JPH02235210A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

Info

Publication number
JPH02235210A
JPH02235210A JP5435189A JP5435189A JPH02235210A JP H02235210 A JPH02235210 A JP H02235210A JP 5435189 A JP5435189 A JP 5435189A JP 5435189 A JP5435189 A JP 5435189A JP H02235210 A JPH02235210 A JP H02235210A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gap
magnetic material
magnetic
films
chromium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5435189A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiyuki Fujine
俊之 藤根
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP5435189A priority Critical patent/JPH02235210A/en
Publication of JPH02235210A publication Critical patent/JPH02235210A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To suppress a so-called shape effect and to decrease waviness in reproduced output-frequency characteristics by forming chromium nitride films on the gap-facing surfaces of cores consisting of oxide magnetic materials and forming chromium films between the chromium nitride films and thin alloy magnetic films. CONSTITUTION:The chromium nitride films 4 are formed on the gap-facing surfaces of the cores 1', 2' consisting of the oxide magnetic materials and the chromium films 9 are formed between the chromium nitride films 4 and the thin alloy magnetic films 5. The interdiffusion of oxygen, etc., between the thin alloy magnetic films 5 and the cores 1', 2' consisting of the oxide magnetic materials is suppressed by the chromium nitride 4 formed on the gap-facing surfaces. The deterioration in the soft magnetic characteristics of the cores 1', 2' and the thin films 5 near the boundaries of the cores 1', 2' and the thin films 5 is, therefore, prevented and the parts where the soft magnetic characteristics are deteriorated are thereby prevented from acting again as the gap at the time of reproduction. The shape effect is suppressed in this way and the waviness in the reproduced output-frequency characteristics is decreased.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高密度磁気記録再生を可能としたMIG(M
etal  in  Gap>型の磁気ヘッドに関する
ものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is directed to an MIG (Migration Group) which enables high density magnetic recording and reproduction.
The present invention relates to an etal in gap> type magnetic head.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来より、高透磁率を有し耐摩耗性等に優れたフエライ
ト材等の酸化物磁性材料の利点と、高透磁率および高飽
和磁束密度を有する合金磁性材料の利点とを併せ持った
MIG型の磁気ヘッドが知られている。この磁気ヘッド
は、コア本体に酸化物磁性材料を使用すると共に、ギャ
ップの近傍を酸化物磁性材料で形成したものである。
Conventionally, the MIG type has been developed which combines the advantages of oxide magnetic materials such as ferrite materials, which have high magnetic permeability and excellent wear resistance, and the advantages of alloy magnetic materials, which have high magnetic permeability and high saturation magnetic flux density. Magnetic heads are known. This magnetic head uses an oxide magnetic material for the core body and forms the vicinity of the gap using the oxide magnetic material.

