JPH0246585B2 - Aii77ruinoamidojudotaitosonoiyakutekinikyoyosareruen - Google Patents
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Landscapes
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規な化合物AI―77類のアミド誘
導体ならびにその医薬的に許容される塩に関す
る。 このAI―77類のアミド誘導体は、次の一般式
〔〕で示されるものである。 （式中、ＹはNHR4またはＺと合してＣとＣとの
結合手を、ＺはＨまたはＹと合してＣとＣとの結
合手を、R1，R2とR4は各々独立にＨ、R′、―
CH2R、―CORを表わし、R3はＨ、Ｒまたは
CH2Rを表わす。Ｒはメチル、エチル、ｎ―プロ
ピル、ｎ―ブチル、ｎ―ペンチル、ｎ―ヘキシ
ル、ｎ―ヘプチル、ｎ―オクチル、ｎ―ウンデシ
ル、ｎ―ヘプタデシル、イソプロピル、２―メチ
ル―プロピル、２―メチル―ブチル、２―プロピ
ル―ペンチル、４―エチル―ヘプチル、２・6.10
―トリメチル―テトラデカニル、ビニル、アリル
―１―プロペニル、２―プロペニル、２―ブテニ
ル、１・３―ブタジエニル、２―ペンテニル、８
―ヘプタデセニル、２―メチル―アリル、２・６
―ジメチル―２・６―ヘプタジニル、２・６・９
―トリメチル―２・６・９―トリデカトリエニ
ル、フエニル、ナフチル、アズレニル、ノルボル
ネン、ノルボルナン、カンフアー、アダマントイ
ル、サイクロプロピル、サイクロブチル、サイク
ロペンチル、サイクロヘキシル、サイクロヘプチ
ル、サイクロオクチル、ベンジル、フエネチル、
２―フエニルプロピル、ナフチルメチル、ナフチ
ルエチル、２・４―ジメチル―イソプロピル―ア
ズレニル、フリル、ジヒドロフリル、テトラヒド
ロフリル、ピラニル、ジヒドロピラニル、チエニ
ル、テトラゾリル、ピロリル、ピロリジニル、キ
ノリル、インドリル、インドリニル、ピペリジ
ル、モルホリニル、ピリジル、オキサゾリル、オ
キサゾリジニル、チアゾリル、チアゾリジニル、
ならびに上記炭化水素の塩素、臭素、弗素、オキ
ソ、カルボキシル、ヒドロキシル、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピ
ル、３―メチル―ブチル、イソブチレン、プロピ
レン、アセチレン、フエニル、ナフチル、アズレ
ニル、トロポイル、サイクロプロピル、サイクロ
ブチル、サイクロペンチル、サイクロヘキシル、
サイクロヘプチル、サイクロオクチル、ベンジ
ル、フエネチル、２―フエニルプロピル、ナフチ
ルメチル、ｐ―（３―メチル）ブチルフエニル、
メトキシ、エトキシ、ペントキシ、３―メチル―
ブトキシ、３―メチル―２―ブテノキシ、メチル
チオ、エチルチオ、３―メチル―ブチルチオ、ペ
ンチルチオ、メトキシカルボニル、ペントキシカ
ルボニル、イソブトキシカルボニル、アセチルオ
キシ、プロピオニルオキシ、ペンタノイルオキ
シ、ヘキサノイルオキシ、クロトノイルオキシ、
アセチル、プロピオニル、ヘキサノイル、３―メ
チル―ブタノイル、フリル、ジヒドロフリル、テ
トラヒドロフリル、ピラニル、ジヒドロピラニ
ル、チエニル、テトラゾリル、ピロリル、ピロリ
ジニル、キノリル、インドリル、インドリニル、
ピペリジノ、モルホリノ、ピリジル、オキサゾリ
ル、オキサゾリジニル、チアゾリル、チアゾリジ
ニル等の一つまたは二つ以上の基で置換されたも
のから成る群から選ばれる基を、R′はＲの中で
不飽和炭素または三級炭素として一般式〔〕の
ＯまたはＮに直接結合する基以外の基を表わす。
ただし、R1，R2，R3およびR4が同時にＨである
化合物を除く。） 本発明者らは、新規な抗潰瘍剤の創製を目的と
して鋭意研究を重ねてきたが、一般式〔〕で示
される化合物が実験動物に顕著な抗潰活性を発現
することを見出し、本発明を完成するに到つた。 本発明の新規な化合物AI―77類のアミド誘導
体は、前記一般式〔〕に示した化合物であり、
Ｒは前記のとおりであるが、これらの置換基の中
で直鎖アルキルの置換基としては、ハロゲン、オ
キソ、カルボキシ、アルコキシ、チオアルコキ
シ、カルボアルコキシ、アシルオキシ、単環式脂
肪族、芳香脂肪族、芳香族、複素環基に含まれる
ものが好ましく、分岐アルキルの置換基として
は、ハロゲン、アルコオキシ、チオアルコキシ基
に含まれるものが好ましく、芳香族基の置換基と
しては、アルキル、アルコオキシ、チオアルコオ
キシ、ハイドロキシ、アシルオキシ、カーボアル
コキシに含まれるものが好ましい。またこれらの
基は、芳香脂肪族の芳香基の置換基としても好ま
しい。単環式脂肪族の置換基としては、オキソ、
カルボキシル、アルキル、アルコキシル、カーボ
アルコキシル、アシルオキシル基に含まれるもの
が好ましい。複素環の置換基としては、アルキ
ル、アルコキシル、アシル、カルボキシル基に含
まれるものが好ましい。 またこれらのAI―77類のアミド誘導体は、医
薬的に許容される塩、例えばハロゲン化水素酸、
リン酸、硫酸、シユウ酸、マレイン酸、ドデシル
硫酸等の有機スルフオン酸などの塩にしてもさし
つかえない。 一般式〔〕で示される化合物は、下記の式で
示されるAI―77―ＢとAI―77―Ｆおよびそれか
ら誘導される一般式〔ａ〕および〔ａ〕の化
合物から合成される。 （式中、R1，R2，R4は一般式〔〕で示された
R1，R2，R4と同じ基を表わす。） AI―77―Ｂは本発明者らによつて新たに土壌
から分離され、バチルス、ブミルスに属する菌株
と同定されたAI―77株「工業技術院第4066号」
を培地に好気的に培養することにより、その培養
液中に蓄積されるから、その培養液より採取する
ことができる。AI―77―ＦはAI―77―Ｂより化
学的に合成することができる。培養法、合成法の
詳細は後に記す。 次に上記したAI―77―ＢおよびAI―77―Ｆの
理化学的性状について述べる。 【表】 【表】 AI―77―Ｂの質量分析値、紫外吸収値、赤外
吸収値、NMR等を第１表に示し、溶解性は、
水、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジムチ
ルスルホキシドに易溶で、その他の低級アルコー
ル、ジオキサン、テトラヒドロフランにやゝ難溶
で、酢酸エチル、クロロホルム、エーテル、ヘキ
サンおよびベンゼンに殆んど解けない。安定性
は、水溶液はアルカリに不安定で、室温でも徐々
にラクトンの水解が進行する。 AI―77―Ｆの質量分析値、紫外吸収値、赤外
吸収値、NMRを第２表に示し、溶解性は、酢酸
エチル、クロホルム、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシドに易溶で、低級アルコール
類、ジオキサンいやゝ難溶となり、水、ヘキサ
ン、ベンゼンに殆んど解けない。安定性はAI―
77―Ｂと同様アルカリに不安定である。 培養にはバチルス属の菌株の培養に関する一般
的知識が適用される。即ち、窒素源、炭素源、無
機塩、ビタミン、アミノ酸、核酸関連物質等、該
微生物の成育に必要な物質を含んだ培地に25〜40
℃で好気的に行なわれる。大規模に培養を行うに
は、通気撹拌培養を行うのが有利である。 なお、AI―77株（工業技術院第4066号）の菌
学的性質は下記の通りである。 菌学的性質 ａ） 各種培地上における生育状態 肉汁；培地はほとんど均一に混濁して皮膜
はつくならい。 肉汁寒天培地；コロニーの周辺はおゝむね
smooth型を呈するが、特にはrough型を呈
し、扁平に拡がる。色は不透明ないし半透明
で、アイボリー色から白色を経てクリーム色
となる。色素はつくらない。 グルコース肉汁寒天培地；肉汁寒天培地よ
り生育は良好、外観は肉汁寒天培地に同じ。 ゼラチン培地；緩慢に液化する。 ペプトン水；生育はやゝ抑制され、全体が
やゝ混濁する。 リトマスミルク；ミルクを凝固しない。ペ
プトン化もしない。リトマスの変色も認めら
れない。 バレイシヨ培地；淡黄褐色に拡がつて生育
し、細かな皺を生ずる。 グルコース肉汁寒天培地における形態学的性
状は0.5〜0.9×2.0〜5.0μの大きさの短桿状を呈
し、グラム変化性で楕円状ないし円筒状の胞子
をつくる。胞子はおゝむね中央に位置し、ふく
らみは明瞭でない。 ｂ） 生理的性質 最適生育条件；PH５〜PH８、27〜35℃好気
性。 生育しうる条件；PH5.0〜10.0、10〜55℃。 グラム染色性；変化性がある。 抗酸性；なし メチルレツド試験；陽性 フオーゲス・ブロスカウエル反応；陽性 インドールの生成は認められない。 硫化水素の生成はほとんど認められない。 アンモニアの生成は認められない。 硝酸塩の還元は認められない。 カタラーゼの生成は旺盛である。 ゼラチンをゆるやかに液化する。 澱粉を加水分解しない。 クエン酸を利用する。 ７％食塩培養液に生育する。 メチレンブルーを還元しない。 尿素の利用性は微弱である。 ｃ） 炭素源の利用性 フラクトース、サツカロース、グルコース、
マンニツトを利用して酸を生成する。マンノー
ス、トレハロースもわずかに利用して酸を生成
する。アラビノース、キシロース、ガラクトー
ス、ラクトース、マルトース、ラフイノース、
ソルビツト、イノシツト、グリセロール、α―
メチルグルコシツド、イヌリン、デキストリ
ン、デンプン、繊維素は利用しない。いずれの
炭素源からもガスの発生は認められない。 上記の諸性質をBergey′s manual of
Determinative Bacteriology7版および８版に照
合すると、本菌はアラビノース、キシロースから
酸を生成しないし、牛乳のペプトン化も凝固も起
きさない等の点で多少の相違点はあるが、おゝむ
ねバチルス・プミルスの性質に一致している。し
たがつて、本菌をバチルス・プミルスに属する一
菌株と判定したが、同一の既知の菌株が存在しな
いので、バチルス・プミルスAI―77と命名した。
本菌株は工業技術院微生物工業技術研究所に寄託
番号第4066号として寄託されている。本発明にお
いて、のバチルス・プミルスAI―77株のすべて
の天然および人工変異株のうち、AI―77類の生
産性を有する株はすべて用いることができる。 本発明の方法におけるAI―77―Ｂの培養によ
る生産と培養物からの採取工程は、後述する特定
の手段を利用することにより実施される。即ち
AI―77―Ｂは、その生産菌を該菌が必要とする
栄養源を含む培養液に所定時間、好気的に培養す
ることにより培養液中に畜積されるから、AI―
77―Ｂの理化学的性質を利用して、その培養液か
ら種々の精製手段を組合せて採取される。 発酵に用いられる栄養源としては、炭素源、窒
素源、無機塩類、その他必要に応じてビタミン
類、アミノ酸類および使用菌の生育に必要な諸栄
養因子が使用される。炭素源としては例えば、グ
ルコース、シユウクロース、フラクトース、マン
ニトール、有機酸、糖蜜、澱粉類、グリセリンな
ど、窒素源としては例えば、コーン・スチーブ・
リカー、大豆粉、フアマメデイア、酵母エキス、
肉エキス、ペプトンやカザミノ酸等の蛋白水解
物、アミノ酸、アンモニウム塩など、無機塩とし
ては例えば、ナトリウム、カリウム、カルシウ
ム、マグネシウム、鉄等の金属イオン、アンモニ
ウム、リン酸、硫酸、塩素、カルボン酸等のイオ
ンを含む塩が使用される。生産菌の生育に必要な
必須栄養要素も培地に含まれる必要があり、ビタ
ミン類、アミノ酸類、核酸関連要素が必要に応じ
て添加される。 AI―77―Ｂ生産菌は種々の条件で生育する。
例えば、この微生物は広範囲の初期PHを有する
種々の培地に生育しうる。しかし、発酵を開始す
る培地のPHは６〜８、好ましくはPH６〜７で、一
般に培地のPHは微生物の生育にしたがつて多少変
動する。培養温度は25〜40℃で好気的に60時間〜
96時間行われる。 本発明のAI―77類生産菌は、寒天斜面上、振
盪フラスコ中、中型ないしは大型発酵タンク内で
培養することができる。大量生産には通気撹拌の
発酵条件が好ましい。通気撹拌の好気的な培養条
件では、シリコン、ポリプロピレングリコール誘
導体などの消泡剤を培地に加えることがAI―77
―Ｂ成分の蓄積量を増大させるのに有効な場合も
ある。発酵の経過に関してAI―77―Ｂの生産量
は、培養液の314mμにおける紫外部吸収の増加
によつて追跡することができる。 好気的発酵条件下で生産したAI―77―Ｂは、
主として発酵培地から各々の理化学的性質を利用
して、イオン交換樹脂、マクロ網状樹脂、ゲル
過剤、吸着剤等を使用したクロマトや溶媒抽出等
を組合せて単離することができる。即ち好気的に
48〜96時間培養した培養液をマクロ網状樹脂、
例えばローム・アンド・ハース社製アンバーライ
トXAD―２またはXAD―４あるいは三菱化成製
ダイアイオンHP―系に吸着させ、水および有機
溶媒あるいは両者の混合溶媒を用いて溶出する。
有機溶媒としては、特に水と親和性のあるC1〜
C4のアルコール類、アセトン、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等を使用することができる。例
えばメタノールを30％以上含有した水によりAI
―77―Ｂはマクロ網状樹脂XAD―２から脱離さ
れるから、この溶離液を減圧下に濃縮するとAI
―77―Ｂの粗標品が得られる。マクロ網状樹脂に
よる精製を繰返すことにより、あるいは熱水また
はメタノールから再結晶させることにより、純度
の高いAI―77―Ｂの結晶を得ることができる。 次に一般式〔ａ〕およびAI―77―Ｆと一般
式〔〕の化合物の合成法について説明する。 下記の〜は、一般式〔ａ〕で示される化
合物（式中、R1，R2，R4は前記と同じ）の製法
である。 一般式〔ａ〕でR1とR2がＨであり、R4が
RCO―である化合物〔ａ―１〕は、前述の
AI―77―Ｂを一般的なアシル化法によりアシ
ル化することにより得られ、生成物は原料と生
成物の紫外線吸収、赤外線吸収、NMR、質量
分析法の比較等で確認される。この確認法は
以降の合成法にも使用される。代表的なアシル
化法は、酸無水物〔（RCO）2O〕あるいは酸ク
ロライド（RCOCl）でアシル化する方法、も
しくは酸（RCOOH）と脱水縮合剤（例えばジ
シクロヘキシルカルボジイミド等）の方法でア
シル化する。アシル化剤の添加量を１〜２倍モ
ルとして、０〜25℃で反応を行うことにより、
R4に選択性高くアシル基を導入することがで
きる。 一般式〔ａ〕においてR1がＨで、R2が
RCO―で、R4がRCO―である化合物〔ａ―
２〕は、前記の〔ａ―１〕をピリジン溶媒中
過剰（〔ａ―１〕に対し３〜20倍モル）の酸
無水物〔（RCO）2O〕を加え、触媒としてルイ
ス酸を用い、25〜80℃で反応させることにより
得られる。アシル化剤として酸クロライドを用
いる場合は、ピリジン溶媒中〔ａ―１〕に対
して１〜５倍モルの酸クロライドを使用して、
室温から40℃で反応を行う。 一般式〔ａ〕でR1がRCO―で、R2がRCO
―で、R4がRCO―である化合物〔ａ―３〕
は、前記の〔ａ―２〕をより強いアシル化
法によりアシル化すること、即ち前記の〔ａ
―２〕をピリジンあるいは三級アミンと非プロ
トン性溶媒中40〜100℃で、１〜30倍モルの酸
無水物〔（RCO）2O〕または酸クロライド
（RCOCl）と反応させることにより得られる。 〜に示した如く一般式〔ａ〕の化合物
のR1，R2，R4へのアシル基の導入における反
応速度はR4が最大で、次いでR2，R1の順序で
各々選択性高く導入することができる。 一般式〔ａ〕でR1がRCO―で、R2がＨで、
R4がRCO―である化合物〔ａ―４〕は、前
記の〔ａ―１〕の化合物を不活性溶媒好まし
くは非プロトン性極性溶媒とピリジンあるいは
三級アミン中に溶解し、カーボベンゾオキシク
ロライドを1.5〜15モル添加して、室温〜80℃
で反応することにより選択性高くアルコール性
OH基にカーボンベンゾオキシ基を導入でき
る。得られた化合物を一般的なアシル化法、例
えば過剰（１〜30倍モル）の酸無水物
〔（RCO）2O〕をピリジンあるいは三級アミンと
非プロトン性溶媒中40〜100℃で反応させる。
このものを通常の接触還元により、カーボンベ
ンゾオキシ基をはずして化合物〔ａ―４〕を
得る。 一般式〔ａ〕でR1がR′または―CH2Rで、
R2がＨで、R4がRCO―である化合物〔ａ―
５〕は、前記〔ａ―１〕を不活性溶媒、場合
により少量のアルコールを加えた溶媒に溶解
し、過剰のジアゾ化合物（R′N2）または
（RCH2N2）と反応させてフエノール性―OH
基に接触なしに選択性高くR′基またはRCH2基
を導入することができる。 本発明に用いるジアゾ化合物は文献に知られ
ている（Organic functional group
preparations，Academic press，New york
and London，1968P388〜407）。また本発明に
必要なR′N2またはRCH2N2のその他の化合物
は、同様の方法で製造することができる。 一般式〔ａ〕でR1がR′または―CH2Rで、
R2がRCO、R4がRCOである化合物〔ａ―
６〕は、前記の〔ａ―２〕の化合物にジアゾ
化合物（R′N2）を前記と同様に反応させる
ことによるか、前記化合物〔ａ―５〕をアシ
ル化することにより得られる。 一般式〔ａ〕でR1がR′または―CH2Rで、
R2がR′または―CH2R、R4がRCO―である化
合物〔ａ―７〕は、前記〔ａ―５〕の化合
物をジアゾ化合物（R′N2）またはRCH2N2と
触媒（フツ化ホウ素エーテラート）を加えるこ
とにより、アルコール性―OH基にアルキル基
を導入して合成する。 やで示されるように、前記〔ａ―１〕
の化合物をジアゾ化合物（R′N2）または
RCH2N2のみで、フエノール性―OH基に先ず
アルキル基が選択性高く導入され、次いで触媒
（フツ化ホカ素エーテラート）を併用すること
により、アルコール性―OH基にアルキル基を
導入することができる。 一般式〔ａ〕がR1がＨ，R2がR′または
RCH2、R4がRCO―である化合物〔ａ―８〕
は、前記の〔ａ―１〕の化合物からに述べ
た反応により、フエニルジアゾメタンを用いて
フエノール性OH基に保護基としてベンジル基
を導入し、で示した反応を用いてアルコール
性OH基にアルキル基を導入した後、一般的接
触還元法により、ベンジル基をはずすことによ
り合成することができる。 一般式〔ａ〕でR1がRCO―、R2がR′また
はRCH2、R4がRCO―である化合物〔ａ―
９〕は、前記の〔ａ―８〕の化合物をの反
応と同様にしてフエノール性OH基をアシル化
することにより合成できる。 一般式〔ａ〕でR1がＨ，R2がRCO、R4が
Ｈの化合物〔ａ―10〕は、次のように合成さ
れる。即ちAI―77―Ｂを２〜３倍モルのカー
ボベンゾオキシクロライドと三級アミンの存在
下に室温で反応させると、R4がRh―CH2―
OOC―となる。この化合物をに示したと同
様にしてアルコール性OH基をアシル化し、R1
がＨ、R2がPCO―、R4がPh―CH2―OOC―と
し、次で、これを接触還元することにより〔
ａ―10〕を合成する。 一般式〔ａ〕でR1がRCO―、R4がRCO
―、R4がＨの化合物〔ａ―11〕は、次のよ
うに合成される。 前記のの反応でR1がＨ、R2がRCO―、R4
がPh―CH2―OOC―である中間化合物をに
示したと同様にR1をアシル化し、次いで、こ
れを接触還元することにより得られる。 一般式〔ａ〕でR1が―COR、R2がＨ、R4
がＨである化合物〔ａ―12〕の合成法は、次
の方法により合成できる。即ち第一の方法は、
AI―77―Ｂと５〜30倍モルのカーボンベンゾ
オキシクロライドを三級アミンの存在下に室温
〜80℃で反応させると、R2とR4とが
【式】となる。これをに示したと 同様にR1をアシル化し、次いで接触還元し目
的化合物とする。第二の方法は、AI―77―Ｂ
を５〜30倍のトリクロルアセチルクロライドを
用い、三級アミンの存在下に室温〜80℃で反応
させて、R1がＨ、R2が―COCCl3、R4が―
COCCl3の化合物を得て、これをで示したと
同様にしてR1を―CORとした後、アルカリを
用いPH８〜12の範囲で適宜選択されたPH範囲を
保持しながら２〜24時間室温で加水分解を行
う。次いで、後述のに示すラクトン化の条件
にしたがい、酸性にして溶媒を留去することに
より〔ａ―12〕の化合物が合成できる。 一般式〔ａ〕でR1がR′またはRCH2、R2
がＨ、R4がＨの化合物〔ａ―13〕は、例え
ばAI―77―Ｂよりの反応にしたがいR4を―
COCCl3とし、次での反応にしたがいR1を
R′とし、得られる化合物を、前記の第２の
反応の段階のアルカリ加水分解法、ラクトン化
法にしたがつてて反応させることにより得られ
る。 一般式〔ａ〕でR1がR′またはRCH2、R2
がRCO―、R4がＨの化合物〔ａ―14〕は、
次のいずれかの方法で合成できる。 第一の方法は、AI―77―Ｂをの方法でR2
を―COCCl3とし、次での方法でR2をRCO―
とし、次での方法でR1をR′またはRCH2とし
て得られるR1がR′またはRCH2、R2がRCO―、
R4がCl3CCO―の化合物を合成し、上記と同
様にアルカリ加水分解、ラクトン化することに
より目的化合物とする。第二の方法は、前記
の反応途中で得られるR1がＨ、R2がRCO―、
R4がPh―CH2―OOC―である化合物をで示
した方法でR1をR′またはRC2とした後、接触還
元で脱離反応を行うことにより目的化合物とす
る方法である。 一般式〔ａ〕でR1がR′またはRCH2、F2が
R′またはRCH2、R4がＨである化合物〔ａ―
15〕は、例えばAI―77―Ｂよりの反応にし
たがいR4を―COCCl3とし、次いでの反応に
したがいR1をR′またはRCH2とし、次での反
応によりR2をR′またはRCH2とし、得られる化
合物をアルカリを用い、PH８〜12の範囲で適宜
選択されたPH範囲を保持しながら２〜24時間室
温で加水分解を行う。次いで後述のに示すラ
クトン化の条件にしたがい、酸性にして溶媒を
留去することにより〔ａ―15〕の化合物が得
られる。 一般式〔ａ〕でR1がＨ、R2がR′または
RCH2、R4がＨである化合物〔ａ―16〕は、
次のようにして合成することができる。第一の
方法は、AI―77―Ｂを２〜３倍モルのカーボ
ベンゾオキシクロライドと三級アミンの存在下
に室温で反応させ、R4をPh―CH2―OOC―と
し、次で、これにフエニルジアゾメタンの過剰
量を加えてR1にベンジル基を導入し、さらに
ジアゾ化合物（R′N2）または（RCH2N2）を
フツ化ホウ素エーテラートの存在下に反応さ
せ、R2をR′またはRCH2とし、次いで接触還元
してベンジル基とカーボベンゾオキシル基を離
脱させて目的化合物とする。第二の方法は、前
述したの方法にしたがいR1とR4をともにト
リクロルアセチル化し、次いでフツ化ホウ素エ
ーテラートの存在下にジアゾ化合物（R′N2）
または（RCH2N2）と反応させて、R2をR′ま
たはRCH2とした後、アルカリで加水分解し目
的化合物とする方法である。 一般式（ａ〕でR1がRCO―、R2がR′また
はRCH2、R4がＨである化合物〔ａ―17〕
は、次の方法で合成できる。第一の方法は、前
記の方法によりR1がRCO―、R2がR′または
RCH2、R4が―COCCl3である化合物を合成し、
で示したようにアルカリで加水分解し、ラク
トン化することにより目的化合物を合成でき
る。第二の方法は、前記の〔ａ―16〕の化合
物を２〜３倍モルのカーベンゾオキシクロライ
ドと三級アミンの存在下に室温で反応させ、
R4をカーボベンゾオキシル基とし、次いで
で示した方法でR1をアシル基とし、次いで接
触還元してカーボベンゾオキシル基を脱離すれ
ば目的化合物が合成される。 一般式〔ａ〕でR1がＨで、R2がＨで、R4
が―CH2Rである化合物〔ａ―18〕は、前記
の〔ａ―１〕の化合物から合成できる。 〔ａ―１〕の化合物のジクロルメタンに溶
解もしくは分散して、トリエチルオキソニウム
テトラフルオロボレートのジクロルメタン溶液
を１〜２倍モル添加して室温にて１時間から24
時間反応させると、R4のアミド部分に高い選
択性を持つてイミノエーテルをつくることがで
きる。これを単離または単離することなく溶媒
をジクロルメタンから乾燥エタノールに交換
し、加えたトリエチルオキソニウムテトラフル
オロボレートに対して１〜３倍モル、望ましく
は1.5〜２倍モルのソジウムボロンハイドライ
ドを氷冷下に加え、５〜30分反応させた後、鉱
酸で酸性にすることにより〔ａ―18〕の化合
物を合成することができる。 この反応で〔ａ―１〕とトリエチルオキソ
ニウムテトラフルオロボレートの反応において
２個のアミド基があるにもかゝわらず、上記の
条件では―NHCORのアミド基に高い選択性を
もつて反応させることができることは驚くべき
ことである。またフエノール性―OH基やアル
コール性―OH基に対する保護基の導入も必要
としないことが判明した。 一般式〔ａ〕でR4がＲ―CH2―であると
その他の化合物〔ａ―19〕〜〔ａ―26〕
は、それぞれR1とR2が目的化合物と同一であ
り、R4がRCO―である化合物〔ａ―２〕〜
〔ａ―９〕より、上記と同様な反応を経由
して合成できる。 【表】 一般式〔ａ〕でR1がＨ、R2がＨ、R4が
R′である〔ａ―27〕の化合物は、次の方法
でも合成できる。即ちAI―77―Ｂを非プロト
ン性極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド等に溶解し、2.5〜30倍
モルのRW（Ｗはハロゲンを意味し、望ましく
はヨード基を意味する）を加え、０〜70℃に反
応させると〔ａ―27〕が得られる。 一般式〔ａ〕でR4がＲである他の化合物
は、と同様にして合成される。 即ち下記の化合物〔ａ―28〕〜〔ａ―
35〕は、それぞれR1とR2が目的化合物と同一
であり、R4がＨである化合物〔ａ―10〕〜
〔ａ―17〕より合成される。 【表】 次にAI―77―ＢからAI―77―Ｆ（が該当）
および一般式〔ａ〕で示される化合物〔式中
R1，R2は前記と同じ（〓〓が該当）〕の製法につ
いて記す。 AI―77―ＦはAI―77―Ｂとハロゲン化アル
キルを極性溶媒中、加温することにより容易に
得られる。AI―77―Ｂを極性溶媒、たとえば、
Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ―ジメ
チルアセトアミド、Ｎ―メチルピロリドン、ヘ
キサメチルホスホロトリアミド等に溶解または
懸濁し、ハロゲン化アルキル、たとえば、ヨウ
化メチル、ヨウ化エチル等を水過剰、AI―77
―Ｂに対し10〜100倍当量加え、室温から70℃
で一夜反応することにより得られる。反応は高
速液クロ、薄層クロマトグラフイー等で追跡で
きる。反応終了後、マクロ網状樹脂に吸着さ
せ、十分に水洗後、適宜水親和性の有機溶媒、
たとえば、メタノール、テトラヒドロフランで
脱離して濃縮することにより得られる。 〓〓 一般式〔ａ〕においてR1がＨで、R2が
RCO―である化合物〔ａ―１〕は、AI―77
―Ｆより上記で示した方法でR2をRCO―と
することにより、 R1がRCO―で、R2がRCO―である化合物
〔ａ―２〕は、前記〔ａ―１〕より上記
で示した方法でR1をアシル化することにより、 R1がRCO―で、R2がＨである化合物〔ａ
―３〕は、AI―77―Ｆから上記の合成ルー
トの反応と同様にしてR1をアシル化すること
により、 R1がR′またはRCH2で、R2がＨの化合物
〔ａ―４〕は、AI―77―Ｆからと同様な反
応ルートで同様に反応させ、R1をR′または
RCH2とすることにより、 R1がR′またはRCH2で、R2がRCO―の化合
物〔ａ―５〕は、前記〔ａ―１〕を前記
と同様な反応ルートでジアゾ化合物と反応さ
せ、R1をR′またはRCH2とすることにより、 R1がR′またはRCH2で、R2がR′またはRCH2
である化合物〔ａ―６〕は、上記〔ａ―
４〕を前記で示したと同様に反応させ、R2
をR′またはRCH2とすることにより、 R1がＨで、R2がR′またはRCH2である化合
物〔ａ―７〕は、AI―77―Ｆから前記で
示したと同様に反応させ、R2をR′またはRCH2
とすることにより、 R1がRCOでR2がR′またはRCH2である化合
物〔ａ―８〕は、前記〔ａ―７〕からの
方法でR1をアシル化することにより、それぞ
れ合成できる。 前記した一般式〔ａ〕における５員環ラク
トンに関して、下記の如く一般式〔ｂ〕 （式中、R1，R2，R4は前記と同じ。） との間に相互変換を容易に起し得る。即ち一般
式〔ａ〕の化合物は、一般式〔ｂ〕の化合
物を乾燥した有機溶媒、例えばアルコール類、
テトラヒドロフラン等に溶解して酸性にした
後、溶媒を留去することにより〔ａ〕のアミ
ン塩として得られる。その塩を有機溶媒に溶解
して重曹水で洗浄し、有機溶媒を乾固すること
により〔ａ〕の遊離アミンとして得られる。
一般式〔ｂ〕の化合物は、一般式〔ａ〕の
化合物を水存在下に弱アルカリでPHを９以下に
維持して５員環ラクトンを開環した後、中和し
て溶媒を乾固することにより得られる。 それぞれの化合物における二態〔ａ〕と
〔ｂ〕について、〔ａ〕型の化合物群につい
ては化合物群を表わすローマ数字およびＢに
〔ａ〕を附して表わし、〔ｂ〕型の化合物群に
ついては〔ｂ〕を附して表わす。 〓〓 上記〜〓〓の反応によつて得られる最終反応
物を、さらに精製したいと希望すれば、下記の
精製法が適用できる。 〜〓〓の反応の最終反応液は濃縮後、塩化水
素ガスを吹き込んだ乾燥メタノールあるいは乾
燥エタノールに溶解し、濃縮乾固する操作を数
回繰返して一般式ａのラクトン型にした後、
マクロ網状樹脂、例えばXAD―２等の樹脂の
カラムに吸着させ、溶出溶媒に水あるいは水と
親和性のある有機溶媒、望ましくはメタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノ
ール、テトラヒドロフラン等または水とそれら
の混合溶媒を用いてクロマトを行うことにより
目的物を精製し得る。 第３表に前述の〜〓〓の反応によつてAI―
77―Ｂから合成される一般式〔〕で示される
アミド類の中間体〔一般式〔ａ〕と〔ａ〕〕
の代表例を示す。 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】
＼
a−1−48 H
H
CHCH２CO
／
CH３
CH３(CH
２)３CH２COO
＼
a−1−49 H
H
CHCH２CO
／
CH３
【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】
＼
a−5−42 〃
〃
CHCH２CO
／
CH３
a−5−43 〃
〃 CH
３SCH２CO
a−5−44 〃
〃 CH
３(CH２)３CH２SCH２CO
【表】
＼
／
a−5−53 〃
〃
C＝C
／
＼
H
CO
【表】 【表】
＼
／ ＼
C
＝C H
／
＼
CH３
H
a−5−66 〃
H
a−5−67 〃
〃
【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 ／ ＼
CH３ H
CH３CH２CH(CH２)４CH２
a−5−110 ｜
H
〃
CH３
a−5−111
H
〃
a−5−112
H
〃
a−5−113
H
〃
【表】 ＼
a−5−121 CH
H CH３
(CH２)２CO
／
CH３
【表】
＼
a−6−7 CH３CH２
〃
CHCH２CO
／
CH３
【表】 【表】 ＼
a−7−15 CHCH２CH２
CH３
〃
／
CH３
a−7−16 CH３(CH２)２CH２
CH３
CH３CO
【表】 【表】
／ ＼
CH３ CO
【表】 【表】 【表】 【表】 ＼
a−13−26 CHCH２CH２
H H
／
CH３
CH３COO
＼
a−13−27 CHCH２CH２
H H
／
CH３
【表】 ／
CH３
【表】 ＼
a−13−41 CH
H H
／
CH３
a−14−1 CH３CH２
CH３CO H
a−14−2 〃
(CH３)２CHCO H
a−14−3 〃
CH３(CH２)１６CO
H
HC(CH２)７CH３
a−14−4 〃
‖ H
HC(CH２)７CO
【表】 ＼
a−15−6 CHCH２CH２
〃 H
／
CH３
a−15−7
〃 H
【表】 ／
CH３
a−17−5 CH３CH２CO
CH３ H
a−17−6 CCl３CO
CH３CH２ H
a−18−1 H
H CH３
CH２
a−18−2 H
H CH３
CH２CH２
a−18−3 H
H CH３
(CH２)２CH２
a−18−4 H
H (CH
３)２CHCH２
a−18−5 H
H (CH
３)２CHCH２CH２
【表】 【表】 【表】 【表】
＼
a−18−42 H
H
CHCH２CH２
／
CH３
CH３(CH
２)３CH２COO
＼
a−18−43 H
H
CHCH２CH２
／
CH３
a−18−44 H
H
【表】 【表】
／
CH３
【表】 【表】
＼
a−19−6 H
〃
CHCH２CH２
／
CH３
【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】
＼
a−22−44 〃
H
CHCH２CH２
／
CH３
a−22−45 〃
H
a−22−46 〃
H
【表】 【表】
／
｜ CH２CH２C＝C
a−22−62 〃
H
／ ＼
CH３
CH２CH２C＝C H
＼
／ ＼
C
＝C H
／
＼
CH３
H
【表】 【表】 【表】 【表】 ／
CH３
CH３COO
＼
a−22−100 CHCH２CH２
H
〃
／
CH３
CH３(CH２)３CH２COO
＼
a−22−101 CHCH２CH２
H
〃
／
CH３
【表】 ／
CH３
CH３
CH３ ｜
CH２CH２CH２
／
｜ CH２CH２C＝C
a−22−109 ／ ＼
H
〃
CH３ CH２CH２C＝C
H
＼ ／ ＼
C＝C H
／ ＼
CH３ H
【表】
／
CH３
a−23−3 〃
〃 CH
３(CH２)１６CH２
HC(CH２)
７CH３
a−23−4 〃
〃
‖
HC(CH２)
７CH２
a−23−5 CH３(CH２)１６CH２
〃
【表】 【表】 ＼
a−24−15 CHCH２CH２
CH３
CH３CH２CH２CH２
／
CH３
a−24−16 CH３(CH２)２CH２
CH３
CH３CH２
【表】 【表】
＼
a−28−5 H
CH３(CH２)１６CO
CH
／
CH３
a−29−1 CH３CO
CH３CO CH
３
CH３
＼
a−29−2 CH３CO
CH３CO
CH
／
CH３
a−30−1 CH３CO
H CH
３
CH３
＼
a−30−2 (CH３)２CHCO
H
CH
／
CH３
【表】 【表】
＼
a−35−2 〃
〃
CH
／
CH３
a−1−1 H
CH３CO
a−1−2 H
CH３CH２CO
a−1−3 H
CH３(CH２)２CO
a−1−4 H
(CH３)２CHCO
a−1−5 H
(CH３)２CHCH２CO
a−1−6 H
CH３(CH２)３CO
a−1−7 H
CH３(CH２)４CO
a−1−8 H
CH３(CH２)５CO
【表】 【表】 【表】 【表】
＼
a−1−42 H
CHCH２CO
／
CH３
【表】 【表】 【表】
／
｜ CH２CH２C＝C
a−1−67 H
／ ＼
CH３ CH２CH２C＝C H
＼ ／ ＼
C＝C H
／ ＼
CH３ H
【表】 【表】
｜
CH３
a−2−1 CH３CO
CH３CO
a−2−2 CH３CH２CO
〃
【表】 ／ ＼
CH３ CO
a−3−15
H
【表】 【表】 【表】 ／
CH３
CH３COO
＼
a−4−27 CHCH２CH２
H
／
CH３
CH３(CH２)３CH２COO
＼
a−4−28 CHCH２CH２
H
／
CH３
【表】 ／
CH３
CH３
CH３ ｜
CH２CH２CH２
／
｜ CH２CH２C＝C
a−4−36 ／ ＼
H
CH３ CH２CH２C＝C
H
＼ ／ ＼
C＝C H
／ ＼
CH３ H
【表】 【表】 第３表に代表される一般式〔ａ〕の化合物
を原料として、下記の一般式〔〕の化合物を
〔式中R1，R2，R3，R4は前記と同じ）合成す
る方法について述べる。 〓〓 一般式〔ａ〕の化合物とアンモニアあるい
は乾燥した一級アミン（NH2R3）を原料が遊
離アミンの場合は1.5〜100倍、塩の場合は2.5
〜100倍モルを反応させるために、アミン類が
溶液の場合は試薬を溶媒とし、ガスあるいは固
体の場合は、原料と試薬を溶解させるために非
プロトン性溶媒場合によつてはアルコール類を
用いて０〜30℃で１〜72時間撹拌することによ
り、５員環ラクトンにアミン類が反応した一般
式〔〕の化合物が得られる。 〓〓 〓〓と同様の反応条件で溶媒として非プロトン
性極性溶媒を、例えばジメチルホルムアミド、
ジメチルスルフオキサイド等を使用して〔
ａ〕の化合物から一般式〔〕の化合物が得ら
れる。 一般式〔〕と〔〕の化合物を弱アルカリ
の溶液中で６員環ラクトンを加水分解させた化
合物を得ることもできる。 上述の〓〓〓〓の反応によつて得られる化合物群
と、それらの対応する原料群を以下に示す。 【表】 【表】 【表】 【表】 第４表に前述の〓〓〓〓の方法で合成される化合物
の代表例を示すが、先記した如くこれらの化合物
は顕著な薬効を示す。第４表に後述の方法によつ
て試験した代表化合物の潰瘍抑制作用を附記す
る。薬効試験は次のように実施した。 １ 抗潰瘍性試験 ラツト（ウイスター、雄、体重150ｇ前後）
を試験開始の24時間前から絶食させた。生理食
塩水を溶媒として用い、試験化合物の所定濃度
の溶液または懸濁液を調製して動物の腹腔内に
投与した。薬剤投与の１時間後に金網篭にラツ
トを固定し、21℃の水槽中に胸部剣状骨まで６
時間浸漬した。動物は頚椎脱白して屠殺した
後、胃を摘出して大湾に沿つて切開し胃内壁を
剖見した。潰瘍の発生がほとんど認められない
ものを０とし、潰瘍の発生程度により0.5，１，
２，３の採点を行つた。下記の式より潰瘍抑制
率を算出した。 潰瘍抑制率（％）＝100−薬剤投与動物群の点数の総
和／薬剤無投与動物群の点数の総和×100 第４表に各化合物を25mg／Kgおよび50mg／Kg
宛腹腔内投与した時の潰瘍抑制率を示す。 【表】 【表】 【表】
＼
−1−25 H H
H CHCH２CH２
94
／
CH３
CH３(CH２)４
O
＼
−1−26 H H
H CHCH
２CH２ 89
／
CH３
【表】 【表】
＼
−1−41 H H
H CH
94
／
CH３
【表】 ＼ ／
−2−3 H C＝C
H H
78
／ ＼
H CO
【表】 【表】 ＼
−9−5 CHCH２CH２
〃 H H
78
／
CH３
−10−1 H H
CH３CH２CH２
H
94
【表】 【表】
＼
−15−2 CH３CH２
〃 CHCH２CH２
H
50
／
CH３
−15−3 CH３CH２C
H２CO CH３CH２CH２CH２
H
50
−15−4 CH３ CH３CH２CO
CH３CH２ CH
３CH２ 44
【表】
／
CH３
−19−3 H H
〃
66
−20−1 H CH３CO
CH３
H
89
【表】
＼
−22−2 (CH３)２CHCO H
CH H
66
／
CH３
−23−1 CH３CH２ H
CH３
H
89
−23−2 〃 H
〃
CH２(CH２)２CH２ 66
−23−3 〃 H
〃
66
【表】
＼
−25−2 〃 CH３(CH２
)２CH CH H
56
／
CH３
−25−3 CH３(CH２)２CH２ CH３(CH２)
２CH２ CH３
H
56
−26−1 H CH３
CH３
H
89
CH３
＼
−26−2 H CH３
(CH２)１７ CH
H 56
／
CH３
【表】 【表】 ／ ＼
H CO
【表】 本発明の中で抗潰瘍性の点で好ましい化合物
は、一般式〔―１〕、〔―10〕、〔―19〕で
示される化合物群である。 以下に本発明の実施例を挙げて説明する。 実施例 １ バチルス・プミルスAI―77を普通寒天斜面に
接種し、30℃に１日培養して種菌とした。500ml
の肩付振盪フラスコに下記栄養培地100mlを仕込
んだ。これに上記種菌を接種して、30℃に１日往
復振盪培養した。この培養菌体は、以下の実施例
２において種菌として使用した。 グルコース 1.0％ ポリペプトン 1.0 肉エキス 0.5 NaCl 0.5 消泡剤KF―96（信越化学社製） 0.1 実施例 ２ 容量20のジヤーフアーメンターに実施例１に
使用した培地を10仕込み、実施例１の種菌を
500ml接種して、通気量0.5V／Ｖ／ｍ、撹拌数
300rpmで30℃に１日培養した。この７を種菌
とし、同組成の培地125を仕込んだ容積200の
発酵タンクに接種し、通気性0.5V／Ｖ／ｍ、撹
拌数300rpmの条件下に30℃、18時間培養した。
これを種菌として、実施例３と同じ組成の培地
2.5m3を仕込んだ内容５m3の発酵タンク内に、種
菌の全量を接種した。通気量0.5V／Ｖ／ｍ、撹
拌数170rpmの条件下に30℃で４日培養した。培
養終了後、培養液をホローフアイバー限外過装
置を用いて液とし、XAD―２を130充填した
第１カラムを流下させた。2.6m3の10％メタノー
ル水溶液でカラムを洗浄した後、30％メタノール
水溶液2.6m3を流下してＢ成分を溶出した。脱離
液に等量の水を混和しながら連続的に、XAD―
２ 80を充填した第２カラムを流下させてＢ成
