JPH02220018A - 光ビーム制御装置、光ビーム走査装置、および光ビーム合波装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野）。

本発明３は、たとえば画像読取装置やレーザプリンタ等
で使用される、光ビームが被照射体上へ照射されたとき
のスポット径やその照射位置等を制御する光ビーム制御
装置、光ビームにより被走査体上を走査する光ビーム走
査装置、および一つの光源から射出された光ビームのみ
ではその強度が弱い場合等に複数の光源から射出された
光ビームを合波する光ビーム合波装置に関するものであ
る。

（従来の技術） 画像の記録された記録シート上を光ビームにより走査し
て画像信号を得、この画像信号に画像処理を施し、画像
処理の施された画像信号に基づいて光ビームを変調して
記録シート上を走査し、該記録シート上に画像を再生記
録する等のシステムが種々の分野で用いられている。

たとえば、後の画像処理に適合するように設計されたガ
ンマ値の低いＸ線フィルムを用いてＸ線画像を記録し、
このＸ線画像が記録されたフィルムからＸ線画像を読み
取って電気信号に変換し、この電気信号（画像信号）に
画像処理を施した後コピー写真等に可視像として再生す
ることにより、コントラスト、シャープネス、粒状性等
の画質性能の良好な再生画像を得ることのできるシステ
ムが開発されている（特公昭６１−５１９３号公報参照
）。

また本願出願人により、放射線（Ｘ線、β線。

β線、γ線１Ｔｓ子線、紫外線等）を照射するとこの放
射線エネルギーの一部が蓄積され、その後可視光等の励
起光を照射すると蓄積されたエネルギーに応じて輝尽発
光を示す蓄積性蛍光体（輝尽性蛍光体）を利用して、人
体等の被写体の放射線画像を一部シート状の蓄積性蛍光
体に撮影記録し、この蓄積性蛍光体シートをレーザー光
等の励起光で走査して輝尽発光光を生ぜしめ、得られた
輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を得、この画
像信号に基づき被写体の放射線画像を写真感光材料等の
記録材料、ＣＲＴ等に可視像として出力させる放射線画
像記録再生システムがすでに提案されている（特開昭５
５−１２４２９号、同５Ｂ−１１３９５号。

同５５−１［１３４７２号、同５８−１０４８４５号、
同５５−１１６３４０号等）。

このシステムは、従来の銀塩写真を用いる放射線写真シ
ステムと比較して極めて広い放射線露出域にわたって画
像を記録しうるという実用的な利点を有している。すな
わち、蓄積性蛍光体においては、放射線露光量に対して
蓄積後に励起によって輝尽発光する発光光の光量が極め
て広い範囲にわたって比例することが認められており、
従って種々の撮影条件により放射線露光量がかなり大幅
に変動しても、蓄積性蛍光体シートより放射される輝尽
発光光の光量を読取ゲインを適当な値に設定して光電変
換手段により読み取って電気信号に変換し、この電気信
号を用いて写真感光材料等の記録材料、ＣＲＴ等の表示
装置に放射線画像を可視像として出力させることによっ
て、放射線露光量の変動に影響されない放射線画像を得
ることができる。

Ｘ線フィルムや蓄積性蛍光体シート等を用いる上記シス
テム、およびさらに広く一般の画像等を取扱う種々のシ
ステムにおいて、画像を読み取って画像信号を得るには
、該画像の記録されたＸ線フィルムや蓄積性蛍光体シー
トやその他の記録シート上を光ビームにより走査し、こ
の走査により得られた上記画像を表わす光（例えば、Ｘ
線フィルムを透過し又はＸ線フィルムから反射した光や
、蓄積性蛍光体シートから発せられた輝尽発光光等）を
光検出器で受光して画像信号を得る画像読取装置が用い
られる。また、画像信号に基づいて可視画像を得るには
、該画像信号に基づいて強度変調された光ビームでたと
えば画像記録用感光フィルム等の記録シート上を走査す
る画像記録装置が用いられる。

また、これら画像読取装置や画像記録装置等において、
一つの光源から射出される光ビームではその光強度が弱
い場合、複数の光源を備え、該複数の光源から射出され
る複数の光ビームを記録シート上において同一のスポッ
トとなるように合波することが行なわれることもある。

（発明が解決しようとする課題） 上記画像読取装置や画像記録装置等においては、光ビー
ムが記録シート上に照射されて形成される光スポットの
スポット径や、その照射位置を厳密に制御する必要があ
る。また、上記合波を行なう場合にも各光ビームに対応
する各光スポットの微妙な位置合せを行なう必要がある
。たとえば、上記画像読取装置においては、光スポット
のスポット径が広がると得られた画像信号が担持する画
像情報の空間周波数特性が劣化して鮮鋭度が低下するこ
とが生じ、また上記画像記録装置において各走査線毎に
スポット位置が変化すると各走査線と直交する方向に濃
度ムラが生じ画質が低下することとなる。

これまで光スポットのスポット径やスポット位置を制御
するには、たとえばビームエキスパンダ。

反射ミラー等の光学部材を光路上に備え、これらの光学
部材をモータやピエゾ素子等の機械的なアクチュエータ
で駆動することにより行なわれていた。この機械的アク
チュエータで光学部材を駆動する方式では、高い応答性
を得るのが困難であり、機械的制御方式であるため耐久
性も悪く、更には部品点数が多くなりコストが高くなる
という問題点があった。したがって−枚の記録シートを
連続して走査している途中でたとえばスポット位置を高
速に制御することは応答性の問題により困難である。

また、−枚の記録シートを連続して走査している途中で
、たとえば各走査線毎にスポット位置を制御するために
は、光路上に音響光学的光偏向器（ＡＯＤ）を備えるこ
とが考えられる（たとえば、本出願人による、ＡＯＤを
複数本の光ビームを合波する目的に用いた、特許出願；
特願昭８０−５８９４１号、特願昭ＧＯ−９４２７７号
、特願昭８０−１２１６５５号参照）。ＡＯＤは入射し
た光ビームを０次ビームと１次ビームとに分離して互い
に異なる方向に射出するものであり、該ＡＯＤを駆動す
る超音波の周波数を変えると１次ビームの射出方向が変
わるという特性を有している。したがってこのＡＯＤか
ら射出された１次ビームを用いることにより、そのスポ
ット位置を制御することができる。

しかし、上記ＡＯＤから射出される１次ビームの光強度
は、せいぜいＡＯＤに入射した光ビームの光強度の７０
〜８０％程度であり、０次ビームとして残る２０〜３０
％は無駄となってしまい、その分たとえば光出力の大き
く高価な光源を備えたり、合波されるべき光ビームの本
数を増やしてその分複雑な光学系を採用する必要がある
という問題点があった。

本発明は、上記問題点に鑑み、光源から射出された光ビ
ーム全体を有効に活用し、かつ高速に光スポットの位置
やその径を制御することのできる光ビーム制御装置、該
光ビーム制御装置を用いて回転多面鏡やガルバノメータ
ミラー等の機械的光偏向器の走査の位置ずれを制御して
走査ムラをなくした光ビーム走査装置、および上記光ビ
ーム制御装置を用いて合波のずれを補正した光ビーム合
波装置を提供することを目的とするものである。

（課題を解決するための手段） 本発明の光ビーム制御装置は、 光ビームを射出する、たとえばレーザ光源等の光源、該
光ビームを０次ビームと１次ビームに分離する音響光学
素子、該０次ビームと該１次ビームを被照射体上の互い
に近接した位置に照射して該０次ビームと該１次ビーム
による２つの光スポットが合成された合成スポットを形
成する照射光学系、および前記音響光学素子を駆動して
前記２つの光スポットの強度比および／または間隔を制
御することにより前記合成スポットの位置および／また
は大きさを制御する制御回路を備えたことを特徴とする
ものである。

ここで上記「音響光学素子」　（以下、「ＡＯ素子」と
呼ぶ。）とは、超音波と光ビームとの相互作用により入
射された光ビームを０次ビームと１次ビームに分離する
ものの総称をいい、上記「制御回路」が上記超音波の強
度を変えるものである場合は、０次ビームおよび１次ビ
ームの光強度が該超音波の強度に応じて変調される音響
光学的光変調器（ＡＯＭ）が構成され、上記「制御回路
」が上記超音波の周波数を変えるものである場合は、前
述したＡＯＤが構成される。また「制御回路」は上記超
音波の強度と周波数の両者を変えるものであってもよい
。

また、本発明の光ビーム走査装置は、 光ビームを射出する光源、該光ビームを０次ビームと１
次ビームに分離するＡＯ素子、該０次ビームと該１次ビ
ームを被走査体上の互いに近接した位置に照射して該０
次ビームと該１次ビームによる２つの光スポットが合成
された合成スポットを形成するとともに該合成スポット
により前記被走査体上を走査する、回転多面鏡やガルバ
ノメータミラー等の機械的光偏向器を備えた走査光学系
、および前記ＡＯ素子を駆動して、前記機械的光偏向器
による前記走査における走査線の位置変動を補正するよ
うに前記２つの光スポットの強度比を制御する制御回路
を備えたことを特徴とするものである。

また、本発明の光ビーム合波装置は、 光ビームを射出する複数の光源、該複数の各光源または
該複数の光源のうち１つの光源を除いた各光源に対応し
て備えられた、前記光ビームを０次ビームと１次ビーム
に分離するＡＯ素子、該各ＡＯ素子から射出された前記
０次ビームと前記１次ビームが被照射体上の互いに近接
した位置に照射されて該０次ビームと該１次ビームによ
る２つの光スポットが合成された合成スポットを形成す
るとともに、前記複数の光源から射出された複数の光ビ
ームを前記被照射体上に合波する合波光学系、および前
記ＡＯ素子を駆動して、前記複数の光ビームの合波のず
れを補正するように前記２つの光スポットの強度比およ
び／または間隔を制御する制御回路を備えたことを特徴
とするものである。

（作　　用） 本発明の光ビーム制御装置は、ＡＯ素子から照射された
０次ビームと１次ビームとを被照射体上の互いに近接し
た位置に照射させて、０次ビームと１次ビームによる２
つの光スポットが合成された合成スポットを形成するよ
うに構成したため、この合成スポットとして用いられる
光強度は、０次ビームと１次ビームとを合わせたほぼ１
００％の光強度である。また、ＡＯ素子を駆動して該Ａ
Ｏ素子から射出された０次ビームと１次ビームによる２
つの光スポットの強度比および／または間隔を制御する
制御回路を備えているため、これら２つの光スポットが
合成された合成スポットの位置。

大きさを調整することができる。またこの調整は、装置
を停止させる必要もなく、瞬時に行なうことができる。

また、本発明の光ビーム走査装置は、上記合成スポット
により被走査体上を走査する、機械的光偏向器を備えた
走査光学系を有するとともに、ＡＯ素子を駆動して、上
記機械的光偏向器による走査の走査線の位置変動を補正
するように上記２つの光スポットの強度比を制御する制
御回路を備えているため、たとえば回転多面鏡の面倒れ
等による走査線の位置変動を補正して光スポットを常に
同一の走査線上を移動させることができ、したがってた
とえばこの光ビーム走査装置を前述した画像読取装置に
用いた場合に画像を正確に読み取ることができ、画像記
録装置に用いた場合に、濃度ムラ等の生じない画質の優
れた可視像を再生することができる。

また、本発明の光ビーム合波装置は、合波光学系により
被照射体上に合波された各光源からの光ビームの位置調
整に上記光ビーム制御装置を適用したものである。本発
明の光ビーム合波装置は、被照射体上に合成スポットを
形成するとともに、複数の光源から射出された複数の光
ビームを上記被照射体上に合波する合波光学系を有する
とともに、ＡＯ素子を駆動して、上記被照射体上の合波
のずれを補正するように０次ビームと１次ビームとによ
り形成される２つの光スポットの強度比および／または
間隔を制御する制御回路を備えているため、白波光学系
の機械的な調整の及ばない微細な調整を行なうことがで
き、また合波光学系の熱による合波の変動や経時的な合
波の変動等にも装置を停止させることなくすみやかに対
処することもできる。

（実　施　例） 以下、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。

第１図は、本発明の光ビーム制御装置を用いた、本発明
の光ビーム走査装置の一実施例の概略構成を示した斜視
図である。

レーザ光源１から射出されたレーザビーム２はＡＯ素子
３に入射して０次ビーム２ａと１次ビーム２ｂとに分離
し、互いに異なる方向に射出する。ＡＯ素子３はレーザ
ビーム２のウェストから若干ずれた位置に配置されてお
り、したがって０次ビームと１次ビームは被走査体４上
の互いに近接した位置にその光スポットを形成する。Ａ
Ｏ素子３から射出された０次ビーム２ａと１次ビーム２
ｂはレンズ６を経由した後、モータ７により矢印Ａ方向
に高速で回転する回転多面鏡８により反射偏向され、ｆ
θレンズ９２反射ミラー１０を経由して被走査体４上に
照射される。被走査体４上における、各ビーム２ａ、２
ｂによりそれぞれ形成された光スポット１１ａ、　ｆｌ
ｂは、この２つの光スポット１１ａ、１１ｂを結ぶ線分
が走査線５と直交する方向となるように上記走査光学系
が構成されている。２つの光スポット１１ａ、！ｌｂは
これらが合成された１つの光スポット（以下、合成スポ
ットと呼ぶ。）として作用する。被走査体４は、この合
成スポットにより回転多面鏡８の回転に伴って走査線５
に沿って矢印Ｂ方向に繰り返し走査される。

ところで回転多面鏡の各鏡面がその製造誤差により互い
に傾いている（面倒れがある）場合があり、この場合こ
の面倒れを補正しないと、被走査体４上において常には
走査線５に沿１て走査されずに、たとえば走査線５ａ、
５ｂ等のように回転多面鏡８の一回転を一周期として走
査線の位置が変動する結果となる。

このような走査線の周期的な変動があると、この光ビー
ム走査装置を画像読取装置に用いた場合走査線と直交す
る方向に周期的なムラのある画像信号が得られる結果と
なる。また、この光ビーム装置を画像記録装置に用いた
場合も同様に、ムラのない画像信号に基づいて得られた
可視画像に濃度ムラを生じる結果となる。

そこで、この光ビーム走査装置では以下のようにして回
転多面鏡の面倒れの補正が行なわれる。

走査の開始点付近に照射された光の位置を検出するＰ　
Ｓ　Ｄ　（ｐｏｓｉｔｉｏｎ　５ｅｎｓｌｔ１ｖｅ　ｄ
ｅｖｉｃｅ　）　ｆ２を配置して、このＰＳＤＩ２上を
通過する合成スポットの走査線と直交する方向の位置が
モニタされ、このモニタ結果がＡＯ素子３を駆動して合
成スポットの位置制御を行なうための制御回路１３に入
力される。制御回路１３では合成スポットにより常に同
一の走査線５上を走査するように０次ビーム２ａと１次
ビーム２ｂの強度比を変える。

第２図は、０次ビームと１次ビームとによる２つの光ス
ポット１１ａ、１１ｂの強度分布と、それらが合成され
た合成スポット１１の強度分布を表わした図である。横
軸は第１図に示す合成スポットが被走査体４に照射され
た位置の、走査線５と直交する方向を示している。（ａ
）は路間−の光強度を有する２つの光ビームｌｌａ、ｌ
ｌｂが、１８１図に示す被走査体４上に所定の間隔を隔
てて照射されたときの合成ビームｌｌの強度分布を示し
た図である。

（ｂ）はＡＯ素子３により０次ビームの強度が太きく、
１次ビームの強度が小さくなるように制御したときの合
成ビームｔｉの強度分布を示した図である。（Ｃ）は、
（ｂ）の場合とは逆に、ＡＯ素子３により０次ビームの
強度が小さく、１次ビームの強度が大きくなるように制
御したときの合成ビーム１１の強度分布を示した図であ
る。（ｂ）　、　（ｃ）において、２つの光スポット１
１ａ、ｌｌｂの間隔は（ａ）の場合と同一である。

ＡＯ素子３を（ｂ）　、　（ｃ）のように制御すると、
合成スポット１１の中心が図の左右に移動することにな
り、したがってこの制御を第１図に示すＰＳＤ１２によ
る走査位置のモニタ結果に基づいて行なうことにより被
走査体４上において同一の走査線５に沿って走査される
。

尚、上記各実施例において、合成スポット１１の中心位
置を制御するとそれに伴ってスポット径も変化する。こ
のスポット径が変化することの影響は、回転多面１１！
８の面倒れの大きさや光ビーム走査装置の用途により種
々異なるが、通常はこれによる大きな問題は生じない。

第１図に示す実施例においては、ＡＯ素子３をＡＯＭと
して用いて０次ビームと１次ビームの強度比を変え、こ
れにより合成スポットの位置を変えるように制御して、
面倒れ補正を行なう場合について述べたが、ＡＯＭに代
えてＡＯＤとして機能させるように制御回路１３を変更
すれば１次ビーム２ｂの射出方向を代えることにより合
成スポット１１の大きさを制御することもできる。

第２図の（ｄ）、（＋３）は、０次ビーム２ａと１次ビ
ーム２ｂの強度比は変えずにＡＯ素子から射出される１
次ビームの射出方向を変えることにより被走査体４上に
おける１次ビーム２ｂの照射位置、すなわち２つの光ス
ポット１１ａ、１１ｂの間隔を変えるように制御したも
のである。（ａ）　、（ｄ）　、　（ｅ）に示すように
、ＡＯ素子を用いて１次ビームの照射位置を変えること
によって、合成スポットの中心位置も変わることになる
。

また、ＡＯ素子にＡＯＭとＡＯＤの両者の機能を合わせ
もたせるような制御回路を構成し、０次ビームと１次ビ
ームとの強度比と、１次ビームの射出方向の両者を同時
に変えてもよいことはもちろんである。

尚、上記実施例は本発明の光ビーム制御装置を光ビーム
走査装置に適用した例であるが、本発明の光ビーム制御
装置はかならずしも走査光学系を備える必要はなく、光
スポットの径または位置を＄１１１ｉＩｌまたは調整す
る場合に広（適用できるものである。

第３図は、本発明の光ビーム制御装置を用いた本発明の
光ビーム合波装置の一実施例の概要を示す斜視図である
。

レーザ光源２１から射出されたレーザビーム２２は直線
偏光しており、レンズ２３．ＡＯ素子２４．レンズ２５
を経由して、さらに偏光ビームスプリッタ（以下Ｊ’Ｂ
Ｓと呼ぶ。＞　２８を透過する。このように、レーザビ
ーム２２がＰＢＳ２（ｌを透過するように、レーザビー
ム２２の光路に対するレーザ光源２１の回転位置が定め
られている。

もう一つのレーザ光［２７から射出されたレーザビーム
２８は、ミラー２９で反射された後、レンズ８０゜ＡＯ
素子３１．　　レンズ３２を経由して、Ｐ　Ｂ　８２６
により反射される。このように、レーザビーム２８がＰ
ＢＳ２８で反射されるように、レーザビーム２８の光路
に対するレーザ光′Ｒ２７の回転位置が定められている
。

ＰＢ５２Ｂを透過したレーザビーム２２（０次ビームと
１次ビームの両者）と、ＰＢＳ２［ｉにより反射された
レーザビーム２８（０次ビームと１次ビームの両者）は
路間−の光路３３上に重なるように合波される。この合
波された２本のレーザビーム２２．２８は、ハーフミラ
−３４でその光量の大部分が反射され、矢印Ｃ方向に高
速で回転する回転多面鏡により反射偏向され、ｆθレン
ズ３８．反射ミラー３７を経由して被走査体３８上を走
査線３９に沿って矢印り方向に繰り返し走査する。尚、
ここでは回転多面鏡３５の各鏡面の面倒れは補正を必要
としない程度に小さいか、または、本発明の光ビーム走
査装置で用いた方式とは異なる方式の図示しない面倒れ
補正光学系により補正されているものとする。

またレーザビーム２２．２８は、それぞれＡＯ素子２４
．３１に、よりΩｗＫ＋ビームと１次ビームとに分かれ
るため、各ビーム（の光路は厳密には互い・に同一光路
とはならない。二にでは最終的に被走査体３８上におい
て、ＡＯ＠子′ｊ！０１ら射出された０次ビームと１次
ビームが互り月＝近接した位置に照射されて合成スポッ
トが形成８れ、またＡＯ素子８１から射卸された０次ビ
ームと１次ビームが互いに近接した位置に照射されて合
成スポットが形成され、さらにこれら２つの合成スポラ
）がほとんど重なった１つのスポットを形成するように
、上記光学系が構成されている。ここで２つのＡＯ素子
２４．３１は光学的に互いに直交するように、すなわち
、ＡＯ素子２４から射出された０次ビームと１次ビーム
とによる２つの光スポットの中心を結ぶ線分が走査１１
３９と重なり、一方ＡＯ素子３１から射出された０次ビ
ームと１次ビームとによる２つの光スポットの中心を結
ぶ線分が走査線３９と直交するように配置されている。

ハーフミラ−３４を透過したレーザビーム２２．２８は
、レンズ４０を経由し、さらにＰＢＳ４１によりその光
路を分けた後、被走査体３８の走査線３９と光学的に共
役な位置に配置された２つのＰ　Ｓ　Ｄ４２．４３によ
りモニタされる。ＰＳＤ４２は、被走査体３８上に合波
され形成された光スポットの走査線３９方向、ＰＳＤ４
３は該光スポットの走査線３９と直交する方向のずれを
検出し、それぞれＡＯ素子２４．３１を制御する制御回
路４４．４５にその信号を送る。制御回路４４．４５は
それぞれＡＯ素子２４．３１を駆動して、それぞれ走査
線３９方向、走査線３９と直交する方向の合波のずれを
補正するように、０次ビームと１次ビームとの強度比を
制御する。尚、上記実施例では、制御回路４４．４５を
ＡＯ素子２４．３１から射出された０次ビームと１次ビ
ームとの強度比を制御しているが、これに代えてまたは
これとともに１次ビームの射出方向を変えるようにして
もよいことももちろんである。

また、上記実施例ではＡＯ素子２４．３１を２つ用いて
いるが、たとえば主走査方向等の一方向の合波ずれを補
正する目的ではＡＯ素子は１つでもよい。また上記実施
例では２本のレーザビーム２２．２Ｂの合波を行なって
いるが、本発明は３本以上の多数本のレーザビームの合
波にも適用することができるものである。

９４４図は、本発明の光ビーム制御装置の一例を備えた
放射線画像読取装置の斜視図である。

この放射線画像読取装置は前述した蓄積性蛍光体シート
を用いる装置である。

放射線画像が記録された蓄積性蛍光体シー）５１は、放
射線画像読取装置１００の所定位置にセットされる。こ
の所定位置にセットされた蓄積性蛍光体シート５１は、
モータ５２により駆動されるエンドレスベルト等のシー
ト搬送手段５３により、矢印Ｙ方向に搬送（副走査）さ
れる。一方、レーダー光源５４から発せられたレーザビ
ーム５５は、ＡＯ素子５Ｂ、レンズ５７を経由した後矢
印Ｅ方向に高速揺動するガルバノメータミラー５９によ
って反射偏向され、ｆθレンズ等の集束レンズ６０を通
過した後、ミラー６１により光路を変えて前記シー）５
１に入射し副走査の方向（矢印Ｙ方向）と略垂直な矢印
Ｘ方向に繰り返し主走査する。ここで、ＡＯＤ５８で分
離した０次ビームと１次ビームによるシート５１上の２
つの光スポットは、主走査の方向（Ｘ方向）に並ぶ互い
に近接した位置に形成されるように光学系が構成されて
いる。この励起光（レーザビーム）５５が照射されたシ
ー）５１の箇所からは、蓄積記録されている放射線画像
情報に応じた光量の輝尽発光光８２が発散され、この輝
尽発光光Ｂ２は光ガイド６３によって導かれ、フォトマ
ルチプライヤ（光電子増倍管）６４によって光電的に検
出される。

上記光ガイド６３はアクリル板等の導光性材料を成形し
て作られたものであり、直線状をなす入射端面８３ａが
蓄積性蛍光体シート５１上の主走査線に沿って延びるよ
うに配され、円環状に形成された射出端面８１ｂにフォ
トマルチプライヤ６４の受光面が結合されている。入射
端面Ｂ３ａから光ガイド６３内に入射した輝尽発光光６
２は、該光ガイド６３の内部を全反射を繰り返して進み
、射出端面Ｂ３ｂから出射してフォトマルチプライヤＢ
４に受光され、放射線画像を表わす輝尽発光光Ｂ２の光
量がフォトマルチプライヤ６４によって電気信号Ｓに変
換される。

この放射線画像を表わす電気信号Ｓは、対数増幅器６５
で対数的に増幅され、Ａ／Ｄ変換器ＢＢでディジタル化
され、画像信号ＳＱが得られる。得られた画像信号ＳＱ
は一旦記憶手段６７に記憶された後、画像処理装置２０
Ｇに送信される。

画像処理装置２００では、受信した画像信号Ｓ０に適切
な画像処理が施される。

画像処理の施された画像信号ＳＱは画像再生装置３００
に送信され、画像再生装置３００ではこの画像信号Ｓｏ
！：基づ（放射線画像が再生記録される。

上記のように構成された放射線画像読取装置において、
主走査の速度（ガルバノメータミラー５９の揺動の速度
）はガルバノメータ制御回路８８により制御され、副走
査の速度（モータ５２の速度）はモータ制御回路８９に
より制御される。ガルバノメータ制御回路８８からガル
バノメータミラー５９の揺動速度（主走査の速度）に関
する信号が出力され、ＡＯ素子５８を制御する制御回路
７０に入力される。

制御回路７０では主走査の速度に応じてＡＯ素子５６か
ら射出される１次ビームの射出方向を変えることにより
シート５１上に照射され形成される光スポットの主走査
方向のスポット径を主走査の速度が速いほど大きくなる
ように変え、これにより主走査の速度によらず適切な鮮
鋭度の画像情報を担持する画像信号Ｓｏを得ることがで
きる。

尚、上記実施例では主走査方向のスポット径を変えてい
るが、０次ビームと１次ビームによる２つの光スポット
がＹ方向に並ぶように光学系を配置して副走査方向のス
ポット径を制御してもよく、また２つの光スポットをＸ
、Ｙの両方向とは異なる斜め方向となるように光学系を
配置してＸ、　Ｙ両方向のスポット径を同時に制御して
もよい。

（発明の効果） 以上詳細に説明したように、本発明は、ＡＯ素子から射
出された０次ビームと１次ビームを被照射体上の互いに
近接した位置に照射して該０次ビームと１次ビームによ
る２つの光スポットが合成スポットを形成し、この２つ
の光スポットの強度比または間隔を制御することにより
合成スポットの位置または大きさを制御するようにした
ため、光源から射出された光ビーム全体を有効に活用し
、かつ瞬時に光スポットの位置やその径を調整すること
ができる。また、これを機械的光偏向器を備えた光ビー
ム走査装置の走査線の位置変動を補正して走査ムラをな
くすことにも適用でき、また、複数の光源から射出され
た光ビームの合波のずれを補正することにも適用できる
。

【図面の簡単な説明】 第１図は、本発明の光ビーム制御装置を用いた、本発明
の光ビーム走査装置の一実施例の概略構成図、 第２図は、０次ビームと１次ビームとによる２つの光ス
ポットの強度分布と、これらが合成された合成スポット
の強度分布を表わした図、第３ｆｌは、本発明の光ビー
ム制御装置を用いた、本発明の光ビーム合波装置の一実
施例の概要を示す斜視図、 第４図は、本発明の光ビーム制御装置の一例を備えた放
射！Ｉ画像読取装置の斜視図である。 １、２１．２７．５４・・・レーザ光源２、２２．２８
．５５・・・レーザビーム３．２４．８１．５ト・ＡＯ
素子 ４．３８・・・被走査体　　８，８５・・・回転多面鏡
１２、４２．４３・・・ＰＳＤ　（半導体装置センサ）
１３、４４．４５．７０・・・制御回路５１・・・蓄積
性蛍光体シート ５９・・・ガルバノメータミラー 第 図 第 図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）光ビームを射出する光源、該光ビームを０次ビー
   ムと１次ビームに分離する音響光学素子、該０次ビーム
   と該１次ビームを被照射体上の互いに近接した位置に照
   射して該０次ビームと該１次ビームによる２つの光スポ
   ットが合成された合成スポットを形成する照射光学系、
   および前記音響光学素子を駆動して前記２つの光スポッ
   トの強度比および／または間隔を制御することにより前
   記合成スポットの位置および／または大きさを制御する
   制御回路を備えたことを特徴とする光ビーム制御装置。
2. （２）光ビームを射出する光源、該光ビームを０次ビー
   ムと１次ビームに分離する音響光学素子、該０次ビーム
   と該１次ビームを被走査体上の互いに近接した位置に照
   射して該０次ビームと該１次ビームによる２つの光スポ
   ットが合成された合成スポットを形成するとともに該合
   成スポットにより前記被走査体上を走査する、機械的光
   偏向器を備えた走査光学系、および前記音響光学素子を
   駆動して、前記機械的光偏向器による前記走査における
   走査線の位置変動を補正するように前記２つの光スポッ
   トの強度比を制御する制御回路を備えたことを特徴とす
   る光ビーム走査装置。
3. （３）光ビームを射出する複数の光源、該複数の各光源
   または該複数の光源のうち１つの光源を除いた各光源に
   対応して備えられた、前記光ビームを０次ビームと１次
   ビームに分離する音響光学素子、該各音響光学素子から
   射出された前記０次ビームと前記１次ビームが被照射体
   上の互いに近接した位置に照射されて該０次ビームと該
   １次ビームによる２つの光スポットが合成された合成ス
   ポットを形成するとともに、前記複数の光源から射出さ
   れた複数の光ビームを前記被照射体上に合波する合波光
   学系、および前記音響光学素子を駆動して、前記複数の
   光ビームの合波のずれを補正するように前記２つの光ス
   ポットの強度比および／または間隔を制御する制御回路
   を備えたことを特徴とする光ビーム合波装置。