JPH0242391B2 - - Google Patents

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JPH0242391B2
JPH0242391B2 JP58184340A JP18434083A JPH0242391B2 JP H0242391 B2 JPH0242391 B2 JP H0242391B2 JP 58184340 A JP58184340 A JP 58184340A JP 18434083 A JP18434083 A JP 18434083A JP H0242391 B2 JPH0242391 B2 JP H0242391B2
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quaternary ammonium
acid
amine
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Publication of JPH0242391B2 publication Critical patent/JPH0242391B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D17/00Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/40Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
    • C08G59/50Amines
    • C08G59/54Amino amides>

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  • Materials Engineering (AREA)
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  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は顔料分散ビヒクルずしお特に有甚な合
成物を配合する顔料ペヌストに関する。 ペむント組成物および特に電着し埗るペむント
組成物の圢成においお、重芁な因子は被芆組成物
に顔料を導入するこずである。顔料は兞型的には
分散disperse剀ずしお䜜甚する顔料分散
grindingビヒクルに分散しおペヌストを圢成
し、埗られた顔料ペヌストを被芆組成物に導入
し、適圓な色、䞍透明性、甚途およびフむルム特
性を有する被芆組成物を提䟛する。 よい顔料分散剀を圢成する性胜はしばしば、党
䜓の塗料性胜に有害である。分散剀に付随する高
い極性は埗られた被膜の湿最抵抗および耐久性を
悪くする。埓぀お、分散剀が分散する顔料䞭で可
胜な限り効果的であ぀お、最少量の分散剀ビヒク
ルを最終の被芆組成物に導入するこずが望たし
い。 即ち、本発明は顔料ペヌストおよびそれを調補
する方法に関する。顔料ペヌストは第玚アンモ
ニりム基の少なくずも個の有機基が炭玠数少な
くずもの非環匏郚分を含有しか぀匏 匏䞭、R1は氎玠たたは炭玠数〜の䜎玚ア
ルキルであるを有する基を含有するこずを特城
ずする第玚アンモニりム基含有物質䞭で顔料た
たは耇数の顔料を分散するこずにより埗られる。
奜たしくは、第玚アンモニりム基含有物質は䞊
蚘方法により調補される。 埓぀お、この第玚アンモニりム基含有物質は
は顔料ペヌストを調補する堎合に顔料分散剀たた
は分散ビヒクルずしお特に有甚である。該ペヌス
トはむンクおよび倚くの型の塗料、特にカチオン
電着性組成物に有甚である。 特定の理論に限られるわけではないが、
【匏】基はその極性ゆえに本発明の組成物 に優れた顔料濡れ性を付䞎し、䞀方非環匏郚分は
