
)が発生される。そのトラッキング信号に応じてトラッ
キング制御用の駆動回路45に電流が供給されて光学ヘ
ッド3が対物レンズ16の光軸に垂直な面内で直線的に
駆動され、それによつて所定のトラックが光ビームによ
って追跡される。更に光検出器20X、20Yの光検出
領域で検出された信号の全ては信号処理回路43で処理
されて情報再生信号として利用される。
複屈折体28.29及びその後方に配置された検出器の
配置は第2図に示される。第2図において複屈折体28
.29は例えば方解石のような一軸結晶で構成され平行
平板形状を有している。各複屈折体はx−Z平面に平行
な側面を有し、その側面は互いに入射ビームの光軸に接
するように配置されて互いに貼り合わされている。また
第1の複屈折体28及び第2の複屈折体29の入射面及
び出射面は光源11から出射される光ビームLの光軸及
び光ディスクから戻される光ビームLの光軸に垂直に配
置される。更にまた第1の複屈折体28の第1の光学軸
A及び第2の複屈折体29の第2の光学軸Bは光ビーム
Lの光軸に対して互いに所定の角度を有するように配置
される。好ましくはその複屈折体の光学軸A及びBが互
いに異なる方向で向けられ、入射される光ビームLの光
軸に対して等しい角度を成すように配置される。このよ
うに複屈折体の形状及び光学軸の角度が設定されること
によって半導体レーザ11から照射されるY方向に直線
偏光された光ビームLの全ては複屈折されずに透過され
、同時に光ディスクからX方向に直線偏光されて戻され
る光ビームは互いに異なる方向に複屈折され、その光軸
を境に互いに平行な第1及び第2の光ビームに分岐され
光検出器上20X、20Yに入射される。換言すると、
半導体レーザから出射される先ビームLが分岐されずに
透過され、また光ディスク1から戻される光ビームLが
互いに平行な第1及び第2の光ビームに分岐されるよう
に複屈折体は備えられている。
配置は第2図に示される。第2図において複屈折体28
.29は例えば方解石のような一軸結晶で構成され平行
平板形状を有している。各複屈折体はx−Z平面に平行
な側面を有し、その側面は互いに入射ビームの光軸に接
するように配置されて互いに貼り合わされている。また
第1の複屈折体28及び第2の複屈折体29の入射面及
び出射面は光源11から出射される光ビームLの光軸及
び光ディスクから戻される光ビームLの光軸に垂直に配
置される。更にまた第1の複屈折体28の第1の光学軸
A及び第2の複屈折体29の第2の光学軸Bは光ビーム
Lの光軸に対して互いに所定の角度を有するように配置
される。好ましくはその複屈折体の光学軸A及びBが互
いに異なる方向で向けられ、入射される光ビームLの光
軸に対して等しい角度を成すように配置される。このよ
うに複屈折体の形状及び光学軸の角度が設定されること
によって半導体レーザ11から照射されるY方向に直線
偏光された光ビームLの全ては複屈折されずに透過され
、同時に光ディスクからX方向に直線偏光されて戻され
る光ビームは互いに異なる方向に複屈折され、その光軸
を境に互いに平行な第1及び第2の光ビームに分岐され
光検出器上20X、20Yに入射される。換言すると、
半導体レーザから出射される先ビームLが分岐されずに
透過され、また光ディスク1から戻される光ビームLが
互いに平行な第1及び第2の光ビームに分岐されるよう
に複屈折体は備えられている。
なお光ビームLは複屈折体の相互に接する側面すなわち
X−2面を境に分離されるが、この分離するX−2面は
光デイスク上のグループの延出される方向(Y方向)に
直交するように設けられている。光検出器20X、20
Yに照射された光ビームはその光検出領域で電気信号に
変換されて所定の方法で処理される。それによつてフォ
ー力ッシング制御、トラッキング制御、及び情報検索が
可能となる。
X−2面を境に分離されるが、この分離するX−2面は
光デイスク上のグループの延出される方向(Y方向)に
直交するように設けられている。光検出器20X、20
Yに照射された光ビームはその光検出領域で電気信号に
変換されて所定の方法で処理される。それによつてフォ
ー力ッシング制御、トラッキング制御、及び情報検索が
可能となる。
複屈折体に入射される光ビームの複屈折現象はgj43
図を参照して更に詳細に説明される。複屈折体29 (
28)の入射面及び出射面が、入射光ビームの光軸に垂
直に配置され、かつその複屈折体29 (28)の光学
軸Aが入射される光ビームLの光軸に垂直な面からZ方
向に特定の角度で傾けられている場合、複屈折体29
(28)に入射された光ビームLのうち光軸と光学軸を
