JPH02223922A - 液晶ギヤツプ用スペーサの形成方法 - Google Patents
液晶ギヤツプ用スペーサの形成方法Info
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- JPH02223922A JPH02223922A JP1042990A JP4299089A JPH02223922A JP H02223922 A JPH02223922 A JP H02223922A JP 1042990 A JP1042990 A JP 1042990A JP 4299089 A JP4299089 A JP 4299089A JP H02223922 A JPH02223922 A JP H02223922A
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
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- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はアクティブマトリクス液晶ディスプレイに係り
、特に大面積液晶ディスプレイの液晶ギャップ用スペー
サの形成方法に関する。
、特に大面積液晶ディスプレイの液晶ギャップ用スペー
サの形成方法に関する。
アクティブマトリクス液晶ディスプレイの構成は例えば
日経マイクロデバイス1985年11月号P51〜に記
されている。ここでt記構酸を第2図に示す。第2図に
おいて1は偏光フィルタ、2はガラス基板、3はカラー
フィルタ、4はITO55はTFT部、6は配向膜、7
は液晶である。ところで上記構成において従来は液晶ギ
ャップを保つためにファイバ或はビーズを配向膜」二に
分散させて、それ自身を液晶ギャップ用スペーサとして
いた。
日経マイクロデバイス1985年11月号P51〜に記
されている。ここでt記構酸を第2図に示す。第2図に
おいて1は偏光フィルタ、2はガラス基板、3はカラー
フィルタ、4はITO55はTFT部、6は配向膜、7
は液晶である。ところで上記構成において従来は液晶ギ
ャップを保つためにファイバ或はビーズを配向膜」二に
分散させて、それ自身を液晶ギャップ用スペーサとして
いた。
上記従来技術を大面積液晶ディスプレイに適用した場合
、1)ファイバ或はビーズが大面積上に均一に分散され
ないと面内の液晶ギャップ力を不均一になり、この結果
表示品質が低下する 2)ファイバ或はビーズが有効画
像部上に分散された場合、表示欠陥と見なされる等の問
題がある。
、1)ファイバ或はビーズが大面積上に均一に分散され
ないと面内の液晶ギャップ力を不均一になり、この結果
表示品質が低下する 2)ファイバ或はビーズが有効画
像部上に分散された場合、表示欠陥と見なされる等の問
題がある。
本発明の目的は大面積液晶ディスプレイにおいて表示品
質を低化させずに且つ容易に液晶ギャップ用スペーサを
形成することにある。
質を低化させずに且つ容易に液晶ギャップ用スペーサを
形成することにある。
上記目的は走査電極及び信号電極が不透明な電極より成
るアクティブマトリクス液晶ディスプレイにおいて、T
FTが形成されているガラス基板上に絶縁膜、レジスト
を順次堆積した後、ガラス基板側から光を照射し、その
後、絶縁膜のエツチング工程を行い、光照射されない部
分の絶縁膜を液晶ギャップ用スペーサとして用いること
により達成される。
るアクティブマトリクス液晶ディスプレイにおいて、T
FTが形成されているガラス基板上に絶縁膜、レジスト
を順次堆積した後、ガラス基板側から光を照射し、その
後、絶縁膜のエツチング工程を行い、光照射されない部
分の絶縁膜を液晶ギャップ用スペーサとして用いること
により達成される。
上記方法だと液晶ギャップ用スペーサは必ず走査電極及
び信号電極上に形成されるので液晶を封入した際の液晶
ギャップの不均一性はない。又、上記方法だとスペーサ
が有効画像部上に位置することはない。よって、表示品
質が低化することはない。
び信号電極上に形成されるので液晶を封入した際の液晶
ギャップの不均一性はない。又、上記方法だとスペーサ
が有効画像部上に位置することはない。よって、表示品
質が低化することはない。
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。
第1図は本発明の一実施例のTFTが形成されているガ
ラス基板の平面図である。図中において。
ラス基板の平面図である。図中において。
10はptシリサイド、1工はCr、12はITo。
13は真性多結晶シリコン膜である。又、斜線部には液
晶ギャップ用スペーサとしてポリイミド24が堆積され
ている。第1図の構成だとポリイミド24は必ずCr1
l及びptシリサイド10上に形成されるので液晶を封
入した際の液晶ギャップの不均一性はない、又、第1図
の構成だとポリイミド24が有効画像部上即ちITO1
2上に位置することはない。よって表示品質が低下する
ことはない。
晶ギャップ用スペーサとしてポリイミド24が堆積され
ている。第1図の構成だとポリイミド24は必ずCr1
l及びptシリサイド10上に形成されるので液晶を封
入した際の液晶ギャップの不均一性はない、又、第1図
の構成だとポリイミド24が有効画像部上即ちITO1
2上に位置することはない。よって表示品質が低下する
ことはない。
第3図は本発明の一プロセス手順を示したものである。
即ち、a)ガラス基板20上に不透明な走査電極が含ま
れているTFT部21、不透明な走査電極或は不透明な
信号電極22を形成した後、配向膜23を堆積しラビン
グ工程後ポリイミド24、レジスト25を順次堆積し、
その後ガラス基板側から光を照射する、b)その後ポリ
イミド24のエツチング工程を行い光が照射されない部
分のポリイミド24を液晶ギャップ用スペーサとして用
いる。
れているTFT部21、不透明な走査電極或は不透明な
信号電極22を形成した後、配向膜23を堆積しラビン
グ工程後ポリイミド24、レジスト25を順次堆積し、
その後ガラス基板側から光を照射する、b)その後ポリ
イミド24のエツチング工程を行い光が照射されない部
分のポリイミド24を液晶ギャップ用スペーサとして用
いる。
第4図は本発明の一実施例のTFTが形成されているガ
ラス基板の平面図である0図中において10はptシリ
サイド、11はCr、12はITo。
ラス基板の平面図である0図中において10はptシリ
サイド、11はCr、12はITo。
13は真性多結晶シリコン膜である。又、斜線部には液
晶ギャップ用スペーサとしてポリイミド24が堆積され
ている。第3図の構成だとポリイミド24は必ずCr1
l及びptシリサイド10上に形成されるので液晶を封
入した際の液晶ギャップの不均一性はない。又、信号電
極となるPtシリサイド11をITO12で結合してい
るためにITO12上にはポリイミド24は堆積されな
い、このことにより液晶封入工程時の障害物が減少する
ので液晶封入は容易になる。
晶ギャップ用スペーサとしてポリイミド24が堆積され
ている。第3図の構成だとポリイミド24は必ずCr1
l及びptシリサイド10上に形成されるので液晶を封
入した際の液晶ギャップの不均一性はない。又、信号電
極となるPtシリサイド11をITO12で結合してい
るためにITO12上にはポリイミド24は堆積されな
い、このことにより液晶封入工程時の障害物が減少する
ので液晶封入は容易になる。
本発明によれば大面積アクティブマトリクス液晶ディス
プレイの液晶ギャップ用スペーサが容易に且つ表示品質
を低化させずに形成できるので液晶ディスプレイの1)
低コスト化、2)高スループット化、3)高表示品質化
等の利点がある。
プレイの液晶ギャップ用スペーサが容易に且つ表示品質
を低化させずに形成できるので液晶ディスプレイの1)
低コスト化、2)高スループット化、3)高表示品質化
等の利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図および第4図は本発明の一実施例のTFTが形成
されている基板の平面図、第2図はアクティブマトリク
ス液晶ディスプレイの断面図、第3図は本発明の一実施
例のプロセス手順を示す図である。 1・・・偏光フィルタ、2・・・ガラス基板、3・・・
カラーフィルタ、4・・・ITO15・・・TFT部、
6・・・配向股、7・・・液晶、10・・PLシリサイ
ド、1]・・・Cr、1−2・・・ITO1]3・・・
真性多結晶シリコン膜、20・・・ガラス基板、2]・
・・不透明な走査電極が含まれているTFT部、22・
・・不透明な走査電極或は不透明な信号電極、23・・
・配向膜、24・・・ポリイミド、25・・・レジス1
へ。 代理人 弁理士 小川勝男−°N、 第1図 宅3図 (CL) 四 第2図 <e、> 午 2λ Zλ
されている基板の平面図、第2図はアクティブマトリク
ス液晶ディスプレイの断面図、第3図は本発明の一実施
例のプロセス手順を示す図である。 1・・・偏光フィルタ、2・・・ガラス基板、3・・・
カラーフィルタ、4・・・ITO15・・・TFT部、
6・・・配向股、7・・・液晶、10・・PLシリサイ
ド、1]・・・Cr、1−2・・・ITO1]3・・・
真性多結晶シリコン膜、20・・・ガラス基板、2]・
・・不透明な走査電極が含まれているTFT部、22・
・・不透明な走査電極或は不透明な信号電極、23・・
・配向膜、24・・・ポリイミド、25・・・レジス1
へ。 代理人 弁理士 小川勝男−°N、 第1図 宅3図 (CL) 四 第2図 <e、> 午 2λ Zλ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、走査電極及び信号電極が不透明な電極より成るアク
ティブマトリクス液晶ディスプレイの液晶ギャップ用ス
ペーサの形成方法において、TFTが形成されているガ
ラス基板上に絶縁膜、レジストを順次堆積した後、ガラ
ス基板側から光を照射し、その後、絶縁膜のエッチング
工程を行い、光照射されない部分の絶縁膜を液晶ギャッ
プ用スペーサとして用いることを特徴とする液晶ギャッ
プ用スペーサの形成方法。 2、走査電極及び信号電極の少なくとも一部が透明電極
より成るアクティブマトリクス液晶ディスプレイの液晶
ギャップ用スペーサの形成方法において、TFTが形成
されているガラス基板上に絶縁膜、レジストを順次堆積
した後、ガラス基板側から光を照射し、その後、絶縁膜
のエッチング工程を行い、光照射されない部分の絶縁膜
を液晶ギャップ用スペーサとして用いることを特徴とす
る液晶ギャップ用スペーサの形成方法。 3、請求項1又は2記載の絶縁膜はポリイミド或はレジ
ストであることを特徴とする液晶ギャップ用スペーサの
形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1042990A JPH02223922A (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | 液晶ギヤツプ用スペーサの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1042990A JPH02223922A (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | 液晶ギヤツプ用スペーサの形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02223922A true JPH02223922A (ja) | 1990-09-06 |
Family
ID=12651469
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1042990A Pending JPH02223922A (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | 液晶ギヤツプ用スペーサの形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02223922A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5710097A (en) * | 1996-06-27 | 1998-01-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Process and materials for imagewise placement of uniform spacers in flat panel displays |
US5861932A (en) * | 1997-03-31 | 1999-01-19 | Denso Corporation | Liquid crystal cell and its manufacturing method |
US6184959B1 (en) | 1997-10-24 | 2001-02-06 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device having alignment film that provides alignment upon irradiation and manufacturing method the same |
US6245469B1 (en) | 1999-09-09 | 2001-06-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Manufacturing method for color filter and liquid crystal element using color filter manufactured thereby |
US6339461B1 (en) | 1999-09-09 | 2002-01-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for forming spacers, manufacturing method for a color filter having the spacers, and liquid crystal element formed by using the manufacturing method |
US6501527B1 (en) | 1999-07-29 | 2002-12-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal elemental device, production process thereof and spacer-bearing substrate |
US6933988B2 (en) * | 2001-03-08 | 2005-08-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Active matrix substrate and method for producing the same |
JP2006323110A (ja) * | 2005-05-18 | 2006-11-30 | Sharp Corp | 三次元構造物の形成方法、並びに当該形成方法を用いた液晶表示素子用スペーサの形成方法及び三次元構造物付き透明基板、並びに紫外線照射システム |
JP2011242506A (ja) * | 2010-05-17 | 2011-12-01 | Sony Corp | 表示装置の製造方法、および表示装置 |
-
1989
- 1989-02-27 JP JP1042990A patent/JPH02223922A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2011242506A (ja) * | 2010-05-17 | 2011-12-01 | Sony Corp | 表示装置の製造方法、および表示装置 |
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