被芆組成物の基材濡れを改良するず信じられおい
る。これらの性質は高い顔料保持性を有する顔料
ペヌストを䞎え、優れた耐腐蝕性を有するペヌス
トで配合される被芆組成物を䞎える。 第玚アンモニりム基含有物質は酞およびた
たは氎の存圚䞋で、−゚ポキシ含有物質ず
炭玠数少なくずもの非環匏郚分䞊びに匏 匏䞭R1は氎玠たたは䜎玚アルキルであるを
有する有機基を含有する有機基を含有するアミン
ずを、第玚アンモニりム基含有物質を圢成する
のに十分な条件䞋で反応するこずにより調補しお
もよい。 −゚ポキシ物質は、−゚ポキシ官
胜䟡数が1.0よりも倧きいかたたは等しいおよび
4.0たでを有するモノマヌ状たたはポリマヌ状化
合物たたはそれらの混合物であ぀およい。たた゚
ポキシ基はポリマヌたたは暹脂物質に付加されお
もよい。ポリ゚ポキシドはポリマヌ状たたは暹脂
状であ぀お、゚ポキシ圓量が玄100〜500で
あるのが奜たしい。 −゚ポキシ物質はポリ゚ポキシド、即
ち、分子䞭に平均1.5〜の゚ポキシ基を有す
るものであ぀およい。ポリ゚ポキシドの䟋ずしお
は倚䟡プノヌル、䟋えばビスプノヌルのポ
リグリシゞル゚ヌテルが挙げられる。これらは、
䟋えば、ポリプノヌルず゚ピクロロヒドリンた
たはゞクロロヒドリンずをアルカリ存圚䞋で゚ヌ
テル化するこずにより調補しおもよい。プノヌ
ル性化合物ずしおは、ビス−ヒドロキシプ
ニル−プロパン、4′−ゞヒドロキシ
ベンゟプノン、ビス−ヒドロキシプニ
ル−゚タン、ビス−ヒドロキシプ
ニル−む゜ブタン、ビス−ヒドロキ
シタヌシダリヌブチルプニル−プロパ
ン、ビス−ヒドロキシ−ナフチルメタン、
−ヒドロキシナフタレン等が挙げられる。
他の有甚なポリ゚ポキシはノボラツク暹脂たたは
同様のポリプノヌル暹脂から同様に埗おもよ
い。 たた倚䟡アルコヌル䟋えば、゚チレングリコヌ
ル、ゞ゚チレングリコヌル、トリ゚チレングリコ
ヌル、−プロピレングリコヌル、−
ブチレングリコヌル、−ペンタンゞオヌ
ル、−ヘキサントリオヌル、グリセロ
ヌルビス−−ヒドロキシシクロヘキシル
−プロパン等から誘導され埗る同様の倚䟡ア
ルコヌルのポリグリシゞル゚ヌテルも適圓であ
る。 たた、゚ピクロロヒドリンたたは同様の゚ポキ
シ化合物を脂肪族たたは芳銙族ポリカルボン酞、
䟋えばシナり酞、琥珀酞、グルタル酞、テレフタ
ル酞、−ナフタレンゞカルボン酞、二量化
リノヌル酞等ずの反応により埗られるポリカルボ
ン酞のポリグリシゞル゚ステルを甚いおもよい。
それらの䟋ずしおは、ゞグリシゞルアゞペヌトお
よびゞグリシゞルフタレヌトが挙げられる。 たた、オレフむン系䞍飜和脂環匏化合物の、䟋
えば、酞玠ず適圓な金属觊媒、過安息銙酞、酞−
アルデヒドモノパヌアセテヌトたたは過酢酞によ
る゚ポキシ化により誘導されるポリ゚ポキシドも
有甚である。ポリ゚ポキシドには呚知の゚ポキシ
脂環匏゚ヌテルおよび゚ステルが挙げられる。 −゚ポキシ物質の他の䟋ずしおはモノ゚
ポキシド、䟋えば、以䞋の構造匏 匏䞭、R1は氎玠およびメチル、R2は氎玠、奜
たしくは炭玠数〜18シクロアルキルであ぀およ
いアルキルたたはアリヌル、眮換されたアルキル
およびアリヌル基であ぀およいが、該眮換基はモ
ノ゚ポキシドずアミンずの反応を阻害せずたたは
埗られた生成物の所望の䜿甚を阻害しないもの、
䟋えば、−CH2OR3および
【匏】匏䞭、R3はシクロアルキルで あ぀おもよいアルキル、アリヌルおよび眮換され
たアルキルおよびアリヌル郚分が炭玠数〜18で
あるシクロアルキルおよびアリヌルを有しおもよ
いアルキルであるであるによ぀お衚わされる
ものが挙げられる。 モノ゚ポキシドの代衚䟋ずしおぱチレンオキ
シド、プロピレンオキシド、−ブチレンオ
キシド、−ペンテンオキシド、スチレンオ
キシドおよびグリシドヌルを含有する炭玠数〜