このような磁気ヘッドを製造するには、第3図(a)に
示すように、コアとなる酸化物磁性材料の一方のブロッ
ク11に外部巻線用溝13とガラス充填用溝l4と内部
巻線用溝15とを形成すると共に、同図(b)に示すよ
うに、同じくコアとなる酸化物磁性材料の他方のブロッ
ク12に外部巻線用溝l3とガラス充填用溝14とを形
成する.そして、ブロック11・12における各々のギ
ャップ対向面16とテーブ摺動面17とを鏡面状に研磨
した後、同図(c)および(d)に示すように、所定の
ギャップトラック幅を得るための溝(トラック溝)18
・・・を形成する.次いで、ギャップ対向面16の表層
付近の加工変質層をエッチングにより除去した後、同図
(e)(f)(g)に示すように、ブロック11・12
におけるそれぞれのギャップ対向面16上に高透磁率お
よび高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜19をス
パッタリング法等により形成する。次いで、合金磁性材
料薄膜19上におけるギャップ形成部位にギャップ材と
してSiOz等の非磁性材料を約0.3μmの厚みで形
成した後、同図(h)に示すように、上記のブロックl
1・12同士を各々のギャップ対向面16・16を突き
合わせて貼り合わせ、ガラス充填用溝14および内部巻
線用溝15によりそれぞれ形成される空洞部位にガラス
2oを配置し加熱溶着する。そして、このようにして得
られた磁気ヘッドブロックにおけるテーブ摺動面17に
、同図(i)に示すように、曲面を形成した後、仮想線
b・・・に沿って切断することにより、同図(j)に示
すように、磁気ヘッド22(まだ巻線の施されていない
段階)を得る.ところが、上記従来の磁気ヘッドでは、
酸化物磁性材料であるブロック11・12の各々のギャ
ップ対向面16と合金磁性材料薄膜19との境界面がギ
ャップに対し平行であるため、第4図に示すように、再
生出力一周波数特性に生じるうねりが約3dBにもなる
。これは、酸化物磁性材料と合金磁性材料との磁気特性
の相違や、境界面において形成された酸素等の拡散によ
る反応層や前記の変質層の不完全除去部分等が擬似ギャ
ップとして作用する、いわゆる形状効果(コンター効果
)のためと考えられる。なお、上記の第4図において、
磁気記録媒体と磁気ヘッドとの相対速度は5.13m/
 s e c , vA気記録媒体としては保磁力9o
Oエルステッドのものを用いている。
To manufacture such a magnetic head, as shown in FIG. 3(a), one block 11 of the oxide magnetic material serving as the core is provided with an outer winding groove 13, a glass filling groove l4, and an inner winding groove. In addition to forming a wire groove 15, an external winding groove 13 and a glass filling groove 14 are also formed in the other block 12 of the oxide magnetic material that also serves as the core, as shown in FIG. .. After polishing each of the gap facing surfaces 16 and the tape sliding surfaces 17 in the blocks 11 and 12 to a mirror finish, as shown in FIGS. groove (track groove) 18
... is formed. Next, after removing the process-affected layer near the surface layer of the gap facing surface 16 by etching, the blocks 11 and 12 are removed as shown in FIGS.
An alloy magnetic material thin film 19 having high magnetic permeability and high saturation magnetic flux density is formed on each gap facing surface 16 by sputtering or the like. Next, after forming a non-magnetic material such as SiOz as a gap material to a thickness of about 0.3 μm on the gap forming portion on the alloy magnetic material thin film 19, as shown in FIG.
1 and 12 are bonded to each other with their respective gap facing surfaces 16 and 16 butted against each other, and the glass 2o is placed in the cavity portion formed by the glass filling groove 14 and the internal winding groove 15 and welded by heat. Then, after forming a curved surface on the tape sliding surface 17 of the thus obtained magnetic head block as shown in FIG. As shown in FIG. 4(j), a magnetic head 22 (not yet wound) is obtained. However, in the conventional magnetic head mentioned above,
Since the interface between the gap-opposing surfaces 16 of each of the blocks 11 and 12 made of oxide magnetic material and the alloy magnetic material thin film 19 is parallel to the gap, the reproduced output-frequency characteristic changes as shown in FIG. The resulting waviness is about 3 dB. This is due to the difference in magnetic properties between the oxide magnetic material and the alloy magnetic material, the reaction layer formed at the interface due to the diffusion of oxygen, etc., the incompletely removed portion of the altered layer, etc., which act as a pseudo gap. This is thought to be due to the so-called shape effect (contour effect). In addition, in the above figure 4,
The relative speed between the magnetic recording medium and the magnetic head is 5.13 m/
As a recording medium, the coercive force is 9o.
I use one from Oersted.

