JPH02308126A - 液晶光学素子の製造方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液晶表示素子、液晶記憶素子、液晶音響素子
などに用いられる液晶光学素子の製造方法に関する０本
発明はまた、その液晶光学素子の製造装置に関する。

〔従来の技術〕

液晶光学素子を生産性よく製造する方法が各種提案され
ている０例えば、特開昭６０−７５８１７号公報に記載
された方法は、基板上へ液晶をオフセット印刷し、その
後対向基板をプレスして素子を作製するものである。し
かし、強誘電性液晶素子などではセル厚を非常に小さく
（数μｍ以下）しなければならないので、オフセット印
刷による方法では、薄膜をつくるのは難しく、膜質の仕
上がりも充分とはいえない、また、この方法では配向処
理に曲げ配向を用いていないので生産性がよくないとい
う問題がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は、品質が均一で大面積の液晶光学素子を、生産
性よく高い歩留まりで容易に製造することができる液晶
光学素子の製造方法を提供しようとするものである。ま
た本発明はその液晶光学素子の製造装置を提供しようと
するものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者らは前記課題を解決するために鋭意研究を重ね
た結果、可撓性基板上へ液晶材料を含浸塗布して、対向
基板をラミネートし、曲げ変形処理することにより、そ
の目的が達成されることを見出し、本発明を完成するに
至った。

すなわち本発明は、含浸性部材に含浸した液晶材料を可
撓性基板上へ塗布する工程、該液晶材料が塗布された基
板と対向基板とをラミネートする工程及び得られたラミ
ネート物を曲げ変形により配向処理する工程からなる液
晶光学素子の製造方法を提供するものである。

先ず、含浸性部材に含浸した液晶材料を可撓性基板上へ
塗布する。この可撓性基板としては、少なくとも一方が
透明性の材料ならば特に限定なく用いることができ、長
尺物、枚葉物のいずれも用いられる。具体的には、例え
ば−軸又は二軸延伸ポリエチレンテレフタレート等の結
晶性ポリマー、。

ポリスルホン、ポリエーテルスルホン等の非結晶性ポリ
マー、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン、ポリカーボネート、ナイロン等のポリアミドなどの
プラスチックからなる基板が用いられる。この可撓性基
板上には予め透明電極を設けておくのが好ましい。この
透明電極としては、酸化スズを被着させたＮＥＳＡ膜、
酸化スズと酸化インジウムよりなるＩＴＯ膜等が用いら
れる。これらの電極は、公知の各種の手法、例えば、ス
パッタリング法、蒸着法、印刷法、塗布法、メッキ法、
接着法等又はこれらを適宜組み合わせた手法を用いて、
基板上に設けることができる。

液晶材料としては、高分子液晶、低分子液晶又はこれら
の複数の混合物を用いることができる。

電界変化に対する高速応答性、高コントラスト性を有す
る液晶光学素子とするためには、強誘電性液晶材料を用
いるのが好ましい。液晶材料には、必要に応じて接着剤
や他の非液晶樹脂、減粘剤、多色性色素などを加えても
よい。

液晶材料の基板への塗布は、例えば、液晶材料をメチレ
ンクロライド、クロロホルム、トルエン、キシレン、テ
トラヒドロフラン、メチルエチルケトン、ジメチルアセ
トアミド、ジメチルホルムアミドなどの溶媒に溶解させ
た溶液状態又は液晶材料が等吉相を示す温度まで加熱し
た溶融状態で含浸性部材に含浸させ、次いで、この液晶
材料を含浸させた含浸性部材を可撓性基板上に接触させ
押圧しながら移動させることにより行われる。

この塗布は、基板の所望の部分に間欠的に行うことが好
ましい、基板への液晶材料の塗布を間欠的に行うために
は、液晶材料を含浸した含浸性部材を有する含浸塗布用
ヘッドを間欠的に上下させて基板に接触させるか又は基
板から一定の位置にある固定点を中心に含浸塗布用ヘッ
ドを周期運動させ間欠的に含浸性部材を基板に接触させ
ることにより行われる。

ここで用いられる含浸性部材は、繊維よりなる布状、フ
ェルト状、刷毛状若しくは紙状の材料又は多孔質のスポ
ンジ状の材料など、溶液又は溶融状態の液晶材料を含浸
できる材料であれば何であってもよい。

