JPH02261900A - 半導体ウエファ等のクリーニング用溶剤組成物およびそのクリーニング方法 - Google Patents
半導体ウエファ等のクリーニング用溶剤組成物およびそのクリーニング方法Info
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- JPH02261900A JPH02261900A JP7441289A JP7441289A JPH02261900A JP H02261900 A JPH02261900 A JP H02261900A JP 7441289 A JP7441289 A JP 7441289A JP 7441289 A JP7441289 A JP 7441289A JP H02261900 A JPH02261900 A JP H02261900A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5004—Organic solvents
- C11D7/5018—Halogenated solvents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はシリコンウェファのクリーニングおよび乾燥に
特に有効な改良された溶剤組成物に関する。
特に有効な改良された溶剤組成物に関する。
集積回路の製造において、シリコン金属で形成され複雑
な回路がエツチングされた「チップ」は必須の部品であ
る。シリコンウェファは単一のシリコン結晶から注意深
く切取られる。このシリコンウェファはその径が約5■
である。ウェファは加工中にごみやほこりやグリース等
で汚染されるので、最終的な「チップ」にさらに加工す
る前に注意深くクリーニングしなければならない。
な回路がエツチングされた「チップ」は必須の部品であ
る。シリコンウェファは単一のシリコン結晶から注意深
く切取られる。このシリコンウェファはその径が約5■
である。ウェファは加工中にごみやほこりやグリース等
で汚染されるので、最終的な「チップ」にさらに加工す
る前に注意深くクリーニングしなければならない。
半導体工業において、ウェファは多くの工程にかけた後
に水洗し、注意深くクリーニングした後、製造工程を続
ける前に乾燥する。現在シリコンウェファは「ボート」
と呼ばれる装置に載置し脱イオン水に浸漬するか脱イオ
ン水を噴霧する。次いでボートを高速遠心分H機に入れ
てウェファを遠心分離により乾燥する。最近の技術によ
れば乾燥剤としてイソプロピルアルコールを使用する蒸
気乾燥機を使用している。しかしこの方法は、たとえば
1力月という期間で見ると、無視できない量の無駄を生
じ、また無視できない火災の危険をはらんでいる。
に水洗し、注意深くクリーニングした後、製造工程を続
ける前に乾燥する。現在シリコンウェファは「ボート」
と呼ばれる装置に載置し脱イオン水に浸漬するか脱イオ
ン水を噴霧する。次いでボートを高速遠心分H機に入れ
てウェファを遠心分離により乾燥する。最近の技術によ
れば乾燥剤としてイソプロピルアルコールを使用する蒸
気乾燥機を使用している。しかしこの方法は、たとえば
1力月という期間で見ると、無視できない量の無駄を生
じ、また無視できない火災の危険をはらんでいる。
したがって、簡単に回収し再使用することが可能で優れ
たクリーニング特性を有し、約40〜120℃の範囲内
の好都合な沸点を有し、かつ引火点が高いかあるいはま
ったくない溶剤系を開発することが望まれていた。これ
らの条件は、フルオルカーボア (f 1uoroca
rbon)またはクロルフルオルカーボン(chlor
ofluorocarbon)と部分的にフッ素化した
アルコールの混合物である溶剤組成物によって満される
ことが判明した。この系は、アルコールの成約性質が優
れたクリーニング作用をもたらし、かつフルオルカーボ
ンまたはクロルフルオルカーボンがいっさいの残渣を残