含む面(主断面)に垂直な振動面を有する光ビームLb
(常光線)は通常の屈折の法則に従うため真直ぐに透過
される。また複屈折体29 (28)に入射された光ビ
ームのうち主断面に平行な振動面を有する光ビームLa
(異常光線)は通常の屈折の法則に従わずに複屈折され
る。これによって例えば第3図に示されるように光ビー
ムLa(異常光線)は光ビームLb(常光線)よりもわ
ずかに平行に変位される。
図を参照して更に詳細に説明される。複屈折体29 (
28)の入射面及び出射面が、入射光ビームの光軸に垂
直に配置され、かつその複屈折体29 (28)の光学
軸Aが入射される光ビームLの光軸に垂直な面からZ方
向に特定の角度で傾けられている場合、複屈折体29
(28)に入射された光ビームLのうち光軸と光学軸を
含む面(主断面)に垂直な振動面を有する光ビームLb
(常光線)は通常の屈折の法則に従うため真直ぐに透過
される。また複屈折体29 (28)に入射された光ビ
ームのうち主断面に平行な振動面を有する光ビームLa
(異常光線)は通常の屈折の法則に従わずに複屈折され
る。これによって例えば第3図に示されるように光ビー
ムLa(異常光線)は光ビームLb(常光線)よりもわ
ずかに平行に変位される。
第4図を参照して一対の複屈折体28.29が配置され
ている場合について考察する。一対の複屈折体28.2
9は第2図に示されるように同−形状及び同一特性を有
し、その光学軸ASBが光ビームの光軸に対して異なる
方向で等しい角度に予め定められる。このため複屈折体
28.29に対して主断面に垂直な振動面を有する光ビ
ーム、すなわちY方向に直線偏光された光ビームは単に
透過され、他方、主断面に垂直な振動面を有する先ビー
ム、すなわちX方向に直線偏光された光ビームは複屈折
体の光学軸ASBの傾きに応じて複屈折される。この発
明の焦点制御は複屈折体に入射される光ビームの偏光状
態を以下のように定めることによって可能となる。すな
わち複屈折体28.29には半導体レーザ11からは実
線矢印で示したようなY方向に直線偏光された光ビーム
Lが入射される。複屈折体28及び複屈折体29に入射
されるY方向に直線偏光された光ビームは複屈折されな
いため共に透過される。透過された光ビームは1/4波
長板18で円偏光に変換されて光デイスク1上に照射さ
れる。照射された光ビームは記録面で反射されて1/4
波長板に戻される。1/4波長板を透過される光ビーム
は再び直線偏光に変換されて複屈折体28.29に入射
される。この際戻される光ビームLは、点線矢印で示さ
れるようにX方向に直線偏光される。そのため複屈折体
28に入射される光ビーム及び複屈折体29に入射され
る光ビームは、それぞれその光学軸の傾きに応じて複屈
折体されて互いに平行な第1及び第2の光ビームL1、
L2に分岐される。分岐された光ビームL1、L2の軸
は一定の幅間隔りを維持した状態でそれぞれ光検出器2
0X及び20Yに照射される。
ている場合について考察する。一対の複屈折体28.2
9は第2図に示されるように同−形状及び同一特性を有
し、その光学軸ASBが光ビームの光軸に対して異なる
方向で等しい角度に予め定められる。このため複屈折体
28.29に対して主断面に垂直な振動面を有する光ビ
ーム、すなわちY方向に直線偏光された光ビームは単に
透過され、他方、主断面に垂直な振動面を有する先ビー
ム、すなわちX方向に直線偏光された光ビームは複屈折
体の光学軸ASBの傾きに応じて複屈折される。この発
明の焦点制御は複屈折体に入射される光ビームの偏光状
態を以下のように定めることによって可能となる。すな
わち複屈折体28.29には半導体レーザ11からは実
線矢印で示したようなY方向に直線偏光された光ビーム
Lが入射される。複屈折体28及び複屈折体29に入射
されるY方向に直線偏光された光ビームは複屈折されな
いため共に透過される。透過された光ビームは1/4波
長板18で円偏光に変換されて光デイスク1上に照射さ
れる。照射された光ビームは記録面で反射されて1/4
波長板に戻される。1/4波長板を透過される光ビーム
は再び直線偏光に変換されて複屈折体28.29に入射
される。この際戻される光ビームLは、点線矢印で示さ
れるようにX方向に直線偏光される。そのため複屈折体
28に入射される光ビーム及び複屈折体29に入射され
る光ビームは、それぞれその光学軸の傾きに応じて複屈
折体されて互いに平行な第1及び第2の光ビームL1、
L2に分岐される。分岐された光ビームL1、L2の軸
は一定の幅間隔りを維持した状態でそれぞれ光検出器2
0X及び20Yに照射される。
これらの理由によって、第1及び第2の複屈折体28.
