JPH0281457A - 保持システム - Google Patents
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- JPH0281457A JPH0281457A JP63230146A JP23014688A JPH0281457A JP H0281457 A JPH0281457 A JP H0281457A JP 63230146 A JP63230146 A JP 63230146A JP 23014688 A JP23014688 A JP 23014688A JP H0281457 A JPH0281457 A JP H0281457A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、半導体素子製造過程で用いる露光装置等にお
いてウニ八等の被保持物を真空吸着力により吸着保持す
る真空保持システムに関し、特に密閉チャンバー内で用
いられる真空保持システムに関するものである。
いてウニ八等の被保持物を真空吸着力により吸着保持す
る真空保持システムに関し、特に密閉チャンバー内で用
いられる真空保持システムに関するものである。
[従来の技術]
密閉された雰囲気内で被保持物を保持する従来技術とし
て、X線露光装置がある。X線露光装置のX線源として
は、電子線励起によりX線を発生する管球方式、プラズ
マから発生するX線を利用する方式、シンクロトロン軌
道放射光を利用する方式等があるが、これらのX線源は
いずれも真空中でX線を発生する方式である。従って、
発生したX線をマスク、ウェハ等に照射する場合、X線
透過率の高い材料、例えばベリリウム(Be) 、から
なる遮断窓を通して照射される。この場合、遮断窓から
ウェハへ至るX線透過経路に大気が存在すると、X線が
大気に吸収され、露光時間が増大し、スルーブツトの低
下を来す。これを解決するため、マスク、ウェハ及び両
者の位置合わせ機構を真空気密な収納容器内に設け、こ
の容器内の大気を置換してX線の吸収の小さいガス、例
えばヘリウム(He) 、を大気圧以下に減圧して充填
する方式が提案されている。この場合、マスク、ウェハ
の搬送用ハンド及び位置合わせ用ステージには、マスク
、ウェハの保持手段として真空チャックが用いられる。
て、X線露光装置がある。X線露光装置のX線源として
は、電子線励起によりX線を発生する管球方式、プラズ
マから発生するX線を利用する方式、シンクロトロン軌
道放射光を利用する方式等があるが、これらのX線源は
いずれも真空中でX線を発生する方式である。従って、
発生したX線をマスク、ウェハ等に照射する場合、X線
透過率の高い材料、例えばベリリウム(Be) 、から
なる遮断窓を通して照射される。この場合、遮断窓から
ウェハへ至るX線透過経路に大気が存在すると、X線が
大気に吸収され、露光時間が増大し、スルーブツトの低
下を来す。これを解決するため、マスク、ウェハ及び両
者の位置合わせ機構を真空気密な収納容器内に設け、こ
の容器内の大気を置換してX線の吸収の小さいガス、例
えばヘリウム(He) 、を大気圧以下に減圧して充填
する方式が提案されている。この場合、マスク、ウェハ
の搬送用ハンド及び位置合わせ用ステージには、マスク
、ウェハの保持手段として真空チャックが用いられる。
第4図に従来のX線露光装置を示す。電子銃30及びタ
ーゲット31からなるX線源はX線源収納室32内に密
封収納される。X線源収納室32はバルブ33を介して
高真空ポンプ34に連結され、内部は10−”丁orr
以下の高真空に保たれる。
ーゲット31からなるX線源はX線源収納室32内に密
封収納される。X線源収納室32はバルブ33を介して
高真空ポンプ34に連結され、内部は10−”丁orr
以下の高真空に保たれる。
X線の被照射体であるマスク6及びウェハ5は、それぞ
れマスクチャック3、ウェハチャック4に保持され、ウ
ェハステージ9と共にステージ収納室1内に密封収納さ
れている。ステージ収納室1にはベリリウム製遮断窓7
が設けられ、ここに鏡筒8が接続される。ステージ収納
室1にはバルブ18を介して低真空ポンプ!9が接続さ
れている。また、バルブ20を介してヘリウムガスが供
給される。
れマスクチャック3、ウェハチャック4に保持され、ウ
ェハステージ9と共にステージ収納室1内に密封収納さ
れている。ステージ収納室1にはベリリウム製遮断窓7
