JPH0269534A - プラスチック成形品の表面改質法 - Google Patents
プラスチック成形品の表面改質法Info
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- JPH0269534A JPH0269534A JP22043988A JP22043988A JPH0269534A JP H0269534 A JPH0269534 A JP H0269534A JP 22043988 A JP22043988 A JP 22043988A JP 22043988 A JP22043988 A JP 22043988A JP H0269534 A JPH0269534 A JP H0269534A
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Landscapes
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的と利用分野]
本発明は、
主として高分子鎖が規則的に配列した結晶性高分子、又
は無定形状態と結晶性状態が混在した半結晶性高分子よ
りなるプラスチック成形品の表面を改質又は変質する新
規な光加工法、 に関するものである。ここで言うプラスチック成形品と
はフィルム、シート、mM、樹脂成形品などを指す(以
下、対象成形品という)。又、目的とする表面の改質又
は変質とは対象成形品の接着性、易滑性、吸湿性、ぬれ
性、吸油性、染色性。
は無定形状態と結晶性状態が混在した半結晶性高分子よ
りなるプラスチック成形品の表面を改質又は変質する新
規な光加工法、 に関するものである。ここで言うプラスチック成形品と
はフィルム、シート、mM、樹脂成形品などを指す(以
下、対象成形品という)。又、目的とする表面の改質又
は変質とは対象成形品の接着性、易滑性、吸湿性、ぬれ
性、吸油性、染色性。
含浸性、光反射性、描画性、導電性などの表面の物理的
及び/又は化学的特性を望ましい水準に変えることを意
味する。
及び/又は化学的特性を望ましい水準に変えることを意
味する。
[先行技術と本発明の新規性]
ワイ・ノピス等は(Y、 Novis、J、 J。
Pireaux、A、Brezini、E、 Pet
it、and R。
it、and R。
Caudano、J、Appl、 Phys、
Vol 64 、 365(1988) )ポリ
エチレン・テレフタレートに閾値附近(20〜40mJ
/Cd)のArFレーザ光(193tV)を照射すると
、その照射表面のエツチングの状態は非晶質のものと半
結晶性のものでは著しく異なることを認め、紫外線レー
ザによる表面のエツチングは芳香族系の半結晶性高分子
の表面結晶構造を観察するのに迅速で簡便な方法である
としている。然し、そのエツチングの工業的な有用性。
Vol 64 、 365(1988) )ポリ
エチレン・テレフタレートに閾値附近(20〜40mJ
/Cd)のArFレーザ光(193tV)を照射すると
、その照射表面のエツチングの状態は非晶質のものと半
結晶性のものでは著しく異なることを認め、紫外線レー
ザによる表面のエツチングは芳香族系の半結晶性高分子
の表面結晶構造を観察するのに迅速で簡便な方法である
としている。然し、そのエツチングの工業的な有用性。
活用策については何等の提案も行っていない。
プラスチックス成形品の表面改質法として工業的に有効
な方法の一つとしては特開昭54−138076がある
。この発明は延伸可能なプラスチック成形品に紫外線を
照射したあと、あるいは照射しつつ延伸を行うことによ
り表面改質を行う方法である。
な方法の一つとしては特開昭54−138076がある
。この発明は延伸可能なプラスチック成形品に紫外線を
照射したあと、あるいは照射しつつ延伸を行うことによ
り表面改質を行う方法である。
即ち、紫外線を照射した後に延伸と言うプロセスが組合
されて始めてプラスチック成形品の表面が改質されると
している。
されて始めてプラスチック成形品の表面が改質されると
している。
本発明者等は特開昭54−138076で使われている
水銀灯などの放電灯の代りに紫外線レーザを使用した場
合には、 (1) 光照射後に延伸したのでは成形品の表面は余
り改質、変質されない。寧ろ、 (2) 光照射に先立って延伸した成形品を使用しな
い限り表面は改質又は変質され難い。更に、(3)
成る種の構造を有するプラスチックス成形品は延伸をし
なくても光照射のみでその表面が充分に改質又は変質さ
れる。
水銀灯などの放電灯の代りに紫外線レーザを使用した場
合には、 (1) 光照射後に延伸したのでは成形品の表面は余
り改質、変質されない。寧ろ、 (2) 光照射に先立って延伸した成形品を使用しな
