JPH0258714A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH0258714A JPH0258714A JP63209267A JP20926788A JPH0258714A JP H0258714 A JPH0258714 A JP H0258714A JP 63209267 A JP63209267 A JP 63209267A JP 20926788 A JP20926788 A JP 20926788A JP H0258714 A JPH0258714 A JP H0258714A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic head
- magnetic
- chromium
- film
- core half
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 44
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 16
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 53
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 46
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 claims description 11
- UMUXBDSQTCDPJZ-UHFFFAOYSA-N chromium titanium Chemical compound [Ti].[Cr] UMUXBDSQTCDPJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 9
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 8
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 2
- 229910002796 Si–Al Inorganic materials 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 28
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 14
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 14
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- 238000003466 welding Methods 0.000 abstract description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
- 230000007774 longterm Effects 0.000 abstract description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 2
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 30
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 3
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004738 SiO1 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/21—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features the pole pieces being of ferrous sheet metal or other magnetic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
- G11B5/232—Manufacture of gap
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
- G11B5/235—Selection of material for gap filler
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
ニー上の１ ノ
本発明は、一般に二つのコア半体を所定ギャップ長にて
突合せて接合することにより構成される磁気ヘッドに関
するものであり、特に、高周波用で且つ高いＳ／Ｎ比が
要求される高密度記録用ヘッド、主としてビデオヘッド
、コンピュータ用ヘッド等に好適に使用されるＦｅ−３
ｉ −ＡｆＬ合金磁性膜を用いた磁気ヘッドに具現化さ
れる。
突合せて接合することにより構成される磁気ヘッドに関
するものであり、特に、高周波用で且つ高いＳ／Ｎ比が
要求される高密度記録用ヘッド、主としてビデオヘッド
、コンピュータ用ヘッド等に好適に使用されるＦｅ−３
ｉ −ＡｆＬ合金磁性膜を用いた磁気ヘッドに具現化さ
れる。
【久立上遣
磁気記録技術の分野における最近の記録密度の向上は著
しく、これに伴なって例えば電磁変換素子としての磁気
ヘッドに対する挟トラ−２り化及びコア材料の僚和磁化
の増大並びに高周波領域における透磁率の改善といった
要求が高まっている。 近年、磁気記録分野における上記要求を満足せしめる磁
気ヘッドとして、例えばＦｅ−３ｉ−Ａ見合全磁性膜を
用いた薄膜積層磁気ヘッドが急速に注目を浴びている。 該磁気ヘッドの一例が第２図〜第４図に図示される。ｍ
単にその構造を説明する。 第３図を参照すると、結晶化ガラス又はセラミクスから
成る基板ｌｌ上にＦｅ−３ｉ−Ａ見合金薄膜１２が膜厚
ｌ〜２０ＩＬｍにて成膜される。次いで、該合金磁性膜
１２上にＳｉＯ２から成る非磁性絶縁膜、即ち、層間膜
１３が膜厚０．０３〜０ 、５ ｉＬｍにて形成される
。 更に、磁性膜１２と非磁性絶縁膜１３が必要回数積層さ
れ、磁性膜構造体１４が形成される。斯る磁性膜１２と
非磁性絶縁膜１３の膜厚及び積層回数は積層部の厚さが
トラック幅Ｗ（第２図）となるように適宜設定される。 次いで、前記磁性膜構造体１４の上にガラス膜１５が形
成され、その七に他の基板１６が積層される。ガラス膜
１５としては接合ガラスが使用されている。基板１６は
前記基板１１と同様の材料にて作製される。 このようにして作製された積層膜構造体１７は、第２図
に図示されるように、積層した厚さ方向に切断し、一対
のコア半体ブロック１８．１９が形成され、少なくとも
片方のコア半体、本例ではコア半体１８に巻線溝２０を
形成する。 続いて、両コア半体工８．１９の突合せ面の接合を強固
なものとするために、従来、第２図に図示されるように
、巻線溝２０に対向した、本例ではコア半体１９の両側
面部に面取部２２を形成し、又、両コア半体の該巻線溝
２ｏとは反対側にも凹所２３を形成した後、両コア半体
１８．１９の突合せ面は研摩加工後ギャップ部２１が形
成される。 この後、両コア半体１８．１９を突合せ面にて突合せ、
該面取部及び凹所にモールドガラスを充填し両コア半体
ブロックを接合する。 最後に、テープ摺動面を形成するべくＲ研摩加工及び他
の成形加工並びに巻線加工が行なわれ、磁気ヘッドｌＯ
が得られる。 斯る構成の磁気へラドｌＯにおいて両コア半体１８．１
９の突合せ面に形成されるギャップ部２１を所定の寸法
形状に仕上ることは極めて重要であり、該ギャップ部の
エツジだれ、つぶれ、広がりは著しい磁気ヘッドの特性
の劣化を招くこととなる。 従来、該ギャップ部２１は、第５図に図示するように、
各コア半体１８．１９のギヤツブ部形成面にＳｉＯ１か
ら成る非磁性絶縁層２５．２６と、その上に接合ガラス
層２７．２８をそれぞれ形成し、各コア半体１８．１９
の接合ガラス２７．２８を対面させ、融着させることに
よって形成された。 が しようと る 上記構成の磁気ヘッドは、極めて良好な磁気特性を有す
るものであるが、斯る構成の磁気ヘッドを製造する際に
、ギャップ部２１の製造に関する歩留りが大きく変動し
、７０％程度の高歩留りが続いたかと思うと、ギャップ
部が溶着しない、大略θ％といった低歩留りが続くとい
う状態を繰り返し、悪い場合には月間歩留りが５％程度
となることがあり、極めて製造効率の悪いものであった
。 木発明者等は、ギャップ部の溶着してない部分を詳細に
観察したところ、両コア半体の突合せ面の互いに接合す
べき接合ガラス２７．２８が一部しか溶けない状態で溶
着されていたり、著しい場合には接合ガラスが全く溶け
た様子がないものもあった。 本発明者等は、この点を解明するべく多くの研究実験を
行なった結果、各コア半体の接合ガラス２７．２８が溶
着しない原因は、溶着の際の昇温時にＳｉＯ２から成る
非磁性絶縁層２５．２６からＳｉＯ２が接合ガラス層２
７．２８に拡散することにあることが分かった。即ち、
ＳｉｏＺが接合ガラス層２７．２８に拡散することによ
りガラス層中のＳｉＯｚ比率が上昇し、ガラスの軟化点
が不規則に−Ｌ昇変化し、通常の溶着温度５００℃ドを
提供することである。 〜６００℃程度では溶融しなくなるからである。 つまり、従来の構成の磁気ヘッドでは、溶着時のＡ温湿
度と、ガラスへのＳｉＯ２の拡散速度、ガラスの軟化と
が微妙にバランスした状態のもとで突合せ面の溶着が行
なわれていたことが分かった。 本発明者等は、ＳｉＯ２が接合ガラス層２７．２８に拡
散するのを防止するためのバリア層をＳｉ０２層２５．
２６と接合ガラス層２７．２８との間に介設することに
より上記従来の問題を完全に解決し得ることを見出した
。 本発明は斯る新規な知見に基づきなされたものである。 従って、本発明の目的は、両コア半体の突合せ面の溶着
を完全に行ない所定の形状寸法をしたギャップ部を形成
し、ギャップ部におけるエツジだれ、つぶれ、広がり等
の問題をなくし、しかもギャップ部に割れも発生せず、
高品質の磁気ヘラ本発明の他の目的は、歩留りを従来に
比し、著しく向上せしめ、製造効率のよい磁気へ一２ド
を提供することである。 占 るための 上記品目的は本発明に係る磁気ヘッドにて達成される。 要約すれば本発明は、二つのコア半体を形成し、該両コ
ア半体の突合せ面を所定のギャップ長にて接合して構成
される磁気ヘッドにおいて、各コア半体の突合せ面には
、コア半体に隣接して形成されたＳｉＯ２から成る非磁
性絶縁層と、バリア層と、接合ガラス層とが順に形成さ
れ、両コア半体の接合ガラス層を互いに溶融圧着してギ
ャップ部を形成するようにしたことを特徴とする磁気ヘ
ッドである。 本発明の一実施態様において、各コア半体は、一方の基
板と、該基板の上にＦｅ−３ｔ−Ａｌ合金磁性膜と層間
膜とが交互に積層されて成る磁性膜構造体と、該薄膜構
造体の上に積層されたガラス膜と、該ガラス膜の上に積
層された他方の基板とを有した積層膜構造体とされる。 又、バリア層は、クロム、クロムとクロム酸化物との混
合物、チタン、チタンとチタン酸化物との混合物、クロ
ム−チタン合金、又はクロム−チタン合金とクロム−チ
タン合金酸化物との混合物にて形成される。 実」１例 次に、本発明に係る磁気ヘッドについて更に詳しく説明
する。本実施例では、磁気ヘッドは、Ｆｅ−５ｔ−Ａ！
；Ｌ合金磁性膜を用いた薄膜積層磁気ヘッドとされる。 ＤＣマグネトロンスパッタ装置を使用して第３図に図示
されるような構成の積層膜構造体１７を作製した。 積層膜構造体１７にて、基板１１は、結晶化ガラスであ
り、該基板ｌｌ上にＦＦｅ−３ｉ−１合金膜１２を膜厚
５ｐｍにて成膜した。該成膜された軟磁性膜は、その後
熱処理した。 続いて、こｃ７）Ｆｅ−３ｉ−ＡｆＬ合金膜１２の一ト
に層間膜（絶縁膜）１３としてＳｉＯ２膜が膜厚０．５
川ｍにて形成された。 次いで、前記層間膜１３上に磁性膜１２及び絶縁膜１３
の順に４回繰り返し、磁性膜構造体１４を得た。該磁性
膜構造体１４の全膜厚は２０ｇｍであった。 更に、前記磁性膜構造体１４の北に膜厚１ｇｍのガラス
膜１５を通常のスパッタリング等で形成し、次いで、前
記基板１１と同じ材料で形成された他の基板■６を前記
ガラス膜の上に積層して積層膜構造体１７を作製した。 該積層膜構造体１７は溶融圧着を行なった。 次に、このようにして作製した積層膜構造体１７は、第
２図に図示されるように、積層した厚さ方向に切断し、
一対のコア半体ブロック１８．１９を形成し、コア半体
１８に巻線溝２０を形成した後、両コア半体ブロック１
８．１９の突合せ面の接合を強固なものとするために、
第１図に図示するように、巻線溝２０に対向した、コア
半体１９の両側面部に面取部２２を形成し、又、両コア
半体の前記ギャップ部２１とは反対側にも四所２３を形
成した。後で説明するように、本発明によれば、ギャッ
プ部２１の接合強度が大となるので、必ずしも面取部２
２の形成は要求されない。 次いで、両コア半体ブロック１８．１９の突合せ面が研
摩加工され、ギャップ部２１が形成される。 本発明に従えば、第１図に図示されるように、各コア半
体１８．１９の研摩加工された突合せ面には、ＳｉＯ２
から成る非磁性絶縁層２５．２６と、バリア層２９．３
０と、接合ガラス層２７．２８とがスパッタリングによ
り形成される。 両コア半体１８．１９のＳｉＯ２から成る非磁性絶縁層
２５．２Ｂ、バリア層２９．３０、及び接合ガラス層２
７．２８から成るギャップ長（Ｌ）を如何なる寸法にす
るかによりＳｉＯ２から成る非磁性絶縁層２５．２Ｂ、
バリア層２９．３０、及び接合ガラス層２７．２８の各
層厚はギャップ長りに従って任意に選択し得る。 Ｓｉ０１から成る非磁性絶縁層２５．２６、及び接合ガ
ラス層２７．２８は従来の材料及び方法に従って成膜す
ることができる。 又、バリア層２９．３０としては、クロム（Ｃｒ）、ク
ロムとクロム酸化物との混合物、チタン（Ｔｉ）、チタ
ンとチタン酸化物との混合物、クロム−チタン合金、又
はクロム−チタン合金とクロム−チタン合金酸化物との
混合物等をスパッタリングにより成膜したものが好適に
使用される。 又、本発明者等の研究実験の結果によると、特に、バリ
ア層２９．３０としては、クロムとクロム酸化物との混
合物、チタンとチタン酸化物との混合物、又はクロム−
チタン合金とクロム−チタン合金酸化物との混合物から
成るバリア層が、その両面に成膜されるＳｉＯ２から成
る非磁性絶縁層２５．２６と、接合ガラス層２７．２８
との付着力を増大せしめ、より好ましいことが分かった
。従って、バリア層を成膜する場合にはＡｒガス雰囲気
内に酸素ガスを２％程度混入した混合ガス雰囲気下にて
スパッタリングを行なうのが好ま１ま しい。 更に説明すれば、例えば、ターゲットとしてクロム（Ｃ
ｒ）を、雰囲気ガスとしてＡｒガスのみを使用した場合
には、圧力４ Ｘ １０−３Ｔ ｏ ｒ ｒ、投入電力
２００Ｗ、基板温度１００℃にてスパッタリングを行な
うことができ、一方、ターゲットとしてクロム（Ｃｒ）
を、雰囲気ガスとしてＯ２２％含有Ａｒガスを使用した
場合には、圧力４×１０１Ｔｏｒｒ、投入電力１００Ｗ
、基板温度２００℃にてスパッタリングを行なうことが
でき、バリア層としてそれぞれ、クロムから成る膜、或
いはクロムとクロム酸化物との混合物から成る膜を５０
Ｘ〜３００人の範囲で形成することができる。 このようにしてギャップ部２１が形成された両コア半体
ブロック１８．１９は、面取部２２及び凹所２３にモー
ルドガラスを溶融充填すると共に、ギャップ部２１を５
００℃〜６００℃にて３０分間〜１時間加熱することに
より溶融圧着された。 最後に、テープ摺動面を形成するべくＲ研摩加工及び他
の成形加工並びに巻線加工が行なわれ、薄膜積層磁気ヘ
ッドｌＯが得られた。 上記説明では、両コア半体ブロック１８．１９を接合す
るためにギャップ部２１の側面に面取部２２を形成し、
該面取部２２にモールドガラスを溶融充填することとし
たが、本発明の構成に従った上記ギャップ部２１を有す
る場合には該面取部２２は形成せずとも十分な接合強度
を有していることが分かった。 上記方法にて５０個の磁気ヘッドを作製したが、ギャッ
プ部２１が溶着しないことに起因した不良品は１０個発
生したに過ぎず、歩留りは８０％であった。つまり、本
発明に係る磁気ヘッドは、製造時におけるギャップ部の
溶着が極めて安定して行なわれ、ギャップ部におけるエ
ツジだれ、つぶれ、広がり等がなく所定寸法形状のギャ
ップ部を形成することができた。又、従来は、ギャップ
部の中で磁性膜構造体１４の部分と基板１１．１６の部
分とでＳｉＯ２層中を拡散した接合ガラスによる浸食の
程度が異なっていたために、ギャップ長が異なっていた
が、本発明では浸食が起きないために同一どなった。 斯る構成の磁気ヘッド１０は、極めて良好な磁気特性を
有するものであり、保磁力０．１８ ０ｅ Ｉ Ｍ
ＨＺでの比初透磁率２０００が得られた。又、本磁気
ヘッドをトラックＩｌｌが膜厚方向とされるＶＴＲ用磁
気ヘッドとし、トラック幅２０ｋｍ、テープヘッド相対
速度５．８ｍ／ｓｅｃとし、メタルテープを用いて、再
生出力を測定したところ、５ Ｍ Ｈｚでの再生出力で
従来の基板、ガラス膜、モールドガラスを用いた磁気ヘ
ッドと同程度の性能が得られた。 上記本発明に係る磁気ヘッドは、長時間の使用において
もギャップ部におけるエツジだれ、つぶれ、広がり等の
問題を発生することがなく、しかもギャップ部に割れも
発生しなかった。 Ｌ１五羞】 以上の如くに構成される本発明に係る磁気ヘッドは、製
造時におけるギャップ部の溶着が極めて安定して行なわ
れ、又、長時間の使用においてもギャップ部におけるエ
ツジだれ、つぶれ、広がり等の問題を発生することがな
く、しかもギヤ−２ブ部に割れも発生せず、高品質の磁
気ヘッド、特にＦｅ−３ｔ−Ａｌ合金磁性膜を用いた薄
膜積層磁気ヘッドを提供することができ、更に、歩留り
を８０％程度にまで向上せしめることができるという利
益を提供することができる。
しく、これに伴なって例えば電磁変換素子としての磁気
ヘッドに対する挟トラ−２り化及びコア材料の僚和磁化
の増大並びに高周波領域における透磁率の改善といった
要求が高まっている。 近年、磁気記録分野における上記要求を満足せしめる磁
気ヘッドとして、例えばＦｅ−３ｉ−Ａ見合全磁性膜を
用いた薄膜積層磁気ヘッドが急速に注目を浴びている。 該磁気ヘッドの一例が第２図〜第４図に図示される。ｍ
単にその構造を説明する。 第３図を参照すると、結晶化ガラス又はセラミクスから
成る基板ｌｌ上にＦｅ−３ｉ−Ａ見合金薄膜１２が膜厚
ｌ〜２０ＩＬｍにて成膜される。次いで、該合金磁性膜
１２上にＳｉＯ２から成る非磁性絶縁膜、即ち、層間膜
１３が膜厚０．０３〜０ 、５ ｉＬｍにて形成される
。 更に、磁性膜１２と非磁性絶縁膜１３が必要回数積層さ
れ、磁性膜構造体１４が形成される。斯る磁性膜１２と
非磁性絶縁膜１３の膜厚及び積層回数は積層部の厚さが
トラック幅Ｗ（第２図）となるように適宜設定される。 次いで、前記磁性膜構造体１４の上にガラス膜１５が形
成され、その七に他の基板１６が積層される。ガラス膜
１５としては接合ガラスが使用されている。基板１６は
前記基板１１と同様の材料にて作製される。 このようにして作製された積層膜構造体１７は、第２図
に図示されるように、積層した厚さ方向に切断し、一対
のコア半体ブロック１８．１９が形成され、少なくとも
片方のコア半体、本例ではコア半体１８に巻線溝２０を
形成する。 続いて、両コア半体工８．１９の突合せ面の接合を強固
なものとするために、従来、第２図に図示されるように
、巻線溝２０に対向した、本例ではコア半体１９の両側
面部に面取部２２を形成し、又、両コア半体の該巻線溝
２ｏとは反対側にも凹所２３を形成した後、両コア半体
１８．１９の突合せ面は研摩加工後ギャップ部２１が形
成される。 この後、両コア半体１８．１９を突合せ面にて突合せ、
該面取部及び凹所にモールドガラスを充填し両コア半体
ブロックを接合する。 最後に、テープ摺動面を形成するべくＲ研摩加工及び他
の成形加工並びに巻線加工が行なわれ、磁気ヘッドｌＯ
が得られる。 斯る構成の磁気へラドｌＯにおいて両コア半体１８．１
９の突合せ面に形成されるギャップ部２１を所定の寸法
形状に仕上ることは極めて重要であり、該ギャップ部の
エツジだれ、つぶれ、広がりは著しい磁気ヘッドの特性
の劣化を招くこととなる。 従来、該ギャップ部２１は、第５図に図示するように、
各コア半体１８．１９のギヤツブ部形成面にＳｉＯ１か
ら成る非磁性絶縁層２５．２６と、その上に接合ガラス
層２７．２８をそれぞれ形成し、各コア半体１８．１９
の接合ガラス２７．２８を対面させ、融着させることに
よって形成された。 が しようと る 上記構成の磁気ヘッドは、極めて良好な磁気特性を有す
るものであるが、斯る構成の磁気ヘッドを製造する際に
、ギャップ部２１の製造に関する歩留りが大きく変動し
、７０％程度の高歩留りが続いたかと思うと、ギャップ
部が溶着しない、大略θ％といった低歩留りが続くとい
う状態を繰り返し、悪い場合には月間歩留りが５％程度
となることがあり、極めて製造効率の悪いものであった
。 木発明者等は、ギャップ部の溶着してない部分を詳細に
観察したところ、両コア半体の突合せ面の互いに接合す
べき接合ガラス２７．２８が一部しか溶けない状態で溶
着されていたり、著しい場合には接合ガラスが全く溶け
た様子がないものもあった。 本発明者等は、この点を解明するべく多くの研究実験を
行なった結果、各コア半体の接合ガラス２７．２８が溶
着しない原因は、溶着の際の昇温時にＳｉＯ２から成る
非磁性絶縁層２５．２６からＳｉＯ２が接合ガラス層２
７．２８に拡散することにあることが分かった。即ち、
ＳｉｏＺが接合ガラス層２７．２８に拡散することによ
りガラス層中のＳｉＯｚ比率が上昇し、ガラスの軟化点
が不規則に−Ｌ昇変化し、通常の溶着温度５００℃ドを
提供することである。 〜６００℃程度では溶融しなくなるからである。 つまり、従来の構成の磁気ヘッドでは、溶着時のＡ温湿
度と、ガラスへのＳｉＯ２の拡散速度、ガラスの軟化と
が微妙にバランスした状態のもとで突合せ面の溶着が行
なわれていたことが分かった。 本発明者等は、ＳｉＯ２が接合ガラス層２７．２８に拡
散するのを防止するためのバリア層をＳｉ０２層２５．
２６と接合ガラス層２７．２８との間に介設することに
より上記従来の問題を完全に解決し得ることを見出した
。 本発明は斯る新規な知見に基づきなされたものである。 従って、本発明の目的は、両コア半体の突合せ面の溶着
を完全に行ない所定の形状寸法をしたギャップ部を形成
し、ギャップ部におけるエツジだれ、つぶれ、広がり等
の問題をなくし、しかもギャップ部に割れも発生せず、
高品質の磁気ヘラ本発明の他の目的は、歩留りを従来に
比し、著しく向上せしめ、製造効率のよい磁気へ一２ド
を提供することである。 占 るための 上記品目的は本発明に係る磁気ヘッドにて達成される。 要約すれば本発明は、二つのコア半体を形成し、該両コ
ア半体の突合せ面を所定のギャップ長にて接合して構成
される磁気ヘッドにおいて、各コア半体の突合せ面には
、コア半体に隣接して形成されたＳｉＯ２から成る非磁
性絶縁層と、バリア層と、接合ガラス層とが順に形成さ
れ、両コア半体の接合ガラス層を互いに溶融圧着してギ
ャップ部を形成するようにしたことを特徴とする磁気ヘ
ッドである。 本発明の一実施態様において、各コア半体は、一方の基
板と、該基板の上にＦｅ−３ｔ−Ａｌ合金磁性膜と層間
膜とが交互に積層されて成る磁性膜構造体と、該薄膜構
造体の上に積層されたガラス膜と、該ガラス膜の上に積
層された他方の基板とを有した積層膜構造体とされる。 又、バリア層は、クロム、クロムとクロム酸化物との混
合物、チタン、チタンとチタン酸化物との混合物、クロ
ム−チタン合金、又はクロム−チタン合金とクロム−チ
タン合金酸化物との混合物にて形成される。 実」１例 次に、本発明に係る磁気ヘッドについて更に詳しく説明
する。本実施例では、磁気ヘッドは、Ｆｅ−５ｔ−Ａ！
；Ｌ合金磁性膜を用いた薄膜積層磁気ヘッドとされる。 ＤＣマグネトロンスパッタ装置を使用して第３図に図示
されるような構成の積層膜構造体１７を作製した。 積層膜構造体１７にて、基板１１は、結晶化ガラスであ
り、該基板ｌｌ上にＦＦｅ−３ｉ−１合金膜１２を膜厚
５ｐｍにて成膜した。該成膜された軟磁性膜は、その後
熱処理した。 続いて、こｃ７）Ｆｅ−３ｉ−ＡｆＬ合金膜１２の一ト
に層間膜（絶縁膜）１３としてＳｉＯ２膜が膜厚０．５
川ｍにて形成された。 次いで、前記層間膜１３上に磁性膜１２及び絶縁膜１３
の順に４回繰り返し、磁性膜構造体１４を得た。該磁性
膜構造体１４の全膜厚は２０ｇｍであった。 更に、前記磁性膜構造体１４の北に膜厚１ｇｍのガラス
膜１５を通常のスパッタリング等で形成し、次いで、前
記基板１１と同じ材料で形成された他の基板■６を前記
ガラス膜の上に積層して積層膜構造体１７を作製した。 該積層膜構造体１７は溶融圧着を行なった。 次に、このようにして作製した積層膜構造体１７は、第
２図に図示されるように、積層した厚さ方向に切断し、
一対のコア半体ブロック１８．１９を形成し、コア半体
１８に巻線溝２０を形成した後、両コア半体ブロック１
８．１９の突合せ面の接合を強固なものとするために、
第１図に図示するように、巻線溝２０に対向した、コア
半体１９の両側面部に面取部２２を形成し、又、両コア
半体の前記ギャップ部２１とは反対側にも四所２３を形
成した。後で説明するように、本発明によれば、ギャッ
プ部２１の接合強度が大となるので、必ずしも面取部２
２の形成は要求されない。 次いで、両コア半体ブロック１８．１９の突合せ面が研
摩加工され、ギャップ部２１が形成される。 本発明に従えば、第１図に図示されるように、各コア半
体１８．１９の研摩加工された突合せ面には、ＳｉＯ２
から成る非磁性絶縁層２５．２６と、バリア層２９．３
０と、接合ガラス層２７．２８とがスパッタリングによ
り形成される。 両コア半体１８．１９のＳｉＯ２から成る非磁性絶縁層
２５．２Ｂ、バリア層２９．３０、及び接合ガラス層２
７．２８から成るギャップ長（Ｌ）を如何なる寸法にす
るかによりＳｉＯ２から成る非磁性絶縁層２５．２Ｂ、
バリア層２９．３０、及び接合ガラス層２７．２８の各
層厚はギャップ長りに従って任意に選択し得る。 Ｓｉ０１から成る非磁性絶縁層２５．２６、及び接合ガ
ラス層２７．２８は従来の材料及び方法に従って成膜す
ることができる。 又、バリア層２９．３０としては、クロム（Ｃｒ）、ク
ロムとクロム酸化物との混合物、チタン（Ｔｉ）、チタ
ンとチタン酸化物との混合物、クロム−チタン合金、又
はクロム−チタン合金とクロム−チタン合金酸化物との
混合物等をスパッタリングにより成膜したものが好適に
使用される。 又、本発明者等の研究実験の結果によると、特に、バリ
ア層２９．３０としては、クロムとクロム酸化物との混
合物、チタンとチタン酸化物との混合物、又はクロム−
チタン合金とクロム−チタン合金酸化物との混合物から
成るバリア層が、その両面に成膜されるＳｉＯ２から成
る非磁性絶縁層２５．２６と、接合ガラス層２７．２８
との付着力を増大せしめ、より好ましいことが分かった
。従って、バリア層を成膜する場合にはＡｒガス雰囲気
内に酸素ガスを２％程度混入した混合ガス雰囲気下にて
スパッタリングを行なうのが好ま１ま しい。 更に説明すれば、例えば、ターゲットとしてクロム（Ｃ
ｒ）を、雰囲気ガスとしてＡｒガスのみを使用した場合
には、圧力４ Ｘ １０−３Ｔ ｏ ｒ ｒ、投入電力
２００Ｗ、基板温度１００℃にてスパッタリングを行な
うことができ、一方、ターゲットとしてクロム（Ｃｒ）
を、雰囲気ガスとしてＯ２２％含有Ａｒガスを使用した
場合には、圧力４×１０１Ｔｏｒｒ、投入電力１００Ｗ
、基板温度２００℃にてスパッタリングを行なうことが
でき、バリア層としてそれぞれ、クロムから成る膜、或
いはクロムとクロム酸化物との混合物から成る膜を５０
Ｘ〜３００人の範囲で形成することができる。 このようにしてギャップ部２１が形成された両コア半体
ブロック１８．１９は、面取部２２及び凹所２３にモー
ルドガラスを溶融充填すると共に、ギャップ部２１を５
００℃〜６００℃にて３０分間〜１時間加熱することに
より溶融圧着された。 最後に、テープ摺動面を形成するべくＲ研摩加工及び他
の成形加工並びに巻線加工が行なわれ、薄膜積層磁気ヘ
ッドｌＯが得られた。 上記説明では、両コア半体ブロック１８．１９を接合す
るためにギャップ部２１の側面に面取部２２を形成し、
該面取部２２にモールドガラスを溶融充填することとし
たが、本発明の構成に従った上記ギャップ部２１を有す
る場合には該面取部２２は形成せずとも十分な接合強度
を有していることが分かった。 上記方法にて５０個の磁気ヘッドを作製したが、ギャッ
プ部２１が溶着しないことに起因した不良品は１０個発
生したに過ぎず、歩留りは８０％であった。つまり、本
発明に係る磁気ヘッドは、製造時におけるギャップ部の
溶着が極めて安定して行なわれ、ギャップ部におけるエ
ツジだれ、つぶれ、広がり等がなく所定寸法形状のギャ
ップ部を形成することができた。又、従来は、ギャップ
部の中で磁性膜構造体１４の部分と基板１１．１６の部
分とでＳｉＯ２層中を拡散した接合ガラスによる浸食の
程度が異なっていたために、ギャップ長が異なっていた
が、本発明では浸食が起きないために同一どなった。 斯る構成の磁気ヘッド１０は、極めて良好な磁気特性を
有するものであり、保磁力０．１８ ０ｅ Ｉ Ｍ
ＨＺでの比初透磁率２０００が得られた。又、本磁気
ヘッドをトラックＩｌｌが膜厚方向とされるＶＴＲ用磁
気ヘッドとし、トラック幅２０ｋｍ、テープヘッド相対
速度５．８ｍ／ｓｅｃとし、メタルテープを用いて、再
生出力を測定したところ、５ Ｍ Ｈｚでの再生出力で
従来の基板、ガラス膜、モールドガラスを用いた磁気ヘ
ッドと同程度の性能が得られた。 上記本発明に係る磁気ヘッドは、長時間の使用において
もギャップ部におけるエツジだれ、つぶれ、広がり等の
問題を発生することがなく、しかもギャップ部に割れも
発生しなかった。 Ｌ１五羞】 以上の如くに構成される本発明に係る磁気ヘッドは、製
造時におけるギャップ部の溶着が極めて安定して行なわ
れ、又、長時間の使用においてもギャップ部におけるエ
ツジだれ、つぶれ、広がり等の問題を発生することがな
く、しかもギヤ−２ブ部に割れも発生せず、高品質の磁
気ヘッド、特にＦｅ−３ｔ−Ａｌ合金磁性膜を用いた薄
膜積層磁気ヘッドを提供することができ、更に、歩留り
を８０％程度にまで向上せしめることができるという利
益を提供することができる。
第１図は、本発明に係る磁気ヘッドのギャップ部の部分
平面図である。 第２図は、本発明を具現化し得る薄膜積層磁気ヘッドの
斜視図である。 第３図は、第２図の磁気ヘッドの層構成を示す部分平面
図である。 第４図は、第２図の磁気ヘッドのギャップ部を示す平面
図である。 第５図は、従来の磁気ヘー、ドのキャップ部の部分平面
図である。 １０：薄膜積層磁気ヘッド １８．１９：コア半体 ２１：キャップ部 ２５．２６：ＳｉＯ２層 ２７．２８：接合ガラス層 ２９．３０：バリア層
平面図である。 第２図は、本発明を具現化し得る薄膜積層磁気ヘッドの
斜視図である。 第３図は、第２図の磁気ヘッドの層構成を示す部分平面
図である。 第４図は、第２図の磁気ヘッドのギャップ部を示す平面
図である。 第５図は、従来の磁気ヘー、ドのキャップ部の部分平面
図である。 １０：薄膜積層磁気ヘッド １８．１９：コア半体 ２１：キャップ部 ２５．２６：ＳｉＯ２層 ２７．２８：接合ガラス層 ２９．３０：バリア層
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）二つのコア半体を形成し、該両コア半体の突合せ面
を所定のギャップ長にて接合して構成される磁気ヘッド
において、各コア半体の突合せ面には、コア半体に隣接
して形成されたＳｉＯ＿２から成る非磁性絶縁層と、バ
リア層と、接合ガラス層とが順に形成され、両コア半体
の接合ガラス層を互いに溶融圧着してギャップ部を形成
するようにしたことを特徴とする磁気ヘッド。 ２）各コア半体は、一方の基板と、該基板の上にＦｅ−
Ｓｉ−Ａｌ合金磁性膜と層間膜とが交互に積層されて成
る磁性膜構造体と、該薄膜構造体の上に積層されたガラ
ス膜と、該ガラス膜の上に積層された他方の基板とを有
した積層膜構造体から成る第１項記載の磁気ヘッド。 ３）バリア層は、クロム、クロムとクロム酸化物との混
合物、チタン、チタンとチタン酸化物との混合物、クロ
ム−チタン合金、又はクロム−チタン合金とクロム−チ
タン合金酸化物との混合物から成る第１項又は第２項記
載の磁気ヘッド。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63209267A JPH0258714A (ja) | 1988-08-23 | 1988-08-23 | 磁気ヘッド |
| US07/388,199 US5001590A (en) | 1988-08-23 | 1989-08-01 | Magnetic head having core halves with a barrier layer therebetween |
| DE68910615T DE68910615T2 (de) | 1988-08-23 | 1989-08-17 | Magnetkopf. |
| EP89308377A EP0356155B1 (en) | 1988-08-23 | 1989-08-17 | Magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63209267A JPH0258714A (ja) | 1988-08-23 | 1988-08-23 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0258714A true JPH0258714A (ja) | 1990-02-27 |
Family
ID=16570117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63209267A Pending JPH0258714A (ja) | 1988-08-23 | 1988-08-23 | 磁気ヘッド |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5001590A (ja) |
| EP (1) | EP0356155B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0258714A (ja) |
| DE (1) | DE68910615T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06180816A (ja) * | 1992-12-11 | 1994-06-28 | Japan Energy Corp | 磁気ヘッドの製造方法 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3934284C2 (de) * | 1988-10-13 | 1994-06-16 | Canon Denshi Kk | Magnetkopf |
| JPH02121309A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-05-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ磁芯の製造法及びそれを用いた磁気ヘッド |
| JPH03116409A (ja) * | 1989-09-29 | 1991-05-17 | Canon Electron Inc | 磁気ヘッド |
| NL9100192A (nl) * | 1991-02-04 | 1992-09-01 | Philips Nv | Magneetkop. |
| US5687045A (en) * | 1991-09-20 | 1997-11-11 | Hitachi, Ltd. | Thin film magnetic head and production method thereof and magnetic disk drive equipped with this thin film magnetic head |
| EP0602567B1 (en) * | 1992-12-14 | 1998-03-11 | Sony Corporation | Method for preparing a magnetic head |
| JPH06309620A (ja) * | 1993-04-27 | 1994-11-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド |
| JPH0793709A (ja) * | 1993-07-29 | 1995-04-07 | Sony Corp | 磁気ヘッド |
| US5557355A (en) * | 1994-10-03 | 1996-09-17 | Eastman Kodak Company | High output magnetic head with small physical dimensions |
| JPH10228606A (ja) * | 1997-02-17 | 1998-08-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| JP2001143217A (ja) * | 1999-11-12 | 2001-05-25 | Sony Corp | 磁気ヘッド |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8202059A (nl) * | 1982-05-19 | 1983-12-16 | Philips Nv | Glas gekitte magneetkop en werkwijze voor zijn vervaardiging. |
| JPS5996519A (ja) * | 1982-11-24 | 1984-06-04 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS6116002A (ja) * | 1984-06-30 | 1986-01-24 | Tdk Corp | 磁気ヘツド |
| EP0191447B1 (en) * | 1985-02-15 | 1992-05-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head |
| JPS62188206A (ja) * | 1985-10-07 | 1987-08-17 | Nippon Mining Co Ltd | Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性膜及びその製造方法並びに薄膜積層磁気ヘツド |
| JPH0758527B2 (ja) * | 1986-01-10 | 1995-06-21 | 株式会社日立製作所 | 磁気ヘツド |
| EP0273496B1 (en) * | 1986-12-03 | 1991-04-10 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Magnetic head having an electro-chemically inert gap of hard material |
| DE3934284C2 (de) * | 1988-10-13 | 1994-06-16 | Canon Denshi Kk | Magnetkopf |
-
1988
- 1988-08-23 JP JP63209267A patent/JPH0258714A/ja active Pending
-
1989
- 1989-08-01 US US07/388,199 patent/US5001590A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-17 DE DE68910615T patent/DE68910615T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-17 EP EP89308377A patent/EP0356155B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06180816A (ja) * | 1992-12-11 | 1994-06-28 | Japan Energy Corp | 磁気ヘッドの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5001590A (en) | 1991-03-19 |
| EP0356155A3 (en) | 1991-11-06 |
| DE68910615T2 (de) | 1994-06-01 |
| EP0356155B1 (en) | 1993-11-10 |
| DE68910615D1 (de) | 1993-12-16 |
| EP0356155A2 (en) | 1990-02-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0258714A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JP2554041B2 (ja) | 磁気ヘッドコアの製造方法 | |
| JPS5870418A (ja) | 磁気ヘツドの製法 | |
| JP2542946B2 (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JP2618860B2 (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JP2906641B2 (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPS59107412A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP3025990B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS62267910A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH06176317A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH02137104A (ja) | 磁気ヘッドとその製造方法 | |
| JPH06176316A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS59203210A (ja) | 磁気コアおよびその製造方法 | |
| JPH0334124B2 (ja) | ||
| JPH0354704A (ja) | 磁気ヘッドとその製造方法 | |
| JPS6050608A (ja) | 磁気ヘツド及びその製造方法 | |
| JPS61204909A (ja) | 複合型磁性材料 | |
| JPH0620210A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS61172204A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS63239607A (ja) | 磁気ヘツドコアの製造方法 | |
| JPH03222109A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0619106U (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH06309617A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH0448416A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH06349017A (ja) | 磁気ヘッド |