JPH0230606A - 過モノ硫酸溶液 - Google Patents
過モノ硫酸溶液Info
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- JPH0230606A JPH0230606A JP1146944A JP14694489A JPH0230606A JP H0230606 A JPH0230606 A JP H0230606A JP 1146944 A JP1146944 A JP 1146944A JP 14694489 A JP14694489 A JP 14694489A JP H0230606 A JPH0230606 A JP H0230606A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
- C01B17/69—Sulfur trioxide; Sulfuric acid
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は過モノ硫酸溶液の安定化方法に関する。
過モノ硫酸溶液は水の存在下で硫酸と過酸化水素を反応
させることにより製造することができる。
させることにより製造することができる。
過酸化水素の過度の分解及び溶液の有効酸素含量の低減
を防止するために、反応混合物は必要に応じ冷却するこ
とにより温度を好ましくは20℃以下、最適には15℃
以下に制御して発生期酸素の放出を回避しながら所定量
の潰疏酸に過酸化水素水溶液を導入することにより形成
することが好ましい。
を防止するために、反応混合物は必要に応じ冷却するこ
とにより温度を好ましくは20℃以下、最適には15℃
以下に制御して発生期酸素の放出を回避しながら所定量
の潰疏酸に過酸化水素水溶液を導入することにより形成
することが好ましい。
過酸化水素は通常水中実質上的85重量%以上の濃度の
いわゆるハイテスh (biHl+ Lest)過酸化
水素として商業的に入手することはできない。ハイテス
ト過酸化水素は反応混合物を形成するために非常に好適
に利用することができるが、これは必須ではない、過酸
化水素は導入される時に少なくとも50重量%の濃度を
もつことが好ましく、少なくとも60重置火の濃度をも
つことが特に好ましい。
いわゆるハイテスh (biHl+ Lest)過酸化
水素として商業的に入手することはできない。ハイテス
ト過酸化水素は反応混合物を形成するために非常に好適
に利用することができるが、これは必須ではない、過酸
化水素は導入される時に少なくとも50重量%の濃度を
もつことが好ましく、少なくとも60重置火の濃度をも
つことが特に好ましい。
溶液中の硫酸濃度が約60重量%以下であると、低濃度
の過モノ硫酸しか得ることができず、また維持すること
がてきないために、該濃度は重要な要件である。ストリ
ッピング溶液により高い濃度の硫酸が存在すれば、得ら
れる過モノ硫酸の濃度をより高くすることができる。試
験において、75重量%の)(2SO,へ85重量%の
過酸化水素を添加することにより造られた溶液は1.4
3重量%の過酸化水素及び4.22重量%の過モノ硫酸
を含有していた。更に、硫酸の初期濃度を80重量%、
85重量%、90重贋%及び95重量26へ増加するこ
とだけを改良して上述の記載と同様に溶液を製造した。
の過モノ硫酸しか得ることができず、また維持すること
がてきないために、該濃度は重要な要件である。ストリ
ッピング溶液により高い濃度の硫酸が存在すれば、得ら
れる過モノ硫酸の濃度をより高くすることができる。試
験において、75重量%の)(2SO,へ85重量%の
過酸化水素を添加することにより造られた溶液は1.4
3重量%の過酸化水素及び4.22重量%の過モノ硫酸
を含有していた。更に、硫酸の初期濃度を80重量%、
85重量%、90重贋%及び95重量26へ増加するこ
とだけを改良して上述の記載と同様に溶液を製造した。
これらの溶液のそれぞれの過モノ硫酸の重量%及び残留
過酸化水素の重量%を実験により測定し、以下の第1表
に記載する。
過酸化水素の重量%を実験により測定し、以下の第1表
