JPH02225521A - ポリ(アミド/シロキサン)樹脂およびそれを用いた耐熱性コーティング剤 - Google Patents
ポリ(アミド/シロキサン)樹脂およびそれを用いた耐熱性コーティング剤Info
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- JPH02225521A JPH02225521A JP4519289A JP4519289A JPH02225521A JP H02225521 A JPH02225521 A JP H02225521A JP 4519289 A JP4519289 A JP 4519289A JP 4519289 A JP4519289 A JP 4519289A JP H02225521 A JPH02225521 A JP H02225521A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ポリアミド単位とポリジメチルシロキサン単
位からなる新規な共重合体であり、特に接着性を有し耐
熱性コーティング剤として有用であるポリ(アミド/シ
ロキサン)樹脂に関するものである。
位からなる新規な共重合体であり、特に接着性を有し耐
熱性コーティング剤として有用であるポリ(アミド/シ
ロキサン)樹脂に関するものである。
一般にポリアミド樹脂は優れた耐熱性、機械的性質およ
び電気的性質を有しているため、電子産業分野などにお
いてフィルム用素材、コーティング素材などとして広く
利用されている。
び電気的性質を有しているため、電子産業分野などにお
いてフィルム用素材、コーティング素材などとして広く
利用されている。
しかしながら、耐熱性のポリアミド樹脂は溶剤溶解性に
劣り、工業材料としての使用が容易でない、この欠点を
改善する方法とし2ては、例えば特開昭60−2929
83号公報には、9.9−ビス(4−アミノフェニル)
フル第1/ンを導入したポリマーがN−メチル−2−ピ
ロリドン、ジメチルホルムアミドなどの極性溶媒に溶解
し、作業性が向上することが開示されている。
劣り、工業材料としての使用が容易でない、この欠点を
改善する方法とし2ては、例えば特開昭60−2929
83号公報には、9.9−ビス(4−アミノフェニル)
フル第1/ンを導入したポリマーがN−メチル−2−ピ
ロリドン、ジメチルホルムアミドなどの極性溶媒に溶解
し、作業性が向上することが開示されている。
しかし、これらの樹脂も含め従来のポリアミド樹脂は前
述の分野に利用する場合、基材との接着性、特にガラス
基板などとの接着性が悪く、これを改良するために、あ
る種のカップリング剤等が添加され利用されているもの
の(特開昭61−256480号公報)、その使用範囲
が大きく限定されているのが現状といえる。
述の分野に利用する場合、基材との接着性、特にガラス
基板などとの接着性が悪く、これを改良するために、あ
る種のカップリング剤等が添加され利用されているもの
の(特開昭61−256480号公報)、その使用範囲
が大きく限定されているのが現状といえる。
特開昭60−292983号公報に開示されているポリ
アミド樹脂は、有機溶媒に可溶性であることから、その
濃度や粘度を調整することによって基材上に一定の厚み
で塗布することができ、単に溶媒を加熱除去するだけで
均一な塗膜を形成させることが可能であり、しかも耐熱
性は300°C以[で、機械的性質、電気的性質に優れ
たものである。
アミド樹脂は、有機溶媒に可溶性であることから、その
濃度や粘度を調整することによって基材上に一定の厚み
で塗布することができ、単に溶媒を加熱除去するだけで
均一な塗膜を形成させることが可能であり、しかも耐熱
性は300°C以[で、機械的性質、電気的性質に優れ
たものである。
しかしながら、かかるポリアミド樹脂をコーティング剤
として、特に電子材料用途、例えば集積回路、トランジ
スタ、磁気ヘッドなどの眉間絶縁膜、太陽電池用絶縁膜
、液晶表示素子の配向膜、yll悪感熱ヘツド絶縁膜、
パッシベーション膜、ジャンクションコート膜、防湿膜
、樹脂封止型集積回路などの表面保護膜など、多様な種
類の基材上−\コーティングする場合、用いられる基材
に対して接着性が満足するものではないという問題を有
し、塗膜と基材との接着性が不足すると、組み込まれる
電子機器の高度の耐久性、信頼性に問題を生起すること