29から出射される光ビームL1、L2の間隔は各光学
部品の光軸方向のずれに影響されずに略一定に保たれる
。そのため組立て及び調整の容易な焦点制御装置が提供
される。
29から出射される光ビームL1、L2の間隔は各光学
部品の光軸方向のずれに影響されずに略一定に保たれる
。そのため組立て及び調整の容易な焦点制御装置が提供
される。
またこの発明において、複屈折体は平行平板形状に形成
され、その入射面及び出射面が光軸に垂直に配置される
。そのためプリズム及び傾斜されたガラス板に比べて取
付けが容易であり、それに応じて製造性も高くなりコス
トも低減される。
され、その入射面及び出射面が光軸に垂直に配置される
。そのためプリズム及び傾斜されたガラス板に比べて取
付けが容易であり、それに応じて製造性も高くなりコス
トも低減される。
第1の光ビームL1及び第2の光ビームL2の入射され
る光検出器20120Yは第7図に示されている。第7
図に示されるように、一方の光検出器20Xは第1の複
屈折体28を通過して照射された光を電気信号に変換す
る光検出領域2OA、20B、20H,20Iで構成さ
れ、他方の光検出器20Yは第2の複屈折体29を通過
して照射された光を電気信号に変換する光検出領域20
C,20D、20F、20Gの検出領域から構成されて
いる。光検出器20X、20は互いに略同−平面上(X
−Y平面上)に配置されると同時に、光ビームの分離さ
れる方向、すなわちX方向にわずかに間隔を空けて配置
される。この光検出器20Xと光検出器20Yの隙間に
は半導体レーザ等の光源11が配置され、好ましくは各
光検出器の受光面と光源11の光ビーム出射面が略同−
平面上に配置される。一方の光検出器20Xは先非検出
領域としてのX方向の分割線21によって縦方向に2分
割され、またY方向の分割線23によって横方向に2分
割される。他方の光検出器20Yは先非検出領域として
のX方向の分割線22によって縦方向に2分割され、ま
たY方向の分割vA24によって横方向に2分割される
。光検出器20Xの分割線23と光検出器20Yの分割
線24との間隔は、複屈折体28.29で略平行に分岐
された光ビームの間隔りと等しく形成されている。この
分離された検出領域20A〜201の出力は、焦点補正
、トラッキング補正、及び情報再生に利用される。
る光検出器20120Yは第7図に示されている。第7
図に示されるように、一方の光検出器20Xは第1の複
屈折体28を通過して照射された光を電気信号に変換す
る光検出領域2OA、20B、20H,20Iで構成さ
れ、他方の光検出器20Yは第2の複屈折体29を通過
して照射された光を電気信号に変換する光検出領域20
C,20D、20F、20Gの検出領域から構成されて
いる。光検出器20X、20は互いに略同−平面上(X
−Y平面上)に配置されると同時に、光ビームの分離さ
れる方向、すなわちX方向にわずかに間隔を空けて配置
される。この光検出器20Xと光検出器20Yの隙間に
は半導体レーザ等の光源11が配置され、好ましくは各
光検出器の受光面と光源11の光ビーム出射面が略同−
平面上に配置される。一方の光検出器20Xは先非検出
領域としてのX方向の分割線21によって縦方向に2分
割され、またY方向の分割線23によって横方向に2分
割される。他方の光検出器20Yは先非検出領域として
のX方向の分割線22によって縦方向に2分割され、ま
たY方向の分割vA24によって横方向に2分割される
。光検出器20Xの分割線23と光検出器20Yの分割
線24との間隔は、複屈折体28.29で略平行に分岐
された光ビームの間隔りと等しく形成されている。この
分離された検出領域20A〜201の出力は、焦点補正
、トラッキング補正、及び情報再生に利用される。
対物レンズ16が光ディスクに対し合焦位置にある場合
は、光検出器には第5Bに示すような像が投影される。
は、光検出器には第5Bに示すような像が投影される。
第1の複屈折体28を通過した光ビームは、光検出領域
2OA、20B、20H。
2OA、20B、20H。
201に半円像として投影される。他方、第2の複屈折
体29を通過した光ビームは光検出領域20C,20D
、20F、20Gに反対向きの半円像として投影される
。各半円像が左右の光検出領域に等しい強度で投影され
るように先非検出領域としての分割線21及び22が予
め定められている。言替えるならば、第8A図に示され
るように光検出領域20A〜20Iの出力をそれぞれ■
〜■とすると、分割線21及び22の位置は、合焦時に