に記載する。
i −−−」−み
l]」−灸01光肛J1につ一1!づb←重」1%]
残。貿11202(重量%)75 4.22
1.4380 5.46
08985 6.88 0.31
90 6.86 0.2195
6.75 0.10ストリッピング溶
液中の硫酸のlR度は60重量%以上、好適には75重
重量以上、最適には85重重量以上であることが適当で
あり、従って、成分の比3制御する。
残。貿11202(重量%)75 4.22
1.4380 5.46
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90 6.86 0.2195
6.75 0.10ストリッピング溶
液中の硫酸のlR度は60重量%以上、好適には75重
重量以上、最適には85重重量以上であることが適当で
あり、従って、成分の比3制御する。
硫酸の量に対する過酸化水素の量は次式に従って0゜2
〜10重量%、最適には2〜10重量%の過モノf7に
酸を製造するようにすることが適当であろう: )12So、モH2O2H2SO7+1’(20過モノ
硫酸溶液は工業上有用であり、例えば電子工業において
半導体ウェハーを主体とする集積回路を製造する場合に
使用するためのフォトレジストスト フォI・レジストスI・リッピング溶液は例えば特開昭
50− 101107号公報に提唱されており、使用す
る時点でストリッピング溶液を製造している.米国特許
筒3,900,337号明細書は環境温度で3週間の貯
蔵寿命をもつ硫酸と過酸化水素の混合物を主体とする)
オトレジス1〜ストリッピングン容?夜の製造方法を開
示している。
〜10重量%、最適には2〜10重量%の過モノf7に
酸を製造するようにすることが適当であろう: )12So、モH2O2H2SO7+1’(20過モノ
硫酸溶液は工業上有用であり、例えば電子工業において
半導体ウェハーを主体とする集積回路を製造する場合に
使用するためのフォトレジストスト フォI・レジストスI・リッピング溶液は例えば特開昭
50− 101107号公報に提唱されており、使用す
る時点でストリッピング溶液を製造している.米国特許
筒3,900,337号明細書は環境温度で3週間の貯
蔵寿命をもつ硫酸と過酸化水素の混合物を主体とする)
オトレジス1〜ストリッピングン容?夜の製造方法を開
示している。
長い貯蔵寿命をもつ過モノ硫酸溶液を製造することが利
点であると思われる6 特に、欧州特許0256284号明細書には、長期間貯
蔵可能な過モノ硫酸溶液の製造方法が提唱されている。
点であると思われる6 特に、欧州特許0256284号明細書には、長期間貯
蔵可能な過モノ硫酸溶液の製造方法が提唱されている。
この目的を達成するために、該明細書は該溶液を製造す
るために反応混合物を形成するための操作方法、電子技
術等級の試薬の使用、金属イオン封鎧剤の包含及び可溶
性錫化合物、非常に適当にはアルカリ金属錫酸塩の上う
な錫酸塩または酸化第1錫または反応混合物中で含水酸
化錫を形成する他の任意の錫化合物の安定化量の包含を
教示している。
るために反応混合物を形成するための操作方法、電子技
術等級の試薬の使用、金属イオン封鎧剤の包含及び可溶
性錫化合物、非常に適当にはアルカリ金属錫酸塩の上う
な錫酸塩または酸化第1錫または反応混合物中で含水酸
化錫を形成する他の任意の錫化合物の安定化量の包含を
教示している。
本発明によれば、4価すなわち第2銭の形態の錫及び/
または周期表で錫に隣接する他の金属は錫酸ナトリウム
または酸化第1錫よりも過モノ硫酸溶液を安定化するた
めに有効であることを見出した。本明細書に記載する周
期表はCRCプレスにより発行されているハンドブック
・オブ・ケミストリー・エンド・フィジックス(lla
口dbook ofChemistry and Ph
ysics)中に発表されている周期表である。
または周期表で錫に隣接する他の金属は錫酸ナトリウム
または酸化第1錫よりも過モノ硫酸溶液を安定化するた
めに有効であることを見出した。本明細書に記載する周
期表はCRCプレスにより発行されているハンドブック
・オブ・ケミストリー・エンド・フィジックス(lla