分を再びカラムに吸着させた。20％メタノール水
溶液1.6m3を用いて洗浄した後、100％メタノール
180でＢ成分を溶出した。メタノール溶出液を
濃縮すると、Ｂ成分の４水塩が650ｇ得られた。
こゝに得られた標品は、高速液体クロマトによる
純度検定では98％の純度であつた。この結晶をア
セトニトリルで洗浄して風乾した。これをさらに
五酸化燐上減圧下に60℃で６時間乾燥したもの
は、先述した理化学的性質を示した。 実施例 ３ AI―77―B30ｇをガラス製お耐圧容器に入れ、
DMF150mlで溶かす。ヨウ化メチル300mlを入れ、
50℃で一夜振盪する。DMFおよび過剰のヨウ化
メチルを減圧下留去した後、メタノール50ml一水
50mlの混合溶媒に溶かし、アンバーライトXAD
―２を２充填したカラムを流下させる。カラム
をメタノール50％―水50％で充分洗浄した後、80
％メタノール―水（10％の1N―塩酸を含む）で
溶出させ、濃縮するとAI―77―Ｆが20ｇ白色結
晶性沈澱として得られた。これをP2O5上50℃に
一夜減圧下に乾燥したものは、先述したAI―77
―Ｆの理化学的性質を示した。 実施例 ４ 充分に乾燥したAI―77―B20ミリモル8.48ｇを
ピリジン36mlに溶解し、室温下、無水酢酸40ミリ
モル4.08ｇを滴下し、３時間撹拌する。反応は薄
層クロマトグラフイー（たとえば、メルク社
TLC5714展開溶媒クロロホルム：メタノール＝
10：１）で追跡する。ピリジンを減圧下留去した
後、残渣を50mlの水で２回、計100mlの水で洗浄
する。この残燔を水―メタノール系溶媒（水50％
メタノール50％）に溶かし、アンバーライト
XAD―２を１充填したカラムを流下させる。
カラムを５の水で洗浄後、メタノール85％水15
％の溶媒系で溶出した区分を集め、濃縮して乾燥
し、目的物ａ―１，7.5ｇを得た。IR、UV、
NMRスペクトル、Massスペクトルより、目的
化合物と同定された。 以下の実施例においても同様な手法で同定され
た。 実施例 ５ 充分に乾燥したAI―77―B71ミリモル30ｇをピ
リジン500mlに溶解し、無水カプリル酸142ミリモ
ル38.2ｇを室温下に加える。室温で３時間撹拌し
た後、ピリジンを減圧下留去する。この乾固物を
メタノール400mlに溶解し、塩酸飽和メタノール
でPHを１にする。これを減圧下濃縮乾固する。さ
らに、これをメタノール200mlに溶解し、１規定
水酸化ナトリウム溶液でPHを５にする。この溶液
を−20℃にて一夜放置し、生じた沈澱を別す
る。別した沈澱を水―メタノール系溶媒（水50
％、メタノール50％）に懸濁させ、アンバーライ
トXAD―２を３充填したカラムを流下させる。
カラムを15の水で洗浄後、メタノール85％水15
％の溶媒系で流出した区分を集め、濃縮して乾燥
し、目的物ａ―１―９，29，78ｇを得た。 実施例 ６ 充分に乾燥したAI―77―B4.95ミリモル2.1ｇを
ピリジン25mlに溶解し、室温下無水ステアリン酸
６ミリモル3.3ｇを加え、室温で４時間撹拌する。
減圧下ピリジンを留去した後、水100mlを加える。
生じた沈澱を別し、充分に乾燥する。この固型
物を150mlのヘキサンで３回、計450mlで洗浄す
る。これをクロロホルム150mlに溶かし、ｐ―ト
ルエンスルホン酸330mgを加え２時間撹拌する。
これに水100mlを加え、分液し、クロロホルム層
をとりだして芒硝で乾燥し、芒硝を別し、クロ
ロホルム層を濃縮して目的物ａ―１―11，2.29
ｇを得た。 実施例 ７ 充分に乾燥したAI―77―B18.9ミリモル8.01ｇ
をピリジン30mlに溶解し、室温下無水イソ酪酸
37.8ミリモル5.97ｇを加え、室温で３時間撹拌す
る。減圧下ピリジンを留去した後、水400mlを加
える。生じた沈澱を別し、充分に乾燥する。こ
れをテトラヒドロフラン80mlに溶解し、室温下ｐ
―トルエンスルホン酸900mgを加え１時間30分撹
拌する。減圧下溶媒を除去し、その残渣をクロロ
ホルム200mlに溶かし、水300mlを加え分液する。
クロロホルム層をとり出して芒硝で乾燥し、芒硝
を別し、クロロホルム層を濃縮して目的物ａ
―１―４，8.52ｇを得た。 実施例 ８ 充分に乾燥したAI―77―B11.8ミリモル５ｇを
ピリジン20mlに溶かし、氷冷下トリクロアセチル
クロライド12ミリモル2.19ｇを加え、氷冷下で４
時間撹拌する。減圧下ピリジンを留去した後、エ
タノール２mlに溶かし、氷水100ml中これを加え
ると粉末が生成する。これを過し、30mlの水で
２回、計60mlの水で洗い、乾燥して目的物ａ―
１―12，4.54ｇを得た。 実施例 ９ 実施例４で合成したａ―１―１，２ミリモル
をピリジン４ml中に入れ、無水プロピオン酸30ミ
リモルを加える。これに塩化亜鉛20mgを加え、室
温で２時間撹拌する。この反応液を大量の氷水中
にあけ、生成した沈澱を別する。これを５mlの
水で２回、計10mlの水で洗浄する。この沈澱物を
水、テトラヒドロフラン系溶媒（水50％、テトラ
ヒドロフラン50％）に懸濁させ、アンバーライト
XAD―２を100ml充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラ
ン70％、水30％の溶媒系で流出した区分を集め、
濃縮してａ―２―10，700mgを得た。 実施例 10 実施例８で合成したａ―１―12，２ミリモル
をピリジン５ml中に入れ、トリクロロアセチルク
ロライド10ミリモルを加え、室温で１時間30分撹
拌する。この反応液を大量の氷水中にあけ、生成
した沈澱を別する。これを10mlの水で２回、計
20mlの水で洗浄する。この沈澱物を水、テトラヒ
ドロフラン系溶媒（水50％、テトラヒドロフラン
50％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―２を
100ml充填したカラムを流下させる。カラムを500
mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラン70％、水30
％の溶媒系で流出した区分を集め、濃縮してａ
―２―１，680mgを得た。 実施例 11 実施例９で合成したａ―２―10，1.5ミリモ
ルをピリジン４mlに溶解し、無水イソ酪酸20ミリ
モルを滴下し、50℃で４時間撹拌する。ピリジン
を減圧下留去した後、残渣を大量の氷水中にあけ
る。これを10mlの水で３回、計30mlの水で洗浄
し、残渣を水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を100ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン70％、水30％の溶媒系で流出した区
分を集め、濃縮してａ―３―２，712mgを得た。 実施例 12 実施例10で合成したａ―２―１，1.5ミリモ
ルをピリジン４mlに溶解し、無水酢酸20ミリモル
を滴下し、５℃で４時間撹拌する。ピリジンを減
圧下留去した後、残渣を大量の氷水中にあける。
これを10mlの水で３回、計30mlの水で洗浄し、残
渣を水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テ
トラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アンバーラ
イトXAD―２を100ml充填したカラムを流下させ
る。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロ
フラン70％、水30％の溶媒系で流出した区分を集
め、濃縮してａ―３―10，670mgを得た。 実施例 13 実施例11で合成したａ―３―２，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下にトリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリ
ウムを分解する。これを減圧下乾固した後、水、
テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒド
ロフラン60％）に懸濁させ、アンバーライト
XAD―２を70ml充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラ
ン―水系の溶媒でテトラヒドロフランの含量を10
％、20％と順次上げて行き、60％で溶出する区分
を集め、濃縮してａ―20―２，150mgを得た。 実施例 14 実施例９で合成したａ―２―10，1.5ミリモ
ルを塩化メチレン10mlに溶解し、ジアゾメタンの
エーテル溶液15ミリモル加え、室温下一夜撹拌す
る。過剰のジアゾメタンを酢酸で除去し、反応液
を減圧乾固する。残渣を水、テトラヒドロフラン
系溶媒（水40％、テトラヒドロフラン60％）に懸
濁させ、アンバーライトXAD―２を100ml充填し
たカラムを流下させる。カラムを500mlの水で洗
浄後、テトラヒドロフラン―水系の溶媒でテトラ
ヒドロフランの含量を10％、20％と順次上げて行
き、60％で溶出する区分を集め、濃縮してａ―
６―12，630mgを得た。 実施例 15 実施例14で合成したａ―６―12，１ミリモル
を塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴン雰囲気下
にトリエチルオキソニウムフルオロボレート1.5
ミリモルを加え、室温下４時間撹拌する。塩化メ
チレン減圧下留去した後、無水エタノール10mlを
入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム２ミリモル
を加え、10分間撹拌した後、塩化水素ガス飽和エ
タノールで過剰の水素化ホウ素ナトリウムを分解
する。これを減圧下乾固した後、水、テトラヒド
ロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフラン60
％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―２を60
ml充填したカラムを流下させる。カラムを300ml
の水で洗浄後、テトラヒドロフラン―水系の溶媒
でテトラヒドロフランの含量を10％、20％と順次
上げて行き、60％で溶出する区分を集め、濃縮し
てａ―23―11，85mgを得た。 実施例 16 実施例９で合成したａ―２―10，1.5ミリモ
ルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アル
ゴン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロ
ボレート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌
する。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタ
ノール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウ
ム２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水
素ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナト
リウムを分解する。これを減圧下乾固した後、
水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラ
ヒドロフラン60％）に懸濁させ、アンバーライト
XAD―２を70ml充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラ
ン―水系の溶媒で、テトラヒドロフランの含量を
10％、20％と順次上げて行き、50％で溶出する区
分を集め、濃縮してａ―19―９，325mgを得た。 実施例 17 実施例４で合成したａ―１―１，３ミリモル
をメタノール50mlに溶解し、室温下ジアゾブタン
のエーテル溶液30ミリモルを加え、一夜撹拌す
る。過剰のジアゾブタンを酢酸で除去し、反応後
を減圧乾固する。これをメタノール５mlにとか
し、メルク社TLCPSC―Fertigplatten
KIESELGEL60F―254（Art5717）20cm×20cm×
２mm24枚にスポツトし、メタノール：クロロホル
ム10：１の溶媒系で展開し、Rf0.52の部分（紫外
吸収有り、螢光なし）をかきとり、集めてメタノ
ールを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別した
後、メタノールを濃縮してａ―５―３，800mg
を得た。 実施例 18 実施例８で合成したａ―１―12，５ミリモル
をメタノール20ml、クロロホルム80mlの混合溶媒
で溶解する。室温下ジアゾエタンのエーテル溶液
30ミリモルを加え１時間撹拌する。過剰のジアゾ
エタンを酢酸で除去し、溶媒を減圧下留去して残
渣を水―メタノール系溶媒（水50％、メタノール
50％）に懸濁し、アンバーライトXAD―２を300
ml充填したカラムを流下させる。カラムを１の
水で洗浄後、メタノール90％、水10％の溶媒系で
溶出する部分を集め、濃縮して乾燥、目的物ａ
―５―13，2.72ｇを得た。 実施例 19 実施例17で合成したａ―５―３，１ミリモル
を塩化メチレン15mlに溶解し、ジアゾメタンのエ
ーテル溶液を1.2ミリモル添加し、蒸留直後のト
リフツ化ホウ素エーテル錯体（和光純薬）0.5ml
を加え、一夜撹拌する。過剰のジアゾメタンを酢
酸で除去した後、、反応液を大量の氷水中にあけ、
生じた沈澱を別する。これを５mlの水で２回、
計10mlの水で洗浄し、残渣を水―テトラヒドロフ
ラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフラン60％）
に懸濁し、アンバーライトXAD―２を70ml充填
したカラムを流下させる。カラムを500mlの水で
洗浄後、テトラヒドロフラン―水系の溶媒でテト
ラヒドロフランの含量を10％、20％と順次上げて
行き、65％で溶出する区分を集め、濃縮してａ
―７―16，632mgを得た。 実施例 20 実施例18で合成したａ―５―13，１ミリモル
を塩化メチレン15mlに溶解し、ジアゾプロパンの
エーテル溶液を1.2ミリモル添加し、蒸留直後の
トリフツ化ホウ素エーテル錯体（和光純薬）0.5
mlを加え、一夜撹拌する。過剰のジアゾプロパン
を酢酸で除去した後、反応液を大量の氷水中にあ
け、生じた沈澱を別する。これを５mlの水で２
回、計10mlの水で洗浄し、残渣を水―テトラヒド
ロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフラン60
％）に懸濁し、アンバーライトXAD―２を70ml
充填したカラムを流下させる。カラムを500mlの
水で洗浄後、テトラヒドロフラン―水系の溶媒で
テトラヒドロフランの含量を10％、20％と順次上
げて行き、65％で溶出する区分を集め、濃縮して
ａ―７―17，670mg得た。 実施例 21 実施例19で合成したａ―７―16，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで、過剰の水素化ホウ素ナト
リウムを分解する。これを減圧下乾固した後、
水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラ
ヒドロフラン60％）に懸濁させ、アンバーライト
XAD―２を70ml充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラ
ン―水系の溶媒で、テトラヒドロフランの含量を
10％、20％と順次上げて行き、70％で溶出する区
分を集め、濃縮してａ―24―16，230mg得た。 実施例 22 実施例17と同様の方法で合成したａ―５―
５，４ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン40mlに
溶解し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニ
ウムフルオロボレート６ミリモルを加え、室温下
４時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した
後、無水エタノール40mlを入れ、氷冷下水素化ホ
ウ素ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌し
た後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素
化ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾
固した後、水、メタノール系溶媒（水80％、メタ
ノール20％）に溶解させ、アンバーライトXAD2
を200ml充填したカラムを流下させる。カラムを
２の水で洗浄後、メタノール―水系の溶媒で、
メタノールの含量を10％、20％と順次上げて行
き、40％で溶出する区分を集め、濃縮してａ―
22―５，500mgを得た。 実施例 23 実施例17で合成したａ―５―３，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリ
ウムを分解する。これを減圧下乾固した後、水、
メタノール系溶媒（水80％、メタノール20％）に
懸濁させ、アンバーライトXAD―２を70ml充填
したカラムを流下させる。カラムを500mlの水で
洗浄後、メタノール―水系の溶媒で、メタノール
の含量を10％、、20％と順次上げて行き50％で溶
出する区分を集め、濃縮してａ―22―３，103
mgを得た。 実施例 24 実施例４で合成したａ―１―１，10ミリモル
をメタノール200mlに溶解し、室温下フエニルジ
アゾメタン20ミリモルを加え、３時間撹拌する。
過剰のフエニルジアゾメタンを酢酸で酢酸ベンジ
ルにする。反応液を減圧乾固し、残渣を20mlのエ
ーテルで洗浄する。この残渣を充分に乾燥し、こ
れを塩化メチレン200mlに溶解する。これにジア
ゾメタンのエーテル溶液50ミリモルを加え、さら
にトリフツ化ホウ素エーテル錯体（和光純薬）５
mlを加え、室温下一夜撹拌する。過剰のジアゾメ
タンを酢酸で除去した後、減圧下溶媒を除去す
る。残渣を大量の氷水中に入れ、生じた沈澱を
別する。これを50mlの水で２回、計100mlの水で
洗浄し、残渣を充分に乾燥する。これをメタノー
ル30mlに溶かし、Pd―Ｃ（10％）を500mg加え、
１気圧、室温下水素ガスと振盪する。20分で反応
を終了し、Pd―Ｃを去した後、溶媒を減圧下
留去する。残渣を水―メタノール系溶媒（水40
％、メタノール60％）に懸濁し、アンバーライト
XAD―２を300ml充填したカラムを流下させる。
メタノール―水系の溶媒でメタノールの含量を10
％、20％と順次上げて行き、50％で溶出する区分
を集め、濃縮してａ―８―９，820mgを得た。 実施例 25 実施例24で合成したａ―８―９，１ミリモル
をピリジン５mlに溶解し、無水イソ酪酸20ミリモ
ルを滴下し、50℃で４時間撹拌する。ピリジンを
減圧下留去した後、残渣を大量の氷水中にあけ
る。これを10mlの水で３回、計30mlの水で洗浄
し、残渣を水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を100ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン70％、水30％の溶媒系で流出した区
分を集め、濃縮してａ―９―９，420mgを得た。 実施例 26 実施例25で合成したａ―９―９，0.7ミリモ
ルを蒸留直後の塩化メチレン７mlに溶解し、アル
ゴン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロ
ボレート１ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール７mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
1.4ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水
素ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナト
リウムを分解する。これを減圧下乾固した後、
水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラ
ヒドロフラン60％）に懸濁させ、アンバーライト
XAD―２を50ml充填したカラムを流下させる。
カラムを400mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラ
ン―水系の溶媒でテトラヒドロフランの含量を10
％、20％ち順次上げて行き、60％で溶出する区分
を集め、濃縮してａ―26―９，120mg得た。 実施例 27 実施例24で合成したａ―８―９，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素ホウ素ナトリウム２
ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素ガ
ス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリウ
ムを分解する。これを減圧下乾固した後、水、テ
トラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロ
フラン60％）に懸濁させ、アンバーライトXAD
―２を70ml充填したカラムを流下させる。カラム
を500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラン―水
系の溶媒でテトラヒドロフランの含量を10％、20
％と順次上げて行き、40％で溶出する区分を集
め、ａ―25―９，180mgを得た。 実施例 28 実施例４で合成したａ―１―１，10ミリモル
をピリジン30ml中に入れ、ベンジルオキシカルボ
ニルクロライド20ミリモルを加える。室温で１時
間30分撹拌する。この反応液を大量の氷水中にあ
け、生成した沈澱を別する。これを50mlの水で
２回、計100mlの水で洗浄する。さらにエーテル
50mlで洗浄する。充分に乾燥した後、、ピリジン
40mlに溶解し、無水プロピオン酸100ミリモルを
滴下し、50℃で４時間撹拌する。ピリジンを減圧
下留去した後、残渣を大量の氷水中に入れる。こ
れを100mlの水で３回、計300mlの水で洗浄し、充
分乾燥する。これをメタノール30mlに溶かし、
Pd―Ｃ（10％）を550mg加え、１気圧、室温下水
素ガスと振盪する。１時間で反応を終了し、Pd
―Ｃを去した後、溶媒を減圧下留去する。残渣
を水―テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テト
ラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アンバーライ
トXAD―２を300ml充填したカラムを流下させ
る。テトラヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒ
ドロフランの含量を10％、20％と順次上げて行
き、40％で溶出する区分を集め、濃縮してａ―
４―１，2.3ｇを得た。 実施例 29 実施例８で合成したａ―１―12，５ミリモル
をピリジン15ml中に入れ、ベンジルオキシカルボ
ニルクロライド10ミリモルを加える。室温で２時
間撹拌する。この反応液を大量の氷水中に入れ、
生成した沈澱を別する。これを30mlの水で２
回、計60mlの水で洗浄する。さらにエーテル30ml
で洗浄する。充分に乾燥した後、ピリジン25mlに
溶解し、トリクロロアセチルクロライド50ミリモ
ルを滴下し、50℃で４時間撹拌する。ピリジンを
減圧下留去した後、残渣を大量の氷水中に入れ
る。これを50mlの水で３回、計150mlの水で洗浄
し、充分乾燥する。これをメタノール15mlに溶か
し、Pd―Ｃ（10％）を300mg加え、１気圧、室温
下水素ガスと振盪する。１時間で反応を終了し、
Pd―Ｃを去した後、溶媒を減圧下留去する。
残渣をクロロホルム50mlに溶かし、ジアゾメタン
のエーテル溶液20ミリモルを加え、さらにトリフ
ツ化ホウ素エーテル錯体（和光純薬）２mlを加
え、室温下一夜撹拌する。過剰のジアゾメタンを
酢酸で除去した後、減圧下溶媒を除去する。残渣
をメタノール10ml、水20mlの混合溶媒に懸濁さ
せ、１規定水酸化ナトリウム水溶液をPHが12にな
るまで加える。室温下撹拌するとPHが下るので、
さらにPH12になるまで上記のアルカリを加える。
PHが12から下らなくなつたならば１規定塩酸でPH
７に調節し、これをアンバーライトXAD―２を
150ml充填したカラムを流下させる。500mlの水で
洗浄した後、メタノール―水系の溶媒でメタノー
ルの含量を10％、20％と順次上げて行き、50％で
溶出する区分を集め濃縮する。これを塩化水素飽
和メタノール10mlに溶かし、氷冷下30分撹拌す
る。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥してａ―
16―１，920mg得た。 実施例 30 実施例４で合成したａ―１―１，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリ
ウムを分解する。これを減圧下乾固した後、水、
メタノール系溶媒に溶解し、アンバーライト
XAD―２を70mlの充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、メタノール―水系
の溶媒で（水には１規定塩酸10％を含む）メタノ
ールの含量を10％、20％と順次上げて行き、45％
で溶出する区分を集め、濃縮してａ―18―１，
220mgを得た。 実施例 31 実施例４と同様にして合成したａ―１―２，
１ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解
し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニウム
フルオロボレート1.5ミリモルを加え、室温下４
時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した後、
無水エタノール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素
ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌した
後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素化
ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾固
した後、水、メタノール系溶媒に溶解し、アンバ
ーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流下
させる。カラムを500mlの水で洗浄後、メタノー
ル―水系の溶媒で（水には１規定塩酸10％を含
む）メタノールの含量を10％、20％と順次上げて
行き、50％で溶出する区分を集め、濃縮してａ
―18―２，210mgを得た。 実施例 32 実施例４と同様にして合成したａ―１―６，
１ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解
し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニウム
フルオロボレート1.5ミリモルを加え、室温下４
時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した後、
無水エタノール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素
ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌した
後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素化
ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾固
した後、水、メタノール系溶媒に溶解し、アンバ
ーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流下
させる。カラムを500mlの水で洗浄後、メタノー
ル―水系の溶媒で（水には１規定塩酸10％を含
む）メタノールの含量を10％、20％と順次上げて
行き、55％で溶出する区分を集め、濃縮してａ
―18―６，215mgを得た。 実施例 33 実施例５で合成したａ―１―９，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリ
ウムを分解する。これを減圧下乾固した後、水、
メタノール系溶媒に溶解し、アンバーライト
XAD―２を70ml充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、メタノール―水系
の溶媒で（水には１規定塩酸10％を含む）メタノ
ールの含量を10％、20％と順次上げて行き、70％
で溶出する区分を集め、濃縮してａ―18―９，
250mgを得た。 実施例 34 実施例６で合成したａ―１―11，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素化ホウ
素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾固した
後、水、メタノール系溶媒に溶解し、アンバーラ
イトXAD―２を70ml充填したカラムを流下させ
る。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロ
フラン―水系の溶媒で（水には１規定塩酸10％を
含む）テトラヒドロフランの含量を10％、20％と
順次上げて行き、50％で溶出する区分を集め、濃
縮してａ―18―11，230mgを得た。 実施例 35 実施例20で合成したａ―７―17，１ミリモル
をメタノール２ml、水４mlの混合溶媒に懸濁さ
せ、１規定水酸化ナトリウム水溶液をPHが12にな
るまで加える。室温下撹拌するとPHが下るので、
さらにPH12になるまで上記のアルカリを加える。
PHが12から下らなくなつたならば１規定塩酸でPH
７に調節し、これをアンバーライトXAD―２を
30ml充填したカラムを流下させる。100mlの水で
洗浄した後、メタノール―水系の溶媒でメタノー
ルの含量を10％、20％と順次上げて行き、70％で
溶出する区分を集め濃縮する。これを塩化水素飽
和メタノール２mlに溶かし、氷冷下30分撹拌す
る。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥してａ―
15―８，370mg得た。 実施例 36 実施例18で合成したａ―５―13，５ミリモル
をメタノール10ml、水20mlの混合溶媒に懸濁さ
せ、１規定水酸化ナトリウム水溶液をPHが12にな
るまで加える。室温下撹拌するとPHが下るので、
さらにPH12になるまで上記のアルカリを加える。
PHが12から下らなくなつたならば１規定塩酸でPH
７に調節し、これをアンバーライトXAD―２を
150ml充填したカラムを流下させる。500mlの水で
洗浄した後、メタノール―水系の溶媒でメタノー
ルの含量を10％、20％と順次上げて行き、60％で
溶出する区分を集め濃縮した。これを塩化水素飽
和メタノール10mlに溶かし、氷冷下30分撹拌す
る。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥してａ―
13―２，1.89ｇを得た。 実施例 37 実施例14と同様にして合成したａ―６―13，
１ミリモルを、実施例39で示した方法と同様に反
応させ、脱トリクロロアセチル化を行なう。精製
も実施例39と同様に行ない、メタノールの含量70
％で溶出する区分を集め濃縮する。これを塩化水
素飽和メタノール２mlに溶かし、氷冷下30分撹拌
する。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥して、
ａ―14―９，320mgを得た。 実施例 38 実施例８で合成したａ―１―12，５ミリモル
をメタノール100mlに溶解し、室温下フエニルジ
アゾメタン10ミリモルを加え、３時間撹拌する。
過剰のフエニルジアゾメタンを酢酸で酢酸ベンジ
ルにする。反応液を減圧乾固し、残渣を15mlのエ
ーテルで洗浄する。この残渣を充分に乾燥し、こ
れを塩化メチレン100mlに溶解する。これにジア
ゾメタンのエーテル溶液25ミリモルを加え、さら
にトリフツ化ホウ素エーテル錯体（和光純薬）
2.5mlを加え、室温下一夜撹拌する。過剰のジア
ゾメタンを酢酸で除去した後、減圧下溶媒を除去
する。残渣を大量の氷水中に入れ、生じた沈澱を
別する。これを25mlの水で２回、計50mlの水で
洗浄し、沈澱を充分に乾燥する。これをメタノー
ル15mlに溶かし、Pd―Ｃ（10％）を250mg加え、
１気圧、室温下水素ガスと振盪する。20分で反応
を終了し、Pd―Ｃを去した後、溶媒を減圧下
留去する。残渣を充分乾燥した後、ピリジン15ml
に溶かし、無水プロピオン酸100ミリモルを滴下
し、50℃で４時間撹拌する。ピリジンを減圧下留
去した後、残渣を大量の氷水中に入れる。これを
150mlの水で３回、計450mlの水で洗浄する。これ
をメタノール10ml、、水20mlの混合溶媒に懸濁さ
せ、１規定水酸化ナトリウム水溶液をPHが12にな
るまで加える。室温下撹拌するとPHが下るので、
さらにPH12になるまで上記のアルカリを加える。
PHが12から下らなくなつたならば１規定塩酸でPH
７に調節し、これをアンバーライトXAD―２を
150ml充填したカラムを流下させる。500mlの水で
洗浄した後、メタノール―水系の溶媒でメタノー
ルの含量を10％、20％と順次上げて行き、70％で
溶出する区分を集め濃縮する。これを塩化水素飽
和メタノール10mlに溶かし、氷冷下30分撹拌す
る。溶媒を減圧下留去し、充分い乾燥してａ―
17―５，830mgを得た。 実施例 39 実施例12で合成したａ―２―１，１ミリモル
をメタノール２ml、水４mlの混合溶媒に懸濁さ
せ、１規定水酸化ナトリウム水溶液をPHが12にな
るまで加える。室温下撹拌するとPHが下るので、
さらにPH12になるまで上記のアルカリを加える。
PHが12から下らなくなつたならば１規定塩酸でPH
７に調節し、これをアンバーライトXAD―２を
150ml充填したカラムを流下させる。500mlの水で
洗浄した後、メタノール―水系の溶媒でメタノー
ルの含量を10％、20％と順次上げて行き、50％で
溶出する区分を集め濃縮する。これを塩化水素飽
和メタノール２mlに溶かし、氷令冷下30分撹拌す
る。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥してａ―
12―１，400mgを得た。 実施例 40 充分に乾燥したAI―77―B5ミリモルをピリジ
ン10mlに溶解し、ベンジルオキシカルボニルクロ
ライド10ミリモルを加え、室温で３時間撹拌した
後、ベンジルオキシカルボニルクロライド20ミリ
モルを加え、さらに室温で１時間30分撹拌する。
この反応液を大量の氷水中に入れ、生成した沈澱
を別する。これを50mlの水で２回、計100mlの
水で洗浄する。さらにエーテル50mlで洗浄する。
充分に乾燥した後、ピリジン40mlに溶解し、トリ
クロロアセチルクロライド50ミリモルを加え、50
℃で４時間撹拌する。ピリジンを減圧下留去した
後、残渣を大量の氷水中に入れる。これを50mlの
水で３回、計150mlの水で洗浄し、充分乾燥する。
これをメタノール15mlに溶かし、Pd―Ｃ（10％）
を280mg加え、１気圧、室温下水素ガスと振盪す
る。２時間で反応を終了し、Pd―Ｃを去した
後、溶媒を減圧下留去する。残渣を水―テトラヒ
ドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフラン
60％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―２を
150ml充填したカラムを流下させる。 テトラヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒド
ロフランの含量を10％、20％と順次上げて行き、
30％で溶出する区分を集め、濃縮してａ―12―
９，1.02ｇを得た。 実施例 41 充分に乾燥したAI―77―B5ミリモルをピリジ
ン10mlに溶かし、ベンジルオキシカルボニルクロ
ライド10ミリモルを加え、室温下３時間撹拌す
る。ピリジンを減圧下留去した後、残渣を10mlの
水で２回、計20mlの水で洗浄する。さらにエーテ
ル30mlで洗浄する。充分に乾燥した後、メタノー
ル100mlに溶解し、室温下フエニルジアゾメタン
10ミリモルを加え、３時間撹拌する。過剰のフエ
ニルジアゾメタンを酢酸で酢残ベンジルにする。
反応液を減圧乾固し、残渣を10mlのエーテルで洗
浄する。この残渣を充分乾燥し、塩化メチレン
100mlに溶解する。これにジアゾエタンのエーテ
ル溶液10ミリモルを加え、さらにトリフツ化ホウ
素エーテル錯体（和光純薬）2.5mlを加え、室温
下一夜撹拌する。過剰のジアゾエタンを酢酸で除
去した後、減圧下溶媒を除去する。残渣を大量の
氷水中に入れ、生じた沈澱を別する。これを25
mlの水で２回、計50mlの水で洗浄し、残渣を充分
に乾燥する。 これをメタノール15mlに溶かし、Pd―Ｃ（10
％）を280mg加え、１気圧、室温下水素ガスと振
盪する。２時間で反応を終了し、Pd―Ｃを去
した後、溶媒を減圧下留去する。残渣を水―テト
ラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフ
ラン60％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―
２を150ml充填したカラムを流下させる。テトラ
ヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒドロフラン
の含量を10％、20％と順次上げて行き、30％で溶
出する区分を集め、濃縮してａ―16―７，1.21
ｇを得た。 実施例 42 実施例41で合成したａ―16―７，１ミリモル
をピリジン４ml中に入れ、ベンジルオキシカボニ
ルクロライド２ミリモルを加え、室温下３時間撹
拌する。ピリジンを減圧下留去した後、残渣を２
mlの水で２回、計４mlの水で洗浄する。さらにエ
ーテル６mlで洗浄する。充分に乾燥した後、ピリ
ジン４ml中に入れ、トリクロロアセチルクロライ
ド10ミリモルを加え、50℃で４時間撹拌する。ピ
リジンを減圧下留去した後、残渣を大量の氷水中
に入れる。これを10mlの水で３回、計30mlの水で
洗浄し、充分乾燥する。これをメタノール３mlに
溶かし、Pd―Ｃ（10％）を50mg加え、１気圧、室
温下水素ガスと振盪する。１時間で反応を終了
し、Pd―Ｃを去した後、溶媒を減圧下留去す
る。残渣を水―テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を30ml充填したカラムを流
下させる。テトラヒドロフラン―水系の溶媒でテ
トラヒドロフランの含量を10％、20％と順次上げ
て行き、40％で溶出する区分を集め、濃縮して
ａ―17―６，210mgを得た。 実施例 43 充分に乾燥したAI―77―B1ミリモルをピリジ
ン４mlに溶かし、ベンジルオキシカルボニルクロ
ライド２ミリモルを加え、室温下３時間撹拌す
る。ピリジンを減圧下留去した後、残渣を２mlの
水で２回、計４mlの水で洗浄する。さらにエーテ
ル６mlで洗浄する。充分に乾燥した後、ピリジン
４ml中に入れ、無水酢酸15ミリモルを加える。こ
れに塩化亜鉛10mgを加え、室温で２時間撹拌す
る。この反応液を大量の氷水中にあけ、生成した
沈澱を別する。これを２mlの水で２回、計４ml
の水で洗浄する。 これをメタノール３mlに溶かし、Pd―Ｃ（10
％）を50mg加え、１気圧、室温下水素ガスと振盪
する。１時間で反応を終了し、Pd―Ｃを去し
た後、溶媒を減圧下留去する。残渣を水―テトラ
ヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフラ
ン60％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―２
を30ml充填したカラムを流下させる。テトラヒド
ロフラン―水素の溶媒でテトラヒドロフランの含
