JPH0259871A - 画像処理装置および画像処理方法 - Google Patents
画像処理装置および画像処理方法Info
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- JPH0259871A JPH0259871A JP21045088A JP21045088A JPH0259871A JP H0259871 A JPH0259871 A JP H0259871A JP 21045088 A JP21045088 A JP 21045088A JP 21045088 A JP21045088 A JP 21045088A JP H0259871 A JPH0259871 A JP H0259871A
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- filling
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- 239000013598 vector Substances 0.000 claims abstract description 54
- 239000003973 paint Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005429 filling process Methods 0.000 description 23
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 2
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 235000014121 butter Nutrition 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007591 painting process Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、ベクトル化された閉じた多角形エリアの内
外を塗り潰し処理する画像処理装置に関するものである
。
外を塗り潰し処理する画像処理装置に関するものである
。
(従来の技術)
従来、この種の画像処理方式としては特開昭60−13
2271号公報等に示されるように境界線情報と所定の
塗り込みパターンとの排他的論理和処理によりメモリに
書込む場合と、特開昭50−14230号公報に示され
るように輪郭情報をスキャンして得られる1−1区間に
対応するメモリ上に画素を塗り込む場合と、作成された
輪郭テーブル等に基づいてメモリ上に画素を塗り込む場
合等の代表的な方法が提案されている。
2271号公報等に示されるように境界線情報と所定の
塗り込みパターンとの排他的論理和処理によりメモリに
書込む場合と、特開昭50−14230号公報に示され
るように輪郭情報をスキャンして得られる1−1区間に
対応するメモリ上に画素を塗り込む場合と、作成された
輪郭テーブル等に基づいてメモリ上に画素を塗り込む場
合等の代表的な方法が提案されている。
第9図(a)〜(e)は従来の閉図形塗り込み処理の一
例を説明する模式図である。同図(a)において、閉図
形50は4本の境界線51〜54により閉図形を構成す
る。55は塗り潰しパターンを示し、この塗り潰しパタ
ーン55と境界線51〜54との排他的論理和処理によ
り塗り潰しを行う。
例を説明する模式図である。同図(a)において、閉図
形50は4本の境界線51〜54により閉図形を構成す
る。55は塗り潰しパターンを示し、この塗り潰しパタ
ーン55と境界線51〜54との排他的論理和処理によ
り塗り潰しを行う。
なお、閉図形50を構成する境界線51〜54は、始点
61と終点62をパラメータとした3本以上のベクトル
データで表わされ、これらのベクトルデータの始点と終
点パラメータに基づいて塗り潰しを行う範囲(図中の1
点鎖線エリア内)を規定する。
61と終点62をパラメータとした3本以上のベクトル
データで表わされ、これらのベクトルデータの始点と終
点パラメータに基づいて塗り潰しを行う範囲(図中の1
点鎖線エリア内)を規定する。
この方式では、各境界線51〜54を順次フルドツトメ
モリ(図示しない)、に直接書き込むと同時に塗り潰し
パターンの書き込みも行う。
モリ(図示しない)、に直接書き込むと同時に塗り潰し
パターンの書き込みも行う。
第9図(b)は境界線51だけをフルドツトメモリへ書
き込むとともに、この境界線情報から塗り潰しパターン
55を書き込んだ状態を示し、境界線51は始点61か