が設けられ、ここに鏡筒8が接続される。ステージ収納
室1にはバルブ18を介して低真空ポンプ!9が接続さ
れている。また、バルブ20を介してヘリウムガスが供
給される。
上記構成において、低真空ポンプ19によりステージ収
納室!内は10−’Torr程度まで減圧され、その後
バルブ20を開いてヘリウムガスを導入し大気圧より低
い圧力でヘリウムガスを充填した状態で露光が行なわれ
る。
納室!内は10−’Torr程度まで減圧され、その後
バルブ20を開いてヘリウムガスを導入し大気圧より低
い圧力でヘリウムガスを充填した状態で露光が行なわれ
る。
[発明が解決しようとする課題]
前記従来技術においては、ウェハを真空チャックするた
めの真空発生源として、工場内の真空ラインが用いられ
ていた。しかしながら、この場合期待できる圧力はせい
ぜし)数百7orrである。また、加圧ラインを使用し
てベンチュリーポンプを用いても得られる圧力は400
Torr程度である。
めの真空発生源として、工場内の真空ラインが用いられ
ていた。しかしながら、この場合期待できる圧力はせい
ぜし)数百7orrである。また、加圧ラインを使用し
てベンチュリーポンプを用いても得られる圧力は400
Torr程度である。
従って、このような真空発生源を用いて100〜200
Torrの圧力で露光を行なおうとした場合、ウニへ
の保持は不可能である。この場合は、10−’Tart
以下の到達真空度をもつチャック専用ポンプを備える必
要がある。この場合、停電時の対策を考慮しなければな
らない。特に、X線源としてシンクロトロン軌道放射光
を用いた場合、X線を効率良く垂直に折り曲げる実用可
能な光学系が実現できないため、マスクとウェハの位置
合わせステージにおいては、両者を相互に垂直に保持し
なければならない。この状態で、停電により真空ポンプ
が停止すれば、マスク及びウェハは落下し、装置に損傷
を与えるおそれがある。また、マスク及びクエへのチャ
ック及びそれらの搬送系のハンド等に複数のチャックを
有し、これらのマスク、クエへの受は渡しを行なう保持
システムにおいては、真空ポンプとチャックの間にバル
ブを設けてこのバルブの開閉により被保持物の着脱を行
なう。このような保持システムにおいて、前記バルブが
常時開タイプの場合、停電時に被保持物を保持していな
いチャックからステージ収納室内のガスを吸い込んで保
持しているホルダーの真空吸着力を減らし、被保持物を
落とすおそれかある。
Torrの圧力で露光を行なおうとした場合、ウニへ
の保持は不可能である。この場合は、10−’Tart
以下の到達真空度をもつチャック専用ポンプを備える必
要がある。この場合、停電時の対策を考慮しなければな
らない。特に、X線源としてシンクロトロン軌道放射光
を用いた場合、X線を効率良く垂直に折り曲げる実用可
能な光学系が実現できないため、マスクとウェハの位置
合わせステージにおいては、両者を相互に垂直に保持し
なければならない。この状態で、停電により真空ポンプ
が停止すれば、マスク及びウェハは落下し、装置に損傷
を与えるおそれがある。また、マスク及びクエへのチャ
ック及びそれらの搬送系のハンド等に複数のチャックを
有し、これらのマスク、クエへの受は渡しを行なう保持
システムにおいては、真空ポンプとチャックの間にバル
ブを設けてこのバルブの開閉により被保持物の着脱を行
なう。このような保持システムにおいて、前記バルブが
常時開タイプの場合、停電時に被保持物を保持していな
いチャックからステージ収納室内のガスを吸い込んで保
持しているホルダーの真空吸着力を減らし、被保持物を
落とすおそれかある。
また、前g己パルプが常時閉タイプの場合は当然被保持
物は落下する。
物は落下する。
本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされたものであっ
て、被保持物を確実に吸着保持し停電時にも被保持物を
吸着し続ける保持システムの提供を目的とする。
て、被保持物を確実に吸着保持し停電時にも被保持物を
吸着し続ける保持システムの提供を目的とする。
[課題を解決するための手段および作用]前記目的を達
成するため、本発明では、保持システム専用に、停電時
にも駆動可能なバックアップ用電源を備えた真空ポンプ
を設け、配管上に設けた被保持物着脱用のバルブが、停
電時においても、停電前の状態を維持可能に構成し、さ