次に、液晶材料が塗布された基板と対向基板とをラミネ
ートする。液晶材料が塗布された基板と対向基板がとも
にロール状など長尺物である場合には、ラミネートは２
本のロールによりなる一対のラミネートロールにより行
うことが好ましい。

２本のロールのうち少なくとも１本のロールが加熱でき
ることが好ましい。

また、液晶材料が塗布された基板と対向基板が一方が長
尺物で他方が枚葉物である場合又はともに枚葉物である
場合には、ラミネートは一つの平板と１本のロールによ
りなるラミネータを用いて行うことが好ましい。このラ
ミネータでは平板とロールの間の加圧位置が一方向に移
動することでラミネートが行われる。このとき平板又は
ロールの少なくとも一方が温度制御が可能であり加熱で
きることが好ましい。

ここでラミネート速度は好ましくは０．１〜５０ｍ／分
、特に好ましくは０．５〜１０ｍ／分である。

加圧圧力は好ましくはＯ〜５　ｋｇ／ｃｉｌ！、特に好
ましくは１〜２　ｋｇ／ｃｄである。ラミネート時の温
度は好ましくは室温＋１０°Ｃから透明点（液晶材料の
液晶相から等吉相への転移温度）＋２０°Ｃの範囲内、
特に好ましくは室温＋１５゛Ｃから透明点＋５°Ｃの範
囲内である。

次に、上記工程で得られたラミネート物を曲げ変形によ
り配向処理する。曲げ変形は、少なくとも１本のロール
からなる一組のロール群により行うのが好ましい。ラミ
ネート物を単独で又はベルト等ニ挟んで、−組のロール
群のロール間を、ロール外周にラミネート物又はこれを
挟持するベルト等が表裏交互に密着するようにして通過
させる。

このとき少なくとも１本のロールを温度制御可能とし加
熱できるようにすることが好ましい０曲げ変形を与える
方向は、必要に応じ基板の長手方向から傾いた方向にす
ることもできる０例えばｌ軸延伸フィルムなどを基板と
して用いる場合、配向方向を延伸方向から略チルト角分
傾けるのが好ましい。

本発明はまた、可撓性基板を搬送する手段、搬送されて
きた該可撓性基板に含浸性部材に含浸した液晶材料を塗
布する手段、該液晶材料が塗布された基板と対向基板と
をラミネートする手段及び得られたラミネート物を曲げ
変形により配向処理する手段からなる液晶光学素子の製
造装置を提供するものである。

以下本発明の製造装置の構成手段について説明する。

（１）可撓性基板を搬送する手段 可撓性基板の搬送手段は可撓性基板を次の塗布工程、ラ
ミネート工程、配向工程に搬送するためのもので、可撓
性基板の繰り出しロール及び可撓性基板の巻き取りロー
ルからなる基板自動供給装置が好ましく用いられる。

第１図は、長尺基板の供給装置系の一例を示す略示図で
ある。可撓性基板としてロール状の長尺基板１が用いら
れ、基板自動供給装置は長尺基板１の繰り出しロール２
及び巻き取りロール３よりなる。駆動は巻き取りロール
３により行い、長尺基板ｌの張力を調整するために繰り
出しロール２にブレーキ又は駆動用モータ等を設けるの
が好ましい、また、含浸塗布工程とその他の工程（例え
ばラミネート工程、配向工程など）とを連続的に行う場
合には、巻き取りロール３を用いずに、一対以上の駆動
ロール対４を各工程の間などに追加、搬送させるように
してもよい。５は含浸塗布用ヘッドである。

ここで、長尺基板１の供給速度Ｖは目的とする液晶材料
の膜厚に依存するので適宜調整する。一定速度のほか、
必要に応じて連続的、段階的又は間欠的に変化させても
よい、また、基板に保護フィルムが片面あるいは両面に
設けられている場合には、繰り出しロール近くに保護フ
ィルムの巻き取りロールを設けてもよい。

各ロールの材質は、ゴム、プラスチック又は金属などを
好適に用いることができる。耐久性からは金属製が好ま
しい、また、補助的に駆動ロール対を設ける場合は、そ
のうち少なくとも一方がゴム製であるとスリップを生じ
にくく好適である。

使用する可撓性基板が枚葉基板である場合は、搬送用ベ
ルトからなる基板の供給装置系が好適に用いられる。　
　　・ 第２図（ａ）の基板自動供給装置は枚葉基板６の搬送用
ベルト７と基板固定用クリップ８からなる。

