JPH02240654A - 着色フォトレジストの現像装置 - Google Patents
着色フォトレジストの現像装置Info
- Publication number
- JPH02240654A JPH02240654A JP6247489A JP6247489A JPH02240654A JP H02240654 A JPH02240654 A JP H02240654A JP 6247489 A JP6247489 A JP 6247489A JP 6247489 A JP6247489 A JP 6247489A JP H02240654 A JPH02240654 A JP H02240654A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- concn
- absorbance
- developer
- developing
- developing soln
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 title claims description 5
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims abstract description 16
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 5
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims 1
- 238000011161 development Methods 0.000 abstract description 15
- 238000012360 testing method Methods 0.000 abstract description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract 2
- -1 hydrogen ions Chemical class 0.000 abstract 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はカラーテレビ、カラーカメラ及びカラー表示デ
バイス、カラー撮像デバイス等の製造におけるフォトリ
ングラフィ工程に用いられる現像装置に関するものであ
る。
バイス、カラー撮像デバイス等の製造におけるフォトリ
ングラフィ工程に用いられる現像装置に関するものであ
る。
従来の技術
現像処理方法としては、大別してデイツプ方式とスプレ
一方式がある。デイツプ方式で現像を行なう場合は、現
像液の新鮮度により現像能力の違いが見られるため現像
液の管理が重要となってくる。
一方式がある。デイツプ方式で現像を行なう場合は、現
像液の新鮮度により現像能力の違いが見られるため現像
液の管理が重要となってくる。
従来の現像液の管理は、次のような方法によっていた。
即ち感光波長に対する透過率を１５段階程度変えたもの
（例えばステップガイド：富士写真フィルム（株）製）
を用いていた。レジストの塗膜面にこのステップガイド
をのせ、一定の露光量の光エネルギを照射すると、ステ
ップガイドの透過率に応じ照射露光量が変化する。これ
を現像すると、特定の段数まで塗膜は残るが、それ以上
（あるいはそれ以下）では、塗膜が剥離する。この境界
の段数は、現像液の新鮮度の違いにより変化するため、
これを現像液管理の指標としてきた。
（例えばステップガイド：富士写真フィルム（株）製）
を用いていた。レジストの塗膜面にこのステップガイド
をのせ、一定の露光量の光エネルギを照射すると、ステ
ップガイドの透過率に応じ照射露光量が変化する。これ
を現像すると、特定の段数まで塗膜は残るが、それ以上
（あるいはそれ以下）では、塗膜が剥離する。この境界
の段数は、現像液の新鮮度の違いにより変化するため、
これを現像液管理の指標としてきた。
発明が解決しようとする課題
しかし、このような現像液の管理法では、時々刻々−の
現像液の新鮮度が把握できない。従って、現像液の更新
が遅いと対象物が現像不良になる。
現像液の新鮮度が把握できない。従って、現像液の更新
が遅いと対象物が現像不良になる。
あるいはそれを防ぐためには、早めに現像液を更新しな
ければいけないという課題があった。
ければいけないという課題があった。
本発明はかかる点に鑑み、対象物の現像不良を生じさせ
ない、あるいはムダな現像液の更新のない現像装置を提
供することを目的とするものである。
ない、あるいはムダな現像液の更新のない現像装置を提
供することを目的とするものである。
課題を解決するための手段
本発明は、基板上に現像液中の塩基の陽イオンと反応し
てアルカリ可溶となる顔料を分散した着色フォトレジス
トを塗布Φ乾燥して被膜を形成し所定のフォトマスクを
介し露光を行なったのち、アルカリ現像液で現像するに
際し、前記アルカリ現像液中の塩基の陽イオン濃度、水
素イオン濃度と現像液の吸光度を検知する手段を有する
現像装置である。
てアルカリ可溶となる顔料を分散した着色フォトレジス
トを塗布Φ乾燥して被膜を形成し所定のフォトマスクを
介し露光を行なったのち、アルカリ現像液で現像するに
際し、前記アルカリ現像液中の塩基の陽イオン濃度、水
素イオン濃度と現像液の吸光度を検知する手段を有する
現像装置である。
作用
本発明の、現像液中の塩基の陽イオンと反応してアルカ
リ可溶となるレジストの現像までの過程は次のようであ
る。