らにアキュムレータチャンバーを設けて急激な真空度の
低下を防止し、これにより、減圧密閉された雰囲気内で
も使用可能で、かつ複数のホルダーからなる保持システ
ムにおいても停電時に被保持物を脱落させない信頼性の
高い保持システムが得られる。
成するため、本発明では、保持システム専用に、停電時
にも駆動可能なバックアップ用電源を備えた真空ポンプ
を設け、配管上に設けた被保持物着脱用のバルブが、停
電時においても、停電前の状態を維持可能に構成し、さ
らにアキュムレータチャンバーを設けて急激な真空度の
低下を防止し、これにより、減圧密閉された雰囲気内で
も使用可能で、かつ複数のホルダーからなる保持システ
ムにおいても停電時に被保持物を脱落させない信頼性の
高い保持システムが得られる。
[実施例]
第1図は本発明の実施例で、シンクロトロン軌道放射光
を利用したX線露光装置を示す。ステージ収納室1は、
鏡筒8を介して、図示しない光源と接続され、ベリリウ
ム製遮断窓7を通してX線がステージ収納室1内に導入
される。X線の被照射体であるマスク6及びウェハ5は
、それぞれマスクチャック3及びウェハチャック4に保
持され、さらにウェハチャック4はウェハステージ9に
固定され、ステージ収納室1内に密封収納されている。
を利用したX線露光装置を示す。ステージ収納室1は、
鏡筒8を介して、図示しない光源と接続され、ベリリウ
ム製遮断窓7を通してX線がステージ収納室1内に導入
される。X線の被照射体であるマスク6及びウェハ5は
、それぞれマスクチャック3及びウェハチャック4に保
持され、さらにウェハチャック4はウェハステージ9に
固定され、ステージ収納室1内に密封収納されている。
ステージ収納室1内にはさらにウェハ5を図示しないロ
ードロックチャンバーとの間で搬入搬出するためのウェ
ハハンド10が備わる。マスク6はマスクチャック3に
機械的に保持される。ウェハチャック4及びウェハハン
ド10におけるウェハの吸着は全て真空吸着力による構
成であり、フィードスルー用の配管11.12を介して
外部に設置した油回転ポンプ15に接続されている。こ
の配管11.12上にはバルブ13.14及びアキュム
レータチャンバー35が設けられる。油回転ポンプ15
には通常時用電源16及び停電時用電源17が電源切換
器37を介して接続されている。また、電源切換器37
は電圧検知回路36により切換えられる。ステージ収納
室1には、大気をヘリウムに置換する時のために、バル
ブ18を介して真空ポンプ19が接続され、またバルブ
20を介して図示しないヘリウム源に接続されている。
ードロックチャンバーとの間で搬入搬出するためのウェ
ハハンド10が備わる。マスク6はマスクチャック3に
機械的に保持される。ウェハチャック4及びウェハハン
ド10におけるウェハの吸着は全て真空吸着力による構
成であり、フィードスルー用の配管11.12を介して
外部に設置した油回転ポンプ15に接続されている。こ
の配管11.12上にはバルブ13.14及びアキュム
レータチャンバー35が設けられる。油回転ポンプ15
には通常時用電源16及び停電時用電源17が電源切換
器37を介して接続されている。また、電源切換器37
は電圧検知回路36により切換えられる。ステージ収納
室1には、大気をヘリウムに置換する時のために、バル
ブ18を介して真空ポンプ19が接続され、またバルブ
20を介して図示しないヘリウム源に接続されている。
上記構成のX線露光装置の作用について以下に説明する
。最初、ステージ収納室1内は大気の状態である。この
状態でマスク6がマ各クチャツク3に機械的に固定され
る。次に、バルブ18を開いて真空ポンプ19によりス
テージ収納室1内を排気し、ステージ収納室内の圧力が
所定の圧力(例えば10−’Torr)になったらバル
ブ18を閉じる。この後バルブ20を開きステージ収納
室1内の圧力が所定の圧力(例えば100 Torr)
になるまでヘリウムを供給する。この後、ウェハハンド
10によりウェハ5がウェハチャック4に搬入され真空
吸着力により吸着保持される。以後ウェハー枚の露光が
終了するごとに、露光済みのウェハが図示しないロード
ロックチャンバーへ搬出され、新しいウェハが搬入され
る。このとき、ウェハチャック4及びウェハハンド10
の吸着力のON、OFFはバルブ13.14により行な
われる。
。最初、ステージ収納室1内は大気の状態である。この
状態でマスク6がマ各クチャツク3に機械的に固定され
る。次に、バルブ18を開いて真空ポンプ19によりス
テージ収納室1内を排気し、ステージ収納室内の圧力が
所定の圧力(例えば10−’Torr)になったらバル
ブ18を閉じる。この後バルブ20を開きステージ収納
室1内の圧力が所定の圧力(例えば100 Torr)
になるまでヘリウムを供給する。この後、ウェハハンド
10によりウェハ5がウェハチャック4に搬入され真空
吸着力により吸着保持される。以後ウェハー枚の露光が
終了するごとに、露光済みのウェハが図示しないロード
ロックチャンバーへ搬出され、新しいウェハが搬入され
る。このとき、ウェハチャック4及びウェハハンド10
の吸着力のON、OFFはバルブ13.14により行な
われる。
上記バルブ13(14)の構造を第2図に示す。弁本体
22はエアシリンダー23内のピストン21に接続され
ている。エアシリンダー23の駆動力として高圧エアが
供給される。この高圧エア配管上に、常時閉(通電時間
)構造の電磁弁25.26が設けられ、さらに通電時に
電磁弁26側へ高圧エアを供給する構造の電磁弁27が
設けられている。上記バルブ13.14を操作する場合
、最初電磁弁25.26は常に通電状態(開)にしてお
く。この状態で、ウェハチャック4又はウェハハンド1
0にクエへを吸着する場合は、電磁弁27に通電し、バ
ルブ13.14を開の状態にする。クエへを外す場合に
は、電磁弁27の通電をOFFにすれば、バルブ13.
14が閉じ、真空吸着力はなくなる。
22はエアシリンダー23内のピストン21に接続され
ている。エアシリンダー23の駆動力として高圧エアが
供給される。この高圧エア配管上に、常時閉(通電時間
)構造の電磁弁25.26が設けられ、さらに通電時に
電磁弁26側へ高圧エアを供給する構造の電磁弁27が
設けられている。上記バルブ13.14を操作する場合
、最初電磁弁25.26は常に通電状態(開)にしてお
く。この状態で、ウェハチャック4又はウェハハンド1
0にクエへを吸着する場合は、電磁弁27に通電し、バ
ルブ13.14を開の状態にする。クエへを外す場合に
は、電磁弁27の通電をOFFにすれば、バルブ13.
14が閉じ、真空吸着力はなくなる。
上記構成のX線露光装置では、チャック用の真空吸着力
発生用として油回転ポンプ15を使用している。油回転
ポンプの到達圧力は10−’Torr以下であり、ステ
ージ収納室1を例えば100 Torrとすれば、0,
13にg/c+a”の吸着力が得られる。6インチウェ
ハであれば、23にgの吸着力が得られ、実用上充分で
ある。従って、上記実施例のように、ステージ収納室1
の排気用ポンプ19とは別に、チャック専用の油回転ポ
ンプを備えれば、減圧したヘリウム雰囲気内でも、真空
吸着力により確実にマスク、ウェハ等の吸着保持ができ
る。
発生用として油回転ポンプ15を使用している。油回転
ポンプの到達圧力は10−’Torr以下であり、ステ
ージ収納室1を例えば100 Torrとすれば、0,
13にg/c+a”の吸着力が得られる。6インチウェ
ハであれば、23にgの吸着力が得られ、実用上充分で
ある。従って、上記実施例のように、ステージ収納室1
の排気用ポンプ19とは別に、チャック専用の油回転ポ
ンプを備えれば、減圧したヘリウム雰囲気内でも、真空
吸着力により確実にマスク、ウェハ等の吸着保持ができ
る。
次に、停電時について述べる。油回転ポンプ15には通
電時用電源16の他に停電時用電源17が備わり、停電
時に所定の時間、例えばステージ収納室1を大気開放し
てウェハ5を取り出す間、ポンプの駆動が可能である。
電時用電源16の他に停電時用電源17が備わり、停電
時に所定の時間、例えばステージ収納室1を大気開放し
てウェハ5を取り出す間、ポンプの駆動が可能である。
すなわち、電圧検知回路36では、通常時用電源を整流
して停電時用電源からの基準電圧と比較し、通常時電源
の電圧が基準値より低い場合に停電と判断して、切換器
37を切換えて停電時用電源側に接続する。この場合、
通電時用電源から停電時用電源に切り換わる間にチャッ
クの真空度が低下し、特にステージ収納室1内のヘリウ
ム圧力が低い場合には、ウェハが脱落するおそれがある
。これを防止するため、真空チャックと油回転ポンプ間
の真空配管上にアキュムレータチャンバー35が設けら
れている。これにより急激な圧力上昇が防止される。ア
キュムレータチャンバー35の容量は、真空チャックの
数、配管抵抗、ポンプ排気速度等を考慮して定める。第
2図で説明したように、バルブ13.14を駆動する高
圧エア配管上には常時閉の電磁弁25.28が設けられ
ているため、停電時にこれらの電磁弁25.26が閉じ
、バルブ13.14は停電前の状態を維持する。従って
、停電前にウェハを真空吸着保持していれば停電時にも
このウェハ保持状態が保たれ、また停電前にウェハがな
ければ油回転ポンプ15への配管は閉じたままの状態で
維持される。このため、ウェハチャック4又はウェハハ
ンド10の一方のみかウェハを吸着保持している場合に
、両方のチャックが閉じられるため、ウェハ非保持側の
チャック開によりステージ収納室内のヘリウムガスを吸
い込み保持側チャックの真空吸着力が低下してウェハが
脱落するといった不具合はなくなる。
して停電時用電源からの基準電圧と比較し、通常時電源
の電圧が基準値より低い場合に停電と判断して、切換器
37を切換えて停電時用電源側に接続する。この場合、
通電時用電源から停電時用電源に切り換わる間にチャッ
クの真空度が低下し、特にステージ収納室1内のヘリウ
ム圧力が低い場合には、ウェハが脱落するおそれがある
。これを防止するため、真空チャックと油回転ポンプ間
の真空配管上にアキュムレータチャンバー35が設けら
れている。これにより急激な圧力上昇が防止される。ア
キュムレータチャンバー35の容量は、真空チャックの
数、配管抵抗、ポンプ排気速度等を考慮して定める。第
2図で説明したように、バルブ13.14を駆動する高
圧エア配管上には常時閉の電磁弁25.28が設けられ
ているため、停電時にこれらの電磁弁25.26が閉じ
、バルブ13.14は停電前の状態を維持する。従って
、停電前にウェハを真空吸着保持していれば停電時にも
このウェハ保持状態が保たれ、また停電前にウェハがな
ければ油回転ポンプ15への配管は閉じたままの状態で
維持される。このため、ウェハチャック4又はウェハハ
ンド10の一方のみかウェハを吸着保持している場合に
、両方のチャックが閉じられるため、ウェハ非保持側の
チャック開によりステージ収納室内のヘリウムガスを吸
い込み保持側チャックの真空吸着力が低下してウェハが
脱落するといった不具合はなくなる。
真空チャック配管上のバルブ13.14の別の例を第3
図に示す。この例においては、エアシリンダー23に常
時間の電磁弁28.29が接続されている。その他の構
成は第2図の例と同様である。第3図の構成において、
バルブを開くときは電磁弁29のみに通電し、閉じると
きは他方の電磁弁28のみに通電する。停電時には、電
磁弁28.29の両方が開となり、ピストン21の両側
が加圧状態となって、停電前の状態が維持される。
図に示す。この例においては、エアシリンダー23に常
時間の電磁弁28.29が接続されている。その他の構
成は第2図の例と同様である。第3図の構成において、
バルブを開くときは電磁弁29のみに通電し、閉じると
きは他方の電磁弁28のみに通電する。停電時には、電
磁弁28.29の両方が開となり、ピストン21の両側
が加圧状態となって、停電前の状態が維持される。
上記実施例では、ウェハの保持についてのみ真空チャッ
クを用いたが、マスクの保持についても真空チャックを
用いて上記構成を通用することができる。
クを用いたが、マスクの保持についても真空チャックを
用いて上記構成を通用することができる。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明においては、ステージ収納
室内を排気するポンプの他に保持システム専用で停電時
も所定時間駆動可能な真空ポンプを備え、また保持シス
テムの真空吸着力をON、OFFするバルブが停電時に
停電前の状態を維持可能な構成とし、さらに真空配管上
にアキュムレータチャンバーを設けて真空吸着手段の急
激な貢空圧の減少を防止しているため、減圧密閉した雰
囲気内での使用が可能になり、減圧容器内で被保持物を
確実に真空吸着し、停電時においても被保持物を脱落さ
せることのない信顆性の高い保持システムが達成される
。
室内を排気するポンプの他に保持システム専用で停電時
も所定時間駆動可能な真空ポンプを備え、また保持シス
テムの真空吸着力をON、OFFするバルブが停電時に
停電前の状態を維持可能な構成とし、さらに真空配管上
にアキュムレータチャンバーを設けて真空吸着手段の急
激な貢空圧の減少を防止しているため、減圧密閉した雰
囲気内での使用が可能になり、減圧容器内で被保持物を
確実に真空吸着し、停電時においても被保持物を脱落さ
せることのない信顆性の高い保持システムが達成される
。
第1図は、本発明に係わる保持システムをX線露光装置
に適用した場合の構成図、 第2図は、第1図の真空チャックON、OFF用バルブ
の構成図、 第3図は、第1図の真空チャックON、OFF用パルプ
の別の例の構成図、 第4図は、従来のX線露光装置の構成図である。 :ステージ収納室、 :マスクチャック、 ウェハチャック、 ;ウェハ、 :マスク、 O:ウェハハンド、 3.14:バルブ、 5:油回転ポンプ、 6:通常時用電源、 7:停電時用電源、 9:ステージ収納室排気用真空ポンプ。 第 図
に適用した場合の構成図、 第2図は、第1図の真空チャックON、OFF用バルブ
の構成図、 第3図は、第1図の真空チャックON、OFF用パルプ
の別の例の構成図、 第4図は、従来のX線露光装置の構成図である。 :ステージ収納室、 :マスクチャック、 ウェハチャック、 ;ウェハ、 :マスク、 O:ウェハハンド、 3.14:バルブ、 5:油回転ポンプ、 6:通常時用電源、 7:停電時用電源、 9:ステージ収納室排気用真空ポンプ。 第 図
Claims (5)
- (1)大気圧より低い圧力に保持可能な密閉容器と、真
空吸着力により被保持物を吸着保持する真空チャック手
段と、前記密閉容器を排気する容器減圧用真空ポンプと
、前記真空チャック手段専用の真空チャック用真空ポン
プとを具備したことを特徴とする保持システム。 - (2)前記真空チャック用真空ポンプには、通常使用す
る通常時用電源及び停電時に所定時間駆動可能な停電時
用電源が接続されたことを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の保持システム。 - (3)前記真空チャック用真空ポンプは、油回転ポンプ
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の保
持システム。 - (4)前記真空チャック手段と真空チャック用真空ポン
プとを連結する配管上に、停電時に停電前の真空チャッ
ク状態を維持可能なバルブ手段を設けたことを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の保持システム。 - (5)前記真空チャック手段と真空チャック用真空ポン
プとを連結する配管上に、アキュムレータチャンバーを
設けたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の保
持システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63230146A JPH0281457A (ja) | 1988-09-16 | 1988-09-16 | 保持システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63230146A JPH0281457A (ja) | 1988-09-16 | 1988-09-16 | 保持システム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0281457A true JPH0281457A (ja) | 1990-03-22 |
Family
ID=16903309
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63230146A Pending JPH0281457A (ja) | 1988-09-16 | 1988-09-16 | 保持システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0281457A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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- 1988-09-16 JP JP63230146A patent/JPH0281457A/ja active Pending
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