搬送用ベルト７上に枚葉基板６を並べて設置し、搬送用
ベルト７を塗布ごとに順次移動させて塗布装置に供給す
る。移動中の枚葉基板６は搬送用ベルト７に固定しな（
てもよいが、塗布時に含浸性部材と接触するときにベル
ト上を移動しないように、少なくとも塗布時の枚葉基板
６は搬送用ベルト７に基板固定用クリップ８で固定する
ことが好ましい、第２図（ロ）の基板自動供給装置は搬
送用ベルト７とベルト折り返し用ロール１０から構成さ
れ、枚葉基板６が塗布基台１１上に供給される。

塗布基台１１上に供給された枚葉基板６は位置決め金具
１２並びに基板固定及び次工程への搬出用小型ベルト１
３により固定され液晶材料を塗布されたあと、搬出用小
型ベルト１３により次工程に搬出される。

これらの装置系で用いられるベルトの材質は、ゴム、プ
ラスチック又は金属のいずれでもよい。

搬送速度Ｖは塗布ごとに順次間欠的に設定する。

基板は必要に応じて搬送用ベルトに対して傾けて置いて
もよい、塗布時又は搬送時の基板の固定は以上の例のほ
かにバキューム、接着などの方法を用いることもできる
。

（２）可撓性基板に含浸性部材に含浸した液晶材料を塗
布する手段 前記搬送手段により搬送されてきた可撓性基板に塗布手
段を用いて液晶材料を塗布し製膜する。

以下この塗布手段として好ましく用いられる間欠塗布装
置及び塗布装置の含浸性部材への液晶材料の供給量を制
御するための液供給量可変装置について説明する。

■間欠塗布装置 可撓性基板上への含浸性部材に含浸した液晶材料の塗布
は、所望の塗布幅に合わせて間欠塗布とすることが好ま
しい。そのため含浸塗布時の塗布、非塗布を任意に選択
できるように、基板と含浸性部材が接触、非接触となる
ような間欠塗布装置を用いるのが好ましい、基板と含浸
性部材が接触、非接触となるようにするには、含浸塗布
用ヘッドを基板に対して上下させるか、基板を含浸塗布
用ヘッドに対して上下させる、あるいは基板から一定の
位置にある固定点を中心に含浸塗布用ヘッドを周期運動
させるなどして間欠的に含浸性部材を基板に接触、非接
触となるようにしている。

第３図は、間欠塗布装置系の例である。

第３図（ａ）及び第３図（ａ）′はヘッドの上下により
間欠塗布する装置である。基板がロール状の長尺物であ
る場合は、第３図（ａ）に示すように基板の移動速度Ｖ
及び所望の塗布幅に合わせ、補助ロール１４により支持
された長尺基板１に対して含浸塗布用ヘッド５を上下さ
せると、所望の幅の塗布膜９が得られる。また基板が枚
葉物の場合は、第３図（ａ）′に示すように含浸塗布用
へラド５の左右の移動（移動速度Ｖ）に合わせ、基台１
１に支持された枚葉基板６に対して含浸塗布用ヘッド５
を上下させると、所望の幅の塗布膜９が得られる。

また、第３図（ｂ）及び第３図（ｂ）′は基板の上下に
より間欠塗布する装置である。基板がロール状の長尺物
である場合は、第３図（ｂ）に示すように基板の移動速
度Ｖ及び所望の塗布幅に合わせ、含浸塗布用ヘッド５に
対して上下移動可能な補助ロール１５により支持された
長尺基板１を上下させる。

また基板が枚葉物の場合は、第３図（ｂ）′に示すよう
に含浸塗布用ヘッド５の左右の移動（移動速度Ｖ）に合
わせ、含浸塗布用へラド５に対して基台１１に支持され
た枚葉基板６を上下させる。また、第３図（Ｃ）は含浸
塗布用へラド５を周期運動させて間欠塗布する装置であ
る。基板が長尺物又は枚葉物のいずれでも、基板又は含
浸塗布用ヘッドの移動速度Ｖ及び所望の塗布幅に合わせ
、基板から一定の位置にある固定点を中心に含浸塗布用
へラド５を周期運動させて間欠的に含浸性部材１６が基
板に接触、非接触となるようにする。含浸塗布用ヘッド
５の周期運動は往復運動としてもよいし、回転運動とし
てもよい。