かかる問題点を解消するものとして、本願発明の発明者
は、先に、酸化物磁性材料と合金磁性材料との間にクロ
ムを介装してなる磁気ヘッドを提案している.かかる磁
気ヘッドを製造するには、第5図(a)(b)(c)(
d)に示すように、前述した磁気ヘッド22と同様の製
造工程を経た後(加工変質層を除去した後)、同図(e
)(f)(g)に示すように、クロム(Cr)[923
をスパッタリング法等により10人〜200人の厚みで
ギャップ対向面l6上に形成する.その後、合金磁性材
料薄膜19をスパッタリング法等にょり膜厚2〜6μm
で上記のクロム膜23上においてギャップに対し平行に
形成する.そして、合金磁性材料薄膜19におけるギャ
ップ形成部位にギャップ材としてSIOt等の非磁性材
料を約0.3μmの厚みで形成する。以後の製造工程は
、同図(h)(i)(j)に示すように、前述の磁気ヘ
ッドの製造と同様の加工が行われる。
To solve this problem, the inventor of the present invention previously proposed a magnetic head in which chromium is interposed between an oxide magnetic material and an alloy magnetic material. In order to manufacture such a magnetic head, the steps shown in FIGS. 5(a), (b), (c) (
As shown in d), after going through the same manufacturing process as the magnetic head 22 described above (after removing the damaged layer),
) (f) As shown in (g), chromium (Cr) [923
is formed on the gap facing surface l6 to a thickness of 10 to 200 mm using a sputtering method or the like. Thereafter, a thin film 19 of alloy magnetic material is formed by sputtering or the like to a thickness of 2 to 6 μm.
Then, it is formed parallel to the gap on the chromium film 23 described above. Then, a non-magnetic material such as SIOt is formed as a gap material to a thickness of about 0.3 μm at the gap forming portion of the alloy magnetic material thin film 19. In the subsequent manufacturing process, as shown in FIGS. 12(h), 2(i), and 3(j), the same processing as in the manufacturing of the magnetic head described above is performed.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところが、このように、酸化物磁性材料であるブロック
11・12と合金磁性材料薄膜19との間にクロム膜2
3を介装した磁気ヘッドといえども、第6図に示すよう
に、再生出力二周波数特性に1dB程度のうねりが依然
として残り、十分な性能とはいえない。なお、第6図に
おいての諸条件は第4図における諸条件と同様に設定さ
れている. このため、本願発明の発明者は、さらに、合金磁性材料
であるブロック11・12と合金磁性材料薄膜19との
間に窒化クロム膜を介装した磁気ヘッドを提案している
。この磁気ヘッドを製造するには、第7図(a)(b)
(c)(d)に示すように、前述した磁気ヘッド22と
同様の製造工程を経た後、同図(e)(f)(g)に示
すように、窒化クロム膜24を窒素ガスとアルゴンガス
の混合ガスを用いた反応性スパッタリング等の方法によ
り10人〜200人の厚みでギャップ対向面16上に形
成する。その後、合金磁性材料薄膜l9をスパッタリン
グ法等により膜厚2〜6μmで上記の窒化クロム24上
においてギャップに対し平行に形成する。そして、合金
磁性材料薄膜l9におけるギャップ形成部位にギャップ
材としてSin,等の非磁性材料を約0.3μmの厚み
で形成する。以後の製造工程は、同図(h)(i)(j
)に示すように、前述の磁気ヘッドの製造と同様の加工
が行われる。
However, in this way, the chromium film 2 is formed between the blocks 11 and 12 made of oxide magnetic material and the alloy magnetic material thin film 19.
Even though the magnetic head is equipped with the magnetic head 3, as shown in FIG. 6, there is still a undulation of about 1 dB in the two-frequency characteristics of the reproduced output, and the performance cannot be said to be sufficient. Note that the conditions in FIG. 6 are set in the same way as the conditions in FIG. Therefore, the inventor of the present invention has further proposed a magnetic head in which a chromium nitride film is interposed between the blocks 11 and 12 made of alloy magnetic material and the alloy magnetic material thin film 19. To manufacture this magnetic head, as shown in FIGS. 7(a) and (b)
As shown in (c) and (d), after going through the same manufacturing process as the magnetic head 22 described above, as shown in (e), (f), and (g) of the same figure, the chromium nitride film 24 is coated with nitrogen gas and argon gas. It is formed on the gap facing surface 16 to a thickness of 10 to 200 mm by a method such as reactive sputtering using a gas mixture. Thereafter, a thin film 19 of alloy magnetic material is formed by sputtering or the like to a thickness of 2 to 6 μm on the chromium nitride 24 in parallel to the gap. Then, a non-magnetic material such as Sin is formed as a gap material to a thickness of about 0.3 μm at the gap forming portion of the alloy magnetic material thin film 19. The subsequent manufacturing process is shown in (h), (i), and (j) in the same figure.
), the same processing as that for manufacturing the magnetic head described above is performed.

かかる磁気ヘッドによれば、第8図に示すように、ほぼ
2MHz以上の高周波数域においては、うねりを0.3
dB〜0.5dB程度に抑えることができるものの、2
MI{z以下の周波数域においては、1dB程度のうね
りが依然として残り、十分な性能とはいえず、より一層
の改善が望まれていた。
According to such a magnetic head, as shown in FIG.
Although it can be suppressed to about dB to 0.5 dB, 2
In the frequency range below MI{z, waviness of about 1 dB still remains, and the performance cannot be said to be sufficient, and further improvement has been desired.

なお、第8図においての諸条件は第4図における諸条件
と同様に設定されている。
Note that the conditions in FIG. 8 are set similarly to the conditions in FIG. 4.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明に係る磁気ヘッドは、上記の課題を解決するため
に、高透磁率および高飽和磁束密度を有する合金磁性材
料薄膜が、高透磁率を有する酸化物磁性材料コアのギャ
ップ対向面側でギャップに対し平行に形成されている磁
気ヘッドにおいて、上記の酸化物磁性材料コアのギャッ
プ対向面上に窒化クロム膜が形成され、且つこの窒化ク
ロム膜と前記合金磁性材料薄膜との間にクロム膜が形成
されていることを特徴としている。
In order to solve the above-mentioned problems, the magnetic head according to the present invention has an alloy magnetic material thin film having high magnetic permeability and high saturation magnetic flux density, which has a gap between the gap-opposed surface of the oxide magnetic material core having high magnetic permeability. In the magnetic head formed parallel to the oxide magnetic material core, a chromium nitride film is formed on the gap-opposed surface of the oxide magnetic material core, and a chromium film is formed between the chromium nitride film and the alloy magnetic material thin film. It is characterized by the fact that it is formed.

なお、上記窒化クロム膜とクロム膜との合計膜厚は、2
0人〜200人の厚みの範囲内に設定されるのが望まし
く、かかる合計の膜厚が薄ければ薄いほど形状効果抑止
の機能が顕著となる。
The total thickness of the chromium nitride film and the chromium film is 2
It is desirable to set the thickness within the range of 0 to 200 people, and the thinner the total film thickness, the more remarkable the shape effect suppression function becomes.

〔作 用] 上記の構成によれば、ギャップ対向面上に形成された窒
化クロムにより、合金磁性材料薄膜と酸化物磁性材料コ
ア間の酸素等の相互拡散を抑制することができる。この
ため、酸化物磁性材料コアと合金磁性材料薄膜の境界面
付近での酸化物磁性材料コアおよび合金磁性材料薄膜の
軟磁気特性の劣化を防止でき、軟磁気特性が劣化した部
分が再生時にギャップとして作用することがなくなるた
め、形状効果を抑制して再生出力一周波数特性における
うねりを低減することができる。
[Function] According to the above configuration, mutual diffusion of oxygen and the like between the alloy magnetic material thin film and the oxide magnetic material core can be suppressed by the chromium nitride formed on the gap facing surface. Therefore, deterioration of the soft magnetic properties of the oxide magnetic material core and the alloy magnetic material thin film near the interface between the oxide magnetic material core and the alloy magnetic material thin film can be prevented, and the portion where the soft magnetic properties have deteriorated is left in the gap during playback. Therefore, the shape effect can be suppressed and the waviness in the reproduced output frequency characteristic can be reduced.

また、当該磁気ヘッドの製造においては、クロム膜上に
合金磁性材料薄膜が形成されることになるので、この合
金磁性材料薄膜においてその初期形成層および結晶構造
には乱れが殆ど生じず、良好な軟磁気特性を有するもの
となり、初期形成層の軟磁気特性が劣化した部分が再生
時にギャップとして作用するのが防止され、上述と同様
、形状効果を低減することができる。
In addition, in manufacturing the magnetic head, a thin film of alloy magnetic material is formed on the chromium film, so that the initially formed layer and crystal structure of this thin film of alloy magnetic material are hardly disturbed and have a good quality. It has soft magnetic properties, and the portion where the soft magnetic properties of the initially formed layer have deteriorated is prevented from acting as a gap during reproduction, and the shape effect can be reduced as described above.

〔実施例〕〔Example〕

本発明の一実施例を第1図および第2図に基づいて説明
すれば、以下の通りである. 本発明に係る磁気ヘッドにおいて、第1図(j)に示す
ように、高透磁率を有する酸化物磁性材料コア1・2に
おけるギャップ対向面3・3の各々には、所定幅を有し
且つギャップに対し平行な面を有する突出部3a・3a
が形成されている。この突出部3a・3aを含むギャッ
プ対向面3・3上には、IO人〜200人の厚みで窒化
クロム膜4が形成されており、この窒化クロム膜4上に
はクロム(Cr)膜9が10人〜200人の厚みで形成
されている。このクロム膜9上には、2μm〜6μmの
厚みで高透磁率および高飽和磁束密度を有する合金磁性
材料薄膜5が形成されている。
An embodiment of the present invention will be described below based on FIGS. 1 and 2. In the magnetic head according to the present invention, as shown in FIG. 1(j), each of the gap facing surfaces 3, 3 in the oxide magnetic material cores 1, 2 having high magnetic permeability has a predetermined width and Protrusions 3a, 3a having surfaces parallel to the gap
is formed. A chromium nitride film 4 with a thickness of IO to 200 is formed on the gap facing surfaces 3, 3 including the protrusions 3a, 3a, and a chromium (Cr) film 9 is formed on this chromium nitride film 4. is formed with a thickness of 10 to 200 people. On this chromium film 9, an alloy magnetic material thin film 5 having a thickness of 2 μm to 6 μm and having high magnetic permeability and high saturation magnetic flux density is formed.