おいてフォー力ッシングエラー信号(F、E信号)がO
に等しくなる位置、即ちF、E−((■+■十■十〇) (■+■十■十■))−〇の条件を満たすように設定さ
れる。
体29を通過した光ビームは光検出領域20C,20D
、20F、20Gに反対向きの半円像として投影される
。各半円像が左右の光検出領域に等しい強度で投影され
るように先非検出領域としての分割線21及び22が予
め定められている。言替えるならば、第8A図に示され
るように光検出領域20A〜20Iの出力をそれぞれ■
〜■とすると、分割線21及び22の位置は、合焦時に
おいてフォー力ッシングエラー信号(F、E信号)がO
に等しくなる位置、即ちF、E−((■+■十■十〇) (■+■十■十■))−〇の条件を満たすように設定さ
れる。
これによって、対物レンズ16が光ディスクに対し合焦
位置から離れた場合は、第5A図に示すように、投影さ
れた2つの半円像は、合焦時の像よりも小さく形成され
、出力はF、E>0となる。
位置から離れた場合は、第5A図に示すように、投影さ
れた2つの半円像は、合焦時の像よりも小さく形成され
、出力はF、E>0となる。
逆に対物レンズ16が光ディスクに対し合焦位置に近づ
いた場合、第5C図に示されるように第1のグループと
第2のグループに投影された2つの半円像は合焦時の像
よりも大きく形成され、出力はF、Egoとなる。
いた場合、第5C図に示されるように第1のグループと
第2のグループに投影された2つの半円像は合焦時の像
よりも大きく形成され、出力はF、Egoとなる。
一方、光デイスク1上の案内溝の回折によって生ずる暗
部は、第6A図乃至第6C図に示されるように光検出領
域の分割線23及び24に対して平行に現われる。第8
B図に示すように、トラック位置のずれは、光検出領域
20A〜201の出力信号■〜■に対して、トラッキン
グエラー信号(T、E)−+(■+■+■十■) (■+■+■十■))を比較処理することによって検出
される。比較された信号のその差信号すなわちトラック
位置のずれ信号に応じて光学ヘッドの位置が光ディスク
に対して調整される。
部は、第6A図乃至第6C図に示されるように光検出領
域の分割線23及び24に対して平行に現われる。第8
B図に示すように、トラック位置のずれは、光検出領域
20A〜201の出力信号■〜■に対して、トラッキン
グエラー信号(T、E)−+(■+■+■十■) (■+■+■十■))を比較処理することによって検出
される。比較された信号のその差信号すなわちトラック
位置のずれ信号に応じて光学ヘッドの位置が光ディスク
に対して調整される。
次に第9図を参照して光検出器で検出された電気信号の
処理回路について説明する。光検出領域2OA及び20
Gの出力は増幅回路31Aに供給される。光検出領域2
0D及び20Hの出力は増幅回路31Bに供給される。
処理回路について説明する。光検出領域2OA及び20
Gの出力は増幅回路31Aに供給される。光検出領域2
0D及び20Hの出力は増幅回路31Bに供給される。
光検出領域20C及び201の出力は増幅回路31Cに
供給される。
供給される。
光検出領域20B及び20Fの出力は増幅回路31Dに
それ供給される。各増幅器31A〜31Dに供給された
各信号はそれぞれ増幅されて加算回路36に供給される
。加算回路36で加算された信号は情報再生信号として
図示しない制御回路に供給される。増幅回路31Aから
の信号は加算回路32及び34に供給される。増幅回路
31Bからの信号は加算回路33及び34に供給される
。増幅回路31Cからの信号は加算回路33及び35に
供給される。増幅回路31Dからの信号は加算回路32
及び35に供給される。
それ供給される。各増幅器31A〜31Dに供給された
各信号はそれぞれ増幅されて加算回路36に供給される
。加算回路36で加算された信号は情報再生信号として
図示しない制御回路に供給される。増幅回路31Aから
の信号は加算回路32及び34に供給される。増幅回路
31Bからの信号は加算回路33及び34に供給される
。増幅回路31Cからの信号は加算回路33及び35に
供給される。増幅回路31Dからの信号は加算回路32
及び35に供給される。
加算回路32の出力及び加算回路33の出力はフォー力
ッシング制御信号をボイスコイル8に供給するために利
用される。すなわち加算回路32の出力は比較回路41
の反転入力端に供給され、加算回路33の出力は比較回
路41の非反転入力端に供給される。比較回路41にお
いて光検出領域2OA、20G、20B、20Fの検出