口dbook ofChemistry and Ph
ysics)中に発表されている周期表である。
従って、本発明は金属イオン封鎖剤及び安定化量の添加
金属化合物を含む過モノ硫酸−硫酸安定化混合水溶液で
あって、該水溶液が半導体表面からフォトレジスト残留
物をストリッピングするために適している溶液において
、添加金属化合物がガリウム、ゲルマニウム、インジウ
ム、4価の形態の錫、アンチモン、タリウム、ビスマス
及び鉛からなる群から選択された1種または2種以上で
あることを特徴とする安定化混合水溶液を提供するにあ
る。
金属化合物を含む過モノ硫酸−硫酸安定化混合水溶液で
あって、該水溶液が半導体表面からフォトレジスト残留
物をストリッピングするために適している溶液において
、添加金属化合物がガリウム、ゲルマニウム、インジウ
ム、4価の形態の錫、アンチモン、タリウム、ビスマス
及び鉛からなる群から選択された1種または2種以上で
あることを特徴とする安定化混合水溶液を提供するにあ
る。
ヒ素は過モノ硫酸に悪影響があることが良く知られてお
り且つ溶液中の有効酸素の量を減少させることが予想さ
れるために、ヒ素は除かれる。
り且つ溶液中の有効酸素の量を減少させることが予想さ
れるために、ヒ素は除かれる。
添加金属に最適量があり、この最適量より多くても少な
くても安定性が低下することを見出した。
くても安定性が低下することを見出した。
この量は単一の添加金属を使用する場合には容易に測定
することができる。金属類を併用する場合には、妨害が
あり、混合物中のそれぞれの金属の最適量を簡単に規定
することはできない。しかし、個々の金属の量が多すぎ
るか、少なすぎる場合には安定化効果が減少することを
念頭におけば、試験により非常に少量であるが制御され
た量で各金属を含む桂々の金属の任意の出発混合物を変
成して単一金属と同じ合計量でより安定な組成物を製造
するか、またはより少ない合計量を使用して同じ安定性
の組成物を製造することができる。例えば4価の錫、ガ
リウムまたはゲルマニウムを含む混合物は個々の金属よ
り良好な安定性を提供するが、ビスマスを含有する混合
物はビスマス単独よりも少量で有効である。
することができる。金属類を併用する場合には、妨害が
あり、混合物中のそれぞれの金属の最適量を簡単に規定
することはできない。しかし、個々の金属の量が多すぎ
るか、少なすぎる場合には安定化効果が減少することを
念頭におけば、試験により非常に少量であるが制御され
た量で各金属を含む桂々の金属の任意の出発混合物を変
成して単一金属と同じ合計量でより安定な組成物を製造
するか、またはより少ない合計量を使用して同じ安定性
の組成物を製造することができる。例えば4価の錫、ガ
リウムまたはゲルマニウムを含む混合物は個々の金属よ
り良好な安定性を提供するが、ビスマスを含有する混合
物はビスマス単独よりも少量で有効である。
種々の金属の上述のような組み合わせは好適には4価形
態の錫または4価形態の錫及びビスマスを含むものが非
常に適している。しかし、上述の金属の他の組み合わせ
も同様に有効であろう。
態の錫または4価形態の錫及びビスマスを含むものが非
常に適している。しかし、上述の金属の他の組み合わせ
も同様に有効であろう。
錫3単独で使用する場合、安定化される溶液中に好適に
は420ピコモル(すなわち420ピコモル/kg、以
下ptv+と記載する)以下、最適には50〜300
p Mの錫が存在する。錫を他の金属と併用する場りに
は、錫は50〜250 p Mの量で存在することが好
ましい。
は420ピコモル(すなわち420ピコモル/kg、以
下ptv+と記載する)以下、最適には50〜300
p Mの錫が存在する。錫を他の金属と併用する場りに
は、錫は50〜250 p Mの量で存在することが好
ましい。
ビスマスを単独で使用する場合には、安定化される?8
8!中に好適には2500PM以下、最適には500〜
2000pMのビスマスが存在する。
8!中に好適には2500PM以下、最適には500〜
2000pMのビスマスが存在する。
ビスマスを他の金属と併用する場合には、ビスマスは5