ら終点62までを1ドツトずつドツト発生処理を行い線
描画する。このとき、1ドツト発生毎に隣接する右側の
ドツト位百から先に規定した塗り潰し範囲内を横方向(
X軸方向)1ラスタ分の塗り潰しパターン55の書き込
み処理を行う。この時メモリへ書き込まれているデータ
との排他的論理和をとり、フルドツトメモリへ書き込む
処理を行う。従って、書き込むパターンが「1」であり
、かつメモリ上の既データが「1」である場合は、メモ
リ上には「0」データが書き込まれる。
き込むとともに、この境界線情報から塗り潰しパターン
55を書き込んだ状態を示し、境界線51は始点61か
ら終点62までを1ドツトずつドツト発生処理を行い線
描画する。このとき、1ドツト発生毎に隣接する右側の
ドツト位百から先に規定した塗り潰し範囲内を横方向(
X軸方向)1ラスタ分の塗り潰しパターン55の書き込
み処理を行う。この時メモリへ書き込まれているデータ
との排他的論理和をとり、フルドツトメモリへ書き込む
処理を行う。従って、書き込むパターンが「1」であり
、かつメモリ上の既データが「1」である場合は、メモ
リ上には「0」データが書き込まれる。
このようにして上記各境界線51〜54の始点61から
終点62までをドツト発生させると、同図(b)〜同図
(e)に示されるように順次排他的論理和処理により、
閉図形50内にドツト情報が書き込まれる。
終点62までをドツト発生させると、同図(b)〜同図
(e)に示されるように順次排他的論理和処理により、
閉図形50内にドツト情報が書き込まれる。
第10図は従来の閉図形塗り潰し原理を説明する模式図
であり、65はメモリで、閉図形66が展開された状態
に対応する。
であり、65はメモリで、閉図形66が展開された状態
に対応する。
77はスキャンラインを示し、このスキャンライン77
に対する閉図形66との交差間の「0」データを、図中
では■〜■、■〜■、■〜■までの「0」信号を「1」
信号に変換して1ライン上の塗り潰しを実行し、これを
スキャン方向に対して順次実行させて閉図形66内を塗
り潰す。
に対する閉図形66との交差間の「0」データを、図中
では■〜■、■〜■、■〜■までの「0」信号を「1」
信号に変換して1ライン上の塗り潰しを実行し、これを
スキャン方向に対して順次実行させて閉図形66内を塗
り潰す。
ところが、上記従来の塗り潰し処理に対しては以下に記
述する問題点があった。
述する問題点があった。
スキャンの「1」信号間の「0」信号を「1」信号に変
換する塗り潰し処理においては、処理およびハード構成
が簡単である反面、スキャンラインと輪郭線の頂点とが
交差する場合は、すなわち輪郭線との交差点数が奇数個
の場合は、塗りが正常に行われないため、その点におい
て例外処理を実行しなければならず、図形形状に左右さ
れた処理時間を要する。
換する塗り潰し処理においては、処理およびハード構成
が簡単である反面、スキャンラインと輪郭線の頂点とが
交差する場合は、すなわち輪郭線との交差点数が奇数個
の場合は、塗りが正常に行われないため、その点におい
て例外処理を実行しなければならず、図形形状に左右さ
れた処理時間を要する。
また、排他論理和処理により塗り潰し処理を行う場合に
は、単位ドツト当たりの論理演算時間がかさむので、全
体として処理速度が落ち込む場合が多いし、また、塗り
潰しパターンの取り扱いが煩雑である。
は、単位ドツト当たりの論理演算時間がかさむので、全
体として処理速度が落ち込む場合が多いし、また、塗り
潰しパターンの取り扱いが煩雑である。
さらに、輪郭テーブルによる塗り潰し処理においては、
図形形状が複雑になるにつれて輪郭点数が増えるが、設
定された輪郭テーブル容量を越えた場合には、所定の輪
郭点数間引き処理が行われ、オリジナルの図形形状とは
異なる近似形状の塗り潰し処理となって、印字の品位を
低下させてしまう等の問題点があった。
図形形状が複雑になるにつれて輪郭点数が増えるが、設
定された輪郭テーブル容量を越えた場合には、所定の輪
郭点数間引き処理が行われ、オリジナルの図形形状とは
異なる近似形状の塗り潰し処理となって、印字の品位を
低下させてしまう等の問題点があった。
この発明は、上記の問題点を解決するためになされたも
ので、閉じた図形を構成する輪郭線情報に基づいてパタ
ーンメモリ内のドツト情報を順次反転させることにより
、閉じた図形内を簡単な構成で高速に塗り潰すことがで
きる画像処理装置を得ることを目的とする。
ので、閉じた図形を構成する輪郭線情報に基づいてパタ
ーンメモリ内のドツト情報を順次反転させることにより
、閉じた図形内を簡単な構成で高速に塗り潰すことがで