のアルキレンオキシドが挙げられる。他の適圓
な物質の䟋ずしおはモノ塩基酞のグリシゞル゚ス
テル、䟋えば、グリシゞルアクリレヌト、グリシ
ゞルメタクリレヌト、グリシゞルアセテヌト、グ
リシゞルブチレヌトおよびアルコヌルおよびフ
゚ノヌルのグリシゞル゚ヌテル、䟋えば、ブチル
グリシゞル゚ヌテルおよびプニルグリシゞル゚
ヌテルが挙げられる。 特に奜たしいものずしおは、炭玠数玄〜24の
非環匏基を含有する酞たたはアルコヌルのグリシ
ゞル゚ヌテルたたぱステルである。酞およびア
ルコヌルの兞型的な䟋ずしおは、脂肪アルコヌル
䞊びに酞の飜和盎鎖および分枝鎖皮たたぱチレ
ン系䞍飜和皮およびそれらの混合物を包含し、䜎
玚なものずしおはオクタン酞たたは−゚チルヘ
キサン酞から、高玚なものずしおはラりリン酞、
パルミチン酞、ステアリン酞等を包含する。高床
に分枝鎖を有する第玚カルボン酞混合物、䟋え
ばシ゚ル瀟のVersatic911がここでは特に奜たし
い。等しい鎖長の脂肪アルコヌルがグリシゞル゚
ヌテルの調補に甚いられる。 炭玠数少なくずもの非環匏郚分を有する有機
基および匏 匏䞭、R1は氎玠たたは䜎玚アルキルである
を有する基を有するアミンは合成的に調補され埗
る。調補方法の぀には倚䟡アミンず脂肪酞たた
は脂肪む゜シアネヌトずの反応が含たれる。倚䟡
アミンの䟋ずしおは皮々の反応性を有するアミ
ン、䟋えば、第玚アミンず第玚アミンたたは
第玚アミンず第玚アミンこれが奜たしい
を有するものが挙げられる。 倚䟡アミンの他の䟋ずしおはアミン基およびヒ
ドロキシル基、特に第玚アミン基およびヒドロ
キシル基を有するものが挙げられる。反応埌、第
玚アンモニりム基を圢成し埗る少くずも぀の
アミン基が存圚する。 奜たしい倚䟡アミンは、特にゞアミンである脂
肪族倚䟡アミンである。奜たしい倚䟡アミンの特
定の䟋ずしおは、ゞメチルアミノプロピルアミ
ン、ゞ゚チレントリアミン、−メチル゚チレン
ゞアミン、ゞメチルアミノ゚チレンゞアミン、
N′−トリメチル−−プロパンゞ
アミンおよび−ゞメチル−−トル゚
ンゞアミンを包含する。 本発明に有甚な脂肪酞の䟋ずしおは、炭玠数少
なくずも、奜たしくは12〜24、最も奜たしくは
30〜36のモノカルボン酞およびポリカルボン酞が
挙げられる。モノカルボン酞の䟋ずしおは飜和お
よび䞍飜和酞、䟋えばカプリル酞、ミリスチン
酞、パルミチン酞、ステアリン酞、オレむン酞、
リノヌル酞およびリノレン酞が挙げられる。その
ような酞は倩然に産するオむルから誘導され、そ
れが誘導されるオむルから名付けられる。䟋え
ば、アマニ油、倧豆脂肪酞、綿実脂肪酞、ココナ
ツツ脂肪酞等がある。ポリカルボン酞の䟋ずしお
は、ドデカンニ酞および二量化䞊びに䞉量化䞍飜
和脂肪モノカルボン酞、䟋えば二量化リノヌル酞
が挙げられる。 本発明に有甚な脂肪む゜シアネヌトは炭玠数少
なくずも、奜たしくは12〜40、最も奜たしくは
30〜36のモノむ゜シアネヌトおよびポリむ゜シア
ネヌトであ぀およい。特定の䟋ずしおはドデシル
む゜シアネヌト、オクタデシルむ゜シアネヌト、
−ノニルプニルむ゜シアネヌトおよびダむマ
ヌ酞ゞむ゜シアネヌトが挙げられる。たた、脂肪
アルコヌルたたは脂肪アミン、即ち、炭玠数少な
くずも、奜たしくは12〜40を含有するもの、䟋
えばステアリルアルコヌルたたはココアミンずポ
リむ゜シアネヌト䟋えば、トル゚ンゞむ゜シアネ
ヌトずのむ゜シアネヌト含有反応生成物を甚いお
もよい。次いで未反応む゜シアネヌトを含有する
反応生成物を䞊述の劂き倚䟡アミンず反応させお
もよい。 別の調補法ずしおは、脂肪アミンたたは脂肪ヒ
ドラゞンずむ゜シアネヌト、䟋えば、ハヌフキダ
ツプ化む゜シアネヌトずの反応が含たれる。反応
の埌、少くずも぀のアミン基が第玚アンモニ