0〜250pMの量で存在することが好ましい。
0〜250pMの量で存在することが好ましい。
ゲルマニウムを使用する場合には、安定化される溶液中
には好適に1000pM以下、最適には400〜800
9Mのゲルマニウムが存在する。
には好適に1000pM以下、最適には400〜800
9Mのゲルマニウムが存在する。
ゲルマニウムを他の金属と併用する場合には、ゲルマニ
ウムは100〜300pMの量で存在することが好まし
い。
ウムは100〜300pMの量で存在することが好まし
い。
ガリウム、インジウム、タリウムまたはアンチモンを使
用する場合には、安定化される溶液中にガリウム、イン
ジウム、タリウムまたはアンチモンが好適には700
p M以下、最適には50〜600 p Mの址で存在
することが好ましい。カリウム、インジウ11、タリウ
ノ、またはアンチモンを池の金属と併用する場合には、
50〜300pMの址で存在することが好ましい。
用する場合には、安定化される溶液中にガリウム、イン
ジウム、タリウムまたはアンチモンが好適には700
p M以下、最適には50〜600 p Mの址で存在
することが好ましい。カリウム、インジウ11、タリウ
ノ、またはアンチモンを池の金属と併用する場合には、
50〜300pMの址で存在することが好ましい。
安定化される溶液中のビスマス、ガリウム、ゲルマニウ
ム及び4価形態の錫の合計量は350〜11000p、
f&Jには400〜850pMである9合計量が上述の
範囲より少ないが、′iたは多い場合には、分解が増加
し、時には非常に増加する結果となるものと思われる。
ム及び4価形態の錫の合計量は350〜11000p、
f&Jには400〜850pMである9合計量が上述の
範囲より少ないが、′iたは多い場合には、分解が増加
し、時には非常に増加する結果となるものと思われる。
全ての場合において、1種または2種以」−の添加金属
を酸化物または含水酸化物形態として導入することが好
ましい。
を酸化物または含水酸化物形態として導入することが好
ましい。
また、過モノ硫酸溶液はリン酸、亜リン酸、ジホスホン
酸、ポリボスホン酸、ジホスフィン酸またはポリホスフ
ィン酸のような酸性リン含有化合物または上述の任意の
水溶性塩類、好適にはアンモニウム塩を含有する1種ま
たは2種以上の有機化合物を含有することが好ましい。
酸、ポリボスホン酸、ジホスフィン酸またはポリホスフ
ィン酸のような酸性リン含有化合物または上述の任意の
水溶性塩類、好適にはアンモニウム塩を含有する1種ま
たは2種以上の有機化合物を含有することが好ましい。
上述の種類の化合物はモンケン1−・カンパニー(Mo
nsant。
nsant。
CoIIpany)から商標名デクニスl−(Dequ
est)として入手することができる。前記リン含有化
合物は窒素を含まないものが好適である。適当な該化合
物は1−ヒドロキシエチリデン1,1−ジホスホン酸(
デクニスl−2010)である6リン含有化合物の量は
溶液の重量の好適には0,01〜1.0%、最適には0
,1〜0,4%である。
est)として入手することができる。前記リン含有化
合物は窒素を含まないものが好適である。適当な該化合
物は1−ヒドロキシエチリデン1,1−ジホスホン酸(
デクニスl−2010)である6リン含有化合物の量は
溶液の重量の好適には0,01〜1.0%、最適には0
,1〜0,4%である。
最長貯蔵寿命を得るために、本発明の過モノ硫酸溶液は
純粋な成分、特に、金属不純物及び粒子の含量が少ない
酸、過酸化水素及び水を使用して造ることが好ましい。
純粋な成分、特に、金属不純物及び粒子の含量が少ない
酸、過酸化水素及び水を使用して造ることが好ましい。
特に好ましくは、上述の成分は以下の第2表及び第3表
に記載する金属として換算した金属不純物含量及び粒子
含量のような好適特性、特に好適な特性または最適特性
を満足度−じし一退 最大濃度−μg/ kg 妬産且訓 拝上」fl−ft尺訓 10Q 50 亀−」L−嚢 最大粒子濃度(10ml中の下記寸法を下記の数似下)
症ヱ這jはL耐 妨適見訓 l−1O,52000
