JPH0250309A - 磁気ヘッドコア - Google Patents
磁気ヘッドコアInfo
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- JPH0250309A JPH0250309A JP20228988A JP20228988A JPH0250309A JP H0250309 A JPH0250309 A JP H0250309A JP 20228988 A JP20228988 A JP 20228988A JP 20228988 A JP20228988 A JP 20228988A JP H0250309 A JPH0250309 A JP H0250309A
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- magnetic head
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- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 22
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- 229910018520 Al—Si Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 abstract description 21
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ビデオテープレコーダ(VTR)等の磁気記
録再生システムに配備される磁気ヘッドの主要部となる
コアに関するものである。
録再生システムに配備される磁気ヘッドの主要部となる
コアに関するものである。
近年、磁気記録分野での記録情報量の増大に伴い、高密
度記録化の要求が高まってきている。このため、高透磁
率および高飽和磁束密度を有し、且つ耐蝕性並びに耐摩
耗性に優れた磁気へラドコアが要求されている。このよ
うな要求に対し、フェライトコアではその飽和磁束密度
の低さ故に限界があるから、Fe系結晶質材料を用いた
コア或いはCo系非晶質材料を用いたコアが注目されて
いる。
度記録化の要求が高まってきている。このため、高透磁
率および高飽和磁束密度を有し、且つ耐蝕性並びに耐摩
耗性に優れた磁気へラドコアが要求されている。このよ
うな要求に対し、フェライトコアではその飽和磁束密度
の低さ故に限界があるから、Fe系結晶質材料を用いた
コア或いはCo系非晶質材料を用いたコアが注目されて
いる。
また、上記のFe系結晶質材料の方がCo系非晶質材料
に比べて飽和磁束密度が高く、また熱安定性に優れてお
り、特に、Fe−Al−Si系合金材料にあっては、S
iを9.5賀t%、Alを5.5wt%、残りFeを中
心としたセンダスト組成において、高透磁率、高飽和磁
束密度、および高硬度を有する材料となることが知られ
ている。
に比べて飽和磁束密度が高く、また熱安定性に優れてお
り、特に、Fe−Al−Si系合金材料にあっては、S
iを9.5賀t%、Alを5.5wt%、残りFeを中
心としたセンダスト組成において、高透磁率、高飽和磁
束密度、および高硬度を有する材料となることが知られ
ている。
ところで、VTRヘッドの分野において、高画質VTR
やディジタルVTRなどの高品位VTRヘッドは、10
MHz以上の高周波帯域を中心に使用されることが考え
られ、そのトラック幅は数μm〜数十μmに設定される
ことから、ヘッドコアの総膜厚もヘッドトラック幅相当
の厚みが要求される。
やディジタルVTRなどの高品位VTRヘッドは、10
MHz以上の高周波帯域を中心に使用されることが考え
られ、そのトラック幅は数μm〜数十μmに設定される
ことから、ヘッドコアの総膜厚もヘッドトラック幅相当
の厚みが要求される。
ここで、上記のように、高透磁率、高飽和磁束密度を存
するFe−Al−Si系合金薄膜において、高周波帯域
での実効透磁率は、渦電流損失、自然共鳴などの影響に
より減衰することが考えられる。そこで、渦電流損失を
考慮し、はぼ5μmの膜厚のFe−An!−Si系合金
薄膜と、数千人の膜厚の非磁性薄膜とを交互に積層して
所要の総膜厚を得るとともに、上記はぼ5μmの合金薄
膜が単層で有する実効透磁率の高周波特性を維持させる
試みがなされている。即ち、Fe−AN−Si系合金薄
膜だけで数十μmの総膜厚を得ることにより生じる実効
透磁率の低下を抑制している。
するFe−Al−Si系合金薄膜において、高周波帯域
での実効透磁率は、渦電流損失、自然共鳴などの影響に
より減衰することが考えられる。そこで、渦電流損失を
考慮し、はぼ5μmの膜厚のFe−An!−Si系合金
薄膜と、数千人の膜厚の非磁性薄膜とを交互に積層して
所要の総膜厚を得るとともに、上記はぼ5μmの合金薄