信号の加算結果と光検出領域20C,201,20D。
ッシング制御信号をボイスコイル8に供給するために利
用される。すなわち加算回路32の出力は比較回路41
の反転入力端に供給され、加算回路33の出力は比較回
路41の非反転入力端に供給される。比較回路41にお
いて光検出領域2OA、20G、20B、20Fの検出
信号の加算結果と光検出領域20C,201,20D。
20Hの検出信号の加算結果とは比較され、その差信号
に応じた出力即ち、フォーカス制御信号がフォー力ッシ
ング用の駆動回路44にフィードバックされる。駆動回
路44にフィードバックされるフォーカスずれ検出信号
に応じて対物レンズ16をその先軸方向に駆動するボイ
スコイル(図示しない)に電流が供給される。供給され
た電流に応じて対物レンズ16が駆動されて焦点ぼけが
補正される。
に応じた出力即ち、フォーカス制御信号がフォー力ッシ
ング用の駆動回路44にフィードバックされる。駆動回
路44にフィードバックされるフォーカスずれ検出信号
に応じて対物レンズ16をその先軸方向に駆動するボイ
スコイル(図示しない)に電流が供給される。供給され
た電流に応じて対物レンズ16が駆動されて焦点ぼけが
補正される。
加算回路34の出力及び加算回路35の出力はトラッキ
ング制御信号をボイスコイル8に供給するために利用さ
れる。すなわち加算回路34の出力は比較回路42の反
転入力端に供給され、上記加算回路35の出力は比較回
路42の非反転入力端に供給される。
ング制御信号をボイスコイル8に供給するために利用さ
れる。すなわち加算回路34の出力は比較回路42の反
転入力端に供給され、上記加算回路35の出力は比較回
路42の非反転入力端に供給される。
比較回路42において、上記光検出領域2OA、20G
、20C120Iの検出出力の加算結果及び光検出領域
20B、20F、20D、20Hの検出出力の加算結果
とは比較され、その差に応じた出力即ち、トラッキング
ずれ検出信号が駆動回路45にフィードバックされる。
、20C120Iの検出出力の加算結果及び光検出領域
20B、20F、20D、20Hの検出出力の加算結果
とは比較され、その差に応じた出力即ち、トラッキング
ずれ検出信号が駆動回路45にフィードバックされる。
駆動回路45にフィードバックされるトラッキング制御
信号に応じて対物レンズ16をその光軸に垂直な平面内
で駆動するボイスコイルに(図示しない)電流が供給さ
れる。これにより対物レンズ16が駆動されてトラッキ
ングずれが補正される。
信号に応じて対物レンズ16をその光軸に垂直な平面内
で駆動するボイスコイルに(図示しない)電流が供給さ
れる。これにより対物レンズ16が駆動されてトラッキ
ングずれが補正される。
加算回路36の出力は信号処理回路43に供給される。
この信号処理回路43で処理された信号は検索信号とし
て情報再生に利用される。
て情報再生に利用される。
上述した焦点制御装置においては、半導体レーザ11か
ら発生された発散性のレーザビームしは、第1及び第2
の複屈折体28.29に入射される。
ら発生された発散性のレーザビームしは、第1及び第2
の複屈折体28.29に入射される。
入射された光ビームは複屈折されずに透過されてレンズ
17に入射される。レンズ17に入射された光ビームは
1/4波長板18を透過されて対物レンズ16に入射さ
れる。入射された光ビームは対物レンズ16によって光
ディスク1の記録膜に向けて集光される。
17に入射される。レンズ17に入射された光ビームは
1/4波長板18を透過されて対物レンズ16に入射さ
れる。入射された光ビームは対物レンズ16によって光
ディスク1の記録膜に向けて集光される。
情報の記録においては、光デイスク1上へ強光底の変調
されたレーザビーム(記録ビーム)が照射されることに
より光デイスク1上のトラックにピットが形成される。
されたレーザビーム(記録ビーム)が照射されることに
より光デイスク1上のトラックにピットが形成される。
情報の再生においては、弱光塵の定常レーザビーム(再
生ビーム光)が光ディスク1上に照射されピットによっ
て強度変調されて反射される。光ディスク1からの反射
光は対物レンズ16を経て1/4波長板18に戻される
。
生ビーム光)が光ディスク1上に照射されピットによっ
て強度変調されて反射される。光ディスク1からの反射
光は対物レンズ16を経て1/4波長板18に戻される
。
1/4波長板18に戻された光ビームLはレンズ17を
透過されて再び第1及び第2の複屈折体体28.29に