1500 1,0500300 2,012070 5,01610 10,042,5 15,01,71 また、本発明の好適な溶液は1種または2種以金属 コバルI〜 クロム 鋼 鉄 マンガン ニッケル 亜鉛 上の界面活性剤、例えば3Mカンパニーから入手できる
商標名フルオラッド(Fluorad) F C93の
ようなパーフルオロ化界面活性剤を含有することが好適
である。界面活性剤の適量は溶液100万重量部当たり
20〜500部である。上述の界面活性剤及びリン含有
化合物は「パーハロゲン化化合物溶液(Solutio
ns of Perhalogenatedcompo
und) Jと題する関連出願に教示されているような
酸類を含むことができる。
に記載する金属として換算した金属不純物含量及び粒子
含量のような好適特性、特に好適な特性または最適特性
を満足度−じし一退 最大濃度−μg/ kg 妬産且訓 拝上」fl−ft尺訓 10Q 50 亀−」L−嚢 最大粒子濃度(10ml中の下記寸法を下記の数似下)
症ヱ這jはL耐 妨適見訓 l−1O,52000
1500 1,0500300 2,012070 5,01610 10,042,5 15,01,71 また、本発明の好適な溶液は1種または2種以金属 コバルI〜 クロム 鋼 鉄 マンガン ニッケル 亜鉛 上の界面活性剤、例えば3Mカンパニーから入手できる
商標名フルオラッド(Fluorad) F C93の
ようなパーフルオロ化界面活性剤を含有することが好適
である。界面活性剤の適量は溶液100万重量部当たり
20〜500部である。上述の界面活性剤及びリン含有
化合物は「パーハロゲン化化合物溶液(Solutio
ns of Perhalogenatedcompo
und) Jと題する関連出願に教示されているような
酸類を含むことができる。
本発明により教示される金属類は、分析により示される
ような酸中に既に存在する同じ金属の含量を考慮して硫
酸に希釈技法により得られる適量で直接音ませるもので
つあもよい。
ような酸中に既に存在する同じ金属の含量を考慮して硫
酸に希釈技法により得られる適量で直接音ませるもので
つあもよい。
本発明の過モノ硫酸溶液は、該溶液にフォトレジス■・
担持支持体を適当な時間例えば約10秒ないし約15分
間にわたり浸漬し、該支持体を取り出し且つ18meq
オームの水中で支持体をすすぎ/先いすることによりフ
才t・レジス)・ストリッピング溶液として利用するこ
とができる。支持体上の所望の金属被覆の侵食を回避す
るために、処理温度は欧州特許0256284号明細書
に教示されているように50℃以下、特に好適には40
℃以下、適宜10〜30℃に維持することが好ましい。
担持支持体を適当な時間例えば約10秒ないし約15分
間にわたり浸漬し、該支持体を取り出し且つ18meq
オームの水中で支持体をすすぎ/先いすることによりフ
才t・レジス)・ストリッピング溶液として利用するこ
とができる。支持体上の所望の金属被覆の侵食を回避す
るために、処理温度は欧州特許0256284号明細書
に教示されているように50℃以下、特に好適には40
℃以下、適宜10〜30℃に維持することが好ましい。
本発明を以下の実施例により更に詳しく説明する。実施
例は標準量の硫酸及び過酸化水素並びにリン酸と種々の
量の1種または2種以上の添加金属を含有する組成物の
調製よりなるものである。
例は標準量の硫酸及び過酸化水素並びにリン酸と種々の
量の1種または2種以上の添加金属を含有する組成物の
調製よりなるものである。
温度を15℃以下の温度へ制御しながら、200社の9
5重量%硫酸へ5+al!の86重置火過酸化水素を徐
々に添加することにより溶液を調製した。
5重量%硫酸へ5+al!の86重置火過酸化水素を徐
々に添加することにより溶液を調製した。
ホスホン酸(デクエスト2010) 0 、2重量%及
び後述する金属として換算したピコモル(pM>量の添
加金属を予め硫酸に溶解した。
び後述する金属として換算したピコモル(pM>量の添
加金属を予め硫酸に溶解した。
硫酸及び過酸化水素は上述のような好適な電子等級に対
応するものである。得られた溶液に70℃の温度での5