さないでウェファを乾燥させることに寄与する点で、特
にシリコンウェファのクリーニング用としてユニークな
ものである。溶剤の蒸気は回収し、凝縮し再使用するこ
とができる。
たクリーニング特性を有し、約40〜120℃の範囲内
の好都合な沸点を有し、かつ引火点が高いかあるいはま
ったくない溶剤系を開発することが望まれていた。これ
らの条件は、フルオルカーボア (f 1uoroca
rbon)またはクロルフルオルカーボン(chlor
ofluorocarbon)と部分的にフッ素化した
アルコールの混合物である溶剤組成物によって満される
ことが判明した。この系は、アルコールの成約性質が優
れたクリーニング作用をもたらし、かつフルオルカーボ
ンまたはクロルフルオルカーボンがいっさいの残渣を残
さないでウェファを乾燥させることに寄与する点で、特
にシリコンウェファのクリーニング用としてユニークな
ものである。溶剤の蒸気は回収し、凝縮し再使用するこ
とができる。
本発明の組成物は、ウェファをボートまたは高温蒸気系
で洗浄した後溶剤を揮発させるために充分な温度で加熱
する通常の方法で使用することができる。
で洗浄した後溶剤を揮発させるために充分な温度で加熱
する通常の方法で使用することができる。
参考文献として日本国特開昭61−255977号およ
び特開昭58−122980号を挙げる。
び特開昭58−122980号を挙げる。
特開昭61−255977号は炭化水素(たとえばメタ
ン、エタン、プロパン、n−ブタン、イソブタン、n−
ペンタン、イソペンタン、n−ヘキサンまたはn−へブ
タン)、アルコールたとえばメタノール、エタノール、
2,2.2−トリフルオルエタノールまたは2,2,3
,3.3−ペンタフルオルプロパノール、フッ素化アル
コールと水またはアンモニアの混合物4−80ベルフル
オルアルカン、またはフレオン、CHCj F とC
HF −CH3のアゼオトローグ混合物またはCHC
J! F2とCCJ FCF のアゼオドロー1混合
物等の作業媒体を熱的に安定化する。この作業媒体には
ホスフィン硫化物およびグリシジルエーテルおよび選択
的に潤滑油が添加される。この組成物は鋼、アルミニウ
ム、アルミニウム合金または黄銅を処理するなめに使用
される。
ン、エタン、プロパン、n−ブタン、イソブタン、n−
ペンタン、イソペンタン、n−ヘキサンまたはn−へブ
タン)、アルコールたとえばメタノール、エタノール、
2,2.2−トリフルオルエタノールまたは2,2,3
,3.3−ペンタフルオルプロパノール、フッ素化アル
コールと水またはアンモニアの混合物4−80ベルフル
オルアルカン、またはフレオン、CHCj F とC
HF −CH3のアゼオトローグ混合物またはCHC
J! F2とCCJ FCF のアゼオドロー1混合
物等の作業媒体を熱的に安定化する。この作業媒体には
ホスフィン硫化物およびグリシジルエーテルおよび選択
的に潤滑油が添加される。この組成物は鋼、アルミニウ
ム、アルミニウム合金または黄銅を処理するなめに使用
される。
特開昭58−122980号は蒸発部および凝縮部を有
する閉鎖流体循環系の熱伝達装置で使用される処理流体
を開示している。この処理流体はトリフルオルエタノー
ルで構成され最大15%までの水を含有する。使用され
る流体は水、エタノール、フレオン、水銀、セシウム、
ペンタンおよびヘプタンを含む。
する閉鎖流体循環系の熱伝達装置で使用される処理流体
を開示している。この処理流体はトリフルオルエタノー
ルで構成され最大15%までの水を含有する。使用され
る流体は水、エタノール、フレオン、水銀、セシウム、
ペンタンおよびヘプタンを含む。
これらの組成物はいずれも本発明とは異る目的のために
異る方法で使用されるものである。
異る方法で使用されるものである。
簡潔に述べると、本発明は、特にシリコンウェファをク
リーニングし乾燥するために特に有効な非水系溶剤組成
物に関する。この溶剤は(a)炭素原子1ないし12を