膜が単層で有する実効透磁率の高周波特性を維持させる
試みがなされている。即ち、Fe−AN−Si系合金薄
膜だけで数十μmの総膜厚を得ることにより生じる実効
透磁率の低下を抑制している。
また、−要分の膜厚を5μmとしているのは、数Ml(
zの周波数帯域では、5μm以下の膜厚でも実効透磁率
は殆ど向上しないという測定結果により(特公昭54−
3238号公報参照)、10μm以上においても同様に
実効透磁率はあまり向上しないであろうと予想されたた
めと考えられる。事実、10MHz以上でのFe−Aj
!−Si系合金膜の透磁率について議論できるような測
定系は数少なく、10MHz以上の磁気へラドコアとし
てFe−Alfi−Si系合金膜の重要性についてはあ
まり議論されていないのが実情である。
zの周波数帯域では、5μm以下の膜厚でも実効透磁率
は殆ど向上しないという測定結果により(特公昭54−
3238号公報参照)、10μm以上においても同様に
実効透磁率はあまり向上しないであろうと予想されたた
めと考えられる。事実、10MHz以上でのFe−Aj
!−Si系合金膜の透磁率について議論できるような測
定系は数少なく、10MHz以上の磁気へラドコアとし
てFe−Alfi−Si系合金膜の重要性についてはあ
まり議論されていないのが実情である。
しかしながら、このようなFe−A/l!−Si系合金
薄膜をコアとした磁気ヘッドを、高画質VTRやディジ
タルVTRなどの高品位VTRヘッドとして有意義に使
用する場合には、10MHz以上の高周波帯域において
、上記5μmの合金薄膜が単層で有する実効透磁率以上
のより優れた高透磁率を得ることが重要な課題となる。
薄膜をコアとした磁気ヘッドを、高画質VTRやディジ
タルVTRなどの高品位VTRヘッドとして有意義に使
用する場合には、10MHz以上の高周波帯域において
、上記5μmの合金薄膜が単層で有する実効透磁率以上
のより優れた高透磁率を得ることが重要な課題となる。
本発明にかかる磁気へラドコアは、10MHz以上の高
周波帯域におけるFe−Al−Si系合金薄膜の実効透
磁率について、4μm以下の合金薄膜が単層で有する実
効透磁率の高周波特性が、予想を上回る優れた特性を発
揮することを見出してなされたものであって、搬送波周
波数がIOM)(z以上の周波数変調された信号を記録
再生するようにした磁気記録再生システムに用いられる
磁気ヘッドの主要部となるコアにおいて、Fe−Al−
Si系合金薄膜と非磁性薄膜とを交互に積層して所要の
総膜厚を得るとともに、上記Fe−Al−Si系合金薄
膜の一要分の膜厚を4μm以下に設定していることを特
徴としている。
周波帯域におけるFe−Al−Si系合金薄膜の実効透
磁率について、4μm以下の合金薄膜が単層で有する実
効透磁率の高周波特性が、予想を上回る優れた特性を発
揮することを見出してなされたものであって、搬送波周
波数がIOM)(z以上の周波数変調された信号を記録
再生するようにした磁気記録再生システムに用いられる
磁気ヘッドの主要部となるコアにおいて、Fe−Al−
Si系合金薄膜と非磁性薄膜とを交互に積層して所要の
総膜厚を得るとともに、上記Fe−Al−Si系合金薄
膜の一要分の膜厚を4μm以下に設定していることを特
徴としている。
上記の構成によれば、10MHz以上の高周波帯域でも
高い透磁率および高飽和磁束密度を得て優れた再生効率
を有する磁気ヘッドを得ることができるとともに、Fe
−Al−Si系合金薄膜の有する耐蝕性および耐摩耗性
を活かして長寿命の磁気ヘッドを得ることができる。
高い透磁率および高飽和磁束密度を得て優れた再生効率
を有する磁気ヘッドを得ることができるとともに、Fe
−Al−Si系合金薄膜の有する耐蝕性および耐摩耗性
を活かして長寿命の磁気ヘッドを得ることができる。
本発明の一実施例を第1図および第2図に基づいて説明
すれば、以下の通りである。
すれば、以下の通りである。
本発明に係る磁気へラドコアは、搬送波周波数が10M
Hz以上の周波数変調された信号を記録再生するように
した磁気記録再生システムに用いられる磁気ヘッドの主
要部となるものであって、第1図に示すように、基板1
上にFe−Al−Si系合金薄膜2・・・と非磁性薄膜
3・・・とを交互に積層して所要の総膜厚を得ているも
のである。そして、上記Fe−AN−Si系合金薄膜2
の一要分の膜厚は4μm以下に設定されている。
Hz以上の周波数変調された信号を記録再生するように
した磁気記録再生システムに用いられる磁気ヘッドの主
要部となるものであって、第1図に示すように、基板1
上にFe−Al−Si系合金薄膜2・・・と非磁性薄膜
3・・・とを交互に積層して所要の総膜厚を得ているも
のである。そして、上記Fe−AN−Si系合金薄膜2
の一要分の膜厚は4μm以下に設定されている。
Fe−An−Si系合金薄膜2は、例えば、電子ビーム
蒸着法をはじめ、抵抗加熱式蒸着法、スパッタ法、イオ