い限り表面は改質又は変質され難い。更に、(3)
成る種の構造を有するプラスチックス成形品は延伸をし
なくても光照射のみでその表面が充分に改質又は変質さ
れる。
と言う予期しなかった新しい知見を得ることが出来た。
[発明の構成コ
本発明は結晶性、半結晶性高分子の成形品に適用可能で
あるが特に好ましい高分子としては、ポリエステル系高
分子(ポリエチレン・テレフタレート(以下PETと略
す)、ポリブチレン・テレフタレート、ポリエチレン−
2,6−ナフタレート(以下PEN−2,6と略す)、
ボリアリレートなど)、ポリアミド系高分子(ナイロン
6、ナイロン66、ナイロン12など)、ポリアラミド
系高分子(ポリ−p−フェニレン・テレフタルアミド、
ポリー信−フエニレン・イソフタルアミドなど)のほか
、芳香族ポリエーテル・エーテルケトン(以下PEEK
と略す)やポリアリレン・サルファイド(ポリフェニレ
ン・サルファイド(以下PPSと略す)など)などであ
る。これらの高分子は特開昭54−138076の如く
光を照射した侵で延伸配向する必要は全くなく、その表
面はレーザ照射のみで充分に改質、変質される。然し、
好ましくはレーザ光を照射する前に予め処理をして結晶
核を潜在的に生成せしめた後で照射を行う方がその効果
が大きい。そのための予備処理法として好ましい方法の
一つは延伸配向法である。この延伸は一軸延伸でも二輪
延伸でもよい。二輪延伸の場合、逐次二軸でも同時二輪
でもそのいづれでもよい。
あるが特に好ましい高分子としては、ポリエステル系高
分子(ポリエチレン・テレフタレート(以下PETと略
す)、ポリブチレン・テレフタレート、ポリエチレン−
2,6−ナフタレート(以下PEN−2,6と略す)、
ボリアリレートなど)、ポリアミド系高分子(ナイロン
6、ナイロン66、ナイロン12など)、ポリアラミド
系高分子(ポリ−p−フェニレン・テレフタルアミド、
ポリー信−フエニレン・イソフタルアミドなど)のほか
、芳香族ポリエーテル・エーテルケトン(以下PEEK
と略す)やポリアリレン・サルファイド(ポリフェニレ
ン・サルファイド(以下PPSと略す)など)などであ
る。これらの高分子は特開昭54−138076の如く
光を照射した侵で延伸配向する必要は全くなく、その表
面はレーザ照射のみで充分に改質、変質される。然し、
好ましくはレーザ光を照射する前に予め処理をして結晶
核を潜在的に生成せしめた後で照射を行う方がその効果
が大きい。そのための予備処理法として好ましい方法の
一つは延伸配向法である。この延伸は一軸延伸でも二輪
延伸でもよい。二輪延伸の場合、逐次二軸でも同時二輪
でもそのいづれでもよい。
軸延伸の場合の好ましい延伸倍率はPETで2〜5倍で
ある。また、二軸延伸配向の場合、PETで好適な面積
延伸倍率は5〜20倍である。延伸温度はPETの場合
、80〜160℃の範囲で行われ、延伸後に 120〜
240℃で通常熱処理される。照射には熱処理したもの
を使用しても良い。又、光照射をした後で熱処理しても
差支えなく、場合によっては熱処理をしないものをその
まま使用することも出来る。延伸以外の予備処理法とし
ては対象成形品を少くとも結晶化温度近く迄加熱し熱処
理することで結晶核を潜在的に生成することも出来る。
ある。また、二軸延伸配向の場合、PETで好適な面積
延伸倍率は5〜20倍である。延伸温度はPETの場合
、80〜160℃の範囲で行われ、延伸後に 120〜
240℃で通常熱処理される。照射には熱処理したもの
を使用しても良い。又、光照射をした後で熱処理しても
差支えなく、場合によっては熱処理をしないものをその
まま使用することも出来る。延伸以外の予備処理法とし
ては対象成形品を少くとも結晶化温度近く迄加熱し熱処
理することで結晶核を潜在的に生成することも出来る。
又、適当な溶媒中に対象成形品を浸漬することで結晶核
を生成することも可能である。例えば非晶性PEN−2
,6フイルムの場合には溶媒としてジオキサンを使用し
、50℃で10分間浸漬処理すれば結晶核を生成するこ
とが出来る。
を生成することも可能である。例えば非晶性PEN−2
,6フイルムの場合には溶媒としてジオキサンを使用し
、50℃で10分間浸漬処理すれば結晶核を生成するこ
とが出来る。
本発明でいう紫外線レーザ光とは150〜38Or+m
の波長を有するものでありXe F、N2 。
の波長を有するものでありXe F、N2 。
Xe On、Kr F、△r F、F2等のレーザのほ
か銅蒸気レーザ、YAGレーザなどの高調波変換器や色
素レーザなどから発生するレーザ光を用いることが出来
る。レーザ光の照射方法には特に限定はない。照射は空
気中、不活性ガス中、加圧下又は真空中のいづれで実施
しても良い。照射に当っての温度は常温から 100℃