含むハロアルキル炭化水素約30重量部ないし約90重
量部および(b)炭素原子2ないし4を含む部分的にフ
ッ素化したアルコール約10重量部ないし約70重量部
を必須成分として含む。通常成分(a)と成分(b)の
合計は100部である。ただし溶剤の意図する目的を達
成するための溶剤の能力に悪影響を与えない限り、非有
意量の他の揮発性成分を含んでいてもよい。
リーニングし乾燥するために特に有効な非水系溶剤組成
物に関する。この溶剤は(a)炭素原子1ないし12を
含むハロアルキル炭化水素約30重量部ないし約90重
量部および(b)炭素原子2ないし4を含む部分的にフ
ッ素化したアルコール約10重量部ないし約70重量部
を必須成分として含む。通常成分(a)と成分(b)の
合計は100部である。ただし溶剤の意図する目的を達
成するための溶剤の能力に悪影響を与えない限り、非有
意量の他の揮発性成分を含んでいてもよい。
このような他の成分の量は通常100部中5部未満であ
り、好ましくは100部中0.1部未満である。
り、好ましくは100部中0.1部未満である。
また本発明によれば、半導体ウェファをクリーニングし
乾燥する方法であって、ウェファを(a)炭素原子5な
いし12を含むハロアルキル炭化水素約30重量部ない
し約90重量部および(b)炭素原子2ないし4を含む
部分的にフッ素化したアルコール約10重量部ないし約
70!!量部を必須成分として含み、成分(a)と成分
(b)の合計が約100重量部である溶剤で洗浄する工
程と、該溶剤で被覆したウェファを該溶剤を揮発させる
なめに充分な温度で加熱する工程を含む方法が提供され
る。
乾燥する方法であって、ウェファを(a)炭素原子5な
いし12を含むハロアルキル炭化水素約30重量部ない
し約90重量部および(b)炭素原子2ないし4を含む
部分的にフッ素化したアルコール約10重量部ないし約
70!!量部を必須成分として含み、成分(a)と成分
(b)の合計が約100重量部である溶剤で洗浄する工
程と、該溶剤で被覆したウェファを該溶剤を揮発させる
なめに充分な温度で加熱する工程を含む方法が提供され
る。
上記のとおり、本発明の溶剤組成物は必須の2成分を含
んでいる。その中の一つく以下成分(a)という)は炭
素原子1ないし12を含むハロアルキル炭化水素である
。はとんどの目的のために、ハロアルキル炭化水素は過
ハロゲン化されている。
んでいる。その中の一つく以下成分(a)という)は炭
素原子1ないし12を含むハロアルキル炭化水素である
。はとんどの目的のために、ハロアルキル炭化水素は過
ハロゲン化されている。
すなわち、その水素原子はすべてハロゲン、好ましくは
フッ素および/または塩素で置換されている。したがっ
て、本発明においては混合フルオルクロル炭化水素が考
えられている。
フッ素および/または塩素で置換されている。したがっ
て、本発明においては混合フルオルクロル炭化水素が考
えられている。
第2の必須成分(以下成分(b)という)は、比較的に
低分子量の炭素原子2ないし4を含む部分的にフッ素化
したアルコールである。このアルコールは元素として炭
素、水素、フッ素および酸素のみを含んでいる。
低分子量の炭素原子2ないし4を含む部分的にフッ素化
したアルコールである。このアルコールは元素として炭
素、水素、フッ素および酸素のみを含んでいる。
成分(a)は本発明の溶剤100部中約30重量部ない
し約90重量部を占める。成分(a)は後記の実施例に
見られるように50%未満の場合もあるが、はとんどの
目的上成分(a)は50%以上を占める成分である。
し約90重量部を占める。成分(a)は後記の実施例に
見られるように50%未満の場合もあるが、はとんどの
目的上成分(a)は50%以上を占める成分である。
成分(b)は本発明の溶剤組成物のクリーニング作用に
主として寄与する成分である。成分(b)は溶剤100
部中約10重量部ないし約70重量部を占める。成分(