きる画像処理装置を得ることを目的とする。
(課題を解決するための手段〕
この発明に係る画像処理装置は、ドツトパターンを記憶
するパターンメモリと、閉図形を構成する複数の輪郭線
に対応するベクトル情報を図形単位に記憶するベクトル
情報メモリと、このベクトル情報メモリから読み出され
るベクトル情報で規定される1つの輪郭線に対向するパ
ターンメモリ内の書込みドツトを展開方向に沿って順次
反転しながら書き込んで閉図形内を塗り潰す反転塗り潰
し手段をとから構成したものである。
するパターンメモリと、閉図形を構成する複数の輪郭線
に対応するベクトル情報を図形単位に記憶するベクトル
情報メモリと、このベクトル情報メモリから読み出され
るベクトル情報で規定される1つの輪郭線に対向するパ
ターンメモリ内の書込みドツトを展開方向に沿って順次
反転しながら書き込んで閉図形内を塗り潰す反転塗り潰
し手段をとから構成したものである。
この発明においては、ベクトル情報メモリより閉図形を
構成する複数の輪郭線に対応する各ベクトル情報が読出
されると、反転塗り潰し手段がベクトル情報で規定され
る1つの輪郭線に対向するパターンメモリ内の書込みド
ツトを展開方向に沿って順次反転しながら書き込み、パ
ターンメモリ内の閉図形内部を黒ドツト展開させて、塗
り潰し処理を行う。
構成する複数の輪郭線に対応する各ベクトル情報が読出
されると、反転塗り潰し手段がベクトル情報で規定され
る1つの輪郭線に対向するパターンメモリ内の書込みド
ツトを展開方向に沿って順次反転しながら書き込み、パ
ターンメモリ内の閉図形内部を黒ドツト展開させて、塗
り潰し処理を行う。
〔実施例)
第1図はこの発明の一実施例を示す画像処理装置の構成
を説明するブロック図であり、1は指示手段で、これか
ら塗り潰し処理対象となる閉図形をコードで指示または
表示装置5に描画された閉図形を指示する。2は輪郭情
報メモリで、閉図形を構成する複数の輪郭線情報をベク
トルデータとしてあらかじめまたは表示装置5に描画さ
れた閉図形のベクトルデータを記憶し、指示手段1から
のコード入力またはカーソル等の図形指示により対象と
なる閉図形のベクトルデータを反転塗り潰し処理手段3
に出力する。
を説明するブロック図であり、1は指示手段で、これか
ら塗り潰し処理対象となる閉図形をコードで指示または
表示装置5に描画された閉図形を指示する。2は輪郭情
報メモリで、閉図形を構成する複数の輪郭線情報をベク
トルデータとしてあらかじめまたは表示装置5に描画さ
れた閉図形のベクトルデータを記憶し、指示手段1から
のコード入力またはカーソル等の図形指示により対象と
なる閉図形のベクトルデータを反転塗り潰し処理手段3
に出力する。
反転塗り潰し処理手段3は、ベクトル情報で規定される
1つの輪郭線に対向するパターンメモリ4内の書込みド
ツトを展開方向に沿って順次反転しながら書き込み、パ
ターンメモリ4内の閉図形内部を黒ドツト展開させて、
塗り潰し処理を行う。なお、反転塗り潰し処理とは、パ
ターンメモリ4内の各ドツトデータAを反転(1−mQ
、Q41)してパターンメモリ4に再書込みする処理を
言う。
1つの輪郭線に対向するパターンメモリ4内の書込みド
ツトを展開方向に沿って順次反転しながら書き込み、パ
ターンメモリ4内の閉図形内部を黒ドツト展開させて、
塗り潰し処理を行う。なお、反転塗り潰し処理とは、パ
ターンメモリ4内の各ドツトデータAを反転(1−mQ
、Q41)してパターンメモリ4に再書込みする処理を
言う。
6は印字装置で、パターンメモリ4に対してビットマツ
プに展開されたドツトデータをドツトイメージとして印
字する。
プに展開されたドツトデータをドツトイメージとして印
字する。
次に第2図および第3図を参照しながらこの発明による
反転塗り潰し処理について説明する。
反転塗り潰し処理について説明する。
第2図は塗り潰し対象となる図形輪郭線を示す模式図で
あり、閉図形11は輪郭線11a〜11dから構成され
る状態を示し、この輪郭線118〜11dを規定すりク
トル情報が輪郭情報メモリ2に記憶されている。
あり、閉図形11は輪郭線11a〜11dから構成され
る状態を示し、この輪郭線118〜11dを規定すりク
トル情報が輪郭情報メモリ2に記憶されている。
第3図は、第1図に示した反転塗り潰し処理手段3によ
る反転塗り潰し処理推移を示す模式図であり、同図(a
)は書込み前の状態で、反転塗り潰し処理手段3により
初期化(オールrOJ ) L/た状態に対応する。同
図(b)は第1回目の反転塗り潰し処理状態に対応し、
輪郭線11aに対してX方向(書込み方向)に対して各
ドツトを反転展開した状態に対応する。同図(C)は第