リ可溶となるレジストの現像までの過程は次のようであ
る。
露光後、現像液中の塩基の陽イオンと反応し水溶性塩を
形成する。この水溶性塩が解離し現像反応が進行するが
、現像液中で全ての溶解反応が完了するわけではなく、
現像液外に水溶性塩が持ち出される。そのため現像液中
の塩基の陽イオンが減少する。
形成する。この水溶性塩が解離し現像反応が進行するが
、現像液中で全ての溶解反応が完了するわけではなく、
現像液外に水溶性塩が持ち出される。そのため現像液中
の塩基の陽イオンが減少する。
また水溶性塩を生じさせる反応は、水酸イオン濃度が少
ないと進行しない。さらに顔料を分散した着色フォトレ
ジストでは、現像時顔料の溶解が生じ、現像を繰り返す
につれ現像液中の顔料濃度（吸光度）が増すため、現像
能力が低下する。従って、現像液中の塩基の陽イオン濃
度と水酸イオン濃度（即ち水素イオン濃度）、吸光度を
適正な範囲に保てば、一定の現像能力が得られ安定した
現像結果となる。
ないと進行しない。さらに顔料を分散した着色フォトレ
ジストでは、現像時顔料の溶解が生じ、現像を繰り返す
につれ現像液中の顔料濃度（吸光度）が増すため、現像
能力が低下する。従って、現像液中の塩基の陽イオン濃
度と水酸イオン濃度（即ち水素イオン濃度）、吸光度を
適正な範囲に保てば、一定の現像能力が得られ安定した
現像結果となる。
実施例
以下に、本発明の実施例について図面を参照しながら説
明する。
明する。
第１図は本発明の一実施例を示す現像装置の断面図であ
る。第１図において、■は現像槽、２は試験槽であり、
試験槽２の中の水３を加熱装置４、冷却装置５で一定温
度に保つことにより、現像槽１の現像液６を恒温化して
いる。また現像液６は剥離物の再付着を防止するため整
流板７を介し２ケのフィルタ８．９を通りポンプ１０に
より循環している。ここでＮａ４測定装置ＩＬ ｐＨ
測定装置１２によりＮａ−濃度、Ｈ−濃度を測定してい
る。
る。第１図において、■は現像槽、２は試験槽であり、
試験槽２の中の水３を加熱装置４、冷却装置５で一定温
度に保つことにより、現像槽１の現像液６を恒温化して
いる。また現像液６は剥離物の再付着を防止するため整
流板７を介し２ケのフィルタ８．９を通りポンプ１０に
より循環している。ここでＮａ４測定装置ＩＬ ｐＨ
測定装置１２によりＮａ−濃度、Ｈ−濃度を測定してい
る。
１３．１４．１５はそれぞれＮａ”センサ、ｐＨセンサ
、吸光度測定装置である。
、吸光度測定装置である。
本実施例で使用したレジストはネガ型のアクリロイド系
着色レジストで緑色レジスト（商品名カラーモザイクＧ
：冨士ハントエレクトロニクステクノロジー社製）であ
り、現像液は１重量％炭酸ナトリウム溶液を使用した。
着色レジストで緑色レジスト（商品名カラーモザイクＧ
：冨士ハントエレクトロニクステクノロジー社製）であ
り、現像液は１重量％炭酸ナトリウム溶液を使用した。
まず、緑色レジストを透明基板（例えばガラス）に所定
の膜厚になるようにスピンコードし、ホットプレートで
乾燥させた。その塗膜上にさらに酸素遮断用にポリビニ
ールアルコール（ＰＶＡ）を塗布し、乾燥させＬｌｎｅ
＆５ｐａｃｅが１〜５０ ｕ ｍまであるフォトマスク
を当て１００ｓＪ／ａｍ’の露光量で照射し、重合促進
のためにホットプレートで加熱したのち、第１図の現像
液６に１分間浸漬した。そののち２分間ンヤワーリンス
を行い、接着性を強めるため２００ ’Ｃで１５分間オ
ーブン炉でポストベークを行い、光学顕微鏡により解像
度（Ｌｉｎｅ＆５ｐａｃｅが最小何μｍまで抜けるか）
を調べた。以上の実験を繰り返しＮａ’濃度、ｐＨ（Ｏ
Ｈ−濃度）、吸光度（ｋ１色レジストでは、緑色の主波
長である５５０ｎｍでの透過率）と解像度の関係を示し
たものである。第２図〜第４図はその結果でＮａ◆濃度
とｐＨの値が大（ＯＨ−２１１度が大）または、吸光度
が小のとき解像度が良＜、Ｎａ″濃度とｐＨが小、ある
いは吸光度が大のとき解像度は悪くなった。
の膜厚になるようにスピンコードし、ホットプレートで
乾燥させた。その塗膜上にさらに酸素遮断用にポリビニ
ールアルコール（ＰＶＡ）を塗布し、乾燥させＬｌｎｅ
＆５ｐａｃｅが１〜５０ ｕ ｍまであるフォトマスク
を当て１００ｓＪ／ａｍ’の露光量で照射し、重合促進
のためにホットプレートで加熱したのち、第１図の現像
液６に１分間浸漬した。そののち２分間ンヤワーリンス
を行い、接着性を強めるため２００ ’Ｃで１５分間オ
ーブン炉でポストベークを行い、光学顕微鏡により解像
度（Ｌｉｎｅ＆５ｐａｃｅが最小何μｍまで抜けるか）
を調べた。以上の実験を繰り返しＮａ’濃度、ｐＨ（Ｏ
Ｈ−濃度）、吸光度（ｋ１色レジストでは、緑色の主波
長である５５０ｎｍでの透過率）と解像度の関係を示し
たものである。第２図〜第４図はその結果でＮａ◆濃度
とｐＨの値が大（ＯＨ−２１１度が大）または、吸光度
が小のとき解像度が良＜、Ｎａ″濃度とｐＨが小、ある
いは吸光度が大のとき解像度は悪くなった。
次に、この一実施例における作用を説明する。
前記レジストの現像時の反応は未露光部のバインダ中の
カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）がＮａ・と反応してアル
カリ可溶なナトリウム塩を生じることである。
カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）がＮａ・と反応してアル
カリ可溶なナトリウム塩を生じることである。
−ＣＯＯＨ＋Ｎａ”＋ＯＨ−−ＣＯＯＮａ＋Ｈ２０（１