になる。
として、特に電子材料用途、例えば集積回路、トランジ
スタ、磁気ヘッドなどの眉間絶縁膜、太陽電池用絶縁膜
、液晶表示素子の配向膜、yll悪感熱ヘツド絶縁膜、
パッシベーション膜、ジャンクションコート膜、防湿膜
、樹脂封止型集積回路などの表面保護膜など、多様な種
類の基材上−\コーティングする場合、用いられる基材
に対して接着性が満足するものではないという問題を有
し、塗膜と基材との接着性が不足すると、組み込まれる
電子機器の高度の耐久性、信頼性に問題を生起すること
になる。
〔発明が解決しようとする課題]
本発明は、かかる従来の技術的課題を背景になされたも
ので、耐熱性、機械的性質、電気的性質、透明性などに
優れ、かつ接着性の優れた樹脂とそれを用いた耐熱性コ
ーティング剤を提供するものである。
ので、耐熱性、機械的性質、電気的性質、透明性などに
優れ、かつ接着性の優れた樹脂とそれを用いた耐熱性コ
ーティング剤を提供するものである。
すなわち、本発明は式(N
o、3g/aのポリ (アミド/シロキサン)樹脂を提
供する。
供する。
本発明は、更に、上記のポリ(アミド/シロキサン)樹
脂を溶媒に希釈してなる耐熱性コーティング剤を提供す
る。
脂を溶媒に希釈してなる耐熱性コーティング剤を提供す
る。
本発明の新規なポリ(アミド/シロキサン)樹脂は、例
えば酸成分として下記式(■)で表される芳香族ジカル
ボン酸、そしてジアミン成分として下記式(In)芳香
族ジアンと弐(■)のジメチルシロキナンの両末端プロ
ピルアミンとの混合物を用いて適宜、有機溶媒中で脱塩
酸剤と共に室温、好ましくは10〜15°Cで撹拌する
ことに、1っで製造することができる。
えば酸成分として下記式(■)で表される芳香族ジカル
ボン酸、そしてジアミン成分として下記式(In)芳香
族ジアンと弐(■)のジメチルシロキナンの両末端プロ
ピルアミンとの混合物を用いて適宜、有機溶媒中で脱塩
酸剤と共に室温、好ましくは10〜15°Cで撹拌する
ことに、1っで製造することができる。
1100c −R−C00II
・・・(IN)ルキル基を示し、!−1〜15、m及
びnはそれぞれ繰り返し数を示す)で表わされる繰′り
返し、中位数を有する固在粘度(η1□)が少なくとも
(式中のR,R’及びlは前記定義の通りである。)本
発明で用いられる式(II)で表される芳香族ジカルボ
ン酸の具体例としては、フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、メチルフタル酸などを挙げることができる。
・・・(IN)ルキル基を示し、!−1〜15、m及
びnはそれぞれ繰り返し数を示す)で表わされる繰′り
返し、中位数を有する固在粘度(η1□)が少なくとも
(式中のR,R’及びlは前記定義の通りである。)本
発明で用いられる式(II)で表される芳香族ジカルボ
ン酸の具体例としては、フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、メチルフタル酸などを挙げることができる。
また式(III)で表される芳香族ジアミンの具体例と
しては、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレ
ン、9.9−ビス(3−メチル−4−アミノフェニル)
フルオレン、9.9−ビス(3−エチル−4−アミノフ
ェニル)フルオレンなどを挙げることができる。また、
式(■)で表される両末端にアミノプロピル基をもつジ
メチルシロキサンはlが1〜15であり、特にガラスと
の接着性を考慮すれば!=2〜10になるように設定す
るのが好ましい、j2が16以上になると基材との接着
性が著しく低下し、同時にガラス転移温度が下がり、耐
熱性を損なう原因となる。
しては、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレ
ン、9.9−ビス(3−メチル−4−アミノフェニル)
フルオレン、9.9−ビス(3−エチル−4−アミノフ
ェニル)フルオレンなどを挙げることができる。また、
式(■)で表される両末端にアミノプロピル基をもつジ
メチルシロキサンはlが1〜15であり、特にガラスと
の接着性を考慮すれば!=2〜10になるように設定す
るのが好ましい、j2が16以上になると基材との接着
性が著しく低下し、同時にガラス転移温度が下がり、耐
熱性を損なう原因となる。
反応に使用する脱塩酸剤としては通常用いられる任意の
脱塩酸剤とすることができるが、トリエチルアミン及び
ピリジンの使用が好適であり、反応溶液中に混合して使
用する。また、反応溶媒としては、反応に不活性で上記
の原料を溶解し、かつ生成するポリ(アミド/シロキサ
ン)樹脂を溶解するものが好適である。好ましい反応溶
媒としては、N−メチル−2−ピロリドン、N、N−ジ
メチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトンアミド
などの非プロトン性極性有機溶媒が例示される。また、
低沸点溶媒であるテトラヒドロフラン、ジオキサンもポ
リ(アミド/シロキサン)樹脂を熔解するので溶媒とし
て用いてもよい。溶媒の使用量は特に限定されないが、
反応物の全重量Logあたり溶媒100〜200cc程
度が溶解度や反応時間の点から適当である。
脱塩酸剤とすることができるが、トリエチルアミン及び
ピリジンの使用が好適であり、反応溶液中に混合して使
用する。また、反応溶媒としては、反応に不活性で上記
の原料を溶解し、かつ生成するポリ(アミド/シロキサ
ン)樹脂を溶解するものが好適である。好ましい反応溶
媒としては、N−メチル−2−ピロリドン、N、N−ジ
メチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトンアミド
などの非プロトン性極性有機溶媒が例示される。また、
低沸点溶媒であるテトラヒドロフラン、ジオキサンもポ
リ(アミド/シロキサン)樹脂を熔解するので溶媒とし
て用いてもよい。溶媒の使用量は特に限定されないが、
反応物の全重量Logあたり溶媒100〜200cc程
度が溶解度や反応時間の点から適当である。
反応温度は、0〜50°C1好ましくは10〜20°C
の範囲であり、反応時間は通常30分から1時間の範囲
で十分である。
の範囲であり、反応時間は通常30分から1時間の範囲
で十分である。
本発明において、高重合度の優れたポリ(アミド/シロ
キサン)樹脂を得るには、ジアミン成分とカルボン酸成
分のモル比が等しくなるように原料を用いる。また、十
分な反応を行なうために反応溶媒はモレキュラーシーブ
などで脱水乾燥しておくのが好ましい。
キサン)樹脂を得るには、ジアミン成分とカルボン酸成
分のモル比が等しくなるように原料を用いる。また、十
分な反応を行なうために反応溶媒はモレキュラーシーブ
などで脱水乾燥しておくのが好ましい。
シロキサン成分の含有量は上記の制限の範囲において、
適宜選択するがシロキサン成分の含有量が少ないと製造
したポリ(アミド/シロキサン)樹脂の基材に対する接
着性が十分でなく、また、シロキサン成分の含有量が多
すぎると本発明のポリ(アミド/シロキサン)樹脂を溶
液として塗布する際に、塗膜の表面特性が変化したり、
耐熱性が低下する要因となる。この観点からシロキサン
成分の含有量は10〜60重量%、特に20〜40重量
%の範囲とするのが好ましい。
適宜選択するがシロキサン成分の含有量が少ないと製造
したポリ(アミド/シロキサン)樹脂の基材に対する接
着性が十分でなく、また、シロキサン成分の含有量が多
すぎると本発明のポリ(アミド/シロキサン)樹脂を溶
液として塗布する際に、塗膜の表面特性が変化したり、
耐熱性が低下する要因となる。この観点からシロキサン
成分の含有量は10〜60重量%、特に20〜40重量
%の範囲とするのが好ましい。
本発明のポリ(アミド/シロキサン)樹脂は、製造に用
いた同様の溶剤に溶解させ、コーチイン剤とすることが
できる。このコーティング剤は、適宜、支持基材等に流
延塗布した後、加熱などにより、溶媒を蒸発させて均一
な膜を形成することができる。また、この膜は上記の溶
媒以外の殆どの有機溶媒に不活性である。そのため、先
に述べた従来のコーティング剤の用いられいた種々の用
途に適用することができる。
いた同様の溶剤に溶解させ、コーチイン剤とすることが
できる。このコーティング剤は、適宜、支持基材等に流
延塗布した後、加熱などにより、溶媒を蒸発させて均一
な膜を形成することができる。また、この膜は上記の溶
媒以外の殆どの有機溶媒に不活性である。そのため、先
に述べた従来のコーティング剤の用いられいた種々の用
途に適用することができる。
また本発明のポリ(アミド/シロキサン)樹脂は固有粘
度(ηrnh )が0.3g/di以上であることが必
要である。なお、固有粘度はN−メチル−2−ピロリド
ン100d中に本発明のポリ(アミド/シロキサン)樹
脂0.5gを溶解した溶液を用いて30°Cで測定する
ことにより求めることができる。固を粘度が0.3g/
a未満では重合度が低く、フィルムや成形物への成形が
困難であり、強度などの物性も不十分である。またコー
ティング剤として用いる場合も同様に膜形成時の機械的
強度などに著るしく支障をきたすことになる。
度(ηrnh )が0.3g/di以上であることが必
要である。なお、固有粘度はN−メチル−2−ピロリド
ン100d中に本発明のポリ(アミド/シロキサン)樹
脂0.5gを溶解した溶液を用いて30°Cで測定する
ことにより求めることができる。固を粘度が0.3g/
a未満では重合度が低く、フィルムや成形物への成形が
困難であり、強度などの物性も不十分である。またコー
ティング剤として用いる場合も同様に膜形成時の機械的
強度などに著るしく支障をきたすことになる。
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する。
1施11.−
撹拌器を備えた玉ツロフラスコ11容器に9゜9−ビス
(4−アミノフェニル)フルオレン27.84g (8
0+s@ol)と、1.3−ビスアミノブロビルジメチ
ルシロキザン4..97 g (2011mo+)と、
トリエチルアミン20.2 g (200mmol)に
溶解した。
(4−アミノフェニル)フルオレン27.84g (8
0+s@ol)と、1.3−ビスアミノブロビルジメチ
ルシロキザン4..97 g (2011mo+)と、
トリエチルアミン20.2 g (200mmol)に
溶解した。
反応槽を10〜15°Cに保ちながら、テレフタル酸ク
ロライド20.2 g (I00mmol)を固体のに
ま、徐々に加えた。30分間撹拌の後、析出1−たトリ
エチルアミン・塩酸塩を濾去j7、無色透明のポリ(ア
ミド/シロキサン)溶液を得た。さらに、これをメタノ
ール中に注ぎ、析出物を濾別シ2.乾燥し目的のポリ(
アミド/シロキチン)樹脂を得た。
ロライド20.2 g (I00mmol)を固体のに
ま、徐々に加えた。30分間撹拌の後、析出1−たトリ
エチルアミン・塩酸塩を濾去j7、無色透明のポリ(ア
ミド/シロキサン)溶液を得た。さらに、これをメタノ
ール中に注ぎ、析出物を濾別シ2.乾燥し目的のポリ(
アミド/シロキチン)樹脂を得た。
得られたポリエスラルの物性は、固有粘度(ηi、、b
) 0.8 g/社、゛pyラス転移温度325°C
ごあった。
) 0.8 g/社、゛pyラス転移温度325°C
ごあった。
尚、固有粘度は、N−メチル−2−ピロリドン1.0O
III中に本発明のポリ(アミド、/シロキサン)樹脂
025gを溶解した溶液を用いて、30“Cで測定した
。
III中に本発明のポリ(アミド、/シロキサン)樹脂
025gを溶解した溶液を用いて、30“Cで測定した
。
また、前記ポリ(アミド/パ′シロキサン)樹脂を、N
−メチル−2−ピロリドンに溶解し、ガラス板では接着
するため、テフロン板上に溶液を流延t12、減圧乾燥
してポリ (アミド/シロキサン)フィルムを得た。こ
のフィルムの引張強度は10.6にF、、 f /M、
”、引張弾性率は410にgf/mm”であった。
−メチル−2−ピロリドンに溶解し、ガラス板では接着
するため、テフロン板上に溶液を流延t12、減圧乾燥
してポリ (アミド/シロキサン)フィルムを得た。こ
のフィルムの引張強度は10.6にF、、 f /M、
”、引張弾性率は410にgf/mm”であった。
前記フィルトの、この他の特性としては、体積抵抗率3
.6X10”Ω−cm (23”C) 、7.6 X
101oΩcrn (200”C) 、誘電率4.30
、誘電正接0.042(門11z)、絶縁破壊強度88
KV/mm、全光線透過率90.fi%、屈折率1.6
9であった。
.6X10”Ω−cm (23”C) 、7.6 X
101oΩcrn (200”C) 、誘電率4.30
、誘電正接0.042(門11z)、絶縁破壊強度88
KV/mm、全光線透過率90.fi%、屈折率1.6
9であった。
次にこのポリ (゛アミド/シロキサン)樹脂を、N−
メチル−2−ピロリドンに溶解し3重r%溶液と17だ
コーティング剤を作成した。このコーティング剤をガラ
ス基板上にスピナーを用いて塗布し、た。塗布後、20
0″Cで1時間乾燥させた。得られたポリ (“7ミド
/シロキチン)樹脂の塗膜のj¥さは1.07/lIで
あった。
メチル−2−ピロリドンに溶解し3重r%溶液と17だ
コーティング剤を作成した。このコーティング剤をガラ
ス基板上にスピナーを用いて塗布し、た。塗布後、20
0″Cで1時間乾燥させた。得られたポリ (“7ミド
/シロキチン)樹脂の塗膜のj¥さは1.07/lIで
あった。
得られた塗膜にカッターアイフで中1順、縦11本、横
11本の切込みを入れ、10XiO個の基盤目を作った
。そのままの状態と沸騰水に浸漬した後、各々基盤目に
セr、1テープをはりつけ、剥離試験を行なった。はが
れた基盤目の数はOであ・)た。
11本の切込みを入れ、10XiO個の基盤目を作った
。そのままの状態と沸騰水に浸漬した後、各々基盤目に
セr、1テープをはりつけ、剥離試験を行なった。はが
れた基盤目の数はOであ・)た。
実−施例?
9.9〜ビス(4−アミノ;フェニル)フルオレンと1
.3−ビスアミノプロビルジメナルシ04→Jン混合物
100ミリモル(モル比ご50150及び40/60)
をrく−・〜メチル上−2ピロリドン20(bd(こ)
容解後、実施例1と同様CテL・フタル酸クロライド1
.00 ミリモルを固体のまま徐々に加えた。得られた
ポリ(アミド/′シ[′7+サン)の物性は、それぞれ
固有粘度でO−7j: 、、、、/ dQ及び0.6#
¥/′8で、ガラス転移温度は各々310°C及び30
0°Cごあった。1また、実施例1と同様に塗布試験を
行な、た。結果を表1に示す。
.3−ビスアミノプロビルジメナルシ04→Jン混合物
100ミリモル(モル比ご50150及び40/60)
をrく−・〜メチル上−2ピロリドン20(bd(こ)
容解後、実施例1と同様CテL・フタル酸クロライド1
.00 ミリモルを固体のまま徐々に加えた。得られた
ポリ(アミド/′シ[′7+サン)の物性は、それぞれ
固有粘度でO−7j: 、、、、/ dQ及び0.6#
¥/′8で、ガラス転移温度は各々310°C及び30
0°Cごあった。1また、実施例1と同様に塗布試験を
行な、た。結果を表1に示す。
実施例−3
実施例1において、、 t 、 3 じスアミノブ
ロビルジメチルシロキリ゛ン(jl、−2)の代わりに
N=10の両末端アミツブ1−iビルジメチルシ1.1
1ユサンを用いてポリ (アミド/シロキ4j y )
を合成し、同様の塗布試験を行なった。結果を表1に示
す。
ロビルジメチルシロキリ゛ン(jl、−2)の代わりに
N=10の両末端アミツブ1−iビルジメチルシ1.1
1ユサンを用いてポリ (アミド/シロキ4j y )
を合成し、同様の塗布試験を行なった。結果を表1に示
す。
i1例−↓
9.9−−ビス−(4−アミノフェニル)フルオレン8
0ミリ士ルと1,3−ビスアミツブ11ビルジメチルシ
ロキサン(ffi=16)20ミリモルとj〜リエチル
アミン200ミリモルをN−メチル−2−ビリリドンに
溶解し、テレフタル酸クロライド1.00ミリモルを徐
々に加えていった。その得られた樹脂組成物を用い−こ
、実施例1と同様の塗布試験4行なった。結果を表1に
示イ。
0ミリ士ルと1,3−ビスアミツブ11ビルジメチルシ
ロキサン(ffi=16)20ミリモルとj〜リエチル
アミン200ミリモルをN−メチル−2−ビリリドンに
溶解し、テレフタル酸クロライド1.00ミリモルを徐
々に加えていった。その得られた樹脂組成物を用い−こ
、実施例1と同様の塗布試験4行なった。結果を表1に
示イ。
1七9A孕−?−
比較例1において、1.3−ビスアミノプロビルジメグ
・ルシロキサン(I,=1.6)の代わりにP−20の
両末端“Iミノブロビルジメチルシ[1キザンを用いて
ポリ(アミド/シロキサン)を合成し、同様の塗布試験
を行なった。結果を表1にポす。
・ルシロキサン(I,=1.6)の代わりにP−20の
両末端“Iミノブロビルジメチルシ[1キザンを用いて
ポリ(アミド/シロキサン)を合成し、同様の塗布試験
を行なった。結果を表1にポす。
本発明のポリ(アミド/シロキサン)樹脂は、耐熱性、
機械的性質、iiz的性質性質明性などに優れており、
このポリ(アミド/シロキサン)樹脂を溶媒に希釈した
コーティング剤は、ガラス等の基板との接着性に優れた
もので、電子産業部門において、特に半導体の保護膜及
びカラーフィルターの保護膜等に好適に用いることがで
き、その基板との剥離、基板界面との水分の侵入等を効
果的に防止できることから、信顛性の高い製品を提供す
ることに貢献するものである。
機械的性質、iiz的性質性質明性などに優れており、
このポリ(アミド/シロキサン)樹脂を溶媒に希釈した
コーティング剤は、ガラス等の基板との接着性に優れた
もので、電子産業部門において、特に半導体の保護膜及
びカラーフィルターの保護膜等に好適に用いることがで
き、その基板との剥離、基板界面との水分の侵入等を効
果的に防止できることから、信顛性の高い製品を提供す
ることに貢献するものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Rは▲数式、化学式、表等があります▼を、R′
は水素または低級アルキル基を示し、l=1〜15、m
及びnはそれぞれ繰り返し数を示す)で表される繰り返
し単位を有する固有粘度が少なくとも0.3g/dlの
ポリ(アミド/シロキサン)樹脂。 2、請求項1記載のポリ(アミド/シロキサン)樹脂を
溶媒に希釈してなる耐熱性コーティング剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4519289A JPH02225521A (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | ポリ(アミド/シロキサン)樹脂およびそれを用いた耐熱性コーティング剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4519289A JPH02225521A (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | ポリ(アミド/シロキサン)樹脂およびそれを用いた耐熱性コーティング剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02225521A true JPH02225521A (ja) | 1990-09-07 |
Family
ID=12712407
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4519289A Pending JPH02225521A (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | ポリ(アミド/シロキサン)樹脂およびそれを用いた耐熱性コーティング剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02225521A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007211204A (ja) * | 2006-02-13 | 2007-08-23 | Hitachi Chem Co Ltd | 耐熱性樹脂ワニス、耐熱性樹脂ワニスを添加した耐熱性コーティング剤及び耐熱性コーティング剤を用いた絶縁膜又は半導体装置 |
JP2007246897A (ja) * | 2006-02-15 | 2007-09-27 | Hitachi Chem Co Ltd | 耐熱性樹脂ペースト、耐熱性樹脂ペーストの製造方法、及び耐熱性樹脂ペーストから得られる絶縁膜又は保護膜を有する半導体装置 |
-
1989
- 1989-02-28 JP JP4519289A patent/JPH02225521A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007211204A (ja) * | 2006-02-13 | 2007-08-23 | Hitachi Chem Co Ltd | 耐熱性樹脂ワニス、耐熱性樹脂ワニスを添加した耐熱性コーティング剤及び耐熱性コーティング剤を用いた絶縁膜又は半導体装置 |
JP2007246897A (ja) * | 2006-02-15 | 2007-09-27 | Hitachi Chem Co Ltd | 耐熱性樹脂ペースト、耐熱性樹脂ペーストの製造方法、及び耐熱性樹脂ペーストから得られる絶縁膜又は保護膜を有する半導体装置 |
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