量を10％、20％と順次上げて行き、30％で溶出す
る区分を集め、濃縮してａ―10―１，230mgを
得た。 実施例 44 充分に乾燥したAI―77―B1ミリモルをピリジ
ン４mlに溶かし、ベンジルオキシカルボニルクロ
ライド２ミリモルを加え、室温下３時間撹拌す
る。ピリジンを減圧下留去した後、残渣を２mlの
水で２回、計４mlの水で洗浄する。さらにエーテ
ル６mlで洗浄する。充分に乾燥した後、ピリジン
４ml中に入れ、無水酢酸15ミリモルを加える。こ
れに塩化亜鉛10mgを加え、室温で２時間撹拌す
る。この反応液を大量の氷水中にあけ、生成した
沈澱を別する。これを２mlの水で２回、計４ml
の水で洗浄する。充分に乾燥した後、ピリジン４
ml中に入れ、無水酪酸10ミリモルを加え、50℃で
４時間撹拌する。ピリジンを減圧下留去した後、
残渣を大量の氷水中に入れる。これを10mlの水で
３回、計30mlの水で洗浄し、充分乾燥する。 これをメタノール３mlに溶かし、Pd―Ｃ（10
％）を50mg加え、１気圧、室温下水素ガスと振盪
する。１時間で反応を終了し、Pd―Ｃを去し
た後、溶媒を減圧下留去する残渣を水―テトラヒ
ドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフラン
60％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―２を
30ml充填したカラムを流下させる。テトラヒドロ
フラン―水系の溶媒でテトラヒドロフランの含量
を10％、20％と順次上げて行き、40％で溶出する
区分を集め、、濃縮してａ―11―６，270mgを得
た。 実施例 45 充分に乾燥したAI―77―B1ミリモルをピリジ
ン４mlに溶かし、ベンジルオキシカルボニルクロ
ライド２ミリモルを加え、室温下３時間撹拌す
る。ピリジンを減圧下留去した後、残渣を２mlの
水で２回、計４mlの水で洗浄する。さらにエーテ
ル６mlで洗浄する。充分に乾燥した後、ピリジン
４ml中に入れ、無水酢酸15ミリモルを加える。こ
れに塩化亜鉛10mgを加え、室温で２時間撹拌す
る。この反応液を大量の氷水中にあけ、生成した
沈澱を別する。これを２mlの水で２回、計４ml
の水で洗浄する。充分乾燥した後、メタノール４
ml、クロロホルム16mlの混合溶液で溶解する。室
温下ジアゾエタンのエーテル溶液６ミリモルを加
え、１時間撹拌する。過剰のジアゾエタンを酢酸
で除去し、溶媒を減圧下留去する。 これをエタノール３mlに溶かし、Pd―Ｃ（10
％）を50mg加え、１気圧、室温下水素ガスと振盪
する。１時間で反応を終了し、Pd―Ｃを去し
た後、溶媒を減圧下留去する。残渣を水―テトラ
ヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフラ
ン60％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―２
を30ml充填したカラムを流下させる。テトラヒド
ロフラン―水系の溶媒で、テトラヒドロフランの
含量を10％、20％と順次上げて行き、50％で溶出
する区分を集め、濃縮してａ―14―１，273mg
を得た。 実施例 46 50mlのガラスの耐圧容器に充分に乾燥したAI
―77―B2ミリモル848mgを入れ、Ｎ，Ｎ―ジメチ
ルホルムアミド10mlに溶かす。ヨウ化メチル10ミ
リモルを加え、密閉して室温下１時間はげしく振
盪する。さらにヨウ化メチル10ミリモルを加え、
上と同様の反応を行なう。再度ヨウ化メチル10ミ
リモルを加え、一昼夜はげしく振盪した後、溶媒
のＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミドおよび末反応の
ヨウ化メチルを減圧下留去する。残渣をメタノー
ル２mlにとかし、メルク社TLCPSC―
Fertigplatten KIESELGEL 60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm 20枚にスポツト
し、メタノール：クロロホルム：10の溶媒系で展
開し、Rf値0.38の部分（紫外吸収有り、ニンヒド
リン発色赤紫）をかきとり、集めてメタノール
200mlを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別し
た後、メタノールを濃縮して72mgのａ―27―１
を得た。 実施例 47 充分に乾燥したAI―77―B1.2ミリモルをＮ，
Ｎ―ジメチルホルムアミド５mlに溶かし、ヨウ化
エチル３ミリモルを加え、室温下２時間撹拌す
る。さらに１時間間隔でヨウ化エチルを３ミリモ
ルずつ４回加える。反応液をそのまゝ、減圧下溶
媒および過剰のヨウ化エチルを留去する。残渣を
メタノール２mlに溶かし、メルク社TLCPSC―
Ferti―gplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm10枚にスポツトし、
メタノール：クロロホルム：10の溶媒系で展開
し、Rf値0.40の部分（紫外吸収あり、ニンヒドリ
ン発色赤紫）をかきとり、集めてメタノール100
mlを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別した
後、メタノールを濃縮してａ―18―１，70mgを
得た。 実施例 48 充分に乾燥したAI―77―F2ミリモル778mgをピ
リジン４mlに溶解し、無水酢酸40ミリモルを加え
る。これに塩化亜鉛20mgを加え、室温で２時間撹
拌する。この反応液を大量の氷水中にあけ、生成
した沈澱を別する。これを５mlの水で２回、計
10mlの水で洗浄する。メタノール２mlに溶かし、
メルク社TLCPSC―Fertigplatten
KIESELGEL60F―254（Art.5717）20cm×20cm×
２mm15枚にスポツトし、クロロホルム：メタノー
ル30：１の溶媒系で展開し、Rf0.70の部分（紫外
吸収あり）をかきとり、集めてメタノール100ml
を入れ20分撹拌する。シリカゲルを別した後、
メタノールを濃縮してａ―１―１，520mgを得
た。 実施例 49 実施例48において用いた無水酢酸のかわりにト
リクロロアセチルクロライドを用いて、実施例52
と同様にして合成したａ―１―12 ２ミリモル
をピリジン４mlに溶かし、無水酢酸26ミリモルを
加え、50℃で３時間撹拌する。ピリジンを減圧留
去した後、残渣を珍量の氷水中にあける。これを
10mlの水で３回、計30mlの水で洗浄した後、メタ
ノール４ml、水８mlの混合溶媒に懸濁させ、１規
定水酸化ナトリウム溶液をPHが12になるまで加え
る。室温下撹拌するとPHが下るので、さらにPH12
になるまで上記のアルカリを加える。PHが12から
下らなくなつたならば１規定塩酸でPH７に調節
し、これをアンバーライトXAD―２を60ml充填
したカラムを流下させる。200mlの水で洗浄した
後、テトラヒドロフラン―水系の溶媒で、テトラ
ヒドロフランの含量50％で溶出する区分を集める
濃縮する。これを塩化水素飽和メタノール４mlに
溶かし、氷冷下30分撹拌する。溶媒を減圧下留去
し、充分に乾燥してａ―３―１，530mgを得た。 実施例 50 実施例48で合成したａ―１―１，１ミリモル
をピリジン２mlに溶解し、無水プロピオン酸13ミ
リモルを加え、50℃で３時間撹拌する。ピリジン
を減圧下留去した後、メタノール１mlに溶かし、
メルク社TLCPSC―Fertigplatten
KIESELGEL60F―254（Art.5717）20cm×20cm×
２mm10枚にスポツトし、クロロホルム：メタノー
ル50：１の溶媒系で展開し、Rf0.60の部分（紫外
吸収あり）をかきとり、集めてメタノール50mlを
入れ20分撹拌する。シリカゲルを別した後、メ
タノールを濃縮してａ―２―２，305mgを得た。 実施例 51 実施例48で合成したａ―１―１，１ミリモル
をクロロホルム５mlに溶かし、室温下ジアゾメタ
ンのエーテル溶液10ミリモルを加え、一夜撹拌す
る。過剰のジアゾメタンを酢酸で除去し、反応液
を減圧乾固する。メタノール１mlに溶かし、メル
ク社TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F
―254（Art.5717）20cm×20cm×２mm10枚にスポツ
トし、クロロホルム：メタノール50：１の溶媒系
で展開し、Rf0.60の部分（紫外吸収あり）をかき
とり、集めてメタノール50mlを入れ20分撹拌す
る。シリカゲルを別した後、メタノールを濃縮
してａ―５―１，270mgを得た。 実施例 52 充分に乾燥したAI―77―F2ミリモル778mgをク
ロロホルム10mlに溶かし、室温下ジアゾエタンの
エーテル溶液15ミリモルを加え１時間撹拌する。
過剰のジアゾエタンを酢酸で除去し、反応液を減
圧乾固する。メタノール２mlに溶かし、メルク社
TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm15枚にスポツトし、
クロロホルム：メタノール40：１の溶媒系で展開
し、Rf0.70の部分（紫外吸収あり）をかきとり、
集めてメタノール100mlを入れ20分攪拌する。シ
リカゲルを別した後、メタノールを濃縮して
ａ―４―２，680mgを得た。 実施例 53 実施例52で合成したａ―４―２，１ミリモル
を塩化メチレン10mlに溶かし、これにジアゾブタ
ンのエーテル溶液５ミリモルを加え、さらにトリ
フツ化ホウ素エーテル錯体（和光純薬）0.5mlを
加え、室温一夜撹拌する。過剰のジアゾブタを酢
酸で除去した後、反応液を減圧乾固する。メタノ
ール１mlに溶かし、メルク社TLCPSC―Fertig
―Platten KIESELGEL60F―254（Art.5717）20
cm×20cm×２mm10枚にスポツトし、クロロホル
ム：メタノール50：１の溶媒系で展開し、Rf0.70
の部分（紫外吸収あり）をかきとり、集めてメタ
ノール50mlを入れ20分撹拌する。シリカゲルを
別した後、メタノールを濃縮してａ―６―５，
290mgを得た。 実施例 54 実施例53と同様にして合成したａ―６―４，
２ミリモルをメタノール10mlに溶かし、Pd―Ｃ
（10％）を100mg加え、１気圧、室温下水素ガスと
振盪する。20分で反応を終了し、Pd―Ｃを去
した後、溶媒を減圧下留去するメタノール２mlに
溶かし、メルク社TLCPSC―Fertigplatten
KIESELGEL60F―254（Art.5717）20cm×20cm×
２mm15枚にスポツトし、クロロホルム：メタノー
ル30：１の溶媒系で展開し、Rf0.65の部分（紫外
吸収あり）をかきとり、集めてメタノール100ml
を入れ20分撹拌する。シリカゲルを別した後、
メタノールを濃縮してａ―７―８，520mgを得
た。 実施例 55 実施例54で合成したａ―７―８，１ミリモル
をピリジン４mlに溶かし、無水酢酸10ミリモルを
加え、50℃で３時間撹拌する。ピリジンを減圧下
留去した後、メタノール２mlに溶かし、メルク社
TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm10枚にスポツトし、
クロロホルム：メタノール50：１の溶媒系で展開
し、Rf0.70の部分（紫外吸収あり）をかきとり、
集めてメタノール50mlを入れ20分撹拌する。シリ
カゲルを別した後、メタノールを濃縮してａ
―８―５，240mgを得た。 実施例 56 実施例30で合成したａ―18―１，２ミリモル
をメタノール２ml、水５mlの混合溶媒に溶かし、
1N―水酸化ナトリウム水溶液をPH10になるまで
加える。撹拌するにつれPHが下るので、さらにPH
10になるまで加える。PHが10から下らなくなつた
ならば1N―HClでPH７に調節し、この液をアン
バーライトXAD―２樹脂にて精製する。水で充
分洗浄した後、メタノール50％、水50％系溶媒で
溶離させる（γ―ラクトンの開環）。これを濃縮
してａ―18―１，820mgを得た。 上記物を再びメタノール２ml、水５mlの混合溶
媒にとかし、1N―水酸化ナトリウム水溶液をPH
12になるまで加える。撹拌するにつれPHが下るの
で、さらにPH12になるまで加える。PHが12から下
らなくなつたならば1N―HClでPH７に調節し、
この液を上と同様XAD―２で精製溶離し、メタ
ノール30％、水70％系溶媒で溶出させて濃縮し、
ｃ―18―１，810mgを得た。 ｂ―18―１，１ミリモルをメタノール５mlに
溶かし、塩化水素飽和メタノール液を１ml加え、
氷冷下１時間撹拌した後、溶媒を留去し、ａ―
18―１，400mgを得た。またｃ―18―１，１ミ
リモルを用い、同様の操作をしてａ―18―１，
380mgを得た。 実施例 57 実施例28で合成したａ―４―１，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリ
ウムを分解する。これを減圧下乾固した後、水、
テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒド
ロフラン60％）に懸濁させ、アンバーライト
XAD―２を70ml充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラ
ン―水系の溶媒でテトラヒドロフランの含量を10
％、20％と順次上げて行き、60％で溶出する区分
を集め、濃縮してａ―21―９，160mgを得た。 実施例 58 50mlのガラスの耐圧容器に、充分に乾燥した実
施例43で合成したａ―10―１ ２ミリモルを入
れ、Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド10mlに溶か
す。ヨウ化メチル10ミリモルを加え、密閉して室
温下１時間はげしく振盪する。さらにヨウ化メチ
ル10ミリモルを加え、上と同様の反応を行なう。
再度ヨウ化メチル10ミリモルを加え、一昼夜はげ
しく振盪した後、溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルム
アミドおよび未反応のヨウ化メチルを減圧下留去
する。残渣をメタノール２mlにとかし、メルク社
TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、
メタノール：クロロホルム１：10の溶媒系で展開
し、Rf値0.40の部分（紫外吸収有り、ニンヒドリ
ン発色赤紫）をかきとり、集めてメタノール200
mlを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別した
後、メタノールを濃縮して80mgのａ―28―１を
得た。 実施例 59 50mlのガラスの耐圧容器に、実施例44と同様に
して合成したａ―11―１，２ミリモルを入れ、
Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド10mlに溶かす。ヨ
ウ化メチル10ミリモルを加え、密閉して室温下１
時間はげしく振盪する。さらにヨウ化メチル10ミ
リモルを加え、上と同様の反応を行なう。再度ヨ
ウ化メチル10ミリモルを加え、一昼夜はげしく振
盪した後、溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミド
および未反応のヨウ化メチルを減圧下留去する。
残渣をメタノール２mlにとかし、メルク社
TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、
メタノール：クロロホルム１：20の溶媒系で展開
し、Rf値0.50の部分（紫外吸収有り、ニンヒドリ
ン発色赤紫）をかきとり、集めてメタノール200
mlを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別した
後、メタノールを濃縮して92mgのａ―29―１を
得た。 実施例 60 50mlのガラスの耐圧容器に、実施例39で合成し
たａ―12―１，２ミリモルを入れ、Ｎ，Ｎ―ジ
メチルホルムアミド10mlに溶かす。ヨウ化メチル
10ミリモルを加え、密閉して室温下１時間はげし
く振盪する。さらにヨウ化メチル10ミリモルを加
え、上と同様の反応を行なう。再度ヨウ化メチル
10ミリモルを加え、一昼夜はげしく振盪した後、
溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミドおよび未反
応のヨウ化メチルを減圧下留去する。残渣をメタ
ノール２mlにとかし、メルク社TLCPSC―
Fertigplatten KIESELGEL60F―254（Art.5717）
20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、メタノー
ル：クロロホルム１：10の溶媒系で展開し、Rf
値0.38の部分（紫外吸収有り、ニンドリン発色赤
紫）をかきとり、集めてメタノール200mlを入れ
30分撹拌する。シリカゲルを別した後、メタノ
ールを濃縮して76mgのａ―30―１を得た。 実施例 61 50mlのガラスの耐圧容器に、実施例36で合成し
たａ―13―２，２ミリモルを入れ、Ｎ，Ｎ―ジ
メチルホルムアミド10mlに溶かす。ヨウ化メチル
10ミリモルを加え、密閉して室温下１時間はげし
く振盪する。さらにヨウ化メチル10ミリモルを加
え、上と同様の反応を行なう。再度ヨウ化メチル
10ミリモルを加え、一昼夜はげしく振盪した後、
溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミドおよび未反
応のヨウ化メチルを減圧下留去する。残渣をメタ
ノール２mlにとかし、メルク社TLCPSC―
Fertigplatten KIESELGEL60F―254（Art.5717）
20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、メタノー
ル：クロロホルム１：10の溶媒系で展開し、Rf
値0.52の部分（紫外吸収有り、ニンヒドリン発色
赤紫）をかきとり、集めてメタノール200mlを入
れ30分撹拌する。リカゲルを別した後、メタノ
ールを濃縮して85mgのａ―31―２を得た。 実施例 62 50mlのガラスの耐圧容器に、実施例37と同様に
して合成したａ―14―１，２ミリモルを入れ、
Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド10mlに溶かす。ヨ
ウ化メチル10ミリモルを加え、密閉して室温下１
時間はげしく振盪する。さらにヨウ化メチル10ミ
リモルを加え、上と同様の反応を行なう。再度ヨ
ウ化メチル10ミリモルを加え、一昼夜はげしく振
盪した後、溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミド
および未反応のヨウ化メチルを減圧下留去する。
残渣をメタノール２mlにとかし、メルク社
TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、
メタノール：クロロホルム１：30の溶媒系で展開
し、Rf値の0.60の部分（紫外吸収有り、ニンヒド
リン発色赤紫）をかきとり、集めてメタノール
200mlを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別し
た後、メタノールを濃縮して98mgのａ―32―１
を得た。 実施例 63 50mlのガラスの耐圧容器に、実施例35と同様に
して合成したａ―15―１，２ミリモルを入れ、
Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド10mlに溶かす。ヨ
ウ化メチル10ミリモルを加え、密閉して室温下１
時間はげしく振盪する。さらにヨウ化メチル10ミ
リモルを加え、上と同様の反応を行なう。再度ヨ
ウ化メチル10ミリモルを加え、一昼夜はげしく振
盪した後、溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミド
および未反応のヨウ化メチルを減圧下留去する。
残渣をメタノール２mlにとかし、メタノール社
TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、
メタノール：クロロホルム１：30の溶媒系で展開
し、Rf値0.50の部分（紫外吸収有り、ニンヒドリ
ン発色赤紫）をかきとり、集めてメタノール200
mlを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別した
後、メタノールを濃縮して95mgのａ―33―１を
得た。 実施例 64 50mlのガラスの耐圧容器に、実施例41と同様に
して合成したａ―16―１，２ミリモルを入れ、
Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド10mlに溶かす。ヨ
ウ化メチル10ミリモルを加え、密閉して室温下１
時間はげしく振盪する。さらにヨウ化メチル10ミ
リモルを加え、上と同様の反応を行なう。 再度ヨウ化メチル10ミリモルを加え、一昼夜は
げしく振盪した後、溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホル
ムアミドおよび未反応のヨウ化メチルを減圧下留
去する。残渣をメタノール２mlにとかし、メルク
社TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F―
254（Art.5717）20cm×20cm×２mm20枚にスポツト
し、メタノール：クロロホルム１：10の溶媒系で
展開し、Rf値0.40の部分（紫外吸収有り、ニンヒ
ドリン発色赤紫）をかきとり、集めてメタノール
200mlを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別し
た後、メタノールを濃縮して70mgのａ―34―１
を得た。 実施例 65 50mlのガラスの耐圧容器に、実施例38と同様に
して合成したａ―17―１，２ミリモルを入れ、
Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド10mlに溶かす。 ヨウ化メチル10ミリモルを加え、密閉して室温
下１時間はげしく振盪する。さらにヨウ化メチル
10ミリモルを加え、上と同様の反応を行なう。再
度ヨウ化メチル10ミリモルを加え、一昼夜はげし
く振盪した後、溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルムア
ミドおよび未反応のヨウ化メチルを減圧下留去す
る。残渣をメタノール２mlにとかし、メルク社
TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、
メタノール：クロロホルム１：20の溶媒系で展開
し、Rf値0.40の部分（紫外吸収有り、ニンヒドリ
ン発色赤紫）をかきとり、集めてメタノール200
mlを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別した
後、メタノールを濃縮して90mgのａ―35―１を
得た。 実施例 66 充分に乾燥したAI―77―B4.95ミリモル2.1ｇを
ピリジン25mlに溶解し、室温下無水オレイン酸６
ミリモルを加え、室温で４時間撹拌する。減圧下
ピリジンを留去した後、水100mlを加える。生じ
た沈澱を別し、充分に乾燥する。この固型物を
150mlのヘキサンで３回、計450mlで洗浄する。こ
れをクロロホルム150mlに溶かし、Ｐ―トルエン
スルホン酸330mgを加え２時間撹拌する。これに
水100mlを加え、分液し、クロロホルム層をとり
だして芒硝で乾燥し、芒硝を別し、クロロホル
ム層を濃縮して目的物ａ―１―13，2.10ｇを得
た。 実施例 67 充分に乾燥したAI―77―B71ミリモル３ｇをピ
リジン50mlに溶解し、無水安息香酸14ミリモルを
室温下加える。室温で３時間撹拌した後、ピリジ
ンを減圧下留去する。この乾固物をメタノール40
mlに溶解し、塩酸飽和メタノールでPHを１にす
る。これを減圧下濃縮乾固する。さらに、これを
メタノール20mlに溶解し、１規定水酸化ナトリウ
ム溶液でPHを５にする。この溶液を−20℃にて一
昼夜放置し、生じた沈澱を別する。別した沈
澱を水―メタノール系溶媒（水50％、メタノール
50％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―２を
300ml充填したカラムを流下させる。カラムを1.5
の水で洗浄後、メタノール85％、水15％の溶媒
系で流出した区分を集め、濃縮して乾燥し、目的
物ａ―１―14，2.51ｇを得た。 実施例 68 充分に乾燥したAI―77―B2ミリモルをクロロ
ホルム１mlに懸濁し、４―シクロヘキシル酪酸10
ミリモルを加える。さらにジシクロヘキシルカル
ボジイミド８ミリモルを加え、室温下４時間撹拌
する。減圧下溶媒を留去した後、残渣をメタノー
ル２mlに溶かし、メルク社TLCPSC―
Fertigplatten KIESELGEL60F―254（Art.5717）
20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、メタノー
ル：クロロホルム１：10の溶媒系で展開し、Rf
値0.65の部分（紫外吸収有り）をかきとり、集め
てメタノール200mlを入れ30分撹拌する。シリカ
ゲルを別した後、メタノールを濃縮して730mg
のａ―１―19を得た。 実施例 69 充分に乾燥したAI―77―B2ミリモルをクロロ
ホルム10mlに懸濁し、Ｎ―チル―テトラゾールカ
ルボン酸10ミリモルを加える。さらにジシクロヘ
キシルカルボジイミド８ミリモルを加え、室温下
４時間撹拌する。減圧下溶媒を留去した後、残渣
をメタノール２mlに溶かし、メルク社TLCPSC
―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、
メタノール：クロロホルム１：10の溶媒系で展開
し、Rf値0.51の部分（紫外吸収有り）をかきと
り、集めてメタノール200mlを入れ30分撹拌する。
シリカゲルを別した後、メタノールを濃縮して
520mgのａ―１―27を得た。 実施例 70 充分に乾燥したAI―77―B2ミリモルをクロロ
ホルム10mlに懸濁し、シクロヘキサノン―２―カ
ルボン酸10ミリモルを加える。さらにジシクロヘ
キシルカルボジイミド８ミリモルを加え、室温下
４時間撹拌する。減圧下溶媒を留去した後、残渣
をメタノール２mlに溶かし、メルク社TLCPSC
―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、
メタノール：クロロホルム１：１の溶媒系で展開
し、Rf値0.70の部分（紫外吸収有り）をかきと
り、集めてメタノール200mlを入れ30分撹拌する。
シリカゲルを別した後、メタノールを濃縮して
510mgのａ―１―33を得た。 実施例 71 充分に乾燥したAI―77―B2ミリモルをクロロ
ホルム110mlに懸濁し、４―メチルチオ安息香酸
10ミリモルを加える。さらにジシクロヘキシルカ
ルボジイミド８ミリモルを加え、室温下４時間撹
拌する。減圧下溶媒を留去した後、残渣をメタノ
ール２mlに溶かし、メルク社TLCPSC―
Fetigplatten KIESELGEL60F―254（Art.5717）
20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、メタノー
ル：クロロホルム１：30溶媒系で展開し、Rf値
0.40の部分（紫外吸収有り）をかきとり、集めて
メタノール200mlを入れ30分撹拌する。シリカゲ
ルを別した後、メタノールを濃縮して700mgの
ａ―１―46を得た。 実施例 72 実施例66で合成したａ―１―131ミリモルを
蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴン
雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボレ
ート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌する。
塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノール
10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム２ミ
リモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素ガス
飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリウム
を分解する。これを減圧下乾固した後、水、テト
ラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフ
ラン60％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―
２を70ml充填したカラムを流下させる。カラムを
500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラン―水系
の溶媒でテトラヒドロフランの含量を10％、20％
と順次上げて行き、50％で溶出する区分を集め、
濃縮してａ―18―13，210mgを得た。 実施例 73 実施例67で合成したａ―１―14，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリ
ウムを分解する。これを減圧下乾固した後、水、
テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒド
ロフラン60％）に懸濁させ、アンバーライト
XAD―２を70ml充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラ
ン―水系の溶媒でテトラヒドロフランの含量を10
％、20％と順次上げて行き、40％で溶出する区分
を集め、濃縮してａ―18―14，250mgを得た。 実施例 74 実施例68で合成したａ―１―19，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリ
ウムを分解する。これを減圧下乾固した後、水、
テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒド
ロフラン60％）に懸濁させ、アンバーライト
XAD―２を70ml充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラ
ン―水系の溶媒でテトラヒドロフランの含量を10
％、20％と順次上げて行き、60％で溶出する区分
を集め、濃縮してａ―18―19，170mgを得た。 実施例 75 実施例68と同様にして合成したａ―１―59，
１ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解
し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニウム
フルオロボレート1.5ミリモルを加え、室温下４
時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した後、
無水エタノール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素
ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌した
後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素化
ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾固
した後、水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒドロフラン
の含量を10％、20％と順次上げて行き、40％で溶
出する区分を集め、濃縮してａ―18―53，190
mgを得た。 実施例 76 実施例66と同様にして合成したａ―１―16，
１ミリモルを蒸留直後の塩化メチレンン10mlに溶
解し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニウ
ムフルオロボレート1.3ミリモルを加え、室温下
４時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した
後、無水エタノール10mlを入れ、氷冷下水素ホウ
素ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌した
後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素化
ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾固
した後、水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒドロフラン
の含量を10％、20％と順次上げて行き、60％で溶
出する区分を集め、濃縮してａ―18―16，210
mgを得た。 実施例 77 実施例67と同様にして合成したａ―１―38，
１ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解
し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニウム
フルオロボレート1.5ミリモルを加え、室温下４
時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した後、
無水エタノール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素
ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌した
後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素化
ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾固
した後、水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒドロフラン
の含量を10％、20％と順次上げて行き、40％で溶
出する区分を集め、濃縮してａ―18―32，260
mgを得た。 実施例 78 実施例17と同様の方法で合成ａ―５―14，１
ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解
し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニウム
フルオロボレート1.5ミリモルを加え、室温下４
時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した後、
無水エタノール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素
ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌した
後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素化
ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾固
した後、水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒドロフラン
の含量を10％、20％と順次上げて行き、60％で溶
出する区分を集め、濃縮してａ―22―14，220
mgを得た。 実施例 79 実施例17と同様の方法で合成したａ―５―
16，１ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに
溶解し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニ
ウムフルオロボレート1.5ミリモルを加え、室温
下４時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した
後、無水エタノール１mlを入れ、氷冷下水素化ホ
ウ素ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌し
た後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素
化ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾
固した後、水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒドロフラン
の含量を10％、20％と順次上げて行き50％で溶出
する区分を集め、濃縮してａ―22―15，240mg
を得た。 実施例 80 実施例17と同様の方法で合成したａ―５―
23，１ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに
溶解し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニ
ウムフルオロボレート1.5ミリモルを加え、室温
下４時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した
後、無水エタノール10mlを入れ、氷冷下水素化ホ
ウ素ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌し
た後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素
化ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾
固した後、水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒドロフラン
の含量を10％、20％と順次上げて行き50％で溶出
する区分を集め、濃縮してａ―22―22，200mg
を得た。 実施例 81 実施例17と同様の方法で合成したａ―５―
19，１ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに
溶解し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニ
ウムフルオロボレート1.5ミリモルを加え、室温
下４時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した
後、無水エタノール10mlを入れ、氷冷下水素ホウ
素ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌した
後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素化
ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾固
した後、水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒドロフラン
の含量を10％、20％と順次上げて行き、70％で溶
出する区分を集め、濃縮してａ―22―18，190
mgを得た。 実施例 82 実施例18と同様にして合成したａ―５―123
１ミリモルをメタノール２ml、水４mlの混合溶媒
に懸濁させ、１規定水酸化ナトリウム水溶液をPH
が12になるまで加える。室温下撹拌するとPHが下
るので、さらにPH12になるまで上記のアルカリを
加える。PHが12から下らなくなつたならば１規定
塩酸でPH７に調節し、これをアンバーライト
XAD―２を30ml充填したカラムを流下させる。
500mlの水で洗浄した後、メタノール―水系の溶
媒でメタノールの含量を10％、20％と順次上げて
行き、80％で溶出する区分を集め濃縮する。これ
を塩化水素飽和メタノール10mlに溶かし、氷冷下
30分撹拌する。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥
してａ―13―８ 380mgを得た。 実施例 83 実施例18と同様の方法で合成したａ―５―７
１ミリモルをメタノール２ml、水４mlの混合溶
媒に懸濁させ、１規定水酸化ナトリウム水溶液を
PHが12になるまで加える。室温下撹拌するとPHが
下るので、さらにPH12になるまで上記のアルカリ
を加える。PHが12から下らなくなつたならば１規
定塩酸でPH７に調節し、これをアンバーライト
XAD―２を30ml充填したカラムを流下させる。
