JPH02279741A - 微多孔質膜の製造方法 - Google Patents
微多孔質膜の製造方法Info
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- 239000012982 microporous membrane Substances 0.000 title claims abstract description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 62
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 25
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000003637 basic solution Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 abstract description 7
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 abstract description 6
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 abstract description 5
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 229920000831 ionic polymer Polymers 0.000 abstract description 3
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 abstract description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 abstract 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- -1 etc. group Chemical group 0.000 description 8
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 229920006250 telechelic polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 2
- JPVQCHVLFHXNKB-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,6-hexamethyldisiline Chemical compound CC1=C(C)[Si](C)=[Si](C)C(C)=C1C JPVQCHVLFHXNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxybenzoyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000446313 Lamella Species 0.000 description 1
- 241000283986 Lepus Species 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNAWDMGRAHXCKX-UHFFFAOYSA-N N-(dimethylaminooxy)-N-methylmethanamine 2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound C(C(=C)C)(=O)O.CN(C)ON(C)C ZNAWDMGRAHXCKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000320 amidine group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000001112 coagulating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- SMBQBQBNOXIFSF-UHFFFAOYSA-N dilithium Chemical compound [Li][Li] SMBQBQBNOXIFSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- FUKUFMFMCZIRNT-UHFFFAOYSA-N hydron;methanol;chloride Chemical compound Cl.OC FUKUFMFMCZIRNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- PDZGAEAUKGKKDE-UHFFFAOYSA-N lithium;naphthalene Chemical compound [Li].C1=CC=CC2=CC=CC=C21 PDZGAEAUKGKKDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- IBHRUOJKLLUBQG-UHFFFAOYSA-L magnesium;ethene;dibromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[Br-].C=C IBHRUOJKLLUBQG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 1
- PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpyridin-2-amine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=N1 PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000587 piperidin-1-yl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920003226 polyurethane urea Polymers 0.000 description 1
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003628 tricarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は微多孔質膜の新規な製造方法に関する。さらに
詳しくは、イオン結合可能な基を有するポリマー溶液か
ら、ポリイオンコンプレックス膜を形成した後、一方の
成分を抽出除去することを特徴とする、微多孔質膜の製
造方法に関する。
詳しくは、イオン結合可能な基を有するポリマー溶液か
ら、ポリイオンコンプレックス膜を形成した後、一方の
成分を抽出除去することを特徴とする、微多孔質膜の製
造方法に関する。
/
一般に、2種類のホモポリマーを混合した場合、ポリマ
ー同士は分子レベルで均一に溶は合うことは困難であり
、マクロに相分離する。こされており、分かれることが
できず、/θ〜10OOA、オーダーのミクロ相分離構
造を形成することが知られている。
ー同士は分子レベルで均一に溶は合うことは困難であり
、マクロに相分離する。こされており、分かれることが
できず、/θ〜10OOA、オーダーのミクロ相分離構
造を形成することが知られている。
イオン結合可能な官能基を持つテレケリツクポリマー同
士を混合すればブロックタイプの構造が、またブロック
ポリマーとテレケリツクポリマーの組み合せではグラフ
トタイプの構造が発生すると考えられる。
士を混合すればブロックタイプの構造が、またブロック
ポリマーとテレケリツクポリマーの組み合せではグラフ
トタイプの構造が発生すると考えられる。
ポリイオンコンプレックスに関する報告は非常に多くな
されているが、ポリマー木端のイオン結合に着目したも
のは少ない。Jerome ラはハラトテレケリックボ
リマーと呼ばれる、両末端にカルボキシル基の金属塩を
持つようなポリマーを用いその挙動を検討している(R
,J e r omeら、N4a Cr O[1101
ecu l es / 4’ 、 22 j p 79
g 7年)。ポリマ−末端同士のイオン結合の形成は
、近年R’ussellらにより報告されている( T
、 Ru5sellら、Macromolecules
2 / 、 / 709 、 i 9 K 1年)0
彼らは両末端にジメチルアミノ基を有するポリイソプ
レンと両末端にカルボキシル基を持つポリスチレンを合
成し、イオン結合によるブロック共重合体の合成を試み
ている。得られたフィルムは室温ではブロック共重合体
の示すようなミクロ相分離構造を示し、イオン結合が形
成されていることが示唆された。また温度を上昇させる
とミクロ相分離構造はこわれ、スピノーダル型の分離に
変化する。
されているが、ポリマー木端のイオン結合に着目したも
のは少ない。Jerome ラはハラトテレケリックボ
リマーと呼ばれる、両末端にカルボキシル基の金属塩を
持つようなポリマーを用いその挙動を検討している(R
,J e r omeら、N4a Cr O[1101
ecu l es / 4’ 、 22 j p 79
g 7年)。ポリマ−末端同士のイオン結合の形成は
、近年R’ussellらにより報告されている( T
