JPH02208227A - 低嵩密度の四三酸化コバルトの製造方法 - Google Patents
低嵩密度の四三酸化コバルトの製造方法Info
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- JPH02208227A JPH02208227A JP2756489A JP2756489A JPH02208227A JP H02208227 A JPH02208227 A JP H02208227A JP 2756489 A JP2756489 A JP 2756489A JP 2756489 A JP2756489 A JP 2756489A JP H02208227 A JPH02208227 A JP H02208227A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G51/00—Compounds of cobalt
- C01G51/04—Oxides; Hydroxides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は嵩密度が0.5 g/cm”以下の四三酸化コ
バルトの製造方法に関する。
バルトの製造方法に関する。
[従来の技術]
従来より、四三酸化コバルトは、顔料や化学工業用触媒
やバリスタ等に使用されているが、近年の省資源化の流
れと共に嵩密度の小さい四三酸化コバルトが要求される
に至っている。従来より、四三酸化コバルトは二価のコ
バルト塩水溶液にほぼ当量の苛性ソーダ等の苛性アルカ
リを添加して水酸化コバルトを沈殿させ、あるいは、炭
酸ソーダ等の炭酸アルカリを添加して塩基性炭酸コバル
トを沈殿させ、得た沈殿を洗浄したのちに脱水し、乾燥
し、焼成することにより製造されているが、これら従来
法では上記要求を満たす嵩密度の小さい四三酸化コバル
トを得ることができない。
やバリスタ等に使用されているが、近年の省資源化の流
れと共に嵩密度の小さい四三酸化コバルトが要求される
に至っている。従来より、四三酸化コバルトは二価のコ
バルト塩水溶液にほぼ当量の苛性ソーダ等の苛性アルカ
リを添加して水酸化コバルトを沈殿させ、あるいは、炭
酸ソーダ等の炭酸アルカリを添加して塩基性炭酸コバル
トを沈殿させ、得た沈殿を洗浄したのちに脱水し、乾燥
し、焼成することにより製造されているが、これら従来
法では上記要求を満たす嵩密度の小さい四三酸化コバル
トを得ることができない。
[発明が解決しようとする課題]
即ち、従来方法では凝集性の高い水酸化コバル1−や塩
基性炭酸コバル)・を中間体として得、この中間体をば
い焼するために、得られた四三酸化コバルトは塊砕性も
悪く、嵩密度の大きいものとならざるを得ない。
基性炭酸コバル)・を中間体として得、この中間体をば
い焼するために、得られた四三酸化コバルトは塊砕性も
悪く、嵩密度の大きいものとならざるを得ない。
本発明の目的は上記要求を満足させる嵩密度が0.5
g/cm3以下の四三酸化コバルトの製造方法の提供に
ある。
g/cm3以下の四三酸化コバルトの製造方法の提供に
ある。
[課題を解決するための手段]
上記課題を解決するための本発明の第1の発明は、二価
のコバルトイオンを200 g/l以下の濃度で含む溶
液を室温以下に維持しつつ、該溶液と、該溶液に含まれ
る二価のコバルトイオンに対して当量以上のシュウ酸、
又はシュウ酸アンモニウムとを速やかに混合し、次いで
少なくとも30分以上攪はんを継続し、沈殿を得、得た
沈殿を洗浄してシュウ酸コバルトを得る第1工程と、第
1工程で得たシュウ酸コバルトを空気中等、酸素共存下
300〜500℃の温度でばい焼する第2工程とからな
る低嵩密度の四三酸化コバルトの製造方法であり、第2
の発明は二価のコバルトを200 g/l以下の濃度で
含む二価のコバルト複塩スラリーを室温以下に維持しつ
つ、該スラリーと、該スラリー中の二価のコバルトに対
して当量以上のシュウ酸、又はシュウ酸アンモニウムと
を速やかに混合し、次いて30分以上攪はんして沈殿を
得、得た沈殿を洗浄してシュウ酸コバルト得る第1工程
と前記第1の発明の第2工程とからなる低嵩密度の四三
酸化コバルトの製造方法であり、第3の発明は二価のコ
バルトイオンを200 g/l以下の濃度で含む溶液に
、攪はんしつつ当量以上の重炭酸ソーダを添加してスラ
リーを得、該スラリーと、該スラリー中のコバルトに対
して当量以上のシュウ酸、又はシュウ酸アンモニウムと
を速やかに混合し、次いで30分以上攪はんして沈殿を
得、得た沈殿を洗浄してシュウ酸コバルト得る第1工程
と前記第1の発明の第2工程とからなる低嵩密度の四三
酸化コバルI〜の製造方法である。
のコバルトイオンを200 g/l以下の濃度で含む溶
液を室温以下に維持しつつ、該溶液と、該溶液に含まれ
る二価のコバルトイオンに対して当量以上のシュウ酸、
又はシュウ酸アンモニウムとを速やかに混合し、次いで
少なくとも30分以上攪はんを継続し、沈殿を得、得た
沈殿を洗浄してシュウ酸コバルトを得る第1工程と、第
1工程で得たシュウ酸コバルトを空気中等、酸素共存下
300〜500℃の温度でばい焼する第2工程とからな
る低嵩密度の四三酸化コバルトの製造方法であり、第2
の発明は二価のコバルトを200 g/l以下の濃度で
含む二価のコバルト複塩スラリーを室温以下に維持しつ
つ、該スラリーと、該スラリー中の二価のコバルトに対
して当量以上のシュウ酸、又はシュウ酸アンモニウムと
を速やかに混合し、次いて30分以上攪はんして沈殿を
得、得た沈殿を洗浄してシュウ酸コバルト得る第1工程
と前記第1の発明の第2工程とからなる低嵩密度の四三
酸化コバルトの製造方法であり、第3の発明は二価のコ
バルトイオンを200 g/l以下の濃度で含む溶液に
、攪はんしつつ当量以上の重炭酸ソーダを添加してスラ
リーを得、該スラリーと、該スラリー中のコバルトに対
して当量以上のシュウ酸、又はシュウ酸アンモニウムと
を速やかに混合し、次いで30分以上攪はんして沈殿を
得、得た沈殿を洗浄してシュウ酸コバルト得る第1工程
と前記第1の発明の第2工程とからなる低嵩密度の四三
酸化コバルI〜の製造方法である。
[作用]
一般に粒子の粒径が小さくなるに従い嵩密度は低下する
ことが知られている。しかし、四三酸1ヒコバルト粉の
場合に粒径と嵩密度との関係を明確に示したものはない
。また、嵩密度は粒子の粒径のみでなく、粒形および粒
子間の相互作用にも影響されることもよく知られている
が、特に本発明のようにシュウ酸コバルトを酸化分解し
て得な四三酸化コバルトの場合には形骸粒子等の影響も
あり、嵩密度と粒径との関係は不明瞭であり、シュウ酸
コバルトの粒径と得られる四三酸化コバルトの粒径と四
三酸化コバルトの嵩密度との関係は必ずしも一般論と一
致しているとは言えないとされている。よって、本発明
において嵩密度と粒径との関係を議論することは現段階
では有効ではないと判断している。
ことが知られている。しかし、四三酸1ヒコバルト粉の
場合に粒径と嵩密度との関係を明確に示したものはない
。また、嵩密度は粒子の粒径のみでなく、粒形および粒
子間の相互作用にも影響されることもよく知られている
が、特に本発明のようにシュウ酸コバルトを酸化分解し
て得な四三酸化コバルトの場合には形骸粒子等の影響も
あり、嵩密度と粒径との関係は不明瞭であり、シュウ酸
コバルトの粒径と得られる四三酸化コバルトの粒径と四
三酸化コバルトの嵩密度との関係は必ずしも一般論と一
致しているとは言えないとされている。よって、本発明
において嵩密度と粒径との関係を議論することは現段階
では有効ではないと判断している。
まず、第1の発明について説明する。
本発明の第1の発明において二価のコバルトイオンを含
む溶液として使用できるものは、硝酸コバルト、硫酸コ
バルト、塩化コバル1〜、酢酸コバルト等の可溶性コバ
ルト塩を水に溶解して得た溶液であるが、金属コバルト
を鉱酸等て溶解して得た二価のコバルト溶液や炭酸コバ
ルトや水酸化コバル1−等の酸可溶性コバルト塩類を鉱
酸等で溶解して得た溶液のpHを1〜3に調整して用い
ることも可能である。本箱1の発明の第1工程において
、用いる二価のコバルト溶液のコバルト濃度をあまりに
高くすると得られる四三酸化コバルトの嵩密度が0.5
g/cm3を越えるため、コバルト濃度は200 g
/l以下とする必要がある。コバルト濃度を低くしても
得られる四三酸化コバル1−の嵩密度は0.5 g7c
m”を越えることはないが、あまりに低くすると生産性
が悪化するなめに10g/1以上とすることが望ましい
。
む溶液として使用できるものは、硝酸コバルト、硫酸コ
バルト、塩化コバル1〜、酢酸コバルト等の可溶性コバ
ルト塩を水に溶解して得た溶液であるが、金属コバルト
を鉱酸等て溶解して得た二価のコバルト溶液や炭酸コバ
ルトや水酸化コバル1−等の酸可溶性コバルト塩類を鉱
酸等で溶解して得た溶液のpHを1〜3に調整して用い
ることも可能である。本箱1の発明の第1工程において
、用いる二価のコバルト溶液のコバルト濃度をあまりに
高くすると得られる四三酸化コバルトの嵩密度が0.5
g/cm3を越えるため、コバルト濃度は200 g
/l以下とする必要がある。コバルト濃度を低くしても
得られる四三酸化コバル1−の嵩密度は0.5 g7c
m”を越えることはないが、あまりに低くすると生産性
が悪化するなめに10g/1以上とすることが望ましい
。
反応温度が上昇すると得られる四三酸化コバルトの嵩密
度は0.5 g/cm3を越えるため反応中の温度を室
温以下に維持することが必要であり、好ましくは25℃
以下にすることが望ましい。また、冷却しすぎても得ら
れる四三酸化コバル)〜の嵩密度は0.5 g/cm”
を越えることはないか、冷却するための装置の大型化や
経費の増加をきたすため0℃以上とすることが望ましい
。
度は0.5 g/cm3を越えるため反応中の温度を室
温以下に維持することが必要であり、好ましくは25℃
以下にすることが望ましい。また、冷却しすぎても得ら
れる四三酸化コバル)〜の嵩密度は0.5 g/cm”
を越えることはないか、冷却するための装置の大型化や
経費の増加をきたすため0℃以上とすることが望ましい
。
本発明の方法の条件下においては、コバル)〜はシュウ
酸イオンと定量的に反応しシュウ酸塩を生成する。よっ
て、コバルト溶液に加えるシュウ酸イオンの量は溶液中
に含有されるコバルトの量の当量以上であれば良い。ま
た、シュウ酸イオン源として使用できるものとしてシュ
ウ酸やシュウ酸アンモニウムがあり、これらを混合して
使用することも可能である。シュウ酸やシュウ酸アンモ
ニウムは固体のまま添加しても良く、水溶液としたグ)
ち添加しても良いが、ゆっくりと添加すると4“4られ
る四三酸化コバルトの嵩密度が大きくなりずぎるため、
攪はんしつつ速やかに添加する必要がある。
酸イオンと定量的に反応しシュウ酸塩を生成する。よっ
て、コバルト溶液に加えるシュウ酸イオンの量は溶液中
に含有されるコバルトの量の当量以上であれば良い。ま
た、シュウ酸イオン源として使用できるものとしてシュ
ウ酸やシュウ酸アンモニウムがあり、これらを混合して
使用することも可能である。シュウ酸やシュウ酸アンモ
ニウムは固体のまま添加しても良く、水溶液としたグ)
ち添加しても良いが、ゆっくりと添加すると4“4られ
る四三酸化コバルトの嵩密度が大きくなりずぎるため、
攪はんしつつ速やかに添加する必要がある。
反応を完結させるためにはシュウ酸やシュウ酸アンモニ
ウムの添加が終了したのち、少なくとも3Q min以
上攬はんを継続することが必要である。
ウムの添加が終了したのち、少なくとも3Q min以
上攬はんを継続することが必要である。
これを怠ると、得られるシュウ酸コバルト中に未反応の
シュウ酸やシュウ酸アンモニウムが混入し収率を低下さ
ぜるばかりでなく、得られる四三酸化コバルトの嵩密度
を上昇させることになる。
シュウ酸やシュウ酸アンモニウムが混入し収率を低下さ
ぜるばかりでなく、得られる四三酸化コバルトの嵩密度
を上昇させることになる。
得られたシュウ酸コバル1〜沈殿中には液中に共存する
各種イオンを不純物として含み、これをそのままばい焼
すると、得られる四三酸化コバル)・中の不純物が上昇
するばかりでなく、分散性も悪化し、ばい焼しても嵩密
度の低いものが得られない。そのため、純水を用いて洗
浄する必要がある。
各種イオンを不純物として含み、これをそのままばい焼
すると、得られる四三酸化コバル)・中の不純物が上昇
するばかりでなく、分散性も悪化し、ばい焼しても嵩密
度の低いものが得られない。そのため、純水を用いて洗
浄する必要がある。
なお、洗浄方法については特にこだわらない。
第2工程は、上記第1工程で得られたシュウ酸コバルト
を300〜500℃でばい焼するが、通常ぽい焼に際し
て予備乾燥する必要はない。ましてや、乾燥帯を設けた
ばい焼炉を使用する場合には第1工程で得られたシュウ
酸コバル1〜を乾燥する必要性はなんらない。しかし、
シュウ酸コバルトをルツボやトレイに入れマツフル炉等
を用いてばい焼する際に、水の蒸発により突沸現象を生
しシュウ酸コバルトの飛散が生ずるような場合には、事
前に乾燥しておくことが望ましいが1、乾燥は時として
シュウ酸コバルト粒子の凝集を助長することもあるので
、できるだけ低温て穏やかに乾燥することが望ましい。
を300〜500℃でばい焼するが、通常ぽい焼に際し
て予備乾燥する必要はない。ましてや、乾燥帯を設けた
ばい焼炉を使用する場合には第1工程で得られたシュウ
酸コバル1〜を乾燥する必要性はなんらない。しかし、
シュウ酸コバルトをルツボやトレイに入れマツフル炉等
を用いてばい焼する際に、水の蒸発により突沸現象を生
しシュウ酸コバルトの飛散が生ずるような場合には、事
前に乾燥しておくことが望ましいが1、乾燥は時として
シュウ酸コバルト粒子の凝集を助長することもあるので
、できるだけ低温て穏やかに乾燥することが望ましい。
ばい焼温度はあまりに高いと四三酸化コバル1〜が焼結
し、嵩密度が高くなり、ばい焼温度があまりに低いとシ
ュウ酸コバルトが残存する恐れがある。よって、ばい焼
温度はシュウ酸コバルトが完全に分解し、かつばい焼に
より生成した四三酸化コバルトの焼結が生じない300
〜500℃とすることが必要であり、好ましくは350
〜450℃とすることが望ましい。また、ばい焼は通気
ぽい焼が好ましく、純酸素を流しながらばい焼する場合
には、ばい焼温度を低めに調節したり、純酸素の流量を
調節したりすることによりコバルト酸化物の焼結を防止
しすることが望ましい。
し、嵩密度が高くなり、ばい焼温度があまりに低いとシ
ュウ酸コバルトが残存する恐れがある。よって、ばい焼
温度はシュウ酸コバルトが完全に分解し、かつばい焼に
より生成した四三酸化コバルトの焼結が生じない300
〜500℃とすることが必要であり、好ましくは350
〜450℃とすることが望ましい。また、ばい焼は通気
ぽい焼が好ましく、純酸素を流しながらばい焼する場合
には、ばい焼温度を低めに調節したり、純酸素の流量を
調節したりすることによりコバルト酸化物の焼結を防止
しすることが望ましい。
ばい焼時間は用いる炉や雰囲気、あるいは温度により異
なるため特定できないが、例えば、マツフル炉を用いて
350〜450℃で、シュウ酸コバルトを厚さ50 m
m程度の層としてトレイに入れて通気ぽい焼する場合に
は2〜4時間のばい焼時間が必要とされる。
なるため特定できないが、例えば、マツフル炉を用いて
350〜450℃で、シュウ酸コバルトを厚さ50 m
m程度の層としてトレイに入れて通気ぽい焼する場合に
は2〜4時間のばい焼時間が必要とされる。
なお、本第2の工程に使用することのできるばい焼炉は
特に限定されるものではないことは言うまでもない。
特に限定されるものではないことは言うまでもない。
次に第2の発明について説明する。
本発明の第2の発明の第1工程において使用できる二価
のコバルト複塩は水に難溶性である塩基性炭酸コバルト
や塩基性硫酸コバル)・等である。
のコバルト複塩は水に難溶性である塩基性炭酸コバルト
や塩基性硫酸コバル)・等である。
本工程は難溶性塩と液中のシュウ酸イオンとの固液反応
であり、通常、本第1の発明と比較して時間もかかり、
かつ低嵩密度の四三酸化コバルトも生成しにくいと考え
られるが、実際にはシュウ酸化の反応速度は早く、かつ
定量的に進行するために固液反応としての不利は特に見
られない。
であり、通常、本第1の発明と比較して時間もかかり、
かつ低嵩密度の四三酸化コバルトも生成しにくいと考え
られるが、実際にはシュウ酸化の反応速度は早く、かつ
定量的に進行するために固液反応としての不利は特に見
られない。
本方法において、適用できるスラリー濃度は、コバルト
量として200 g/l以下の濃度となる範囲である。
量として200 g/l以下の濃度となる範囲である。
この理由は、コバルト濃度を200 g/1以上とする
と得られる四三酸化コバルトの嵩密度が0.5 g/a
m”を越えるためである。また、コバルト濃度を低くし
ても得られる四三酸化コバルI〜の嵩密度は0.5 g
/c+n3を越えることはないが、あまりに低くすると
生産性が悪1ヒするために10g/1以上とすることが
望ましい。
と得られる四三酸化コバルトの嵩密度が0.5 g/a
m”を越えるためである。また、コバルト濃度を低くし
ても得られる四三酸化コバルI〜の嵩密度は0.5 g
/c+n3を越えることはないが、あまりに低くすると
生産性が悪1ヒするために10g/1以上とすることが
望ましい。
本工程において、必要とされるシュウ酸イオンはスラリ
ー中に存在するコバルト量と当量以上であれば良く、か
つ、嵩密度が 0.5 g、7cm3以下の四三酸化コ
バルトを得るためにはシュウ酸イオン源の添加を速やか
にすると共に反応温度も室温以下にすることが必要であ
り、前記説明と同じ理由で0〜25℃とすることが望ま
しい。また、シュウ酸イオン源として使用できるものは
シュウ酸やシュウ酸アンモニウl\であり、これらを混
合して用いることも可能である。反応を完結さぜるなめ
にはシュウ酸やシュウ酸アンモニウムの添加が終了した
のち、少なくとも30分以上攪はんを継続することが必
要である。これを怠ると、得られるシュウ酸コバルト中
に未反応のシュウ酸やシュウ酸アンモニウムや原f)と
して用いた塩基性炭酸コバルトや塩基性硫酸コバルト等
が混入し、第2工程で如何なる条件を選択しても、得ら
れる四三酸化コバルトの嵩密度を0.5 g/cm”以
下にすることができない。
ー中に存在するコバルト量と当量以上であれば良く、か
つ、嵩密度が 0.5 g、7cm3以下の四三酸化コ
バルトを得るためにはシュウ酸イオン源の添加を速やか
にすると共に反応温度も室温以下にすることが必要であ
り、前記説明と同じ理由で0〜25℃とすることが望ま
しい。また、シュウ酸イオン源として使用できるものは
シュウ酸やシュウ酸アンモニウl\であり、これらを混
合して用いることも可能である。反応を完結さぜるなめ
にはシュウ酸やシュウ酸アンモニウムの添加が終了した
のち、少なくとも30分以上攪はんを継続することが必
要である。これを怠ると、得られるシュウ酸コバルト中
に未反応のシュウ酸やシュウ酸アンモニウムや原f)と
して用いた塩基性炭酸コバルトや塩基性硫酸コバルト等
が混入し、第2工程で如何なる条件を選択しても、得ら
れる四三酸化コバルトの嵩密度を0.5 g/cm”以
下にすることができない。
得られたシュウ酸コバルト沈殿は洗浄した後、前記第1
の発明の第2工程に従ってばい焼される。
の発明の第2工程に従ってばい焼される。
次に第3の発明について説明する。
本第3の発明の第1工程は二価のコバルトイオンを含む
溶液に重炭酸ソーダを添加し、塩基性炭酸コバルトを作
成し、これにシュウ酸イオンを反応させることによりシ
ュウ酸コバルトを作成するものであり、重炭酸ソーダと
コバルトイオンとの吸熱反応による液温の低下を利用す
ることにより冷却手段を不用にすることを目的とするも
のである。
溶液に重炭酸ソーダを添加し、塩基性炭酸コバルトを作
成し、これにシュウ酸イオンを反応させることによりシ
ュウ酸コバルトを作成するものであり、重炭酸ソーダと
コバルトイオンとの吸熱反応による液温の低下を利用す
ることにより冷却手段を不用にすることを目的とするも
のである。
ここにおいて、二価のコバルトイオンを含む溶液として
使用できるものは、本第1の発明と同様に硝酸コバルト
、硫酸コバルト、塩化コバルト、酢酸コバルト等の可溶
性コバルト塩を溶解して得た溶液であるが、金属コバル
トを鉱酸等で溶解して得た二価のコバルト溶液や炭酸コ
バルI・や水酸化コバルト等の酸可溶性コバルト塩類を
鉱酸等で溶解して得た溶液のl) Hを1〜3に調整し
て用いることも可能である。
使用できるものは、本第1の発明と同様に硝酸コバルト
、硫酸コバルト、塩化コバルト、酢酸コバルト等の可溶
性コバルト塩を溶解して得た溶液であるが、金属コバル
トを鉱酸等で溶解して得た二価のコバルト溶液や炭酸コ
バルI・や水酸化コバルト等の酸可溶性コバルト塩類を
鉱酸等で溶解して得た溶液のl) Hを1〜3に調整し
て用いることも可能である。
本工程を適用できる溶液のコバルト濃度は200g/l
以下であり、この理由はコバルト濃度を2 rX’1g
/1X上1gると得られる四三酸化コバルトの嵩密度が
0.5 g/cm3を越えるためである。また、コバル
ト濃度を低くしても得られる四三酸化コバルトの嵩密度
は0.5 g/cm”を越えることはないが、あまりに
低くすると生産性が悪化するために10 g/1以上と
することが望ましい。
以下であり、この理由はコバルト濃度を2 rX’1g
/1X上1gると得られる四三酸化コバルトの嵩密度が
0.5 g/cm3を越えるためである。また、コバル
ト濃度を低くしても得られる四三酸化コバルトの嵩密度
は0.5 g/cm”を越えることはないが、あまりに
低くすると生産性が悪化するために10 g/1以上と
することが望ましい。
本工程において、二価のコバルトイオンと重炭酸ソーダ
との反応は定量的、かつ迅速であるので二価のコバルト
イオン溶液に添加すべき重炭酸ソーダの量は溶液中に存
在するコバルトイオンと当量以上であれば良いが、吸熱
反応を有効に利用するためにはあまり過剰の重炭酸ソー
ダの使用は好ましくない。
との反応は定量的、かつ迅速であるので二価のコバルト
イオン溶液に添加すべき重炭酸ソーダの量は溶液中に存
在するコバルトイオンと当量以上であれば良いが、吸熱
反応を有効に利用するためにはあまり過剰の重炭酸ソー
ダの使用は好ましくない。
塩基性炭酸コバルトとシュウ酸イオンとの反応は、前記
したように早く、かつ定量的に進行するために必要とさ
れるシュウ酸イオンはスラリー中に存在するコバルlへ
iと当量以上てあれば良い。
したように早く、かつ定量的に進行するために必要とさ
れるシュウ酸イオンはスラリー中に存在するコバルlへ
iと当量以上てあれば良い。
本工程ては、原料として高温の二価のコバルトイオン溶
液を用いない限り、コバルトイオンと重炭酸ソーダとの
吸熱反応により第1工程での反応温度は常に室温以下に
保たれるために何の冷却手段も必要とされない。
液を用いない限り、コバルトイオンと重炭酸ソーダとの
吸熱反応により第1工程での反応温度は常に室温以下に
保たれるために何の冷却手段も必要とされない。
本工程においてシュウ酸イオン源として使用できるもの
はシュウ酸やシュウ酸アンモニウムであり、これらを混
合して用いることも可能である。
はシュウ酸やシュウ酸アンモニウムであり、これらを混
合して用いることも可能である。
反応を完結させるためにはシュウ酸やシュウ酸アンモニ
ウムの添加が終了したのち、少なくとも30分以−り攪
はんを継続することが必要である。これを怠ると、得ら
れるシュウ酸コバルト中に末文応のシュウ酸やシュウ酸
アンモニウムや中間物である塩基性炭酸コバル1〜が混
入し、第2工程て加面なる条件を選択しても、得られる
四三酸化コハル)・の嵩密度を0.5 g/cm3以下
にすることができない。
ウムの添加が終了したのち、少なくとも30分以−り攪
はんを継続することが必要である。これを怠ると、得ら
れるシュウ酸コバルト中に末文応のシュウ酸やシュウ酸
アンモニウムや中間物である塩基性炭酸コバル1〜が混
入し、第2工程て加面なる条件を選択しても、得られる
四三酸化コハル)・の嵩密度を0.5 g/cm3以下
にすることができない。
得られたシュウ酸コバルト沈殿は洗浄後前記第1の発明
の第2工程に従ってばい焼される。なお、洗浄方法につ
いては特にこだわらないことは第1の発明と同様である
。
の第2工程に従ってばい焼される。なお、洗浄方法につ
いては特にこだわらないことは第1の発明と同様である
。
[実施例−1]
塩化コバルト・六水和’l!!I 344 g (Co
” = 1.45mol)を 11の純水に溶解した。
” = 1.45mol)を 11の純水に溶解した。
シュウ酸アンモニウム・−水和物210 g (C20
4”−−1,48mol)を51の純水に溶解した。t
o lの容器に500 mlの純水を入れ、純水を攪は
んしつつ、液の温度を5℃に保ちながら、ローラーポン
プを用いて上記コバルト溶液とシュウ酸アンモニウム溶
液とを夫々 18.90 ml/minの割合で送液し
、送液終了f& 3時間攪はんして沈殿を発生させた。
4”−−1,48mol)を51の純水に溶解した。t
o lの容器に500 mlの純水を入れ、純水を攪は
んしつつ、液の温度を5℃に保ちながら、ローラーポン
プを用いて上記コバルト溶液とシュウ酸アンモニウム溶
液とを夫々 18.90 ml/minの割合で送液し
、送液終了f& 3時間攪はんして沈殿を発生させた。
このスラリーを固液分離し、663gの沈殿を得た。得
た沈殿に21の純水を加え、室温で30分間攪はんし、
その後固液分離した。この洗浄操作を、洗浄廃液のpH
が5以上になるまで5回繰返した。
た沈殿に21の純水を加え、室温で30分間攪はんし、
その後固液分離した。この洗浄操作を、洗浄廃液のpH
が5以上になるまで5回繰返した。
その後、沈殿を温風循環式の乾燥器を用いて、温風の温
度を60℃として乾燥して208gのシュウ酸コバルト
を得た。次いで、このシュウ酸コバルトを400℃で2
時間通気ぽい焼し1.10gの四三酸化コバルトを得た
。この四三酸化コバルトの嵩密度は0.40 g/cm
”であった。
度を60℃として乾燥して208gのシュウ酸コバルト
を得た。次いで、このシュウ酸コバルトを400℃で2
時間通気ぽい焼し1.10gの四三酸化コバルトを得た
。この四三酸化コバルトの嵩密度は0.40 g/cm
”であった。
[実施例−2コ
塩化コバルト・六水和物344 g (Co” = 1
.45mol)を 11の純水に溶解し、液温を5℃に
保ちながら、攪はんしつつシュウ酸・三水和物190
g (C204’−−1,51mol)を−度に加え、
2時間攪はんして沈殿を発生させた。このスラリーを固
液分離し、660gの沈殿を得た。得た沈殿に21の純
水を加え、室温で30分間攪はんし、その後置液分離し
な。この洗浄操作を、洗浄廃液のpHが5以上になるま
で5回繰返した。その後、沈殿を温風循環式の乾燥器を
用いて、温風の温度を80℃として乾燥させた後400
℃で2時間通気ぽい焼し109gの四三酸化コバルトを
得た。
.45mol)を 11の純水に溶解し、液温を5℃に
保ちながら、攪はんしつつシュウ酸・三水和物190
g (C204’−−1,51mol)を−度に加え、
2時間攪はんして沈殿を発生させた。このスラリーを固
液分離し、660gの沈殿を得た。得た沈殿に21の純
水を加え、室温で30分間攪はんし、その後置液分離し
な。この洗浄操作を、洗浄廃液のpHが5以上になるま
で5回繰返した。その後、沈殿を温風循環式の乾燥器を
用いて、温風の温度を80℃として乾燥させた後400
℃で2時間通気ぽい焼し109gの四三酸化コバルトを
得た。
この四三酸化コバル1−の嵩密度は0.46 g/cm
3であった。
3であった。
[実施例−3]
塩化コバルト 六水和物344 g (Co”−1,4
5mol)を 11の純水に溶解し、液温を5℃に保ち
ながら、攬はんしつつシュウ酸・二水和物190 g
(C204”−= 1.51 mol)を−度に加え、
2時間攪はんして沈殿を発生させた。このスラリーを固
液分離して沈殿を得、得た沈殿に21の純水を加え、室
温て30分間攪はんし、その後固液分離した。この洗浄
操作を、洗浄廃液のp Hが5以上になるまで4回繰返
しな。その後、沈殿を乾燥させることなく400℃で2
時間通気ぽい焼し110gの四三酸化コバルトを得た。
5mol)を 11の純水に溶解し、液温を5℃に保ち
ながら、攬はんしつつシュウ酸・二水和物190 g
(C204”−= 1.51 mol)を−度に加え、
2時間攪はんして沈殿を発生させた。このスラリーを固
液分離して沈殿を得、得た沈殿に21の純水を加え、室
温て30分間攪はんし、その後固液分離した。この洗浄
操作を、洗浄廃液のp Hが5以上になるまで4回繰返
しな。その後、沈殿を乾燥させることなく400℃で2
時間通気ぽい焼し110gの四三酸化コバルトを得た。
この四三酸化コバルトの嵩密度は0.25 g/cm3
であった。
であった。
[実施例−4]
コバルト濃度150 g/lの硝酸コバルト水溶液30
0 ml (+To”−0,76mol)中に、攪はん
し−”)−)重炭酸ソーダ45gを添加し、塩基性炭酸
コバルトを発生させ、次いでシュウ酸・二水和物96
g(C204”−= 0.76 mat)を−度に加え
、2時間攪はんして沈殿を発生させた。このスラリーを
固液分離して沈殿を得、得た沈殿に21の純水を加え、
室温で30分間攪はんし、その後固液分離した。
0 ml (+To”−0,76mol)中に、攪はん
し−”)−)重炭酸ソーダ45gを添加し、塩基性炭酸
コバルトを発生させ、次いでシュウ酸・二水和物96
g(C204”−= 0.76 mat)を−度に加え
、2時間攪はんして沈殿を発生させた。このスラリーを
固液分離して沈殿を得、得た沈殿に21の純水を加え、
室温で30分間攪はんし、その後固液分離した。
この洗浄操作を、洗浄廃液のI) Hが5以上になるま
で5回繰返した。その後、沈殿を室温で放置し風乾した
後400℃て2時間通気ぽい焼し57 gの四三酸化コ
バルトを得た。この四三酸化コバルトの嵩密度は0.2
0 g/cm3であった。
で5回繰返した。その後、沈殿を室温で放置し風乾した
後400℃て2時間通気ぽい焼し57 gの四三酸化コ
バルトを得た。この四三酸化コバルトの嵩密度は0.2
0 g/cm3であった。
[実施例−5]
純水11に塩基性炭酸コバルト310 g (Co”
。
。
0.58 mat)を加え、液温を5℃に維持し、攪は
んしつつシュウ酸・二水和物80 g (C204”0
.63 mol)を−度に加え、2時間攪はんして沈殿
を発生さぜな。このスラリーを固液分離して沈殿を得、
得た沈殿に21の純水を加え、室温で関分間攪はんし、
その後固液分離した。この洗浄操作を、洗浄廃液のp
Hが5以上になるまで5回繰返した。その後、沈殿を乾
燥さぜることなく400℃で2時間通気ぽい焼し43
gの四三酸化コバルトを得た。この四三酸化コバル1〜
の嵩密度は0.32 g/ca+”であった。
んしつつシュウ酸・二水和物80 g (C204”0
.63 mol)を−度に加え、2時間攪はんして沈殿
を発生さぜな。このスラリーを固液分離して沈殿を得、
得た沈殿に21の純水を加え、室温で関分間攪はんし、
その後固液分離した。この洗浄操作を、洗浄廃液のp
Hが5以上になるまで5回繰返した。その後、沈殿を乾
燥さぜることなく400℃で2時間通気ぽい焼し43
gの四三酸化コバルトを得た。この四三酸化コバル1〜
の嵩密度は0.32 g/ca+”であった。
[発明の効果]
本発明の方法によれば、凝集性が少なく分散性の良いシ
ュウ酸コバルトを中間体としてばい焼するために嵩密度
が0.2〜0.5 g/cm3の四三酸化コバルトを得
ることができる。
ュウ酸コバルトを中間体としてばい焼するために嵩密度
が0.2〜0.5 g/cm3の四三酸化コバルトを得
ることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、二価のコバルトイオンを200g/l以下の濃度で
含む溶液を室温以下に維持しつつ、該溶液と、該溶液に
含まれる二価のコバルトイオンに対して当量以上のシュ
ウ酸、又はシュウ酸アンモニウムとを速やかに混合し、
次いで少なくとも30分以上攪はんを継続し、沈殿を得
、得た沈殿を洗浄してシュウ酸コバルトを得る第1工程
と、第1工程で得たシュウ酸コバルトを空気中等酸素共
存下300〜500℃の温度でばい焼する第2工程とか
らなる低嵩密度の四三酸化コバルトの製造方法 2、第1工程が、二価のコバルトを200g/l以下の
濃度で含む二価のコバルト複塩スラリーを室温以下に維
持しつつ、該スラリーと、該スラリー中の二価のコバル
トに対して当量以上のシュウ酸、又はシュウ酸アンモニ
ウムとを速やかに混合し、次いで30分以上攪はんして
沈殿を得、得た沈殿を洗浄してシュウ酸コバルト得るこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の低嵩密度の
四三酸化コバルトの製造方法 3、第1工程が、二価のコバルトイオンを200g/l
以下の濃度で含む溶液に、攪はんしつつ当量以上の重炭
酸ソーダを添加してスラリーを得、該スラリーと、該ス
ラリー中のコバルトに対して当量以上のシュウ酸、又は
シュウ酸アンモニウムとを速やかに混合し、次いで30
分以上攪はんして沈殿を得、得た沈殿を洗浄してシュウ
酸コバルト得ることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の低嵩密度の四三酸化コバルトの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2756489A JPH02208227A (ja) | 1989-02-08 | 1989-02-08 | 低嵩密度の四三酸化コバルトの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2756489A JPH02208227A (ja) | 1989-02-08 | 1989-02-08 | 低嵩密度の四三酸化コバルトの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02208227A true JPH02208227A (ja) | 1990-08-17 |
Family
ID=12224527
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2756489A Pending JPH02208227A (ja) | 1989-02-08 | 1989-02-08 | 低嵩密度の四三酸化コバルトの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02208227A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1331761C (zh) * | 2005-05-13 | 2007-08-15 | 中南大学 | 固相界面诱导沉淀制备氧化镍、氧化钴粉末的方法 |
CN102134104A (zh) * | 2011-03-29 | 2011-07-27 | 长沙拓智金属材料科技有限责任公司 | 钴盐沉淀微波诱导热解法制备超细八面体四氧化三钴的方法 |
CN106006761A (zh) * | 2016-06-29 | 2016-10-12 | 渤海大学 | 一种四氧化三钴等级结构材料的制备方法 |
CN106098411A (zh) * | 2016-06-29 | 2016-11-09 | 渤海大学 | 一种氧化镍等级结构材料的制备方法 |
CN106450254A (zh) * | 2016-11-03 | 2017-02-22 | 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 | 一种Ni,Sb‑双掺杂四氧化三钴纳米氧化物的制备方法 |
CN107162066A (zh) * | 2017-05-26 | 2017-09-15 | 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 | 一种镍掺杂四氧化三钴纳米花复合材料及其制备方法和应用 |
-
1989
- 1989-02-08 JP JP2756489A patent/JPH02208227A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN1331761C (zh) * | 2005-05-13 | 2007-08-15 | 中南大学 | 固相界面诱导沉淀制备氧化镍、氧化钴粉末的方法 |
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