時間にわたる加熱を含む促進安定性試験を行い、加熱前
後の溶液中の有効酸素含量を比較した。有効酸素含量の
減少割合をパーセント割合として記載する。上述の条件
下で10%以下の損失は、20℃またはそれ以下の温度
で少な・くとも3力月、通常少なくとも9力月の保存寿
命を示す。
応するものである。得られた溶液に70℃の温度での5
時間にわたる加熱を含む促進安定性試験を行い、加熱前
後の溶液中の有効酸素含量を比較した。有効酸素含量の
減少割合をパーセント割合として記載する。上述の条件
下で10%以下の損失は、20℃またはそれ以下の温度
で少な・くとも3力月、通常少なくとも9力月の保存寿
命を示す。
本発明による1種の金属を使用した組成物についての促
進安定性試験の結果を第1図〜第4図に要約するが5こ
れらの図は得られる分解割合(%)に対する金属として
のピコモル量を示すものである。若干の場合において、
プロットは数回の試験結果の平均値を示す。
進安定性試験の結果を第1図〜第4図に要約するが5こ
れらの図は得られる分解割合(%)に対する金属として
のピコモル量を示すものである。若干の場合において、
プロットは数回の試験結果の平均値を示す。
第1図はBi2O5として添加した種々の量のビスマス
に対する分解割合を示すグラフである(実施例1)。
に対する分解割合を示すグラフである(実施例1)。
第2図はS n O2として添加した種々の量の錫に対
する分解割合を示すグラフである(実施例2)。
する分解割合を示すグラフである(実施例2)。
第3図はGeOとして添加した種々の量のゲルマニウム
に対する分解割合を示すグラフである(実施例3)。
に対する分解割合を示すグラフである(実施例3)。
第4図はGa2O,とじて添加した種々の量のカリウム
に対する分解割合を示すグラフである(実施例4)。
に対する分解割合を示すグラフである(実施例4)。
第1図〜第4図のグラフから、個々の金属について分解
割合が最小の最適量があり、この最適量は個々の金属に
ついて異なることが観察できる。
割合が最小の最適量があり、この最適量は個々の金属に
ついて異なることが観察できる。
実施例5〜6
溶液は種々の供給源及び藍の錫を含有するものであった
6 実施例5 : NazSnO:+として610pMのS
nを添加−一10%分解 実施例6 : SnO2として210pMのSnを添加
−一7.6%分解 実施例7〜10 溶液はBi201.5nOz、Q e□及びGa2O,
の若干の混合物または全ての混合物を含有していた。
6 実施例5 : NazSnO:+として610pMのS
nを添加−一10%分解 実施例6 : SnO2として210pMのSnを添加
−一7.6%分解 実施例7〜10 溶液はBi201.5nOz、Q e□及びGa2O,
の若干の混合物または全ての混合物を含有していた。
酸化物の量及び得られた分解割合(%)を第4表に要約
する。
する。
(−A−ス
実」1例 −ニー −旦−910[Ji(pM)
70 70 70G a (+)
M ) 260 130
130Gc(pM) 170 170
170S n (p M ) 1鵠21
0 ユ刑210合計(9M> 800 450
410 51.0分解割合 3% 4
% 6% 12.5$実施例11〜14 溶液は最適合計量よりも多い1種または2種以上の金属
酸化物または含水酸化物を含有していた。
70 70 70G a (+)
M ) 260 130
130Gc(pM) 170 170
170S n (p M ) 1鵠21
0 ユ刑210合計(9M> 800 450
410 51.0分解割合 3% 4
% 6% 12.5$実施例11〜14 溶液は最適合計量よりも多い1種または2種以上の金属
酸化物または含水酸化物を含有していた。
酸化物の量及び得られた分解割合(%)を第5表に要約
する。
する。
第 5 宍
実」1例 11 12 13
14B i (p M 290
140 590Ga(pM) 130
720 130 130Ge(pM
170 340 340S
n(pM) 210 840 210
420合計(pM soo 1560
820 1480分解割合 12% 12.