基板を支持するロール若しくは基台又は含浸塗布用ヘッ
ドの上下移動あるいは含浸塗布用ヘッドの回転にはモー
タとギアを組み合わせたもの、オイル又はエアーなどの
圧力を利用したピストンによるもの、電磁式のもの等各
種のものを用いることができる。

■液供給量可変装置 間欠塗布を行う場合、非塗布時に含浸性部材から液晶材
料の溶液又は溶融物が液ダレを起こさないよう塗布時、
非塗布時に含浸性部材への液供給量を可変とすることが
好ましい。

第４図は液供給量可変装置の例である。

第４図（ａ）は内圧可変式の液供給量可変装置である。

円筒状の容器の一端に含浸性部材１６を設けた含浸塗布
用ヘッド５の上部に内圧調整孔１７を設け、内圧調整孔
１７に空気流量が可変の弁を設けるか又は内圧調整孔１
７からチューブを引き外部の小型ポンプで内圧を調整し
含浸性部材への液供給量を変化させる。第４図（ｂ）は
定量吐出方式による液供給量可変装置である。含浸塗布
用ヘッド５に定量吐出器１９を接続して、含浸性部材へ
の液供給を直接定量吐出器から行う。液供給は、一度の
塗布に必要な量を一度に吐出して行うか、塗布面積が大
きい場合には一度の塗布に必要な量を塗布時に複数回に
分けて吐出して行う。市販の定量吐出器（ディスペンサ
ー）が好適に利用できる。

（３）液晶材料が塗布された基板と対向基板とをラミネ
ートする手段 上記の液晶材料が塗布された基板と対向基板とをラミネ
ートする手段を用いてラミネート物とする、このラミネ
ート手段としては、例えば、少なくとも一対のラミネー
トロールにより液晶材料が塗布された基板と対向基板と
を押圧しながらラミネートする装置等が挙げられる。こ
のときラミネートロールの材質は特に制限はないが、一
対のラミネートロールの一方をメタルロール、他方ヲゴ
ムロールとすると、スリップを生じにく（好適にラミネ
ートできる。また、一対のラミネートロールの少なくと
も一方が加熱できるのが好ましい。

また、使用する２枚の基板のうち少なくとも一方が枚葉
物である場合には、ロール対の代わりに少なくとも一つ
のプレートと少なくとも１本のロールの組み合わせが好
適に用いられる。ロール又は平板を移動させて、平板と
ロールの間の加圧位置を一方向に移動させる。このとき
ロール又はプレートの少なくとも一方が加熱できること
が好ましい、対向基板側を液晶材料の塗布膜の表面が低
粘性化するように加熱しながらラミネートすると塗布膜
表面がより平滑になり好ましい。

（４）　　ラミネート物を曲げ変形により配向処理する
手段 得られたラミネート物はこの配向手段により配向処理が
行われて液晶光学素子となる。

配向処理する手段としては、曲げ変形による剪断応力で
配向処理する装置が生産性よく好適に用いられる。この
配向装置は少なくとも１本の配向用ロールから構成され
る。ラミネート物を単独で又はベルト等に挟持して、ロ
ールの表面に密着させて曲げ変形を与え配向処理する。

このとき、少なくとも１本のロールが温度制御可能であ
ることが好ましい、２本以上のロールを使用するときは
、第１のロールでラミネート物を加熱しながら曲げ変形
を与え、第２のロール以降で冷却するとよい。

ラミネート物の加熱はロールによらず加熱装置によって
行ってもよい、配向用ロールの材質は特に制限はない、
耐久性からは金属製は好適である。

形状は、特に制限はなく、素子の大きさ等に応じて適当
に設定する。

（５）切断装置 本発明の液晶光学素子の製造装置には必要に応じて素子
への切断装置を設ける。この切断装置により、適当な大
きさの液晶光学素子が得られる。

少なくとも一方に長尺物などの連続基板を用いた場合に
はラミネート後に切断を行って素子化する。切断装置は
配向処理工程前後のいずれに設けてもよい。

切断装置は、例えば、ラミネート物を送り出す装置とカ
ッターとで構成する。流れ方向と垂直に切断する場合は
、簡単には送り速度を間欠的に変化させ、カッターの動
きをそれと同期させて送り停止時に切断するか、一定速
度で送っている場合にはカッターを送り速度と同速度で
繰り返し移動させながら切断する。その他従来のポリマ
ーシートの切断装置を流用できる。

次に、以上の各工程を連続的に行う装置の例について述
べる。

使用する２枚の基板がともにロール状の長尺物などの連
続基板同士の場合の製造装置の例を第５図に示す。

含浸塗布、ラミネート、曲げ配向処理を連続的に行うこ
とができる。ラインは一定速度Ｖで運転される。透明電
極付基板２７は繰り出しロール２より繰り出される。こ
のとき、基板保護フィルム２１は繰り出しロール２の近
（に設けられた保護フィルム巻き取りロール２２に巻き
取られる。この保護フィルムを除いた透明電極付基板２
７に液晶材料が含浸塗布用ヘッド５で間欠的に塗布され
る。含浸塗布用へラド５には定量吐出器１９より液晶材
料の溶融物又は溶液が含浸塗布用ヘッド５の動きと連動
して供給される。塗布された液晶膜は温風乾燥器２９に
より乾燥される０次いで乾燥した液晶膜上に基板保護フ
ィルム２１を除いた対向基板３５がラミネートロール２
３ａと２３ｂによってラミネートされる。更に赤外ヒー
タと送風機を具備した加熱炉２４によって加熱され、配
向用冷却ロール２５によって曲げ変形を与えられて配向
処理され、巻き取りロール３で巻き取られる。

補助ロール１４は必要な位置に適宜設けるとよい。

その後、必要な大きさに切断して所望の液晶光学素子と
する。

次に、使用する２枚の基板のうち一方が連続基板で他方
が予め切断された枚葉基板の場合の製造装置の例を第６
図に示す。

ラインは一定速度Ｖで運転される。塗布工程は第５図の
装置と同様である０間欠塗布は透明電極付可撓性基板２
７側を間欠塗布用基板移動ロール３０をロール移動用穴
３１内で上下することで行うことができる。ここでは対
向基板として枚葉基板を使用する。対向基板３５は搬送
用ベルト７によりライン速度Ｖに近い速度で送られ、補
助台３３を経てラミネートロール２３ａ及び２３ｂによ
り透明電極付可撓性基板２７上の液晶材料の塗布膜上に
ラミネートされる。このラミネート物は配向処理工程で
第５図の装置と同じ原理で、１本の加熱ロール３２と２
本の配向用冷却ロール２５により配向処理される。更に
ＵＶランプ３６により接着剤を硬化させて巻き取りロー
ル３により巻き取られる。その後、必要な大きさに切断
して所望の液晶光学素子とする。

使用する２枚の基板がいずれも枚葉基板同士の場合の製
造装置の例を第７図に示す。第７図（ａ）はこの装置の
全体図であり、その塗布部、ラミネート部の詳細が第７
図ら）、第７図（Ｃ）、第７図（ｄ）である。

塗布・ラミネート用搬送ベルト３７の上に配置された透
明電極付可撓性基板２７は基板固定用クリップ８によっ
て塗布・ラミネート用搬送ベルト３７に固定されている
。基板固定用クリップ８は基板滑り台４１手前のベルト
折り返し用ロール１０の場所で自動的にはずれる機構に
なっている。

また塗布・ラミネート用搬送ベルト３７はこのベルト折
り返し用ロール１０により折り返され、搬送ベルト駆動
ロール４０へ戻る（第７図（ａ））、塗布・ラミネート
用搬送ベルト３７の搬送速度ｖ。

は間欠的に変化し、静止したときに含浸塗布用へラド５
及びラミネートロール３８によって塗布、ラミネートさ
れる（第７図［有］））、塗布部及びラミネート部では
透明電極付可撓性基板２７は塗布・ラミネート用搬送ベ
ルト３７の下に設けられたアルミ製平板３９により支持
される。含浸塗布用ヘッド５には内圧調整弁４９が設け
られている（第７図（Ｃ））、ラミネート部での対向基
板の供給は、基板吸着用平板５１による（第７図（４）
、基板吸着用平板５１にはバキューム吸着用穴５２が設
けられており、対向基板３５を吸着できるようになって
いる。基板吸着用平板５１は対向基板３５を吸着したま
ま可動部５３によりラミネート部に移動し、先端に設け
られたラミネートロール３８で透明電極付可撓性基板２
７上の液晶材料の塗布膜９の上に対向基板３５をラミネ
ートする。