2回目の反転塗り潰し処理状態に対応し、輪郭線11b
に対してX方向(書込み方向)に対して各ドツトを反転
展開した状態に対応する。同図(d)は第3回目の反転
塗り潰し処理状態に対応し、輪郭線11cに対してX方
向(書込み方向)に対して各ドツトを反転展開した状態
に対応する。同図(e)は第4回目の反転塗り潰し処理
状態に対応し、輪郭線11dに対してX方向(書込み方
向)に対して各ドツトを反転展開した状態に対応し、そ
の結果塗り潰し図形12が生成展開される。
る反転塗り潰し処理推移を示す模式図であり、同図(a
)は書込み前の状態で、反転塗り潰し処理手段3により
初期化(オールrOJ ) L/た状態に対応する。同
図(b)は第1回目の反転塗り潰し処理状態に対応し、
輪郭線11aに対してX方向(書込み方向)に対して各
ドツトを反転展開した状態に対応する。同図(C)は第
2回目の反転塗り潰し処理状態に対応し、輪郭線11b
に対してX方向(書込み方向)に対して各ドツトを反転
展開した状態に対応する。同図(d)は第3回目の反転
塗り潰し処理状態に対応し、輪郭線11cに対してX方
向(書込み方向)に対して各ドツトを反転展開した状態
に対応する。同図(e)は第4回目の反転塗り潰し処理
状態に対応し、輪郭線11dに対してX方向(書込み方
向)に対して各ドツトを反転展開した状態に対応し、そ
の結果塗り潰し図形12が生成展開される。
先ず、指示手段1より閉図形11に対する指示がコード
またはピックで与えられると、輪郭情報メモリ2から輪
郭線11a〜11dを規定するベクトル情報が反転塗り
潰し処理手段3に送出される。
またはピックで与えられると、輪郭情報メモリ2から輪
郭線11a〜11dを規定するベクトル情報が反転塗り
潰し処理手段3に送出される。
そこで、反転塗り潰し処理手段3がパターンメモリ4を
、第3図(a)に示すように初期化する。そして、輪郭
線11aに対する反転塗り潰し処理を行う(第3図(b
)参照)。次いで、輪郭線11bに対する反転塗り潰し
処理を行うが、既にバターメモリ4内には第3図(b)
に示すドツトデータが書込まれているので、輪郭線11
bに対する反転塗り潰し処理を行うと、第3図(C)に
示すように輪郭線11bの書込み方向側のドツトが「0
」に反転される。
、第3図(a)に示すように初期化する。そして、輪郭
線11aに対する反転塗り潰し処理を行う(第3図(b
)参照)。次いで、輪郭線11bに対する反転塗り潰し
処理を行うが、既にバターメモリ4内には第3図(b)
に示すドツトデータが書込まれているので、輪郭線11
bに対する反転塗り潰し処理を行うと、第3図(C)に
示すように輪郭線11bの書込み方向側のドツトが「0
」に反転される。
次いで、輪郭線11cに対する反転書込み処理を行うと
、第3図(d)に示すように、輪郭線11Cの書込み方
向側のドツトが「1」に反転される。さらに、輪郭線1
1dに対する反転書込み処理を行うと、第3図(e)に
示すように、輪郭線11dの書込み方向側のドツトがr
l 」−m r OJまたは「0」−「1」に反転さ
れ、塗り潰し図形12がパターンメモリ4に展開記憶さ
れる。
、第3図(d)に示すように、輪郭線11Cの書込み方
向側のドツトが「1」に反転される。さらに、輪郭線1
1dに対する反転書込み処理を行うと、第3図(e)に
示すように、輪郭線11dの書込み方向側のドツトがr
l 」−m r OJまたは「0」−「1」に反転さ
れ、塗り潰し図形12がパターンメモリ4に展開記憶さ
れる。
ここで、指示手段1より展開された塗り潰し図形12に
対する表示または印字要求がなされると、表示装置5に
表示(ただし、解像度に応じた間引き表示)されたり、
印字装置6よりドツトイメージとして画像出力される。
対する表示または印字要求がなされると、表示装置5に
表示(ただし、解像度に応じた間引き表示)されたり、
印字装置6よりドツトイメージとして画像出力される。
なお、上記反転塗り潰し処理において、各頂点または塗
りの終了側の輪郭線において、反転塗り潰し終了時点で
、第4図(a)〜(C)に示すような白抜けが発生する
場合があるので、塗りの走査方向に対して1ドツトずら
して書き込んでいる。
りの終了側の輪郭線において、反転塗り潰し終了時点で
、第4図(a)〜(C)に示すような白抜けが発生する
場合があるので、塗りの走査方向に対して1ドツトずら
して書き込んでいる。
第4図(a)〜(C)は塗り潰し処理における塗り残し
現象を説明する模式図であり、・は塗り(黒)ドツトを
示し、Oは塗り残しドツトを示す。
現象を説明する模式図であり、・は塗り(黒)ドツトを
示し、Oは塗り残しドツトを示す。