b)は後記の実施例に見られるように50%以上を占め
る場合もあるがほとんどの目的上成分(b)は50%未
満である。
主として寄与する成分である。成分(b)は溶剤100
部中約10重量部ないし約70重量部を占める。成分(
b)は後記の実施例に見られるように50%以上を占め
る場合もあるがほとんどの目的上成分(b)は50%未
満である。
各成分(a) 、 (b)は通常は、また好ましくは、
それぞれ単一の化合物である。しかし成分(a)の構成
成分の条件を充す2種以上の物質および成分(b)の構
成成分の条件を充す2種以上の物質を単一化合物のかわ
りに使用することができる。したがって本発明の溶剤組
成物は、好ましい(a)。
それぞれ単一の化合物である。しかし成分(a)の構成
成分の条件を充す2種以上の物質および成分(b)の構
成成分の条件を充す2種以上の物質を単一化合物のかわ
りに使用することができる。したがって本発明の溶剤組
成物は、好ましい(a)。
(b)の組合せは勿論、(a) 、 (a’ ) 、
(b)の組合せ、(a) 、 (a′) 、 (b)
、 (b” )の組合せ、(a)(b) 、 (b′)
の組合せく(′)は同一種類の他の成分)とすることが
できる。
(b)の組合せ、(a) 、 (a′) 、 (b)
、 (b” )の組合せ、(a)(b) 、 (b′)
の組合せく(′)は同一種類の他の成分)とすることが
できる。
(a)と(b)の組成物は生成時に約5重量部を超えな
い水分を吸収することがある。この程度の非有意量の水
分は本発明の組成物に対して不利な影響を及ぼすことは
なく、したがって、特に推奨することではないが、使用
前に溶剤100部あたり1部または2部までの水分を加
えてもよい。本組成物は最初は非水性であることが好ま
しい、極く小量すなわち100重量部あたり約5部未満
の量で、低沸点アルコール、エーテル、ケトン、エステ
ル等の他の成分を含ませることもできる。
い水分を吸収することがある。この程度の非有意量の水
分は本発明の組成物に対して不利な影響を及ぼすことは
なく、したがって、特に推奨することではないが、使用
前に溶剤100部あたり1部または2部までの水分を加
えてもよい。本組成物は最初は非水性であることが好ま
しい、極く小量すなわち100重量部あたり約5部未満
の量で、低沸点アルコール、エーテル、ケトン、エステ
ル等の他の成分を含ませることもできる。
成分(a) 、 (b)はそれぞれフッ素を含有するこ
とが好ましい。したがって成分(a)は一般式%式% (ただしnは1から12までの整数、×は0から2nま
での数を示す) で表すことができる。好ましくはnは2ないし6、Xは
好ましくは0ないし4である。
とが好ましい。したがって成分(a)は一般式%式% (ただしnは1から12までの整数、×は0から2nま
での数を示す) で表すことができる。好ましくはnは2ないし6、Xは
好ましくは0ないし4である。
成分(a)の具体例は次のものを含むがこれに限定され
るものではない。
るものではない。
トリクロルフルオルメタン
ジクロルジフルオルメタン
クロルトリフルオルメタン
テトラフルオルメタン
1.1,2.2−テトラクロル−1,2−ジフルオルエ
タン1.1.2−トリクロル−L2,2−トリフルオル
エタン1.2−ジクロル−1,1,2,2−テトラフル
オルエタンクロルペンタフルオルエタン ヘキサフルオルエタン 1.1,1.3−テトラクロル−2,2,3,3−テト
ラフルオルメタン(ン 1.1.1−トリクロル−2,2,3,3,3−ペンタ
フルオルプロパン オクタフルオルプロパン 1.1,1.2−テトラクロル−ベルフルオルブタン1
.1−ジクロルデカフルオルペンタン1.1.1−トリ
クロルウンデカフルオルヘキサンドデカフルオルシクロ
ヘキサン テトラデカフルオロヘキサン ペルフルオルヘプタン ペルフルオルヘキサン ベルフルオルオクタン ベルフルオルデカン ペルフルオルドデカン 部分的にフッ素化したアルコールの具体例は炭素、フッ
素およびOH基の一部としての酸素を含み、たとえば次
のものを含む。
タン1.1.2−トリクロル−L2,2−トリフルオル
エタン1.2−ジクロル−1,1,2,2−テトラフル
オルエタンクロルペンタフルオルエタン ヘキサフルオルエタン 1.1,1.3−テトラクロル−2,2,3,3−テト
ラフルオルメタン(ン 1.1.1−トリクロル−2,2,3,3,3−ペンタ
フルオルプロパン オクタフルオルプロパン 1.1,1.2−テトラクロル−ベルフルオルブタン1
.1−ジクロルデカフルオルペンタン1.1.1−トリ
クロルウンデカフルオルヘキサンドデカフルオルシクロ
ヘキサン テトラデカフルオロヘキサン ペルフルオルヘプタン ペルフルオルヘキサン ベルフルオルオクタン ベルフルオルデカン ペルフルオルドデカン 部分的にフッ素化したアルコールの具体例は炭素、フッ
素およびOH基の一部としての酸素を含み、たとえば次
のものを含む。
トリフルオルエタノール
3、3.3−トリフルオルプロパノール4.4.4−ト
リフルオルブタノール 2−モノフルオルエタノール 2.3,3.3−テトラフルオルプロパノール2.2,
3.3−テトラフルオルプロパノール4−フルオルブタ
ノール 2.2−ジフルオルエタノール 3.3−ジフルオルブロバノール 3.3−ジフルオルプロパノール 3−モノフルオルプロパツール 2.2,3,3.3−ペンタフルオルプロパノール上記
のとおり、本発明の溶剤組成物を形成するため、成分(
a) 、 (b)は単に混合される。このような溶剤の
典型的な例は次のとおりである。
リフルオルブタノール 2−モノフルオルエタノール 2.3,3.3−テトラフルオルプロパノール2.2,
3.3−テトラフルオルプロパノール4−フルオルブタ
ノール 2.2−ジフルオルエタノール 3.3−ジフルオルブロバノール 3.3−ジフルオルプロパノール 3−モノフルオルプロパツール 2.2,3,3.3−ペンタフルオルプロパノール上記
のとおり、本発明の溶剤組成物を形成するため、成分(
a) 、 (b)は単に混合される。このような溶剤の
典型的な例は次のとおりである。
実施例1
ペルフルオルヘプタン 70部トリフルオル
エタノール 30部実施例2 1.1.2−トリクロル−1,2,2−トリフルオルエ
タン30部 トリフルオルエタノール 70部実施例3 1.1.2−)リクロルー1.2.2−トリフルオルエ
タン50部 トリフルオルエタノール 50部実施例4 1.1.2−トリクロル−1,2,2−トリフルオルエ
タン90部 トリフルオルエタノール 10部実施例5 テトラクロルベルフルオルブタン 3,3.3−トリフルオルプロパノール実施例6 テトラクロルベルフルオルブタン トリフルオルエタノール 実施例7 テトラクロルベルフルオルブタン トリフルオルエタノール 実施例8 ペルフルオルヘキサン 3.3.3−トリフルオルプロパノール実施例9 ペルフルオルヘキサン テトラフルオルプロパノール 実施例10 ペルフルオルヘキサン トリフルオルエタノール 実施例11 ベルフルオルデカン トリフルオルエタノール 30部 70部 60部 40部 90部 10部 70部 30部 45部 55部 10部 90部 60部 40部 実施例12 ペルフルオルヘプタン 70部トリフルオル
エタノール 20部3.3.3−トリフルオル
プロパノール10部 実施例13 ペルフルオルヘプタン 35部ペルフルオル
ヘキサン 35部トリフルオルエタノール
30部実施例14 テトラクロルベルフルオルブタン 25部ペルフルオル
ヘキサン 25部3、3.3−トリフルオル
プロパノール 20部トリフルオルエタノール
30部実施例15 トリフルオルエチルトリフルオルアセテート0〜5部 ペルフルオルヘプタン 70部トリフルオル
エタノール 30部実施例16 ペルフルオルヘプタン 70部2.2,3.
3−テトラフルオルプロパノール30部 実施例17 ペルフルオルヘプタン 80部2.2,3.
33−ペンタフルオルプロパノール20部 上記実施例は本発明の組成物を組成する方法を例示する
ものである。各成分は一般に互いに相互溶剤であるから
、各成分を適当な比率で混合するなめになんら特別の技
術を要しない。本発明の組成物は一般に安定であるが、
必要な場合は成分の溶解を促進するため、および使用中
の安定を維持するなめに僅かに加熱してもよい。
エタノール 30部実施例2 1.1.2−トリクロル−1,2,2−トリフルオルエ
タン30部 トリフルオルエタノール 70部実施例3 1.1.2−)リクロルー1.2.2−トリフルオルエ
タン50部 トリフルオルエタノール 50部実施例4 1.1.2−トリクロル−1,2,2−トリフルオルエ
タン90部 トリフルオルエタノール 10部実施例5 テトラクロルベルフルオルブタン 3,3.3−トリフルオルプロパノール実施例6 テトラクロルベルフルオルブタン トリフルオルエタノール 実施例7 テトラクロルベルフルオルブタン トリフルオルエタノール 実施例8 ペルフルオルヘキサン 3.3.3−トリフルオルプロパノール実施例9 ペルフルオルヘキサン テトラフルオルプロパノール 実施例10 ペルフルオルヘキサン トリフルオルエタノール 実施例11 ベルフルオルデカン トリフルオルエタノール 30部 70部 60部 40部 90部 10部 70部 30部 45部 55部 10部 90部 60部 40部 実施例12 ペルフルオルヘプタン 70部トリフルオル
エタノール 20部3.3.3−トリフルオル
プロパノール10部 実施例13 ペルフルオルヘプタン 35部ペルフルオル
ヘキサン 35部トリフルオルエタノール
30部実施例14 テトラクロルベルフルオルブタン 25部ペルフルオル
ヘキサン 25部3、3.3−トリフルオル
プロパノール 20部トリフルオルエタノール
30部実施例15 トリフルオルエチルトリフルオルアセテート0〜5部 ペルフルオルヘプタン 70部トリフルオル
エタノール 30部実施例16 ペルフルオルヘプタン 70部2.2,3.
3−テトラフルオルプロパノール30部 実施例17 ペルフルオルヘプタン 80部2.2,3.
33−ペンタフルオルプロパノール20部 上記実施例は本発明の組成物を組成する方法を例示する
ものである。各成分は一般に互いに相互溶剤であるから
、各成分を適当な比率で混合するなめになんら特別の技
術を要しない。本発明の組成物は一般に安定であるが、
必要な場合は成分の溶解を促進するため、および使用中
の安定を維持するなめに僅かに加熱してもよい。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)炭素原子5ないし12を含む過ハロゲン化ハ
ロアルキル炭化水素約30重量部ないし約90重量部お
よび(b)炭素原子2ないし4を含む部分的にフッ素化
したアルコール約10重量部ないし約70重量部を必須
成分として含み、成分(a)と成分(b)の合計が約1
00重量部であることを特徴とするシリコンウエファの
クリーニング用として有効な溶剤組成物。 2、使用時に水を含まない請求項1記載の組成物。 3、溶剤組成物が40〜120℃の範囲の沸点を有する
請求項1記載の溶剤組成物。 4、成分(a)はフルオルアルキル炭化水素である請求
項1記載の溶剤組成物。 5、成分(a)はフルオルクロルアルキル炭化水素であ
る請求項1記載の溶剤組成物。 6、該フルオルアルキル炭化水素はペルフルオルヘプタ
ンである請求項4記載の溶剤組成物。 7、該フルオルアルキル炭化水素はペルフルオルヘキサ
ンである請求項4記載の溶剤組成物。 8、該部分的にフッ素化したアルコールはトリフルオル
エタノールである請求項1記載の溶剤組成物。 9、該部分的にフッ素化したアルコールは3,3,3−
トリフルオルプロパノールである請求項1記載の溶剤組
成物。 10、該部分的にフッ素化したアルコールは2,2,3
,3,3−ペンタフルオルプロパノールである請求項1
記載の溶剤組成物。 11、該部分的にフッ素化したアルコールは部分的にフ
ッ素化したn−ブタノールである請求項1記載の溶剤組
成物。 12、成分(a)はペルフルオルヘキサンであり成分(
b)は、3,3,3−トリフルオルプロパノールである
請求項1記載の溶剤組成物。 13、(a)ペルフルオルヘプタン70部および(b)
トリフルオルエタノール30部からなる請求項1記載の
溶剤組成物。 14、(a)ペルフルオルヘキサン30部および(b)
部分的にフッ素化したn−プロパノール70部からなる
請求項1記載の溶剤組成物。 15、該部分的にフッ素化したアルコールは2,2,3
,3−テトラフルオルプロパノールである請求項1記載
の溶剤組成物。 16、成分(a)はペルフルオルドデカンである請求項
1記載の溶剤組成物。 17、半導体ウエファをクリーニングし乾燥する方法で
あって、ウエファを(a)炭素原子5ないし12を含む
ハロアルキル炭化水素約30重量部ないし約90重量部
および(b)炭素原子2ないし4を含む部分的にフッ素
