JPH0241784A - レーザマーキング装置 - Google Patents
レーザマーキング装置Info
- Publication number
- JPH0241784A JPH0241784A JP63189636A JP18963688A JPH0241784A JP H0241784 A JPH0241784 A JP H0241784A JP 63189636 A JP63189636 A JP 63189636A JP 18963688 A JP18963688 A JP 18963688A JP H0241784 A JPH0241784 A JP H0241784A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- mask pattern
- pattern
- laser beam
- writing
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 11
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 10
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000010330 laser marking Methods 0.000 claims description 6
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 abstract description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体／、ｏツケージ上に印字するマーキン
グ装置に関し、特にレーザ発振器を使用しだレーザマー
キング装置に関する。
グ装置に関し、特にレーザ発振器を使用しだレーザマー
キング装置に関する。
従来、この種のレーザマーキング装置は、第３図に示す
ように、レーザ発振器３１と１発振ビームを整形するビ
ーム整形部３２と、このビーム整形によって整形された
ビームをガラスマスク３３に照射し１反射鏡３４を介し
て結像レンズ３５により、加工面３６にパターンを結像
させるものであった。
ように、レーザ発振器３１と１発振ビームを整形するビ
ーム整形部３２と、このビーム整形によって整形された
ビームをガラスマスク３３に照射し１反射鏡３４を介し
て結像レンズ３５により、加工面３６にパターンを結像
させるものであった。
上述した従来のレーザマーキング装置は、所望スルツク
ターンをマーキングするためにガラスマスク３３を交換
したシ１作成したシするのに手間がかかり、又、ガラス
マスクの管理にもかなりの時間を要するという欠点を有
していた。
ターンをマーキングするためにガラスマスク３３を交換
したシ１作成したシするのに手間がかかり、又、ガラス
マスクの管理にもかなりの時間を要するという欠点を有
していた。
したがって本発明は、印字をするのに手間が掛らず且つ
マスクの管理に時間の掛らぬマーキング装置を提供しよ
うとするものである。
マスクの管理に時間の掛らぬマーキング装置を提供しよ
うとするものである。
本発明によれば２表面が反射膜で覆われ下地がレーザ光
を透過する反射膜付き透過フィルムをフィルム保護ガラ
スで支えて長さ方向に移動させるフィルム送り手段と、
レーザ発振器、ビームエックスパンダ、ガルバノ型スキ
ャナ、及び集光レンズを有し、前記反射膜付き透過フィ
ルムにマスクパターンを書き込むパターン書込み手段と
、もう１つのレーザ発振器及びビーム整形器を有し、前
記フィルム保護ガラスの所定の位置に前記書き込ｉ ；
ｈ だマスクパターンを覆うに足るビームを投射するレ
ーザビーム形成手段と、前記書き込まれたマスクパター
ンが前記所定の位置にある時に前記ビームの該マスクパ
ターン部分を透過した・ぐターンを加工面に結像する結
像手段とを備えたレーザマーキング装置が得られる。
を透過する反射膜付き透過フィルムをフィルム保護ガラ
スで支えて長さ方向に移動させるフィルム送り手段と、
レーザ発振器、ビームエックスパンダ、ガルバノ型スキ
ャナ、及び集光レンズを有し、前記反射膜付き透過フィ
ルムにマスクパターンを書き込むパターン書込み手段と
、もう１つのレーザ発振器及びビーム整形器を有し、前
記フィルム保護ガラスの所定の位置に前記書き込ｉ ；
ｈ だマスクパターンを覆うに足るビームを投射するレ
ーザビーム形成手段と、前記書き込まれたマスクパター
ンが前記所定の位置にある時に前記ビームの該マスクパ
ターン部分を透過した・ぐターンを加工面に結像する結
像手段とを備えたレーザマーキング装置が得られる。
第１図は２本発明の一実施例の構成図である。
レーザ発振器１１はマスクパターンを作成するためのレ
ーザ発振器であり、このレーザ発振器から出射されたビ
ームは、ビームエキスパンダ１２ニよシ拡ケられ、ガル
バノ型スキャナ１３及び焦光レンズ１４により反射膜付
き透過フィルム１８上に焦点を結んで走査され、所望す
るマスク・やターンの形状に反射膜が除去される。この
反射膜付き透過フィルム１８上に形成されたマスクパタ
ーンは、フィルム送り機構２０によりフィルム保護ガラ
ス１９の間に送シ込まれる。
ーザ発振器であり、このレーザ発振器から出射されたビ
ームは、ビームエキスパンダ１２ニよシ拡ケられ、ガル
バノ型スキャナ１３及び焦光レンズ１４により反射膜付
き透過フィルム１８上に焦点を結んで走査され、所望す
るマスク・やターンの形状に反射膜が除去される。この
反射膜付き透過フィルム１８上に形成されたマスクパタ
ーンは、フィルム送り機構２０によりフィルム保護ガラ
ス１９の間に送シ込まれる。
レーザ発振器１７から出射されたレーザ光はフィルム保
護がラス１９に送り込まれたマスクパターンに、ビーム
整形部１６で整形したビームを反射鏡１５を介して照射
する。透過したパターンは結像レンズ２１により加工面
２２に結像させる。
護がラス１９に送り込まれたマスクパターンに、ビーム
整形部１６で整形したビームを反射鏡１５を介して照射
する。透過したパターンは結像レンズ２１により加工面
２２に結像させる。
第２図は本発明の第２の実施例の構成図である。
この図の構成要素で第１図と同じものには同じ参照数字
を付しである。レーザ発振器１１はマスクパターンを作
成するためのレーザ発振器であシ。
を付しである。レーザ発振器１１はマスクパターンを作
成するためのレーザ発振器であシ。
このレーザ発振から出射されたビームはビームエキスパ
ンダ２２で拡げられガルバノ型スキャナ１３及び焦光レ
ンズ１４．グイクロイックミラー２５を介して反射膜付