このラミネート物すなわち未配向素子４３は基板滑り台
４１上を滑って素子配送兼配向用ベルト４２上にのる。

素子配送兼配向用ベルト４２の搬送速度すなわち配向速
度ｖ２は一定である。このとき、配向用基板設置角度θ
は可変であり素子配送兼配向用ベルト４２上に傾けて未
配向素子４３を配送できる。この未配向素子４３を配向
処理用補助ベルト４４で挟み配向処理部へ送る。配向処
理部は第６図の装置と同じである。このとき素子配送兼
配向用ベルト４２及び配向処理用補助ベルト４４の張力
は張力調整用ロール４５をロール移動用穴３１内で上下
することで調整できる。得られた配向処理済素子４８は
枚葉物であり切断は不要である。

以上、本発明の液晶光学素子の製造方法及びその装置に
ついて、それぞれ好適な例を比較的具体的に説明したが
、必ずしも上記の例に限定されるものではない。

以上のように、本発明によれば品質が均一で第面積の液
晶光学素子を生産性よく高い歩留りで容易に製造するこ
とができる。

〔実施例〕

実施例１ 第５図に示した装置を用いて強誘電性液晶素子の製造を
行った。

下記の構造と特性を有する強誘電性高分子液晶と、下記
の接着剤とを混合して液晶材料を得た。

液晶部 Ｍｎ　−３０００ 〔ｇ　ニガラス状態、Ｓ−０１１：カイラルスメクチッ
クＣ相、Ｓ＠Ａ　：スメクチツクＡ相、Ｉｓｏ　：等吉
相〕 接着剤 油化シェルエポキシ■製 主剤：　エピコート８３４ 硬化剤：ＱＸ−１１ 主剤：硬化剤＝６０：４０（重量％） 液晶部：接着剤−７０：３０（重置％）また、基板は厚
み１００μｍ、幅２８０ＩのＩＴＯ付きＰＥＳ基板（住
友ベークライト■製　ＦＳＴ−１３５１）を用いた。

上記の液晶材料のジクロロメタンの１０重量％溶液を用
いて定量吐出器１９から１回の塗布ごとに２．７ｃｃを
含浸塗布用へラド５に送った。含浸塗布用ヘッドは含浸
性部材として鐘紡■ベルタリンを幅２５１に切断したも
のを用いており、１回の塗布ごとに基板２５の上に約４
０Ｃ１ｌの長さで塗布した。

巻き取りロール３で巻き取ったのち約３０分径て接着材
硬化後に素子を切り出して、２５Ｃ１ｌＸ４０ＣＩＩの
液晶光学素子とした。液晶部の膜厚は約２３μｍであつ
た。

ここで、ラミネートロール２３ａはゴム製で直径８０■
、幅３００ｍ、ラミネートロール２３ｂはクロムメッキ
を施した鉄製で直径８０ｍ、幅３００閣、配向用冷却ロ
ール２５はクロムメッキを施した鉄製で直径８０■、輻
３００ｍ、補助ロール１４はクロムメッキを施した鉄製
で直径４０ｍ＋、幅３００■゛のものを用いた。また、
ライン速度はｖ＝１２ｍ／分、ラミネートロール２３ｂ
の温度Ｔ、−４０℃、加熱炉２４の温度Ｔ、＝８５℃、
２本の配向用冷却ロール２５の温度Ｔ、−７６℃、Ｔ、
−７０℃、温風乾燥器２９の乾燥温度はＴ。

−４０℃とした。

クロスニコル下でコントラストを測定したところ±５ｖ
の印加で４６という良好な値を得た。また、素子全体に
わたってコントラストや厚みむらに基づく色むらも認め
られなかった。

実施例２ 第６図に示した装置を用いて強誘電性液晶素子の製造を
行った。

下記の構造と特性を有する強誘電性高分子液晶と低分子
の強誘電性液晶との混合液晶と、下記の接着剤とを混合
して液晶材料を得た。

液晶部 液晶Ａ Ｍｎ　−３０００ 液晶Ｂ Ｈ３ 液晶Ａ：液晶Ｂ＝３０ニア０（モル％）接着剤 セメダイン■製 セメメックスーパ　Ｙ−８６２−１ （ＵＶ硬化型接着剤） 液晶部：接着剤−８０：２０．（重量％）また、基板は
実施例１と同様のＩＴＯ付きＰＥＳ基板を用いた。

上記の液晶材料のジクロロメタンの１５重量％溶液を用
いて実施例１と同様に間欠塗布した。溶液は１回の塗布
ごとに１．８　ｃｃを堺り２５ｃｓ幅で４０１の長さを
塗布した。含浸性部材は実施例１と同じものを用いた。