500mlの水で洗浄した後、メタノール―水系の溶
媒でメタノールの含量を10％、20％と順次上げて
行き、50％で溶出する区分を集め濃縮する。これ
を塩化水素飽和メタノール10mlに溶かし、氷冷下
30分撹拌する。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥
してａ―13―１ 350mgを得た。 実施例 84 実施例18と同様の方法で合成したａ―５―
124 １ミリモルをメタノール２ml、水４mlの混合
溶媒に懸濁させ、１規定水酸化ナトリウム水溶液
をPHが12になるまで加える。室温下撹拌するとPH
が下るので、さらにPH12になるまで上記のアルカ
リを加える。PHが12から下らなくなつたならば１
規定塩酸でPH７に調節し、これをアンバーライト
XAD―２を30ml充填したカラムを流下させる。
500mlの水で洗浄した後、メタノール―水系の溶
媒でメタノールの含量を10％、20％と順次上げて
行き、60％で溶出する区分を集め濃縮する。これ
を塩化水素飽和メタノール10mlに溶かし、氷冷下
30分撹拌する。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥
してａ―13―33 300mgを得た。 実施例 85 実施例18で合成したａ―５―125 １ミリモル
をメタノール２ml、水４mlの混合溶媒に懸濁さ
せ、１規定水酸化ナトリウム水溶液をPHが12にな
るまで加える。室温下撹拌するとPHが下るので、
さらにPH12になるまで上記のアルカリを加える。
PHが12から下らなくなつたならば１規定塩酸でPH
を７に調節し、これをアンバーライトXAD―２
を30ml充填したカラムを流下させる。500mlの水
で洗浄した後、メタノール―水系の溶媒でメタノ
ールの含量を10％、20％と順次上げて行き、60％
で溶出する区分を集め濃縮する。これを塩化水素
飽和メタノール10mlに溶かし、氷冷下30分撹拌す
る。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥してａ―
13―20，280mgを得た。 実施例 86 50mlのガラスの耐圧容器に、実施例83で合成し
たａ―13―１，２ミリモルを入れ、Ｎ，Ｎ―ジ
メチルホルムアミド10mlに溶かす。ヨウ化メチル
10ミリモルを加え、密閉して室温下１時間はげし
く振盪する。さらにヨウ化メチル10ミリモルを加
え、上と同様の反応を行なう。再度ヨウ化メチル
10ミリモルを加え、一昼夜はげしく振盪した後、
溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミドおよび未反
応のヨウ化メチルを減圧下留去する。残渣をメタ
ノール２mlにとかし、メルク社TLCPSC―
Fertigplatten KIESELGEL60F―254（Art.5717）
20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、メタノー
ル：クロロホルム１：15の溶媒系で展開し、Rf
値0.40の部分（紫外吸収有り、ニンヒドリン発色
赤紫）をかきとり、集めてメタノール200mlを入
れ30分撹拌する。シリカゲルを別した後、メタ
ノールを濃縮してａ―31―１，70mgを得た。 実施例 87 50mlのガラスの耐圧容器に実施例82で合成した
ａ―13―８，２ミリモルを入れ、Ｎ，Ｎ―ジメ
チルホルムアミド10mlに溶かす。ヨウ化メチル10
ミリモルを加え、密閉して室温下１時間はげしく
振盪する。さらにヨウ化メチル10ミリモルを加
え、上と同様の反応を行なう。再度ヨウ化メチル
10ミリモルを加え、一昼夜はげしく振盪した後、
溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミドおよび未反
応のヨウ化メチルを減圧下留去する。残渣をメタ
ノール２mlにとかし、メルク社TLCPSC―
Fertigplatten KIESELGEL60F―254（Art.5717）
20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、メタノー
ル：クロロホルム１：10の溶媒系で展開し、Rf
値0.52の部分（紫外吸収有り、ニンヒドリン発色
赤紫）をかきとり、集めてメタノール200mlを入
れ30分撹拌する。シリカゲルを別した後、メタ
ノールを濃縮してａ―３―13，82mgを得た。 実施例 88 充分に乾燥したAI―77―Ｂ，10ミリモルを氷
浴上で、100mlの1N HCl―エタノールに溶解し
た。たゞちに減圧で溶媒を除去（バス温20〜30
℃）し、その後真空ポンプを用いて残渣を充分に
乾燥した。次にこの残渣に50mlの0.5モルの重炭
酸ナトリウム溶液を加え、600mlの酢酸エチルを
用い抽出を行なつた。酢酸エチル層を飽和食塩水
で洗つた後、芒硝を加え一晩放置した。芒硝を
別して酢酸エチルを減圧で除去すると、3.98ｇ
（収量98％）のAI―77―Ｂ―γ―ラクトン（AI―
77―Ba）を得た。 実施例 89 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶かした。モノメチルアミン（40％水溶液）
70mlに乾燥N2ガスを吹きこみ、追い出されたモ
ノメチルアミンをドライアイスで冷却されたトラ
ツプで捕捉した。得られたモノメチルアミンを水
浴上（10〜20℃）で気化させ、苛性ソーダ管を用
いて乾燥後、先のAI―77―Baのメタノール溶液
に吹きこんだ。反応は水浴上（10〜15℃）で３時
間行ない、その後反応液を減圧で乾固した。残渣
をクロロホルム20mlに溶かし、クロロホルムで充
填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて500ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝４：１（２）で生成物を分画
し、減圧で濃縮乾固すると、1.3ｇの目的物―
１―２を得た。 実施例 90 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶解し、50ミリモルｎ―ブチルアミンを加
え、水浴上（10〜15℃）密栓して５時間撹拌し
た。反応終了後、溶媒およびｎ―ブチルアミンを
減圧で濃縮乾固した。得られた残渣を10mlのクロ
ロホルムに溶かし、クロロホルムで充填したシリ
カゲルカラム（100ｇ）にのせて200mlのクロロホ
ルムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノ
ール＝７：１（2.5）で生成物を分画し減圧で濃
縮乾固すると、1.2ｇの目的物―１―４を得た。 実施例 91 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水エタノー
ルに溶かし、50ミリモルのオクタデシルアミンを
加え密栓して室温で撹拌しながら20時間反応させ
た。反応後、溶媒を減圧で除去し反応物を乾固し
た。得られた残渣をクロロホルム50mlに溶かし、
クロロホルムで充填したシリカゲルカラム（300
ｇ）にのせ、クロロホルム：メタノール＝50：１
（４）で生成物を分画した濃縮乾固すると、
0.45ｇの目的物―１―６を得た。 実施例 92 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶かし、50ミリモルのテトラハイドロフルフ
リルアミンを加え、室温で密栓して15時間撹拌し
た。その後減圧で溶媒を除去した後、高真空ポン
プを用いて、さらにテトラハイドロフルフリルア
ミンを除去した。得られた残渣をクロロホルムに
溶かし、クロロホルムで充填したシリカゲルカラ
ム（100ｇ）にのせ、200mlのクロロホルムでカラ
ムを洗つた後、クロロホルム：メタノール＝９：
１（２）で生成物を分画し濃縮乾固すると、目
的物―１―15 0.63ｇを得た。 実施例 93 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水エタノー
ルに溶かし、50ミリモルのオレイルアミンを加え
密栓して室温で撹拌しながら20時間反応させた。
反応後、溶媒を減圧で除去し反応物を乾固した。
得られた残渣をクロロホルム50mlに溶かし、クロ
ロホルムで充填したシリカゲルカラム（300ｇ）
にのせ、クロロホルム：メタノール＝50：１（５
）で生成物を分画し濃縮乾固すると、0.38ｇの
目的物―１―８を得た。 実施例 94 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶かし、50ミリモルのベンジルアミンを加え
室温で密栓して10時間撹拌した。その後減圧で溶
媒を除去した後、高真空ポンプを用いてさらにベ
ンジルアミンを除去した。得られた残渣をクロロ
ホルムに溶かし、クロロホルムで充填したシリカ
ゲルカラム（100ｇ）にのせ、200mlのクロロホル
ムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノー
ル＝15：１（２）で生成物を分画し濃縮乾固す
ると、目的物―１―10，０，71ｇを得た。 実施例 95 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶かし、60ミリモルのフルフリルアミンを加
え室温で密栓して16時間撹拌した。その後減圧で
溶媒を除去した後、高真空ポンプを用いてさらに
フルフリルアミンを除去した。得られた残渣クロ
ロホルムに溶かし、クロロホルムで充填したシリ
カゲルカラム（100ｇ）にのせ、200mlのクロロホ
ルムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノ
ール＝12：１（２）で生成物を分画し濃縮乾固
すると、目的物―14，0.55ｇを得た。 実施例 96 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶かし、50ミリモルの２―アミノエチルテト
ラハイドロピランを加え室温で密栓して13時間撹
拌した。その後減圧で溶媒を除去した後、高真空
ポンプを用いてさらに２―アミノエチルテトラハ
イドロピランを除去した。得られた残渣をクロロ
ホルムに溶かし、クロロホルムで充填したシリカ
ゲルカラム（100ｇ）にのせ、200mlのクロロホル
ムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノー
ル＝９：１（２）で成物を分画し濃縮乾固する
と、目的物―１―16，0.67ｇを得た。 実施例 97 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水エタノー
ルに溶かし、50ミリモルの２―ナフタレンメチル
アミンを加え密栓室温で撹拌しながら48時間反応
させた。反応後、溶媒を減圧で除去し反応物を乾
固した。得られた残渣をクロロホルム50mlに溶か
し、クロロホルムで充填したシリカゲルカラム
（300ｇ）にのせ、クロロホルム：メタノール＝
60：１（７）で生成物を分画し濃縮乾固すると、
1.08ｇの目的物―１―18を得た。 実施例 98 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶かし、50ミリモルの３―メトキシブチルア
ミンを加え室温で密栓して12時間撹拌した。その
後減圧で溶媒を除去した後、高真空ポンプを用い
てさらに３―メトキシブチルアミンを除去した。
得られた残渣をクロロホルムに溶溶かし、クロロ
ホルムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）に
のせ、200mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝８：１（２）で生
成物を分画し濃縮乾固すると、目的物―１―
26，1.14ｇを得た。 実施例 99 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶かし、50ミリモルのゲラニルアミンを加え
室温で密栓して20時間撹拌した。その後減圧で溶
媒を除去した後、高真空ポンプを用いてさらにゲ
ラニルアミンを除去した。得られた残渣をクロロ
ホルムに溶かし、クロロホルムで充填したシリカ
ゲルカラム（100ｇ）にのせ、200mlのクロロホル
ムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノー
ル＝30：１（２）で生成物を分画し濃縮乾固す
ると、目的物―１―30，0.58ｇを得た。 実施例 100 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水エタノー
ルに溶かし、50ミリモルのＰ―トルイジンを加え
密栓室温で撹拌しながら48時間反応させた。反応
後、溶媒を減圧で除去し反応物を乾固した。得ら
れた残渣をクロロホルム50mlに溶かし、クロロホ
ルムで充填したシリカゲルカラム（300ｇ）にの
せ、クロロホルム：メタノール＝20：１（５）
で生成物を分画した濃縮乾固すると、1.03ｇの目
的物―１―43を得た。 実施例 101 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶かし、50ミリモルのＮ―（２―アミノエチ
ル）―ピペリジンを加え室温で密栓して15時間撹
拌した。その後減圧で溶媒を除去した後、高真空
ポンプを用いてさらにＮ―（２―アミノエチル）
―ピペリジンを除去した。得られた残渣をクロロ
ホルムに溶かし、クロロホルムで充填したシリカ
ゲルカラム（100ｇ）にのせ、200mlのクロロホル
ムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノー
ル＝12：１（２）で生成物を分画し濃縮乾固す
ると、目的物―１―46，0.53ｇを得た。 実施例 102 実施例43で合成したａ―10―１ ５ミリモル
を50mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを6.5ミ
リモルまで溶解させ、密栓して48時間反応させ
た。たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得ら
れた残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロ
ホルムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）に
のせて、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた
後、クロロホルム：メタノール＝10：１（２）
で生成物を分画した減圧で濃縮乾固すると、0.19
ｇの目的物―２―１を得た。 実施例 103 実施例44で合成したａ―11―６，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを7.0ミ
リモルまで溶解させ、密栓して48時間反応させ
た。たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得ら
れた残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロ
ホルムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）に
のせて、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた
後、クロロホルム：メタノール＝15：１（２）
で生成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.27ｇ
の目的物―３―２を得た。 実施例 104 実施例39で合成したａ―12―１，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを7.0ミ
リモルまで溶解させ、密栓して48時間反応させ
た。たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得ら
れた残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロ
ホルムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）に
のせて、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた
後、クロロホルム：メタノール＝10：１（２）
で生成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.26ｇ
の目的物―４―１を得た。 実施例 105 実施例36で得たａ―13―２，５ミリモルを30
mlの無水メタノールに溶かし、50ミリモルのブチ
ルアミンを加え密栓して水浴上（10〜16℃）で５
時間撹拌した。反応後、減圧で溶媒とアミンを除
去し、得られた残渣をクロロホルム（10ml）に溶
かし、クロロホルムで充填したシリカゲルカラム
（100ｇ）にのせて、150mlのクロロホルムでカラ
ムを洗つた後、クロロホルム：メタノール＝30：
１（２）で生成物を分画し濃縮乾固すると、目
的物―５―３を得た（1.41ｇ）。 実施例 106 実施例36で得たａ―13―２（塩酸塩）５ミリ
モルに100mlの0.5M重炭酸ナトリウム溶液を加
え、300mlの酢酸エチルで三度に分けて抽出した。
酢酸エチル層を飽和食塩水で洗つた後、芒硝を加
えて乾燥し芒硝を別し、酢酸エチルを減圧で除
去すると、2.3ｇのａ―13―２（塩酸フリー）を
得た。この残渣を100mlの無水メタノールに溶か
し、50ミリモルのＰ―トルイジンを加え密栓して
三日室温で残渣した。その後減圧で溶媒を除去し
た後、残渣を50mlのクロロホルムに溶かし、クロ
ロホルムで充填したシリカゲルカラム（400ｇ）
にのせ、クロロホルム：メタノール＝30：１（５
）で生成物を分画した減圧で濃縮乾固すると、
1.4ｇの目的物―５―４を得た。 実施例 107 実施例37で合成したａ―14―９，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを６ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝30：１（２）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.31ｇの目
的物―６―３を得た。 実施例 108 実施例35で得たａ―15―８，５ミリモルを
100mlの無水メタノールに溶かし、50ミリモルの
ブチルアミンを加え密栓して水浴上（10〜16℃）
で５時間撹拌した。応後、減圧で溶媒とアミンを
除去し、得られた残渣をクロロホルム（10ml）に
溶かし、クロロホルムで充填したシリカゲルカラ
ム（100ｇ）にのせて150mlのクロロホルムでカラ
ムを洗つた後、クロロホルム：メタノール＝25：
１（３）で生成物を分画し濃縮乾固すると目的
物―７―４を得た（1.58ｇ）。 実施例 109 実施例29で合成したａ―16―１，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを30ミリモルまで
溶解させ、密栓して２時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝10：１（２）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.11ｇの目的物―８
―１を得た。 実施例 110 実施例31で合成したａ―18―２，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して２時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝15：１（２）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.18ｇの目的物―10
―１を得た。 実施例 111 実施例32で合成したａ―18―６，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して３時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝20：１（３）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.21ｇの目的物―10
―２を得た。 実施例 112 実施例32で得たａ―18―６，５ミリモルを
100mlの無水メタノールに溶かし、50ミリモルの
ブチルアミンを加え、密栓して水浴上（10〜16
℃）で３時間撹拌した。反応後、減圧で溶媒とア
ミンを除去し得られた残渣をクロロホルム（10
ml）に溶かし、クロロホルムで充填したシリカゲ
ルカラム（100ｇ）にのせて、150mlのクロロホル
ムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノー
ル＝30：１（３）で生成物を分画し濃縮乾固す
ると、目的物―10―４を得た（1.39ｇ）。 実施例 113 実施例13で合成したａ―20―２，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝30：１（３）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.29ｇの目
的物―12―１で得た。 実施例 114 実施例57で合成したａ―21―９，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝15：１（２）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.18ｇの目
的物―13―３を得た。 実施例 115 実施例22で合成したａ―22―５，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して３時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝15：１（２）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.36ｇの目的物―14
―２を得た。 実施例 116 実施例76で合成したａ―22―15，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して３時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝20：１（３）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.38ｇの目的物―14
―５を得た。 実施例 117 実施例15で得たａ―23―11，５ミリモルを30
mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かした。モノ
エチルアミン（70％水溶液）30mlに乾燥N2ガス
を吹き込み、追い出されたモノエチルアミンをド
ライアイスで冷却されたトラツプで捕捉した。得
られたモノエチルアミンを温浴上（20〜30℃）で
気化させ、苛性ソーダ管で乾燥後、７ミリモルま
で先のジメチルホルムアミド溶液に吹きこみ、密
栓して48時間撹拌した。その後、減圧で溶媒を除
去し、得られた残渣をクロロホルム30mlに溶か
し、クロロホルムで充填したシリカゲルカラム
（100ｇ）にのせ、クロロホルム：メタノール＝
20：１（３）で生成物を分画し濃縮乾固すると、
0.35ｇの目的物―15―４を得た。 実施例 118 実施例21で得たａ―24―16，５ミリモルを
100mlの無水メタノールに溶かした。モノエチル
アミン（70％水溶液）30mlに乾燥N2ガスを吹き
込み、追い出されたモノエチルアミンをドライア
イスで冷却されたトラツプで捕捉した。得られた
モノエチルアミンを温浴上（20〜30℃）で気化さ
せ、苛性ソーダ管で乾燥後、50ミリモルまで先の
メタノール溶液に吹きこみ、密栓して３時間撹拌
した。その後、減圧で溶媒を除去し、得られた残
渣をクロロホルム30mlに溶かし、クロロホルムで
充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ、ク
ロロホルム：メタノール＝30：１（３）で生成
物を分画し濃縮乾固すると、1.51ｇの目的物―
16―４を得た。 実施例 119 実施例27で合成したａ―25―９，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して２時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝15：１（２）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.25ｇの目的物―17
―３を得た。 実施例 120 実施例26で合成したａ―26―９，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝20：１（３）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.22ｇの目
的物―18―３を得た。 実施例 121 実施例46で合成したａ―27―１，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して２時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝10：１（２）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.57ｇの目的物―19
―１を得た。 実施例 122 実施例58で合成したａ―28―１，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して40時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝12：１（２）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.9ｇの目
的物―20―１を得た。 実施例 123 実施例59で合成したａ―29―１，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝15：１（３）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.23ｇの目
的物―21―１を得た。 実施例 124 実施例60で合成したａ―30―１，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝15：１（２）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.18ｇの目
的物―22―１を得た。 実施例 125 実施例61で得たａ―31―２，５ミリモルを
100mlの無水メタノールに溶かし、50ミリモルの
ブチルアミンを加え、密栓して水浴上（10〜16
℃）で３時間撹拌した。反応後、減圧で溶媒とア
ミンを除去し、得られた残渣をクロロホルム（10
ml）に溶かし、クロロホルムで充填したシリカゲ
ルカラム（100ｇ）にのせて、150mlのクロロホル
ムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノー
ル＝20：１（４）で生成物を分画し濃縮乾固す
ると、目的物―23―２を得た（1.48ｇ）。 実施例 126 実施例86で合成したａ―31―１，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して２時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝10：１（２）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.29ｇの目的物―23
―５を得た。 実施例 127 実施例62で合成したａ―32―１，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝15：１（３）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.30ｇの目
的物―24―１を得た。 実施例 128 実施例63で合成したａ―33―１，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して２時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝20：１（３）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.27ｇの目的物―25
―１を得た。 実施例 129 実施例64で合成したａ―34―１，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して２時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝９：１（２）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.11ｇの目的物―26
―１を得た。 実施例 130 実施例65で合成したａ―35―１，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝15：１（２）で生
成物を分画し減圧の濃縮乾固すると、0.16ｇの目
的物―27―１を得た。 実施例 131 実施例７で合成したａ―１―４，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣をを10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホ
ルムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にの
せて、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝15：１（３）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.34ｇの目
的物―28―２を得た。 実施例 132 実施例６で得たａ―１―11，５ミリモルを
100mlの無水エタノールに溶かした。モノエチル
アミン（70％水溶液）30mlに乾燥N2ガスを吹き
込み、追い出されたモノエチルアミンをドライア
イスで冷却されたトラツプで捕捉した。得られた
モノエチルアミンを温浴上（20〜30℃）で気化さ
せ、苛性ソーダ管で乾燥後、ａ―１―11エタノ
ール溶液に吹きこみ、密栓して３時間撹拌した。
その後、減圧で溶媒を除去し、得られた残渣をク
ロロホルム30mlに溶かし、クロロホルムで充填し
たシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ、クロロホ
ルム：メタノール＝50：１（３）で生成物を分
画し濃縮乾固すると、0.9ｇの目的物―28―４
を得た。 実施例 133 実施例９で得たａ―２―10，５ミリモルを30
mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かした。モノ
メチルアミン（40％水溶液）30mlの乾燥N2ガス
を吹き込み、追い出されたモノメチルアミンをド
ライアイスで冷却されたトラツプで捕捉した。得
られたモノメチルアミンを温浴上（20〜30℃）で
気化させ、苛性ソーダ管で乾燥後、７ミリモルま
で先のジメチルホルムアミド溶液に吹きこみ、密
栓して49時間撹拌した。その後、減圧で溶媒を除
去し、得られた残渣をクロロホルム30mlに溶か
し、クロロホルムで充填したシリカゲルカラム
（100ｇ）にのせ、クロロホルム：メタノール＝
20：１（３）で生成物を分画し濃縮乾固すると、
0.35ｇの目的物―29―２を得た。 実施例 134 実施例28で合成したａ―４―１，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアスを７ミリモ
ルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムを洗つた後、クロロホ
ルム：メタノール＝15：１（３）で生成物を分
画し減圧で濃縮乾固すると、0.17ｇの目的物―
31―１を得た。 実施例 135 実施例17で得たａ―５―３，５ミリモルを
100mlの無水メタノールに溶かした。モノエチル
アミン（70％水溶液）30mlに乾燥N2ガスを吹き
こみ、追い出されたモノエチルアミンをドライア
イスで冷却されたトラツプで捕捉した。得られた
モノエチルアミンを温浴上（20〜30℃）で気化さ
せ、苛性ソーダ管で乾燥後、ａ―５―３のメタ
ノール溶液に吹きこみ、密栓して３時間撹拌し
た。その後、減圧で溶媒を除去し、得られた残渣
をクロロホルム20mlに溶かし、クロロホルムで充
填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ、クロ
ロホルム：メタノール＝８：１（２）で生成物
を分画し濃縮乾固すると、1.1ｇの目的物―32
―１を得た。 実施例 136 実施例14で合成したａ―６―12，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝20：１（３）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.26ｇの目
的物―33―１を得た。 実施例 137 実施例19で合成したａ―７―16，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝20：１（３）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.28ｇの目
的物―34―１を得た。 実施例 138 実施例24で得たａ―８―９，５ミリモルを30
mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かした。モノ
エチルアミン（70％水溶液）30mlに乾燥N2ガス
を吹き込み、追い出されたモノエチルアミンをド
ライアイスで冷却されたトラツプで捕捉した。得
られたモノエチルアミンを温浴上（20〜30℃）で
気化させ、苛性ソーダ管で乾燥後、７ミリモルま
で先のジメチルホルムアミド溶液に吹きこみ、密
栓して48時間撹拌した。その後減圧で溶媒を除去
し、得られた残渣をクロロホルム30mlに溶かし、
クロロホルムで充填したシリカゲルカラム（100
ｇ）にのせ、クロロホルム：メタノール＝15：１
（３）で生成物を分画し濃縮乾固すると、0.24
ｇの目的物―35―１を得た。 実施例 139 実施例25で合成したａ―９―９，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝20：１（３）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.33ｇの目
的物―36―１を得た。 実施例 140 充分乾燥したAI―77―Ｆ（実施例３）５ミリモ
ルを100mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、
7.5ミリモルのペンチルアミンを加え、密栓して
室温で三日撹拌した。反応後、減圧で溶媒とアミ
ンを除去し、得られた残渣をクロロホルム（20
ml）に溶かし、クロロホルムで充填したシリカゲ
ルカラム（100ｇ）にのせて、100mlのクロロホル
ムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノー
ル＝７：１（2.5）で生成物を分画し減圧で濃縮
乾固すると、0.32ｇの目的物Ｖ―１―２を得た。 実施例 141 実施例11で得たａ―３―２，５ミリモルを30
mlの乾燥したジメチルホルムアミドに溶かし、
7.5ミリモルのベンチルアミンを加え、密栓して
水浴上（10〜16℃）で二日撹拌した。反応後、減
圧で溶媒とアミンを除去し、得られた残渣をクロ
ロホルム（10ml）に溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、150ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝30：１（２）で生成物を分画
し濃縮乾固すると、目的物―30―１を得た
（0.27ｇ）。
導体ならびにその医薬的に許容される塩に関す
る。 このAI―77類のアミド誘導体は、次の一般式
〔〕で示されるものである。 （式中、ＹはNHR4またはＺと合してＣとＣとの
結合手を、ＺはＨまたはＹと合してＣとＣとの結
合手を、R1，R2とR4は各々独立にＨ、R′、―
CH2R、―CORを表わし、R3はＨ、Ｒまたは
CH2Rを表わす。Ｒはメチル、エチル、ｎ―プロ
ピル、ｎ―ブチル、ｎ―ペンチル、ｎ―ヘキシ
ル、ｎ―ヘプチル、ｎ―オクチル、ｎ―ウンデシ
ル、ｎ―ヘプタデシル、イソプロピル、２―メチ
ル―プロピル、２―メチル―ブチル、２―プロピ
ル―ペンチル、４―エチル―ヘプチル、２・6.10
―トリメチル―テトラデカニル、ビニル、アリル
―１―プロペニル、２―プロペニル、２―ブテニ
ル、１・３―ブタジエニル、２―ペンテニル、８
―ヘプタデセニル、２―メチル―アリル、２・６
―ジメチル―２・６―ヘプタジニル、２・６・９
―トリメチル―２・６・９―トリデカトリエニ
ル、フエニル、ナフチル、アズレニル、ノルボル
ネン、ノルボルナン、カンフアー、アダマントイ
ル、サイクロプロピル、サイクロブチル、サイク
ロペンチル、サイクロヘキシル、サイクロヘプチ
ル、サイクロオクチル、ベンジル、フエネチル、
２―フエニルプロピル、ナフチルメチル、ナフチ
ルエチル、２・４―ジメチル―イソプロピル―ア
ズレニル、フリル、ジヒドロフリル、テトラヒド
ロフリル、ピラニル、ジヒドロピラニル、チエニ
ル、テトラゾリル、ピロリル、ピロリジニル、キ
ノリル、インドリル、インドリニル、ピペリジ
ル、モルホリニル、ピリジル、オキサゾリル、オ
キサゾリジニル、チアゾリル、チアゾリジニル、
ならびに上記炭化水素の塩素、臭素、弗素、オキ
ソ、カルボキシル、ヒドロキシル、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピ
ル、３―メチル―ブチル、イソブチレン、プロピ
レン、アセチレン、フエニル、ナフチル、アズレ
ニル、トロポイル、サイクロプロピル、サイクロ
ブチル、サイクロペンチル、サイクロヘキシル、
サイクロヘプチル、サイクロオクチル、ベンジ
ル、フエネチル、２―フエニルプロピル、ナフチ
ルメチル、ｐ―（３―メチル）ブチルフエニル、
メトキシ、エトキシ、ペントキシ、３―メチル―
ブトキシ、３―メチル―２―ブテノキシ、メチル
チオ、エチルチオ、３―メチル―ブチルチオ、ペ
ンチルチオ、メトキシカルボニル、ペントキシカ
ルボニル、イソブトキシカルボニル、アセチルオ
キシ、プロピオニルオキシ、ペンタノイルオキ
シ、ヘキサノイルオキシ、クロトノイルオキシ、
アセチル、プロピオニル、ヘキサノイル、３―メ
チル―ブタノイル、フリル、ジヒドロフリル、テ
トラヒドロフリル、ピラニル、ジヒドロピラニ
ル、チエニル、テトラゾリル、ピロリル、ピロリ
ジニル、キノリル、インドリル、インドリニル、
ピペリジノ、モルホリノ、ピリジル、オキサゾリ
ル、オキサゾリジニル、チアゾリル、チアゾリジ
ニル等の一つまたは二つ以上の基で置換されたも
のから成る群から選ばれる基を、R′はＲの中で
不飽和炭素または三級炭素として一般式〔〕の
ＯまたはＮに直接結合する基以外の基を表わす。
ただし、R1，R2，R3およびR4が同時にＨである
化合物を除く。） 本発明者らは、新規な抗潰瘍剤の創製を目的と
して鋭意研究を重ねてきたが、一般式〔〕で示
される化合物が実験動物に顕著な抗潰活性を発現
することを見出し、本発明を完成するに到つた。 本発明の新規な化合物AI―77類のアミド誘導
体は、前記一般式〔〕に示した化合物であり、
Ｒは前記のとおりであるが、これらの置換基の中
で直鎖アルキルの置換基としては、ハロゲン、オ
キソ、カルボキシ、アルコキシ、チオアルコキ
シ、カルボアルコキシ、アシルオキシ、単環式脂
肪族、芳香脂肪族、芳香族、複素環基に含まれる
ものが好ましく、分岐アルキルの置換基として
は、ハロゲン、アルコオキシ、チオアルコキシ基
に含まれるものが好ましく、芳香族基の置換基と
しては、アルキル、アルコオキシ、チオアルコオ
キシ、ハイドロキシ、アシルオキシ、カーボアル
コキシに含まれるものが好ましい。またこれらの