同図(a)〜同図(C)に示されるように矢印方向に輪
郭線を追跡しながら上記の反転処理を実行すると、塗り
の終了側の輪郭線が消失してしまう。従って、さらに高
品位な塗り潰しを行うためには、塗り潰し処理終了後、
輪郭をORで描画するか、あるいは終了側の追跡時には
、1ドツト走査方向にずらした位置から反転を開始する
等の処理を必要とする。ただし、このような塗り処理を
実行すると、結果として頂点を塗れないので、頂点に関
して元の位置から塗る処理が必要となる。
郭線を追跡しながら上記の反転処理を実行すると、塗り
の終了側の輪郭線が消失してしまう。従って、さらに高
品位な塗り潰しを行うためには、塗り潰し処理終了後、
輪郭をORで描画するか、あるいは終了側の追跡時には
、1ドツト走査方向にずらした位置から反転を開始する
等の処理を必要とする。ただし、このような塗り処理を
実行すると、結果として頂点を塗れないので、頂点に関
して元の位置から塗る処理が必要となる。
また、上記実施例においては、単純図形を対象として塗
り潰し処理を実行する場合について説明したが、ベクト
ル情報で規定されるアウトラインフォントの塗り潰し処
理(これによりベクトルフォントが発生)にも上記反転
塗り潰し処理を実行することができる。
り潰し処理を実行する場合について説明したが、ベクト
ル情報で規定されるアウトラインフォントの塗り潰し処
理(これによりベクトルフォントが発生)にも上記反転
塗り潰し処理を実行することができる。
第5図は輪郭情報に基づくベクトルフォントを発生出力
する文書装置の一例を示すブロック図であり、21は制
御部で、マイクロコンピュータ等のCPU21a、CP
U21aの制御プログラムや各種データ等を記憶してい
るROM2 lb 、CPU21aのワークエリアとし
て各種データの一時保存を行うRAM21c 、ベクト
ルフォントメモリ(輪郭情報メモリ)21eおよびアド
レステーブル21d等を有する。なお、ベクトルフォン
トメモリ(輪郭情報メモリ)21eには、文字コードに
対応する文字等のベクトルフォントデータ(文字の輪郭
を示すベクトル情報)が属性情報とともに記憶されてい
る。
する文書装置の一例を示すブロック図であり、21は制
御部で、マイクロコンピュータ等のCPU21a、CP
U21aの制御プログラムや各種データ等を記憶してい
るROM2 lb 、CPU21aのワークエリアとし
て各種データの一時保存を行うRAM21c 、ベクト
ルフォントメモリ(輪郭情報メモリ)21eおよびアド
レステーブル21d等を有する。なお、ベクトルフォン
トメモリ(輪郭情報メモリ)21eには、文字コードに
対応する文字等のベクトルフォントデータ(文字の輪郭
を示すベクトル情報)が属性情報とともに記憶されてい
る。
アドレステーブル21dには、文字パターンのコードに
対応してフォントデータのアドレスを記憶している。
対応してフォントデータのアドレスを記憶している。
22はビットマツプとして構成されるイメージメモリで
、キャラクタジェネレータ26によりベクトルからなる
アウトライン文字データがドツトに変換された後、文字
のドツトイメージが展開される。また、キャラクタジェ
ネレータ26は、ビットマツプメモリRAM25aを有
し、ベクトルからドツトへ展開するときのワークメモリ
として動作する。その後、ビデオメモリ27を介して後
述するCRT装置において表示が行われたり、インタフ
ェース部25bを介してRAM26Hの内容がプリンタ
25aに送られ印字処理が行われる。
、キャラクタジェネレータ26によりベクトルからなる
アウトライン文字データがドツトに変換された後、文字
のドツトイメージが展開される。また、キャラクタジェ
ネレータ26は、ビットマツプメモリRAM25aを有
し、ベクトルからドツトへ展開するときのワークメモリ
として動作する。その後、ビデオメモリ27を介して後
述するCRT装置において表示が行われたり、インタフ
ェース部25bを介してRAM26Hの内容がプリンタ
25aに送られ印字処理が行われる。
23はCRT装置で、ビデオメモリ27に展開されたビ
ットイメージを高精細に表示する。例えばベクトルフォ
ントを表示する場合は、キャラクタジェネレータ26に
よりベクトル情報をドツトに展開し、ビデオメモリ27
に転送することで行う。
ットイメージを高精細に表示する。例えばベクトルフォ
ントを表示する場合は、キャラクタジェネレータ26に
よりベクトル情報をドツトに展開し、ビデオメモリ27
に転送することで行う。
24aはキーボード、24bはポインティングデバイス
で、キーボード24aと相まって文書装置のデータ入力
源として動作する。なお、2日はバスである。