の範囲が好ましい。
か銅蒸気レーザ、YAGレーザなどの高調波変換器や色
素レーザなどから発生するレーザ光を用いることが出来
る。レーザ光の照射方法には特に限定はない。照射は空
気中、不活性ガス中、加圧下又は真空中のいづれで実施
しても良い。照射に当っての温度は常温から 100℃
の範囲が好ましい。
照射条件として大切なのは照射フルエンスである。
フルエンスハ通常0.1mJ/d/パルス〜6J/Cd
/パルスの範囲が好ましいが照射される対象成形品並び
に改質、変質の目的により種々異なったものとなる。高
いフルエンスを使用したい場合には凸レンズを用いて所
定のフルエンスが照射面で得られるように光源とレンズ
、レンズと照射試料との距離を各々適切に調節すればよ
い。反対により低いフルエンスで照射を行いたい場合に
は凸レンズの代りに凹レンズを使用すれば低フルエンス
での照射を行うことが出来る。
/パルスの範囲が好ましいが照射される対象成形品並び
に改質、変質の目的により種々異なったものとなる。高
いフルエンスを使用したい場合には凸レンズを用いて所
定のフルエンスが照射面で得られるように光源とレンズ
、レンズと照射試料との距離を各々適切に調節すればよ
い。反対により低いフルエンスで照射を行いたい場合に
は凸レンズの代りに凹レンズを使用すれば低フルエンス
での照射を行うことが出来る。
レーザ光照射に先立って本発明の対象成形品の中に予め
光増感剤(例えばベンゾフェノン)を添加しても良く、
又任意の高分子とブレンドしてからレーザ光を照射して
も何ら差支えない。
光増感剤(例えばベンゾフェノン)を添加しても良く、
又任意の高分子とブレンドしてからレーザ光を照射して
も何ら差支えない。
実施例に於いて照射に使用した紫外パルスエキシマ・レ
ーザはラムダ・フィシツク社VEM02001 M
S Cである。使用したガス媒体はArF(193nm
>、 Kr F (248nm )、 Xe Cf(
308nm) 、 Xe F (351nm )である
が、照射に用いるポリマーの紫外部の吸収が短波長側に
片寄っている場合(例えばナイロンなど)には主として
ArFなどの短波長レーザで照射することが好ましい。
ーザはラムダ・フィシツク社VEM02001 M
S Cである。使用したガス媒体はArF(193nm
>、 Kr F (248nm )、 Xe Cf(
308nm) 、 Xe F (351nm )である
が、照射に用いるポリマーの紫外部の吸収が短波長側に
片寄っている場合(例えばナイロンなど)には主として
ArFなどの短波長レーザで照射することが好ましい。
又、目的とする改質・変質によっても使用する波長、照
射条件等を変更することも必要である。例えば反射率を
変える場合には変質(黒化)による方法と、白化(失透
)による方法とがあるが前者の場合には照射にはパルス
当りのフルエンスを低目にし、その代りに照q4パルス
数を増やすことの方が反射率が低い、即ち良い結果が得
られることが多い。これに反し、白化(失透)により反
射率を変化させる場合にはパルス当りのフルエンスを高
目にして照射した方が一般により好ましい結果が得られ
る。
射条件等を変更することも必要である。例えば反射率を
変える場合には変質(黒化)による方法と、白化(失透
)による方法とがあるが前者の場合には照射にはパルス
当りのフルエンスを低目にし、その代りに照q4パルス
数を増やすことの方が反射率が低い、即ち良い結果が得
られることが多い。これに反し、白化(失透)により反
射率を変化させる場合にはパルス当りのフルエンスを高
目にして照射した方が一般により好ましい結果が得られ
る。
以下実施例を示して本発明の詳細な説明を行うが本発明
の請求範囲はこれらの実施例により何等の制限を受ける
ものではない。
の請求範囲はこれらの実施例により何等の制限を受ける
ものではない。
尚、実施例中に示した特性値の測定法は下記の通りであ
る。
る。
(1)表面反射率
島津製作所製自記分光光度計UV−300に積分球付属
装置を取り付け、レーザ照射前の試料の反射率を100
%として、レーザ照射後の反射率を評価した。
装置を取り付け、レーザ照射前の試料の反射率を100
%として、レーザ照射後の反射率を評価した。
(2)表面粗さ
T aylor−Hobson社製表面形状測定装置T
a1ysurf型を用い、J I S B 0601
−1976に準じて粗さを測定し、粗さの極大値と極小
値の差で評価した。
a1ysurf型を用い、J I S B 0601
−1976に準じて粗さを測定し、粗さの極大値と極小
値の差で評価した。
(3) 易滑性
A S T M −D l894 3法に従って測定し
静摩擦係数で示した。
静摩擦係数で示した。
第−表 xecuレーザによる表面改質実施例−1Xe