ンブレーティング法、クラスターイオンビーム法等の薄
膜作製技術を用いることにより成膜できる。
蒸着法をはじめ、抵抗加熱式蒸着法、スパッタ法、イオ
ンブレーティング法、クラスターイオンビーム法等の薄
膜作製技術を用いることにより成膜できる。
ここで、Fe−Aj!−Si系合金薄膜における膜厚の
違いによる高周波帯域での透磁率特性を調べるため、電
子ビーム蒸着法により、約1.2Tの飽和磁束密度を有
する等方性Fe−Aj!−Si系合金薄膜を、2μm、
3μm、 4μm、 5μm。
違いによる高周波帯域での透磁率特性を調べるため、電
子ビーム蒸着法により、約1.2Tの飽和磁束密度を有
する等方性Fe−Aj!−Si系合金薄膜を、2μm、
3μm、 4μm、 5μm。
10μm、20μmの膜厚でそれぞれ形成し、各合金薄
膜が単層で有する実効透磁率の高周波特性をそれぞれ測
定した。なお、膜組成は、Siが9〜11wt%、Al
が3〜5wt%、残りをFeとしている。かかる測定結
果は、第2図に示す通りであり、数MHzの周波数帯域
では、膜厚を5μm以下にしても、実効透磁率は殆ど向
上しないが、−方、10MHzを越える周波数帯域では
実効透磁率に大きく差異の生じるのが確認できる。
膜が単層で有する実効透磁率の高周波特性をそれぞれ測
定した。なお、膜組成は、Siが9〜11wt%、Al
が3〜5wt%、残りをFeとしている。かかる測定結
果は、第2図に示す通りであり、数MHzの周波数帯域
では、膜厚を5μm以下にしても、実効透磁率は殆ど向
上しないが、−方、10MHzを越える周波数帯域では
実効透磁率に大きく差異の生じるのが確認できる。
本発明にかかる磁気へラドコアの優秀性は、これを用い
て作製した磁気ヘッドにおいて一層顕著なものとなる。
て作製した磁気ヘッドにおいて一層顕著なものとなる。
−例として、−層分の膜厚が2μmのFe−Aj!−5
i系合金薄膜と数百〜数千人の非磁性薄膜を交互に10
0層分積してなるコアと、−層分の膜厚が5μmのFe
−Aj!−Si系合金薄膜と数百〜数千人の非磁性薄膜
を交互に4層分積層してなる従来型コアとを用いて、そ
れぞれトラック幅が20μmの磁気ヘッドを作製し、こ
れをハイビジョン用VTR装置に搭載して特性を測定し
た。このとき、搬送波周波数は18MHz、磁気テープ
との相対速度は21m/s、媒体の保磁力Hcは150
00e、媒体の残留磁化B。
i系合金薄膜と数百〜数千人の非磁性薄膜を交互に10
0層分積してなるコアと、−層分の膜厚が5μmのFe
−Aj!−Si系合金薄膜と数百〜数千人の非磁性薄膜
を交互に4層分積層してなる従来型コアとを用いて、そ
れぞれトラック幅が20μmの磁気ヘッドを作製し、こ
れをハイビジョン用VTR装置に搭載して特性を測定し
た。このとき、搬送波周波数は18MHz、磁気テープ
との相対速度は21m/s、媒体の保磁力Hcは150
00e、媒体の残留磁化B。
は2470Gの条件下で行った。結果は、従来型コアか
らなる磁気ヘッドの出力よりも、本発明に係るコアから
なる磁気ヘッドの出力の方が約2dBだけ改善された。
らなる磁気ヘッドの出力よりも、本発明に係るコアから
なる磁気ヘッドの出力の方が約2dBだけ改善された。
実際の18MHzにおける出力では、約90nVp−r
/μm−turn−m/sが約110 nVp−p /
μm−turn6m/sとなった。
/μm−turn−m/sが約110 nVp−p /
μm−turn6m/sとなった。
このように、本発明の磁気へラドコアによれば10MH
z以上の高周波帯域でも高い透磁率および高飽和磁束密
度を得て優れた再生効率を有する磁気ヘッドを得ること
ができるとともに、Fe−Aj!−Si系合金薄膜の有
する耐蝕性および耐摩耗性を活かして長寿命の磁気ヘッ
ドを得ることができる。
z以上の高周波帯域でも高い透磁率および高飽和磁束密
度を得て優れた再生効率を有する磁気ヘッドを得ること
ができるとともに、Fe−Aj!−Si系合金薄膜の有
する耐蝕性および耐摩耗性を活かして長寿命の磁気ヘッ
ドを得ることができる。
なお、Fe−Aj!−Si系合金薄膜の組成は前記した
ものに限らないことは勿論であり、低周波数帯域で実効
透磁率が1500B、以上、望ましくは2000μ。以
上あれば良いものである。
ものに限らないことは勿論であり、低周波数帯域で実効
透磁率が1500B、以上、望ましくは2000μ。以
上あれば良いものである。
本発明にかかる磁気へラドコアは、以上のように、搬送
波周波数が10MHz以上の周波数変調された信号を記
録再生するようにした磁気記録再生システムに用いられ
る磁気ヘッドの主要部となるコアにおいて、Fe−Aj
!−Si系合金薄膜と非磁性薄膜とを交互に積層して所
要の総膜厚を得るとともに、上記Fe−Ali−Si系
合金薄膜の一要分の膜厚を4μm以下に設定している構
成である。
波周波数が10MHz以上の周波数変調された信号を記