基は、芳香脂肪族の芳香基の置換基としても好ま
しい。単環式脂肪族の置換基としては、オキソ、
カルボキシル、アルキル、アルコキシル、カーボ
アルコキシル、アシルオキシル基に含まれるもの
が好ましい。複素環の置換基としては、アルキ
ル、アルコキシル、アシル、カルボキシル基に含
まれるものが好ましい。 またこれらのAI―77類のアミド誘導体は、医
薬的に許容される塩、例えばハロゲン化水素酸、
リン酸、硫酸、シユウ酸、マレイン酸、ドデシル
硫酸等の有機スルフオン酸などの塩にしてもさし
つかえない。 一般式〔〕で示される化合物は、下記の式で
示されるAI―77―ＢとAI―77―Ｆおよびそれか
ら誘導される一般式〔ａ〕および〔ａ〕の化
合物から合成される。 （式中、R1，R2，R4は一般式〔〕で示された
R1，R2，R4と同じ基を表わす。） AI―77―Ｂは本発明者らによつて新たに土壌
から分離され、バチルス、ブミルスに属する菌株
と同定されたAI―77株「工業技術院第4066号」
を培地に好気的に培養することにより、その培養
液中に蓄積されるから、その培養液より採取する
ことができる。AI―77―ＦはAI―77―Ｂより化
学的に合成することができる。培養法、合成法の
詳細は後に記す。 次に上記したAI―77―ＢおよびAI―77―Ｆの
理化学的性状について述べる。 【表】 【表】 AI―77―Ｂの質量分析値、紫外吸収値、赤外
吸収値、NMR等を第１表に示し、溶解性は、
水、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジムチ
ルスルホキシドに易溶で、その他の低級アルコー
ル、ジオキサン、テトラヒドロフランにやゝ難溶
で、酢酸エチル、クロロホルム、エーテル、ヘキ
サンおよびベンゼンに殆んど解けない。安定性
は、水溶液はアルカリに不安定で、室温でも徐々
にラクトンの水解が進行する。 AI―77―Ｆの質量分析値、紫外吸収値、赤外
吸収値、NMRを第２表に示し、溶解性は、酢酸
エチル、クロホルム、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシドに易溶で、低級アルコール
類、ジオキサンいやゝ難溶となり、水、ヘキサ
ン、ベンゼンに殆んど解けない。安定性はAI―
77―Ｂと同様アルカリに不安定である。 培養にはバチルス属の菌株の培養に関する一般
的知識が適用される。即ち、窒素源、炭素源、無
機塩、ビタミン、アミノ酸、核酸関連物質等、該
微生物の成育に必要な物質を含んだ培地に25〜40
℃で好気的に行なわれる。大規模に培養を行うに
は、通気撹拌培養を行うのが有利である。 なお、AI―77株（工業技術院第4066号）の菌
学的性質は下記の通りである。 菌学的性質 ａ） 各種培地上における生育状態 肉汁；培地はほとんど均一に混濁して皮膜
はつくならい。 肉汁寒天培地；コロニーの周辺はおゝむね
smooth型を呈するが、特にはrough型を呈
し、扁平に拡がる。色は不透明ないし半透明
で、アイボリー色から白色を経てクリーム色
となる。色素はつくらない。 グルコース肉汁寒天培地；肉汁寒天培地よ
り生育は良好、外観は肉汁寒天培地に同じ。 ゼラチン培地；緩慢に液化する。 ペプトン水；生育はやゝ抑制され、全体が
やゝ混濁する。 リトマスミルク；ミルクを凝固しない。ペ
プトン化もしない。リトマスの変色も認めら
れない。 バレイシヨ培地；淡黄褐色に拡がつて生育
し、細かな皺を生ずる。 グルコース肉汁寒天培地における形態学的性
状は0.5〜0.9×2.0〜5.0μの大きさの短桿状を呈
し、グラム変化性で楕円状ないし円筒状の胞子
をつくる。胞子はおゝむね中央に位置し、ふく
らみは明瞭でない。 ｂ） 生理的性質 最適生育条件；PH５〜PH８、27〜35℃好気
性。 生育しうる条件；PH5.0〜10.0、10〜55℃。 グラム染色性；変化性がある。 抗酸性；なし メチルレツド試験；陽性 フオーゲス・ブロスカウエル反応；陽性 インドールの生成は認められない。 硫化水素の生成はほとんど認められない。 アンモニアの生成は認められない。 硝酸塩の還元は認められない。 カタラーゼの生成は旺盛である。 ゼラチンをゆるやかに液化する。 澱粉を加水分解しない。 クエン酸を利用する。 ７％食塩培養液に生育する。 メチレンブルーを還元しない。 尿素の利用性は微弱である。 ｃ） 炭素源の利用性 フラクトース、サツカロース、グルコース、
マンニツトを利用して酸を生成する。マンノー
ス、トレハロースもわずかに利用して酸を生成
する。アラビノース、キシロース、ガラクトー
ス、ラクトース、マルトース、ラフイノース、
ソルビツト、イノシツト、グリセロール、α―
メチルグルコシツド、イヌリン、デキストリ
ン、デンプン、繊維素は利用しない。いずれの
炭素源からもガスの発生は認められない。 上記の諸性質をBergey′s manual of
Determinative Bacteriology7版および８版に照
合すると、本菌はアラビノース、キシロースから
酸を生成しないし、牛乳のペプトン化も凝固も起
きさない等の点で多少の相違点はあるが、おゝむ
ねバチルス・プミルスの性質に一致している。し
たがつて、本菌をバチルス・プミルスに属する一
菌株と判定したが、同一の既知の菌株が存在しな
いので、バチルス・プミルスAI―77と命名した。
本菌株は工業技術院微生物工業技術研究所に寄託
番号第4066号として寄託されている。本発明にお
いて、のバチルス・プミルスAI―77株のすべて
の天然および人工変異株のうち、AI―77類の生
産性を有する株はすべて用いることができる。 本発明の方法におけるAI―77―Ｂの培養によ
る生産と培養物からの採取工程は、後述する特定
の手段を利用することにより実施される。即ち
AI―77―Ｂは、その生産菌を該菌が必要とする
栄養源を含む培養液に所定時間、好気的に培養す
ることにより培養液中に畜積されるから、AI―
77―Ｂの理化学的性質を利用して、その培養液か
ら種々の精製手段を組合せて採取される。 発酵に用いられる栄養源としては、炭素源、窒
素源、無機塩類、その他必要に応じてビタミン
類、アミノ酸類および使用菌の生育に必要な諸栄
養因子が使用される。炭素源としては例えば、グ
ルコース、シユウクロース、フラクトース、マン
ニトール、有機酸、糖蜜、澱粉類、グリセリンな
ど、窒素源としては例えば、コーン・スチーブ・
リカー、大豆粉、フアマメデイア、酵母エキス、
肉エキス、ペプトンやカザミノ酸等の蛋白水解
物、アミノ酸、アンモニウム塩など、無機塩とし
ては例えば、ナトリウム、カリウム、カルシウ
ム、マグネシウム、鉄等の金属イオン、アンモニ
ウム、リン酸、硫酸、塩素、カルボン酸等のイオ
ンを含む塩が使用される。生産菌の生育に必要な
必須栄養要素も培地に含まれる必要があり、ビタ
ミン類、アミノ酸類、核酸関連要素が必要に応じ
て添加される。 AI―77―Ｂ生産菌は種々の条件で生育する。
例えば、この微生物は広範囲の初期PHを有する
種々の培地に生育しうる。しかし、発酵を開始す
る培地のPHは６〜８、好ましくはPH６〜７で、一
般に培地のPHは微生物の生育にしたがつて多少変
動する。培養温度は25〜40℃で好気的に60時間〜
96時間行われる。 本発明のAI―77類生産菌は、寒天斜面上、振
盪フラスコ中、中型ないしは大型発酵タンク内で
培養することができる。大量生産には通気撹拌の
発酵条件が好ましい。通気撹拌の好気的な培養条
件では、シリコン、ポリプロピレングリコール誘
導体などの消泡剤を培地に加えることがAI―77
―Ｂ成分の蓄積量を増大させるのに有効な場合も
ある。発酵の経過に関してAI―77―Ｂの生産量
は、培養液の314mμにおける紫外部吸収の増加
によつて追跡することができる。 好気的発酵条件下で生産したAI―77―Ｂは、
主として発酵培地から各々の理化学的性質を利用
して、イオン交換樹脂、マクロ網状樹脂、ゲル
過剤、吸着剤等を使用したクロマトや溶媒抽出等
を組合せて単離することができる。即ち好気的に
48〜96時間培養した培養液をマクロ網状樹脂、
例えばローム・アンド・ハース社製アンバーライ
トXAD―２またはXAD―４あるいは三菱化成製
ダイアイオンHP―系に吸着させ、水および有機
溶媒あるいは両者の混合溶媒を用いて溶出する。
有機溶媒としては、特に水と親和性のあるC1〜
C4のアルコール類、アセトン、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等を使用することができる。例
えばメタノールを30％以上含有した水によりAI
―77―Ｂはマクロ網状樹脂XAD―２から脱離さ
れるから、この溶離液を減圧下に濃縮するとAI
―77―Ｂの粗標品が得られる。マクロ網状樹脂に
よる精製を繰返すことにより、あるいは熱水また
はメタノールから再結晶させることにより、純度
の高いAI―77―Ｂの結晶を得ることができる。 次に一般式〔ａ〕およびAI―77―Ｆと一般
式〔〕の化合物の合成法について説明する。 下記の〜は、一般式〔ａ〕で示される化
合物（式中、R1，R2，R4は前記と同じ）の製法
である。 一般式〔ａ〕でR1とR2がＨであり、R4が
RCO―である化合物〔ａ―１〕は、前述の
AI―77―Ｂを一般的なアシル化法によりアシ
ル化することにより得られ、生成物は原料と生
成物の紫外線吸収、赤外線吸収、NMR、質量
分析法の比較等で確認される。この確認法は
以降の合成法にも使用される。代表的なアシル
化法は、酸無水物〔（RCO）2O〕あるいは酸ク
ロライド（RCOCl）でアシル化する方法、も
しくは酸（RCOOH）と脱水縮合剤（例えばジ
シクロヘキシルカルボジイミド等）の方法でア
シル化する。アシル化剤の添加量を１〜２倍モ
ルとして、０〜25℃で反応を行うことにより、
R4に選択性高くアシル基を導入することがで
きる。 一般式〔ａ〕においてR1がＨで、R2が
RCO―で、R4がRCO―である化合物〔ａ―
２〕は、前記の〔ａ―１〕をピリジン溶媒中
過剰（〔ａ―１〕に対し３〜20倍モル）の酸
無水物〔（RCO）2O〕を加え、触媒としてルイ
ス酸を用い、25〜80℃で反応させることにより
得られる。アシル化剤として酸クロライドを用
いる場合は、ピリジン溶媒中〔ａ―１〕に対
して１〜５倍モルの酸クロライドを使用して、
室温から40℃で反応を行う。 一般式〔ａ〕でR1がRCO―で、R2がRCO
―で、R4がRCO―である化合物〔ａ―３〕
は、前記の〔ａ―２〕をより強いアシル化
法によりアシル化すること、即ち前記の〔ａ
―２〕をピリジンあるいは三級アミンと非プロ
トン性溶媒中40〜100℃で、１〜30倍モルの酸
無水物〔（RCO）2O〕または酸クロライド
（RCOCl）と反応させることにより得られる。 〜に示した如く一般式〔ａ〕の化合物
のR1，R2，R4へのアシル基の導入における反
応速度はR4が最大で、次いでR2，R1の順序で
各々選択性高く導入することができる。 一般式〔ａ〕でR1がRCO―で、R2がＨで、
R4がRCO―である化合物〔ａ―４〕は、前
記の〔ａ―１〕の化合物を不活性溶媒好まし
くは非プロトン性極性溶媒とピリジンあるいは
三級アミン中に溶解し、カーボベンゾオキシク
ロライドを1.5〜15モル添加して、室温〜80℃
で反応することにより選択性高くアルコール性
OH基にカーボンベンゾオキシ基を導入でき
る。得られた化合物を一般的なアシル化法、例
えば過剰（１〜30倍モル）の酸無水物
〔（RCO）2O〕をピリジンあるいは三級アミンと
非プロトン性溶媒中40〜100℃で反応させる。
このものを通常の接触還元により、カーボンベ
ンゾオキシ基をはずして化合物〔ａ―４〕を
得る。 一般式〔ａ〕でR1がR′または―CH2Rで、
R2がＨで、R4がRCO―である化合物〔ａ―
５〕は、前記〔ａ―１〕を不活性溶媒、場合
により少量のアルコールを加えた溶媒に溶解
し、過剰のジアゾ化合物（R′N2）または
（RCH2N2）と反応させてフエノール性―OH
基に接触なしに選択性高くR′基またはRCH2基
を導入することができる。 本発明に用いるジアゾ化合物は文献に知られ
ている（Organic functional group
preparations，Academic press，New york
and London，1968P388〜407）。また本発明に
必要なR′N2またはRCH2N2のその他の化合物
は、同様の方法で製造することができる。 一般式〔ａ〕でR1がR′または―CH2Rで、
R2がRCO、R4がRCOである化合物〔ａ―
６〕は、前記の〔ａ―２〕の化合物にジアゾ
化合物（R′N2）を前記と同様に反応させる
ことによるか、前記化合物〔ａ―５〕をアシ
ル化することにより得られる。 一般式〔ａ〕でR1がR′または―CH2Rで、
R2がR′または―CH2R、R4がRCO―である化
合物〔ａ―７〕は、前記〔ａ―５〕の化合
物をジアゾ化合物（R′N2）またはRCH2N2と
触媒（フツ化ホウ素エーテラート）を加えるこ
とにより、アルコール性―OH基にアルキル基
を導入して合成する。 やで示されるように、前記〔ａ―１〕
の化合物をジアゾ化合物（R′N2）または
RCH2N2のみで、フエノール性―OH基に先ず
アルキル基が選択性高く導入され、次いで触媒
（フツ化ホカ素エーテラート）を併用すること
により、アルコール性―OH基にアルキル基を
導入することができる。 一般式〔ａ〕がR1がＨ，R2がR′または
RCH2、R4がRCO―である化合物〔ａ―８〕
は、前記の〔ａ―１〕の化合物からに述べ
た反応により、フエニルジアゾメタンを用いて
フエノール性OH基に保護基としてベンジル基
を導入し、で示した反応を用いてアルコール
性OH基にアルキル基を導入した後、一般的接
触還元法により、ベンジル基をはずすことによ
り合成することができる。 一般式〔ａ〕でR1がRCO―、R2がR′また
はRCH2、R4がRCO―である化合物〔ａ―
９〕は、前記の〔ａ―８〕の化合物をの反
応と同様にしてフエノール性OH基をアシル化
することにより合成できる。 一般式〔ａ〕でR1がＨ，R2がRCO、R4が
Ｈの化合物〔ａ―10〕は、次のように合成さ
れる。即ちAI―77―Ｂを２〜３倍モルのカー
ボベンゾオキシクロライドと三級アミンの存在
下に室温で反応させると、R4がRh―CH2―
OOC―となる。この化合物をに示したと同
様にしてアルコール性OH基をアシル化し、R1
がＨ、R2がPCO―、R4がPh―CH2―OOC―と
し、次で、これを接触還元することにより〔
ａ―10〕を合成する。 一般式〔ａ〕でR1がRCO―、R4がRCO
―、R4がＨの化合物〔ａ―11〕は、次のよ
うに合成される。 前記のの反応でR1がＨ、R2がRCO―、R4
がPh―CH2―OOC―である中間化合物をに
示したと同様にR1をアシル化し、次いで、こ
れを接触還元することにより得られる。 一般式〔ａ〕でR1が―COR、R2がＨ、R4
がＨである化合物〔ａ―12〕の合成法は、次
の方法により合成できる。即ち第一の方法は、
AI―77―Ｂと５〜30倍モルのカーボンベンゾ
オキシクロライドを三級アミンの存在下に室温
〜80℃で反応させると、R2とR4とが
【式】となる。これをに示したと 同様にR1をアシル化し、次いで接触還元し目
的化合物とする。第二の方法は、AI―77―Ｂ
を５〜30倍のトリクロルアセチルクロライドを
用い、三級アミンの存在下に室温〜80℃で反応
させて、R1がＨ、R2が―COCCl3、R4が―
COCCl3の化合物を得て、これをで示したと
同様にしてR1を―CORとした後、アルカリを
用いPH８〜12の範囲で適宜選択されたPH範囲を
保持しながら２〜24時間室温で加水分解を行
う。次いで、後述のに示すラクトン化の条件
にしたがい、酸性にして溶媒を留去することに
より〔ａ―12〕の化合物が合成できる。 一般式〔ａ〕でR1がR′またはRCH2、R2
がＨ、R4がＨの化合物〔ａ―13〕は、例え
ばAI―77―Ｂよりの反応にしたがいR4を―
COCCl3とし、次での反応にしたがいR1を
R′とし、得られる化合物を、前記の第２の
反応の段階のアルカリ加水分解法、ラクトン化
法にしたがつてて反応させることにより得られ
る。 一般式〔ａ〕でR1がR′またはRCH2、R2
がRCO―、R4がＨの化合物〔ａ―14〕は、
次のいずれかの方法で合成できる。 第一の方法は、AI―77―Ｂをの方法でR2
を―COCCl3とし、次での方法でR2をRCO―
とし、次での方法でR1をR′またはRCH2とし
て得られるR1がR′またはRCH2、R2がRCO―、
R4がCl3CCO―の化合物を合成し、上記と同
様にアルカリ加水分解、ラクトン化することに
より目的化合物とする。第二の方法は、前記
の反応途中で得られるR1がＨ、R2がRCO―、
R4がPh―CH2―OOC―である化合物をで示
した方法でR1をR′またはRC2とした後、接触還
元で脱離反応を行うことにより目的化合物とす
る方法である。 一般式〔ａ〕でR1がR′またはRCH2、F2が
R′またはRCH2、R4がＨである化合物〔ａ―
15〕は、例えばAI―77―Ｂよりの反応にし
たがいR4を―COCCl3とし、次いでの反応に
したがいR1をR′またはRCH2とし、次での反
応によりR2をR′またはRCH2とし、得られる化
合物をアルカリを用い、PH８〜12の範囲で適宜
選択されたPH範囲を保持しながら２〜24時間室
温で加水分解を行う。次いで後述のに示すラ
クトン化の条件にしたがい、酸性にして溶媒を
留去することにより〔ａ―15〕の化合物が得
られる。 一般式〔ａ〕でR1がＨ、R2がR′または
RCH2、R4がＨである化合物〔ａ―16〕は、
次のようにして合成することができる。第一の
方法は、AI―77―Ｂを２〜３倍モルのカーボ
ベンゾオキシクロライドと三級アミンの存在下
に室温で反応させ、R4をPh―CH2―OOC―と
し、次で、これにフエニルジアゾメタンの過剰
量を加えてR1にベンジル基を導入し、さらに
ジアゾ化合物（R′N2）または（RCH2N2）を
フツ化ホウ素エーテラートの存在下に反応さ
せ、R2をR′またはRCH2とし、次いで接触還元
してベンジル基とカーボベンゾオキシル基を離
脱させて目的化合物とする。第二の方法は、前
述したの方法にしたがいR1とR4をともにト
リクロルアセチル化し、次いでフツ化ホウ素エ
ーテラートの存在下にジアゾ化合物（R′N2）
または（RCH2N2）と反応させて、R2をR′ま
たはRCH2とした後、アルカリで加水分解し目
的化合物とする方法である。 一般式（ａ〕でR1がRCO―、R2がR′また
はRCH2、R4がＨである化合物〔ａ―17〕
は、次の方法で合成できる。第一の方法は、前
記の方法によりR1がRCO―、R2がR′または
RCH2、R4が―COCCl3である化合物を合成し、
で示したようにアルカリで加水分解し、ラク
トン化することにより目的化合物を合成でき
る。第二の方法は、前記の〔ａ―16〕の化合
物を２〜３倍モルのカーベンゾオキシクロライ
ドと三級アミンの存在下に室温で反応させ、
R4をカーボベンゾオキシル基とし、次いで
で示した方法でR1をアシル基とし、次いで接
触還元してカーボベンゾオキシル基を脱離すれ
ば目的化合物が合成される。 一般式〔ａ〕でR1がＨで、R2がＨで、R4
が―CH2Rである化合物〔ａ―18〕は、前記
の〔ａ―１〕の化合物から合成できる。 〔ａ―１〕の化合物のジクロルメタンに溶
解もしくは分散して、トリエチルオキソニウム
テトラフルオロボレートのジクロルメタン溶液
を１〜２倍モル添加して室温にて１時間から24
時間反応させると、R4のアミド部分に高い選
択性を持つてイミノエーテルをつくることがで
きる。これを単離または単離することなく溶媒
をジクロルメタンから乾燥エタノールに交換
し、加えたトリエチルオキソニウムテトラフル
オロボレートに対して１〜３倍モル、望ましく
は1.5〜２倍モルのソジウムボロンハイドライ
ドを氷冷下に加え、５〜30分反応させた後、鉱
酸で酸性にすることにより〔ａ―18〕の化合
物を合成することができる。 この反応で〔ａ―１〕とトリエチルオキソ
ニウムテトラフルオロボレートの反応において
２個のアミド基があるにもかゝわらず、上記の
条件では―NHCORのアミド基に高い選択性を
もつて反応させることができることは驚くべき
ことである。またフエノール性―OH基やアル
コール性―OH基に対する保護基の導入も必要
としないことが判明した。 一般式〔ａ〕でR4がＲ―CH2―であると
その他の化合物〔ａ―19〕〜〔ａ―26〕
は、それぞれR1とR2が目的化合物と同一であ
り、R4がRCO―である化合物〔ａ―２〕〜
〔ａ―９〕より、上記と同様な反応を経由
して合成できる。 【表】 一般式〔ａ〕でR1がＨ、R2がＨ、R4が
R′である〔ａ―27〕の化合物は、次の方法
でも合成できる。即ちAI―77―Ｂを非プロト
ン性極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド等に溶解し、2.5〜30倍
モルのRW（Ｗはハロゲンを意味し、望ましく
はヨード基を意味する）を加え、０〜70℃に反
応させると〔ａ―27〕が得られる。 一般式〔ａ〕でR4がＲである他の化合物
は、と同様にして合成される。 即ち下記の化合物〔ａ―28〕〜〔ａ―
35〕は、それぞれR1とR2が目的化合物と同一
であり、R4がＨである化合物〔ａ―10〕〜
〔ａ―17〕より合成される。 【表】 次にAI―77―ＢからAI―77―Ｆ（が該当）
および一般式〔ａ〕で示される化合物〔式中
R1，R2は前記と同じ（〓〓が該当）〕の製法につ
いて記す。 AI―77―ＦはAI―77―Ｂとハロゲン化アル
キルを極性溶媒中、加温することにより容易に
得られる。AI―77―Ｂを極性溶媒、たとえば、
Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ―ジメ
チルアセトアミド、Ｎ―メチルピロリドン、ヘ
キサメチルホスホロトリアミド等に溶解または
懸濁し、ハロゲン化アルキル、たとえば、ヨウ
化メチル、ヨウ化エチル等を水過剰、AI―77
―Ｂに対し10〜100倍当量加え、室温から70℃
で一夜反応することにより得られる。反応は高
速液クロ、薄層クロマトグラフイー等で追跡で
きる。反応終了後、マクロ網状樹脂に吸着さ
せ、十分に水洗後、適宜水親和性の有機溶媒、
たとえば、メタノール、テトラヒドロフランで
脱離して濃縮することにより得られる。 〓〓 一般式〔ａ〕においてR1がＨで、R2が
RCO―である化合物〔ａ―１〕は、AI―77
―Ｆより上記で示した方法でR2をRCO―と
することにより、 R1がRCO―で、R2がRCO―である化合物
〔ａ―２〕は、前記〔ａ―１〕より上記
で示した方法でR1をアシル化することにより、 R1がRCO―で、R2がＨである化合物〔ａ
―３〕は、AI―77―Ｆから上記の合成ルー
トの反応と同様にしてR1をアシル化すること
により、 R1がR′またはRCH2で、R2がＨの化合物
〔ａ―４〕は、AI―77―Ｆからと同様な反
応ルートで同様に反応させ、R1をR′または
RCH2とすることにより、 R1がR′またはRCH2で、R2がRCO―の化合
物〔ａ―５〕は、前記〔ａ―１〕を前記
と同様な反応ルートでジアゾ化合物と反応さ
せ、R1をR′またはRCH2とすることにより、 R1がR′またはRCH2で、R2がR′またはRCH2
である化合物〔ａ―６〕は、上記〔ａ―
４〕を前記で示したと同様に反応させ、R2
をR′またはRCH2とすることにより、 R1がＨで、R2がR′またはRCH2である化合
物〔ａ―７〕は、AI―77―Ｆから前記で
示したと同様に反応させ、R2をR′またはRCH2
とすることにより、 R1がRCOでR2がR′またはRCH2である化合
物〔ａ―８〕は、前記〔ａ―７〕からの
方法でR1をアシル化することにより、それぞ
れ合成できる。 前記した一般式〔ａ〕における５員環ラク
トンに関して、下記の如く一般式〔ｂ〕 （式中、R1，R2，R4は前記と同じ。） との間に相互変換を容易に起し得る。即ち一般
式〔ａ〕の化合物は、一般式〔ｂ〕の化合
物を乾燥した有機溶媒、例えばアルコール類、
テトラヒドロフラン等に溶解して酸性にした
後、溶媒を留去することにより〔ａ〕のアミ
ン塩として得られる。その塩を有機溶媒に溶解
して重曹水で洗浄し、有機溶媒を乾固すること
により〔ａ〕の遊離アミンとして得られる。
一般式〔ｂ〕の化合物は、一般式〔ａ〕の
化合物を水存在下に弱アルカリでPHを９以下に
維持して５員環ラクトンを開環した後、中和し
て溶媒を乾固することにより得られる。 それぞれの化合物における二態〔ａ〕と
〔ｂ〕について、〔ａ〕型の化合物群につい
ては化合物群を表わすローマ数字およびＢに
〔ａ〕を附して表わし、〔ｂ〕型の化合物群に
ついては〔ｂ〕を附して表わす。 〓〓 上記〜〓〓の反応によつて得られる最終反応
物を、さらに精製したいと希望すれば、下記の
精製法が適用できる。 〜〓〓の反応の最終反応液は濃縮後、塩化水
素ガスを吹き込んだ乾燥メタノールあるいは乾
燥エタノールに溶解し、濃縮乾固する操作を数
回繰返して一般式ａのラクトン型にした後、
マクロ網状樹脂、例えばXAD―２等の樹脂の
カラムに吸着させ、溶出溶媒に水あるいは水と
親和性のある有機溶媒、望ましくはメタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノ
ール、テトラヒドロフラン等または水とそれら
の混合溶媒を用いてクロマトを行うことにより
目的物を精製し得る。 第３表に前述の〜〓〓の反応によつてAI―
77―Ｂから合成される一般式〔〕で示される
アミド類の中間体〔一般式〔ａ〕と〔ａ〕〕
の代表例を示す。 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】
＼
a−1−48 H
H
CHCH２CO
／
CH３
CH３(CH
２)３CH２COO
＼
a−1−49 H
H
CHCH２CO
／
CH３
【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】
＼
a−5−42 〃
〃
CHCH２CO
／
CH３
a−5−43 〃
〃 CH
３SCH２CO
a−5−44 〃
〃 CH
３(CH２)３CH２SCH２CO
【表】
＼
／
a−5−53 〃
〃
C＝C
／
＼
H
CO
【表】 【表】
＼
／ ＼
C
＝C H
／
＼
CH３
H
a−5−66 〃
H
a−5−67 〃
〃
【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 ／ ＼
CH３ H
CH３CH２CH(CH２)４CH２
a−5−110 ｜
H
〃
CH３
a−5−111
H
〃
a−5−112
H
〃
a−5−113
H
〃
【表】 ＼
a−5−121 CH
H CH３
(CH２)２CO
／
CH３
【表】
＼
a−6−7 CH３CH２
〃
CHCH２CO
／
CH３
【表】 【表】 ＼
a−7−15 CHCH２CH２
CH３
〃
／
CH３
a−7−16 CH３(CH２)２CH２
CH３
CH３CO
【表】 【表】
／ ＼
CH３ CO
【表】 【表】 【表】 【表】 ＼
a−13−26 CHCH２CH２
H H
／
CH３
CH３COO
＼
a−13−27 CHCH２CH２
H H
／
CH３
【表】 ／
CH３
【表】 ＼
a−13−41 CH
H H
／
CH３
a−14−1 CH３CH２
CH３CO H
a−14−2 〃
(CH３)２CHCO H
a−14−3 〃
CH３(CH２)１６CO
H
HC(CH２)７CH３
a−14−4 〃
‖ H
HC(CH２)７CO
【表】 ＼
a−15−6 CHCH２CH２
〃 H
／
CH３
a−15−7
〃 H
【表】 ／
CH３
a−17−5 CH３CH２CO
CH３ H
a−17−6 CCl３CO
CH３CH２ H
a−18−1 H
H CH３
CH２
a−18−2 H
H CH３
CH２CH２
a−18−3 H
H CH３
(CH２)２CH２
a−18−4 H
H (CH
３)２CHCH２
a−18−5 H
H (CH
３)２CHCH２CH２
【表】 【表】 【表】 【表】
＼
a−18−42 H
H
CHCH２CH２
／
CH３
CH３(CH
２)３CH２COO
＼
a−18−43 H
H
CHCH２CH２
／
CH３
a−18−44 H
H
【表】 【表】
／
CH３
【表】 【表】
＼
a−19−6 H
〃
CHCH２CH２
／
CH３
【表】 【表】 【表】 【表】 【表】 【表】
＼
a−22−44 〃
H
CHCH２CH２
／
CH３
a−22−45 〃
H
a−22−46 〃
H
【表】 【表】
／
｜ CH２CH２C＝C
a−22−62 〃
H
／ ＼
CH３
CH２CH２C＝C H
＼
／ ＼
C
＝C H
／
＼
CH３
H
【表】 【表】 【表】 【表】 ／
CH３
CH３COO
＼
a−22−100 CHCH２CH２
H
〃
／
CH３
CH３(CH２)３CH２COO
＼
a−22−101 CHCH２CH２
H
〃
／
CH３
【表】 ／
CH３
CH３
CH３ ｜
CH２CH２CH２
／
｜ CH２CH２C＝C
a−22−109 ／ ＼
H
〃
CH３ CH２CH２C＝C
H
＼ ／ ＼
C＝C H
／ ＼
CH３ H
【表】
／
CH３
a−23−3 〃
〃 CH
３(CH２)１６CH２
HC(CH２)
７CH３
a−23−4 〃
〃
‖
HC(CH２)
７CH２
a−23−5 CH３(CH２)１６CH２
〃
【表】 【表】 ＼
a−24−15 CHCH２CH２
CH３
CH３CH２CH２CH２
／
CH３
a−24−16 CH３(CH２)２CH２
CH３
CH３CH２
【表】 【表】
＼
a−28−5 H
CH３(CH２)１６CO
CH
／
CH３
a−29−1 CH３CO
CH３CO CH
３
CH３
＼
a−29−2 CH３CO
CH３CO
CH
／
CH３
a−30−1 CH３CO
H CH
３
CH３
＼
a−30−2 (CH３)２CHCO
H
CH
／
CH３
【表】 【表】
＼
a−35−2 〃
〃
CH
／
CH３
a−1−1 H
CH３CO
a−1−2 H
CH３CH２CO
a−1−3 H
CH３(CH２)２CO
a−1−4 H
(CH３)２CHCO
a−1−5 H
(CH３)２CHCH２CO
a−1−6 H
CH３(CH２)３CO
a−1−7 H
CH３(CH２)４CO
a−1−8 H
CH３(CH２)５CO
【表】 【表】 【表】 【表】
＼
a−1−42 H
CHCH２CO
／
CH３
【表】 【表】 【表】
／
｜ CH２CH２C＝C
a−1−67 H
／ ＼
CH３ CH２CH２C＝C H
＼ ／ ＼
C＝C H
／ ＼
CH３ H
【表】 【表】
｜
CH３
a−2−1 CH３CO
CH３CO
a−2−2 CH３CH２CO
〃
【表】 ／ ＼
CH３ CO
a−3−15
H
【表】 【表】 【表】 ／
CH３
CH３COO
＼
a−4−27 CHCH２CH２
H
／
CH３
CH３(CH２)３CH２COO
＼
a−4−28 CHCH２CH２
H
／
CH３
【表】 ／
CH３
CH３
CH３ ｜
CH２CH２CH２
／
｜ CH２CH２C＝C
a−4−36 ／ ＼
H
CH３ CH２CH２C＝C
H
＼ ／ ＼
C＝C H
／ ＼
CH３ H
【表】 【表】 第３表に代表される一般式〔ａ〕の化合物
を原料として、下記の一般式〔〕の化合物を
〔式中R1，R2，R3，R4は前記と同じ）合成す
る方法について述べる。 〓〓 一般式〔ａ〕の化合物とアンモニアあるい
は乾燥した一級アミン（NH2R3）を原料が遊
離アミンの場合は1.5〜100倍、塩の場合は2.5
〜100倍モルを反応させるために、アミン類が
溶液の場合は試薬を溶媒とし、ガスあるいは固
体の場合は、原料と試薬を溶解させるために非
プロトン性溶媒場合によつてはアルコール類を
用いて０〜30℃で１〜72時間撹拌することによ
り、５員環ラクトンにアミン類が反応した一般
式〔〕の化合物が得られる。 〓〓 〓〓と同様の反応条件で溶媒として非プロトン
性極性溶媒を、例えばジメチルホルムアミド、
ジメチルスルフオキサイド等を使用して〔
ａ〕の化合物から一般式〔〕の化合物が得ら
れる。 一般式〔〕と〔〕の化合物を弱アルカリ
の溶液中で６員環ラクトンを加水分解させた化
合物を得ることもできる。 上述の〓〓〓〓の反応によつて得られる化合物群
と、それらの対応する原料群を以下に示す。 【表】 【表】 【表】 【表】 第４表に前述の〓〓〓〓の方法で合成される化合物
の代表例を示すが、先記した如くこれらの化合物
は顕著な薬効を示す。第４表に後述の方法によつ
て試験した代表化合物の潰瘍抑制作用を附記す
る。薬効試験は次のように実施した。 １ 抗潰瘍性試験 ラツト（ウイスター、雄、体重150ｇ前後）
を試験開始の24時間前から絶食させた。生理食
塩水を溶媒として用い、試験化合物の所定濃度
の溶液または懸濁液を調製して動物の腹腔内に
投与した。薬剤投与の１時間後に金網篭にラツ
トを固定し、21℃の水槽中に胸部剣状骨まで６
時間浸漬した。動物は頚椎脱白して屠殺した
後、胃を摘出して大湾に沿つて切開し胃内壁を
剖見した。潰瘍の発生がほとんど認められない
ものを０とし、潰瘍の発生程度により0.5，１，
２，３の採点を行つた。下記の式より潰瘍抑制
率を算出した。 潰瘍抑制率（％）＝100−薬剤投与動物群の点数の総
和／薬剤無投与動物群の点数の総和×100 第４表に各化合物を25mg／Kgおよび50mg／Kg
宛腹腔内投与した時の潰瘍抑制率を示す。 【表】 【表】 【表】
＼
−1−25 H H
H CHCH２CH２
94
／
CH３
CH３(CH２)４
O
＼
−1−26 H H
H CHCH
２CH２ 89
／
CH３
【表】 【表】
＼
−1−41 H H
H CH
94
／
CH３
【表】 ＼ ／
−2−3 H C＝C
H H
78
／ ＼
H CO
【表】 【表】 ＼
−9−5 CHCH２CH２
〃 H H
78
／
CH３
−10−1 H H
CH３CH２CH２
H
94
【表】 【表】
＼
−15−2 CH３CH２
〃 CHCH２CH２
H
50
／
CH３
−15−3 CH３CH２C
H２CO CH３CH２CH２CH２
H
50
−15−4 CH３ CH３CH２CO
CH３CH２ CH
３CH２ 44
【表】
／
CH３
−19−3 H H
〃
66
−20−1 H CH３CO
CH３
H
89
【表】
＼
−22−2 (CH３)２CHCO H
CH H
66
／
CH３
−23−1 CH３CH２ H
CH３
H
89
−23−2 〃 H
〃
CH２(CH２)２CH２ 66
−23−3 〃 H
〃
66
【表】
＼
−25−2 〃 CH３(CH２
)２CH CH H
56
／
CH３
−25−3 CH３(CH２)２CH２ CH３(CH２)
２CH２ CH３
H
56
−26−1 H CH３
CH３
H
89
CH３
＼
−26−2 H CH３
(CH２)１７ CH
H 56
／
CH３
【表】 【表】 ／ ＼
H CO
【表】 本発明の中で抗潰瘍性の点で好ましい化合物
は、一般式〔―１〕、〔―10〕、〔―19〕で
示される化合物群である。 以下に本発明の実施例を挙げて説明する。 実施例 １ バチルス・プミルスAI―77を普通寒天斜面に
接種し、30℃に１日培養して種菌とした。500ml
の肩付振盪フラスコに下記栄養培地100mlを仕込
んだ。これに上記種菌を接種して、30℃に１日往
復振盪培養した。この培養菌体は、以下の実施例
２において種菌として使用した。 グルコース 1.0％ ポリペプトン 1.0 肉エキス 0.5 NaCl 0.5 消泡剤KF―96（信越化学社製） 0.1 実施例 ２ 容量20のジヤーフアーメンターに実施例１に
使用した培地を10仕込み、実施例１の種菌を
500ml接種して、通気量0.5V／Ｖ／ｍ、撹拌数
300rpmで30℃に１日培養した。この７を種菌
とし、同組成の培地125を仕込んだ容積200の
発酵タンクに接種し、通気性0.5V／Ｖ／ｍ、撹
拌数300rpmの条件下に30℃、18時間培養した。
これを種菌として、実施例３と同じ組成の培地
2.5m3を仕込んだ内容５m3の発酵タンク内に、種
菌の全量を接種した。通気量0.5V／Ｖ／ｍ、撹
拌数170rpmの条件下に30℃で４日培養した。培
養終了後、培養液をホローフアイバー限外過装
置を用いて液とし、XAD―２を130充填した
第１カラムを流下させた。2.6m3の10％メタノー
ル水溶液でカラムを洗浄した後、30％メタノール
水溶液2.6m3を流下してＢ成分を溶出した。脱離
液に等量の水を混和しながら連続的に、XAD―
２ 80を充填した第２カラムを流下させてＢ成
分を再びカラムに吸着させた。20％メタノール水
溶液1.6m3を用いて洗浄した後、100％メタノール
180でＢ成分を溶出した。メタノール溶出液を
濃縮すると、Ｂ成分の４水塩が650ｇ得られた。
こゝに得られた標品は、高速液体クロマトによる
純度検定では98％の純度であつた。この結晶をア
セトニトリルで洗浄して風乾した。これをさらに
五酸化燐上減圧下に60℃で６時間乾燥したもの
は、先述した理化学的性質を示した。 実施例 ３ AI―77―B30ｇをガラス製お耐圧容器に入れ、
DMF150mlで溶かす。ヨウ化メチル300mlを入れ、
50℃で一夜振盪する。DMFおよび過剰のヨウ化
メチルを減圧下留去した後、メタノール50ml一水
50mlの混合溶媒に溶かし、アンバーライトXAD
―２を２充填したカラムを流下させる。カラム
をメタノール50％―水50％で充分洗浄した後、80
％メタノール―水（10％の1N―塩酸を含む）で
溶出させ、濃縮するとAI―77―Ｆが20ｇ白色結
晶性沈澱として得られた。これをP2O5上50℃に
一夜減圧下に乾燥したものは、先述したAI―77
―Ｆの理化学的性質を示した。 実施例 ４ 充分に乾燥したAI―77―B20ミリモル8.48ｇを
ピリジン36mlに溶解し、室温下、無水酢酸40ミリ
モル4.08ｇを滴下し、３時間撹拌する。反応は薄
層クロマトグラフイー（たとえば、メルク社
TLC5714展開溶媒クロロホルム：メタノール＝
10：１）で追跡する。ピリジンを減圧下留去した
後、残渣を50mlの水で２回、計100mlの水で洗浄
する。この残燔を水―メタノール系溶媒（水50％
メタノール50％）に溶かし、アンバーライト
XAD―２を１充填したカラムを流下させる。
カラムを５の水で洗浄後、メタノール85％水15
％の溶媒系で溶出した区分を集め、濃縮して乾燥
し、目的物ａ―１，7.5ｇを得た。IR、UV、
NMRスペクトル、Massスペクトルより、目的
化合物と同定された。 以下の実施例においても同様な手法で同定され
た。 実施例 ５ 充分に乾燥したAI―77―B71ミリモル30ｇをピ
リジン500mlに溶解し、無水カプリル酸142ミリモ
ル38.2ｇを室温下に加える。室温で３時間撹拌し
た後、ピリジンを減圧下留去する。この乾固物を
メタノール400mlに溶解し、塩酸飽和メタノール
でPHを１にする。これを減圧下濃縮乾固する。さ
らに、これをメタノール200mlに溶解し、１規定
水酸化ナトリウム溶液でPHを５にする。この溶液
を−20℃にて一夜放置し、生じた沈澱を別す
る。別した沈澱を水―メタノール系溶媒（水50
％、メタノール50％）に懸濁させ、アンバーライ
トXAD―２を３充填したカラムを流下させる。
カラムを15の水で洗浄後、メタノール85％水15
％の溶媒系で流出した区分を集め、濃縮して乾燥
し、目的物ａ―１―９，29，78ｇを得た。 実施例 ６ 充分に乾燥したAI―77―B4.95ミリモル2.1ｇを
ピリジン25mlに溶解し、室温下無水ステアリン酸
６ミリモル3.3ｇを加え、室温で４時間撹拌する。
減圧下ピリジンを留去した後、水100mlを加える。
生じた沈澱を別し、充分に乾燥する。この固型
物を150mlのヘキサンで３回、計450mlで洗浄す
る。これをクロロホルム150mlに溶かし、ｐ―ト
ルエンスルホン酸330mgを加え２時間撹拌する。
これに水100mlを加え、分液し、クロロホルム層
をとりだして芒硝で乾燥し、芒硝を別し、クロ
ロホルム層を濃縮して目的物ａ―１―11，2.29
ｇを得た。 実施例 ７ 充分に乾燥したAI―77―B18.9ミリモル8.01ｇ
をピリジン30mlに溶解し、室温下無水イソ酪酸
37.8ミリモル5.97ｇを加え、室温で３時間撹拌す
る。減圧下ピリジンを留去した後、水400mlを加
える。生じた沈澱を別し、充分に乾燥する。こ
れをテトラヒドロフラン80mlに溶解し、室温下ｐ
―トルエンスルホン酸900mgを加え１時間30分撹
拌する。減圧下溶媒を除去し、その残渣をクロロ
ホルム200mlに溶かし、水300mlを加え分液する。
クロロホルム層をとり出して芒硝で乾燥し、芒硝
を別し、クロロホルム層を濃縮して目的物ａ
―１―４，8.52ｇを得た。 実施例 ８ 充分に乾燥したAI―77―B11.8ミリモル５ｇを
ピリジン20mlに溶かし、氷冷下トリクロアセチル
クロライド12ミリモル2.19ｇを加え、氷冷下で４
時間撹拌する。減圧下ピリジンを留去した後、エ
タノール２mlに溶かし、氷水100ml中これを加え
ると粉末が生成する。これを過し、30mlの水で
２回、計60mlの水で洗い、乾燥して目的物ａ―
１―12，4.54ｇを得た。 実施例 ９ 実施例４で合成したａ―１―１，２ミリモル
をピリジン４ml中に入れ、無水プロピオン酸30ミ
