JPH02307027A - 光周波数測定装置 - Google Patents
光周波数測定装置Info
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- JPH02307027A JPH02307027A JP12813789A JP12813789A JPH02307027A JP H02307027 A JPH02307027 A JP H02307027A JP 12813789 A JP12813789 A JP 12813789A JP 12813789 A JP12813789 A JP 12813789A JP H02307027 A JPH02307027 A JP H02307027A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 18
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 6
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- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 22
- 239000004576 sand Substances 0.000 abstract 1
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- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、光の絶対周波!(または波長)を測定する装
置の実現に関する。
置の実現に関する。
〈従来の技術〉
従来、光の絶対周波数を測定する一般的な手段としては
、回折格子を利用する分光測定(光スペクトラムアナラ
イザ)や、内部に基準光路差と基準光源を持ち、干渉信
号から波長を測定するもの等がある。
、回折格子を利用する分光測定(光スペクトラムアナラ
イザ)や、内部に基準光路差と基準光源を持ち、干渉信
号から波長を測定するもの等がある。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、上記のような測定手段の場合、その測定
精度が±5xlO’程度であり、分光分析や光通信等の
ようにより高い測定精度が要求される分野では不十分で
ある。
精度が±5xlO’程度であり、分光分析や光通信等の
ようにより高い測定精度が要求される分野では不十分で
ある。
本発明はこのような問題点を解決するために成されたも
ので、光の絶対周波数を高精度で測定することのできる
装置を実現することを目的とする。
ので、光の絶対周波数を高精度で測定することのできる
装置を実現することを目的とする。
く課題を解決するための手段〉
本発明は被測定光の周波数を測定する光周波数測定装置
に係るもので、その特徴とするところは出力光の周波数
が安定化な周波数基準光源と、出力光の周波数が可変の
周波数可変光源と、前記周波数基準光源および前記周波
数可変光源の出力光を入射するエタロンと、前記周波数
基準光源および前記周波数可変光源からのエタロン透過
光をそれぞれ検出する第1および第2の光検出器と、前
記第1の光検出器の出力に基づいて前記エタロンの透過
周波数の1つを前記周波数基準光源の出力光の周波数に
制御する第1の制御手段と、前記第2の光検出器の出力
に基づいて前記周波数可変光源の出力光の周波数を前記
エタロンの各透過周波数に順次掃引制御する第2の制御
手段と、前記第2の光検出器の出力ピーク数を計数する
カウンタと、周波数可変光源の出力光と被測定光とを合
波する合波手段と、この合波手段の出力光からビード信
号を検出する第3の光検出器と、この第3の光検出器の
出力信号と前記カウンタの出力から被測定光の周波数を
演算する演算部とを備えた点にある。
に係るもので、その特徴とするところは出力光の周波数
が安定化な周波数基準光源と、出力光の周波数が可変の
周波数可変光源と、前記周波数基準光源および前記周波
数可変光源の出力光を入射するエタロンと、前記周波数
基準光源および前記周波数可変光源からのエタロン透過
光をそれぞれ検出する第1および第2の光検出器と、前
記第1の光検出器の出力に基づいて前記エタロンの透過
周波数の1つを前記周波数基準光源の出力光の周波数に
制御する第1の制御手段と、前記第2の光検出器の出力
に基づいて前記周波数可変光源の出力光の周波数を前記
エタロンの各透過周波数に順次掃引制御する第2の制御
手段と、前記第2の光検出器の出力ピーク数を計数する
カウンタと、周波数可変光源の出力光と被測定光とを合
波する合波手段と、この合波手段の出力光からビード信
