JPH02244752A - 半導体集積回路の静電気保護回路 - Google Patents

半導体集積回路の静電気保護回路

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JPH02244752A
JPH02244752A JP6391989A JP6391989A JPH02244752A JP H02244752 A JPH02244752 A JP H02244752A JP 6391989 A JP6391989 A JP 6391989A JP 6391989 A JP6391989 A JP 6391989A JP H02244752 A JPH02244752 A JP H02244752A
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bipolar transistor
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static electricity
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JP6391989A
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Motoo Nakano
元雄 中野
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 半導体集積回路に発生する静電気を放電させる効果が大
きくなるように改良された半導体集積回路の静電気保護
回路に関し、 半導体集積回路に於ける端子に加わる静電気の極性の如
何に拘わらず、高い耐電圧を示す半導体集積回路保護素
子を得ることを目的とし、コレクタが入出力端子に且つ
エミッタが接地端子にそれぞれ接続されたバイポーラ・
トランジスタと、該バイポーラ・トランジスタのベース
と前記入出力端子との間に該ベースに向かって逆方向と
なる向きに挿入されたブレーク・ダウン素子と、前記バ
イポーラ・トランジスタのベースと前記接地端子との間
に挿入された抵抗とを備えるか、或いは、コレクタが電
源端子に且つエミッタが入出力端子にそれぞれ接続され
たバイポーラ・トランジスタと、該バイポーラ・トラン
ジスタのベースと前記電源端子との間に該ベースに向か
って逆方向となる向きに挿入されたブレーク・ダウン素
子とを備えるよう構成する。
[産業上の利用分野〕 本発明は、半導体集積回路に発生する静電気を放電させ
る効果が大きくなるように改良された半導体集積回路の
静電気保護回路に関する。
現在、半導体集積回路は産業機器や民生機器への使用が
急速に増加しつつあり、今後もこの傾向は変わらないと
考えられる。
これに伴い、半導体集積回路の使用環境は更に悪化する
ことが予想され、既に、その兆しは見え始めている。
その使用環境に依る問題の一つに静電破壊が挙げられ、
それについては従来から種々の対策が考えられ且つ実施
されてきた。例えば半導体集積回路の入出力部分に保護
素子を形成し、静電気を該保護素子を介して放電させ、
内部の諸素子には影響を与えないようにすることが行わ
れているが、その効果については、未だ充分とは言えな
い状態にある。
〔従来の技術〕
第7図は保護素子が組み込まれた半導体集積回路の従来
例を解説する為の要部回路説明図を表している。
図に於いて、TVDは電源端子、TIOは入出力端子、
’Tvsは接地端子、Ql及びQ2は保護素子、Qr、
oは被保護素子をそれぞれ示している。
図示例では、半導体集積回路の内部素子である被保護素
子QGI)と入出力端子TIOとの間にバイポーラ・ト
ランジスタである保護素子Q1及びQ2を挿入し、入出
力端子TIoから侵入する静電気を電源配線或いは接地
配線に放電させることで被保護素子QG5の破壊を防い
でいる。
通常、静電気が半導体集積回路の数ある端子のうちのど
れに加わるかは全く予測できないので、加わった静電気
をその都度適切な放電経路を選択して放電させることは
実際上不可能である。従って、一般には、放電光として
電源配線或いは接地配線を採用している。この再配線は
、半導体集積回路の内部では比較的大きな静電容量を有
していることから溜池のような役割を果たすことができ
る。そこで、この再配線に放電することで入出力端子の
電圧は大幅に低下し、被保護素子の静電気に依る破壊は
回避される。
一般に、保護素子Q1及びQ2をバイポーラ・トランジ
スタとし、それを例えば入出力端子TIOと接地端子’
rvsとの間に挿入する場合(図示例では保護素子Q2
)、コレクタは入出力端子TIGに接続し、ベースは抵
抗R2を介して接地端子T”vsに接続し、エミッタは
接地端子’r”vsに直接接続する。尚、ここでは、バ
イポーラ・トランジスタの導電型がnpnであるが、p
npであっても同様に考えることができる。
前記構成の回路に於ける入出力端子T、。と接地端子T
v!との間に極性が正である高電圧の静電気が加わった
場合の動作を解析すると次の通りである。咳高電圧は、
保護素子Q2のコレクタ・ベース間の接合に印加され、
その空乏層内に於ける電界を強める。この空乏層内の電
界が成る程度以上の場合には、空乏層内での衝突電離に
依ってキャリヤ、即ち、電子並びに正札が発生する。こ
のうち、正孔はベースに流れ込んでから抵抗R2を介し
て接地端子1.へと流れ出るのであるが、これと同時に
ベース電位を上昇させる。従って、エミッタ・ベース接
合は順方向にバイアスされるので、エミッタから電子が
注入される。その注入された電子の大部分はコレクタ・
ベース接合に流れ込んで新たな衝突電離を発生させる引
き金の働きをする。これは一種の正帰還であって、抵抗
R2を流れる電子に注入電子を加えた電子数と新たに発
生する電子数とがバランスするまで保護素子Q2を流れ
る電流は増加を続ける。このようなメカニズムでコレク
タ・ベース接合のブレーク・ダウン電圧は低下し、単な
るダイオードだけの場合よりも短時間で静電気を放電さ
せることができる。
また、前記した回路に於いて、例えば保護素子Q2のベ
ースと接地端子T”vsとの間に挿入されている抵抗R
2を除去し、ベースを直接接地することも行われている
。この場合には、ベースそのものがもつ内部抵抗が抵抗
R2の役割を果たし、効果としては不充分であるが、前
記同様のメカニズムに依る放電動作を期待できる。
〔発明が解決しようとする課題〕
前記説明した保護素子の動作メカニズムは、バイポーラ
・トランジスタに於ける本来の動作メカニズムではなく
、従って、バイポーラ・トランジスタがもつ電流駆動能
力を充分に出し切っていない。従って、前記したような
動作メカニズムでは、放電能力が不足する虞がある。
ところで、近年、Bi −0MO3(b ipo 1a
r  complementary  metalox
ide  semiconductor)は、今後、半
導体集積回路として多用される趨勢にある。本発明者は
、Bi−0MO3に於ける出力端子並びに接地端子間に
第7図について説明したようなバイポーラ・トランジス
タ挿入型静電気保護回路を設けたものについて、その静
電気に対する強度(耐電圧)を測定したが、その耐電圧
は、出力端子側が正極性になった場合には負極性になっ
た場合に比較して著しく低い値であった。
その理由は、勿論、前記した保護回路の能力不足に起因
するものであり、これについて、更に詳細に記述する。
第8図は測定に用いた試験回路の要部回路説明図である
図に於いて、VPは出力電圧可変の直流電源、Cは容量
が10(pF)であるキャパシタ、Sはスイッチ、■及
び■は端子、TPは試料である半導体集積回路をそれぞ
れ示している。
この試験回路で測定を行うには、当初、スイッチSの端
子■側を閉成し、10(pF)のキャパシタCに直流電
源VPからの電圧を印加して電荷を蓄積する。次いで、
スイッチSの端子■側を閉成し、キャパシタCに蓄積さ
れている電荷を半導体集積回路TPに流し込むようにす
る。そして、この操作を直流電源■から出力される電圧
を上昇させでは繰り返し、その都度、半導体集積回路T
Pが破壊されたか否かを確認し、静電気に対する強度を
判定する。
このようにして測定を行った結果、出力端子側が負極性
となる電圧を印加した場合には2300(V)の電圧に
耐えることができたが、逆に正極性となる電圧を印加し
た場合には1700(V)になると半導体集積回路TP
は破壊された。
本発明は、半導体集積回路に於ける端子に加わる静電気
の極性の如何に拘わらず、高い耐電圧を示す半導体集積
回路の静電気保護回路を提供しようとする。
〔課題を解決するための手段〕
前記したような問題を解消する為には、異常電荷を放電
させる為に準備されているトランジスタが半導体集積回
路の入出力端子に定格電圧よりも高い電圧が加わった際
に正常な動作をするように各部分の電位を適切に設定し
てやれば良い。
第1図及び第2図は本発明に依る静電気保護回路の原理
を説明する為の要部回路説明図を表し、第7図に於いて
用いた記号と同記号は同部分を表すか或いは同じ意味を
持つものとする。
図に於いて、Qは保護素子であるバイポーラ・トランジ
スタ、Dはブレーク・ダウン素子、RBは抵抗をそれぞ
れ示している。
第1図と第2図とが相違するところは、静電気保護回路
を入出力端子Tl(lと接地端子Tvsとの間に挿入し
たか、或いは、電源端子Tvoと入出力端子T10との
間に挿入したかの点のみである。
第1図に見られる静電気保護回路に於いては、バイポー
ラ・トランジスタQのコレクタを入出力端子TIOに、
そして、エミッタを接地端子Tv!にそれぞれ接続して
あり、また、入出力端子T、。とバイポーラ・トランジ
スタQのベースとの間には定格電圧以上の電圧が加わる
と電流が流れるブレーク・ダウン素子りをベースに向か
って逆方向動作となる向きに接続し、更にまた、バイポ
ーラ・トランジスタQのベースと接地端子T1.との間
には抵抗RBを接続しである。
第2図に見られる静電気保護回路に於いては、バイポー
ラ・トランジスタQのコレクタを電源端子TvI、に、
そして、エミッタを入出力端子T1oにそれぞれ接続し
てあり、また、電源端子’T”vnとバイポーラ・トラ
ンジスタQのベースとの間に前記と同様なブレーク・ダ
ウン素子りをベースに向かって逆方向動作となる向きに
接続し、更にまた、バイポーラ・トランジスタQのベー
スと入出力端子Tloとの間には抵抗RBを接続しであ
る。
第1図並びに第2図に見られる静電気保護回路とを合体
、即ち、入出力端子T、。と接地端子T’vsとの間、
及び、電源端子T%l+1と入出力端子TIOとの間に
それぞれ静電気保護回路を挿入しても良いことは勿論で
あり、また、ブレーク・ダウン素子りの数を適切に選択
してブレーク・ダウン電圧を所望の値に制御することが
できる。
このようなことから、本発明に依る半導体集積回路の静
電気保護回路では、コレクタが入出力端子(例えば入出
力端子T + o )に且つエミッタが接地端子(例え
ば接地端子Tvs)にそれぞれ接続されたバイポーラ・
トランジスタ(例えばバイポーラ・トランジスタQ)と
、コ亥バイポーラ・トランジスタのベースと前記入出力
端子との間に酸ベースに向かって逆方向となる向きに挿
入されたブレーク・ダウン素子(例えばブレーク・ダウ
ン素子D)と、前記バイポーラ・トランジスタのベース
と前記接地端子との間に挿入された抵抗(例えば抵抗R
B)とを備えるか、或いは、コレクタが電源端子(例え
ば電源端子TvD)に且つエミッタが入出力端子にそれ
ぞれ接続されたバイポーラ・トランジスタと、該バイポ
ーラ・トランジスタのベースと前記電源端子との間に該
ベースに向かって逆方向となる向きに挿入されたブレー
ク・ダウン素子と、前記バイポーラ・トランジスタのベ
ースと前記入出力端子との間に挿入された抵抗とを備え
るか、或いは、前記した構成の全てを備えるよう構成す
る。
〔作用〕
前記手段を採ることに依り、バイポーラ・トランジスタ
Qは良好な保護動作を行うことが可能であり、これを更
に詳細に説明する。
第3図は第1図或いは第2図に見られる静電気保護回路
を動作解析し易いように具体化した要部回路説明図であ
り、第1図並びに第2図に於いて用いた記号と同記号は
同部分を表すか或いは同じ意味を持つものとする。
図に於いて、A並びにBは端子、R3は配線などが持つ
直流抵抗成分を示している。
図示の静電気保護回路に於いて、端子Bを接地した状態
で端子Aに静電気に依る電圧VAが印加されたとする。
ブレーク・ダウン素子りに加わる電圧が、そのブレーク
・ダウン電圧BVよりも高くなると、抵抗RBに電流が
流れ、ベース電位は上昇し、ベース・エミッタ接合は順
方向にバイアスされる。この回路構成では、コレクタ電
位はベース電位よりも必ずBVだけ高くなり、各バイア
ス電圧はトランジスタQをオン状態にする。即ち、トラ
ンジスタQは本来の電流駆動状態となる為、端子Aに加
わる静電気の大部分を短時間に接地端子B側へ放電する
ことができ、従って、この静電気保護回路を有する半導
体集積回路は高い静電気耐圧をもつことになる。
第4図は第3図に見られる静電気保護回路がどの程度の
電流を流し得るかを説明する為の線図を表し、横軸に電
圧Vを、また、縦軸に電流Iをそれぞれ採ってあり、第
1図乃至第3図に於いて用いた記号と同記号は同部分を
示すか或いは同じ意味を持つものとする。
図に於いて、細い実線Q′はトランジスタQの1−V特
性を示す特性線、破線R3’は抵抗R3に依って規制さ
れるI−V特性を示す特性線、Kは特性線Q′と特性線
R3’との交点である動作点、VKは交点Kに対応する
電圧、BVI及びBV2はブレーク・ダウン素子りのブ
レーク・ダウン電圧、K1はブレーク・ダウン電圧BV
Iに対応する特性線R5’上の動作点をそれぞれ示して
いる。
図から明らかであるが、ブレーク・ダウン素子りのブレ
ーク・ダウン電圧BVが電圧VKよりも高い電圧B V
’ 1である場合には動作点はKlとなり、トランジス
タQは電流駆動能力に未だ余力を残している状態にある
が先に抵抗R3に依って放電電流は規制されてしまう。
ブレーク・ダウン電圧BVが電圧VKよりも低い電圧B
V2である場合の放電電流は、まずトランジスタQに依
って規制されるが、最終的には抵抗R3に依って決まり
、動作点はKに落ち着くことになる。従って、動作点K
に対応する電流値以上に放電電流を流すことはできない
。抵抗RBを大きくしてベース電位を深くすれば、動作
点Kを上昇させることが可能である。然しなから、ブレ
ーク・ダウン電圧BVは(電源電圧+マージン)より高
くなければならないので、抵抗RBを無闇に大きくして
も、動作点はブレーク・ダウン電圧BVで決まってしま
う点に1と同様に状況で固定されてしまう。しかも、抵
抗R3には、次に説明するような規制も存在する。即ち
、端子Aに負極性の静電気が加わった際には、トランジ
スタQのコレクタ・ベース接合が順方向状態になって放
電を行うのであるが、このとき、抵抗RBは前記放電経
路に直列抵抗として挿入されてしまうので、高い放電能
力を確保するには抵抗RBの値は小さいほうが望ましい
ことになる。従って、本発明の効果を最大限に発揮する
為には、ブレーク・ダウン素子りのブレーク・ダウン電
圧BVを(電源電圧+マージン)に設定して、抵抗RB
はブレーク・ダウン素子りに電流が流れ過ぎて破壊され
るのを防止できる程度の低い値に設定することが肝要で
ある。
〔実施例〕
第5図は本発明一実施例の要部回路説明図を表し、第1
図乃至第4図、第7図及び第8図に於いて用いた記号と
同記号は同部分を示すか或いは同じ意味を持つものとす
る。
図に於いて、DI及びD2はブレーク・ダウン素子、C
Iは保護されるべきB1−CMOS構成の内部回路をそ
れぞれ示している。
本実施例に於けるブレーク・ダウン素子DI並びにD2
は内部回路CI内のバイポーラ・トランジスタに於ける
エミッタ・ベースと同一構造をもつツェナー・ダイオー
ドを二段直列接続してあって、そのブレーク・ダウン電
圧BVは14(V)であり、また、抵抗RBO値は約1
  (KΩ〕程度である。
第6図は第5図に見られる実施例の具体的構造を説明す
る為の要部切断側面図を表し、第1図乃至第5図、第7
図及び第8図に於いて用いた記号と同記号は同部分を示
すか或いは同じ意味を持つものとする。
図←於いて、1はp型シリコン半導体基板、2はn型不
純物領域、3はp型不純物領域、4はn型不純物領域、
5はn型不純物領域、6はp型不純物領域、7はn型コ
レクタ領域、8はp型べl大領域、9はn型エミッタi
iI域をそれぞれ示している。
第5図及び第6図について説明した実施例に対し、第8
図について説明した試験回路を用いて耐電圧の測定を行
ったところ、約2100(V)程度の電圧まで耐えるこ
とができた。第7図に見られる従来例では、約1700
(V)程度であったから、約400[V)程度も耐電圧
性が向上したことになる。
また、前記従来例では、入出力端子TIOに25(V)
以上の電圧を印加するとバイポーラ・トランジスタQ2
を介して接地端子TV、への放電が開始されるのに対し
、前記実施例では、14(V)以上になるとバイポーラ
・トランジスタQを介して接地端子TVSへの放電が開
始される。これは、本発明に依る静電気保護回路のほう
が、従来のそれに比較し、より効果的に動作し得ること
を示している。
〔発明の効果〕
本発明に依る半導体集積回路保護素子に於いては、コレ
クタが入出力端子に且つエミッタが接地端子にそれぞれ
接続されたバイポーラ・トランジスタと、該バイポーラ
・トランジスタのベースと前記入出力端子との間に該ベ
ースに向かって逆方向となる向きに挿入されたブレーク
・ダウン素子と、前記バイポーラ・トランジスタのベー
スと前記接地端子との間に挿入された抵抗とを備えるか
、或いは、コレクタが電源端子に且つエミッタが入出力
端子にそれぞれ接続されたバイポーラ・トランジスタと
、該バイポーラ・トランジスタのベースと前記電源端子
との間に該ベースに向かって逆方向となる向きに挿入さ
れたブレーク・ダウン素子と、前記バイポーラ・トラン
ジスタのベースと前記入出力端子との間に挿入された抵
抗とを備えるか、或いは、前記した構成の全てを備える
よう構成する。
前記構成を採ることに依り、半導体集積回路の端子に加
わる静電気を本来の標準的動作をするバイポーラ・トラ
ンジスタを介して短時間で放電させることができるから
、半導体集積回路の破壊を有効に阻止することができ、
その使用可能環境の拡大が可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図並びに第2図は本発明に依る静電気保護回路の原
理を説明する為の要部回路説明図、第3図は第1図或い
は第2図に見られる静電気保護回路を動作解析し易いよ
うに具体化した要部回路説明図、第4図は第3図に見ら
れる静電気保護回路に流し得る電流を説明する為の線図
、第5図は本発明一実施例の要部回路説明図、第6図は
第5図に見られる実施例の具体的構造を説明する為の要
部切断側面図、第7図は従来例の要部回路説明図、第8
図は静電保護回路の測定に用いた試験回路の要部回路説
明図をそれぞれ表している。 図に於いて、Tvoは電源端子、TIOは入出力端子、
Tvsは接地端子、Ql及びQ2は保護素子、QGDは
被保護素r、Qは保護素tであるバイポーラ・トランジ
スタ、Dはブレーク・ダウン素子、RBは抵抗をそれぞ
れ示している。 特許出願人   冨士通株式会社 代理人弁理士  相 谷 昭 司

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)コレクタが入出力端子に且つエミッタが接地端子
    にそれぞれ接続されたバイポーラ・トランジスタと、 該バイポーラ・トランジスタのベースと前記入出力端子
    との間に該ベースに向かって逆方向となる向きに挿入さ
    れたブレーク・ダウン素子と、 前記バイポーラ・トランジスタのベースと前記接地端子
    との間に挿入された抵抗と を備えてなることを特徴とする半導体集積回路の静電気
    保護回路。
  2. (2)コレクタが電源端子に且つエミッタが入出力端子
    にそれぞれ接続されたバイポーラ・トランジスタと、 該バイポーラ・トランジスタのベースと前記電源端子と
    の間に該ベースに向かって逆方向となる向きに挿入され
    たブレーク・ダウン素子と、前記バイポーラ・トランジ
    スタのベースと前記入出力端子との間に挿入された抵抗
    と を備えてなることを特徴とする半導体集積回路の静電気
    保護回路。
JP6391989A 1989-03-17 1989-03-17 半導体集積回路の静電気保護回路 Pending JPH02244752A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06151695A (ja) * 1992-11-12 1994-05-31 Sansha Electric Mfg Co Ltd パワートランジスタ
US7294542B2 (en) 2000-05-15 2007-11-13 Nec Electronics Corporation Method of fabricating a semiconductor device having CMOS transistors and a bipolar transistor
US7629210B2 (en) 2000-05-15 2009-12-08 Nec Corporation Method for fabricating an ESD protection apparatus for discharging electric charge in a depth direction
JP2011018685A (ja) * 2009-07-07 2011-01-27 Renesas Electronics Corp Esd保護素子

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