リモルを加える。これに塩化亜鉛20mgを加え、室
温で２時間撹拌する。この反応液を大量の氷水中
にあけ、生成した沈澱を別する。これを５mlの
水で２回、計10mlの水で洗浄する。この沈澱物を
水、テトラヒドロフラン系溶媒（水50％、テトラ
ヒドロフラン50％）に懸濁させ、アンバーライト
XAD―２を100ml充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラ
ン70％、水30％の溶媒系で流出した区分を集め、
濃縮してａ―２―10，700mgを得た。 実施例 10 実施例８で合成したａ―１―12，２ミリモル
をピリジン５ml中に入れ、トリクロロアセチルク
ロライド10ミリモルを加え、室温で１時間30分撹
拌する。この反応液を大量の氷水中にあけ、生成
した沈澱を別する。これを10mlの水で２回、計
20mlの水で洗浄する。この沈澱物を水、テトラヒ
ドロフラン系溶媒（水50％、テトラヒドロフラン
50％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―２を
100ml充填したカラムを流下させる。カラムを500
mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラン70％、水30
％の溶媒系で流出した区分を集め、濃縮してａ
―２―１，680mgを得た。 実施例 11 実施例９で合成したａ―２―10，1.5ミリモ
ルをピリジン４mlに溶解し、無水イソ酪酸20ミリ
モルを滴下し、50℃で４時間撹拌する。ピリジン
を減圧下留去した後、残渣を大量の氷水中にあけ
る。これを10mlの水で３回、計30mlの水で洗浄
し、残渣を水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を100ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン70％、水30％の溶媒系で流出した区
分を集め、濃縮してａ―３―２，712mgを得た。 実施例 12 実施例10で合成したａ―２―１，1.5ミリモ
ルをピリジン４mlに溶解し、無水酢酸20ミリモル
を滴下し、５℃で４時間撹拌する。ピリジンを減
圧下留去した後、残渣を大量の氷水中にあける。
これを10mlの水で３回、計30mlの水で洗浄し、残
渣を水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テ
トラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アンバーラ
イトXAD―２を100ml充填したカラムを流下させ
る。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロ
フラン70％、水30％の溶媒系で流出した区分を集
め、濃縮してａ―３―10，670mgを得た。 実施例 13 実施例11で合成したａ―３―２，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下にトリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリ
ウムを分解する。これを減圧下乾固した後、水、
テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒド
ロフラン60％）に懸濁させ、アンバーライト
XAD―２を70ml充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラ
ン―水系の溶媒でテトラヒドロフランの含量を10
％、20％と順次上げて行き、60％で溶出する区分
を集め、濃縮してａ―20―２，150mgを得た。 実施例 14 実施例９で合成したａ―２―10，1.5ミリモ
ルを塩化メチレン10mlに溶解し、ジアゾメタンの
エーテル溶液15ミリモル加え、室温下一夜撹拌す
る。過剰のジアゾメタンを酢酸で除去し、反応液
を減圧乾固する。残渣を水、テトラヒドロフラン
系溶媒（水40％、テトラヒドロフラン60％）に懸
濁させ、アンバーライトXAD―２を100ml充填し
たカラムを流下させる。カラムを500mlの水で洗
浄後、テトラヒドロフラン―水系の溶媒でテトラ
ヒドロフランの含量を10％、20％と順次上げて行
き、60％で溶出する区分を集め、濃縮してａ―
６―12，630mgを得た。 実施例 15 実施例14で合成したａ―６―12，１ミリモル
を塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴン雰囲気下
にトリエチルオキソニウムフルオロボレート1.5
ミリモルを加え、室温下４時間撹拌する。塩化メ
チレン減圧下留去した後、無水エタノール10mlを
入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム２ミリモル
を加え、10分間撹拌した後、塩化水素ガス飽和エ
タノールで過剰の水素化ホウ素ナトリウムを分解
する。これを減圧下乾固した後、水、テトラヒド
ロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフラン60
％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―２を60
ml充填したカラムを流下させる。カラムを300ml
の水で洗浄後、テトラヒドロフラン―水系の溶媒
でテトラヒドロフランの含量を10％、20％と順次
上げて行き、60％で溶出する区分を集め、濃縮し
てａ―23―11，85mgを得た。 実施例 16 実施例９で合成したａ―２―10，1.5ミリモ
ルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アル
ゴン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロ
ボレート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌
する。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタ
ノール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウ
ム２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水
素ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナト
リウムを分解する。これを減圧下乾固した後、
水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラ
ヒドロフラン60％）に懸濁させ、アンバーライト
XAD―２を70ml充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラ
ン―水系の溶媒で、テトラヒドロフランの含量を
10％、20％と順次上げて行き、50％で溶出する区
分を集め、濃縮してａ―19―９，325mgを得た。 実施例 17 実施例４で合成したａ―１―１，３ミリモル
をメタノール50mlに溶解し、室温下ジアゾブタン
のエーテル溶液30ミリモルを加え、一夜撹拌す
る。過剰のジアゾブタンを酢酸で除去し、反応後
を減圧乾固する。これをメタノール５mlにとか
し、メルク社TLCPSC―Fertigplatten
KIESELGEL60F―254（Art5717）20cm×20cm×
２mm24枚にスポツトし、メタノール：クロロホル
ム10：１の溶媒系で展開し、Rf0.52の部分（紫外
吸収有り、螢光なし）をかきとり、集めてメタノ
ールを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別した
後、メタノールを濃縮してａ―５―３，800mg
を得た。 実施例 18 実施例８で合成したａ―１―12，５ミリモル
をメタノール20ml、クロロホルム80mlの混合溶媒
で溶解する。室温下ジアゾエタンのエーテル溶液
30ミリモルを加え１時間撹拌する。過剰のジアゾ
エタンを酢酸で除去し、溶媒を減圧下留去して残
渣を水―メタノール系溶媒（水50％、メタノール
50％）に懸濁し、アンバーライトXAD―２を300
ml充填したカラムを流下させる。カラムを１の
水で洗浄後、メタノール90％、水10％の溶媒系で
溶出する部分を集め、濃縮して乾燥、目的物ａ
―５―13，2.72ｇを得た。 実施例 19 実施例17で合成したａ―５―３，１ミリモル
を塩化メチレン15mlに溶解し、ジアゾメタンのエ
ーテル溶液を1.2ミリモル添加し、蒸留直後のト
リフツ化ホウ素エーテル錯体（和光純薬）0.5ml
を加え、一夜撹拌する。過剰のジアゾメタンを酢
酸で除去した後、、反応液を大量の氷水中にあけ、
生じた沈澱を別する。これを５mlの水で２回、
計10mlの水で洗浄し、残渣を水―テトラヒドロフ
ラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフラン60％）
に懸濁し、アンバーライトXAD―２を70ml充填
したカラムを流下させる。カラムを500mlの水で
洗浄後、テトラヒドロフラン―水系の溶媒でテト
ラヒドロフランの含量を10％、20％と順次上げて
行き、65％で溶出する区分を集め、濃縮してａ
―７―16，632mgを得た。 実施例 20 実施例18で合成したａ―５―13，１ミリモル
を塩化メチレン15mlに溶解し、ジアゾプロパンの
エーテル溶液を1.2ミリモル添加し、蒸留直後の
トリフツ化ホウ素エーテル錯体（和光純薬）0.5
mlを加え、一夜撹拌する。過剰のジアゾプロパン
を酢酸で除去した後、反応液を大量の氷水中にあ
け、生じた沈澱を別する。これを５mlの水で２
回、計10mlの水で洗浄し、残渣を水―テトラヒド
ロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフラン60
％）に懸濁し、アンバーライトXAD―２を70ml
充填したカラムを流下させる。カラムを500mlの
水で洗浄後、テトラヒドロフラン―水系の溶媒で
テトラヒドロフランの含量を10％、20％と順次上
げて行き、65％で溶出する区分を集め、濃縮して
ａ―７―17，670mg得た。 実施例 21 実施例19で合成したａ―７―16，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで、過剰の水素化ホウ素ナト
リウムを分解する。これを減圧下乾固した後、
水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラ
ヒドロフラン60％）に懸濁させ、アンバーライト
XAD―２を70ml充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラ
ン―水系の溶媒で、テトラヒドロフランの含量を
10％、20％と順次上げて行き、70％で溶出する区
分を集め、濃縮してａ―24―16，230mg得た。 実施例 22 実施例17と同様の方法で合成したａ―５―
５，４ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン40mlに
溶解し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニ
ウムフルオロボレート６ミリモルを加え、室温下
４時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した
後、無水エタノール40mlを入れ、氷冷下水素化ホ
ウ素ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌し
た後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素
化ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾
固した後、水、メタノール系溶媒（水80％、メタ
ノール20％）に溶解させ、アンバーライトXAD2
を200ml充填したカラムを流下させる。カラムを
２の水で洗浄後、メタノール―水系の溶媒で、
メタノールの含量を10％、20％と順次上げて行
き、40％で溶出する区分を集め、濃縮してａ―
22―５，500mgを得た。 実施例 23 実施例17で合成したａ―５―３，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリ
ウムを分解する。これを減圧下乾固した後、水、
メタノール系溶媒（水80％、メタノール20％）に
懸濁させ、アンバーライトXAD―２を70ml充填
したカラムを流下させる。カラムを500mlの水で
洗浄後、メタノール―水系の溶媒で、メタノール
の含量を10％、、20％と順次上げて行き50％で溶
出する区分を集め、濃縮してａ―22―３，103
mgを得た。 実施例 24 実施例４で合成したａ―１―１，10ミリモル
をメタノール200mlに溶解し、室温下フエニルジ
アゾメタン20ミリモルを加え、３時間撹拌する。
過剰のフエニルジアゾメタンを酢酸で酢酸ベンジ
ルにする。反応液を減圧乾固し、残渣を20mlのエ
ーテルで洗浄する。この残渣を充分に乾燥し、こ
れを塩化メチレン200mlに溶解する。これにジア
ゾメタンのエーテル溶液50ミリモルを加え、さら
にトリフツ化ホウ素エーテル錯体（和光純薬）５
mlを加え、室温下一夜撹拌する。過剰のジアゾメ
タンを酢酸で除去した後、減圧下溶媒を除去す
る。残渣を大量の氷水中に入れ、生じた沈澱を
別する。これを50mlの水で２回、計100mlの水で
洗浄し、残渣を充分に乾燥する。これをメタノー
ル30mlに溶かし、Pd―Ｃ（10％）を500mg加え、
１気圧、室温下水素ガスと振盪する。20分で反応
を終了し、Pd―Ｃを去した後、溶媒を減圧下
留去する。残渣を水―メタノール系溶媒（水40
％、メタノール60％）に懸濁し、アンバーライト
XAD―２を300ml充填したカラムを流下させる。
メタノール―水系の溶媒でメタノールの含量を10
％、20％と順次上げて行き、50％で溶出する区分
を集め、濃縮してａ―８―９，820mgを得た。 実施例 25 実施例24で合成したａ―８―９，１ミリモル
をピリジン５mlに溶解し、無水イソ酪酸20ミリモ
ルを滴下し、50℃で４時間撹拌する。ピリジンを
減圧下留去した後、残渣を大量の氷水中にあけ
る。これを10mlの水で３回、計30mlの水で洗浄
し、残渣を水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を100ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン70％、水30％の溶媒系で流出した区
分を集め、濃縮してａ―９―９，420mgを得た。 実施例 26 実施例25で合成したａ―９―９，0.7ミリモ
ルを蒸留直後の塩化メチレン７mlに溶解し、アル
ゴン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロ
ボレート１ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール７mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
1.4ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水
素ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナト
リウムを分解する。これを減圧下乾固した後、
水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラ
ヒドロフラン60％）に懸濁させ、アンバーライト
XAD―２を50ml充填したカラムを流下させる。
カラムを400mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラ
ン―水系の溶媒でテトラヒドロフランの含量を10
％、20％ち順次上げて行き、60％で溶出する区分
を集め、濃縮してａ―26―９，120mg得た。 実施例 27 実施例24で合成したａ―８―９，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素ホウ素ナトリウム２
ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素ガ
ス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリウ
ムを分解する。これを減圧下乾固した後、水、テ
トラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロ
フラン60％）に懸濁させ、アンバーライトXAD
―２を70ml充填したカラムを流下させる。カラム
を500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラン―水
系の溶媒でテトラヒドロフランの含量を10％、20
％と順次上げて行き、40％で溶出する区分を集
め、ａ―25―９，180mgを得た。 実施例 28 実施例４で合成したａ―１―１，10ミリモル
をピリジン30ml中に入れ、ベンジルオキシカルボ
ニルクロライド20ミリモルを加える。室温で１時
間30分撹拌する。この反応液を大量の氷水中にあ
け、生成した沈澱を別する。これを50mlの水で
２回、計100mlの水で洗浄する。さらにエーテル
50mlで洗浄する。充分に乾燥した後、、ピリジン
40mlに溶解し、無水プロピオン酸100ミリモルを
滴下し、50℃で４時間撹拌する。ピリジンを減圧
下留去した後、残渣を大量の氷水中に入れる。こ
れを100mlの水で３回、計300mlの水で洗浄し、充
分乾燥する。これをメタノール30mlに溶かし、
Pd―Ｃ（10％）を550mg加え、１気圧、室温下水
素ガスと振盪する。１時間で反応を終了し、Pd
―Ｃを去した後、溶媒を減圧下留去する。残渣
を水―テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テト
ラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アンバーライ
トXAD―２を300ml充填したカラムを流下させ
る。テトラヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒ
ドロフランの含量を10％、20％と順次上げて行
き、40％で溶出する区分を集め、濃縮してａ―
４―１，2.3ｇを得た。 実施例 29 実施例８で合成したａ―１―12，５ミリモル
をピリジン15ml中に入れ、ベンジルオキシカルボ
ニルクロライド10ミリモルを加える。室温で２時
間撹拌する。この反応液を大量の氷水中に入れ、
生成した沈澱を別する。これを30mlの水で２
回、計60mlの水で洗浄する。さらにエーテル30ml
で洗浄する。充分に乾燥した後、ピリジン25mlに
溶解し、トリクロロアセチルクロライド50ミリモ
ルを滴下し、50℃で４時間撹拌する。ピリジンを
減圧下留去した後、残渣を大量の氷水中に入れ
る。これを50mlの水で３回、計150mlの水で洗浄
し、充分乾燥する。これをメタノール15mlに溶か
し、Pd―Ｃ（10％）を300mg加え、１気圧、室温
下水素ガスと振盪する。１時間で反応を終了し、
Pd―Ｃを去した後、溶媒を減圧下留去する。
残渣をクロロホルム50mlに溶かし、ジアゾメタン
のエーテル溶液20ミリモルを加え、さらにトリフ
ツ化ホウ素エーテル錯体（和光純薬）２mlを加
え、室温下一夜撹拌する。過剰のジアゾメタンを
酢酸で除去した後、減圧下溶媒を除去する。残渣
をメタノール10ml、水20mlの混合溶媒に懸濁さ
せ、１規定水酸化ナトリウム水溶液をPHが12にな
るまで加える。室温下撹拌するとPHが下るので、
さらにPH12になるまで上記のアルカリを加える。
PHが12から下らなくなつたならば１規定塩酸でPH
７に調節し、これをアンバーライトXAD―２を
150ml充填したカラムを流下させる。500mlの水で
洗浄した後、メタノール―水系の溶媒でメタノー
ルの含量を10％、20％と順次上げて行き、50％で
溶出する区分を集め濃縮する。これを塩化水素飽
和メタノール10mlに溶かし、氷冷下30分撹拌す
る。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥してａ―
16―１，920mg得た。 実施例 30 実施例４で合成したａ―１―１，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリ
ウムを分解する。これを減圧下乾固した後、水、
メタノール系溶媒に溶解し、アンバーライト
XAD―２を70mlの充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、メタノール―水系
の溶媒で（水には１規定塩酸10％を含む）メタノ
ールの含量を10％、20％と順次上げて行き、45％
で溶出する区分を集め、濃縮してａ―18―１，
220mgを得た。 実施例 31 実施例４と同様にして合成したａ―１―２，
１ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解
し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニウム
フルオロボレート1.5ミリモルを加え、室温下４
時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した後、
無水エタノール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素
ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌した
後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素化
ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾固
した後、水、メタノール系溶媒に溶解し、アンバ
ーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流下
させる。カラムを500mlの水で洗浄後、メタノー
ル―水系の溶媒で（水には１規定塩酸10％を含
む）メタノールの含量を10％、20％と順次上げて
行き、50％で溶出する区分を集め、濃縮してａ
―18―２，210mgを得た。 実施例 32 実施例４と同様にして合成したａ―１―６，
１ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解
し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニウム
フルオロボレート1.5ミリモルを加え、室温下４
時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した後、
無水エタノール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素
ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌した
後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素化
ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾固
した後、水、メタノール系溶媒に溶解し、アンバ
ーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流下
させる。カラムを500mlの水で洗浄後、メタノー
ル―水系の溶媒で（水には１規定塩酸10％を含
む）メタノールの含量を10％、20％と順次上げて
行き、55％で溶出する区分を集め、濃縮してａ
―18―６，215mgを得た。 実施例 33 実施例５で合成したａ―１―９，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリ
ウムを分解する。これを減圧下乾固した後、水、
メタノール系溶媒に溶解し、アンバーライト
XAD―２を70ml充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、メタノール―水系
の溶媒で（水には１規定塩酸10％を含む）メタノ
ールの含量を10％、20％と順次上げて行き、70％
で溶出する区分を集め、濃縮してａ―18―９，
250mgを得た。 実施例 34 実施例６で合成したａ―１―11，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素化ホウ
素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾固した
後、水、メタノール系溶媒に溶解し、アンバーラ
イトXAD―２を70ml充填したカラムを流下させ
る。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロ
フラン―水系の溶媒で（水には１規定塩酸10％を
含む）テトラヒドロフランの含量を10％、20％と
順次上げて行き、50％で溶出する区分を集め、濃
縮してａ―18―11，230mgを得た。 実施例 35 実施例20で合成したａ―７―17，１ミリモル
をメタノール２ml、水４mlの混合溶媒に懸濁さ
せ、１規定水酸化ナトリウム水溶液をPHが12にな
るまで加える。室温下撹拌するとPHが下るので、
さらにPH12になるまで上記のアルカリを加える。
PHが12から下らなくなつたならば１規定塩酸でPH
７に調節し、これをアンバーライトXAD―２を
30ml充填したカラムを流下させる。100mlの水で
洗浄した後、メタノール―水系の溶媒でメタノー
ルの含量を10％、20％と順次上げて行き、70％で
溶出する区分を集め濃縮する。これを塩化水素飽
和メタノール２mlに溶かし、氷冷下30分撹拌す
る。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥してａ―
15―８，370mg得た。 実施例 36 実施例18で合成したａ―５―13，５ミリモル
をメタノール10ml、水20mlの混合溶媒に懸濁さ
せ、１規定水酸化ナトリウム水溶液をPHが12にな
るまで加える。室温下撹拌するとPHが下るので、
さらにPH12になるまで上記のアルカリを加える。
PHが12から下らなくなつたならば１規定塩酸でPH
７に調節し、これをアンバーライトXAD―２を
150ml充填したカラムを流下させる。500mlの水で
洗浄した後、メタノール―水系の溶媒でメタノー
ルの含量を10％、20％と順次上げて行き、60％で
溶出する区分を集め濃縮した。これを塩化水素飽
和メタノール10mlに溶かし、氷冷下30分撹拌す
る。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥してａ―
13―２，1.89ｇを得た。 実施例 37 実施例14と同様にして合成したａ―６―13，
１ミリモルを、実施例39で示した方法と同様に反
応させ、脱トリクロロアセチル化を行なう。精製
も実施例39と同様に行ない、メタノールの含量70
％で溶出する区分を集め濃縮する。これを塩化水
素飽和メタノール２mlに溶かし、氷冷下30分撹拌
する。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥して、
ａ―14―９，320mgを得た。 実施例 38 実施例８で合成したａ―１―12，５ミリモル
をメタノール100mlに溶解し、室温下フエニルジ
アゾメタン10ミリモルを加え、３時間撹拌する。
過剰のフエニルジアゾメタンを酢酸で酢酸ベンジ
ルにする。反応液を減圧乾固し、残渣を15mlのエ
ーテルで洗浄する。この残渣を充分に乾燥し、こ
れを塩化メチレン100mlに溶解する。これにジア
ゾメタンのエーテル溶液25ミリモルを加え、さら
にトリフツ化ホウ素エーテル錯体（和光純薬）
2.5mlを加え、室温下一夜撹拌する。過剰のジア
ゾメタンを酢酸で除去した後、減圧下溶媒を除去
する。残渣を大量の氷水中に入れ、生じた沈澱を
別する。これを25mlの水で２回、計50mlの水で
洗浄し、沈澱を充分に乾燥する。これをメタノー
ル15mlに溶かし、Pd―Ｃ（10％）を250mg加え、
１気圧、室温下水素ガスと振盪する。20分で反応
を終了し、Pd―Ｃを去した後、溶媒を減圧下
留去する。残渣を充分乾燥した後、ピリジン15ml
に溶かし、無水プロピオン酸100ミリモルを滴下
し、50℃で４時間撹拌する。ピリジンを減圧下留
去した後、残渣を大量の氷水中に入れる。これを
150mlの水で３回、計450mlの水で洗浄する。これ
をメタノール10ml、、水20mlの混合溶媒に懸濁さ
せ、１規定水酸化ナトリウム水溶液をPHが12にな
るまで加える。室温下撹拌するとPHが下るので、
さらにPH12になるまで上記のアルカリを加える。
PHが12から下らなくなつたならば１規定塩酸でPH
７に調節し、これをアンバーライトXAD―２を
150ml充填したカラムを流下させる。500mlの水で
洗浄した後、メタノール―水系の溶媒でメタノー
ルの含量を10％、20％と順次上げて行き、70％で
溶出する区分を集め濃縮する。これを塩化水素飽
和メタノール10mlに溶かし、氷冷下30分撹拌す
る。溶媒を減圧下留去し、充分い乾燥してａ―
17―５，830mgを得た。 実施例 39 実施例12で合成したａ―２―１，１ミリモル
をメタノール２ml、水４mlの混合溶媒に懸濁さ
せ、１規定水酸化ナトリウム水溶液をPHが12にな
るまで加える。室温下撹拌するとPHが下るので、
さらにPH12になるまで上記のアルカリを加える。
PHが12から下らなくなつたならば１規定塩酸でPH
７に調節し、これをアンバーライトXAD―２を
150ml充填したカラムを流下させる。500mlの水で
洗浄した後、メタノール―水系の溶媒でメタノー
ルの含量を10％、20％と順次上げて行き、50％で
溶出する区分を集め濃縮する。これを塩化水素飽
和メタノール２mlに溶かし、氷令冷下30分撹拌す
る。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥してａ―
12―１，400mgを得た。 実施例 40 充分に乾燥したAI―77―B5ミリモルをピリジ
ン10mlに溶解し、ベンジルオキシカルボニルクロ
ライド10ミリモルを加え、室温で３時間撹拌した
後、ベンジルオキシカルボニルクロライド20ミリ
モルを加え、さらに室温で１時間30分撹拌する。
この反応液を大量の氷水中に入れ、生成した沈澱
を別する。これを50mlの水で２回、計100mlの
水で洗浄する。さらにエーテル50mlで洗浄する。
充分に乾燥した後、ピリジン40mlに溶解し、トリ
クロロアセチルクロライド50ミリモルを加え、50
℃で４時間撹拌する。ピリジンを減圧下留去した
後、残渣を大量の氷水中に入れる。これを50mlの
水で３回、計150mlの水で洗浄し、充分乾燥する。
これをメタノール15mlに溶かし、Pd―Ｃ（10％）
を280mg加え、１気圧、室温下水素ガスと振盪す
る。２時間で反応を終了し、Pd―Ｃを去した
後、溶媒を減圧下留去する。残渣を水―テトラヒ
ドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフラン
60％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―２を
150ml充填したカラムを流下させる。 テトラヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒド
ロフランの含量を10％、20％と順次上げて行き、
30％で溶出する区分を集め、濃縮してａ―12―
９，1.02ｇを得た。 実施例 41 充分に乾燥したAI―77―B5ミリモルをピリジ
ン10mlに溶かし、ベンジルオキシカルボニルクロ
ライド10ミリモルを加え、室温下３時間撹拌す
る。ピリジンを減圧下留去した後、残渣を10mlの
水で２回、計20mlの水で洗浄する。さらにエーテ
ル30mlで洗浄する。充分に乾燥した後、メタノー
ル100mlに溶解し、室温下フエニルジアゾメタン
10ミリモルを加え、３時間撹拌する。過剰のフエ
ニルジアゾメタンを酢酸で酢残ベンジルにする。
反応液を減圧乾固し、残渣を10mlのエーテルで洗
浄する。この残渣を充分乾燥し、塩化メチレン
100mlに溶解する。これにジアゾエタンのエーテ
ル溶液10ミリモルを加え、さらにトリフツ化ホウ
素エーテル錯体（和光純薬）2.5mlを加え、室温
下一夜撹拌する。過剰のジアゾエタンを酢酸で除
去した後、減圧下溶媒を除去する。残渣を大量の
氷水中に入れ、生じた沈澱を別する。これを25
mlの水で２回、計50mlの水で洗浄し、残渣を充分
に乾燥する。 これをメタノール15mlに溶かし、Pd―Ｃ（10
％）を280mg加え、１気圧、室温下水素ガスと振
盪する。２時間で反応を終了し、Pd―Ｃを去
した後、溶媒を減圧下留去する。残渣を水―テト
ラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフ
ラン60％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―
２を150ml充填したカラムを流下させる。テトラ
ヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒドロフラン
の含量を10％、20％と順次上げて行き、30％で溶
出する区分を集め、濃縮してａ―16―７，1.21
ｇを得た。 実施例 42 実施例41で合成したａ―16―７，１ミリモル
をピリジン４ml中に入れ、ベンジルオキシカボニ
ルクロライド２ミリモルを加え、室温下３時間撹
拌する。ピリジンを減圧下留去した後、残渣を２
mlの水で２回、計４mlの水で洗浄する。さらにエ
ーテル６mlで洗浄する。充分に乾燥した後、ピリ
ジン４ml中に入れ、トリクロロアセチルクロライ
ド10ミリモルを加え、50℃で４時間撹拌する。ピ
リジンを減圧下留去した後、残渣を大量の氷水中
に入れる。これを10mlの水で３回、計30mlの水で
洗浄し、充分乾燥する。これをメタノール３mlに
溶かし、Pd―Ｃ（10％）を50mg加え、１気圧、室
温下水素ガスと振盪する。１時間で反応を終了
し、Pd―Ｃを去した後、溶媒を減圧下留去す
る。残渣を水―テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を30ml充填したカラムを流
下させる。テトラヒドロフラン―水系の溶媒でテ
トラヒドロフランの含量を10％、20％と順次上げ
て行き、40％で溶出する区分を集め、濃縮して
ａ―17―６，210mgを得た。 実施例 43 充分に乾燥したAI―77―B1ミリモルをピリジ
ン４mlに溶かし、ベンジルオキシカルボニルクロ
ライド２ミリモルを加え、室温下３時間撹拌す
る。ピリジンを減圧下留去した後、残渣を２mlの
水で２回、計４mlの水で洗浄する。さらにエーテ
ル６mlで洗浄する。充分に乾燥した後、ピリジン
４ml中に入れ、無水酢酸15ミリモルを加える。こ
れに塩化亜鉛10mgを加え、室温で２時間撹拌す
る。この反応液を大量の氷水中にあけ、生成した
沈澱を別する。これを２mlの水で２回、計４ml
の水で洗浄する。 これをメタノール３mlに溶かし、Pd―Ｃ（10
％）を50mg加え、１気圧、室温下水素ガスと振盪
する。１時間で反応を終了し、Pd―Ｃを去し
た後、溶媒を減圧下留去する。残渣を水―テトラ
ヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフラ
ン60％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―２
を30ml充填したカラムを流下させる。テトラヒド
ロフラン―水素の溶媒でテトラヒドロフランの含
量を10％、20％と順次上げて行き、30％で溶出す
る区分を集め、濃縮してａ―10―１，230mgを
得た。 実施例 44 充分に乾燥したAI―77―B1ミリモルをピリジ
ン４mlに溶かし、ベンジルオキシカルボニルクロ
ライド２ミリモルを加え、室温下３時間撹拌す
る。ピリジンを減圧下留去した後、残渣を２mlの
水で２回、計４mlの水で洗浄する。さらにエーテ
ル６mlで洗浄する。充分に乾燥した後、ピリジン
４ml中に入れ、無水酢酸15ミリモルを加える。こ
れに塩化亜鉛10mgを加え、室温で２時間撹拌す
る。この反応液を大量の氷水中にあけ、生成した
沈澱を別する。これを２mlの水で２回、計４ml
の水で洗浄する。充分に乾燥した後、ピリジン４
ml中に入れ、無水酪酸10ミリモルを加え、50℃で
４時間撹拌する。ピリジンを減圧下留去した後、
残渣を大量の氷水中に入れる。これを10mlの水で
３回、計30mlの水で洗浄し、充分乾燥する。 これをメタノール３mlに溶かし、Pd―Ｃ（10
％）を50mg加え、１気圧、室温下水素ガスと振盪
する。１時間で反応を終了し、Pd―Ｃを去し
た後、溶媒を減圧下留去する残渣を水―テトラヒ
ドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフラン
60％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―２を
30ml充填したカラムを流下させる。テトラヒドロ
フラン―水系の溶媒でテトラヒドロフランの含量
を10％、20％と順次上げて行き、40％で溶出する
区分を集め、、濃縮してａ―11―６，270mgを得
た。 実施例 45 充分に乾燥したAI―77―B1ミリモルをピリジ
ン４mlに溶かし、ベンジルオキシカルボニルクロ
ライド２ミリモルを加え、室温下３時間撹拌す
る。ピリジンを減圧下留去した後、残渣を２mlの
水で２回、計４mlの水で洗浄する。さらにエーテ
ル６mlで洗浄する。充分に乾燥した後、ピリジン
４ml中に入れ、無水酢酸15ミリモルを加える。こ
れに塩化亜鉛10mgを加え、室温で２時間撹拌す
る。この反応液を大量の氷水中にあけ、生成した
沈澱を別する。これを２mlの水で２回、計４ml
の水で洗浄する。充分乾燥した後、メタノール４
ml、クロロホルム16mlの混合溶液で溶解する。室
温下ジアゾエタンのエーテル溶液６ミリモルを加
え、１時間撹拌する。過剰のジアゾエタンを酢酸
で除去し、溶媒を減圧下留去する。 これをエタノール３mlに溶かし、Pd―Ｃ（10
％）を50mg加え、１気圧、室温下水素ガスと振盪
する。１時間で反応を終了し、Pd―Ｃを去し
た後、溶媒を減圧下留去する。残渣を水―テトラ
ヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフラ
ン60％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―２
を30ml充填したカラムを流下させる。テトラヒド
ロフラン―水系の溶媒で、テトラヒドロフランの
含量を10％、20％と順次上げて行き、50％で溶出
する区分を集め、濃縮してａ―14―１，273mg
を得た。 実施例 46 50mlのガラスの耐圧容器に充分に乾燥したAI
―77―B2ミリモル848mgを入れ、Ｎ，Ｎ―ジメチ
ルホルムアミド10mlに溶かす。ヨウ化メチル10ミ
リモルを加え、密閉して室温下１時間はげしく振
盪する。さらにヨウ化メチル10ミリモルを加え、
上と同様の反応を行なう。再度ヨウ化メチル10ミ
リモルを加え、一昼夜はげしく振盪した後、溶媒
のＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミドおよび末反応の
ヨウ化メチルを減圧下留去する。残渣をメタノー
ル２mlにとかし、メルク社TLCPSC―
Fertigplatten KIESELGEL 60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm 20枚にスポツト
し、メタノール：クロロホルム：10の溶媒系で展
開し、Rf値0.38の部分（紫外吸収有り、ニンヒド
リン発色赤紫）をかきとり、集めてメタノール
200mlを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別し
た後、メタノールを濃縮して72mgのａ―27―１
を得た。 実施例 47 充分に乾燥したAI―77―B1.2ミリモルをＮ，
Ｎ―ジメチルホルムアミド５mlに溶かし、ヨウ化
エチル３ミリモルを加え、室温下２時間撹拌す
る。さらに１時間間隔でヨウ化エチルを３ミリモ
ルずつ４回加える。反応液をそのまゝ、減圧下溶
媒および過剰のヨウ化エチルを留去する。残渣を