号を検出する第3の光検出器と、この第3の光検出器の
出力信号と前記カウンタの出力から被測定光の周波数を
演算する演算部とを備えた点にある。
く作用〉
演算部において、周波数基準光源の出力周波数と、エタ
ロンの透過ピーク間隔と、カウンタで計数される透過ピ
ーク数と、第3の光検出器の出力から求められるビード
周波数とから被測定光源の絶対周波数を高精度に測定す
ることができる。
ロンの透過ピーク間隔と、カウンタで計数される透過ピ
ーク数と、第3の光検出器の出力から求められるビード
周波数とから被測定光源の絶対周波数を高精度に測定す
ることができる。
〈実施例〉
以下本発明を図面を用いて詳しく説明する。
第1図は本発明に係る光周波数測定装置の一実施例を示
す構成ブロック図である0図において、30はレーザ等
からなる被測定光源、40は被測定光源30の出力光の
周波数を測定する光周波数測定装置である。光周波数測
定装置40において、lは例えばRb等の原子吸収線に
半導体レーザの波長を制御する等により周波数を非常に
安定にした周波数基準光源、2はこの周波数基準光源1
の出力光を入射するファブリ・ペロー・エタロン、3は
周波数基準光源1の出力光がエタロン2を透過した光を
検出するフォトダイオード等の第1の光検出器、4はロ
ックインアンプ等で構成され光検出器3の出力を入力し
てエタロン2の面間距離(ミラー間の距離)を制御する
第1の制御手段、23は制御手段4の出力によりエタロ
ン2の面間距離を変化させる圧電素子等のトランスジュ
ーサ、5は制御信号により出力光の周波数を変化できる
周波数可変光源で、例えば位相制御領域を持つDBR型
半導体レーザで位相制御領域へ流す電流を可変するもの
、6は周波数可変光源5の出力光を2つの方向に分離す
る第1のハーフミラ−17はハーフミラ−6の透過光が
エタロン2を透過した光を検出するフォトダイオード等
の第2の光検出器、8はロックインアンプ等で構成され
光検出器7の出力を入力して周波数可変光源5の出力周
波数を変化させる第2の制御手段、9は被測定光源lO
の出力光とハーフミラ−6の反射光を合波する合波手段
を構成する第2のハーフミラ−510はハーフミラ−9
で合波された光を検出するフォトダイオード等の第3の
光検出器、11は光検出器10の出力を増幅する増幅器
で、その周波数帯域がFSR以上であるもの、12は光
検出器7の出力パルス数を計数するカウンタ、13は増
幅器11およびカウンタ12の出力を入力して被測定光
源30の出力光の絶対周波数を演算する演算部である。
す構成ブロック図である0図において、30はレーザ等
からなる被測定光源、40は被測定光源30の出力光の
周波数を測定する光周波数測定装置である。光周波数測
定装置40において、lは例えばRb等の原子吸収線に
半導体レーザの波長を制御する等により周波数を非常に
安定にした周波数基準光源、2はこの周波数基準光源1
の出力光を入射するファブリ・ペロー・エタロン、3は
周波数基準光源1の出力光がエタロン2を透過した光を
検出するフォトダイオード等の第1の光検出器、4はロ
ックインアンプ等で構成され光検出器3の出力を入力し
てエタロン2の面間距離(ミラー間の距離)を制御する
第1の制御手段、23は制御手段4の出力によりエタロ
ン2の面間距離を変化させる圧電素子等のトランスジュ
ーサ、5は制御信号により出力光の周波数を変化できる
周波数可変光源で、例えば位相制御領域を持つDBR型
半導体レーザで位相制御領域へ流す電流を可変するもの
、6は周波数可変光源5の出力光を2つの方向に分離す
る第1のハーフミラ−17はハーフミラ−6の透過光が
エタロン2を透過した光を検出するフォトダイオード等
の第2の光検出器、8はロックインアンプ等で構成され
光検出器7の出力を入力して周波数可変光源5の出力周
波数を変化させる第2の制御手段、9は被測定光源lO
の出力光とハーフミラ−6の反射光を合波する合波手段
を構成する第2のハーフミラ−510はハーフミラ−9
で合波された光を検出するフォトダイオード等の第3の
光検出器、11は光検出器10の出力を増幅する増幅器
で、その周波数帯域がFSR以上であるもの、12は光
検出器7の出力パルス数を計数するカウンタ、13は増
幅器11およびカウンタ12の出力を入力して被測定光
源30の出力光の絶対周波数を演算する演算部である。
次に上記構成の装置の動作を第2図を用いて説明する。
第2図において51は周波数基準光源1の出力光の周波
数スペクトル、52はエタロン2の透過強度の周波数特
性、53は被測定光源30の出力光の周波数スペクトル
である。
数スペクトル、52はエタロン2の透過強度の周波数特
性、53は被測定光源30の出力光の周波数スペクトル