化したアルコール約10重量部ないし約70重量部を必
須成分として含み、成分(a)と成分(b)の合計が約
100重量部である溶剤で洗浄する工程と、該溶剤で被
覆したウエファを該溶剤を揮発させるために充分な温度
で加熱する工程を含むことを特徴とする方法。 18、ペルフルオルヘプタン約30重量部ないし約90
重量部およびトリフルオルエタノール約10重量部ない
し約70重量部からなり、該両成分の合計が約100重
量部であることを特徴とする溶剤組成物。 19、該洗浄工程を高温蒸気系中で行う請求項17記載
の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7441289A JPH02261900A (ja) | 1989-03-27 | 1989-03-27 | 半導体ウエファ等のクリーニング用溶剤組成物およびそのクリーニング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7441289A JPH02261900A (ja) | 1989-03-27 | 1989-03-27 | 半導体ウエファ等のクリーニング用溶剤組成物およびそのクリーニング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02261900A true JPH02261900A (ja) | 1990-10-24 |
Family
ID=13546455
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7441289A Pending JPH02261900A (ja) | 1989-03-27 | 1989-03-27 | 半導体ウエファ等のクリーニング用溶剤組成物およびそのクリーニング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02261900A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004000987A1 (ja) * | 2002-06-19 | 2003-12-31 | Asahi Glass Company, Limited | 有機el素子製造用蒸着装置のチャンバーの洗浄方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58204100A (ja) * | 1982-05-24 | 1983-11-28 | ダイキン工業株式会社 | 表面清浄化用組成物 |
JPS59157196A (ja) * | 1983-02-28 | 1984-09-06 | ダイキン工業株式会社 | 固定用ワックスの除去方法 |
JPS62234530A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-10-14 | カリ−ヒエミ−・アクチエンゲゼルシヤフト | 溶剤混合物 |
JPS62260898A (ja) * | 1986-04-25 | 1987-11-13 | ダイキン工業株式会社 | 共沸溶剤組成物 |
JPS62260896A (ja) * | 1986-04-25 | 1987-11-13 | ダイキン工業株式会社 | 共沸溶剤組成物 |
JPS63162800A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-06 | セントラル硝子株式会社 | 共沸溶剤組成物 |
-
1989
- 1989-03-27 JP JP7441289A patent/JPH02261900A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS62260896A (ja) * | 1986-04-25 | 1987-11-13 | ダイキン工業株式会社 | 共沸溶剤組成物 |
JPS63162800A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-06 | セントラル硝子株式会社 | 共沸溶剤組成物 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004000987A1 (ja) * | 2002-06-19 | 2003-12-31 | Asahi Glass Company, Limited | 有機el素子製造用蒸着装置のチャンバーの洗浄方法 |
US7037380B2 (en) | 2002-06-19 | 2006-05-02 | Asahi Glass Company, Limited | Method for cleaning chamber of deposition apparatus for organic EL device production |
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