、 Ru5sellら、Macromolecules
2 / 、 / 709 、 i 9 K 1年)0
彼らは両末端にジメチルアミノ基を有するポリイソプ
レンと両末端にカルボキシル基を持つポリスチレンを合
成し、イオン結合によるブロック共重合体の合成を試み
ている。得られたフィルムは室温ではブロック共重合体
の示すようなミクロ相分離構造を示し、イオン結合が形
成されていることが示唆された。また温度を上昇させる
とミクロ相分離構造はこわれ、スピノーダル型の分離に
変化する。
しかしながらこれらの文献では均一膜の製造については
記載されているが、多孔質膜の製造については何ら記載
されておらず、また、その可能性を示唆する記載も一切
ない。
記載されているが、多孔質膜の製造については何ら記載
されておらず、また、その可能性を示唆する記載も一切
ない。
本発明者らはイオン結合によるブロックまたはグラフト
重合体を形成し5る重合体混合物から得られるキャスト
フィルムのミクロ相分離構造を制御し、一方の成分を抽
出除去することにより微多孔質膜を製造する方法につい
て鋭意研究した結果、本発明忙到達した。
重合体を形成し5る重合体混合物から得られるキャスト
フィルムのミクロ相分離構造を制御し、一方の成分を抽
出除去することにより微多孔質膜を製造する方法につい
て鋭意研究した結果、本発明忙到達した。
即ち、本発明は、分子両末端にイオン結合可能な官能基
(a)を有する重合体(A)および上記官能基(a)と
イオン結合可能な官能基(b)を有する重合体(B)の
重合体混合物の有機溶媒溶液を製膜して得られた膜を塩
基性または酸性溶液に浸漬し上記重合体の一方を抽出除
去することを特徴とする微多孔質膜の製造方法に存する
。
(a)を有する重合体(A)および上記官能基(a)と
イオン結合可能な官能基(b)を有する重合体(B)の
重合体混合物の有機溶媒溶液を製膜して得られた膜を塩
基性または酸性溶液に浸漬し上記重合体の一方を抽出除
去することを特徴とする微多孔質膜の製造方法に存する
。
本発明で用いられる重合体(A)とは分子両末端にイオ
ン結合可能な官能基(a)を有する溶媒可溶性の重付加
型重合体、重縮合型重合体または開環重合体である。官
能基(a)としては、−COOH,−8O,H,−8o
、H,−PO,H,、−PO,H。
ン結合可能な官能基(a)を有する溶媒可溶性の重付加
型重合体、重縮合型重合体または開環重合体である。官
能基(a)としては、−COOH,−8O,H,−8o
、H,−PO,H,、−PO,H。
等の酸性基からなる群、または
で示される塩基性基からなる群から選ばれた官能基が好
ましく挙げられる0 但し、上記式中でR1とR2とは了り−ル基、アラルキ
ル基、アルキル基、シクロアルキル基又は水素である。
ましく挙げられる0 但し、上記式中でR1とR2とは了り−ル基、アラルキ
ル基、アルキル基、シクロアルキル基又は水素である。
また、これらは−緒になって一つの環式構造を形成する
ことができ、さらにこの環式構造は異種原子を任意に含
むことができ、且つ任意に飽和又は不飽和であることが
できる。R3はコ価の炭化水素基である。このような塩
基性の基としては、ジメチルアミノ基、ジイソプロピル
アミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基、N−メチルベ
ンジルアミノ基、N−メチルフェニルアミノ基などが挙
げられる。
ことができ、さらにこの環式構造は異種原子を任意に含
むことができ、且つ任意に飽和又は不飽和であることが
できる。R3はコ価の炭化水素基である。このような塩
基性の基としては、ジメチルアミノ基、ジイソプロピル
アミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基、N−メチルベ
ンジルアミノ基、N−メチルフェニルアミノ基などが挙
げられる。
重合体(A)を得るための基体ポリマーである重付加型
重合体、重縮合型重合体、または開環重合体としては、
スチレンやメチルメタアクリレート等のビニル系重合体
、ジイソシアネートとジオール及び/又はジアミンから
得られるポリウレタン、ポリウレア、ポリウレタンウレ
ア、ポリエチレンオキシド、ポリテトラメチレンオキシ
ド、ポリカプロラクトン、ジカルボン酸とジオールから
得られるポリエステル、ジカルボン酸とジアミンから得
られるポリアミド、テトラカルボン酸とジアミンから得
られるポリイミド、トリカルボン酸とジアミンから得ら
れるポリアミド、その他ポリエーテルケトン、ポリフェ
ニレンエーテル、ポリエチレンオキシトナトが挙げられ
る。
重合体、重縮合型重合体、または開環重合体としては、
スチレンやメチルメタアクリレート等のビニル系重合体
、ジイソシアネートとジオール及び/又はジアミンから
得られるポリウレタン、ポリウレア、ポリウレタンウレ