録再生するようにした磁気記録再生システムに用いられ
る磁気ヘッドの主要部となるコアにおいて、Fe−Aj
!−Si系合金薄膜と非磁性薄膜とを交互に積層して所
要の総膜厚を得るとともに、上記Fe−Ali−Si系
合金薄膜の一要分の膜厚を4μm以下に設定している構
成である。
これにより、10MHz以上の高周波帯域でも優れた再
生効率を発揮し、且つ、Fe−An!−Si系合金薄膜
の有する耐蝕性および耐摩耗性を活かした長寿命の磁気
ヘッドを得ることができる。これにより、高画質VTR
やディジタルVTRなどの高品位VTRヘッドのコアと
して、十分に活用することができ、また、生産性にも優
れているという効果を奏する。
生効率を発揮し、且つ、Fe−An!−Si系合金薄膜
の有する耐蝕性および耐摩耗性を活かした長寿命の磁気
ヘッドを得ることができる。これにより、高画質VTR
やディジタルVTRなどの高品位VTRヘッドのコアと
して、十分に活用することができ、また、生産性にも優
れているという効果を奏する。
第1図および第2図は本発明の一実施例を示すものであ
って、第1図は磁気へラドコアの概略の断面図、第2図
はFe−Aj!−Si系合金薄膜の膜厚をパラメータと
して周波数と実効透磁率との関係を示したグラフである
。 1は基板、2はFe−Al!−Si系合金薄膜、3は非
磁性薄膜である。 第 図 裟 図 周 ′;L数(MHz)
って、第1図は磁気へラドコアの概略の断面図、第2図
はFe−Aj!−Si系合金薄膜の膜厚をパラメータと
して周波数と実効透磁率との関係を示したグラフである
。 1は基板、2はFe−Al!−Si系合金薄膜、3は非
磁性薄膜である。 第 図 裟 図 周 ′;L数(MHz)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、搬送波周波数が10MHz以上の周波数変調された
信号を記録再生するようにした磁気記録再生システムに
用いられる磁気ヘッドの主要部となるコアにおいて、 Fe−Al−Si系合金薄膜と非磁性薄膜とを交互に積
層して所要の総膜厚を得るとともに、上記Fe−Al−
Si系合金薄膜の一層分の膜厚を4μm以下に設定して
いることを特徴とする磁気ヘッドコア。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20228988A JPH0250309A (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 磁気ヘッドコア |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20228988A JPH0250309A (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 磁気ヘッドコア |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0250309A true JPH0250309A (ja) | 1990-02-20 |
Family
ID=16455077
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20228988A Pending JPH0250309A (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 磁気ヘッドコア |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0250309A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5576098A (en) * | 1992-07-08 | 1996-11-19 | Fuji Electric Co., Ltd. | Thin film magnetic head |
US6765755B1 (en) * | 1999-08-20 | 2004-07-20 | Thales | Anti-abrasive reading head |
-
1988
- 1988-08-12 JP JP20228988A patent/JPH0250309A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5576098A (en) * | 1992-07-08 | 1996-11-19 | Fuji Electric Co., Ltd. | Thin film magnetic head |
US6765755B1 (en) * | 1999-08-20 | 2004-07-20 | Thales | Anti-abrasive reading head |
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