きフィルム１８上に集光走査されマスクパターンを形成
する。形成されたマスクパターンは実施例１同様フィル
ム送シ機構２０でフィルム保護ガラス１９の間に送り込
まれる。
ンダ２２で拡げられガルバノ型スキャナ１３及び焦光レ
ンズ１４．グイクロイックミラー２５を介して反射膜付
きフィルム１８上に集光走査されマスクパターンを形成
する。形成されたマスクパターンは実施例１同様フィル
ム送シ機構２０でフィルム保護ガラス１９の間に送り込
まれる。
レーザ発振機１７は、レーザ発振器１１と異なる波長を
有し、ビーム整形部１６でビームが整形され、グイクロ
イックミラー２５を介してマスクパターンに照射され、
結像レンズ２１によシ、加工面２２に結像される。この
実施例２では異なる波長のレーザを使用するので、マス
クパターン書き込み部と結像部の光路を１本化すること
ができ。
有し、ビーム整形部１６でビームが整形され、グイクロ
イックミラー２５を介してマスクパターンに照射され、
結像レンズ２１によシ、加工面２２に結像される。この
実施例２では異なる波長のレーザを使用するので、マス
クパターン書き込み部と結像部の光路を１本化すること
ができ。
光学系が簡略化できる利点がある。
以上説明したように本発明は、レーザ発振器とビームエ
キスパンダガルバノ型スキャナ及び焦光レンズから構成
されるマスクパターン書き込み部によシ１反射膜付き透
過フィルム上にマスク・母ターンを形成しフィルム送り
機構でフィルム保護ガラスの間に送り込み、レーザ発振
器とビーム整形部及び反射鏡、結像レンズから構成され
る結像部によって加工面に７９ターンを結像させること
によシ、所望のマスクパターンが短時間で作シ出すこと
ができ、また、フィルム送り機構により、マスクパター
ンの交換も簡単に行う効果がある。更に反射膜付き透過
フィルムに形成されたマスクパターンは巻き取ることが
できるので、マスクパターンがまとめ易くなシ、管理が
容易になるという効果がある。
キスパンダガルバノ型スキャナ及び焦光レンズから構成
されるマスクパターン書き込み部によシ１反射膜付き透
過フィルム上にマスク・母ターンを形成しフィルム送り
機構でフィルム保護ガラスの間に送り込み、レーザ発振
器とビーム整形部及び反射鏡、結像レンズから構成され
る結像部によって加工面に７９ターンを結像させること
によシ、所望のマスクパターンが短時間で作シ出すこと
ができ、また、フィルム送り機構により、マスクパター
ンの交換も簡単に行う効果がある。更に反射膜付き透過
フィルムに形成されたマスクパターンは巻き取ることが
できるので、マスクパターンがまとめ易くなシ、管理が
容易になるという効果がある。
第１図は本発明のレーザマーキング装置の第１の実施例
の構成図、第２図は本発明の第２の実施例の構成図、第
３図は従来装置の構成図である。 記号の説明：１１・・・レーザ発振器、１２・・・ビー
ムエキスパンダ、１３・・・ガルバノ型スキャナ。
の構成図、第２図は本発明の第２の実施例の構成図、第
３図は従来装置の構成図である。 記号の説明：１１・・・レーザ発振器、１２・・・ビー
ムエキスパンダ、１３・・・ガルバノ型スキャナ。
Claims (1)
- （１）表面が反射膜で覆われ下地がレーザ光を透過する
反射膜付き透過フィルムをフィルム保護ガラスで支えて
長さ方向に移動させるフィルム送り手段と、 レーザ発振器、ビームエックスパンダ、ガルバノ型スキ
ャナ、及び集光レンズを有し、前記反射膜付き透過フィ
ルムにマスクパターンを書き込むパターン書込み手段と
、 もう１つのレーザ発振器及びビーム整形器を有し、前記
フィルム保護ガラスの所定の位置に前記書き込まれたマ
スクパターンを覆うに足るビームを投射するレーザビー
ム形成手段と、 前記書き込まれたマスクパターンが前記所定の位置にあ
る時に前記ビームの該マスクパターン部分を透過したパ
ターンを加工面に結像する結像手段とを備えたレーザマ
ーキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63189636A JPH0241784A (ja) | 1988-07-30 | 1988-07-30 | レーザマーキング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63189636A JPH0241784A (ja) | 1988-07-30 | 1988-07-30 | レーザマーキング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0241784A true JPH0241784A (ja) | 1990-02-09 |
Family
ID=16244614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63189636A Pending JPH0241784A (ja) | 1988-07-30 | 1988-07-30 | レーザマーキング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0241784A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005101487A1 (en) * | 2004-04-19 | 2005-10-27 | Eo Technics Co., Ltd. | Laser processing apparatus |
| CN109048057A (zh) * | 2018-09-04 | 2018-12-21 | 沈阳飞机工业（集团）有限公司 | 一种在玻璃零件上打标的方法 |
-
1988
- 1988-07-30 JP JP63189636A patent/JPH0241784A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005101487A1 (en) * | 2004-04-19 | 2005-10-27 | Eo Technics Co., Ltd. | Laser processing apparatus |
| US7688492B2 (en) | 2004-04-19 | 2010-03-30 | Eo Technics Co., Ltd. | Laser processing apparatus |
| CN109048057A (zh) * | 2018-09-04 | 2018-12-21 | 沈阳飞机工业（集团）有限公司 | 一种在玻璃零件上打标的方法 |
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