配向処理後、直ちにメタルハライドランプ３６でＵＶ光
を照射して接着剤を硬化させた。巻き取り後素子を切り
出したところ塗布物の膜厚は２．１μｍとなっていた。

ここで、ラミネートロール２３ａはゴム製で直径８０ｍ
、幅３００ｍｏ＋、ラミネートロール２３ｂはクロムメ
ッキを施した鉄製で直径８０ｍ、幅３００■、加熱ロー
ル３２はクロムメッキを施した鉄製で直径８０ｍｍ、幅
３００ｍ、配向用冷却ロール２５はクロムメッキを施し
た鉄製で直径８０閤、幅３００■、間欠塗布用移動ロー
ル３０はクロムメッキを施した鉄製で直径４０ｍ、幅３
００ＩＩＩＩｌ、対向基板搬送用駆動ロール３４はゴム
製で直径５０ｍ、幅３００ｇｍ、補助ロール１４はクロ
ムメッキを施した鉄製で直径４０鵬、幅３００ＩＩＩ１
１のものを用いた。また、補助台３３は滑りをよ（する
ため表面をテフロン加工したアルミ製のものを用いた。

また、ライン速度はｖ＝３ｍ／分、ラミネートロール２
３ｂの温度Ｔ、＝４５°Ｃ１加熱ロール３２の温度’ｒ
ｚ＝ａｓ°Ｃ１２本の配向用冷却ロール２５の温度Ｔ、
＝８１“Ｃ，Ｔ、＝５５’Ｃとした。

クロスニコル下でのコントラストは室温で±５■の印加
で５５を得、素子全体にわたりコントラストや着色のむ
らはなかった。

実施例３ 第７図に示した装置を用いて強誘電性液晶素子の製造を
行った。

下記の構造と特性を有する強誘電性高分子液晶と、下記
の２色性色素とを混合して液晶材料を得た。

液晶部 Ｍｎ　＝　５３００ （Ｃｒｙ　　：結晶相〕 ２色性色素 また、基板は厚み１００μｍ１幅２００ＣＩの一軸延伸
ＰＥＴ（ダイセル化学工業■ＣＥＬＥＣ−Ｋ）を用いた
。

上記の液晶材料のクロロホルム１０重量％溶液を用いて
塗布した。ここで含浸性部材は幅１８０閣の十條キンバ
リー■クルーを用いた。含浸塗布用へラド５には内圧調
整弁４９がついており、含浸塗布用ヘッドから液ダレし
ない構造になっている。次いでラミネートし配向処理を
施した。膜厚は２．５μｍであった。

ここで、ラミネートロール３８はシリコンゴム製で直径
２０■、幅４００■、加熱ロール３２はクロムメッキを
施した鉄製で直径８０閣、幅３００Ｉ１１１、配向用冷
却ロール２５はクロムメッキを施した鉄製で直径８０ａ
ｍ、幅３００ｍｍ、ベルト折り返し用ロール１０はクロ
ムメッキを施した鉄製で直径４０■、幅３００■、張力
調整用ロール４５はクロムメッキを施した鉄製で直径４
０閣、幅３００ｍａ＋、補助ロール１４はクロムメッキ
を施した鉄製で直径４Ｑｍ、幅３００ＩＩＩＩ１１のも
のを用いた。

また、塗布・ラミネート用搬送速度ｖ、＝２ｍ／分、Ｏ
ｍ／分の間欠切換、配向速度ｖ、＝８ｍ／分、ラミネー
トロール３８の温度Ｔ、＝５０°Ｃ１加熱ロール３２の
温度Ｔｔ　＝　１００°Ｃ１２本の配向用冷却ロール２
５の温度Ｔ、＝９０°Ｃ，Ｔ４＝８２°Ｃとした。また
配向用基板設置角度θはθ＝２２．５”　とした。

クロスニコル下でコントラストは±５ｖの印加で４０で
あった。また偏光板を１枚としてゲストホストモードに
したところコントラストは１８と良好な結果を得た。色
むら、コントラストむらも殆どみとめられなかった。