である。
(1)まず制御手段4により、エタロン2の透過光のピ
ーク(第2図のP、、P2・・・)の1つを周波数基準
光源1の出力光周波数fRbに制御する。
ーク(第2図のP、、P2・・・)の1つを周波数基準
光源1の出力光周波数fRbに制御する。
ここではエタロン2の透過ピークP、がfRbにロック
される。
される。
(2)次に制御手段8により、周波数可変光85の出力
光周波数fYを掃引させて、エタロン2の透過ピークP
+ 、P2・・・に順次制御する0周波数可変光源5の
出力周波数はfRb、fRb十FsR,fRb+2FS
R,・・・と変化するが、このときの透過ピークの数は
カウンタ12で計数される(FSR:Free Sp
ectrum Range:エタロンの透過ピーク周
波数の間隔)0周波数可変光源5の出力光周波数fVと
被測定光源30の出力光周波数fr+との差の周波数f
aを有するビード信号が増幅器11の出力から検出され
ると、演算部13が掃引制御信号により制御手段8の周
波数挿引を停止し、最終のピーク(PN )まで周波数
を戻し、そこで安定化する。そのときのビード周波数f
Bを用いて次に述べる演算を行なう。
光周波数fYを掃引させて、エタロン2の透過ピークP
+ 、P2・・・に順次制御する0周波数可変光源5の
出力周波数はfRb、fRb十FsR,fRb+2FS
R,・・・と変化するが、このときの透過ピークの数は
カウンタ12で計数される(FSR:Free Sp
ectrum Range:エタロンの透過ピーク周
波数の間隔)0周波数可変光源5の出力光周波数fVと
被測定光源30の出力光周波数fr+との差の周波数f
aを有するビード信号が増幅器11の出力から検出され
ると、演算部13が掃引制御信号により制御手段8の周
波数挿引を停止し、最終のピーク(PN )まで周波数
を戻し、そこで安定化する。そのときのビード周波数f
Bを用いて次に述べる演算を行なう。
(3)演算部13において次式により被測定光周波数f
Mの絶対値を演算する。
Mの絶対値を演算する。
fr+ =ta b 十N−FSR十fa ・・・
(1)ここでNはカウンタ12で計数される透過ピーク
の数である。また次式を用いて波長λiの絶対値を演算
することもできる。
(1)ここでNはカウンタ12で計数される透過ピーク
の数である。また次式を用いて波長λiの絶対値を演算
することもできる。
λM =CO/fM −(2>ただし
Coは真空中の光の速度である。なおエタロン2の面間
距離をLとすると、FSRは次式で表されるが、この値
は例えばルビジウムの異なる吸収線間の周波数差等を利
用してあらかじめキャリブレーションが行なわれる。
Coは真空中の光の速度である。なおエタロン2の面間
距離をLとすると、FSRは次式で表されるが、この値
は例えばルビジウムの異なる吸収線間の周波数差等を利
用してあらかじめキャリブレーションが行なわれる。
F S R= c / 2 f、
−(3)このような構成の光周波数測定装置によれば、
周波数または波長の絶対値を高精度で測定するこ・とが
できる、上記装置の精度は周波数基準光源1の安定度で
決定されるため、例えば周波f&基準光源1としてルビ
ジウム光源を用いた場合、その安定度は104オーダな
ので、このオークの測定精度が実現できる。
−(3)このような構成の光周波数測定装置によれば、
周波数または波長の絶対値を高精度で測定するこ・とが
できる、上記装置の精度は周波数基準光源1の安定度で
決定されるため、例えば周波f&基準光源1としてルビ
ジウム光源を用いた場合、その安定度は104オーダな
ので、このオークの測定精度が実現できる。
また周波数可変光源5の周波数可変幅の範囲内で任意の
周波数を測定することができる。
周波数を測定することができる。
なお上記の実施例では光の分離・合波にハーフミラ−を
用いていているが、これに限らず光ファイバやファイバ
カグラを用いて行なってもよい。
用いていているが、これに限らず光ファイバやファイバ
カグラを用いて行なってもよい。
またファブリ・ベロー・エタロン2の共振器長を変える
なめに圧電素子を用いる代りに、エタロン2のミラー間
に電気光学素子を配置してその電圧に帰還してもよい。
なめに圧電素子を用いる代りに、エタロン2のミラー間
に電気光学素子を配置してその電圧に帰還してもよい。
また周波数可変光源として半導体レーザの注入電流や温
度により出力周波数を制御するものを用いてもよい。
度により出力周波数を制御するものを用いてもよい。
〈発明の効果〉
以上述べたように本発明によれば、光の絶対周波数を高
精度で測定することのできる光周波数測定装置を簡単な
構成で実現することができる。
精度で測定することのできる光周波数測定装置を簡単な
構成で実現することができる。
第1図は本発明に係る光周波数測定装置の1実施例を示
す構成ブロック図、第2図は第1図装置の動作を説明す
るための特性曲線図である。 1・・・周波数基準光源、2・・・エタロン、3・・・
第1の光検出器、4・・・第1の制御手段と、5・・・
周波数可変光源、7・・・第2の光検出器、8・・・第
2の制御手段、9・・・合波手段、10・・・第3の光
検出器、12・・・カウンタ、13・・・演算部、30
・・・被測定光源、40・・・光周波数測定装置。
す構成ブロック図、第2図は第1図装置の動作を説明す
るための特性曲線図である。 1・・・周波数基準光源、2・・・エタロン、3・・・
第1の光検出器、4・・・第1の制御手段と、5・・・
周波数可変光源、7・・・第2の光検出器、8・・・第
2の制御手段、9・・・合波手段、10・・・第3の光
検出器、12・・・カウンタ、13・・・演算部、30
・・・被測定光源、40・・・光周波数測定装置。
Claims (1)
- 被測定光の周波数を測定する光周波数測定装置において
、出力光の周波数が安定な周波数基準光源と、出力光の
周波数が可変の周波数可変光源と、前記周波数基準光源
および前記周波数可変光源の出力光を入射するエタロン
と、前記周波数基準光源および前記周波数可変光源から
のエタロン透過光をそれぞれ検出する第1および第2の
光検出器と、前記第1の光検出器の出力に基づいて前記
エタロンの透過周波数の1つを前記周波数基準光源の出
力光の周波数に制御する第1の制御手段と、前記第2の
光検出器の出力に基づいて前記周波数可変光源の出力光
の周波数を前記エタロンの各透過周波数に順次掃引制御
する第2の制御手段と、前記第2の光検出器の出力ピー
ク数を計数するカウンタと、周波数可変光源の出力光と
被測定光とを合波する合波手段と、この合波手段の出力
光からビード信号を検出する第3の光検出器と、この第
3の光検出器および前記カウンタの出力から被測定光の
周波数を演算する演算部とを備えたことを特徴とする光
周波数測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12813789A JPH02307027A (ja) | 1989-05-22 | 1989-05-22 | 光周波数測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12813789A JPH02307027A (ja) | 1989-05-22 | 1989-05-22 | 光周波数測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02307027A true JPH02307027A (ja) | 1990-12-20 |
Family
ID=14977318
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12813789A Pending JPH02307027A (ja) | 1989-05-22 | 1989-05-22 | 光周波数測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02307027A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011053457A (ja) * | 2009-09-02 | 2011-03-17 | Nec Corp | 光波長制御装置および光波長制御方法 |
JP2011249389A (ja) * | 2010-05-24 | 2011-12-08 | Nec Corp | 波長制御装置及び制御方法 |
-
1989
- 1989-05-22 JP JP12813789A patent/JPH02307027A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011053457A (ja) * | 2009-09-02 | 2011-03-17 | Nec Corp | 光波長制御装置および光波長制御方法 |
JP2011249389A (ja) * | 2010-05-24 | 2011-12-08 | Nec Corp | 波長制御装置及び制御方法 |
US8634680B2 (en) | 2010-05-24 | 2014-01-21 | Nec Corporation | Wavelength control device and wavelength control method |
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