そして、これら窒化クロム膜4および合金磁性材料薄膜
5の形成された酸化物磁性材料コア1・2同士は、その
突出部3a・3aの間にギャップ材として厚みが約0.
3μmのSint等の非磁性材料を介装した状態でギャ
ップ対向面3・3を互いに突き合わせて溶融ガラス6に
よって固着されている。
The oxide magnetic material cores 1 and 2 on which the chromium nitride film 4 and the alloy magnetic material thin film 5 are formed have a thickness of about 0.0 mm between the protrusions 3a and 3a as a gap material.
The gap facing surfaces 3 are butted against each other and fixed with molten glass 6 with a non-magnetic material such as Sint of 3 μm interposed therebetween.

上記磁気ヘッドを製造するには、同図(a)に示すよう
に、コアとなる酸化物磁性材料の一方のブロック1′に
外部巻線用溝1′ aとガラス充填用溝1’ bと内部
巻線用溝1’  cとを形成すると共に、同図(b)に
示すように、同じ《コアとなる酸化物磁性材料の他方の
ブロック2′に外部巻線用溝2’  aとガラス充填用
溝2’  bとを形成する。そして、ブロック1′ ・
2′におけるそれぞれのギャップ対.向面゜3とテーブ
摺動面7を鏡面状に研磨した後、同図(C)および(d
)に示すように、所定のギャップトラック幅を得るため
の溝(トラック溝)8・・・を形成する。次に、ギャッ
プ対向面30表層付近の加工変質層をエッチングにより
除去した後、同図(e)(f)(g)に示すヨウに、窒
化クロム膜4を、窒素ガスとアルゴンガスとの混合ガス
を用いる反応性スパッタリング法等により10人〜20
0人の厚みでギャップ対向面3上に形成した後、上記窒
化クロム膜4上にクロム膜9を、スパッタリング法等に
より1o人〜290人の厚みで形成する.なお、窒化ク
ロム膜4とクロム膜9との合計膜厚は、20人〜200
人の厚みの範囲内にあるのが望ましく、かかる合計の膜
厚が薄ければ薄いほど形状効果抑止の機能が顕著となる
In order to manufacture the above magnetic head, as shown in FIG. 3(a), one block 1' of the oxide magnetic material serving as the core is provided with an external winding groove 1'a and a glass filling groove 1'b. In addition to forming grooves 1'c for internal windings, as shown in FIG. 2(b), grooves 2'a for external windings and glass A filling groove 2'b is formed. And block 1'・
2' for each gap pair. After polishing the facing surface 3 and the tape sliding surface 7 to a mirror finish, the same figures (C) and (d)
), grooves (track grooves) 8 are formed to obtain a predetermined gap track width. Next, after removing the process-affected layer near the surface layer of the gap facing surface 30 by etching, the chromium nitride film 4 is coated with a mixture of nitrogen gas and argon gas as shown in FIGS. 10 to 20 people using reactive sputtering method using gas, etc.
After forming the chromium film 9 on the gap facing surface 3 to a thickness of 0.0 mm, a chromium film 9 is formed on the chromium nitride film 4 to a thickness of 1 to 290 mm by sputtering or the like. Note that the total thickness of the chromium nitride film 4 and the chromium film 9 is between 20 and 200%.
It is desirable that the thickness be within the range of human thickness, and the thinner the total film thickness, the more pronounced the shape effect suppression function.

クロム膜9の形成後、合金磁性材料薄膜5をクロム膜9
上にスパッタリング法等により2〜6μmの厚みで形成
する.そして、合金磁性材料薄膜5上におけるギャップ
形成部位にギャップ材としてSin.等の非磁性材料を
約0.3μmの厚みで形成する。次に、同図(h)に示
すように、上記のブロック1′ ・2′同士を各々のギ
ャップ対向面3・3を突き合わせて貼り合わせ、ガラス
充填用溝1’  b・2’ bおよび内部巻線用溝1’
 cによりそれぞれ形成される空洞部位に溶融ガラス6
を配置し加熱溶着する。そして、このようにして得られ
た磁気ヘッドブロックにおけるテープ摺動面7に、同図
(i)に示すように、曲面を形成した後、仮想線a・・
・に沿って切断することにより、同図(j)に示すよう
に、磁気ヘッド(まだ巻線の施されていない段階)が得
られる。従って、従来の製造工程とほぼ同様の製造工程
で磁気ヘッドを得ることができ、磁気ヘッドの量産性や
品質の均一性はそのまま維持され、磁気ヘッドの低価格
化も可能である。
After forming the chromium film 9, the alloy magnetic material thin film 5 is coated with the chromium film 9.
A layer with a thickness of 2 to 6 μm is formed on top by sputtering or the like. Then, a gap material of Sin. A non-magnetic material such as the like is formed to a thickness of about 0.3 μm. Next, as shown in the same figure (h), the above-mentioned blocks 1' and 2' are pasted together with their respective gap facing surfaces 3 and 3 facing each other, and the glass filling grooves 1' b and 2' b and the inside are bonded together. Winding groove 1'
The molten glass 6 is placed in each cavity formed by c.
Place and heat weld. Then, after forming a curved surface on the tape sliding surface 7 of the magnetic head block thus obtained, as shown in FIG.
By cutting along the lines, a magnetic head (not yet wound) can be obtained, as shown in FIG. 2(j). Therefore, a magnetic head can be obtained through a manufacturing process substantially similar to a conventional manufacturing process, mass productivity and uniformity of quality of the magnetic head can be maintained, and the price of the magnetic head can be reduced.

上記の構成によれば、ギャップ対向面3上に形成された
窒化クロム膜4により、合金磁性材料薄膜5と酸化物磁
性材料コア1・2間の酸素等の相互拡散を抑制すること
ができる。このため、酸化物磁性材料コア1・2と合金
磁性材料薄膜5の境界面付近での酸化物磁性材料コア1
・2および合金磁性材料薄膜5の軟磁気特性の劣化を防
止でき、軟磁気特性が劣化した部分が再生時にギャップ
として作用することがなくなるため、形状効果を抑制し
て再生出力一周波数特性におけるうねりを低減すること
ができる。
According to the above configuration, the chromium nitride film 4 formed on the gap facing surface 3 can suppress mutual diffusion of oxygen and the like between the alloy magnetic material thin film 5 and the oxide magnetic material cores 1 and 2. Therefore, the oxide magnetic material core 1 near the interface between the oxide magnetic material cores 1 and 2 and the alloy magnetic material thin film 5
・Deterioration of the soft magnetic properties of 2 and the alloy magnetic material thin film 5 can be prevented, and the portion where the soft magnetic properties have deteriorated no longer acts as a gap during playback, suppressing the shape effect and reducing the waviness in the playback output frequency characteristics. can be reduced.

また、当該磁気ヘッドの製造においては、クロム膜9上
に合金磁性材料薄膜5が形成されることになるので、こ
の合金磁性材料薄膜5においてその初期形成層および結
晶構造には乱れが殆ど生じず、良好な軟磁気特性を有す
るものとなり、初期形成層の軟磁気特性が劣化した部分
が再生時にギャップとして作用するのが防止され、上述
と同様、形状効果を低減することができる. 第2図は、窒素ガス20%、アルゴンガス80%の混合
ガスを用いて反応性スパッタリング法により厚み50人
の窒化クロム膜4を形成した後にスパッタリング法によ
り厚み50人のクロム膜9を形成し、このクロム膜9上
に合金磁性材料薄膜5としてセンダスト合金薄膜を4μ
mの厚みで形成して得られた磁気ヘッドにおける再生出
力一周波数特性図である。この特性試験において、磁気
ヘッドと記録媒体の相対速度は5.8m/sec、記録
媒体として保磁力900エルステッドのものを用いてい
る.この図から明らかなように、再生出力一周波数特性
におけるうねりは全周波数域において0.3dBの範囲
に低減されている.〔発明の効果〕 本発明に係る磁気ヘッドは、以上のように、高透磁率お
よび高飽和磁束密度を存する合金磁性材料薄膜が、高透
磁率を有する酸化物磁性材料コアのギャップ対向面側で
ギャップに対し平行に形成されている磁気ヘッドにおい
て、上記の酸化物磁性材料コアのギャップ対向面上に窒
化クロム膜が形成され、且つこの窒化クロム膜と前記合
金磁性材料薄膜との間にクロム膜が形成されている構成
である。
In addition, in manufacturing the magnetic head, since the alloy magnetic material thin film 5 is formed on the chromium film 9, there is almost no disturbance in the initially formed layer and crystal structure of the alloy magnetic material thin film 5. , it has good soft magnetic properties, and the portion where the soft magnetic properties of the initially formed layer have deteriorated is prevented from acting as a gap during reproduction, and the shape effect can be reduced as described above. FIG. 2 shows that after forming a chromium nitride film 4 with a thickness of 50 densities by reactive sputtering using a mixed gas of 20% nitrogen gas and 80% argon gas, a chromium nitride film 9 with a thickness of 50 densities is formed by sputtering. , a sendust alloy thin film of 4μ is deposited on this chromium film 9 as an alloy magnetic material thin film 5.
FIG. 4 is a reproduction output-frequency characteristic diagram of a magnetic head formed with a thickness of m. In this characteristic test, the relative speed between the magnetic head and the recording medium was 5.8 m/sec, and a recording medium with a coercive force of 900 Oe was used. As is clear from this figure, the waviness in the reproduced output one-frequency characteristic is reduced to a range of 0.3 dB in the entire frequency range. [Effects of the Invention] As described above, in the magnetic head according to the present invention, the alloy magnetic material thin film having high magnetic permeability and high saturation magnetic flux density is formed on the gap-opposing surface side of the oxide magnetic material core having high magnetic permeability. In a magnetic head formed parallel to the gap, a chromium nitride film is formed on the surface of the oxide magnetic material core facing the gap, and a chromium film is formed between the chromium nitride film and the alloy magnetic material thin film. This is the configuration in which .