ア、ポリエチレンオキシド、ポリテトラメチレンオキシ
ド、ポリカプロラクトン、ジカルボン酸とジオールから
得られるポリエステル、ジカルボン酸とジアミンから得
られるポリアミド、テトラカルボン酸とジアミンから得
られるポリイミド、トリカルボン酸とジアミンから得ら
れるポリアミド、その他ポリエーテルケトン、ポリフェ
ニレンエーテル、ポリエチレンオキシトナトが挙げられ
る。
これらの重付加型、重縮合型重合体または開環重合体に
対して前記の官能基(a)を両末端に導入する方法とし
ては、例えばα−メチルスチレンとアルカリ金属との反
応疋よって得られるα−メチルスチレンのリビングダ量
体を合成し、これを重合開始剤としてスチレンを重合し
て得たポリスチレンのりピングポリマーを無水の二酸化
炭素と反応させ、次いで塩酸酸性メタノールで処理する
ことにより、両末端カルボン酸のポリスチレンが得られ
る。別の方法としては例えば、アミノ基、カルボ再シル
基、アミジン基、イミダシリン基等の官能基を分子両端
に有するアゾ化合物又は過酸化物を重合開始剤として用
いてスチレン等のビニル系モノマーを重合することによ
り実質的忙両末端に上記官能基を有するビニル系ポリマ
ーを得ることが出来るQまた他の方法としては、重付加
ないし重縮合する反応体のモル比を八〇からずらす方法
がある。例工ばベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
カム〇θモルと亭謙′−ジアミノジフェニルエーテルへ
07モルを反応させることにより、両末端アミノ基のポ
リアミド酸を得、次いで加熱脱水することにより両末端
アミノ基のポリイミドを得ることができる0 本発明で用いられる重合体(B)としては、前記官能基
(a)とイオン結合可能な官能基(b)を有する有機溶
媒可溶性の重付加型、重縮合型重合体または開環重合体
である0官能基(b)は前記の官能基(a)と同じ酸性
基の群および塩基性基の群から選ぶことができるが、官
能基(a)が酸性基の群から選ばれる時は塩基性基の群
から選ばれ、また逆に官能基(alが塩基性の群から選
ばれる時は酸性基の群から選ばれる。分子食は1000
〜5oooooである。
対して前記の官能基(a)を両末端に導入する方法とし
ては、例えばα−メチルスチレンとアルカリ金属との反
応疋よって得られるα−メチルスチレンのリビングダ量
体を合成し、これを重合開始剤としてスチレンを重合し
て得たポリスチレンのりピングポリマーを無水の二酸化
炭素と反応させ、次いで塩酸酸性メタノールで処理する
ことにより、両末端カルボン酸のポリスチレンが得られ
る。別の方法としては例えば、アミノ基、カルボ再シル
基、アミジン基、イミダシリン基等の官能基を分子両端
に有するアゾ化合物又は過酸化物を重合開始剤として用
いてスチレン等のビニル系モノマーを重合することによ
り実質的忙両末端に上記官能基を有するビニル系ポリマ
ーを得ることが出来るQまた他の方法としては、重付加
ないし重縮合する反応体のモル比を八〇からずらす方法
がある。例工ばベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
カム〇θモルと亭謙′−ジアミノジフェニルエーテルへ
07モルを反応させることにより、両末端アミノ基のポ
リアミド酸を得、次いで加熱脱水することにより両末端
アミノ基のポリイミドを得ることができる0 本発明で用いられる重合体(B)としては、前記官能基
(a)とイオン結合可能な官能基(b)を有する有機溶
媒可溶性の重付加型、重縮合型重合体または開環重合体
である0官能基(b)は前記の官能基(a)と同じ酸性
基の群および塩基性基の群から選ぶことができるが、官
能基(a)が酸性基の群から選ばれる時は塩基性基の群
から選ばれ、また逆に官能基(alが塩基性の群から選
ばれる時は酸性基の群から選ばれる。分子食は1000
〜5oooooである。
重合体(B)を得るための基体ポリマーとしては、前記
の重合体(A)にて挙げたものの中から選ばれる。これ
らの基体ポリマーに前記の官能基(b)を導入する方法
としては、前記の重合体(A)と同様の方法を用いるこ
とができる。他の方法としては、例えばジメチルアミノ
エテルメタクリレート、アクリル酸、インプロペニルア
ニリン等のビニル系モノマート、スチレン、メチルメタ
クリレート等の他のとニルモノマーとを共重合すること
により得られる0 重合体(A)及び(B)の有機溶媒としては、通常の種
々の有機溶媒を使用することができる。
の重合体(A)にて挙げたものの中から選ばれる。これ
らの基体ポリマーに前記の官能基(b)を導入する方法
としては、前記の重合体(A)と同様の方法を用いるこ
とができる。他の方法としては、例えばジメチルアミノ
エテルメタクリレート、アクリル酸、インプロペニルア
ニリン等のビニル系モノマート、スチレン、メチルメタ
クリレート等の他のとニルモノマーとを共重合すること
により得られる0 重合体(A)及び(B)の有機溶媒としては、通常の種
々の有機溶媒を使用することができる。
例えばヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メチルエ
チルケトン、メチルインブチルクトン、アセトフェノン
、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブ
チル等のエステル類、インプロピルアルコール、ジアセ
トンアルコール等のアルコールM、ジメチルホルムアミ
ド、N−メチルピロリドン等のアミド系溶媒等が挙げら
れる。
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メチルエ
チルケトン、メチルインブチルクトン、アセトフェノン
、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブ
チル等のエステル類、インプロピルアルコール、ジアセ
トンアルコール等のアルコールM、ジメチルホルムアミ
ド、N−メチルピロリドン等のアミド系溶媒等が挙げら
れる。
重合体(A)または(B)の抽出溶媒としては、上記の
溶媒や水等を使用することができる。
溶媒や水等を使用することができる。
重合体(A)及び(B)の有機溶媒溶液は通常7〜20
重量%の濃度で使用される。キャスト膜はこれら重合体
(A)、(B)両液をキャストする前に混合される。得
られた混合液はガラス板等の基材上にドクターブレード
やバーコーター等を用いて流延され、平面液膜を形成す
る。次いで熱風乾燥機で大部分の有機溶媒を蒸発除去し
て生乾きのフィルムを形成した後、また必要に応じ更に
高温で熱処理した後塩基性または酸性溶液に浸漬して重
合体(A)または(B)のいずれかの成分を押出するこ
とにより微多孔質膜を得ることができる。酸性溶液とし
ては、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸や、酢酸、プロピ
オン酸等の有機酸等の、水又は有機溶媒溶液が挙げられ
る。
重量%の濃度で使用される。キャスト膜はこれら重合体
(A)、(B)両液をキャストする前に混合される。得
られた混合液はガラス板等の基材上にドクターブレード
やバーコーター等を用いて流延され、平面液膜を形成す
る。次いで熱風乾燥機で大部分の有機溶媒を蒸発除去し
て生乾きのフィルムを形成した後、また必要に応じ更に
高温で熱処理した後塩基性または酸性溶液に浸漬して重
合体(A)または(B)のいずれかの成分を押出するこ
とにより微多孔質膜を得ることができる。酸性溶液とし
ては、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸や、酢酸、プロピ
オン酸等の有機酸等の、水又は有機溶媒溶液が挙げられ
る。
塩基性溶液としては、トリメチルアミン、トリエチルア
ミン、ピリジン、キノリン、ジメチルアミノピリジン、
モルホリン、苛性カリ、苛性ソーダ等の、水又は有機溶
媒溶液が挙げられる。
ミン、ピリジン、キノリン、ジメチルアミノピリジン、
モルホリン、苛性カリ、苛性ソーダ等の、水又は有機溶
媒溶液が挙げられる。
抽出される成分の官能基が −N 82 N (C
Hs) 2などの塩基性基の場合には酸性溶液が、また
−COOH,−8o、)1 などの酸性基の場合には
塩基性溶液が用いられる。また重合体(A)、(B)の
混合溶液をノズルから中空状に押し出し、次いで塩基性
又は酸性の凝固液中に浸漬した後乾燥することKより微
多孔質の中空糸を得ることもできる。
Hs) 2などの塩基性基の場合には酸性溶液が、また
−COOH,−8o、)1 などの酸性基の場合には
塩基性溶液が用いられる。また重合体(A)、(B)の
混合溶液をノズルから中空状に押し出し、次いで塩基性
又は酸性の凝固液中に浸漬した後乾燥することKより微
多孔質の中空糸を得ることもできる。
実施例/
(1) 4−N、N−ビストリメチルシリルアミノス
チレンの合成 ダーアミノスチレンb、3 t (!r 3mmo l
)、ヘキサメチルジシラジンt A、/ p(/ o
ommol)及びトリメチルシリルクロライド八〇?
(/ Ommol )を、ジムo −1・をつげたio
omtナス型フラスコに加え、グ時間還流した。はじめ
白濁していた溶液はNH4Clが昇華し、透明になった
0反応溶液を室温まで冷却後、未反応のへキサメチルジ
シラザンを減圧留去し、4<−N−)リメテルシリルア
ミノスチレンL! fを減圧蒸留で得た。
チレンの合成 ダーアミノスチレンb、3 t (!r 3mmo l
)、ヘキサメチルジシラジンt A、/ p(/ o
ommol)及びトリメチルシリルクロライド八〇?
(/ Ommol )を、ジムo −1・をつげたio
omtナス型フラスコに加え、グ時間還流した。はじめ
白濁していた溶液はNH4Clが昇華し、透明になった
0反応溶液を室温まで冷却後、未反応のへキサメチルジ
シラザンを減圧留去し、4<−N−)リメテルシリルア
ミノスチレンL! fを減圧蒸留で得た。
収率はざ3’Xでありた。
得られた弘−N−トリメチルシリルアミノスチレンLl
l t (II II mmol )をテトラハイドロ
フラン(THF)/ 0ytlに溶解し、この溶液に窒
素下でエチレンマグネシウムブロマイドのTHF溶液(
θ、AM)/りO扉Iを滴下ロードでゆっくり加え、さ
らにpo’(:、で12時間攪拌した。この溶液にトリ
メチルシリルクロライドt s t (3Jmmol
)を滴下し、6時間、aO℃で攪拌した。THFを追い
出し蒸留し、さらに減圧蒸留により4’ −N、N−ビ
ストリメチルアミノスチレンt、r tを得た。
l t (II II mmol )をテトラハイドロ
フラン(THF)/ 0ytlに溶解し、この溶液に窒
素下でエチレンマグネシウムブロマイドのTHF溶液(
θ、AM)/りO扉Iを滴下ロードでゆっくり加え、さ
らにpo’(:、で12時間攪拌した。この溶液にトリ
メチルシリルクロライドt s t (3Jmmol
)を滴下し、6時間、aO℃で攪拌した。THFを追い
出し蒸留し、さらに減圧蒸留により4’ −N、N−ビ
ストリメチルアミノスチレンt、r tを得た。
収率は73%であった。
重合に供するため、更に減圧蒸留を繰り返して精製した
。尚、これはダーアミノステレンのアミノ基をトリメチ
ルシリル基で保護したものである。
。尚、これはダーアミノステレンのアミノ基をトリメチ
ルシリル基で保護したものである。
(11) ブロックポリマーの合成
ナフタレy j、J ! (0,Or / mmo L
)をTHFj、θ−に溶解して得られた溶液に真空下
室温で0.Oqmatom の金属リチウムと接触さ
せてリチウムナフタレンを調製する。
)をTHFj、θ−に溶解して得られた溶液に真空下
室温で0.Oqmatom の金属リチウムと接触さ
せてリチウムナフタレンを調製する。
これに、α−メチルスチレン23.b y (o、2m
mol)を加えて一7t℃で30分間反応させてオリゴ
(α−メチルスチレン)ジリチウムを得る。
mol)を加えて一7t℃で30分間反応させてオリゴ
(α−メチルスチレン)ジリチウムを得る。
これを重合開始剤として一?f℃でこれにスチレン八z
lI?(//mmol)とTHFio−からなる溶液を
加え30分重合させ反応を完結させる。
lI?(//mmol)とTHFio−からなる溶液を
加え30分重合させ反応を完結させる。
引”き続きこれに<’ N + N−ビストリメチル
シリルアミノスチレンo、g 2 t (、?、/mm
oりをT HF / Omlに溶解したモノマー溶液を
加え、−7E ’Cで30分反応させて反応を完結させ
た。
シリルアミノスチレンo、g 2 t (、?、/mm
oりをT HF / Omlに溶解したモノマー溶液を
加え、−7E ’Cで30分反応させて反応を完結させ
た。
少量のメタノールで反応を停止し大量のメタノール中に
ポリマーを沈殿させた。再沈をTHF/メタノールで2
〜3回繰り返し、ベンゼン溶液を凍結乾燥して約へrt
のポリマーを得た。
ポリマーを沈殿させた。再沈をTHF/メタノールで2
〜3回繰り返し、ベンゼン溶液を凍結乾燥して約へrt
のポリマーを得た。
得られたポリマーについて蒸気圧浸透法IR(第1図)
及びNMR(第2図)のスペクトルを測定した。
及びNMR(第2図)のスペクトルを測定した。
fiD 脱保護基・精製
得られたポリマー0.r fをTHF、7m/に溶解し
、大量の1NHcl−メタノール溶液(水が少量入って
いる)に注入して沈殿させた。
、大量の1NHcl−メタノール溶液(水が少量入って
いる)に注入して沈殿させた。
沈殿したポリマーをTHF/メタノールに再溶解し、K
OH/メタノール溶液に注いで中和して沈殿させた。
OH/メタノール溶液に注いで中和して沈殿させた。
更に、THF/メタノールに溶解しトリメチルアミン/
水に注入して再沈・精製するOIlψ 同 定 脱保護した上記ポリマーの蒸気圧浸透法IR(第1図)
及びNMR(第一図)の結果から、数平均分子量(篇)
が29.’100.重量平均分子量と数平均分子量の比
(Mw、べin)が八15であるA−B−Aタイプのブ
ロックポリマーであり、Aセグメント及びBセグメント
Φ不が各々/ 0.000及び2g、0θ0であった。
水に注入して再沈・精製するOIlψ 同 定 脱保護した上記ポリマーの蒸気圧浸透法IR(第1図)
及びNMR(第一図)の結果から、数平均分子量(篇)
が29.’100.重量平均分子量と数平均分子量の比
(Mw、べin)が八15であるA−B−Aタイプのブ
ロックポリマーであり、Aセグメント及びBセグメント
Φ不が各々/ 0.000及び2g、0θ0であった。
化学構造は次の様に表わされる0
微多孔質膜の作製
重合体(A)として両末端にカルボキシル基をモツ分子
量10θ0、ttooo%600Qのポリエチレンオキ
サイド(PEO酸)を用い、重合体(B)として上記方
法で得たA−B−Aタイプのブロックポリマーを用いて
微多孔質膜を作製したO 等量の重合体(A)及び(B)をTHF/メタノ−ル混
合溶媒(10//、vo t/vo l )に溶解し、
10重量%のポリマー溶液を得た。この溶液をポリエス
テルフィルム上にキャスト、風乾した後剥離し、真空乾
燥機にて室温で一昼夜乾燥した。このフィルムなCH,
I で染色して相分離構造を観察したところラメラ状
の膜が得られ、PEO酸の分子Iが大きくなるにつれラ
メラの幅が増大していることが観察された。
量10θ0、ttooo%600Qのポリエチレンオキ
サイド(PEO酸)を用い、重合体(B)として上記方
法で得たA−B−Aタイプのブロックポリマーを用いて
微多孔質膜を作製したO 等量の重合体(A)及び(B)をTHF/メタノ−ル混
合溶媒(10//、vo t/vo l )に溶解し、
10重量%のポリマー溶液を得た。この溶液をポリエス
テルフィルム上にキャスト、風乾した後剥離し、真空乾
燥機にて室温で一昼夜乾燥した。このフィルムなCH,
I で染色して相分離構造を観察したところラメラ状
の膜が得られ、PEO酸の分子Iが大きくなるにつれラ
メラの幅が増大していることが観察された。
次にこの膜をトリエチルアミンのメタノール溶液で洗浄
し、そのIRスペクトルを測定した。
し、そのIRスペクトルを測定した。
洗浄前に見られたPE○酸に起因する/100an−’
C−0−C,1700−’(’=Q(Q吸収が浄浄後は
ほぼ消失し、洗浄後の膜のIRスペクトルはほぼブロッ
ク共重合体単独のものに一致した。
C−0−C,1700−’(’=Q(Q吸収が浄浄後は
ほぼ消失し、洗浄後の膜のIRスペクトルはほぼブロッ
ク共重合体単独のものに一致した。
又ポリマーの重量減少は加えたPEO酸のq。
%が溶出されたことを示した。
さらに洗浄した膜の表面及び断面を走査型電子顕微鏡で
観察したところ、分子量1oooのPEO酸を用いた場
合如は約100尺のラメラ状の空孔が見られた。
観察したところ、分子量1oooのPEO酸を用いた場
合如は約100尺のラメラ状の空孔が見られた。
実施例λ
重合体(B)として実施例/と、%方法でスチレンとダ
ービニル安息香酸のt−ブチルエステルからのブロック
ポリマーを加水分解して、A−B−A(A:ポリダービ
ニル安息香酸Mn/ r、 000.8:ポリスチレン
Mn30.000)ブロックポリマーを用い、重合体(
A、)として両末端にアミノ酸を有する分子量1ooo
のポリエチレンオキサイド(PEoアミン)を用いて微
多孔質膜を得た。
ービニル安息香酸のt−ブチルエステルからのブロック
ポリマーを加水分解して、A−B−A(A:ポリダービ
ニル安息香酸Mn/ r、 000.8:ポリスチレン
Mn30.000)ブロックポリマーを用い、重合体(
A、)として両末端にアミノ酸を有する分子量1ooo
のポリエチレンオキサイド(PEoアミン)を用いて微
多孔質膜を得た。
等量の重合体(A)、(B)をTHF/メタノール(/
θ//、v/v)の混合溶媒に溶解して70重量X溶液
を調製し、実施例/と同様にしてキャストフィルムを得
た。次にこのフィルムを塩酸酸性のメタノールで洗浄し
た後、フィルムの表面を、SEMにより観察したところ
ラメラ状の空孔が認められた。
θ//、v/v)の混合溶媒に溶解して70重量X溶液
を調製し、実施例/と同様にしてキャストフィルムを得
た。次にこのフィルムを塩酸酸性のメタノールで洗浄し
た後、フィルムの表面を、SEMにより観察したところ
ラメラ状の空孔が認められた。
本発明の方法によれば抽出成分の分子量、種類及び量等
により微多孔膜の穴の大きさを制御することが可能であ
り、また穴の表面に特定の官能基を有するので、種々の
分離膜やセンサーまたイオン交換樹脂等として有用であ
る。
により微多孔膜の穴の大きさを制御することが可能であ
り、また穴の表面に特定の官能基を有するので、種々の
分離膜やセンサーまたイオン交換樹脂等として有用であ
る。
第1図は本発明の実施例/で得られたブロックポリマー
のIRチャート図である。 第2図は本発明の実施例/で得られたブロックポリマー
のNMRチャート図である。 図中a + a’は脱保護基を行なう前のものであり、
b、b’は脱保護基を行なった後のものである。 呂願人 三菱化成株式会社 代理人 弁理士 長谷用 − ほか/名
のIRチャート図である。 第2図は本発明の実施例/で得られたブロックポリマー
のNMRチャート図である。 図中a + a’は脱保護基を行なう前のものであり、
b、b’は脱保護基を行なった後のものである。 呂願人 三菱化成株式会社 代理人 弁理士 長谷用 − ほか/名
Claims (1)
- (1)分子両末端にイオン結合可能な官能基(a)を有
する重合体(A)、および上記官能基(a)とイオン結
合可能な官能基(b)を有する重合体(B)の重合体混
合物の有機溶媒溶液を製膜して、得られた膜を塩基性ま
たは酸性溶液に浸漬し上記重合体の一方を抽出除去する
ことを特徴とする微多孔質膜の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9984889A JPH02279741A (ja) | 1989-04-19 | 1989-04-19 | 微多孔質膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9984889A JPH02279741A (ja) | 1989-04-19 | 1989-04-19 | 微多孔質膜の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02279741A true JPH02279741A (ja) | 1990-11-15 |
Family
ID=14258222
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9984889A Pending JPH02279741A (ja) | 1989-04-19 | 1989-04-19 | 微多孔質膜の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02279741A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6565764B2 (en) | 2000-08-11 | 2003-05-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing a material having a fine structure |
WO2008084778A1 (ja) | 2007-01-11 | 2008-07-17 | Nitto Denko Corporation | 高分子微多孔体の製造方法ならびに高分子微多孔体および分離膜 |
KR101014000B1 (ko) * | 2008-08-14 | 2011-02-14 | (주) 시온텍 | 폴리스티렌 수지 또는 그 유도체들을 이용한 전극용 이온교환용액 조성물 제조 및 이를 포함한 이온교환막의 제조방법 |
-
1989
- 1989-04-19 JP JP9984889A patent/JPH02279741A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6565764B2 (en) | 2000-08-11 | 2003-05-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing a material having a fine structure |
WO2008084778A1 (ja) | 2007-01-11 | 2008-07-17 | Nitto Denko Corporation | 高分子微多孔体の製造方法ならびに高分子微多孔体および分離膜 |
JP2008189910A (ja) * | 2007-01-11 | 2008-08-21 | Nitto Denko Corp | 高分子微多孔体の製造方法ならびに高分子微多孔体および分離膜 |
US8338534B2 (en) | 2007-01-11 | 2012-12-25 | Nitto Denko Corporation | Process for producing microporous polymeric object, and microporous polymeric object and separation membrane |
US8357754B2 (en) | 2007-01-11 | 2013-01-22 | Nitto Denko Corporation | Process for producing microporous polymeric object, and microporous polymeric object and separation membrane |
KR101014000B1 (ko) * | 2008-08-14 | 2011-02-14 | (주) 시온텍 | 폴리스티렌 수지 또는 그 유도체들을 이용한 전극용 이온교환용액 조성물 제조 및 이를 포함한 이온교환막의 제조방법 |
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