で、キーボード24aと相まって文書装置のデータ入力
源として動作する。なお、2日はバスである。
第6図は、第5図に示したベクトルフォントメモリ(@
郭情報メモリ)21eに記憶されるベクトルフォントデ
ータと印字パターンとの対応関係を示す模式図であり、
例えば文字コードがJIS−C−6226コ一ド体系に
おけるr3026Jの文字「愛」の場合を示し、31は
ベクトルフォントデータで、愛と文字の輪郭点(図中の
・)を座標データとして記憶している。32は印字出力
文字を示し、ベクトルフォントデータ31で規定された
輪郭線に対して上述した塗り潰し処理を施して出力した
ものに対応している。
郭情報メモリ)21eに記憶されるベクトルフォントデ
ータと印字パターンとの対応関係を示す模式図であり、
例えば文字コードがJIS−C−6226コ一ド体系に
おけるr3026Jの文字「愛」の場合を示し、31は
ベクトルフォントデータで、愛と文字の輪郭点(図中の
・)を座標データとして記憶している。32は印字出力
文字を示し、ベクトルフォントデータ31で規定された
輪郭線に対して上述した塗り潰し処理を施して出力した
ものに対応している。
次に第7図を参照しながらベクトルフォントデータ31
に基づく塗り潰し出力処理について説明する。
に基づく塗り潰し出力処理について説明する。
第7図はこの発明によるベクトルフォントデータ31に
基づく塗り潰し出力処理手順の一例を説明するフローチ
ャートである。なお、(1)〜(9)は各ステップを示
す。
基づく塗り潰し出力処理手順の一例を説明するフローチ
ャートである。なお、(1)〜(9)は各ステップを示
す。
先ず、CPU21aの指示によりキャラクタジエネレー
タ26がビットマツプメモリRAM26aを初期化しく
1)1頁分の文書情報入力が完了するのを待機しく2)
、初期化されたら、RAM21cに記憶された文字コー
ド解析を実行しく3)、解析された文字コードに基づい
てアドレステーブル21dを参照しく4)、ベクトルフ
ォントメモリ21eから複数の輪郭線データを読出しく
5)、各輪郭線データに対してビットマツプメモリRA
M26aに反転展開し、それをイメージメモリ22へ転
送する(6)。次いで、全ての文字コードに対するすべ
ての輪郭線データに対する反転展開が完了したかどうか
を判断しく7) Noならばステップ(3)に戻り
、YESならば印字指令が人力されるのを待機しく8)
YESならばイメージメモリ22内のビットマツプ
データをプリンタ25aに転送して印字を行う(9) これにより、従来の排他的論理和処理による塗り潰し処
理より格段の処理向上が期待でき、ビットマツプにベク
トルフォントを表示またはドツトイメージとして高速に
印字出力可能となる。
タ26がビットマツプメモリRAM26aを初期化しく
1)1頁分の文書情報入力が完了するのを待機しく2)
、初期化されたら、RAM21cに記憶された文字コー
ド解析を実行しく3)、解析された文字コードに基づい
てアドレステーブル21dを参照しく4)、ベクトルフ
ォントメモリ21eから複数の輪郭線データを読出しく
5)、各輪郭線データに対してビットマツプメモリRA
M26aに反転展開し、それをイメージメモリ22へ転
送する(6)。次いで、全ての文字コードに対するすべ
ての輪郭線データに対する反転展開が完了したかどうか
を判断しく7) Noならばステップ(3)に戻り
、YESならば印字指令が人力されるのを待機しく8)
YESならばイメージメモリ22内のビットマツプ
データをプリンタ25aに転送して印字を行う(9) これにより、従来の排他的論理和処理による塗り潰し処
理より格段の処理向上が期待でき、ビットマツプにベク
トルフォントを表示またはドツトイメージとして高速に
印字出力可能となる。
なお、第8図に示す如くキャラクタジェネレータ26の
ベクトルからなるアウトラインフォントの文字データの
ドツトへの展開において、ワークのビットマツプメモリ
RAM26aの展開方向に対する先頭展開アドレスと最
終展開アドレスとから中点アドレスを演算し、その中点
アドレスまたは上記ワークに設定される、例えば128
ポイント程度のビットマツプエリアの中間ビットに対し
て、先頭展開アドレスからは中点アドレスまたは中間ビ
ット方向に塗り潰し処理を実行し、最終展開アドレスか
らは中点アドレスまたは中間ビット方向に逆向きに塗り
潰し処理させるように制御すれば(第8図参照)、余分
なアドレスへの塗り潰し処理を制限できる。従って、上
記実施例よりもなお一層高速に塗り潰し処理を完了させ
ることができ、印字スピードおよび表示スピードを格段
に向上させることができる。