Cρレーザによる表面改質(白化−黒化) ガス媒体としてXe0文(発成波長308nm )を使
用し、繰返し周波数が11−12.フルエンスは75m
J/d/パルス、パルス幅は半値全幅で20nsの条件
で試料を直接照射した。照射はショツト数を100パル
ス迄照射し表面の変色状態(白化−黒化)を肉眼で観察
した。又、100パルス照射した時の試料の表面反射率
を測定した。観察並びに反射率の測定結果を次表に示し
た。照射に使用した試料はPEN−2,6以外は市販の
ものを入手してテストに使用した。
Cρレーザによる表面改質(白化−黒化) ガス媒体としてXe0文(発成波長308nm )を使
用し、繰返し周波数が11−12.フルエンスは75m
J/d/パルス、パルス幅は半値全幅で20nsの条件
で試料を直接照射した。照射はショツト数を100パル
ス迄照射し表面の変色状態(白化−黒化)を肉眼で観察
した。又、100パルス照射した時の試料の表面反射率
を測定した。観察並びに反射率の測定結果を次表に示し
た。照射に使用した試料はPEN−2,6以外は市販の
ものを入手してテストに使用した。
上表から予め延伸配向してから照射したサンプルの方が
照射により変質を受は易いことが明らかに判る。
照射により変質を受は易いことが明らかに判る。
PEEKとPPSについて第−表と同一の照射サンプル
を使用して900nm〜600nmでの反射率を測定し
た。次表にその結果を示した。
を使用して900nm〜600nmでの反射率を測定し
た。次表にその結果を示した。
第二人 XeCρレーザによる表面変質−フェニレン・
イソフタルアミドフィルム(MPIと略す)以外は全て
市販品を入手して実験に使用した。
イソフタルアミドフィルム(MPIと略す)以外は全て
市販品を入手して実験に使用した。
第二人 KrFレーザによる表面改質−1上表の如く照
射によりいづれの試料も長波長よりも短波長での反射率
が小さくなる。然し、波長に対する反射率の変化は一様
に変化しているので以下の実施例では700rvに於け
る反射率の値を代表値として表示することに留めた。
射によりいづれの試料も長波長よりも短波長での反射率
が小さくなる。然し、波長に対する反射率の変化は一様
に変化しているので以下の実施例では700rvに於け
る反射率の値を代表値として表示することに留めた。
実施例−2KrFレーザによる表面改質(白化−黒化)
ガス媒体をKr F (発振波長248n■)に変えて
実施例−1と同様なテストを行った。繰返し周波数はI
H2,パルス幅は半値全幅で20nS、照射ショツト数
は100パルスでテストした。照射に使用した試料は面
積倍率10倍に二輪延伸したポリ−m表面が黒化するか
白化失透するかはフルエンスにより異なる。PETを例
にとると35mJ/d/パルスでは未延伸、二輪延伸の
いづれの試料も黒化するが延伸配向したサンプルの方が
反射率は低い。然し80m J / ai /パルスに
フルエンスを上げると二輪延伸PETの照射試料の表面
は白化し失透する。この失透した照射面を光学顕微鏡で
観察すると表面が凹凸の状態になって居り乱反射のため
失透したように見えることが判った。然し、黒化するか
白化失透するかはフルエンスのみに依存せず高分子の種
類によっても異なる。例えばPPSでは8077LJ/
cd/パルスでも白化(失透)現象は観察されていない
。
実施例−1と同様なテストを行った。繰返し周波数はI
H2,パルス幅は半値全幅で20nS、照射ショツト数
は100パルスでテストした。照射に使用した試料は面
積倍率10倍に二輪延伸したポリ−m表面が黒化するか
白化失透するかはフルエンスにより異なる。PETを例
にとると35mJ/d/パルスでは未延伸、二輪延伸の
いづれの試料も黒化するが延伸配向したサンプルの方が
反射率は低い。然し80m J / ai /パルスに
フルエンスを上げると二輪延伸PETの照射試料の表面
は白化し失透する。この失透した照射面を光学顕微鏡で
観察すると表面が凹凸の状態になって居り乱反射のため
失透したように見えることが判った。然し、黒化するか
白化失透するかはフルエンスのみに依存せず高分子の種
類によっても異なる。例えばPPSでは8077LJ/
cd/パルスでも白化(失透)現象は観察されていない
。
試料表面が白化失透すると表面反射率は急速に上る。然
し、極めて微細な凹凸が照射表面に生成しているので艶
消し効果は充分に認められ、鉛筆による描画性も発現し
ている。又、コンデンサー絶縁油などの含浸性も向上し
ていることは明らかである。更に照射、未照射個所の染
料の染着性の差を利用して光線透過率や表面反射率等の
照射個所の光学的特性の差を未照射個所に対して際立た
せることも又可能である。
し、極めて微細な凹凸が照射表面に生成しているので艶
消し効果は充分に認められ、鉛筆による描画性も発現し
ている。又、コンデンサー絶縁油などの含浸性も向上し
ていることは明らかである。更に照射、未照射個所の染
料の染着性の差を利用して光線透過率や表面反射率等の
照射個所の光学的特性の差を未照射個所に対して際立た
せることも又可能である。
参考のために電極間距離を10履として、簡易表面抵抗
測定器にて照射により表面が黒化した試料の表面抵抗を
測定した。結果を数表に示した。
測定器にて照射により表面が黒化した試料の表面抵抗を
測定した。結果を数表に示した。
第四表 KrFレーザによる表面変質−2いづれの試料
も照射によりその表面抵抗が著しく低下していることが
判った。
も照射によりその表面抵抗が著しく低下していることが
判った。
第1図〜第5図で使用した試料はいずれも同条件で延伸
配向(面積倍率10倍)したPEN−2,6フイルムで
ある。 第1図は二輪延伸されたPEN−2,6フイルムの表面
を走査型電子顕微鏡で観察した写真である。 第2図〜第5図の写真は二輪延伸PEN−2,6フイル
ムを数表の如き条件で紫外パルスレーザ光を照射した後
のフィルムの表面を観察した写真である。 撮影条件は、いづれも 倍 率 x 2000 (但し、図4のみxloo
o)角 度 45゜ 加 速 電 圧 5KV金スパツタコー
テイング 100人である。 尚、照射はいずれも繰返し周波数は1H2,パルス幅は
半値全幅で20nsで実施した。又高フルエンスでの照
射には凸レンズ(焦点距離100m+、又は170as
+)を用いて所定のフルエンスを得るようにした。 第2〜5図より延伸配向条件(予備処理)が定であって
も使用するレーザ、照射条件を変えることにより広範囲
に表面の粗さを変更出来ることが判る。 付表 紫外パルスレーザ照射条件 特許出願人 通商産業省工業技術院長 帝人油化株式会社 \ζ=
配向(面積倍率10倍)したPEN−2,6フイルムで
ある。 第1図は二輪延伸されたPEN−2,6フイルムの表面
を走査型電子顕微鏡で観察した写真である。 第2図〜第5図の写真は二輪延伸PEN−2,6フイル
ムを数表の如き条件で紫外パルスレーザ光を照射した後
のフィルムの表面を観察した写真である。 撮影条件は、いづれも 倍 率 x 2000 (但し、図4のみxloo
o)角 度 45゜ 加 速 電 圧 5KV金スパツタコー
テイング 100人である。 尚、照射はいずれも繰返し周波数は1H2,パルス幅は
半値全幅で20nsで実施した。又高フルエンスでの照
射には凸レンズ(焦点距離100m+、又は170as
+)を用いて所定のフルエンスを得るようにした。 第2〜5図より延伸配向条件(予備処理)が定であって
も使用するレーザ、照射条件を変えることにより広範囲
に表面の粗さを変更出来ることが判る。 付表 紫外パルスレーザ照射条件 特許出願人 通商産業省工業技術院長 帝人油化株式会社 \ζ=
Claims (1)
- 主として結晶性又は半結晶性高分子よりなるプラスチッ
クス成形品を予め処理して結晶核を潜在的に生成せしめ
た後に、380nm以下の波長を含む紫外線レーザ光を
照射し、当該プラスチックス成形品の表面を改質又は変
質することを特徴とするプラスチックの光加工法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63220439A JP2574009B2 (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | プラスチック成形品の表面改質法 |
EP89900313A EP0346485B1 (en) | 1987-12-11 | 1988-12-10 | Aromatic polymer moldings having modified surface condition and process for their production |
DE3855179T DE3855179T2 (de) | 1987-12-11 | 1988-12-10 | Giessformen aus aromatischen polymeren mit veränderter oberflächenbeschaffenheit und verfahren zur herstellung |
US07/392,929 US5175043A (en) | 1987-12-11 | 1988-12-10 | Aromatic polymer molded article with modified surface condition and process for producing the same |
PCT/JP1988/001252 WO1989005330A1 (en) | 1987-12-11 | 1988-12-10 | Aromatic polymer moldings having modified surface condition and process for their production |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63220439A JP2574009B2 (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | プラスチック成形品の表面改質法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0269534A true JPH0269534A (ja) | 1990-03-08 |
JP2574009B2 JP2574009B2 (ja) | 1997-01-22 |
Family
ID=16751126
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63220439A Expired - Lifetime JP2574009B2 (ja) | 1987-12-11 | 1988-09-05 | プラスチック成形品の表面改質法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2574009B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04318037A (ja) * | 1990-12-27 | 1992-11-09 | Abb Patent Gmbh | 表面処理方法 |
JPH04352879A (ja) * | 1991-05-22 | 1992-12-07 | Teijin Ltd | 芳香族ポリアミド繊維の接着改良法 |
JPH04353529A (ja) * | 1991-05-30 | 1992-12-08 | Teijin Ltd | ポリエステルの表面改質法 |
JP2004001500A (ja) * | 2002-04-26 | 2004-01-08 | Ts Corporation | シート積層造形装置およびシート積層造形方法 |
JP2005001172A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Hamamatsu Photonics Kk | レーザ加工方法 |
JP4784930B2 (ja) * | 2003-09-11 | 2011-10-05 | 株式会社ニコン | 高分子結晶の加工方法、高分子結晶の加工装置、及び高分子結晶の観察装置 |
JPWO2010061851A1 (ja) * | 2008-11-28 | 2012-04-26 | 株式会社きもと | 被膜を持つシート及びその製造方法 |
JP2013253132A (ja) * | 2012-06-05 | 2013-12-19 | Olympus Corp | 芳香族ポリエーテルケトン樹脂加工物の表面処理方法および芳香族ポリエーテルケトン樹脂加工物 |
WO2017221701A1 (ja) * | 2016-06-24 | 2017-12-28 | 東レ株式会社 | 二軸配向熱可塑性樹脂フィルム |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5912945A (ja) * | 1982-07-09 | 1984-01-23 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | ポリエステルを食刻する方法 |
JPS60245643A (ja) * | 1984-05-21 | 1985-12-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 表面改質合成樹脂成形品 |
-
1988
- 1988-09-05 JP JP63220439A patent/JP2574009B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US10960597B2 (en) | 2016-06-24 | 2021-03-30 | Toray Industries, Inc. | Biaxially oriented thermoplastic resin film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2574009B2 (ja) | 1997-01-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |