JPH02244747A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPH02244747A JPH02244747A JP1065617A JP6561789A JPH02244747A JP H02244747 A JPH02244747 A JP H02244747A JP 1065617 A JP1065617 A JP 1065617A JP 6561789 A JP6561789 A JP 6561789A JP H02244747 A JPH02244747 A JP H02244747A
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- thermal resistance
- semiconductor
- heat resistance
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/1015—Shape
- H01L2924/10155—Shape being other than a cuboid
- H01L2924/10158—Shape being other than a cuboid at the passive surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
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- H01L2924/14—Integrated circuits
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Die Bonding (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[概要]
半導体チップを電極となる放熱板上に載置して下面に電
極を引き出す構造の半導体装置に関し。
極を引き出す構造の半導体装置に関し。
半導体チップ表面の熱源から放熱板までの熱抵抗を小さ
くして、放熱効果を高めることを目的とし。
くして、放熱効果を高めることを目的とし。
半導体チップを電極となる放熱板上に載置して下面に電
極を引き出す構造の半導体装置において。
極を引き出す構造の半導体装置において。
半導体チップの裏面に1個または複数個の穴を形成し、
この穴の中に、半導体チ・ノブを構成する半導体材料の
熱抵抗よりも小さい熱抵抗を存する低熱抵抗物質を充填
するように構成する。
この穴の中に、半導体チ・ノブを構成する半導体材料の
熱抵抗よりも小さい熱抵抗を存する低熱抵抗物質を充填
するように構成する。
[産業上の利用分野〕
本発明は、半導体装置、特に、半導体チ・ノブを電極と
なる放熱板上に載置して下面に電極を引き出す構造の半
導体装置に関する。
なる放熱板上に載置して下面に電極を引き出す構造の半
導体装置に関する。
第4図は、従来例を示す図である。
同図において、11は半導体チップ、12はAgペース
ト 13はリードフレームである。
ト 13はリードフレームである。
第4図に示すように、従来、IC,LSI、VLSIな
どの集積回路や個別半導体素子は、半導体チップ11と
して、 Agペースト12などの接着剤によりリードフ
レーム13などの電極兼放熱板となる部材の上に載置し
ていた。
どの集積回路や個別半導体素子は、半導体チップ11と
して、 Agペースト12などの接着剤によりリードフ
レーム13などの電極兼放熱板となる部材の上に載置し
ていた。
半導体チップ11は、導電性であり9例えば。
接地電橋は、その下面から取り出される構造である。
そして、この状態で金属、セラミックス1樹脂などから
なるパンケージに封入する。さらに、放熱のために、パ
ッケージの表面あるいは裏面に放熱板が取り付けられる
。
なるパンケージに封入する。さらに、放熱のために、パ
ッケージの表面あるいは裏面に放熱板が取り付けられる
。
従来のように、パフケージの表面あるいは裏面に放熱板
を取り付ける方法は、パンケージ全体の寸法が大きくな
り1表面実装用など、1.<、小さくすることを要求さ
れるパッケージには、不適当である。という問題があっ
た。
を取り付ける方法は、パンケージ全体の寸法が大きくな
り1表面実装用など、1.<、小さくすることを要求さ
れるパッケージには、不適当である。という問題があっ
た。
本発明は4この問題点を解決するためになされたもので
あり、半導体チップ表面の熱源から放熱板までの熱抵抗
を小さくして1放熱効果を高めた半導体装置、特に5半
導体チップを電極となる放熱板上に載置して下面に電極
を取り出す構造の半導体装置を提供することを目的とす
る。
あり、半導体チップ表面の熱源から放熱板までの熱抵抗
を小さくして1放熱効果を高めた半導体装置、特に5半
導体チップを電極となる放熱板上に載置して下面に電極
を取り出す構造の半導体装置を提供することを目的とす
る。
上記の目的を達成するために1本発明に係る半導体装置
は、半導体チップを電極となる放熱板上に載置して下面
に電極を引き出す構造の半導体装置において、半導体チ
ップの裏面に1個または複数個の穴を形成し、この穴の
中に、半導体装ツブを構成する半導体材料の熱抵抗より
も小さい熱抵抗を有する低熱抵抗物質を充填するように
構成する。
は、半導体チップを電極となる放熱板上に載置して下面
に電極を引き出す構造の半導体装置において、半導体チ
ップの裏面に1個または複数個の穴を形成し、この穴の
中に、半導体装ツブを構成する半導体材料の熱抵抗より
も小さい熱抵抗を有する低熱抵抗物質を充填するように
構成する。
(作 用〕
第2図は従来例の熱抵抗図、第3図は本発明の熱抵抗図
である。
である。
以下、第2図および第3図を用いて、半導体チップ表面
のトランジスタや抵抗などの熱源からり−1フレームな
どの放熱板までのトータルの熱抵抗を示す計算式を従来
例および本発明について導く。
のトランジスタや抵抗などの熱源からり−1フレームな
どの放熱板までのトータルの熱抵抗を示す計算式を従来
例および本発明について導く。
(a)従来例のトータルの熱抵抗を示す計算式の導出第
2図に示すように、半導体チップ11の熱抵抗をθs
、 Agペースト12の熱抵抗をθ11.リードフレー
ム“13の熱抵抗をθ、とする。
2図に示すように、半導体チップ11の熱抵抗をθs
、 Agペースト12の熱抵抗をθ11.リードフレー
ム“13の熱抵抗をθ、とする。
θ、1 θA、およびθ、は直列接続されているから1
従来例のトータルの熱抵抗をθ、。、′とすると。
従来例のトータルの熱抵抗をθ、。、′とすると。
θ1゜、′=θ、+θ。十θ、 ・・・・・
・(1)と表すことができる。
・(1)と表すことができる。
(1))本発明のトータルの熱抵抗を示す計算式の導出
第3図に示すように、熱源6から低熱抵抗eA質3に至
る半導体チップ】の熱抵抗をθ59.熱a6からAgペ
ースト4に至る半導体チップ1の熱抵抗をθ、2.低熱
抵抗@IJ賞の熱抵抗をθ、、Agペーストの熱抵抗を
θ、9.リードフレーム5の熱抵抗をθ、とする。
第3図に示すように、熱源6から低熱抵抗eA質3に至
る半導体チップ】の熱抵抗をθ59.熱a6からAgペ
ースト4に至る半導体チップ1の熱抵抗をθ、2.低熱
抵抗@IJ賞の熱抵抗をθ、、Agペーストの熱抵抗を
θ、9.リードフレーム5の熱抵抗をθ、とする。
低熱抵抗物1t′3が埋め込まれた半導体チップ1の熱
抵抗をθ。、tとすると。
抵抗をθ。、tとすると。
θ31+θ−〇sz
(θ3.十〇、) ・θ、2
と表すことができる。
したがって1本発明のトータルの熱抵抗をθ、。、とす
ると。
ると。
・・・・・・(2)
と表すことができる。
次に、従来例のトータルの熱抵抗と本発明のトータルの
熱抵抗とを比較する。
熱抵抗とを比較する。
(1)式および(2)式において、 Agペーストの熱
抵抗θ4.およびリードフレームの熱抵抗θ、は等しい
ので、半導体チップの熱抵抗を比較する。
抵抗θ4.およびリードフレームの熱抵抗θ、は等しい
ので、半導体チップの熱抵抗を比較する。
(以下余白)
θ3t0t/θ。
(θ、1+θ、)十〇。
θ8.+θ。
(θ□十〇、)+θ、2
(,°θ、2−θ、)
〈1
(°、°θ5ilo)
、°、θSto$<θ3
したがって。
θい、〈θt6&
となり1本発明のトータルの熱抵抗の方が、従来例のト
ータルの熱抵抗よりも小さいことがわかる。
ータルの熱抵抗よりも小さいことがわかる。
すなわち1本発明のように、半導体チップの裏面に1個
または複数個の穴を形成し、この穴の中に、半導体チッ
プを構成する半導体材料の熱抵抗よりも小さい熱抵抗を
有する低熱抵抗物質を充填すると、熱源から放熱板にい
たるトータルの熱抵抗を小さくすることができる。
または複数個の穴を形成し、この穴の中に、半導体チッ
プを構成する半導体材料の熱抵抗よりも小さい熱抵抗を
有する低熱抵抗物質を充填すると、熱源から放熱板にい
たるトータルの熱抵抗を小さくすることができる。
第1図は9本発明の一実施例を示す図である。
同図において、1は半導体チップ、2は半導体チップの
裏lに形成された穴、3は穴2の中に充填された半導体
チップ1を構成する材料の熱抵抗よりも小さな熱抵抗を
有する低熱抵抗物質、4は接着剤としてのAgペースト
、5は放熱板としてのリードフレームである。
裏lに形成された穴、3は穴2の中に充填された半導体
チップ1を構成する材料の熱抵抗よりも小さな熱抵抗を
有する低熱抵抗物質、4は接着剤としてのAgペースト
、5は放熱板としてのリードフレームである。
半導体チップ1は、 Si、化合物半導体などからなる
IC,LSI、VLSIなどの集積回路や個別半導体素
子である。
IC,LSI、VLSIなどの集積回路や個別半導体素
子である。
穴2は、半導体チップ1の裏面に、エツチングなどによ
り1個または複数個形成される。
り1個または複数個形成される。
低熱抵抗物f3としては、半導体チップlの材料がSt
の場合、 Au、 Ag、 Cu、 A1などが選ばれ
る。
の場合、 Au、 Ag、 Cu、 A1などが選ばれ
る。
以下、具体的な数値を用いて、従来例のトータルの熱抵
抗と本実施例トータルの熱抵抗とを計算してみる。
抗と本実施例トータルの熱抵抗とを計算してみる。
条件を次のように定める。
従来例
半導体チップの材料 St
半導体チップの厚さ 400.crm
Agペーストの厚さ 4μm
リードフレームの 4270イ
材料
リードフレームの
厚さ
低熱抵抗物質の
材料
低熱抵抗物質の
厚さ
(a)従来例のトータルの熱抵抗の計算(1)式より。
200μm 20011m
本実施例
400μm
4μm
427Oイ
4g
0011m
0.8
4.07
0.56
一500x10−’+0.982XIO−’+357x
IQ” −858X 10−’ (’C/W) (ロ)本実施例のトータルの熱抵抗の計算・・・・・・
(3) 0.8 4.1 0.8 したがって。
IQ” −858X 10−’ (’C/W) (ロ)本実施例のトータルの熱抵抗の計算・・・・・・
(3) 0.8 4.1 0.8 したがって。
(θ3.+θ、)十θ、!
−0,022(’C/W)
となるから。
θ1゜%−220X10−’+0.982X10−’+
357X10−’ −588X 10−’ (’C/W) ・・・−
(4)となる。
357X10−’ −588X 10−’ (’C/W) ・・・−
(4)となる。
(3)の値と(4)の値とを比較すると1本実施例のト
ータルの熱抵抗の方が、従来例のトータルの熱抵抗より
も約り0%小さいことがわかる。
ータルの熱抵抗の方が、従来例のトータルの熱抵抗より
も約り0%小さいことがわかる。
本発明によれば、従来のようにパンケージの表面や裏面
に放熱板を取り付けなくとも、同等あるいはそれ以上の
放熱効果を得ることができる。
に放熱板を取り付けなくとも、同等あるいはそれ以上の
放熱効果を得ることができる。
第1図は本発明の一実施例を示す図。
第2図は従来例の熱抵抗図。
第3図は本発明の熱抵抗図。
第4図は従来例を示す図
である。
第1図において
に半導体チップ
2:穴
3:低熱抵抗物質
4:A、ペースト
5;リードフレーム
本 φσ 明 0− プし 才1ジ イタリ)IJ1図
4″!、 1ミ イ」り
第 4 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 半導体チップ(1)を電極となる放熱板(5)上に載置
して下面に電極を引き出す構造の半導体装置において、 半導体チップ(1)の裏面に1個または複数個の穴(2
)を形成し、この穴(2)の中に、半導体チップ(1)
を構成する半導体材料の熱抵抗よりも小さい熱抵抗を有
する低熱抵抗物質(3)を充填した ことを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1065617A JPH02244747A (ja) | 1989-03-17 | 1989-03-17 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1065617A JPH02244747A (ja) | 1989-03-17 | 1989-03-17 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02244747A true JPH02244747A (ja) | 1990-09-28 |
Family
ID=13292160
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1065617A Pending JPH02244747A (ja) | 1989-03-17 | 1989-03-17 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02244747A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2007138771A1 (ja) * | 2006-05-26 | 2009-10-01 | 株式会社村田製作所 | 半導体装置、電子部品モジュールおよび半導体装置の製造方法 |
-
1989
- 1989-03-17 JP JP1065617A patent/JPH02244747A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2007138771A1 (ja) * | 2006-05-26 | 2009-10-01 | 株式会社村田製作所 | 半導体装置、電子部品モジュールおよび半導体装置の製造方法 |
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