ベクトルからなるアウトラインフォントの文字データの
ドツトへの展開において、ワークのビットマツプメモリ
RAM26aの展開方向に対する先頭展開アドレスと最
終展開アドレスとから中点アドレスを演算し、その中点
アドレスまたは上記ワークに設定される、例えば128
ポイント程度のビットマツプエリアの中間ビットに対し
て、先頭展開アドレスからは中点アドレスまたは中間ビ
ット方向に塗り潰し処理を実行し、最終展開アドレスか
らは中点アドレスまたは中間ビット方向に逆向きに塗り
潰し処理させるように制御すれば(第8図参照)、余分
なアドレスへの塗り潰し処理を制限できる。従って、上
記実施例よりもなお一層高速に塗り潰し処理を完了させ
ることができ、印字スピードおよび表示スピードを格段
に向上させることができる。
以上説明したように、この発明はドツトパターンを記憶
するパターンメモリと、閉図形を構成する複数の輪郭線
に対応するベクトル情報を図形単位に記憶するベクトル
情報メモリと、このベクトル情報メモリから読み出され
るベクトル情報で規定される1つの輪郭線に対向するパ
ターンメモリ内の書込みドツトを展開方向に沿って順次
反転しながら書き込んで閉図形内を塗り潰す反転塗り潰
し手段をとから構成したので、従来の閉図形塗り潰し処
理に比べて格段に簡素な回路で高速に塗り潰しできる。
するパターンメモリと、閉図形を構成する複数の輪郭線
に対応するベクトル情報を図形単位に記憶するベクトル
情報メモリと、このベクトル情報メモリから読み出され
るベクトル情報で規定される1つの輪郭線に対向するパ
ターンメモリ内の書込みドツトを展開方向に沿って順次
反転しながら書き込んで閉図形内を塗り潰す反転塗り潰
し手段をとから構成したので、従来の閉図形塗り潰し処
理に比べて格段に簡素な回路で高速に塗り潰しできる。
従って、閉じた幾何学的な図形または複数の輪郭線で規
定されるベクトルフォントの内部の塗り潰し処理を大幅
に高速化させることができる。
定されるベクトルフォントの内部の塗り潰し処理を大幅
に高速化させることができる。
第1図はこの発明の一実施例を示す画像処理装置の構成
を説明するブロック図、第2図は塗り潰し対象となる図
形輪郭線を示す模式図、第3図は、第1図に示した反転
塗り潰し処理手段による反転塗り潰し処理推穆を示す模
式図、第4図(a)〜(C)は塗り潰し処理における塗
り残し現象を説明する模式図、第5図は輪郭情報に基づ
くベクトルフォントを発生出力する文書装置の一例を示
すブロック図、第6図は、第5図に示したベクトルフォ
ントメモリに記憶されるベクトルフォントデータと印字
パターンとの対応関係を示す模式図、第7図はこの発明
によるベクトルフォントデータに基づく塗り潰し出力処
理手順の一例を説明するフローチャート、第8図はこの
発明の他の反転塗り潰し展開処理を説明する模式図、第
9図(a)〜(e)は従来の閉図形塗り込み処理の一例
を説明する模式図、第10図は従来の閉図形塗り潰し原
理を説明する模式図である。 図中、1は指示手段、2は輪郭情報メモリ、3は反転塗
り潰し処理手段、4はパターンメモリ、5は表示装置、
6は印字装置である。 第 図 第 図 (a) (b) (C) 第 図 (a) (b) (C) (d) (e) 第 図 第 図 ID 第 図 (a) (b) (c) (d) (e) 第 1゜ 図
を説明するブロック図、第2図は塗り潰し対象となる図
形輪郭線を示す模式図、第3図は、第1図に示した反転
塗り潰し処理手段による反転塗り潰し処理推穆を示す模
式図、第4図(a)〜(C)は塗り潰し処理における塗
り残し現象を説明する模式図、第5図は輪郭情報に基づ
くベクトルフォントを発生出力する文書装置の一例を示
すブロック図、第6図は、第5図に示したベクトルフォ
ントメモリに記憶されるベクトルフォントデータと印字
パターンとの対応関係を示す模式図、第7図はこの発明
によるベクトルフォントデータに基づく塗り潰し出力処
理手順の一例を説明するフローチャート、第8図はこの
発明の他の反転塗り潰し展開処理を説明する模式図、第
9図(a)〜(e)は従来の閉図形塗り込み処理の一例
を説明する模式図、第10図は従来の閉図形塗り潰し原
理を説明する模式図である。 図中、1は指示手段、2は輪郭情報メモリ、3は反転塗
り潰し処理手段、4はパターンメモリ、5は表示装置、
6は印字装置である。 第 図 第 図 (a) (b) (C) 第 図 (a) (b) (C) (d) (e) 第 図 第 図 ID 第 図 (a) (b) (c) (d) (e) 第 1゜ 図
Claims (1)
- ドットパターンを記憶するパターンメモリと、閉図形を
構成する複数の輪郭線に対応するベクトル情報を図形単