これにより、いわゆる形状効果を抑制して再生出力一周
波数特性におけるうねりを低減することができ、再生信
号の品質を向上できるという効果を奏する。
Thereby, it is possible to suppress the so-called shape effect and reduce the waviness in the reproduced output-frequency characteristic, thereby achieving the effect that the quality of the reproduced signal can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図は本発明の一実施例を示すものであ
って、第1図(a)ないし(f)および(h)ないし(
j)はそれぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜
視図、同図(g)は同図(f)における要部の断面図、
第2図は磁気ヘッドにおける再生出力一周波数特性のグ
ラフ、第3図および第4図は従来例を示すものであって
、第3図(a)ないし(f)および(h)ないし(j)
はそれぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図
、同図(g)は同図(f)における要部の断面図、第4
図は磁気ヘッドにおける再生出力一周波数特性のグラフ
、第5図および第6図は他の従来例を示すものであって
、第5図(a)ないし(f)および(h)ないし(j)
はそれぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図
、同図(g)は同図(f)における要部の断面図、第6
図は磁気ヘッドにおける再生出力一周波数特性のグラフ
、第7図および第8図は他の従来例を示すものであって
、第7図(a)ないし(f)および(h)ないし(j)
はそれぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図
、同図(g)は同図(f)における要部の断面図、第8
図は磁気ヘッドにおける再生出力一周波数特性のグラフ
である。 1・2は酸化物磁性材料コア、1′ ・2′は酸化物磁
性材料のブロック、3はギャップ対向面、4は窒化クロ
ム膜、5は合金磁性材料薄膜、6は溶融ガラス、9はク
ロム膜である。 箔 図(C) ラ康数(MHz) 図(b) 図(d) ]1 第 図(C) 第 図(b) ]2 第 3図(d) 冨 図(a) ]] 萬 図(c) 冨 図 ■仮{欠(MHz) 第 図(b) 第 ズ(d) 冨 ! O Rn 5/J一一fi(MHz) 冨 ズ(a) 箪 図(C) 名 図(b) ]2 第 図(d) 冨 図 周 5fL数(MHz)
FIGS. 1 and 2 show an embodiment of the present invention, and FIGS. 1(a) to (f) and (h) to (
j) is a perspective view showing each stage of the manufacturing process of the magnetic head, FIG.
Fig. 2 is a graph of reproduction output versus frequency characteristics of a magnetic head, Figs. 3 and 4 show conventional examples, and Figs. 3 (a) to (f) and (h) to (j)
are perspective views showing each stage of the manufacturing process of the magnetic head, FIG. 4(g) is a sectional view of the main part in FIG.
The figure is a graph of reproduction output versus frequency characteristics in a magnetic head, and Figures 5 and 6 show other conventional examples. Figures 5 (a) to (f) and (h) to (j)
6 is a perspective view showing each stage of the manufacturing process of the magnetic head, FIG.
The figure is a graph of reproduction output versus frequency characteristics in a magnetic head, and Figures 7 and 8 show other conventional examples. Figures 7 (a) to (f) and (h) to (j)
8 is a perspective view showing each stage of the manufacturing process of the magnetic head, FIG.
The figure is a graph of reproduction output versus frequency characteristics in a magnetic head. 1 and 2 are oxide magnetic material cores, 1' and 2' are oxide magnetic material blocks, 3 is a gap facing surface, 4 is a chromium nitride film, 5 is an alloy magnetic material thin film, 6 is molten glass, and 9 is chromium It is a membrane. Foil diagram (C) Ray frequency (MHz) Figure (b) Figure (d) ] 1 Figure (C) Figure (b) ] 2 Figure 3 (d) Tomi diagram (a) ]] Manzu (c ) Tomizu■ Kari {missing (MHz) Diagram (b) Z (d) Tomi! O Rn 5/J11fi (MHz) Tomizu (a) Tanzu (C) Meizu (b) ]2 Fig. (d) Tomizu circumference 5fL number (MHz)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、高透磁率および高飽和磁束密度を有する合金磁性材
料薄膜が、高透磁率を有する酸化物磁性材料コアのギャ
ップ対向面側でギャップに対し平行に形成されている磁
気ヘッドにおいて、 上記の酸化物磁性材料コアのギャップ対向面上に窒化ク
ロム膜が形成され、且つこの窒化クロム膜と前記合金磁
性材料薄膜との間にクロム膜が形成されていることを特
徴とする磁気ヘッド。
[Claims] 1. A magnetic alloy magnetic material thin film having high magnetic permeability and high saturation magnetic flux density is formed parallel to the gap on the side of the gap-opposing surface of the oxide magnetic material core having high magnetic permeability. In the head, a chromium nitride film is formed on the gap-opposing surface of the oxide magnetic material core, and a chromium film is formed between the chromium nitride film and the alloy magnetic material thin film. magnetic head.
JP5435189A 1989-03-07 1989-03-07 Magnetic head Pending JPH02235210A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5435189A JPH02235210A (en) 1989-03-07 1989-03-07 Magnetic head

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5435189A JPH02235210A (en) 1989-03-07 1989-03-07 Magnetic head

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02235210A true JPH02235210A (en) 1990-09-18

Family

ID=12968210

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5435189A Pending JPH02235210A (en) 1989-03-07 1989-03-07 Magnetic head

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02235210A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003042984A1 (en) * 2001-11-16 2003-05-22 Hitachi Maxell, Ltd. Magnetic recording medium, its manufacturing method, and magnetic storage

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003042984A1 (en) * 2001-11-16 2003-05-22 Hitachi Maxell, Ltd. Magnetic recording medium, its manufacturing method, and magnetic storage

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH02235210A (en) Magnetic head
US5022140A (en) Method of manufacturing magnetic head
JPH02193305A (en) Magnetic head
JPH0366008A (en) Magnetic head
JPH02260210A (en) Magnetic head
JPH0240113A (en) Manufacture of magnetic head
JPH01173306A (en) Magnetic head and its production
JPH0354707A (en) Composite type magnetic head
JPH05217107A (en) Magnetic head
JPH05282619A (en) Magnetic head
JPH03152706A (en) Composite magnetic head
JPH0371405A (en) Composite magnetic head
JPS63167407A (en) Magnetic erasing head
JPS61250806A (en) Magnetic head and its manufacture
JPS61280009A (en) Magnetic head
JPH10228604A (en) Composite magnetic head
JPH0554168B2 (en)
JPH02289909A (en) Magnetic head and production of magnetic head
JPH03248306A (en) Manufacture of magnetic head
JPH0448416A (en) Magnetic head
JPH01277307A (en) Production of magnetic head
JPH06162436A (en) Composite magnetic head
JPH08167104A (en) Production of magnetic head
JPS61110311A (en) Production of magnetic head
JPH03183005A (en) Manufacture of magnetic head