りム基を圢成するのに甚いられる。 −゚ポキシ物質ず䞊述のアミンずを非ゲ
ル化第玚アンモニりム基を圢成させるのに十分
な条件䞋で反応させる。 第玚アミンの堎合には、−゚ポキシ含
有物質ずアミンずを、奜たしくは制限された量の
氎の存圚䞋で成分を単に混合するこずにより調補
しおもよい。氎の䜿甚量ぱポキシ基に円滑な反
応をさせる量である。兞型的には、氎はアミンの
窒玠圓量圓り玄1.0〜玄16、奜たしくは〜10
モルを甚いる。 反応は倚くの堎合宀枩で進行し、そしお、ある
堎合には発熱的であり、埓぀おゆるやかな冷华が
必芁であ぀おもよい。ある堎合には、ゆるやかに
䞊昇した枩床を甚いおもよく、それが奜たしい。
兞型的には、反応は玄50℃〜100℃で行われる。
反応は所望ならば溶媒の存圚䞋で行぀おもよい。
溶媒を甚いる堎合は、奜たしくは溶媒は圢成され
る最終組成物に甚いられ埗るものである。䟋えば
アルコヌル、ケトンおよびグリコヌル゚ヌテルを
甚いおもよい。 䞊述のようにアミンず−゚ポキシ物質ず
の反応は通垞、酞およびたたは氎の存圚䞋で行
぀お第玚アンモニりム塩たたはヒドロキシドを
圢成する。氎の存圚は反応を穏らげるのに奜たし
い。酞の存圚は顔料の分散に奜たしい。たずアミ
ンを酞ず䞭和しおアミン塩を圢成し、次いでポリ
゚ポキシドず反応させおもよい。別に、ポリ゚ポ
キシド、アミンおよび酞を同時に反応させおもよ
い、たた、アミンず゚ポキシドを最初に反応させ
た埌、酞を加えおもよい。 有甚な酞は有機たたは無機酞、奜たしくは、
pKaがより小さいものであ぀おもよい。奜たし
くは酞は氎溶性であ぀お、奜たしくは有機酞であ
る。酞の䟋ずしおは燐酞、酢酞および乳酞が挙げ
られる。 奜たしい第玚アミンの他に、有甚な組成物を
第玚たたは第玚アミンを甚いお調補しおもよ
い。これは第玚アミンたたは第玚アミンず
−゚ポキシ物質ずを最初に反応させお第
玚アミンを圢成するこずにより達成される。反応
は第玚アミンが圢成されるたで続けられる。さ
らに最初に反応されたものず同じたたは異なる
−゚ポキシ物質である未反応゚ポキシずの
反応を続けお、第玚アンモニりム塩を圢成す
る。もし−゚ポキシ物質がポリ゚ポキシド
であるならば、ゲル化を避けるために予防措眮を
取るべきである。分子量が小さいものを甚いるか
たたは別にモノ゚ポキシドを甚いるべきである。 別途モノ゚ポキシドで玚化する他に、玚化
をゞメチルスルプヌトたたはメチルアむオダむ
ドで行぀おもよいが、これらの䜿甚は電着には奜
たしくない。 本発明の組成物は顔料分散ビヒクルずしお極め
お効果的であるこずが解぀た。該分散ビヒクルを
甚いお、分散ビヒクルで分散されるたたは以
䞊の顔料を含有する顔料ペヌストを調補する。 顔料ペヌストは、圓業者に呚知の方法で分散ビ
ヒクル䞭に顔料を分散disperseたたは分散
grindingをするこずにより調補される。顔料
ペヌストは䜓質的成分ずしお䞊蚘のように調補さ
れた第玚アンモニりム顔料分散ビヒクルず少く
ずも皮の顔料を含有するしかしながら、該ペ
ヌストは別途所望成分、䟋えば可塑剀、湿最剀、
界面掻性剀たたは消泡剀を含有しおもよい。 分散はボヌルミル、サンドミル、コヌレスデむ
ス゜ルバヌCowles dissolver、連続アトリタ
ヌattritor等を䜿甚するこずにより、顔料が
所望の埄にたで小さくなり、奜たしくは分散ビヒ
クルにより濡れおよび分散するたで行うこずによ
り行な぀おもよい。分散埌の顔料の粒子埄は通垞
10Όたたはそれ以䞋、実斜に十分な埄の範囲内で
ある。ヘグマン分散ゲヌゞHegman
grindgaugeが玄〜であるものを通垞甚い
る。 奜たしくは分散はビヒクルの氎性分散液䞭で行
われる。氎性分散䜓grindに存圚する氎の量
は連続氎性盞を生成するのに十分な量であるべき
である。氎性分散䜓は通垞総固圢分玄30〜70含