メタノール２mlに溶かし、メルク社TLCPSC―
Ferti―gplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm10枚にスポツトし、
メタノール：クロロホルム：10の溶媒系で展開
し、Rf値0.40の部分（紫外吸収あり、ニンヒドリ
ン発色赤紫）をかきとり、集めてメタノール100
mlを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別した
後、メタノールを濃縮してａ―18―１，70mgを
得た。 実施例 48 充分に乾燥したAI―77―F2ミリモル778mgをピ
リジン４mlに溶解し、無水酢酸40ミリモルを加え
る。これに塩化亜鉛20mgを加え、室温で２時間撹
拌する。この反応液を大量の氷水中にあけ、生成
した沈澱を別する。これを５mlの水で２回、計
10mlの水で洗浄する。メタノール２mlに溶かし、
メルク社TLCPSC―Fertigplatten
KIESELGEL60F―254（Art.5717）20cm×20cm×
２mm15枚にスポツトし、クロロホルム：メタノー
ル30：１の溶媒系で展開し、Rf0.70の部分（紫外
吸収あり）をかきとり、集めてメタノール100ml
を入れ20分撹拌する。シリカゲルを別した後、
メタノールを濃縮してａ―１―１，520mgを得
た。 実施例 49 実施例48において用いた無水酢酸のかわりにト
リクロロアセチルクロライドを用いて、実施例52
と同様にして合成したａ―１―12 ２ミリモル
をピリジン４mlに溶かし、無水酢酸26ミリモルを
加え、50℃で３時間撹拌する。ピリジンを減圧留
去した後、残渣を珍量の氷水中にあける。これを
10mlの水で３回、計30mlの水で洗浄した後、メタ
ノール４ml、水８mlの混合溶媒に懸濁させ、１規
定水酸化ナトリウム溶液をPHが12になるまで加え
る。室温下撹拌するとPHが下るので、さらにPH12
になるまで上記のアルカリを加える。PHが12から
下らなくなつたならば１規定塩酸でPH７に調節
し、これをアンバーライトXAD―２を60ml充填
したカラムを流下させる。200mlの水で洗浄した
後、テトラヒドロフラン―水系の溶媒で、テトラ
ヒドロフランの含量50％で溶出する区分を集める
濃縮する。これを塩化水素飽和メタノール４mlに
溶かし、氷冷下30分撹拌する。溶媒を減圧下留去
し、充分に乾燥してａ―３―１，530mgを得た。 実施例 50 実施例48で合成したａ―１―１，１ミリモル
をピリジン２mlに溶解し、無水プロピオン酸13ミ
リモルを加え、50℃で３時間撹拌する。ピリジン
を減圧下留去した後、メタノール１mlに溶かし、
メルク社TLCPSC―Fertigplatten
KIESELGEL60F―254（Art.5717）20cm×20cm×
２mm10枚にスポツトし、クロロホルム：メタノー
ル50：１の溶媒系で展開し、Rf0.60の部分（紫外
吸収あり）をかきとり、集めてメタノール50mlを
入れ20分撹拌する。シリカゲルを別した後、メ
タノールを濃縮してａ―２―２，305mgを得た。 実施例 51 実施例48で合成したａ―１―１，１ミリモル
をクロロホルム５mlに溶かし、室温下ジアゾメタ
ンのエーテル溶液10ミリモルを加え、一夜撹拌す
る。過剰のジアゾメタンを酢酸で除去し、反応液
を減圧乾固する。メタノール１mlに溶かし、メル
ク社TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F
―254（Art.5717）20cm×20cm×２mm10枚にスポツ
トし、クロロホルム：メタノール50：１の溶媒系
で展開し、Rf0.60の部分（紫外吸収あり）をかき
とり、集めてメタノール50mlを入れ20分撹拌す
る。シリカゲルを別した後、メタノールを濃縮
してａ―５―１，270mgを得た。 実施例 52 充分に乾燥したAI―77―F2ミリモル778mgをク
ロロホルム10mlに溶かし、室温下ジアゾエタンの
エーテル溶液15ミリモルを加え１時間撹拌する。
過剰のジアゾエタンを酢酸で除去し、反応液を減
圧乾固する。メタノール２mlに溶かし、メルク社
TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm15枚にスポツトし、
クロロホルム：メタノール40：１の溶媒系で展開
し、Rf0.70の部分（紫外吸収あり）をかきとり、
集めてメタノール100mlを入れ20分攪拌する。シ
リカゲルを別した後、メタノールを濃縮して
ａ―４―２，680mgを得た。 実施例 53 実施例52で合成したａ―４―２，１ミリモル
を塩化メチレン10mlに溶かし、これにジアゾブタ
ンのエーテル溶液５ミリモルを加え、さらにトリ
フツ化ホウ素エーテル錯体（和光純薬）0.5mlを
加え、室温一夜撹拌する。過剰のジアゾブタを酢
酸で除去した後、反応液を減圧乾固する。メタノ
ール１mlに溶かし、メルク社TLCPSC―Fertig
―Platten KIESELGEL60F―254（Art.5717）20
cm×20cm×２mm10枚にスポツトし、クロロホル
ム：メタノール50：１の溶媒系で展開し、Rf0.70
の部分（紫外吸収あり）をかきとり、集めてメタ
ノール50mlを入れ20分撹拌する。シリカゲルを
別した後、メタノールを濃縮してａ―６―５，
290mgを得た。 実施例 54 実施例53と同様にして合成したａ―６―４，
２ミリモルをメタノール10mlに溶かし、Pd―Ｃ
（10％）を100mg加え、１気圧、室温下水素ガスと
振盪する。20分で反応を終了し、Pd―Ｃを去
した後、溶媒を減圧下留去するメタノール２mlに
溶かし、メルク社TLCPSC―Fertigplatten
KIESELGEL60F―254（Art.5717）20cm×20cm×
２mm15枚にスポツトし、クロロホルム：メタノー
ル30：１の溶媒系で展開し、Rf0.65の部分（紫外
吸収あり）をかきとり、集めてメタノール100ml
を入れ20分撹拌する。シリカゲルを別した後、
メタノールを濃縮してａ―７―８，520mgを得
た。 実施例 55 実施例54で合成したａ―７―８，１ミリモル
をピリジン４mlに溶かし、無水酢酸10ミリモルを
加え、50℃で３時間撹拌する。ピリジンを減圧下
留去した後、メタノール２mlに溶かし、メルク社
TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm10枚にスポツトし、
クロロホルム：メタノール50：１の溶媒系で展開
し、Rf0.70の部分（紫外吸収あり）をかきとり、
集めてメタノール50mlを入れ20分撹拌する。シリ
カゲルを別した後、メタノールを濃縮してａ
―８―５，240mgを得た。 実施例 56 実施例30で合成したａ―18―１，２ミリモル
をメタノール２ml、水５mlの混合溶媒に溶かし、
1N―水酸化ナトリウム水溶液をPH10になるまで
加える。撹拌するにつれPHが下るので、さらにPH
10になるまで加える。PHが10から下らなくなつた
ならば1N―HClでPH７に調節し、この液をアン
バーライトXAD―２樹脂にて精製する。水で充
分洗浄した後、メタノール50％、水50％系溶媒で
溶離させる（γ―ラクトンの開環）。これを濃縮
してａ―18―１，820mgを得た。 上記物を再びメタノール２ml、水５mlの混合溶
媒にとかし、1N―水酸化ナトリウム水溶液をPH
12になるまで加える。撹拌するにつれPHが下るの
で、さらにPH12になるまで加える。PHが12から下
らなくなつたならば1N―HClでPH７に調節し、
この液を上と同様XAD―２で精製溶離し、メタ
ノール30％、水70％系溶媒で溶出させて濃縮し、
ｃ―18―１，810mgを得た。 ｂ―18―１，１ミリモルをメタノール５mlに
溶かし、塩化水素飽和メタノール液を１ml加え、
氷冷下１時間撹拌した後、溶媒を留去し、ａ―
18―１，400mgを得た。またｃ―18―１，１ミ
リモルを用い、同様の操作をしてａ―18―１，
380mgを得た。 実施例 57 実施例28で合成したａ―４―１，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリ
ウムを分解する。これを減圧下乾固した後、水、
テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒド
ロフラン60％）に懸濁させ、アンバーライト
XAD―２を70ml充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラ
ン―水系の溶媒でテトラヒドロフランの含量を10
％、20％と順次上げて行き、60％で溶出する区分
を集め、濃縮してａ―21―９，160mgを得た。 実施例 58 50mlのガラスの耐圧容器に、充分に乾燥した実
施例43で合成したａ―10―１ ２ミリモルを入
れ、Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド10mlに溶か
す。ヨウ化メチル10ミリモルを加え、密閉して室
温下１時間はげしく振盪する。さらにヨウ化メチ
ル10ミリモルを加え、上と同様の反応を行なう。
再度ヨウ化メチル10ミリモルを加え、一昼夜はげ
しく振盪した後、溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルム
アミドおよび未反応のヨウ化メチルを減圧下留去
する。残渣をメタノール２mlにとかし、メルク社
TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、
メタノール：クロロホルム１：10の溶媒系で展開
し、Rf値0.40の部分（紫外吸収有り、ニンヒドリ
ン発色赤紫）をかきとり、集めてメタノール200
mlを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別した
後、メタノールを濃縮して80mgのａ―28―１を
得た。 実施例 59 50mlのガラスの耐圧容器に、実施例44と同様に
して合成したａ―11―１，２ミリモルを入れ、
Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド10mlに溶かす。ヨ
ウ化メチル10ミリモルを加え、密閉して室温下１
時間はげしく振盪する。さらにヨウ化メチル10ミ
リモルを加え、上と同様の反応を行なう。再度ヨ
ウ化メチル10ミリモルを加え、一昼夜はげしく振
盪した後、溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミド
および未反応のヨウ化メチルを減圧下留去する。
残渣をメタノール２mlにとかし、メルク社
TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、
メタノール：クロロホルム１：20の溶媒系で展開
し、Rf値0.50の部分（紫外吸収有り、ニンヒドリ
ン発色赤紫）をかきとり、集めてメタノール200
mlを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別した
後、メタノールを濃縮して92mgのａ―29―１を
得た。 実施例 60 50mlのガラスの耐圧容器に、実施例39で合成し
たａ―12―１，２ミリモルを入れ、Ｎ，Ｎ―ジ
メチルホルムアミド10mlに溶かす。ヨウ化メチル
10ミリモルを加え、密閉して室温下１時間はげし
く振盪する。さらにヨウ化メチル10ミリモルを加
え、上と同様の反応を行なう。再度ヨウ化メチル
10ミリモルを加え、一昼夜はげしく振盪した後、
溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミドおよび未反
応のヨウ化メチルを減圧下留去する。残渣をメタ
ノール２mlにとかし、メルク社TLCPSC―
Fertigplatten KIESELGEL60F―254（Art.5717）
20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、メタノー
ル：クロロホルム１：10の溶媒系で展開し、Rf
値0.38の部分（紫外吸収有り、ニンドリン発色赤
紫）をかきとり、集めてメタノール200mlを入れ
30分撹拌する。シリカゲルを別した後、メタノ
ールを濃縮して76mgのａ―30―１を得た。 実施例 61 50mlのガラスの耐圧容器に、実施例36で合成し
たａ―13―２，２ミリモルを入れ、Ｎ，Ｎ―ジ
メチルホルムアミド10mlに溶かす。ヨウ化メチル
10ミリモルを加え、密閉して室温下１時間はげし
く振盪する。さらにヨウ化メチル10ミリモルを加
え、上と同様の反応を行なう。再度ヨウ化メチル
10ミリモルを加え、一昼夜はげしく振盪した後、
溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミドおよび未反
応のヨウ化メチルを減圧下留去する。残渣をメタ
ノール２mlにとかし、メルク社TLCPSC―
Fertigplatten KIESELGEL60F―254（Art.5717）
20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、メタノー
ル：クロロホルム１：10の溶媒系で展開し、Rf
値0.52の部分（紫外吸収有り、ニンヒドリン発色
赤紫）をかきとり、集めてメタノール200mlを入
れ30分撹拌する。リカゲルを別した後、メタノ
ールを濃縮して85mgのａ―31―２を得た。 実施例 62 50mlのガラスの耐圧容器に、実施例37と同様に
して合成したａ―14―１，２ミリモルを入れ、
Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド10mlに溶かす。ヨ
ウ化メチル10ミリモルを加え、密閉して室温下１
時間はげしく振盪する。さらにヨウ化メチル10ミ
リモルを加え、上と同様の反応を行なう。再度ヨ
ウ化メチル10ミリモルを加え、一昼夜はげしく振
盪した後、溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミド
および未反応のヨウ化メチルを減圧下留去する。
残渣をメタノール２mlにとかし、メルク社
TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、
メタノール：クロロホルム１：30の溶媒系で展開
し、Rf値の0.60の部分（紫外吸収有り、ニンヒド
リン発色赤紫）をかきとり、集めてメタノール
200mlを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別し
た後、メタノールを濃縮して98mgのａ―32―１
を得た。 実施例 63 50mlのガラスの耐圧容器に、実施例35と同様に
して合成したａ―15―１，２ミリモルを入れ、
Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド10mlに溶かす。ヨ
ウ化メチル10ミリモルを加え、密閉して室温下１
時間はげしく振盪する。さらにヨウ化メチル10ミ
リモルを加え、上と同様の反応を行なう。再度ヨ
ウ化メチル10ミリモルを加え、一昼夜はげしく振
盪した後、溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミド
および未反応のヨウ化メチルを減圧下留去する。
残渣をメタノール２mlにとかし、メタノール社
TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、
メタノール：クロロホルム１：30の溶媒系で展開
し、Rf値0.50の部分（紫外吸収有り、ニンヒドリ
ン発色赤紫）をかきとり、集めてメタノール200
mlを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別した
後、メタノールを濃縮して95mgのａ―33―１を
得た。 実施例 64 50mlのガラスの耐圧容器に、実施例41と同様に
して合成したａ―16―１，２ミリモルを入れ、
Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド10mlに溶かす。ヨ
ウ化メチル10ミリモルを加え、密閉して室温下１
時間はげしく振盪する。さらにヨウ化メチル10ミ
リモルを加え、上と同様の反応を行なう。 再度ヨウ化メチル10ミリモルを加え、一昼夜は
げしく振盪した後、溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホル
ムアミドおよび未反応のヨウ化メチルを減圧下留
去する。残渣をメタノール２mlにとかし、メルク
社TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F―
254（Art.5717）20cm×20cm×２mm20枚にスポツト
し、メタノール：クロロホルム１：10の溶媒系で
展開し、Rf値0.40の部分（紫外吸収有り、ニンヒ
ドリン発色赤紫）をかきとり、集めてメタノール
200mlを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別し
た後、メタノールを濃縮して70mgのａ―34―１
を得た。 実施例 65 50mlのガラスの耐圧容器に、実施例38と同様に
して合成したａ―17―１，２ミリモルを入れ、
Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド10mlに溶かす。 ヨウ化メチル10ミリモルを加え、密閉して室温
下１時間はげしく振盪する。さらにヨウ化メチル
10ミリモルを加え、上と同様の反応を行なう。再
度ヨウ化メチル10ミリモルを加え、一昼夜はげし
く振盪した後、溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルムア
ミドおよび未反応のヨウ化メチルを減圧下留去す
る。残渣をメタノール２mlにとかし、メルク社
TLCPSC―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、
メタノール：クロロホルム１：20の溶媒系で展開
し、Rf値0.40の部分（紫外吸収有り、ニンヒドリ
ン発色赤紫）をかきとり、集めてメタノール200
mlを入れ30分撹拌する。シリカゲルを別した
後、メタノールを濃縮して90mgのａ―35―１を
得た。 実施例 66 充分に乾燥したAI―77―B4.95ミリモル2.1ｇを
ピリジン25mlに溶解し、室温下無水オレイン酸６
ミリモルを加え、室温で４時間撹拌する。減圧下
ピリジンを留去した後、水100mlを加える。生じ
た沈澱を別し、充分に乾燥する。この固型物を
150mlのヘキサンで３回、計450mlで洗浄する。こ
れをクロロホルム150mlに溶かし、Ｐ―トルエン
スルホン酸330mgを加え２時間撹拌する。これに
水100mlを加え、分液し、クロロホルム層をとり
だして芒硝で乾燥し、芒硝を別し、クロロホル
ム層を濃縮して目的物ａ―１―13，2.10ｇを得
た。 実施例 67 充分に乾燥したAI―77―B71ミリモル３ｇをピ
リジン50mlに溶解し、無水安息香酸14ミリモルを
室温下加える。室温で３時間撹拌した後、ピリジ
ンを減圧下留去する。この乾固物をメタノール40
mlに溶解し、塩酸飽和メタノールでPHを１にす
る。これを減圧下濃縮乾固する。さらに、これを
メタノール20mlに溶解し、１規定水酸化ナトリウ
ム溶液でPHを５にする。この溶液を−20℃にて一
昼夜放置し、生じた沈澱を別する。別した沈
澱を水―メタノール系溶媒（水50％、メタノール
50％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―２を
300ml充填したカラムを流下させる。カラムを1.5
の水で洗浄後、メタノール85％、水15％の溶媒
系で流出した区分を集め、濃縮して乾燥し、目的
物ａ―１―14，2.51ｇを得た。 実施例 68 充分に乾燥したAI―77―B2ミリモルをクロロ
ホルム１mlに懸濁し、４―シクロヘキシル酪酸10
ミリモルを加える。さらにジシクロヘキシルカル
ボジイミド８ミリモルを加え、室温下４時間撹拌
する。減圧下溶媒を留去した後、残渣をメタノー
ル２mlに溶かし、メルク社TLCPSC―
Fertigplatten KIESELGEL60F―254（Art.5717）
20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、メタノー
ル：クロロホルム１：10の溶媒系で展開し、Rf
値0.65の部分（紫外吸収有り）をかきとり、集め
てメタノール200mlを入れ30分撹拌する。シリカ
ゲルを別した後、メタノールを濃縮して730mg
のａ―１―19を得た。 実施例 69 充分に乾燥したAI―77―B2ミリモルをクロロ
ホルム10mlに懸濁し、Ｎ―チル―テトラゾールカ
ルボン酸10ミリモルを加える。さらにジシクロヘ
キシルカルボジイミド８ミリモルを加え、室温下
４時間撹拌する。減圧下溶媒を留去した後、残渣
をメタノール２mlに溶かし、メルク社TLCPSC
―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、
メタノール：クロロホルム１：10の溶媒系で展開
し、Rf値0.51の部分（紫外吸収有り）をかきと
り、集めてメタノール200mlを入れ30分撹拌する。
シリカゲルを別した後、メタノールを濃縮して
520mgのａ―１―27を得た。 実施例 70 充分に乾燥したAI―77―B2ミリモルをクロロ
ホルム10mlに懸濁し、シクロヘキサノン―２―カ
ルボン酸10ミリモルを加える。さらにジシクロヘ
キシルカルボジイミド８ミリモルを加え、室温下
４時間撹拌する。減圧下溶媒を留去した後、残渣
をメタノール２mlに溶かし、メルク社TLCPSC
―Fertigplatten KIESELGEL60F―254
（Art.5717）20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、
メタノール：クロロホルム１：１の溶媒系で展開
し、Rf値0.70の部分（紫外吸収有り）をかきと
り、集めてメタノール200mlを入れ30分撹拌する。
シリカゲルを別した後、メタノールを濃縮して
510mgのａ―１―33を得た。 実施例 71 充分に乾燥したAI―77―B2ミリモルをクロロ
ホルム110mlに懸濁し、４―メチルチオ安息香酸
10ミリモルを加える。さらにジシクロヘキシルカ
ルボジイミド８ミリモルを加え、室温下４時間撹
拌する。減圧下溶媒を留去した後、残渣をメタノ
ール２mlに溶かし、メルク社TLCPSC―
Fetigplatten KIESELGEL60F―254（Art.5717）
20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、メタノー
ル：クロロホルム１：30溶媒系で展開し、Rf値
0.40の部分（紫外吸収有り）をかきとり、集めて
メタノール200mlを入れ30分撹拌する。シリカゲ
ルを別した後、メタノールを濃縮して700mgの
ａ―１―46を得た。 実施例 72 実施例66で合成したａ―１―131ミリモルを
蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴン
雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボレ
ート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌する。
塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノール
10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム２ミ
リモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素ガス
飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリウム
を分解する。これを減圧下乾固した後、水、テト
ラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒドロフ
ラン60％）に懸濁させ、アンバーライトXAD―
２を70ml充填したカラムを流下させる。カラムを
500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラン―水系
の溶媒でテトラヒドロフランの含量を10％、20％
と順次上げて行き、50％で溶出する区分を集め、
濃縮してａ―18―13，210mgを得た。 実施例 73 実施例67で合成したａ―１―14，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリ
ウムを分解する。これを減圧下乾固した後、水、
テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒド
ロフラン60％）に懸濁させ、アンバーライト
XAD―２を70ml充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラ
ン―水系の溶媒でテトラヒドロフランの含量を10
％、20％と順次上げて行き、40％で溶出する区分
を集め、濃縮してａ―18―14，250mgを得た。 実施例 74 実施例68で合成したａ―１―19，１ミリモル
を蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解し、アルゴ
ン雰囲気下、トリエチルオキソニウムフルオロボ
レート1.5ミリモルを加え、室温下４時間撹拌す
る。塩化メチレンを減圧留去した後、無水エタノ
ール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素ナトリウム
２ミリモルを加え、10分間撹拌した後、塩化水素
ガス飽和エタノールで過剰の水素化ホウ素ナトリ
ウムを分解する。これを減圧下乾固した後、水、
テトラヒドロフラン系溶媒（水40％、テトラヒド
ロフラン60％）に懸濁させ、アンバーライト
XAD―２を70ml充填したカラムを流下させる。
カラムを500mlの水で洗浄後、テトラヒドロフラ
ン―水系の溶媒でテトラヒドロフランの含量を10
％、20％と順次上げて行き、60％で溶出する区分
を集め、濃縮してａ―18―19，170mgを得た。 実施例 75 実施例68と同様にして合成したａ―１―59，
１ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解
し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニウム
フルオロボレート1.5ミリモルを加え、室温下４
時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した後、
無水エタノール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素
ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌した
後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素化
ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾固
した後、水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒドロフラン
の含量を10％、20％と順次上げて行き、40％で溶
出する区分を集め、濃縮してａ―18―53，190
mgを得た。 実施例 76 実施例66と同様にして合成したａ―１―16，
１ミリモルを蒸留直後の塩化メチレンン10mlに溶
解し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニウ
ムフルオロボレート1.3ミリモルを加え、室温下
４時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した
後、無水エタノール10mlを入れ、氷冷下水素ホウ
素ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌した
後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素化
ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾固
した後、水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒドロフラン
の含量を10％、20％と順次上げて行き、60％で溶
出する区分を集め、濃縮してａ―18―16，210
mgを得た。 実施例 77 実施例67と同様にして合成したａ―１―38，
１ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解
し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニウム
フルオロボレート1.5ミリモルを加え、室温下４
時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した後、
無水エタノール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素
ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌した
後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素化
ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾固
した後、水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒドロフラン
の含量を10％、20％と順次上げて行き、40％で溶
出する区分を集め、濃縮してａ―18―32，260
mgを得た。 実施例 78 実施例17と同様の方法で合成ａ―５―14，１
ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに溶解
し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニウム
フルオロボレート1.5ミリモルを加え、室温下４
時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した後、
無水エタノール10mlを入れ、氷冷下水素化ホウ素
ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌した
後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素化
ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾固
した後、水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒドロフラン
の含量を10％、20％と順次上げて行き、60％で溶
出する区分を集め、濃縮してａ―22―14，220
mgを得た。 実施例 79 実施例17と同様の方法で合成したａ―５―
16，１ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに
溶解し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニ
ウムフルオロボレート1.5ミリモルを加え、室温
下４時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した
後、無水エタノール１mlを入れ、氷冷下水素化ホ
ウ素ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌し
た後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素
化ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾
固した後、水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒドロフラン
の含量を10％、20％と順次上げて行き50％で溶出
する区分を集め、濃縮してａ―22―15，240mg
を得た。 実施例 80 実施例17と同様の方法で合成したａ―５―
23，１ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに
溶解し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニ
ウムフルオロボレート1.5ミリモルを加え、室温
下４時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した
後、無水エタノール10mlを入れ、氷冷下水素化ホ
ウ素ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌し
た後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素
化ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾
固した後、水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒドロフラン
の含量を10％、20％と順次上げて行き50％で溶出
する区分を集め、濃縮してａ―22―22，200mg
を得た。 実施例 81 実施例17と同様の方法で合成したａ―５―
19，１ミリモルを蒸留直後の塩化メチレン10mlに
溶解し、アルゴン雰囲気下、トリエチルオキソニ
ウムフルオロボレート1.5ミリモルを加え、室温
下４時間撹拌する。塩化メチレンを減圧留去した
後、無水エタノール10mlを入れ、氷冷下水素ホウ
素ナトリウム２ミリモルを加え、10分間撹拌した
後、塩化水素ガス飽和エタノールで過剰の水素化
ホウ素ナトリウムを分解する。これを減圧下乾固
した後、水、テトラヒドロフラン系溶媒（水40
％、テトラヒドロフラン60％）に懸濁させ、アン
バーライトXAD―２を70ml充填したカラムを流
下させる。カラムを500mlの水で洗浄後、テトラ
ヒドロフラン―水系の溶媒でテトラヒドロフラン
の含量を10％、20％と順次上げて行き、70％で溶
出する区分を集め、濃縮してａ―22―18，190
mgを得た。 実施例 82 実施例18と同様にして合成したａ―５―123
１ミリモルをメタノール２ml、水４mlの混合溶媒
に懸濁させ、１規定水酸化ナトリウム水溶液をPH
が12になるまで加える。室温下撹拌するとPHが下
るので、さらにPH12になるまで上記のアルカリを
加える。PHが12から下らなくなつたならば１規定
塩酸でPH７に調節し、これをアンバーライト
XAD―２を30ml充填したカラムを流下させる。
500mlの水で洗浄した後、メタノール―水系の溶
媒でメタノールの含量を10％、20％と順次上げて
行き、80％で溶出する区分を集め濃縮する。これ
を塩化水素飽和メタノール10mlに溶かし、氷冷下
30分撹拌する。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥
してａ―13―８ 380mgを得た。 実施例 83 実施例18と同様の方法で合成したａ―５―７
１ミリモルをメタノール２ml、水４mlの混合溶
媒に懸濁させ、１規定水酸化ナトリウム水溶液を
PHが12になるまで加える。室温下撹拌するとPHが
下るので、さらにPH12になるまで上記のアルカリ
を加える。PHが12から下らなくなつたならば１規
定塩酸でPH７に調節し、これをアンバーライト
XAD―２を30ml充填したカラムを流下させる。
500mlの水で洗浄した後、メタノール―水系の溶
媒でメタノールの含量を10％、20％と順次上げて
行き、50％で溶出する区分を集め濃縮する。これ
を塩化水素飽和メタノール10mlに溶かし、氷冷下
30分撹拌する。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥
してａ―13―１ 350mgを得た。 実施例 84 実施例18と同様の方法で合成したａ―５―
124 １ミリモルをメタノール２ml、水４mlの混合
溶媒に懸濁させ、１規定水酸化ナトリウム水溶液
をPHが12になるまで加える。室温下撹拌するとPH
が下るので、さらにPH12になるまで上記のアルカ
リを加える。PHが12から下らなくなつたならば１
規定塩酸でPH７に調節し、これをアンバーライト
XAD―２を30ml充填したカラムを流下させる。
500mlの水で洗浄した後、メタノール―水系の溶
媒でメタノールの含量を10％、20％と順次上げて
行き、60％で溶出する区分を集め濃縮する。これ
を塩化水素飽和メタノール10mlに溶かし、氷冷下
30分撹拌する。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥
してａ―13―33 300mgを得た。 実施例 85 実施例18で合成したａ―５―125 １ミリモル
をメタノール２ml、水４mlの混合溶媒に懸濁さ
せ、１規定水酸化ナトリウム水溶液をPHが12にな
るまで加える。室温下撹拌するとPHが下るので、
さらにPH12になるまで上記のアルカリを加える。
PHが12から下らなくなつたならば１規定塩酸でPH
を７に調節し、これをアンバーライトXAD―２
を30ml充填したカラムを流下させる。500mlの水
で洗浄した後、メタノール―水系の溶媒でメタノ
ールの含量を10％、20％と順次上げて行き、60％
で溶出する区分を集め濃縮する。これを塩化水素
飽和メタノール10mlに溶かし、氷冷下30分撹拌す
る。溶媒を減圧下留去し、充分に乾燥してａ―
13―20，280mgを得た。 実施例 86 50mlのガラスの耐圧容器に、実施例83で合成し
たａ―13―１，２ミリモルを入れ、Ｎ，Ｎ―ジ
メチルホルムアミド10mlに溶かす。ヨウ化メチル
10ミリモルを加え、密閉して室温下１時間はげし
く振盪する。さらにヨウ化メチル10ミリモルを加
え、上と同様の反応を行なう。再度ヨウ化メチル
10ミリモルを加え、一昼夜はげしく振盪した後、
溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミドおよび未反
応のヨウ化メチルを減圧下留去する。残渣をメタ
ノール２mlにとかし、メルク社TLCPSC―
Fertigplatten KIESELGEL60F―254（Art.5717）
20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、メタノー
ル：クロロホルム１：15の溶媒系で展開し、Rf
値0.40の部分（紫外吸収有り、ニンヒドリン発色
赤紫）をかきとり、集めてメタノール200mlを入
れ30分撹拌する。シリカゲルを別した後、メタ
ノールを濃縮してａ―31―１，70mgを得た。 実施例 87 50mlのガラスの耐圧容器に実施例82で合成した
ａ―13―８，２ミリモルを入れ、Ｎ，Ｎ―ジメ
チルホルムアミド10mlに溶かす。ヨウ化メチル10
ミリモルを加え、密閉して室温下１時間はげしく
振盪する。さらにヨウ化メチル10ミリモルを加
え、上と同様の反応を行なう。再度ヨウ化メチル
10ミリモルを加え、一昼夜はげしく振盪した後、
溶媒のＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミドおよび未反
応のヨウ化メチルを減圧下留去する。残渣をメタ
ノール２mlにとかし、メルク社TLCPSC―
Fertigplatten KIESELGEL60F―254（Art.5717）
20cm×20cm×２mm20枚にスポツトし、メタノー
ル：クロロホルム１：10の溶媒系で展開し、Rf
値0.52の部分（紫外吸収有り、ニンヒドリン発色
赤紫）をかきとり、集めてメタノール200mlを入
れ30分撹拌する。シリカゲルを別した後、メタ
ノールを濃縮してａ―３―13，82mgを得た。 実施例 88 充分に乾燥したAI―77―Ｂ，10ミリモルを氷
浴上で、100mlの1N HCl―エタノールに溶解し
た。たゞちに減圧で溶媒を除去（バス温20〜30
℃）し、その後真空ポンプを用いて残渣を充分に
乾燥した。次にこの残渣に50mlの0.5モルの重炭
酸ナトリウム溶液を加え、600mlの酢酸エチルを
用い抽出を行なつた。酢酸エチル層を飽和食塩水
で洗つた後、芒硝を加え一晩放置した。芒硝を
別して酢酸エチルを減圧で除去すると、3.98ｇ
（収量98％）のAI―77―Ｂ―γ―ラクトン（AI―
77―Ba）を得た。 実施例 89 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶かした。モノメチルアミン（40％水溶液）
70mlに乾燥N2ガスを吹きこみ、追い出されたモ
ノメチルアミンをドライアイスで冷却されたトラ
ツプで捕捉した。得られたモノメチルアミンを水
浴上（10〜20℃）で気化させ、苛性ソーダ管を用
いて乾燥後、先のAI―77―Baのメタノール溶液
に吹きこんだ。反応は水浴上（10〜15℃）で３時
間行ない、その後反応液を減圧で乾固した。残渣
をクロロホルム20mlに溶かし、クロロホルムで充
填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて500ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝４：１（２）で生成物を分画
し、減圧で濃縮乾固すると、1.3ｇの目的物―
１―２を得た。 実施例 90 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶解し、50ミリモルｎ―ブチルアミンを加
え、水浴上（10〜15℃）密栓して５時間撹拌し
た。反応終了後、溶媒およびｎ―ブチルアミンを
減圧で濃縮乾固した。得られた残渣を10mlのクロ
ロホルムに溶かし、クロロホルムで充填したシリ
カゲルカラム（100ｇ）にのせて200mlのクロロホ
ルムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノ
ール＝７：１（2.5）で生成物を分画し減圧で濃
縮乾固すると、1.2ｇの目的物―１―４を得た。 実施例 91 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水エタノー
ルに溶かし、50ミリモルのオクタデシルアミンを
加え密栓して室温で撹拌しながら20時間反応させ
た。反応後、溶媒を減圧で除去し反応物を乾固し
た。得られた残渣をクロロホルム50mlに溶かし、
クロロホルムで充填したシリカゲルカラム（300
ｇ）にのせ、クロロホルム：メタノール＝50：１
（４）で生成物を分画した濃縮乾固すると、
0.45ｇの目的物―１―６を得た。 実施例 92 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶かし、50ミリモルのテトラハイドロフルフ
リルアミンを加え、室温で密栓して15時間撹拌し
た。その後減圧で溶媒を除去した後、高真空ポン
プを用いて、さらにテトラハイドロフルフリルア
ミンを除去した。得られた残渣をクロロホルムに
溶かし、クロロホルムで充填したシリカゲルカラ
ム（100ｇ）にのせ、200mlのクロロホルムでカラ
ムを洗つた後、クロロホルム：メタノール＝９：
１（２）で生成物を分画し濃縮乾固すると、目
的物―１―15 0.63ｇを得た。 実施例 93 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水エタノー
ルに溶かし、50ミリモルのオレイルアミンを加え
密栓して室温で撹拌しながら20時間反応させた。
反応後、溶媒を減圧で除去し反応物を乾固した。
得られた残渣をクロロホルム50mlに溶かし、クロ
ロホルムで充填したシリカゲルカラム（300ｇ）
にのせ、クロロホルム：メタノール＝50：１（５
）で生成物を分画し濃縮乾固すると、0.38ｇの
目的物―１―８を得た。 実施例 94 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶かし、50ミリモルのベンジルアミンを加え
室温で密栓して10時間撹拌した。その後減圧で溶
媒を除去した後、高真空ポンプを用いてさらにベ
ンジルアミンを除去した。得られた残渣をクロロ
ホルムに溶かし、クロロホルムで充填したシリカ
ゲルカラム（100ｇ）にのせ、200mlのクロロホル
ムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノー
ル＝15：１（２）で生成物を分画し濃縮乾固す
ると、目的物―１―10，０，71ｇを得た。 実施例 95 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶かし、60ミリモルのフルフリルアミンを加
え室温で密栓して16時間撹拌した。その後減圧で
溶媒を除去した後、高真空ポンプを用いてさらに
フルフリルアミンを除去した。得られた残渣クロ
ロホルムに溶かし、クロロホルムで充填したシリ
カゲルカラム（100ｇ）にのせ、200mlのクロロホ
ルムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノ
ール＝12：１（２）で生成物を分画し濃縮乾固
すると、目的物―14，0.55ｇを得た。 実施例 96 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶かし、50ミリモルの２―アミノエチルテト
ラハイドロピランを加え室温で密栓して13時間撹
拌した。その後減圧で溶媒を除去した後、高真空
ポンプを用いてさらに２―アミノエチルテトラハ
イドロピランを除去した。得られた残渣をクロロ
ホルムに溶かし、クロロホルムで充填したシリカ
ゲルカラム（100ｇ）にのせ、200mlのクロロホル
ムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノー
ル＝９：１（２）で成物を分画し濃縮乾固する
と、目的物―１―16，0.67ｇを得た。 実施例 97 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水エタノー
ルに溶かし、50ミリモルの２―ナフタレンメチル
アミンを加え密栓室温で撹拌しながら48時間反応
させた。反応後、溶媒を減圧で除去し反応物を乾
固した。得られた残渣をクロロホルム50mlに溶か
し、クロロホルムで充填したシリカゲルカラム
（300ｇ）にのせ、クロロホルム：メタノール＝
60：１（７）で生成物を分画し濃縮乾固すると、
1.08ｇの目的物―１―18を得た。 実施例 98 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶かし、50ミリモルの３―メトキシブチルア
ミンを加え室温で密栓して12時間撹拌した。その
後減圧で溶媒を除去した後、高真空ポンプを用い
てさらに３―メトキシブチルアミンを除去した。
得られた残渣をクロロホルムに溶溶かし、クロロ
ホルムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）に
のせ、200mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝８：１（２）で生
成物を分画し濃縮乾固すると、目的物―１―
26，1.14ｇを得た。 実施例 99 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶かし、50ミリモルのゲラニルアミンを加え
室温で密栓して20時間撹拌した。その後減圧で溶
媒を除去した後、高真空ポンプを用いてさらにゲ
ラニルアミンを除去した。得られた残渣をクロロ
ホルムに溶かし、クロロホルムで充填したシリカ
ゲルカラム（100ｇ）にのせ、200mlのクロロホル
ムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノー
ル＝30：１（２）で生成物を分画し濃縮乾固す
ると、目的物―１―30，0.58ｇを得た。 実施例 100 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水エタノー
ルに溶かし、50ミリモルのＰ―トルイジンを加え
密栓室温で撹拌しながら48時間反応させた。反応
後、溶媒を減圧で除去し反応物を乾固した。得ら
れた残渣をクロロホルム50mlに溶かし、クロロホ
ルムで充填したシリカゲルカラム（300ｇ）にの
せ、クロロホルム：メタノール＝20：１（５）
で生成物を分画した濃縮乾固すると、1.03ｇの目
的物―１―43を得た。 実施例 101 AI―77―Ba5ミリモルを100mlの無水メタノー
ルに溶かし、50ミリモルのＮ―（２―アミノエチ
ル）―ピペリジンを加え室温で密栓して15時間撹
拌した。その後減圧で溶媒を除去した後、高真空
ポンプを用いてさらにＮ―（２―アミノエチル）
―ピペリジンを除去した。得られた残渣をクロロ
ホルムに溶かし、クロロホルムで充填したシリカ
ゲルカラム（100ｇ）にのせ、200mlのクロロホル
ムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノー
ル＝12：１（２）で生成物を分画し濃縮乾固す
ると、目的物―１―46，0.53ｇを得た。 実施例 102 実施例43で合成したａ―10―１ ５ミリモル
を50mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを6.5ミ
リモルまで溶解させ、密栓して48時間反応させ
た。たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得ら
れた残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロ
ホルムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）に
のせて、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた
後、クロロホルム：メタノール＝10：１（２）
で生成物を分画した減圧で濃縮乾固すると、0.19
ｇの目的物―２―１を得た。 実施例 103 実施例44で合成したａ―11―６，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを7.0ミ
リモルまで溶解させ、密栓して48時間反応させ
た。たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得ら
れた残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロ
ホルムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）に
のせて、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた
後、クロロホルム：メタノール＝15：１（２）
で生成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.27ｇ
の目的物―３―２を得た。 実施例 104 実施例39で合成したａ―12―１，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを7.0ミ
リモルまで溶解させ、密栓して48時間反応させ
た。たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得ら
れた残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロ
ホルムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）に
のせて、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた
後、クロロホルム：メタノール＝10：１（２）
で生成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.26ｇ
の目的物―４―１を得た。 実施例 105 実施例36で得たａ―13―２，５ミリモルを30
mlの無水メタノールに溶かし、50ミリモルのブチ
ルアミンを加え密栓して水浴上（10〜16℃）で５
時間撹拌した。反応後、減圧で溶媒とアミンを除
去し、得られた残渣をクロロホルム（10ml）に溶
かし、クロロホルムで充填したシリカゲルカラム
（100ｇ）にのせて、150mlのクロロホルムでカラ
ムを洗つた後、クロロホルム：メタノール＝30：
１（２）で生成物を分画し濃縮乾固すると、目
的物―５―３を得た（1.41ｇ）。 実施例 106 実施例36で得たａ―13―２（塩酸塩）５ミリ
モルに100mlの0.5M重炭酸ナトリウム溶液を加
え、300mlの酢酸エチルで三度に分けて抽出した。
酢酸エチル層を飽和食塩水で洗つた後、芒硝を加
えて乾燥し芒硝を別し、酢酸エチルを減圧で除
去すると、2.3ｇのａ―13―２（塩酸フリー）を
得た。この残渣を100mlの無水メタノールに溶か
し、50ミリモルのＰ―トルイジンを加え密栓して
三日室温で残渣した。その後減圧で溶媒を除去し
た後、残渣を50mlのクロロホルムに溶かし、クロ
ロホルムで充填したシリカゲルカラム（400ｇ）
にのせ、クロロホルム：メタノール＝30：１（５
）で生成物を分画した減圧で濃縮乾固すると、
1.4ｇの目的物―５―４を得た。 実施例 107 実施例37で合成したａ―14―９，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを６ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝30：１（２）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.31ｇの目
的物―６―３を得た。 実施例 108 実施例35で得たａ―15―８，５ミリモルを
100mlの無水メタノールに溶かし、50ミリモルの
ブチルアミンを加え密栓して水浴上（10〜16℃）
で５時間撹拌した。応後、減圧で溶媒とアミンを
除去し、得られた残渣をクロロホルム（10ml）に
溶かし、クロロホルムで充填したシリカゲルカラ
ム（100ｇ）にのせて150mlのクロロホルムでカラ
ムを洗つた後、クロロホルム：メタノール＝25：
１（３）で生成物を分画し濃縮乾固すると目的
物―７―４を得た（1.58ｇ）。 実施例 109 実施例29で合成したａ―16―１，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを30ミリモルまで
溶解させ、密栓して２時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝10：１（２）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.11ｇの目的物―８
―１を得た。 実施例 110 実施例31で合成したａ―18―２，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して２時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝15：１（２）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.18ｇの目的物―10
―１を得た。 実施例 111 実施例32で合成したａ―18―６，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して３時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝20：１（３）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.21ｇの目的物―10
―２を得た。 実施例 112 実施例32で得たａ―18―６，５ミリモルを
100mlの無水メタノールに溶かし、50ミリモルの
ブチルアミンを加え、密栓して水浴上（10〜16
℃）で３時間撹拌した。反応後、減圧で溶媒とア
ミンを除去し得られた残渣をクロロホルム（10
ml）に溶かし、クロロホルムで充填したシリカゲ
ルカラム（100ｇ）にのせて、150mlのクロロホル
ムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノー
ル＝30：１（３）で生成物を分画し濃縮乾固す
ると、目的物―10―４を得た（1.39ｇ）。 実施例 113 実施例13で合成したａ―20―２，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝30：１（３）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.29ｇの目
的物―12―１で得た。 実施例 114 実施例57で合成したａ―21―９，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝15：１（２）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.18ｇの目
的物―13―３を得た。 実施例 115 実施例22で合成したａ―22―５，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して３時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝15：１（２）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.36ｇの目的物―14
―２を得た。 実施例 116 実施例76で合成したａ―22―15，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して３時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝20：１（３）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.38ｇの目的物―14
―５を得た。 実施例 117 実施例15で得たａ―23―11，５ミリモルを30
mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かした。モノ
エチルアミン（70％水溶液）30mlに乾燥N2ガス
を吹き込み、追い出されたモノエチルアミンをド
ライアイスで冷却されたトラツプで捕捉した。得
られたモノエチルアミンを温浴上（20〜30℃）で
気化させ、苛性ソーダ管で乾燥後、７ミリモルま
で先のジメチルホルムアミド溶液に吹きこみ、密
栓して48時間撹拌した。その後、減圧で溶媒を除
去し、得られた残渣をクロロホルム30mlに溶か
し、クロロホルムで充填したシリカゲルカラム
（100ｇ）にのせ、クロロホルム：メタノール＝
20：１（３）で生成物を分画し濃縮乾固すると、
0.35ｇの目的物―15―４を得た。 実施例 118 実施例21で得たａ―24―16，５ミリモルを
100mlの無水メタノールに溶かした。モノエチル
アミン（70％水溶液）30mlに乾燥N2ガスを吹き
込み、追い出されたモノエチルアミンをドライア
イスで冷却されたトラツプで捕捉した。得られた
モノエチルアミンを温浴上（20〜30℃）で気化さ
せ、苛性ソーダ管で乾燥後、50ミリモルまで先の
メタノール溶液に吹きこみ、密栓して３時間撹拌
した。その後、減圧で溶媒を除去し、得られた残
渣をクロロホルム30mlに溶かし、クロロホルムで
充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ、ク
ロロホルム：メタノール＝30：１（３）で生成
物を分画し濃縮乾固すると、1.51ｇの目的物―
16―４を得た。 実施例 119 実施例27で合成したａ―25―９，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して２時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝15：１（２）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.25ｇの目的物―17
―３を得た。 実施例 120 実施例26で合成したａ―26―９，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝20：１（３）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.22ｇの目
的物―18―３を得た。 実施例 121 実施例46で合成したａ―27―１，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して２時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝10：１（２）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.57ｇの目的物―19
―１を得た。 実施例 122 実施例58で合成したａ―28―１，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して40時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝12：１（２）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.9ｇの目
的物―20―１を得た。 実施例 123 実施例59で合成したａ―29―１，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝15：１（３）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.23ｇの目
的物―21―１を得た。 実施例 124 実施例60で合成したａ―30―１，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝15：１（２）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.18ｇの目
的物―22―１を得た。 実施例 125 実施例61で得たａ―31―２，５ミリモルを
100mlの無水メタノールに溶かし、50ミリモルの
ブチルアミンを加え、密栓して水浴上（10〜16
℃）で３時間撹拌した。反応後、減圧で溶媒とア
ミンを除去し、得られた残渣をクロロホルム（10
ml）に溶かし、クロロホルムで充填したシリカゲ
ルカラム（100ｇ）にのせて、150mlのクロロホル
ムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノー
ル＝20：１（４）で生成物を分画し濃縮乾固す
ると、目的物―23―２を得た（1.48ｇ）。 実施例 126 実施例86で合成したａ―31―１，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して２時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝10：１（２）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.29ｇの目的物―23
―５を得た。 実施例 127 実施例62で合成したａ―32―１，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝15：１（３）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.30ｇの目
的物―24―１を得た。 実施例 128 実施例63で合成したａ―33―１，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して２時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝20：１（３）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.27ｇの目的物―25
―１を得た。 実施例 129 実施例64で合成したａ―34―１，５ミリモル
を100mlの無水メタノールに溶かし、水浴上（10
〜15℃）で乾燥アンモニアガスを50ミリモルまで
溶解させ、密栓して２時間反応させた。たゞちに
減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた残渣を10
mlのクロロホルムに溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、300ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝９：１（２）で生成物を分画
し減圧で濃縮乾固すると、1.11ｇの目的物―26
―１を得た。 実施例 130 実施例65で合成したａ―35―１，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝15：１（２）で生
成物を分画し減圧の濃縮乾固すると、0.16ｇの目
的物―27―１を得た。 実施例 131 実施例７で合成したａ―１―４，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣をを10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホ
ルムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にの
せて、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝15：１（３）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.34ｇの目
的物―28―２を得た。 実施例 132 実施例６で得たａ―１―11，５ミリモルを
100mlの無水エタノールに溶かした。モノエチル
アミン（70％水溶液）30mlに乾燥N2ガスを吹き
込み、追い出されたモノエチルアミンをドライア
イスで冷却されたトラツプで捕捉した。得られた
モノエチルアミンを温浴上（20〜30℃）で気化さ
せ、苛性ソーダ管で乾燥後、ａ―１―11エタノ
ール溶液に吹きこみ、密栓して３時間撹拌した。
その後、減圧で溶媒を除去し、得られた残渣をク
ロロホルム30mlに溶かし、クロロホルムで充填し
たシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ、クロロホ
ルム：メタノール＝50：１（３）で生成物を分
画し濃縮乾固すると、0.9ｇの目的物―28―４
を得た。 実施例 133 実施例９で得たａ―２―10，５ミリモルを30
mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かした。モノ
メチルアミン（40％水溶液）30mlの乾燥N2ガス
を吹き込み、追い出されたモノメチルアミンをド
ライアイスで冷却されたトラツプで捕捉した。得
られたモノメチルアミンを温浴上（20〜30℃）で
気化させ、苛性ソーダ管で乾燥後、７ミリモルま
で先のジメチルホルムアミド溶液に吹きこみ、密
栓して49時間撹拌した。その後、減圧で溶媒を除
去し、得られた残渣をクロロホルム30mlに溶か
し、クロロホルムで充填したシリカゲルカラム
（100ｇ）にのせ、クロロホルム：メタノール＝
20：１（３）で生成物を分画し濃縮乾固すると、
0.35ｇの目的物―29―２を得た。 実施例 134 実施例28で合成したａ―４―１，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアスを７ミリモ
ルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムを洗つた後、クロロホ
ルム：メタノール＝15：１（３）で生成物を分
画し減圧で濃縮乾固すると、0.17ｇの目的物―
31―１を得た。 実施例 135 実施例17で得たａ―５―３，５ミリモルを
100mlの無水メタノールに溶かした。モノエチル
アミン（70％水溶液）30mlに乾燥N2ガスを吹き
こみ、追い出されたモノエチルアミンをドライア
イスで冷却されたトラツプで捕捉した。得られた
モノエチルアミンを温浴上（20〜30℃）で気化さ
せ、苛性ソーダ管で乾燥後、ａ―５―３のメタ
ノール溶液に吹きこみ、密栓して３時間撹拌し
た。その後、減圧で溶媒を除去し、得られた残渣
をクロロホルム20mlに溶かし、クロロホルムで充
填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ、クロ
ロホルム：メタノール＝８：１（２）で生成物
を分画し濃縮乾固すると、1.1ｇの目的物―32
―１を得た。 実施例 136 実施例14で合成したａ―６―12，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝20：１（３）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.26ｇの目
的物―33―１を得た。 実施例 137 実施例19で合成したａ―７―16，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝20：１（３）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.28ｇの目
的物―34―１を得た。 実施例 138 実施例24で得たａ―８―９，５ミリモルを30
mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かした。モノ
エチルアミン（70％水溶液）30mlに乾燥N2ガス
を吹き込み、追い出されたモノエチルアミンをド
ライアイスで冷却されたトラツプで捕捉した。得
られたモノエチルアミンを温浴上（20〜30℃）で
気化させ、苛性ソーダ管で乾燥後、７ミリモルま
で先のジメチルホルムアミド溶液に吹きこみ、密
栓して48時間撹拌した。その後減圧で溶媒を除去
し、得られた残渣をクロロホルム30mlに溶かし、
クロロホルムで充填したシリカゲルカラム（100
ｇ）にのせ、クロロホルム：メタノール＝15：１
（３）で生成物を分画し濃縮乾固すると、0.24
ｇの目的物―35―１を得た。 実施例 139 実施例25で合成したａ―９―９，５ミリモル
を30mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、水
浴上（10〜15℃）で乾燥アンモニアガスを７ミリ
モルまで溶解させ、密栓して48時間反応させた。
たゞちに減圧で溶媒を除去し乾固した。得られた
残渣を10mlのクロロホルムに溶かし、クロロホル
ムで充填したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせ
て、300mlのクロロホルムでカラムを洗つた後、
クロロホルム：メタノール＝20：１（３）で生
成物を分画し減圧で濃縮乾固すると、0.33ｇの目
的物―36―１を得た。 実施例 140 充分乾燥したAI―77―Ｆ（実施例３）５ミリモ
ルを100mlの乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、
7.5ミリモルのペンチルアミンを加え、密栓して
室温で三日撹拌した。反応後、減圧で溶媒とアミ
ンを除去し、得られた残渣をクロロホルム（20
ml）に溶かし、クロロホルムで充填したシリカゲ
ルカラム（100ｇ）にのせて、100mlのクロロホル
ムでカラムを洗つた後、クロロホルム：メタノー
ル＝７：１（2.5）で生成物を分画し減圧で濃縮
乾固すると、0.32ｇの目的物Ｖ―１―２を得た。 実施例 141 実施例11で得たａ―３―２，５ミリモルを30
mlの乾燥したジメチルホルムアミドに溶かし、
7.5ミリモルのベンチルアミンを加え、密栓して
水浴上（10〜16℃）で二日撹拌した。反応後、減
圧で溶媒とアミンを除去し、得られた残渣をクロ
ロホルム（10ml）に溶かし、クロロホルムで充填
したシリカゲルカラム（100ｇ）にのせて、150ml
のクロロホルムでカラムを洗つた後、クロロホル
ム：メタノール＝30：１（２）で生成物を分画
し濃縮乾固すると、目的物―30―１を得た
（0.27ｇ）。
第１図は重水素化メタノール中におけるAI―
77―Ｂの 1H核磁気共嗚スペクトル、第２図は
KBr錠によるAI―77―Ｂの赤外部吸収スペクト
ル、第３図は重水素化ジメチルスルホキサイド中
におけるAI―77―Ｆの 1H核磁気共嗚スペクト
ル、第４図はKBr錠によるAI―77―Ｆの赤外部
吸収スペクトルを示す。
77―Ｂの 1H核磁気共嗚スペクトル、第２図は
KBr錠によるAI―77―Ｂの赤外部吸収スペクト
ル、第３図は重水素化ジメチルスルホキサイド中
におけるAI―77―Ｆの 1H核磁気共嗚スペクト
ル、第４図はKBr錠によるAI―77―Ｆの赤外部
吸収スペクトルを示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記の一般式〔〕で示されるAI―77類の
アミド誘導体ならびにそれらの医薬的に許容され
る塩。 （式中、ＹはNHR4またはＺと合してＣとＣとの
結合手を、ＺはＨまたはＹと合してＣとＣとの結
合手を、R1，R2とR4は各々独立にＨ、R′、―
CH2R、―CORを表し、R3はＨ、ＲまたはCH2R
を表す。Ｒはメチル、エチル、ｎ―プロピル、ｎ
―ブチル、ｎ―ペンチル、ｎ―ヘキシル、ｎ―ヘ
プチル、ｎ―オクチル、ｎ―ウンデシル、ｎ―ヘ
プタデシル、イソプロピル、２―メチル―プロピ
ル、２―メチル―ブチル、２―プロピル―ペンチ
ル、４―エチル―ヘプチル、２・６・10―トリメ
チル―テトラデカニル、ビニル、アリル―１―プ
ロペニル、２―プロペニル、２―ブテニル、１・
３―ブタジエニル、２―ペンテニル、８―ヘプタ
デセニル、２―メチル―アリール、２・６―ジメ
チル―２・６―ヘプタジニル、２・６・９―トリ
メチル―２・６・９―トリデカトリエニル、フエ
ニル、ナフチル、アズレニル、ノルボルネン、ノ
ルボルナン、カンフアー、アダマントイル、サイ
クロプロピル、サイクロブチル、サイクロペンチ
ル、サイクロヘキシル、サイクロヘプチル、サイ
クロオクチル、ベンジル、フエネチル、２―フエ
ニルプロピル、ナフチルメチル、ナフチルエチ
ル、２・４―ジメチル―イソプロピル―アズレニ
ル、フリル、ジヒドロフリル、テトラヒドロフリ
ル、ピラニル、ジヒドロピラニル、チエニル、テ
トラゾリル、ピロリル、ピロリジニル、キノリ
ル、インドリル、インドリニル、ピペリジル、モ
ルホリニル、ピリジル、オキサゾリル、オキサゾ
リジニル、チアゾリル、チアゾリジニル、ならび
に上記炭化水素の塩素、臭素、弗素、オキソ、カ
ルボキシル、ヒドロキシル、メチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル、３―
メチル―ブチル、イソブチレン、プロピレン、ア
セチレン、フエニル、ナフチル、アズレニル、ト
ロポイル、サイクロプロピル、サイクロブチル、
サイクロペンチル、サイクロヘキシル、サイクロ
ヘプチル、サイクロオクチル、ベンジル、フエネ
チル、２―フエニルプロピル、ナフチルメチル、
ｐ―（３―メチル）ブチルフエニル、メトキシ、
エトキシ、ペントキシ、３―メチル―ブトキシ、
３―メチル―２―ブテノキシ、メチルチオ、エチ
ルチオ、３―メチル―ブチルチオ、ペンチルチ
オ、メトキシカルボニル、ペントキシカルボニ
ル、イソブトキシカルボニル、アセチルオキシ、
プロピオニルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘキ
サノイルオキシ、クロトノイルオキシ、アセチ
ル、プロピオニル、ヘキサノイル、３―メチル―
ブタノイル、フリル、ジヒドロフリル、テトラヒ
ドロフリル、ピラニル、ジヒドロピラニル、チエ
ニル、テトラゾリル、ピロリル、ピロリジニル、
キノリル、インドリル、インドリニル、ピペリジ
ノ、モルホリノ、ピリジル、オキサゾリル、オキ
サゾリジニル、チアゾリル、チアゾリジニルの一
つまたは二つ以上の基で置換されたものから成る
群から選ばれる基を、R′はＲの中で不飽和炭素
または三級炭素として一般式〔〕中のＯまたは
Ｎに直接結合する基以外の基を表す。）ただし、
R1，R2，R3およびR4が同時にＨである化合物を
除く。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6168580A JPH0246585B2 (ja) | 1980-05-12 | 1980-05-12 | Aii77ruinoamidojudotaitosonoiyakutekinikyoyosareruen |
| GB8022059A GB2058047B (en) | 1979-07-11 | 1980-07-04 | Amides and amidines |
| FR8015179A FR2476085B1 (fr) | 1979-07-11 | 1980-07-08 | Composes obtenus par culture de microorganismes appartenant a la souche bacillus et procede pour les obtenir |
| NLAANVRAGE8003985,A NL187069C (nl) | 1979-07-11 | 1980-07-10 | N-acyl 3-(1-amino-3-methylbutyl)-8-hydroxy-3,4-dihydro-isocoumarine verbinding, werkwijze voor de bereiding daarvan en farmaceutisch preparaat. |
| IT49209/80A IT1195309B (it) | 1979-07-11 | 1980-07-10 | Composti ai-77 loro sali farmaceuticamente accettabile e procedimento per produrli |
| CH5281/80A CH654005A5 (fr) | 1979-07-11 | 1980-07-10 | 3,4-dihydro-8-hydroxyisocoumarines et leurs sels acceptables en pharmacie. |
| DE19803026214 DE3026214A1 (de) | 1979-07-11 | 1980-07-10 | Salicylsaeure-derivate, ihre pharmazeutisch vertraeglichen salze und verfahren zu ihrer herstellung |
| US06/167,581 US4393225A (en) | 1979-07-11 | 1980-07-11 | AI-77 Compounds and pharmaceutically acceptable salts thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6168580A JPH0246585B2 (ja) | 1980-05-12 | 1980-05-12 | Aii77ruinoamidojudotaitosonoiyakutekinikyoyosareruen |
Related Child Applications (1)
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|---|---|---|---|
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| JPS56158778A JPS56158778A (en) | 1981-12-07 |
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Family
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP6168580A Expired - Lifetime JPH0246585B2 (ja) | 1979-07-11 | 1980-05-12 | Aii77ruinoamidojudotaitosonoiyakutekinikyoyosareruen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0246585B2 (ja) |
-
1980
- 1980-05-12 JP JP6168580A patent/JPH0246585B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56158778A (en) | 1981-12-07 |
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