位に記憶するベクトル情報メモリと、このベクトル情報
メモリから読み出されるベクトル情報で規定される1つ
の輪郭線に対向する前記パターンメモリ内の書込みドッ
トを展開方向に沿って順次反転しながら書き込んで前記
閉図形内を塗り潰す反転塗り潰し手段をとから構成する
ことを特徴とする画像処理装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63210450A JP3129717B2 (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 | 画像処理装置および画像処理方法 |
DE68923412T DE68923412T2 (de) | 1988-08-26 | 1989-08-25 | Bildverarbeitungseinrichtung. |
EP89308684A EP0356262B1 (en) | 1988-08-26 | 1989-08-25 | Image processing apparatus |
US08/400,262 US6057825A (en) | 1988-08-26 | 1995-03-02 | Image processing apparatus with paint-in of outline interiors |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63210450A JP3129717B2 (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 | 画像処理装置および画像処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0259871A true JPH0259871A (ja) | 1990-02-28 |
JP3129717B2 JP3129717B2 (ja) | 2001-01-31 |
Family
ID=16589531
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63210450A Expired - Fee Related JP3129717B2 (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 | 画像処理装置および画像処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3129717B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05214551A (ja) * | 1991-06-19 | 1993-08-24 | Ishihara Chem Co Ltd | パラジウム系無電解メツキ液 |
JP2008282208A (ja) * | 2007-05-10 | 2008-11-20 | Renesas Technology Corp | 塗潰し処理装置、図形表示装置及び塗潰し処理方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60132271A (ja) * | 1983-12-21 | 1985-07-15 | Hitachi Ltd | 塗り潰し処理方式 |
-
1988
- 1988-08-26 JP JP63210450A patent/JP3129717B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60132271A (ja) * | 1983-12-21 | 1985-07-15 | Hitachi Ltd | 塗り潰し処理方式 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05214551A (ja) * | 1991-06-19 | 1993-08-24 | Ishihara Chem Co Ltd | パラジウム系無電解メツキ液 |
JP2008282208A (ja) * | 2007-05-10 | 2008-11-20 | Renesas Technology Corp | 塗潰し処理装置、図形表示装置及び塗潰し処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3129717B2 (ja) | 2001-01-31 |
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