有する。より倚い氎の䜿甚はミルの性胜を䜎䞋す
るのみであり、より少い氎を甚いおもよいが、あ
る堎合には埗られた粘床が高くなり問題を生じる
かもしれない。 本発明の顔料分散ビヒクルの利点の぀は、高
い顔料分散ビヒクルの埓量比でペヌスト䞭に配
合される性胜である。分散されるべき顔料による
が、少くずも10、奜たしくはより高く、少な
くずも20、50〜80たでの兞型的な重量比
が、120〓49℃で日間攟眮したずきにペヌ
ストが沈柱たたは分離しないで達成され埗る。
ほどの䜎い比もたた所望であれば甚いおも
よい。 本発明の実斜に甚いられる顔料は呚知の顔料で
ある。䞀般にはチタニりムゞオキシドが単独たた
は䞻たる癜色顔料であるその他に酞化アンチモ
ン、酞化亜鉛、塩基性炭酞鉛、塩基性硫酞鉛、炭
酞バリりム、チダむナクレむ、炭酞カルシりム、
ケむ酞アルミニりム、シリカ、炭酞マグネシり
ム、ケむ酞マグネシりムを包含する他の癜色顔料
およびたたは䜓質顔料を甚いおもよい。たた着
色顔料、䟋えばカドミりムむ゚ロヌ、カドミりム
レツド、カヌボンブラツク、フタロシアニンブル
ヌ、クロヌムむ゚ロヌ、トルむゞンレツド、氎和
酞化鉄等を甚いおもよい。 顔料ペヌストをフむルム圢成性暹脂ず混合しお
ペむントを圢成しおもよい。フむルム圢成性暹脂
は電着に呚知のカチオン暹脂であ぀おもよい。こ
れらの暹脂は呚知であ぀お詳现に蚘茉する必芁は
ない。適圓な暹脂の䟋ずしおは第玚アミン塩含
有暹脂、䟋えば、米囜特蚱第4148772号本発明
の譲受人であるPPGむンダストリヌズ瀟に譲枡
されたおよび第玚アンモニりム塩含有暹脂、
䟋えばボツ゜らによる米囜特蚱第3839252号が挙
げられる。カチオン電着甚の適圓な電着暹脂を蚘
茉するこれらの文献の䞀郚分を本明现曞に挿入す
る。 最終の電着組成物電着性暹脂ず顔料ペヌス
トが電着に必芁な性胜を有するのに十分な顔料
ペヌストを甚いる。倚くの堎合、最終電着性組成
物が玄0.05〜玄0.6の顔料バむンダヌ電着性
暹脂ず顔料分散剀比を有する。 電着には玄〜25固圢分重量、即ち、顔料ず
暹脂ビヒクルを含有する济を通垞甚いる。次いで
この氎性組成物を電気回路䞭の導電性アノヌドず
導電性カ゜ヌドに接觊しおおかれる。この被芆組
成物を含有する济に接觊しおいる間に、被芆組成
物の付着フむルムがカ゜ヌド䞊に析出する。 䞀般に電着を実斜する条件は他のタむプの被膜
の電着に甚いられるものず同じである。印加電圧
は倧きく倉化させおもよく、䟋えば、ボルトの
劂き䜎い電圧から数千ボルトの高い電圧であ぀お
もよい。通垞兞型的には50ボルト〜500ボルトを
甚いる。電流密床は通垞玄0.25アンペア〜15アン
ペアft2であり、電着䞭に枛少する傟向がある。 本発明の方法は劂䜕なる導電性基材、特に金
属、䟋えば、スチヌル、アルミニりム、銅等の塗
装に甚いられ埗る。電着埌、被膜を高枩で垞套の
方法、䟋えば焌成オヌブン䞭たたは赀倖熱ランプ
のバンクを甚いお硬化する。少なくずも100℃、
通垞125〜185℃の硬化枩床で少なくずも10分、通
垞玄10〜30分間を甚いる。 本発明の顔料分散ビヒクルの利点の぀は優れ
た耐腐蝕性であ぀お、塗膜が比范的䜎い枩床で、
即ち175℃およびそれ以䞋、兞型的には160〜175
℃で硬化された堎合でも未凊理スチヌルたたは油
性スチヌル基材䞊のカチオン電着塗膜に付䞎され
る。 本発明を実斜䟋によりさらに詳现に説明する。
本発明の実斜䟋は本発明を限定するものではな
い。実斜䟋䞭の党おの郚およびは、明现曞䞭を
通しおも同様、他に支持されない限り重量によ
る。 実斜䟋 この実斜䟋はゞメチルアミノプロピルアミンを
脂肪酞ず反応し、次いでモノ゚ポキシドで玚化
するこずによる本発明合成物の調補を瀺す。 ゞメチルアミノプロピルアミンず脂肪酞ずの反
応を以䞋のように行う 成 分 重量郚 Empol10101 285.7 ゞメチルアミノプロピルアミン 127.73 1二量化リノヌル酞゚メリヌ瀟Emery
Industriesから垂販。 適圓な装備を備えた反応容噚にEmpol1010ずゞ
メチルアミノプロピルアミンを仕蟌むず75℃に発
熱した。反応混合物を加熱し、玄時間、135〜
140℃の枩床範囲でVigreauxカラムで還流した。
その埌反応混合物を132℃に冷华し、Vigreauxカ
ラムの頂郚にデむヌンスタヌクDean−Stark
トラツプを挿入した。次いで時間にわた぀お蒞
溜するこずにより、氎および未反応ゞメチルアミ
ノプロピルアミンを反応混合物から陀去した。埗
られた反応生成物を真空ストリツプし残留アミン
を陀去した。 反応生成物を以䞋のようにブチルグリシゞル゚
ヌテルず反応した 成 分 重量郚 反応生成物 301.5 −ブトキシ゚タノヌル 208.5 88乳酞 90 脱むオン氎 71.3 ブチルグリシゞル゚ヌテル 128.1 反応生成物ず−ブトキシ゚タノヌルを適圓な
装備を有する反応容噚に仕蟌み、50℃に加熱し、
次いで乳酞を加えた。発熱の埌、反応枩床を55〜
60℃で玄15分間保持した。その埌脱むオン氎を添
加し、反応混合物を55〜60℃の枩床範囲で玄15分
間反応させた。次いで、ブチルグリシゞ゚ヌテル
を添加し、反応混合物を75℃に加熱し、75〜85℃
の枩床で時間反応させた。埗られた反応生成物
の固圢分含量は60.7であ぀た。 実斜䟋 本実斜䟋は実斜䟋の反応生成物を分散ビヒク
ルずしお甚いる高い顔料添加量を有する顔料ペヌ
ストの配合を瀺す。 顔料ペヌストを以䞋のように調補した。
【衚】 䞊蚘ペヌストず顔料をサンドミルで時間分散
し、ヘグマン7+の分散䜓を埗た。埗られたペヌス
トの顔料バむンダヌ比は35であ぀た。 実斜䟋 本実斜䟋はゞメチルアミノプロピルアミンずコ
コナツツ脂肪酞ずの反応の埌、ポリ゚ポキシドで
玚化するこずにより埗られる分散ビヒクルの調
補を瀺す。次いで顔料ペヌストを分散ビヒクルで
調補した。分散ビヒクルは以䞋の成分から埗た
【衚】 反応条件は本質的に実斜䟋に蚘茉したものず
同じであ぀た。埗られた反応生成物のアミン圓量
は288であ぀た。 䞊蚘反応生成物をポリ゚ポキシドで玚化し、
顔料分散ビヒクルを埗た。調補は以䞋のように行
な぀た
【衚】 分散ビヒクルを本質的に実斜䟋ず同様の方法
で調補した。分散ビヒクルの固圢分含量は68.3
であ぀た。 䞊蚘分散ビヒクルを甚いお実質䞊実斜䟋ず同
様の方法で顔料ペヌストを調補した。 調補は以䞋のように行われた
【衚】 埗られたペヌストの顔料バむンダヌの重量比
は35であ぀た。 実斜䟋 本実斜䟋はたたゞメチルアミノプロピルアミン
ず二量化ゞむ゜シアネヌトずを反応し、次いで、
埗られた反応生成物を玚化するこずによる本発
明合成物の調補を瀺す。調補は以䞋のように行わ
れた
【衚】 アネヌト。
二量化ゞむ゜シアネヌトを適圓な装備を有する
反応容噚に仕蟌み、ゞメチルアミノプロピルアミ
ンを時間にわた぀お添加するず発熱し、次いで
枩床を77℃に䞊昇した。党おのゞメチルアミノプ
ロピルアミンを添加し、77℃の枩床で反応混合物
を党おのむ゜シアネヌトが反応するたで保぀た。
埗られた反応生成物の圓量はに぀きアミンは
2.43ミリ圓量であ぀た。 䞊蚘反応生成物をモノ゚ポキシドで玚化し本
発明の顔料分散ビヒクルを埗た。調補は以䞋のよ
うに行぀た
【衚】 顔料分散ビヒクルを実斜䟋ず同様の方法で䞊
蚘反応生成物を玚化するこずにより調補した。
埗られた分散ビヒクルの固圢分含量は65.9であ
぀た。 䞊蚘分散ビヒクルを甚いお実質䞊実斜䟋ず同
様の方法で顔料ペヌストを調補した。調補は以䞋
のように行぀た
【衚】 埗られたペヌストの顔料バむンダヌの重量比
は35であ぀た。 実斜䟋 本実斜䟋は二量化ゞむ゜シアネヌトずゞメチル
゚タノヌルアミンず反応し、次いでモノ゚ポキシ
ドで玚化するこずにより調補される本発明の分
散ビヒクルを瀺す。調補は以䞋のように行぀た。
分散ビヒクルは実質䞊実斜䟋に蚘茉の方法ず同
様に調補した。調補は以䞋のように行぀た
【衚】 二量化ゞむ゜シアネヌトずゞブチル錫ゞラりレ
ヌトを適圓な装備を有する反応容噚に仕蟌み、次
いでゞメチル゚タノヌルアミンを10分にわた぀お
ゆ぀くりず添加した。発熱の埌枩床を100℃に䞊
昇した。ゞメチル゚タノヌルアミンの添加終了ず
ずもに、反応混合物を75℃に冷华し、党おのむ゜
シアネヌトが反応するたで玄30分保぀た。埗られ
た反応生成物のに぀きアミンは2.443ミリ圓
量であ぀た。 䞊蚘反応生成物をモノ゚ポキシドで玚化しお
本質的に実斜䟋ず同様の方法で顔料分散ビヒク
ルを埗た。調補は以䞋のように行぀た
【衚】 分散ビヒクルの固圢分含量は62.2であ぀た。 䞊蚘分散ビヒクルを甚いお実質䞊実斜䟋ず同
様の方法で顔料ペヌストを調補した。 調補は以䞋のように行われた
【衚】 埗られたペヌストの顔料バむンダヌの重量比
は35であ぀た。 実斜䟋 本実斜䟋は、本発明の分散ビヒクルおよびそれ
から調補された顔料ペヌストおよびカチオンペむ
ント䞭の顔料ペヌストの䜿甚を瀺す。分散ビヒク
ルを本質䞊実斜䟋ず同様の方法で調補した。調
補は䞋のように行぀た 成 分 重量郚 Empol1010 1311 ゞメチルアミノプロピルアミン 255.45 ゞメチルアミノプロピルアミン 255.45 ゞメチルアミノプロピルアミン 255.45 反応生成物のアミン圓量は398であ぀た。 䞊蚘反応生成物を実斜䟋ず実質䞊同様の方法
でブチルグリシゞル゚ヌテルを甚いお玚化し
た。以䞋のように調補した 成 分 重量郚 䞊蚘反応生成物 379.8 −ブトキシ゚タノヌル 161.5 88乳酞 111 脱むオン氎 88 ブチルグリシゞル゚ヌテル 158.2 −ブトキシ゚タノヌル 100 埗られた生成物は固圢分含量62.9を有する分
散ビヒクルであ぀た。 顔料ペヌストを実質䞊実斜䟋ず同様の方法で
䞊蚘分散ビヒクルを含有しお調補した。調補は以
䞋のように行぀た 成 分 重量郚 䞊蚘分散ビヒクル 38.5 ケむ酞アルミニりムクレヌ 446.4 ケむ酞鉛 72.1 カヌボンブラツク 57.5 ゞブチル錫オキシド 20.1 脱むオン氎 535.5 分散ビヒクルに䞊蚘顔料ず脱むオン氎ずを混合
しおスラリヌを圢成し、Jiffyミル䞭で時間分
散しヘグマン7+分散䜓を埗た。埗られたペヌスト
の顔料バむンダヌの重量比は25であ぀た。 䞊蚘顔料ペヌストず電着暹脂フむルム圢成性組
成物ずの混合䜓からなるカチオンペむントを以䞋
のように調補した。電着暹脂フむルム圢成性組成
物を以䞋のように調補した 成 分 重量郚 EPON82991 727.6 PCP−0200 268.4 キシレン 36.1 ビスプノヌル 197.8 ベンゞルゞメチルアミン 3.8 キダツプ化む゜シアネヌト架橋剀2 933.5 ゞ゚チレントリアミンずメチルむ゜ブチルケトン
ずから誘導されるゞケチミンメチルむ゜ブチル
ケトン䞭73固圢分 73.4 −メチル゚タノヌルアミン 59.1 −ヘク゜キシ゚タノヌル 76.5 酢酞 33.5 カチオン分散剀3 29.4 脱むオン氎 1793.1  シ゚ルケミカル瀟から垂販の゚ポキシ圓量
188を有する゚ピクロロヒドリンずビスプノ
ヌルずの反応から埗られる゚ポキシ暹脂溶
液。  トル゚ンゞむ゜シアネヌト80202
−−異性䜓混合物を−゚チルヘキ
サノヌルでハヌフキダツプし次いで、この生成
物をトリメチロヌルプロパンずのモル比
で反応するこずにより埗られるポリりレタン架
橋剀。この架橋剀はメチルむ゜ブチルケトンず
−ブタノヌルの9010の混合物䞭で70固圢
分溶液ずしお存圚する。  ガむギヌ・むンダストリアル・ケミカルズか
らGEIGY AMINE ずしお垂販のアルキル
むミダゟリン120郚、゚アヌプロダクツ・ア
ンド・ケミカルズ瀟からSURFYNOL 104ず
しお垂販のアセチレンアルコヌル120郚、
−ブトキシ゚タノヌル120重量郚、脱むオン
氎221重量郚および氷酢酞19郚を混合
するこずにより調補されるカチオン分散剀。 EPON829、PCP−0200およびキシレンを反応
容噚に仕蟌み窒玠雰囲気䞋で210℃に加熱した。
反応を玄半時間還流䞋で行い氎を共沞陀去した。
反応混合物を150℃に冷华し、ビスプノヌル
およびベンゞルゞメチルアミン觊媒1.6郚を
添加した。反応混合物を150〜190℃に加熱し、こ
の枩床で玄時間半保持し、次いで130℃に冷华
した。ベンゞルゞメチルアミン觊媒の残りの郚分
を添加し、反応混合物を還元ガヌドナ−ホルト粘
床50暹脂固圢分−゚トキシ゚タノヌル溶
液がになるたで130℃で時間半保持した。 ポリりレタン架橋剀、ゞケチミン誘導䜓および
−メチル゚タノヌルアミンを添加し、反応混合
物の枩床を110℃に䞊げおこの枩床で時間保持
した。 −ヘキ゜キシ゚タノヌルを添加し、反応混合
物を酢酞、脱むオン氎およびカチオン分散剀の混
合物に添加するこずにより氎に分散させた。この
分散液を脱むオン氎で32固圢分に垌釈し、真空
ストリツプしお有機溶媒を陀去し、固圢分含量36
の分散液を埗た。 䞊蚘電着組成物ず顔料ペヌストをブレンドし、
顔料バむンダヌ比0.2および济固圢分顔料20
を有するカチオンペむントを埗た。ペむントは限
倖濟過およびPHを乳酞で6.2に調補した埌、玄
1380ÎŒmhoscmの導電性を有した。スチヌルパネ
ルをペむント䞭で200〜275ボルト、ペむント枩床
80〓25℃で分間電着した。塗装されたパネ
ルを340〓170℃および360〓182℃で20分
間焌き、堅い、光沢のあるそしお平滑な塗膜を埗
た。 䞊蚘特定の説明および他の蚘茉は本発明の範囲
を限定するものではない。本発明は添付する特蚱
請求の範囲の範囲内においお皮々の倉圢および修
正を含むものである。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  (a)第玚アンモニりム基の少なくずも぀の
    有機基が炭玠数少なくずもの非環匏郚分ず匏 匏䞭、R1は氎玠たたは炭玠数〜の䜎玚ア
    ルキルであるを有する基を含有する第玚アン
    モニりム基含有物質ず(b)該物質に分散された顔料
    ずを含有する顔料ペヌスト。  第玚アンモニりム基含有物質の非環匏郚分
    が炭玠数12〜30を有する第項蚘茉の顔料ペヌス
    ト。  第玚アンモニりム基含有物質の基 【匏】がアミド基である第項蚘茉の顔料 ペヌスト。  第玚アンモニりム基含有物質の基 【匏】が尿玠たたはりレタン基である第 項蚘茉の顔料ペヌスト。  第玚アンモニりム基含有物質が(i)−
    ゚ポキシ含有物質ず(ii)炭玠数少なくずもの非環
    匏郚分を有する有機基および匏 匏䞭、R1は氎玠たたは炭玠数〜の䜎玚ア
    ルキルを有する基を含有するアミンを−
    ゚ポキシ含有物質のアミンに察する圓量比がに
    等しいかたたは倧きい条件䞋で反応させるこずに
    より埗られる第項蚘茉の顔料ペヌスト。  (b)(a)の重量比が少なくずも20である第
    項〜第項いずれかに蚘茉の顔料ペヌスト。
JP58184340A 1982-09-30 1983-09-30 顔料ペヌスト Granted JPS5984851A (ja)

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