〔発明の効果〕

本発明の液晶光学素子の製造方法によれば、品質が均一
で大面積の液晶光学素子を得ることが可能となる。また
本発明の液晶光学素子の製造装置によれば、上記のよう
な液晶光学素子を生産性よく高い歩留りで容易に製造す
ることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は長尺基板の供給装置系の一例を示す略示図であ
る。第２図（ａ）及び第２図（ロ）は枚葉基板の供給装
置系の例を示す略示図である。第３図（ａ）及び第３図
（ａ）′はヘッドの上下により間欠塗布する装置の例を
示す略示図である。第３図（ロ）及び第３図（ロ）′は
基板の上下により間欠塗布する装置の例を示す略示図で
ある。第３図（Ｃ）は含浸塗布用ヘッドを周期運動させ
て間欠塗布する装置の例を示す略示図である。第４図（
ａ）は内圧可変式の液供給量可変装置の例を示す略示図
である。第４図（ロ）は定量吐出方式による液供給量可
変装置の例を示す略示図である。 第５図は使用する２枚の基板がともにロール状の長尺物
などの連続基板同士の場合の製造装置の例を示す略示図
である。第６図は使用する２枚の基板のうち一方が連続
基板で他方が予め切断された枚葉基板の場合の製造装置
の例を示す略示図である。第７図（ａ）は使用する２枚
の基板がいずれも枚葉基板同士の場合の製造装置の例の
全体を示す略示図であり、第７図（ロ）、第７図（ロ）
及び第７図（山は第７図（ａ）の塗布部、ラミネート部
の詳細を示す略示図である。　　　− 符合の説明

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、含浸性部材に含浸した液晶材料を可撓性基板上へ塗
   布する工程、該液晶材料が塗布された基板と対向基板と
   をラミネートする工程及び得られたラミネート物を曲げ
   変形により配向処理する工程からなる液晶光学素子の製
   造方法。 ２、可撓性基板又は対向基板が長尺物又は枚葉物である
   請求項１記載の液晶光学素子の製造方法。 ３、含浸性部材に含浸した液晶材料を可撓性基板上へ間
   欠的に塗布する請求項１記載の液晶光学素子の製造方法
   。 ４、含浸性部材に含浸した液晶材料を、含浸性部材を有
   する含浸塗布用ヘッドを間欠的に上下させて基板に接触
   させるか又は基板から一定の位置にある固定点を中心に
   含浸塗布用ヘッドを周期運動させ間欠的に含浸性部材を
   基板に接触させることにより可撓性基板上へ間欠的に塗
   布する請求項３記載の液晶光学素子の製造方法。 ５、可撓性基板又は該基板の支持部材を上下させること
   により含浸性部材を基板に間欠的に接触させ可撓性基板
   上へ液晶材料を間欠的に塗布する請求項３記載の液晶光
   学素子の製造方法。 ６、可撓性基板を搬送する手段、搬送されてきた該可撓
   性基板に含浸性部材に含浸した液晶材料を塗布する手段
   、該液晶材料が塗布された基板と対向基板とをラミネー
   トする手段及び得られたラミネート物を曲げ変形により
   配向処理する手段からなる液晶光学素子の製造装置。 ７、液晶材料が塗布された基板と対向基板とをラミネー
   トする手段が少なくとも一対のロールからなる請求項６
   記載の液晶光学素子の製造装置。 ８、少なくとも一対のロールの少なくとも１本が温度制
   御可能である請求項７記載の液晶光学素子の製造装置。 ９、液晶材料が塗布された基板と対向基板とをラミネー
   トする手段が少なくとも一つの平板及び少なくとも１本
   のロールからなる請求項６記載の液晶光学素子の製造装
   置。 １０、少なくとも一つの平板又は少なくとも１本のロー
   ルが温度制御可能である請求項９記載の液晶光学素子の
   製造装置。 １１、可撓性基板の搬送手段が可撓性基板の繰り出しロ
   ール及び可撓性基板の巻き取りロールからなる請求項６
   記載の液晶光学素子の製造装置。 １２、可撓性基板の搬送手段が搬送用ベルトである請求
   項６記載の液晶光学素子の製造装置。 １３、含浸性部材に含浸する液晶材料の量を制御する手
   段を有する塗布手段からなる請求項６記載の液晶光学素
   子の製造装置。 １４、ラミネート物を曲げ変形により配向する手段が少
   なくとも１本のロールからなる請求項６記載の液晶光学
   素子の製造装置。 １５、少なくとも１本のロールが温度制御可能である請
   求項１４記載の液晶光学素子の製造装置。 １６、ラミネート工程の前又はラミネート工程の後に基
   板の切断手段を有する請求項６、９、１１、１２、１３
   又は１４記載の液晶光学素子の製造装置。