3$ 9% 15$実施例15 溶液は最適N計量よりも少ない金属酸化物または含水酸
化物を含有していた。金属の1及び得られた分解割合(
%)を第6表に要約する。
14B i (p M 290
140 590Ga(pM) 130
720 130 130Ge(pM
170 340 340S
n(pM) 210 840 210
420合計(pM soo 1560
820 1480分解割合 12% 12.
3$ 9% 15$実施例15 溶液は最適N計量よりも少ない金属酸化物または含水酸
化物を含有していた。金属の1及び得られた分解割合(
%)を第6表に要約する。
第 6 衣
実一方1例 15
13i(pM) 70
Ga(pM) 130
e
S n (p M> 1006計
300 分解割合(%)48z
300 分解割合(%)48z
第1図はBi2O,として添加した種々の量のビスマス
に対する分解割合を示すグラフであり、第2図はS n
O2として添加した種々の量の錫に対する分解割合を
示すグラフであり、第3図はGeOとして添加した種々
の量のゲルマニウムに対する分解割合を示すグラフであ
り、第4図はG a 203として添加した種々の量の
ガリウムに対する分解割合を示すグラフである。 タシの浄書(内容に変更なし) Soot)M 11000D 、1500
pM金属としてのGe量 〜・2・ 金属としてのS腎量 金属乙してrlGa量
に対する分解割合を示すグラフであり、第2図はS n
O2として添加した種々の量の錫に対する分解割合を
示すグラフであり、第3図はGeOとして添加した種々
の量のゲルマニウムに対する分解割合を示すグラフであ
り、第4図はG a 203として添加した種々の量の
ガリウムに対する分解割合を示すグラフである。 タシの浄書(内容に変更なし) Soot)M 11000D 、1500
pM金属としてのGe量 〜・2・ 金属としてのS腎量 金属乙してrlGa量
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、金属イオン封鎖剤及び安定化量の添加金属化合物を
含む過モノ硫酸−硫酸安定化混合水溶液であって、該水
溶液が半導体表面からフォトレジスト残留物をストリッ
ピングするために適している溶液において、添加金属化
合物がガリウム、ゲルマニウム、インジウム、4価の形
態の錫、アンチモン、タリウム、ビスマス及び鉛からな
る群から選択された1種または2種以上であることを特
徴とする安定化混合水溶液。 2、添加金属がビスマス、4価形態の錫、ガリウムまた
はゲルマニウムである請求項1記載の安定化混合水溶液
。 3、添加金属がガリウム、ゲルマニウム、インジウム、
4価形態の錫、鉛及びビスマスから選択された1種また
は2種以上である請求項1記載の安定化混合水溶液。 4、添加金属がビスマス及び/または4価形態の錫であ
る請求項1または3記載の安定化混合水溶液。 5、添加金属がビスマス、ガリウム、ゲルマニウム及び
4価形態の錫の混合物よりなる請求項1または3、また
は4記載の安定化混合水溶液。 6、4価形態の錫の量が50〜420ピコモル/kgで
あり、ビスマスの量が500〜2500ピコモル/kg
であり、ゲルマニウムの量が400〜1000ピコモル
/kgであり、ガリウム、インジウム、タリウムまたは
アンチモンの量は50〜700ピコモル/kgである請
求項1記載の安定化混合水溶液。 7、溶液が50〜250ピコモル/kgの4価形態の錫
、100〜300ピコモル/kgのビスマス、50〜3
00ピコモル/kgのガリウム、インジウム、タリウム
またはアンチモンを含有する請求項1記載の安定化混合
水溶液。 8、溶液がビスマス、ガリウム、ゲルマニウム及び4価
形態の錫を合計量で350〜1000ピコモル/kg含
有する請求項1記載の安定化混合水溶液。 9、添加金属が酸化物または含水酸化物の形態である請
求項1ないし8のいずれか1項記載の安定化混合水溶液
。 10、金属イオン封鎖剤が5価のリン化合物である請求
項1ないし9のいずれか1項記載の安定化混合水溶液。 11、金属イオン封鎖剤が1−ヒドロキシエチリデン1
,1−ジホスホン酸である請求項10記載の安定化混合
水溶液。 12、金属イオン封鎖剤の量が水溶液の0.01〜1.
0重量%である請求項1記載の安定化混合水溶液。 13、少なくとも2重量%の過モノ硫酸を含有してなる
請求項1ないし12のいずれか1項記載の安定化混合水
溶液。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8813889.6 | 1988-06-11 | ||
GB888813889A GB8813889D0 (en) | 1988-06-11 | 1988-06-11 | Solutions of permonosulphuric acid |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0230606A true JPH0230606A (ja) | 1990-02-01 |
Family
ID=10638507
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1146944A Pending JPH0230606A (ja) | 1988-06-11 | 1989-06-12 | 過モノ硫酸溶液 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4963342A (ja) |
EP (1) | EP0346667A1 (ja) |
JP (1) | JPH0230606A (ja) |
KR (1) | KR900000287A (ja) |
CA (1) | CA1316441C (ja) |
GB (1) | GB8813889D0 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5221644A (en) * | 1991-12-13 | 1993-06-22 | Delco Electronics Corporation | Thick film sense resistor composition and method of using the same |
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---|---|---|---|---|
JPH0829989A (ja) * | 1994-07-14 | 1996-02-02 | Furontetsuku:Kk | フォトレジスト膜の除去方法 |
GB2309032A (en) * | 1996-01-11 | 1997-07-16 | Procter & Gamble | Bismuth salts and complexes with nitrogen-free organic diphosphonic acids |
TW201406932A (zh) * | 2012-05-18 | 2014-02-16 | Advanced Tech Materials | 用於自包含氮化鈦之表面脫除光阻劑之組成物及方法 |
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US3043658A (en) * | 1960-07-06 | 1962-07-10 | Laporte Chemical | Stabilisation of per compounds |
US3333925A (en) * | 1964-05-13 | 1967-08-01 | Du Pont | Stannate type stabilizer compositions and preparation thereof |
US3383174A (en) * | 1965-04-07 | 1968-05-14 | Fmc Corp | Stabilization of hydrogen peroxide |
US3387939A (en) * | 1966-07-06 | 1968-06-11 | Du Pont | Stannate stabilizer compositions containing an alkylidene diphosphonic acid, their preparation and hydrogen peroxide solutions stabilized therewith |
NL7608266A (nl) * | 1975-08-16 | 1977-02-18 | Henkel & Cie Gmbh | Concentraten van microbicide middelen. |
FR2343797A1 (fr) * | 1976-03-11 | 1977-10-07 | Air Liquide | Solutions stabilisees de peroxyde d'hydrogene pour les traitements de surface des metaux |
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CA1205275A (en) * | 1982-06-14 | 1986-06-03 | Kenneth J. Radimer | Stabilization of high purity hydrogen peroxide |
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EP0256284B1 (en) * | 1986-08-09 | 1991-03-27 | Micro-Image Technology Limited | Composition for use in the production of integrated circuits and method for its preparation and use |
GB8701759D0 (en) * | 1987-01-27 | 1987-03-04 | Laporte Industries Ltd | Processing of semi-conductor materials |
-
1988
- 1988-06-11 GB GB888813889A patent/GB8813889D0/en active Pending
-
1989
- 1989-05-27 EP EP89109587A patent/EP0346667A1/en not_active Ceased
- 1989-06-05 US US07/361,143 patent/US4963342A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-06-09 CA CA000602271A patent/CA1316441C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-06-09 KR KR1019890007977A patent/KR900000287A/ko not_active Application Discontinuation
- 1989-06-12 JP JP1146944A patent/JPH0230606A/ja active Pending
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---|---|---|---|---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4963342A (en) | 1990-10-16 |
KR900000287A (ko) | 1990-01-30 |
CA1316441C (en) | 1993-04-20 |
EP0346667A1 (en) | 1989-12-20 |
GB8813889D0 (en) | 1988-07-13 |
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