） −ＣＯＯＮａは現像液中でも溶解するが、一部現像槽外
に出て溶解する。
） −ＣＯＯＮａは現像液中でも溶解するが、一部現像槽外
に出て溶解する。
ＣＯＯＮａ −Ｃ００−＋Ｎａ”
（２）従って現像を繰り返す毎に現像槽外に出るーＣＯ
ＯＮａも増加しＮａ’／ｓ度は減少しく１）式の反応が
進行しにくくなる。また同様に０ＩＣｔｌＡ度も小さく
なると（１）式の反応が進行しにくくなり現像能力が落
ちる。
（２）従って現像を繰り返す毎に現像槽外に出るーＣＯ
ＯＮａも増加しＮａ’／ｓ度は減少しく１）式の反応が
進行しにくくなる。また同様に０ＩＣｔｌＡ度も小さく
なると（１）式の反応が進行しにくくなり現像能力が落
ちる。
また、現像液中の緑色顔料の濃度が増大すると、現像時
の緑色顔料の溶解が妨げられる。
の緑色顔料の溶解が妨げられる。
よってＮａ’７Ｅ１度、ＯＨ−濃度、吸光度の管理を行
うことにより現像能力が一定に保たれる。
うことにより現像能力が一定に保たれる。
発明の効果
以上、述べてきたように本発明によれば、対象物の現像
不良を生じさせない、あるいはムダな現像液の更新のな
い現像装置を提供でき、工業上極めて有用である。
不良を生じさせない、あるいはムダな現像液の更新のな
い現像装置を提供でき、工業上極めて有用である。
第１図は本発明の一実施例の現像装置の断面図、第２１
図はＮａ−濃度と解像度の関係を示すグラフ、第３図は
ｐＨと解像度の関係を示すグラフ、第４図は吸光度と解
像度の関係を示すグラフである。 １・・・現像槽、４・・・加熱装置、５・・・冷却装置
、６・・・現像液、１１・・・Ｎａ’測定装置、１２・
・・ｐＨ測定装置、１３・・・Ｎａ”センサ、１４・・
・ｐＨセンサ、１５・・・吸光度測定装置。 代理人の氏名 弁理士 栗野重孝はか１８鵠２図 ＮＯＬ＋１ｌｌｌ Ｃｐｐ広Ｊ 第 図 う 図 吸光演 （オ長父てｒＬｙｎ）
図はＮａ−濃度と解像度の関係を示すグラフ、第３図は
ｐＨと解像度の関係を示すグラフ、第４図は吸光度と解
像度の関係を示すグラフである。 １・・・現像槽、４・・・加熱装置、５・・・冷却装置
、６・・・現像液、１１・・・Ｎａ’測定装置、１２・
・・ｐＨ測定装置、１３・・・Ｎａ”センサ、１４・・
・ｐＨセンサ、１５・・・吸光度測定装置。 代理人の氏名 弁理士 栗野重孝はか１８鵠２図 ＮＯＬ＋１ｌｌｌ Ｃｐｐ広Ｊ 第 図 う 図 吸光演 （オ長父てｒＬｙｎ）
Claims (1)
- 基板上に現像液中の塩基の陽イオンと反応してアルカリ
可溶となる顔料を分散した着色フォトレジストを塗布・
乾燥して被膜を形成し所定のフォトマスクを介し露光を
行なったのち、アルカリ現像液で現像する現像装置にお
いて、前記アルカリ現像液中の塩基の陽イオン濃度、水
素イオン濃度と現像液の吸光度を検知する手段を有する
ことによって、濃度と吸光度を管理を行うことを特徴と
する着色フォトレジストの現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1062474A JP2839280B2 (ja) | 1989-03-15 | 1989-03-15 | 着色フォトレジストの現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1062474A JP2839280B2 (ja) | 1989-03-15 | 1989-03-15 | 着色フォトレジストの現像装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02240654A true JPH02240654A (ja) | 1990-09-25 |
| JP2839280B2 JP2839280B2 (ja) | 1998-12-16 |
Family
ID=13201225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1062474A Expired - Fee Related JP2839280B2 (ja) | 1989-03-15 | 1989-03-15 | 着色フォトレジストの現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2839280B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10319604A (ja) * | 1997-05-15 | 1998-12-04 | Toshiba Electron Eng Corp | レジストの現像方法および現像装置 |
| KR101332191B1 (ko) * | 2012-03-07 | 2013-11-22 | (주)에스지이앤티 | 포토레지스트를 포함한 현상액의 농도 산출 방법 및 농도 조절 장치 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59232345A (ja) * | 1983-06-15 | 1984-12-27 | Fujikura Ltd | アルカリ現像タイプドライフイルム現像機のフイルム搬送速度制御方法 |
| JPS6236671A (ja) * | 1985-08-12 | 1987-02-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 現像補充液の補充方法 |
| JPS62186265A (ja) * | 1986-02-12 | 1987-08-14 | Canon Inc | 現像装置 |
| JPS63104331A (ja) * | 1986-10-20 | 1988-05-09 | Mitsubishi Electric Corp | 現像処理方法 |
| JPS63318554A (ja) * | 1987-06-22 | 1988-12-27 | Dainippon Printing Co Ltd | フォトレジストの現像方法およびその装置 |
-
1989
- 1989-03-15 JP JP1062474A patent/JP2839280B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59232345A (ja) * | 1983-06-15 | 1984-12-27 | Fujikura Ltd | アルカリ現像タイプドライフイルム現像機のフイルム搬送速度制御方法 |
| JPS6236671A (ja) * | 1985-08-12 | 1987-02-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 現像補充液の補充方法 |
| JPS62186265A (ja) * | 1986-02-12 | 1987-08-14 | Canon Inc | 現像装置 |
| JPS63104331A (ja) * | 1986-10-20 | 1988-05-09 | Mitsubishi Electric Corp | 現像処理方法 |
| JPS63318554A (ja) * | 1987-06-22 | 1988-12-27 | Dainippon Printing Co Ltd | フォトレジストの現像方法およびその装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10319604A (ja) * | 1997-05-15 | 1998-12-04 | Toshiba Electron Eng Corp | レジストの現像方法および現像装置 |
| KR101332191B1 (ko) * | 2012-03-07 | 2013-11-22 | (주)에스지이앤티 | 포토레지스트를 포함한 현상액의 농도 산출 방법 및 농도 조절 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2839280B2 (ja) | 1998-12-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS62234148A (ja) | コントラスト増強用の光脱色性層 | |
| JPS6155246B2 (ja) | ||
| JPS5692536A (en) | Pattern formation method | |
| CA1265373A (en) | High contrast photoresist developer | |
| JPH02240654A (ja) | 着色フォトレジストの現像装置 | |
| EP0134453B1 (en) | Method for exposure dose calculation of photolithography projection printers | |
| JPS6249613B2 (ja) | ||
| JPS60238829A (ja) | パタ−ン形成方法 | |
| JP3795627B2 (ja) | レジストの現像方法 | |
| US4499173A (en) | Photographic material for use in photolithography | |
| EP0034490B1 (en) | Photographic system and photographic material for use therein | |
| JPH0638399B2 (ja) | 現像装置 | |
| JP2000147785A (ja) | 現像装置 | |
| JPS6240697B2 (ja) | ||
| Shaughnessy et al. | Optimization of Photoresist Processing for Step-and-Repeat Exposure Systems | |
| JPS62186266A (ja) | 現像装置 | |
| JPS6053869B2 (ja) | 残留湿気写真の現像方法 | |
| Barouch et al. | Simulation of an advanced negative i-line photoresist | |
| JPS63318554A (ja) | フォトレジストの現像方法およびその装置 | |
| RU2148853C1 (ru) | Способ определения глубины залегания модифицированного приповерхностного слоя в полимерной пленке | |
| JPH02101468A (ja) | 微細パターン形成方法 | |
| KR100644069B1 (ko) | 포토레지스트 패턴 형성 방법 | |
| JPH0113094B2 (ja) | ||
| Dill | Positive optical lithography | |
| JP2005268382A (ja) | パターン形成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |