JPH0222497B2 - - Google Patents
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- JPH0222497B2 JPH0222497B2 JP20307983A JP20307983A JPH0222497B2 JP H0222497 B2 JPH0222497 B2 JP H0222497B2 JP 20307983 A JP20307983 A JP 20307983A JP 20307983 A JP20307983 A JP 20307983A JP H0222497 B2 JPH0222497 B2 JP H0222497B2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/50—Repairing or regenerating used or defective discharge tubes or lamps
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W30/00—Technologies for solid waste management
- Y02W30/50—Reuse, recycling or recovery technologies
- Y02W30/82—Recycling of waste of electrical or electronic equipment [WEEE]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野]
この発明は、カラー陰極線管用シヤドウマスク
の再生方法に関し、詳しくはゲツタフラツシング
を終了したカラー陰極線管に内蔵されたシヤドウ
マスクの再生方法に関するものである。
の再生方法に関し、詳しくはゲツタフラツシング
を終了したカラー陰極線管に内蔵されたシヤドウ
マスクの再生方法に関するものである。
[従来技術]
一般に、カラー陰極線管の製造過程で不良管が
発生した場合、カラー陰極線管を構成する材料費
が比較的高価なため、カラー陰極線管全体を廃棄
するのは不経済であり、主要構成部品であるパネ
ル、フアンネルおよびシヤドウマスクを回収し、
再生することが行なわれている。
発生した場合、カラー陰極線管を構成する材料費
が比較的高価なため、カラー陰極線管全体を廃棄
するのは不経済であり、主要構成部品であるパネ
ル、フアンネルおよびシヤドウマスクを回収し、
再生することが行なわれている。
第1図はカラー陰極線管の要部切欠断面を示
す。カラー陰極線管1は、その内面のパネルピン
に懸架されたシヤドウマスク2およびこれと対向
する内面に形成された蛍光膜3を備えたパネル部
1aと、電子銃4を収納したネツク部1bと、そ
の内面に導通ダツクが塗布され、上記電子銃4に
支持されて突出して位置するゲツタ5を備えたフ
アンネル部1cとから構成されている。
す。カラー陰極線管1は、その内面のパネルピン
に懸架されたシヤドウマスク2およびこれと対向
する内面に形成された蛍光膜3を備えたパネル部
1aと、電子銃4を収納したネツク部1bと、そ
の内面に導通ダツクが塗布され、上記電子銃4に
支持されて突出して位置するゲツタ5を備えたフ
アンネル部1cとから構成されている。
このようなカラー陰極線管1の製造過程におい
て種々のトラブルが発生し、ゲツタフラツシング
後の検査工程にて不良が発生した場合には、カラ
ー陰極線管1のネツク部1bにクラツクを入れて
真空を破壊したのち、約10%硝酸にてパネル部1
aとフアンネル部1cとを結合するフリツトガラ
スを一部溶解し、温・冷水によるヒートサイクル
にかけてパネル部1aとフアンネル部1cとを分
離する。そして、内臓されたシヤドウマスク2を
取り出し、パネル部1aとフアンネル部1cの残
余のフリツトガラスを除去するとともに、内面の
蛍光膜3もしくは導通ダツクを除去し、フアンネ
ル部1cに新らしくネツク部1bを継ぎ換えて回
収、再生を終了する。
て種々のトラブルが発生し、ゲツタフラツシング
後の検査工程にて不良が発生した場合には、カラ
ー陰極線管1のネツク部1bにクラツクを入れて
真空を破壊したのち、約10%硝酸にてパネル部1
aとフアンネル部1cとを結合するフリツトガラ
スを一部溶解し、温・冷水によるヒートサイクル
にかけてパネル部1aとフアンネル部1cとを分
離する。そして、内臓されたシヤドウマスク2を
取り出し、パネル部1aとフアンネル部1cの残
余のフリツトガラスを除去するとともに、内面の
蛍光膜3もしくは導通ダツクを除去し、フアンネ
ル部1cに新らしくネツク部1bを継ぎ換えて回
収、再生を終了する。
他方、シヤドウマスク2は第2図に示すよう
に、その表面にゲツタ膜6が蒸着されて付着して
おり、これを除去するのに高濃度の苛性ソーダ溶
液による洗浄、アルコールによる洗浄、三酸化ク
ロムなどの各種酸化剤溶液による洗浄が実施され
ており、時には以上の溶液中でのこすり洗いなど
も追加されている。
に、その表面にゲツタ膜6が蒸着されて付着して
おり、これを除去するのに高濃度の苛性ソーダ溶
液による洗浄、アルコールによる洗浄、三酸化ク
ロムなどの各種酸化剤溶液による洗浄が実施され
ており、時には以上の溶液中でのこすり洗いなど
も追加されている。
しかしながら、そのいずれもシヤドウマスク2
の表面に形成されている黒化膜を変質、損傷させ
るばかりでなく、マスク球面が変形したり、再生
時間がかかるために再生途中で発錆する問題があ
る上に、ゲツタ膜6をも完全に除去しきれず、そ
のために再利用に際して途中工程での黒化膜脱
落、発錆、目詰りなどのトラブルが頻発し、再生
に要する時間のわりには再生化率が悪く、良好な
再生方法ではなかつた。
の表面に形成されている黒化膜を変質、損傷させ
るばかりでなく、マスク球面が変形したり、再生
時間がかかるために再生途中で発錆する問題があ
る上に、ゲツタ膜6をも完全に除去しきれず、そ
のために再利用に際して途中工程での黒化膜脱
落、発錆、目詰りなどのトラブルが頻発し、再生
に要する時間のわりには再生化率が悪く、良好な
再生方法ではなかつた。
さらに、最近多数生産される高解像度用カラー
陰極線管に使用されている孔径の非常に小さなシ
ヤドウマスクの再生に際しては、この問題は致命
的であり、一層の再生効率の悪化をもたらしてい
た。
陰極線管に使用されている孔径の非常に小さなシ
ヤドウマスクの再生に際しては、この問題は致命
的であり、一層の再生効率の悪化をもたらしてい
た。
[発明の概要]
この発明は上記従来の欠点を解消するためにな
されたもので、黒化膜を全く変質、損傷させるこ
となくゲツタ膜を完全に除去でき、発錆が全く生
じるおそれのないカラー陰極線管用シヤドウマス
クの再生方法を提供することを目的とする。
されたもので、黒化膜を全く変質、損傷させるこ
となくゲツタ膜を完全に除去でき、発錆が全く生
じるおそれのないカラー陰極線管用シヤドウマス
クの再生方法を提供することを目的とする。
[発明の実施例]
以下、この発明の実施例を図面にしたがつて説
明する。
明する。
第1図におけるゲツタフラツシング後の不良管
をパネル部1aとフアンネル部1cとに分離し、
内臓のシヤドウマスク2を取り出し、約3%サク
酸水溶液中に20〜30秒間浸漬洗浄して、シヤドウ
マスク2表面に付着しているゲツタ膜6を溶解除
去する。ついで、水洗浄を行なつたのち、各約
0.5%のアンモニア水溶液に5〜10秒間浸漬洗浄
して乾燥機で乾燥する。このようにして再生され
たシヤドウマスク2のゲツタ膜6は完全に除去さ
れており、黒化膜を何ら変質、損傷がなく、再生
途中での発錆も完全に抑制された。この再生シヤ
ドウマスク2を通常のカラー陰極線管1の製造過
程を通しても、熱処理炉で変質発錆することがな
く、完成管としても特性上問題のないことが確認
された。
をパネル部1aとフアンネル部1cとに分離し、
内臓のシヤドウマスク2を取り出し、約3%サク
酸水溶液中に20〜30秒間浸漬洗浄して、シヤドウ
マスク2表面に付着しているゲツタ膜6を溶解除
去する。ついで、水洗浄を行なつたのち、各約
0.5%のアンモニア水溶液に5〜10秒間浸漬洗浄
して乾燥機で乾燥する。このようにして再生され
たシヤドウマスク2のゲツタ膜6は完全に除去さ
れており、黒化膜を何ら変質、損傷がなく、再生
途中での発錆も完全に抑制された。この再生シヤ
ドウマスク2を通常のカラー陰極線管1の製造過
程を通しても、熱処理炉で変質発錆することがな
く、完成管としても特性上問題のないことが確認
された。
また、他の実施例として、ゲツタフラツシング
後の不良管の真空を破壊して数日間放置したの
ち、回収した変質ゲツタ膜6の付着したシヤドウ
マスク2を、約2%ギ酸水溶液でその表裏から10
〜15秒間スプレー洗浄し、ついで水によるスプレ
ー洗浄を行なつたのち、約1%モルホリン水溶液
で同様にスプレー洗浄して乾燥する。このように
して再生されたシヤドウマスク2は、前述の実施
例と同様に良好であり、かつパネル部1aとフア
ンネル部1cとに分離した際のガラス粉などの塵
埃も除去され、目詰りのないことが確認された。
後の不良管の真空を破壊して数日間放置したの
ち、回収した変質ゲツタ膜6の付着したシヤドウ
マスク2を、約2%ギ酸水溶液でその表裏から10
〜15秒間スプレー洗浄し、ついで水によるスプレ
ー洗浄を行なつたのち、約1%モルホリン水溶液
で同様にスプレー洗浄して乾燥する。このように
して再生されたシヤドウマスク2は、前述の実施
例と同様に良好であり、かつパネル部1aとフア
ンネル部1cとに分離した際のガラス粉などの塵
埃も除去され、目詰りのないことが確認された。
さらに、他の実施例として、ギ酸の換りに約5
%シユウ酸水溶液を用いた場合についても同様な
結果が得られ、ゲツタ膜6の残留による後工程で
のトラブルは皆無となつた。
%シユウ酸水溶液を用いた場合についても同様な
結果が得られ、ゲツタ膜6の残留による後工程で
のトラブルは皆無となつた。
なお、ここでいうギ酸、サク酸およびシユウ酸
の稀薄溶液は水溶液に限られるものでなく、再生
途中での発錆または最終の乾燥工程を考慮して、
アルコール溶液であつてもよいことはもちろん、
その洗浄方法も、浸漬、スプレー、超音波洗浄な
どに限定されるものではない。
の稀薄溶液は水溶液に限られるものでなく、再生
途中での発錆または最終の乾燥工程を考慮して、
アルコール溶液であつてもよいことはもちろん、
その洗浄方法も、浸漬、スプレー、超音波洗浄な
どに限定されるものではない。
さらに、アンモニアもしくはモルホリン稀薄溶
液で洗浄したのち、再度水もしくはアルコールで
洗浄し、その後乾燥するなどの工程を経てもよい
ことはもちろんであるし、またゲツタ膜6の付着
していないシヤドウマスク2の目詰り除去などを
目的とした洗浄についても適用できることはいう
までもない。
液で洗浄したのち、再度水もしくはアルコールで
洗浄し、その後乾燥するなどの工程を経てもよい
ことはもちろんであるし、またゲツタ膜6の付着
していないシヤドウマスク2の目詰り除去などを
目的とした洗浄についても適用できることはいう
までもない。
[発明の効果]
以上のように、この発明によれば、ギ酸、サク
酸、もしくはシユウ酸の稀薄溶液により、シヤド
ウマスクに付着したゲツタ膜が、黒化膜が安定し
た状態で完全に溶解、除去され、ついで処理する
アンモニアもしくはモルホリンの稀薄溶液によつ
て完全に中和、防錆されているので、再生途中も
しくは再生上でシヤドウマスクが発錆せず、カラ
ー陰極線管の製造過程で通過する熱処理炉にくり
返し投入しても、ゲツタ膜の付着跡の黒化膜が変
質することがないとともに、黒化膜の付着力も低
下せず、完成管としても特性上問題のない再生シ
ヤドウマスクを効率よく得ることがき、とくに、
高解像度用などの孔径が非常に小さいシヤドウマ
スクにも何ら問題なく適用できるカラー陰極線管
用シヤドウマスクの再生方法を提供することがで
きる。
酸、もしくはシユウ酸の稀薄溶液により、シヤド
ウマスクに付着したゲツタ膜が、黒化膜が安定し
た状態で完全に溶解、除去され、ついで処理する
アンモニアもしくはモルホリンの稀薄溶液によつ
て完全に中和、防錆されているので、再生途中も
しくは再生上でシヤドウマスクが発錆せず、カラ
ー陰極線管の製造過程で通過する熱処理炉にくり
返し投入しても、ゲツタ膜の付着跡の黒化膜が変
質することがないとともに、黒化膜の付着力も低
下せず、完成管としても特性上問題のない再生シ
ヤドウマスクを効率よく得ることがき、とくに、
高解像度用などの孔径が非常に小さいシヤドウマ
スクにも何ら問題なく適用できるカラー陰極線管
用シヤドウマスクの再生方法を提供することがで
きる。
第1図はこの発明が適用されるカラー陰極線管
の一部切欠した要部の断面図、第2図はパネル部
から回収されたシヤドウマスクの正面図である。 1……カラー陰極線管、2……シヤドウマス
ク。なお、図中同一符号は同一または相当部分を
示す。
の一部切欠した要部の断面図、第2図はパネル部
から回収されたシヤドウマスクの正面図である。 1……カラー陰極線管、2……シヤドウマス
ク。なお、図中同一符号は同一または相当部分を
示す。
Claims (1)
- 1 カラー陰極線管を解体分離して構成部品を回
収するに際し、上記カラー陰極線管に内蔵された
シヤドウマスクをギ酸、サク酸、もしくはシユウ
酸のいずれかの稀薄溶液で洗浄する工程と、水洗
浄する工程と、アンモニアもしくはモルホリンの
いずれかの稀薄溶液で洗浄する工程とからなるこ
とを特徴とするカラー陰極線管用シヤドウマスク
の再生方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58203079A JPS6093735A (ja) | 1983-10-27 | 1983-10-27 | カラ−陰極線管用シヤドウマスクの再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58203079A JPS6093735A (ja) | 1983-10-27 | 1983-10-27 | カラ−陰極線管用シヤドウマスクの再生方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6093735A JPS6093735A (ja) | 1985-05-25 |
JPH0222497B2 true JPH0222497B2 (ja) | 1990-05-18 |
Family
ID=16468005
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58203079A Granted JPS6093735A (ja) | 1983-10-27 | 1983-10-27 | カラ−陰極線管用シヤドウマスクの再生方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6093735A (ja) |
-
1983
- 1983-10-27 JP JP58203079A patent/JPS6093735A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6093735A (ja) | 1985-05-25 |
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