入射される。第1及び第2の複屈折体28.29に入射
された光ビームはその光軸を境に互いに略平行な第1の
光ビームL1及び第2の光ビームL2に分岐されて光検
出器20Xの光検出領域2OA、20B、201,20
H及び光検出器20Yの光検出領域20C,20D。
透過されて再び第1及び第2の複屈折体体28.29に
入射される。第1及び第2の複屈折体28.29に入射
された光ビームはその光軸を境に互いに略平行な第1の
光ビームL1及び第2の光ビームL2に分岐されて光検
出器20Xの光検出領域2OA、20B、201,20
H及び光検出器20Yの光検出領域20C,20D。
20G、20F−+−に照射される。その結果、照射さ
れた光ビームの強度に応じた信号が光検出領域20A〜
201から出力され、それらの信号が増幅回路31A〜
31Dに供給される。
れた光ビームの強度に応じた信号が光検出領域20A〜
201から出力され、それらの信号が増幅回路31A〜
31Dに供給される。
このような状態におけるフォーカシング動作について説
明する。すなわち、上記増幅回路31A。
明する。すなわち、上記増幅回路31A。
31Dからの信号は加算回路32に供給される。
上記増幅回路31B、31Cからの信号は、加算回路3
3に供給される。光検出領域20A120G、20B、
20Fからの検出信号は加算回路32で加算されて比較
回路41へ供給される。
3に供給される。光検出領域20A120G、20B、
20Fからの検出信号は加算回路32で加算されて比較
回路41へ供給される。
光検出領域20C,20I、20D、20Hからの検出
信号は加算回路33で加算されて比較回路41に供給さ
れる。これにより比較回路41において、上記光検出領
域2OA、20G、20B。
信号は加算回路33で加算されて比較回路41に供給さ
れる。これにより比較回路41において、上記光検出領
域2OA、20G、20B。
20Fの検出信号の加算結果と上記光検出領域20C,
201,20D、20Hの検出信号の加算結果とが比較
され、その差信号つまり焦点制御信号が駆動回路44に
フィードバックされる。駆動回路44にフィードバック
された焦点制御信号に応じてコイル(図示しない)に電
流が供給される。供給された電流に応じて対物レンズ1
6が光軸方向に駆動されて光ビームのフォーカス状態が
制御される。
201,20D、20Hの検出信号の加算結果とが比較
され、その差信号つまり焦点制御信号が駆動回路44に
フィードバックされる。駆動回路44にフィードバック
された焦点制御信号に応じてコイル(図示しない)に電
流が供給される。供給された電流に応じて対物レンズ1
6が光軸方向に駆動されて光ビームのフォーカス状態が
制御される。
またトラッキング動作について説明する。すなわち上記
増幅回路31A、31Cからの信号は加算回路34に供
給される。上記増幅回路31B。
増幅回路31A、31Cからの信号は加算回路34に供
給される。上記増幅回路31B。
31Dからの信号は加算回路35に供給される。
光検出領域2OA、20G、20C,201からの信号
は加算回路34で加算されて比較回路42に供給される
。光検出領域20B、20F。
は加算回路34で加算されて比較回路42に供給される
。光検出領域20B、20F。
20D、20Hからの検出信号は加算回路35で加算さ
れて比較回路42に供給される。これにより上記光検出
領域2OA、20G、20C。
れて比較回路42に供給される。これにより上記光検出
領域2OA、20G、20C。
201の検出信号の加算結果と上記検出領域20B、2
0F、20D、20Hの検出信号の加算結果とは比較回
路42で比較されてその差に応じた出力つまりトラッキ
ング制御信号が駆動回路45にフィードバックされる。
0F、20D、20Hの検出信号の加算結果とは比較回
路42で比較されてその差に応じた出力つまりトラッキ
ング制御信号が駆動回路45にフィードバックされる。
トラッキング制御信号に応じて駆動回路45からコイル
(図示しない)に電流が供給される。供給された信号に
応じて対物レンズ16はその先軸に垂直な平面上で駆動
され光ビームのトラッキング位置が制御される。
(図示しない)に電流が供給される。供給された信号に
応じて対物レンズ16はその先軸に垂直な平面上で駆動
され光ビームのトラッキング位置が制御される。
次に情報の再生について説明する。情報の再生において
は半導体レーザ11から一定の弱光度のレーザビームL
が発生される。記録された情報に応じて再生ビーム光全
体は強度変調されて光検出器に入射される。光検出器の
光検出領域20A〜201の出力は増幅回路31A、3
1B、31C。
は半導体レーザ11から一定の弱光度のレーザビームL
が発生される。記録された情報に応じて再生ビーム光全
体は強度変調されて光検出器に入射される。光検出器の
光検出領域20A〜201の出力は増幅回路31A、3
1B、31C。
31Dに供給される。増幅回路31A、31B。
31C131Dの総出力が信号処理回路43で処理され
ることによって記録されたデータは再生される。
ることによって記録されたデータは再生される。
上に述べたこの発明の一実施例には、焦点制御、トラッ
ク位置制御及び信号検出を同一の検出器を用いて検出す
ることのできる8つの領域に分割された光検出器が記述
されている。しかしこの検出器は8分割の検出器に限る
必要はなく、他の4分割やその他の光検出器が利用され
てもよい。
ク位置制御及び信号検出を同一の検出器を用いて検出す
ることのできる8つの領域に分割された光検出器が記述
されている。しかしこの検出器は8分割の検出器に限る
必要はなく、他の4分割やその他の光検出器が利用され
てもよい。
また述べた実施例において、複屈折体28.29は平行
平板形状に形成されいる。しかしながら複屈折体の形状
は同様の効果を示す限り変更されてもよい。また複屈折
体の配設位置に伴う検出器の配置も変更可能である。例
えば、実施例における2つの複屈折体はその光学軸A及
びBが互いに異なる方向で向けられ、入射される光ビー
ムの光軸に対して等しい角度を成すように配置されてい
る。しかしながら、もし2つの複屈折体の光学軸A及び
Bが光ビームの光軸に対して等しい角度で配置されない
としても検出器の配置を予め定めておくことで同様の検
出が可能である。
平板形状に形成されいる。しかしながら複屈折体の形状
は同様の効果を示す限り変更されてもよい。また複屈折
体の配設位置に伴う検出器の配置も変更可能である。例
えば、実施例における2つの複屈折体はその光学軸A及
びBが互いに異なる方向で向けられ、入射される光ビー
ムの光軸に対して等しい角度を成すように配置されてい
る。しかしながら、もし2つの複屈折体の光学軸A及び
Bが光ビームの光軸に対して等しい角度で配置されない
としても検出器の配置を予め定めておくことで同様の検
出が可能である。
(発明の効果)
この発明においては、第1及び第2の複屈折体から入射
される光ビームの間隔りが各光学部品の光軸のずれに影
響されずに略一定に保たれる。
される光ビームの間隔りが各光学部品の光軸のずれに影
響されずに略一定に保たれる。
そのため組立て及び調整の容易な焦点制御装置が提供さ
れる。また、複屈折体は平行平板形状に形成され、その
入射面及び出射面が光軸に垂直に配置される。そのため
プリズム及び傾斜を付けて配置したガラス等の平行平板
に比べて取付けが容易であり、それに応じてコストも低
減される。
れる。また、複屈折体は平行平板形状に形成され、その
入射面及び出射面が光軸に垂直に配置される。そのため
プリズム及び傾斜を付けて配置したガラス等の平行平板
に比べて取付けが容易であり、それに応じてコストも低
減される。
第1図はこの発明の焦点制御装置を備える光学ヘッドの
概略構成を示す側面図、第2図はこの発明の焦点制御装
置の要部を示す斜視図、第3図はこの発明の複屈折体に
入射される光ビームの光路図、第4図は異なる光学軸を
有する2つの複屈折体に偏光ビームが入射される際の光
ビームの光路図、第5A図乃至第5C図は第2図に示し
た光検出器に照射される光ビームの合焦状態及び非合焦
状態を示す光検出器の正面図、第6A図乃至第6C図は
第2図に示した光検出器に照射される光ビームの合トラ
ック状態及び非合トラック状態を示す光検出器の正面図
、第7図は第2図に示した光検出器の正面図、第8A図
乃至第8B図は第7図に示した光検出器で検出された信
号の処理方法を示す電気回路図、第9図は第7図に示し
た光検出器で検出される全信号の処理方法を示す電気回
路図である。 1・・・光ディスク、3・・・光学ヘッド、5・・・グ
ループ、8・・・ボイスコイル、11・・・半導体レー
ザ(光源) 16・・・対物レンズ、17・・・レン
ズ、18・・・1/4波長板、20X、20Y・・・光
検出器、20A〜201・・・光検出領域、21〜24
・・・分割線、28・・・第1の複屈折体、29・・・
第2の複屈折体、31A〜31D・・・増幅回路、32
〜36・・・加算回路、41.42・・・比較回路、4
3・・・信号処理回路、44.45・・・駆動回路 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
概略構成を示す側面図、第2図はこの発明の焦点制御装
置の要部を示す斜視図、第3図はこの発明の複屈折体に
入射される光ビームの光路図、第4図は異なる光学軸を
有する2つの複屈折体に偏光ビームが入射される際の光
ビームの光路図、第5A図乃至第5C図は第2図に示し
た光検出器に照射される光ビームの合焦状態及び非合焦
状態を示す光検出器の正面図、第6A図乃至第6C図は
第2図に示した光検出器に照射される光ビームの合トラ
ック状態及び非合トラック状態を示す光検出器の正面図
、第7図は第2図に示した光検出器の正面図、第8A図
乃至第8B図は第7図に示した光検出器で検出された信
号の処理方法を示す電気回路図、第9図は第7図に示し
た光検出器で検出される全信号の処理方法を示す電気回
路図である。 1・・・光ディスク、3・・・光学ヘッド、5・・・グ
ループ、8・・・ボイスコイル、11・・・半導体レー
ザ(光源) 16・・・対物レンズ、17・・・レン
ズ、18・・・1/4波長板、20X、20Y・・・光
検出器、20A〜201・・・光検出領域、21〜24
・・・分割線、28・・・第1の複屈折体、29・・・
第2の複屈折体、31A〜31D・・・増幅回路、32
〜36・・・加算回路、41.42・・・比較回路、4
3・・・信号処理回路、44.45・・・駆動回路 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 光ビームを発生する光源と、 前記光源からの光ビームを記録媒体上に集束するための
集束手段と、 前記光源からの光ビーム及び前記記録媒体からの光ビー
ムの同一の光路上に配置され前記記録媒体からの光ビー
ムを互いに略平行な第1及び第2の光ビームに分岐する
第1及び第2の複屈折体と、前記記録媒体に対する前記
集束手段の位置を調整する前記第1及び第2の光ビーム
に応答する手段を具備することを特徴とする焦点制御装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16392888A JPH0214439A (ja) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | 焦点制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16392888A JPH0214439A (ja) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | 焦点制御装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0214439A true JPH0214439A (ja) | 1990-01-18 |
Family
ID=15783488
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16392888A Pending JPH0214439A (ja) | 1988-06-30 | 1988-06-30 | 焦点制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0214439A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0893524A1 (en) * | 1997-07-11 | 1999-01-27 | Kabushiki Kaisha Toyoda Jidoshokki Seisakusho | Weft inserting apparatus for rapier loom |
-
1988
- 1988-06-30 JP JP16392888A patent/JPH0214439A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0893524A1 (en) * | 1997-07-11 | 1999-01-27 | Kabushiki Kaisha Toyoda Jidoshokki Seisakusho | Weft inserting apparatus for rapier loom |
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